薄膜应力仪

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™ 氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底，经过等离子清洗，无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。G-FLAT™ 氧化硅膜窗口，适合生物成像研究，具有玻璃状亲水表面。外框硅材质，外框大小5*5mm，框厚310μm，膜厚度300nm。无褶皱，与超高真空(UHV)应用兼容。LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320μm，200 MP 低应力无孔氮化硅。产品信息：货号产品描述窗口(Sq.)膜厚规格76042-10G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-11G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm300nm20/pk76042-12Silicon Nitride X-Ray Window500μm50nm20/pk76042-13Silicon Nitride X-Ray Window1000μm50nm20/pk76042-14Silicon Nitride X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-15Silicon Nitride X-Ray Window1000μm100nm20/pk76042-16Silicon Nitride X-Ray Window 1500μm200nm20/pk76042-17Silicon Nitride X-Ray Window2500μm200nm20/pk

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等，也可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术，膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱，也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析，结合多次反射原理，给出膜层的厚度和光学常数（n，k)，到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 100nm-30微米；波长范围: 300-1000nm 探测器：650像素Si CCD阵列，12bit A/D精度：1%斑点大小：0.5mm 光源：钨灯-汞灯（360-2000nm)所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：320x360x180mm 重量：9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

手持式薄膜测厚仪配件是全球首款便携式光学薄膜厚度测量仪,可测量透明或半透明单层薄膜或膜系的薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等。手持式薄膜测厚仪可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)，薄膜厚度测量范围为350-1000nm，不需要电线连接，也不需要实验室安装空间，它从USB连接中获取工作电源，这种独特设计方便客户移动测量，只需USB线缆从计算机控制测量即可，采用全球领先的3648像素和16bit的光谱仪，具有超高稳定性的LED和荧光灯混合光源，光源寿命高达20000小时，手持式薄膜测厚仪配件特色USB接口供电，不需要额外的线缆供电超级便携方便现场使用超低价格手持式薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 15nm-90微米；波长范围: 360-1050nm 探测器：3648像素Si CCD阵列，16bit A/D精度：1nm 斑点大小：0.5mm 光源：LED混合光源（ 360-1050nm )所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：300x110x500mm 重量：600克手持式薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍：LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示，加上电脑可实现微机操作，参数随意设定，可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy： 30KN（任意选） 2、荷重元精度Load Accuracy： 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy： ± 0.5% 4、操作方式Control： 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width： 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke： 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy：: ± 0.5%以内； 9、位移测量精度Stroke Accuracy： ± 0.5%以内； 10、变形测量精度Displacement Accuracy： ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device： 电子限位保护，紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight ： 约140kg

聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法，使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标：例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg)，热分解温度，薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据，能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据，并且能够控制薄膜加热和制冷的速度，是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究，例如：薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究，薄膜光学性质随温度的变化，薄膜预烘烤Post Apply Bake，光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量，这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的，背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks，给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能，光刻薄膜的热处理影响分析，Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5%分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：13.5kg 电力要求：110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度

X-RAY样品膜、XRF測試用的Prolene膜、XRF样品膜、ROHS测试膜、迈拉膜--美国Chemplex 416# 现货供应：XRF样品膜、XRF薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。 品名：XRF样品膜Sample Film目录编号CAT. NO：416产品信息：Prolene膜，卷轴，厚度4.0 μm，宽7.6cm x 长91.4m，1卷/盒品牌：美国Chemplex Industries.Inc.（原装进口）货期：现货起订量：1盒以上。 产品详细信息：Pre-Perforated Thin-Film Sampel SupportsPROLENE® FILMCAT. NO：416Gauge：0.00016”，4.0 μm；0.16mil，40,640ATypical Impurities，PPM：Ca, P, Fe, Zn, Cu, Zr, Ti, AlChemplex® INDUSTRIES，INC.ROLL：3” x 300’ (7.6cm x 91.4m)； Lot No：082176。 现货供应：XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。

显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统，可以结合显微镜测量薄膜的吸收率，透过率，反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量，测量点处的薄膜厚度，薄膜光学常量（n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是：光栅光谱仪（200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜（可选）。其中目镜适配器包含镜头，可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果（20X物镜）薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制，光谱测量和薄膜测量功能的软件，具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率，透过率，反射率和荧光光谱，并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置，所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数，如signal integration也能测量出来。对于反射率测量，该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度（《10nm到100微米）， 光学常量（n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚： 10nm-150微米； 波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 光源：使用显微镜光源 光斑大小：由显微镜物镜决定 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口； 尺寸：120x120x120mm 重量：1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量

目标应用： 半导体薄膜（光刻胶） 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜（光刻胶） ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*（H90+H140）测试支架（配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘）测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm（标配，可以根据用户要求配置）样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标（THICKNESS SPECIFICATION）：产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1（厚度要求）N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量，实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅（500纳米）测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.

薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化，是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品，使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部，距离玻璃窗口非常接近，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。另外，根据需要，我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer，提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具，以固定小尺寸的硅样品或3' ' ，4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同，如溶解速度的不同，它能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程，而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量，薄膜溶解测厚仪需要光滑，具有反射性的衬底，对于光学常数测量，平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的，衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量，已经成功应用于测量反射衬底（Si晶圆）上各种光滑，透明或轻度吸收薄膜的溶解过程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜，聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：15kg 电力要求：110/230VAC薄膜溶解测量仪应用：聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。

产品详情 XRF荧光光谱仪专用测试薄膜英飞思提供不同材料和厚度的专用测试薄膜，以满足应用中的测试需求样品杯的底部覆盖有X 射线透明薄膜。耐化学性取决于薄膜的材料和厚度：下表展示了不同厚度和材质的薄膜对测试不同元素的影响原则上，使用两种材料：聚酯（聚酯薄膜）和聚丙烯（商标名称包含名称片段的薄膜“丙烯”，例如以“lene”结尾的，通常与便宜得多的材料相同聚丙烯薄膜）。薄膜材料的耐化学性不同。虽然聚酯是稳定的对于溶剂、脂肪族化合物和燃料，聚丙烯提供更高的稳定性富含氧气的流体（例如水、聚乙二醇和高沸点油）。聚丙烯特别适用于固体样品的痕量分析，因为它没有主要成分其中的污染。相比之下，聚酯薄膜含有不需要的磷和钙（3.5 µmMylar 对应于纯油（例如清洁白油）中的 50 ppm Ca 和 250 ppm P。薄膜，例如Hostaphan（带有硅污染的聚酯）或聚碳酸酯（不含污染，首选用于燃料分析）受到限制或不再可用。Kapton 对轻元素的荧光辐射不是很透明，因此仅可用于分析具有更高原子序数的元素。

土壤样品杯膜、XRF測試用的麥拉膜材質、美国Premier样品膜TF-260#（SKY-260） permier新产品SKY-260: 裁剪更方便 catalong NoFilm TypeSKY-115TF-115SKY-125TF-125SKY-130TF-130SKY-135TF-135SKY-160TF-160SKY-240TF-240SKY-260TF-260 迈拉膜、样品薄膜、麦拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪用样品膜、光谱仪样品薄膜 本公司供应美国premier所有型号产品，欢迎采购， 卷：( 直径：3.0" (76mm)；91.4m卷/盒) 序号CAT.No薄膜材料厚 度1TF-260#Polypropylene膜6.0μ(0.24mil) 品名：XRF样品膜Sample Film 型号： CAT. NO TF-260# 品牌：美国Premier Lab (原装进口） 货期：现货 起订量：1盒以上。 一、美国Premier XRF样品膜：美国Premier Lab Supply公司专注于X射线光谱分析XRF的样品制备领域，以高质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉。美国Premier X-ray样品膜(X-ray Film）以其极低的（几乎不含）杂质和厚度均匀而严格生产，极好的柔韧性和抗化学腐蚀性，保证检测结果的可靠性和重现性，被广泛应用于XRF样品制备、检测过程，适用于各类X-ray光谱仪（XRF：WD-XRF、ED-XRF）。X-ray Film能用于固体、液体、粉末、颗粒、土壤等样品XRF检测，适用于RoHS&WEEE检测、油品成份分析、金属成份分析等。 二、Premier 样品膜特点： 有卷状和片状，多种规格、尺寸、数量可供选择； 柔韧性强、方便、耐用； 的X-ray射线穿透性，适合各类XRF光谱仪； 的抗化学腐蚀性能，不溶于有机溶剂，不污染待测样品； （几乎不含）痕量杂质，特别适合于轻质元素的限量检测。 三、适用于各种品牌X荧光光谱仪XRF：日本岛津shimadzu、牛津仪器Oxford、斯派克Spectro、布鲁克Bruker、日本精工SII、日本电子JEOL、日本理学Rigaku、日本堀场Horiba、热电Thermo、帕纳科Panalytical、尼通Niton、伊诺斯Innox-X、天瑞Skyray、Jordan Valley、ARL、Asoma、Kevex、Metorex、Siemens、Spectrace、Philips、Fisons。 四、XRF样品膜目录：美国Premier X-ray样品膜种类：（1）、Hostaphan膜；（2）、Kapton膜：聚酰亚胺膜，卡普顿膜；（3）、Mylar膜：聚酯薄膜，迈拉膜，麦拉膜；（4）、Polypropylene膜：聚丙烯膜。目录编号：CAT. NO 薄膜材料 厚度 长度 数量 描述 TF-260 Polypropylene膜 6.0μ(0.24mil) 76mm x91.4m 1卷/盒 Polypropylene Rolls连续卷轴

James Heal 纺织品酚黄测试用聚乙烯薄膜泛黄测试聚乙烯薄膜用途：纺织品酚黄测试，黄变测试，泛黄测试James Heal酚黄 (泛黄) 变测试膜400X200mm 100片/包 706-792ISO 105-X18 M&S C20B-TOadidas***酚黄(泛黄)变测试膜酚黄 (泛黄)变测试套件酚黄(泛黄)变测试纸100X75mm706-720酚黄(泛黄)变测试纸100X30mm706-709酚黄(泛黄)变测试膜400X200mm 706-792James Heal酚黄 (泛黄) 变测试纸100X75mm 50/包 706-720ISO 105-X18 M&S C20B-TOadidas***酚黄(泛黄)变测试纸James Heal酚黄 (泛黄) 变控制布100X30mm 25片/包 706-709ISO 105-X18 M&S C20B-TOadidas***酚黄(泛黄)变控制布

硫化仪和门尼聚酯薄膜，125 x 125 mm, 23 µ m，1000张/盒硫化仪和门尼聚酯薄膜，80 x 80 mm, 23 µ m，1000张/盒

美国chemplex光谱仪薄膜[416]

JH-30残余应力检测仪应用范围1.适于各种金属和非金属材料的盲孔法残余应力定量测量。2.对零件的形状大小和表面没有特殊要求，对零件有轻微的破坏。3.适合于各种环境下工厂和工程现场测量。JH-30残余应力检测仪特点1.数码管显示应变和残余应力高亮8位数码显示，可通过面板按键切换显示，实时查看应变和残余应力值及方向。2.操作简单只需输入被测工件的材料相应的释放系数A，B值，即可自动计算残余应力。自带温度补偿装置，自动清零，无需复杂的软件设置。3.在线打印在线油墨打印测量应变值和残余应力数据，可作为检验依据长期保存。JH-30残余应力检测仪技术指标1、工作环境：a) 温度：-20-40℃ b) 相对湿度：42%-92%；2、应变测量范围：±12800με3、应力测量范围：±2688MPa4、分辨率：1με/字，测量精度高达0.1MPa；5、适用应变片阻值：120Ω±0.56、供桥电压：DC2V,纹波小于0.1mV；7、灵敏系数：±9.999线性可调；8、基本误差限：≤±0.2%9、零漂：≤±2με/小时10、读数值变化：±0.13με/小时11、温漂：≤±0.02%F.S/℃12、可以根据被测工件的材料随意设置相应的释放参数；13、仪器采用八位高亮数码管显示，可任意切换显示应变和应力；14、配有智能打印机。可实时打印三个方向的应变值及计算后的残余应力值δ1、δ2及主应力方向角度θ；15、设有RS232接口，可方便以后软件升级；16、可配置JHZK残余应力精密打孔装置提高测量精度；17、钻孔直径：φ1.0～φ3.0mm18、电源：交流50HZ 220V±10%

JH-30残余应力检测仪应用范围1.适于各种金属和非金属材料的盲孔法残余应力定量测量。2.对零件的形状大小和表面没有特殊要求，对零件有轻微的破坏。3.适合于各种环境下工厂和工程现场测量。JH-30残余应力检测仪特点1.数码管显示应变和残余应力高亮8位数码显示，可通过面板按键切换显示，实时查看应变和残余应力值及方向。2.操作简单只需输入被测工件的材料相应的释放系数A，B值，即可自动计算残余应力。自带温度补偿装置，自动清零，无需复杂的软件设置。3.在线打印在线油墨打印测量应变值和残余应力数据，可作为检验依据长期保存。JH-30残余应力检测仪技术指标1、工作环境：a) 温度：-20-40℃ b) 相对湿度：42%-92%；2、应变测量范围：±12800με3、应力测量范围：±2688MPa4、分辨率：1με/字，测量精度高达0.1MPa；5、适用应变片阻值：120Ω±0.56、供桥电压：DC2V,纹波小于0.1mV；7、灵敏系数：±9.999线性可调；8、基本误差限：≤±0.2%9、零漂：≤±2με/小时10、读数值变化：±0.13με/小时11、温漂：≤±0.02%F.S/℃12、可以根据被测工件的材料随意设置相应的释放参数；13、仪器采用八位高亮数码管显示，可任意切换显示应变和应力；14、配有智能打印机。可实时打印三个方向的应变值及计算后的残余应力值δ1、δ2及主应力方向角度θ；15、设有RS232接口，可方便以后软件升级；16、可配置JHZK残余应力精密打孔装置提高测量精度；17、钻孔直径：φ1.0～φ3.0mm18、电源：交流50HZ 220V±10%

x射线定硫仪消耗品样品薄膜，迈拉膜，样品杯 Chemplex样品薄膜 型号：090，250 品牌：Chemplex 产地：美国 一、产品介绍： 在用X荧光光谱仪进行ROHS检测，WEEE检测和一般材料成分分析时，由于样品的不规则（特别是液体、粉末等），需要借助样品杯和薄膜辅助检测；但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的X射线信号和检测结果。 选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中，只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料？ 适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础： 使用方便快捷； 避免造成待测样品污染； 优越的分析物透射比与强度； 对待测样品的耐化学性。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是X射线光谱仪（XRF）配件耗材领域的全球知名厂商。 Chemplex XRF样品杯和样品薄膜用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。Chemplex样品薄膜薄膜张力特性佳，与样品杯组合使用，适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得Chemplex XRF样本杯、样品薄膜在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用，并被美国商标局授予知识产权地位。 美同达为美国Chemplex公司的中国代理商，提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪（XRF）的检测实验消耗产品！ 我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器： 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克 Bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）Thermo，瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma，Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 （适用X 射线荧光光谱仪品牌型号：所有X射线荧光光谱仪包括：尼通(NITON)：Xlt797z 、Xlt794、Xlt898 ；伊诺斯(Innov-X)：AlPHA6000；牛津(Oxford)：Met-5000；帕纳科(Panalytical)：Minipal4、 Minipal2；精工(Seiko)：SEA1000A；斯派克（Spectro）：XEPOS、MIDEX M；热电(Thermo)：ARL Quant’X；日本电子（JEOL）JSX－3400R；Horriba等。） 三、SPECTROMEMBRANE?样品薄膜 随着SpectroMembrane?样本支撑托架的面世，在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外，薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成，托框能够在组装过程中自动分离，留下绷紧的薄膜样本平面。 SpectroMembrane?薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在XRF样本杯上时，薄膜物质并不会被直接处理，这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时，薄膜将自动从托架上分离，留下绷紧的无皱样本支撑窗。 x射线定硫仪消耗品样品薄膜，迈拉膜，样品杯 106麦拉膜、CAT.NO：150麦拉膜、CAT.NO：250麦拉膜、CAT.NO：256麦拉膜、CAT.NO：257麦拉膜、CAT.NO：416、CAT.NO：426等Cat. No. Type Thickness Format Size Qty/Pack446-5 Kapton? 7.5 μm (0.3mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 50090 Ultra-Polyester? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)95 Etnom? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100-PP Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)106 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500107 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000150 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)150-PP Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)156 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500157 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000250 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)250-PP Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)256 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500257 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000美国Chemplex工业公司自1971年成立以来，一直坚持专注于X射线光谱分析的样品制备领域，拥有多系列独有的特色产品线以及产权，以质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉全球。美国Chemplex公司一直以产品创新、质量保证、、服务周到、准时交货为原则，几乎所有的产品有库存。美同达代理美国Chemplex工业公司旗下系列产品：XRF样品杯、XRF样品膜、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、符合ROHS方法的PE/PVC高分子聚合物（块/粉）、XRF/XRD化学试剂盒套包装等。全线供应给各大中石油、中石化、中海油旗下研发质检实验室，是一家专业的油品实验室进口配件耗材打包供应专家！

Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定，根据热压制膜原理，所得到的样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供三种等厚度薄膜制样工具，不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还能将粒状，块状或板材，如药包材料，包装材料，特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数： 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示，精度1度 安全切换装置：70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的，所以当P/N GS15800装载在压 片机上时， 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点：独立加热压盘，满足不同直径薄膜需要独立冷却盘，可缩短制膜周期重现性哈，制备过程简单 制膜过程无需化学品，成本低6种不同厚度的垫圈，适合各种高分子材料技术参数： 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示，精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633，请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

JHMK多点残余应力测试仪器JHMK多点残余应力测试仪器是由JHYC静态应变仪和JHZK精密钻孔装置共同构成的盲孔法残余应力测量系统，在软件进行设置后，自动实时计算残余应力，并实时显示和保存应力应变数值，使测量直观明了，精度高。JHMK多点残余应力测试仪器应用范围1.适于各种金属和非金属材料的盲孔法残余应力多点测量。2.对零件的形状大小和表面没有特殊要求，对零件有轻微的破坏。3.适合科研和要求较高的现场测量。JHYC静态应变仪功能特点1.测量能力：各种材料的应力应变、盲孔、环芯、切割法残余应力测试。2.接入不同的传感器，可对力、荷重、压力、扭矩、位移、电压、电流等进行采集。3.可满足教学、工程技术和科研的需求，仪器检定指标达到0.1级。4.仪器具有桥路、长导线、公共，软件多种补偿方式，稳定性好。5.适合各种应变花，设置简单方便，并自动保存设置参数。6.硬件全量程自动平衡，不损失测量范围，程控调零。7.自动实时计算、记录残余应力释放曲线，并生成残余应力报告；8.测量过程中可在被测材料上钻孔、电焊、等离子切割等。现场抗干扰能力强。如果想要咨询更多信息，可搜南京聚航网查看详情，电联聚航。

硫化仪、门尼和自动进样硫化仪 130mm 宽600mm长 23µ m厚 卷状尼龙薄膜硫化仪、门尼和自动进样硫化仪 130mm 宽600mm长 25µ m厚 卷状尼龙薄膜

高温纸垫薄膜

薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪，可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器，可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪，比如标准吸收/透过率，反射率的测量，薄膜的测量，薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件：核心模块----光谱仪；外壳模块----各种精密精美的仪器外壳；工作面积模块----测量工作区域；光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件；测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型，不同光谱范围和光源，满足各种测量应用

X射线荧光膜、土壤样品杯膜、X-RAY样品膜、Prolene膜、ROHS测试膜、XRF有方形托架的圆片薄膜--美国Chemplex--3018# 现货供应：XRF样品膜、XRF薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。 品名：XRF样品膜Sample Film目录编号CAT. NO：3018产品信息：Prolene膜，厚度4.0μm，直径63.5mm，100片/盒品牌：美国Chemplex Industries.Inc.（原装进口）货期：现货起订量：1盒以上。 现货供应：XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO：106、CAT.NO：150、CAT.NO：250、CAT.NO：256、CAT.NO：257、CAT.NO：416、CAT.NO：426、CAT.NO：3014样品膜、Sample Film。

薄膜偏振片英文名Thin film polarizer，薄膜偏振片是一种介质镀膜偏振片把s光和p光分开，适合高功率激光或高能量激光应用，适合内腔和外腔应用。布儒斯特型薄膜偏振片又叫Thin film polarizer,布儒斯特角偏振片，是一种适合高能激光应用的偏振片，损伤阈值高达10J/cm2 @1064nm 8ns. 薄膜偏振片常常作为格兰泰勒棱镜和偏振立方分束器（偏振立方体）的替代用品使用。常用的基质材料是BK7和紫外熔炉石英。56度入射角（布儒斯特角）情况下的 偏振比值Tp/Ts=200：1.特点：1）薄膜偏振片,Thin film polarizer有效地分开s光和p光 2）薄膜偏振片,Thin film polarizer配备有库存，可以立刻发货。薄膜偏振片标准参数 材料：BK7, UVFS直径公差：+0.0/-0.12mm厚度公差：+/-0.2mm净孔径：90%表面质量： 20-10 scratch&dig表面平整度：Lambda/10 @633nm平行度：30arec sec 消光比Tp/Ts：200:1典型透过率： Tp90%典型反射率：Ts99.5%激光损伤阈值： 5J/cm2 10ns 1064nm现有产品：266nm,343nm, 355nm, 400nm, 515nm, 532nm,780nm, 780-820nm, 795-805nm,940nm980nm, 1020-1040nm, 1064nm, 1550nm偏振片中国领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！

FEP薄膜FEP薄膜：也叫特氟龙薄膜，聚全氟乙丙烯薄膜；其特征主要有：1、耐高低温:-200～205℃ ，外观透明如保鲜膜，使用方便，环保；2、具有不粘性,拼水,拼油:水接触角θ=114о 电可靠性，高绝缘，不漏电；3、高透明度:透明度参考家用保鲜膜，对紫外线、可见光有很好的穿透性；4、耐强酸强碱，耐各种有机及无机化学溶剂，丙酮、醇类等各种腐蚀性溶剂；5、多作为封口膜，用于密封一些强腐蚀型瓶口；隔离实验室的一些腐蚀性溶剂；6、典型用途实例：中科院地化所常用来野外考察收集样品时，接收雨水用，通常会配套我公司同系列的FEP 透明管使用；规格参考：品名宽度（mm）厚度mmFEP薄膜 200-2500.02-0.0150.03-0.040.05-0.150.15-0.2可按照客户要求生产250-280250-300300-35050060080010001200 9、FEP系列产品：取样瓶、大口瓶、洗瓶、滴瓶、容量瓶、烧杯、离心管、离心瓶、移液管、吸管、分液漏斗、薄膜、透明管、消解管、消解瓶以及各种定制产品等。详情请来电咨询。 专注自然成！期待与您的合作！单位：南京瑞尼克科技开发有限公司

溶氧仪配件 tp351-003 薄膜按键

成卷的或预先切成方形或圆形的Prolene，超聚酯，聚丙烯，Mylar，聚碳酸脂和聚酰亚胺样品支撑薄膜。 成卷的薄膜(7.6cm×15.2m） 正方形薄膜（63.5mm×63.5mm） 圆形薄膜（直径63.5mm） 多孔聚丙烯薄膜（6.4cm×5.1m）