霍尔控制器

1.设备名称：霍尔效应测试仪2.功能描述：测量半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数3.技术参数：3-1测试范围：Si, SiGe, SiC, GaAs, InGaAs, InP, GaN (N Type & P Type)等材质的半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数3-2磁场：3-2-1磁场强度：0.5T3-2-2磁场类型：电磁体3-2-3磁场均匀性：磁场不均匀性＜±1 %10年内磁场变化＜±0.2%3-3温 度：3-3-1温度区域：77K和300K3-4电阻率范围：1 μ Ohm*cm ~10 M Ohm*cm 3-5电阻范围：0.1 m Ohms ~10 G Ohms3-6载流子浓度：107~1021cm-33-7迁移率：10-2~107 cm2/volt*sec3-8输入电流：3-8-1电流范围：1000 pA~10mA3-8-2电流解析度：1 pA (lowest range)3-8-3电流精度：2%3-9输入电压：3-9-1电压范围：±10V3-9-2电压分辨率：1μV4.仪器特点：4-1Automatic or manual current selection自动或手动模式(电流控制磁场模式)4-2Automatic contact check自动接触检查(欧姆接触)4-3Routine and enhanced software常规和增强软件4-4Differential resistivity measurements by I/V-curvesI/V曲线测试电阻率差异4-5Electromagnet电磁体4-6Misalignment voltage compensation失调电压补偿4-7Correction of slow sample drift voltage, especially for ZnO,修正慢样品漂移电压，特别是氧化锌4-8Automatic field calibration自动现场标定4-9Large concentration and resistivity range大浓度和电阻率范围4-10Flexible, modular hardware灵活的模块化硬件4-11Support of various magnets, for example BioRad HL 5200支持多样磁场4-12Support of various temperature controllers支持各种温度控制器(支持客户自行升级变温系统)4-13Van der Pauw and bar shape (bridge-type) Hall samples支持范德堡和霍尔巴法测试霍尔5硬件5-1The standard system consists of a bench top electronic system, a small magnet and a sample stage for room temperature and LN2 measurements.标准系统包含电子测试系统、磁场和两个温度区域的测试平台（室温和液氮温度）5-2The electronics include the current source, the voltage measurement part, the contact switching module, the magnet power supply and the IEEE or RS232 interface. It is completely micro processor controlled.电子测试系统包括由单片机控制的电流源、电压测试、接触开关模块、磁场电源、IEEE或RS232接口5-3The contact switching module is designed to allow all possible measurement configurations.接触开关模块支持所有用户用于其他的配置(用户可以采用制冷机做变温霍尔测试)5-4The current source has adjustable limits for voltage and/or power. {+++}电流源具有可调电压和/或电源的限制5-5Voltage measurement provides different input amplifiers optimized for either low current or low voltage applications.电压测量提供了不同的输入放大器或低电流或低电压应用的优化。6软件界面

1.设备名称：霍尔效应测试仪2.功能描述：测量半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数3.技术参数：3-1测试范围：Si, SiGe, SiC, GaAs, InGaAs, InP, GaN (N Type & P Type)等材质的半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数3-2磁场：3-2-1磁场强度：0.45T 永磁体3-2-2磁场类型：永磁体3-2-3磁场均匀性：磁场不均匀性＜±1 %10年内磁场变化＜±0.2%3-3温 度：3-3-1温度区域：77K(液氮温度)或室温3-4电阻率范围：1 μ Ohm*cm ~10 M Ohm*cm3-5电阻范围：0.1 m Ohms ~10 G Ohms3-6载流子浓度：107~1021cm-33-7迁移率：10-2~107 cm2/volt*sec3-8输入电流：3-8-1电流范围：1000 pA~10mA3-8-2电流解析度：2.5 pA (lowest range)3-8-3电流精度：2%3-9输入电压：3-9-1电压范围：±10V3-9-2电压分辨率：1μV4.仪器特点：4-1Automatic contact check自动接触检查(欧姆接触)4-2Routine and enhanced software常规和增强软件4-3Differential resistivity measurements by I/V-curvesI/V曲线测试电阻率差异4-4Misalignment voltage compensation失调电压补偿4-5Correction of slow sample drift voltage, especially for ZnO,修正慢样品漂移电压，特别是氧化锌4-6Automatic field calibration自动现场标定4-7Large concentration and resistivity range大浓度和电阻率范围4-8Flexible, modular hardware灵活的模块化硬件4-9Support of various magnets, for example BioRad HL 5200支持多样磁场4-10Support of various temperature controllers支持各种温度控制器(支持客户自行升级变温系统)5硬件5-1The standard system consists of a bench top electronic system, a small magnet and a sample stage for room temperature and LN2 measurements.标准系统包含电子测试系统、磁场和两个温度区域的测试平台（室温和液氮温度）5-2The electronics include the current source, the voltage measurement part, the contact switching module and the IEEE or RS232 interface. It is completely micro processor controlled.电子测试系统包括由单片机控制的电流源、电压测试、接触开关模块、IEEE或RS232接口5-3The contact switching module is designed to allow all possible measurement configurations.接触开关模块支持所有用户用于其他的配置(用户可以采用制冷机做变温霍尔测试)5-4The current source has adjustable limits for voltage and/or power. {+++}电流源具有可调电压和/或电源的限制5-5Voltage measurement provides different input amplifiers optimized for either low current or low voltage applications.电压测量提供了不同的输入放大器或低电流或低电压应用的优化。6软件

低流量叶轮传感器和控制器低流量叶轮传感器和控制器磨损小，传感器寿命长每个流量传感器均配有旋转涡轮和磁性霍尔效应传感器，便于产生与流量成比例的电子脉冲。控制器将这些脉冲转换成流量单位。这些低流量传感器可测量尺寸在 3?8" - 1" NPT(F) 管道内的流量。传感器产生方波脉冲输出（传送至流量控制器 33110-60 或 -70 中），从而显示流速和总流量；批量控制器 33112-52 可为多个设备提供批输出控制；或为流速/总流量显示器 33112-50提供批输出控制，该显示器为电池供电的双线显示器。可选择聚丙烯 (PP)、TFE、316 不锈钢 (SS) 或黄铜传感器。PP 传感器适用于常规应用。TFE 传感器适用于高纯度高温度应用。316 SS 传感器适用于化学配料和注射、肥料注射或喷雾化学品配料应用。黄铜传感器适用于使用清洁水的应用。为获得最佳结果，应在直管内安装传感器（入口处应为五个管道直径长度）。可在各个方向上安装传感器。所有型号均包括带有剥线头的18-ft (5.5-m) 长电缆。流量范围 (GPM)接头 NPT(F)最大流量下的压降PP 传感器TFE 传感器SS 传感器黄铜传感器货号货号货号货号0.07 - 53/8"15 psi33110-0033110-05——0.1 - 101/2"15 psi33110-1033110-1533125-10—0.2 - 101/2"14 psi———33125-000.2 - 153/4"14 psi——33125-15—0.2 - 183/4"14 psi———33125-050.2 - 203/4"24 psi33110-2033110-25——0.5 - 251"15 psi——33125-20—0.5 - 401"24 psi33110-3033110-35——

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准美国 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列 美国 KRI 霍尔离子源 eH 系列紧凑设计, 高电流低能量宽束型离子源, 提供原子等级的细微加工能力, 霍尔离子源 eH 可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计有效提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护. 霍尔离子源 eH 提供一套完整的方案包含离子源, 电子中和器, 电源供应器, 流量控制器 MFC 等等可以直接整合在各类真空设备中, 例如镀膜机, load lock, 溅射系统, 卷绕镀膜机等.美国 KRI 霍尔离子源 eH 特性 无栅极 高电流低能量 发散光束 45可快速更换阳极模块 可选 Cathode / Neutralize 中和器美国 KRI 霍尔离子源 eH 主要应用 辅助镀膜 IBAD溅镀&蒸镀 PC表面改性、激活 SM沉积 (DD)离子蚀刻 LIBE光学镀膜Biased target ion beam sputter deposition (BTIBSD) Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)例如1. 离子辅助镀膜及电子枪蒸镀2. 线上式磁控溅射及蒸镀设备预清洗3. 表面处理4. 表面硬化层镀膜5. 磁控溅射辅助镀膜7. 偏压离子束磁控溅射镀膜霍尔离子源 eH 系列在售型号:型号eH400eH1000eH2000eH3000eH Linear中和器F or HCF or HCF or HCF or HCF阳极电压50-300 V50-300 V50-300 V50-250 V50-300 V离子束流5A10A10A20A根据实际应用散射角度4545454545气体流量2-25 sccm2-50 sccm2-75 sccm5-100 sccm根据实际应用本体高度3.0“4.0“4.0“6.0“根据实际应用直径3.7“5.7“5.7“9.7“根据实际应用水冷可选可选是可选根据实际应用F = Filament HC = Hollow Cathode xO2 = Optimized for O2 current 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品描述活细胞成像环境控制器可配合显微镜对细胞进行长期延时观察，控制器包含控制器和细胞观察舱，控制器可精确控制细胞观察舱内的温度、二氧化碳、氧气浓度。细胞观察舱可安装在常用正置或倒置显微镜上，也可安装在其它细胞显微成像系统上。提供不同的尺寸规格，可容纳标准的多孔板、培养皿、和载玻片等。产品特点 可控制参数：温度、湿度(增湿)、氧气浓度、二氧化碳浓度 氧气浓度控制范围：0.1%-25%，调节精度为0.2%，可选择0-100%量程 温度控制范围：30?40℃，精度为0.1℃；可选配低温功能 二氧化碳浓度控制范围：0.1%-20%，调节精度为0.1% 适用领域 细胞观察舱用于放置细胞培养皿或者细胞培养玻片，内置的细胞可以在控制的环境中（如低氧环境）进行活细胞长期观察（Time-Lapse）试验。 型号说明产品名称型号说明活细胞成像环境控制器MC101控制温度活细胞成像环境控制器MC102控制温度、氧气、二氧化碳*我公司可提供3Q验证，根据客户的特殊应用、特殊需求提供功能定制服务，也可以提供相关的实验服务，详情请来电咨询。

测量包括：• 迁移率测试• DC HEMS: 10^6cm2/Vs to 10cm2/Vs• AC HEMS: 10cm2/Vs to 0.1cm2/Vs• 载流子浓度测试• 电阻率测试• 电阻测量• 低电阻范围 1uohm to 1Mohm• 宽电阻范围 1uohm to 100Gohm• 高电阻范围 1ohm to 100Gohm• 范德堡法测试范围• 霍尔巴法测试 磁帽:• 可更换帽• 标准25mm• 在0-130mm间距连续可调• 更大帽直径可选,50mm,75mm 电磁铁:• ±2.5T@100mmgapwith25mmpoleface• ±35V, ±70A电源• 磁场±IT@25mmpolegap• 线圈电阻: 0.5 ? (20°C)• 水冷温度选项:• 低温 3K-300K• 高温300K-1273K 纳米磁学高斯计:• 磁场扫描采用集成高斯计• 磁场校准采用霍尔探头• 高灵敏度的磁场测量• 所有参数可通过软件控制 样品架:• 4,6 or8范德堡或霍尔巴测试设计• 易于样品安装与弹簧连接• 5mmx5mm样品大小(提供更大选件)• 多个样品安装 控制器和软件:• 使用我们软件可逐层的进行迁移率分析• 基于C# 的全自动软件分析• 非常宽的温度测试范围,3-1,300K• 采用高斯计进行磁场的控制• 非常容易的进行范德堡霍尔巴方法样品测试• 提供软件终生升

霍尼韦尔TBC2800A1000烧嘴控制器霍尼韦尔TBC2800系列不仅可以配套使用到传统连续燃烧中，更广泛使用到当前温度均匀性要求较高的脉冲燃烧控制上，实现燃烧系统的优化控制。上海益斯特130 6167 0309 上海益斯特130 6167 0309霍尼韦尔TBC2800系列结合了传统连续性燃烧和脉冲燃烧的实用性控制技术,适用于多烧嘴的应用场合，有着广阔的应用前景，可广泛应用于钢铁、机械、有色、玻璃、陶瓷、石化等行业，对提高设备运营稳定性、降低燃耗、减少污染将发挥重大作用。基座可以直接安装在DIN导轨上也可以用两个M4螺丝安装在固定板上，注意为了满足IP54密封等级使用螺丝安装时需配密封垫；基座上有7个M16可击落预留孔，与塑料密封接头相匹配，用于进线和出线电缆的连接。集成离子棒或UV火检方式,可通过设定切换霍尼韦尔TBC2800A1000烧嘴控制器特点：六种运行参数集成可选配置24小时连续运行(UV除外)，运行寿命超过25万次IP54保护等级，适合现场或机柜安装多功能按键组合，LED 状态指示灯组合运行状态、故障信息和火焰强度实时显示；霍尼韦尔Honeywell程控器型号:1.FC1000系列燃烧控制器FC1000A1001,FC1000B10012.BC1000 火焰监视器BC1000A0110F, BC1000A0110U, BC1000A0220F,BC1000A0220U3.CR7890 火焰监视器CR7890B10194.R4343D/E-火焰开关型控制器:R4343D1017,R4343E1014

美国MMR公司，与斯坦福大学合作开发了专利的致冷器，其具有世界上最小的震动(埃米级别)、宽控温范围(70~730K)及高温度稳定性(0.1K)，并将其应用在以下测量系统，提高了系统的整体性能。 各个系统均采用模块设计，客户可根据实际要求配置系统，也方便日后升级。其主要客户有Standford Univ, University of Cambridge, AT&&Bell Labs, NASA, IBM, Intel, AMD，中科院等。霍尔效应测量系统主要用于研究光电材料的电学特性，利用范德堡测量技术测量材料在不同温度、磁场下的载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数及载流子类型。整套系统主要包括控制器、样品室、磁场三部分。主要参数：1. 样品固定方式：弹簧探针或引线治具2. 温度：70~730K；80~580K；70~580K；80~730K；室温~730K（可选）3. 磁场：5000Gauss永磁铁，5000Gauss电磁场， 1.4T电磁场（可选）4. 温度稳定度：=0.1K5. 温度响应：1K/sec 6. 致冷片：10X14 mm7. 电阻率：10-4~1013 Ohm*cm8. 载流子迁移率：1~107 cm2/volt*sec9. 载流子浓度：103~1019cm-310. 电流范围：1 pA~100mA11. 电压范围：+/-2.4V，最小可测到6X10-6 V12. 电阻范围：10 m Ohms~ 10G OhmsTel: 86 21 62083715

美国 KRI 霍尔离子源 eH 400上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”放电电压 / 电流: 50-300eV / 5a操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体KRI 霍尔离子源 eH 400 特性• 可拆卸阳极组件 - 易于维护 维护时, 限度地减少停机时间 即插即用备用阳极• 宽波束高放电电流 - 均匀的蚀刻率 刻蚀效率高 高离子辅助镀膜 IAD 效率• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统• 高效的等离子转换和稳定的功率控制KRI 霍尔离子源 eH 400 技术参数:型号eH 400 / eH 400 LEHO供电DC magnetic confinement - 电压40-300 V VDC - 离子源直径~ 4 cm - 阳极结构模块化电源控制eHx-3005A配置- - 阴极中和器Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode - 离子束发散角度 45° (hwhm) - 阳极标准或 Grooved - 水冷前板水冷 - 底座移动或快接法兰 - 高度3.0' - 直径3.7' - 加工材料金属 电介质 半导体 - 工艺气体Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors - 安装距离6-30” - 自动控制控制4种气体* 可选: 可调角度的支架 SidewinderKRI 霍尔离子源 eH 400 应用领域:• 离子辅助镀膜 IAD• 预清洁 Load lock preclean• In-situ preclean• Low-energy etching• III-V Semiconductors• Polymer Substrates 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请参考以下联络方式 上海伯东: 叶女士 台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-3511 ext 109 T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049 M: +86 1391-883-7267 M: +886-939-653-958上海伯东版权所有, 翻拷必究！

台湾EMT7065霍尔效应仪 霍尔效应仪可以测量Si, SiGe, SiC, GaAs, InGaAs, InP, GaN (N Type & P Type)等材质的半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数。EMT7065霍尔效应仪运用先进的Keithley电子仪表，和我们在极端的条件下能够很好的整合一整套系统，我们的霍尔效应仪温度范围可以达到4K-1000K，磁场可以升级到9T。可以结合许多极端环境平台： 从4K到1000K温度不改变样品架制冷机温度可达到1000K宽泛的测量范围无需跟换腔体进行操作坚固设计并安装在冷却器的上端，换样品时不会接触到。许多标准的安装配置可用-可定制适合你的冷端或者样品架安装配置可以使用许多不同的封闭式和开放式循环制冷机提供高温系统以及温度控制器

产品描述活细胞成像环境控制器可配合显微镜对细胞进行长期延时观察，控制器包含控制器和细胞观察舱，控制器可精确控制细胞观察舱内的温度、二氧化碳、氧气浓度。细胞观察舱可安装在常用正置或倒置显微镜上，也可安装在其它细胞显微成像系统上。提供不同的尺寸规格，可容纳标准的多孔板、培养皿、和载玻片等。产品特点 可控制参数：温度、湿度(增湿)、氧气浓度、二氧化碳浓度 氧气浓度控制范围：0.1%-25%，调节精度为0.2%，可选择0-100%量程 温度控制范围：30?40℃，精度为0.1℃；可选配低温功能 二氧化碳浓度控制范围：0.1%-20%，调节精度为0.1% 适用领域 细胞观察舱用于放置细胞培养皿或者细胞培养玻片，内置的细胞可以在控制的环境中（如低氧环境）进行活细胞长期观察（Time-Lapse）试验。 型号说明产品名称型号说明活细胞成像环境控制器MC101控制温度活细胞成像环境控制器MC102控制温度、氧气、二氧化碳*我公司可提供3Q验证，根据客户的特殊应用、特殊需求提供功能定制服务，也可以提供相关的实验服务，详情请来电咨询。

霍尼韦尔R4343E1014燃烧控制器用于燃气/燃油系统的保护控制，提供报警或切断开关,R4343D,E具有二付SPDT开关。具有防点火干扰功能上海益斯特130 6167 0309面板测试插口可直接得到火焰信号的读数上海益斯特130 6167 0309R4343D与整流型的火焰探头(离子棒,光电管)配用,R4343E与C7027,C7035小窥管紫外线火焰探头配用.霍尼韦尔R4343E1014燃烧控制器防护等级: IP40霍尼韦尔C7015A1076 C7015A1092 C7015A1126 C7027A1023 C7027A1031 C7027A1049 C7027A1064 C7027A1072 C7027A1080 C7035A1023 C7035A1031 C7035A1056 C7035A1080 C7061A1012 C7061A1038 C7061F2001 C7012A1145 C7012A1152 C7012A1160 C7012A1186 C7012A1194 C7012C1142 C7012E1104 C7012E1112 C7012E1120 C7012E1146 C7012E1153 C7012E1161 C7012E1278 C7012F1052 EC7800 EC7823A RM7823A EC7890A RM7890A EC7890B RM7890B EC7810A RM7810A EC7830A RM7830A EC7850A RM7850A RM7800L RM7840L RM7885 Q7800A1005 Q7800B1003 ST7800A1013 ST7800A1021 ST7800A1039 ST7800A1047 ST7800A1054 ST7800A1062 ST7800A1070 ST7800A1088 ST7800A1096 ST7800A1104 ST7800A1112 ST7800A1120 ST7800A1138 ST7800A1146 S7800A1001 S7810A1009 S7820A1007 R7847A1025 R7847A1033 R7847A1074 R7847B1031 R7847C1005 R7849A1015 R7849A1023 R7849B1013 R7849B1021 R7848A1008 R7861A1026 R7861A1034 R7886A1001美国SATRONIC程控器TF801 TF801.2 TF802 TF802.2 TF804 TF804.2 TF830.3 TF832.3 TF834.2 TF834E.3 TF836.3 TF974 TF976 DKO970 DKO972 DKO974 DKO976 DKO974N DKO976N TTO872.2 TTO876.2 MMO872 MMO876 MMD900.1 TMO720-4 DKW972 DKW976 TFI812.2mod. 5 TFI812.2mod. 10 MMI810.1 MMI811.1 MMI812 MMI813.1 MMI962.1 MMG810.1 MMG811.1 TMG740-3 SGU930 SGU930i DKG972 DMG970 DMG971 DMG972 DMG973

HSEM系列电磁铁霍尔效应测试系统由电磁铁、霍尔测试仪、控制器、样品变温选件等部分组成。根据选取配置不同可实现±1.5T的磁场、10K样品温度、1273K样品温度等性能。具有磁场范围大、温区广等特点。可满足客户在不同温度或不同磁场下对材料的电阻率、载流子浓度、载流子类型、霍尔系数、电子迁移率等参数进行测量。系统特点：&bull 具有连续可变的磁场环境，可选±0.8T或±1.5T两种配置&bull 具有较丰富的温度选件，包含：室温、液氮单点、10K-400K闭循环低温选件、室温-1273K高温选件&bull 迁移率范围：0.01-10^6&bull 可测样品电阻范围：10mΩ-100GΩ&bull 载流子浓度：8 × 102 到 8 × 1023 cm-3&bull 室温屏蔽盒为样品提供室温测试环境，提供多种室温样品卡，满足各种规格的样品的霍尔测试。&bull 可通过滑轨快速切换低温恒温器与室温屏蔽盒，可快速切换样品或更换样品环境，提高换样效率。测试材料：&bull 热电材料：碲化铋、碲化铅、硅锗合金等&bull 光伏材料/太阳能电池：（A硅（单晶硅、非晶硅）CIGS（铜铟镓硒）、碲化镉、钙钛矿等）&bull 有机材料：（OFET、OLED）&bull 透明导电金属氧化物TCO：（ITO、AZO、ZnOIGZO（铟镓锌氧化物）等）&bull 半导体材料：SiGe、InAs、SiC、InGaAs、GaN、SiC、InP、ZnO、Ga2O3等&bull 二维材料：石墨烯、BN、MoS2参数和指标：型号HSEM-08HSEM-15磁场大小±0.8T±1.5T迁移率1*10-2 to 1*106 cm2 / Vs载流子浓度8x102-8x1023/cm3样品阻值范围10mΩ-100GΩ电压激励范围100nV ~ 10V电流激励范围10pA ~ 100mA测试方法范德堡或霍尔巴样品尺寸标准10mm*10mm可定制Φ50mm或其他尺寸支持温度选件液氮选件闭环低温选件高温炉

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 霍尔离子源 eH 2000上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 2000 是一款更强大的版本, 带有水冷方式, 他具备 eH 1000 所有的性能, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合大中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”放电电压 / 电流: 50-300V / 10A 或 15A操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体KRI 霍尔离子源 eH 2000 特性&bull 水冷 - 与 eh 1000 对比, 提供更高的离子输出电流&bull 可拆卸阳极组件 - 易于维护 维护时, 最大限度地减少停机时间 即插即用备用阳极&bull 宽波束高放电电流 - 高电流密度 均匀的蚀刻率 刻蚀效率高 高离子辅助镀膜 IAD 效率&bull 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统 安装方便&bull 等离子转换和稳定的功率控制KRI 霍尔离子源 eH 2000 技术参数型号eH 2000 / eH 2000L / eH 2000x02/ eH 2000 LEHO供电DC magnetic confinement - 电压40-300V VDC - 离子源直径~ 5 cm - 阳极结构模块化电源控制eHx-30010A配置- - 阴极中和器Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode - 离子束发散角度 45° (hwhm) - 阳极标准或 Grooved - 水冷前板水冷 - 底座移动或快接法兰 - 高度4.0' - 直径5.7' - 加工材料金属电介质半导体 - 工艺气体Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors - 安装距离16-45” - 自动控制控制4种气体 * 可选: 可调角度的支架 SidewinderKRI 霍尔离子源 eH2000 应用领域&bull 离子辅助镀膜 IAD&bull 预清洗 Load lock preclean&bull 预清洗 In-situ preclean&bull Direct Deposition&bull Surface Modification&bull Low-energy etching&bull III-V Semiconductors&bull Polymer Substrates1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请联络上海伯东上海伯东版权所有, 翻拷必究！

霍尔效应是指当电流流动时，导体置于磁场中，导体片上会产生电压。霍尔效应传感器通过提供与磁通密度成正比的输出电压来测量或检测磁场。Lake Shore为各种应用提供一系列霍尔传感器，不仅仅局限于简单的磁场检测应用，例如编码器、非接触式开关和电子罗盘，也适用于现场测量应用。主要特征 ☛ 多种封装类型☛ 有效面积小☛ 单轴或三轴配置☛ 适用于极端环境（低温、辐射、真空）霍尔传感器是一种 4 引线装置。控制电流 (IC) 引线通常连接到一个电流源，如 Lake Shore 的121型。121型可提供多个与各种霍尔传感器兼容的固定电流值。 霍尔电压引线可直接连接到高阻抗电压表等读出仪器上，也可连接到电子电路上进行放大或调节。设备信号电平范围为微伏至数百毫伏。 霍尔传感器的输入与输出并不隔离。事实上，两个端口之间通常只存在输入电阻数量级的阻抗。为防止错误的电流路径导致较大的误差电压，电流供应必须与输出显示器或下游电子设备隔离。不同类型霍尔传感器性能对比 2DexInAs—stableInAs—sensitiveGaAs材料类型使用二维电子气（2DEG）结构的薄膜技术砷化铟块状材料，掺杂后具有高稳定性砷化铟块状材料，掺杂后具有高灵敏度砷化镓薄膜温度范围1 K* ~ 402 K (-272 °C* ~ 125 °C) * 低温版本在研发中1.5 K ~ 375 K (-271.5 °C ~ 102 °C)208 K ~ 373 K (-65 °C ~ 100 °C)233 K ~ 402 K (-40 °C ~ 125 °C)互换性好—灵敏度值范围窄、线性度优异、偏移电压小差—灵敏度范围足够大，需要了解平均灵敏度值差—灵敏度范围足够大，需要了解平均灵敏度值差—灵敏度范围足够大，需要了解平均灵敏度值坚固性好差差好Lake Shore 仪器兼容性F71 或 F41 特斯拉计选择即插即用传感器--完整的传感器校准和温度补偿功能，可提供与完整的高斯计探头相当的精度425 或 475 高斯计使用 HMCBL 电缆；仅使用单一灵敏度值完成现场转换，这意味着高斯计不进行线性和温度补偿425 或 475 高斯计使用 HMCBL 电缆；仅使用单一灵敏度值完成现场转换，这意味着高斯计不进行线性和温度补偿不兼容平面霍尔效应无，是测量未知方位场的理想选择显著，块状材料产生了足够的平面霍尔效应，因此只能精确测量已知方向的磁场显著，块状材料产生了足够的平面霍尔效应，因此只能精确测量已知方向的磁场部分，薄膜元件可能会出现少量的平面霍尔效应误差额定电流下的灵敏度50.5 ~ 52.5 mV/T5.5 ~ 11 mV/T55 ~ 125 mV/T110 ~ 280 mV/T灵敏度温度系数200 ppm/°C50 ppm/°C800 ppm/°C600 ppm/°C额定驱动电流1 mA100 mA100 mA1 mA典型输入电阻800 Ω2 Ω2 Ω750 Ω典型输入电阻温度系数0.7%/°C0.15%/°C0.18%/°C0.2%/°C最佳偏移电压（等效磁场）±25 µ V (0.5 mT)±50 µ V (4.5 mT)±75 µ V (0.6 mT)±2.8 mV (10 mT)

一、产品概述：霍尔效应测试仪是一种用于测量材料霍尔效应的仪器，主要用于评估半导体和导体的电学特性。该设备能够准确测量材料在外部磁场下的电导率、霍尔电压和载流子浓度等参数，广泛应用于材料科学和电子工程领域。二、设备用途/原理：设备用途霍尔效应测试仪主要用于半导体材料的研究与开发、电气元件的性能测试以及材料的电学特性评估。它帮助研究人员了解材料的载流子类型、浓度及迁移率，为新材料的设计和应用提供重要数据支持。工作原理霍尔效应测试仪的工作原理基于霍尔效应现象。当电流通过材料时，施加垂直于电流方向的磁场会在材料中产生霍尔电压。通过测量霍尔电压和已知的电流及磁场强度，仪器能够计算出材料的霍尔系数、载流子浓度和迁移率等电学参数。这一过程通常涉及精密的电流和磁场控制，以确保测量的准确性和重复性。三、主要技术指标：1. 系统功能：用于测量半导体材料的电阻率/电导率、流动性、散装/片状载体浓度、掺杂类型、霍尔系数、磁阻、垂直/水平阻力比的半导体高性能霍尔系统。模块化设计理念，允许轻松升，该系统适用于各种材料，包括硅和化合物半导体和金属氧化物膜等2. 该系统具有低电阻率和高电阻率测量功能，具有双重温度功能和一个可选的低温恒温器，可扩展该系统温度范围从90K到500K3. 方块电阻量程：10-4 Ω/sq ~ 106Ω/sq4. 载流子浓度量程：106 ~ 1021 cm-35. 载流子迁移率量程：1 ~ 107 cm6. 四个微调探针座，探针直接形成ohm接触，无需焊线或制作PCB板7. 大样品测量直径：25mm

霍尔效应测试系统 HET 是依据范德堡法测量材料的电运输性能参数:载流子浓度迁移率、电阻率、霍尔系数等，薄膜或薄层材料均可测量，可应用于所有半导体材料，包括 Si、ZnO、SiGe、Sic，GaAs，InGaAs，InP，GaN(N型&P型均可测量)，广泛应用于国内高校、研究所、半导体、金属、高热导有机新材料等行业。产品特点-采用高精密度恒流源和电压表，确保仪器测试的良好准确度和高稳定性，性能优越 -自动控制磁场方向的改变，更加便捷准确 -样品装夹快速方便，且使用能够解决欧姆接触的样品芯片 -产品采用一体化、精密化设计，融入人性化的设计理念，不仅测量精确而且操作方便 -用户界面操作简单，功能齐全的软件平台带给客户友好的操作体验，使测试过程更加方便快捷应用功能-载流子类型鉴定:通过测量霍尔系数，可以确定电流携带者的类型，是正电荷的空穴还是负电荷的电子，从而获得半导体或导体的电子结构和能带特性 -载流子浓度测量:霍尔系数与载流子浓度之间存在关系，因此通过测量霍尔系数，可以估计材料中载流子的浓度 -迁移率评估:霍尔系数还可以用来计算载流子的迁移率，即电荷载流子在材料中移动的能力，从而对材料的电导率和电子迁移性等方面的深入研究 -材料电性能评估:通过了解材料的电子结构、载流子类型、浓度和迁移率等信息，可以更全面地评估材料的电性能，为电子器件和电路设计提供重要参考

产品详情 美国MMR 霍尔效应测量系统 H5000 美国 MMR 公司，与斯坦福大学合作开发了专利的致冷器，其具有世界上最小的震动(埃米级别)、宽控温范围(70~730K)及高温度稳定性(0.1K)，并将其应用在以下测量系统，提高了系统的整体性能。 各个系统均采用模块设计，客户可根据实际要求配置系统，也方便日后升级。 霍尔效应测量系统主要用于研究光电材料的电学特性，利用范德堡测量技术测量材料在不同温度、磁场下的载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数及载流子类型。整套系统主要包括控制器、样品室、磁场三部分。 主要参数： 1. 样品固定方式：弹簧探针或引线治具2. 温度：70~730K；80~580K；70~580K；80~730K；室温~730K（可选）3. 磁场：5000Gauss 永磁铁，5000Gauss 电磁场， 1.4T 电磁场（可选）4. 温度稳定度：=0.1K5. 温度响应：1K/sec6. 致冷片：10X14 mm7. 电阻率：10-4~1013 Ohm*cm8. 载流子迁移率：1~107 cm2/volt*sec9. 载流子浓度：103~1019cm-310. 电流范围：1 pA~100mA11. 电压范围：+/-2.4V，最小可测到 6X10-6 V12. 电阻范围：10 m Ohms~ 10G Ohms 参考客户： Standford Univ, University of Cambridge, AT&&Bell Labs, NASA, IBM, Intel, AMD，中科院，深圳大学，华南理工大学，上海光机所，上海微系统所，四川大学，上海交通大学，常州大学，东北大学，厦门大学，新疆理化研究所，北京物理所等。

耐高压高灵敏度单极霍尔开关1. 规格说明商品名称耐高压高灵敏度单极霍尔开关（单极感应N极）感应方式磁铁感应电源电压5-24VDC检测距离有效检测距离0-10mm负载电流不超过40MA输出形式NPN三线常闭型输出状态无磁场时输出高电平，有磁场时输出低电平检测物体金属材料外接引线30cm外形规格M6×0.75，全螺纹，长度10mm接线方式红线正极，黑线负极，黄线信号，请勿接反典型应用无刷电机换向、流量传感器、位置传感器、速度传感器2. 详细参数（Ta=25℃，Vsup=5V）参数符号最小值典型值最大值单位电源电压VSUP3.8540V工作电流ISUP69mA输出电流Isink30mA输出上升时间Tr1us输出下降时间Tf1.5us工作点Bop306080Gauss释放点Brp104060Gauss回差Bhys102040Gauss工作温度Ta-40125℃3. 磁电转换特性该传感器设计用于北极响应。当磁通密度（B）大于工作点Bop时，输出以低电平，输出保持不变，直到磁通量（B）小于释放点Brp时，输出以高电平。该产品20元/只，100只起订。

产品介绍测量包括：• 迁移率测试• DC HEMS: 10^6cm2/Vs to 10cm2/Vs• AC HEMS: 10cm2/Vs to 0.1cm2/Vs• 载流子浓度测试• 电阻率测试• 电阻测量• 低电阻范围 1uohm to 1Mohm• 宽电阻范围 1uohm to 100Gohm• 高电阻范围 1ohm to 100Gohm• 范德堡法测试范围• 霍尔巴法测试 磁帽:• 可更换帽• 标准25mm• 在0-130mm间距连续可调• 更大帽直径可选,50mm,75mm 电磁铁:• ±2.5T@100mmgapwith25mmpoleface• ±35V, ±70A电源• 磁场±IT@25mmpolegap• 线圈电阻: 0.5 ? (20°C)• 水冷温度选项:• 低温 3K-300K• 高温300K-1273K 纳米磁学高斯计:• 磁场扫描采用集成高斯计• 磁场校准采用霍尔探头• 高灵敏度的磁场测量• 所有参数可通过软件控制 样品架:• 4,6 or8范德堡或霍尔巴测试设计• 易于样品安装与弹簧连接• 5mmx5mm样品大小(提供更大选件)• 多个样品安装 控制器和软件:• 使用我们软件可逐层的进行迁移率分析• 基于C# 的全自动软件分析• 非常宽的温度测试范围,3-1,300K• 采用高斯计进行磁场的控制• 非常容易的进行范德堡霍尔巴方法样品测试• 提供软件终身升级上海睿忱英国 NanoMagnetics 仪器 HEMS 霍尔效应测量系统, 多样品实验, 非常适合材料研究等应用.

PHYS TECH GmbH RH2035 霍尔效应测试仪器1.设备名称：霍尔效应测试仪2.功能描述：测量半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数3.技术参数：3-1测试范围：Si, SiGe, SiC, GaAs, InGaAs, InP, GaN (N Type & P Type)等材质的半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数3-2磁场：3-2-1磁场强度：0.45T 永磁体3-2-2磁场类型：永磁体3-2-3磁场均匀性：磁场不均匀性＜± 1 %10年内磁场变化＜± 0.2%3-3温 度：3-3-1温度区域：77K(液氮温度)或室温3-4电阻率范围：1 µ Ohm*cm ~10 M Ohm*cm3-5电阻范围：0.1 m Ohms ~10 G Ohms3-6载流子浓度：107~1021cm-33-7迁移率：10-2~107 cm2/volt*sec3-8输入电流：3-8-1电流范围：1000 pA~10mA3-8-2电流解析度：2.5 pA (lowest range)3-8-3电流精度：2%3-9输入电压：3-9-1电压范围：± 10V3-9-2电压分辨率：1&mu V 4.仪器特点：4-1Automatic contact check自动接触检查(欧姆接触)4-2Routine and enhanced software常规和增强软件4-3Differential resistivity measurements by I/V-curvesI/V曲线测试电阻率差异4-4Misalignment voltage compensation失调电压补偿4-5Correction of slow sample drift voltage, especially for ZnO,修正慢样品漂移电压，特别是氧化锌4-6Automatic field calibration自动现场标定4-7Large concentration and resistivity range大浓度和电阻率范围4-8Flexible, modular hardware灵活的模块化硬件4-9Support of various magnets, for example BioRad HL 5200支持多样磁场4-10Support of various temperature controllers支持各种温度控制器(支持客户自行升级变温系统) 5硬件5-1The standard system consists of a bench top electronic system, a small magnet and a sample stage for room temperature and LN2 measurements.标准系统包含电子测试系统、磁场和两个温度区域的测试平台（室温和液氮温度）5-2The electronics include the current source, the voltage measurement part, the contact switching module and the IEEE or RS232 interface. It is completely micro processor controlled.电子测试系统包括由单片机控制的电流源、电压测试、接触开关模块、IEEE或RS232接口5-3The contact switching module is designed to allow all possible measurement configurations.接触开关模块支持所有用户用于其他的配置(用户可以采用制冷机做变温霍尔测试)5-4The current source has adjustable limits for voltage and/or power. {+++}电流源具有可调电压和/或电源的限制5-5Voltage measurement provides different input amplifiers optimized for either low current or low voltage applications.电压测量提供了不同的输入放大器或低电流或低电压应用的优化。

一、 概述 XES-07励磁控制器是我公司自主研发生产的一款32位全数字励磁控制器，此款控制器为高端励磁控制器，采用全中文液晶显示，所有参数设置中文菜单显示，比一般的数码管显示更为直观方便，整个控制器由一块4层电路主板和LCD显示组成，简单方便，功能强大，具有励磁、测速、保护、测量等功能。主要适合于三相半控、单相半波及单相全桥半控的发电机组励磁装置，是励磁厂家、发电机厂家、自动化监控厂家配套生产及电站励磁改造的首选产品。二、 适用范围2.1、主励磁系统类型三机励磁系统（含无刷）直流励磁机系统两机交流励磁系统（含无刷）自并激励磁系统2.2、电压互感器类型100V 或400V2.3电流互感器类型5A或1A2.4整流桥类型三相半控，单相半控，单相全控三、 主要特点l 一体化设计：体积小功能强。基于32位微处理器设计的自动电压调节器，功能强大，模块化密封结构，集控制单元、采样单元、供电单元于一体。l 特有无电“黑”启动功能：无需任何电源，利用发电机残压（最低3Ｖ），即可轻松启动励磁调节器，实现发电机正常升压l 特别程序和硬件电路设计：经典控制理论+智能调节方式选择，极大改善由于负荷稳定性差，系统周波不稳定，电压波动大造成的发电机稳定运行问题l 高可靠性、高智能化：硬、软件模块化设计及EMC设计，抗干扰能力强，操作维护直观简便，有效解决农村小水电实际生产环境差、操作人员素质参差不齐的问题l 功能完善：能实现自动励磁调节器应具备的各项功能l 液晶中文显示：全中文液晶显示，参数设置人性化。四、 主要功能◆恒压、恒流、恒功率因数、恒角度等多种调节方式；◆黑起励功能（无任何外接电源可一键开机起励建压）◆发电机过流过压保护功能◆发电机测频过速保护◆发电机电气测量（三相电压、电流、有功功率、无功功率等所有电气参数）◆GPS时钟同步◆最大励磁电流值（反时限）限制和强励反时限限制；◆欠励限制+失磁保护功能； ◆软件移相及调差；◆自动跟踪系统电压或给定电压； ◆发电机PT断线监测及自动切换保护；◆在线修改参数和实时参数显示；◆实时数据录波；◆装置自诊断和恢复；◆故障录波；◆软件的自检及容错功能；◆适应式变结构、变参数并联PID调节规律；◆远方控制和就地控制功能；◆可以用RS485（MODBUS）或以太网与上位机通讯； ◆可以采用开关量做接口◆一键开停机功能◆5路输出继电器，用于报警指示和跳闸功能 五、 XES-07励磁系统功能XES-07励磁控制器是一个基于微处理器的控制装置。通过对各类电量的采集转换和软件运算，输出各种状态信号和功率单元的控制信号，将交流励磁电源变为可控直流输出控制，来实现发电机励磁的控制。XES-07励磁控制器采用密封组件、板后安装设计，固定在励磁控制柜内。前面板LCD液晶中文显示，用于指示XES-07的状态和系统工况， 后面板接线采用欧式的快速连接端子。后面板上的RS485和RS232端口用于XES-07和上位机及PC机的通讯。六、 主要性能参数◆ 机端电压测量UF：400V或电压互感器副边额定值100V◆ 定子电流测量IF： 额定值5A输入或1A输入◆ 转子电流测量IL： 霍尔电流传感器测量0～100mA◆ 触发脉冲频率： 10KHz◆ 模拟量输入通道 ：16路 ◆ 数字量输入 ：12路 ◆ 数字量输出 ：8路◆ 自动 / 手动 调节范围 ：（10～130）％额定值◆ 起励 ：超调量小于1％额定值，起励时间小于2.5秒，振荡次数小于1次◆ 调差率 ：软件无功调差 ±15％ ◆ 调压精度 ：不大于±0.5%◆ 晶闸管移相范围 ：5～145° ◆ 晶闸管控制角分辨率 ：1/20000◆ 励磁系统能满足机组手动和自动准同期并网发电◆ 保证能在110％励磁电流情况下长期工作◆ 机组运行频率变化1％，额定机端电压变化不大于0.1%◆ 机端电压下降为80％额定值时，提供2倍以上的强励电流，持续时间不小于20秒◆ 励磁系统电压响应时间 ：上升时间小于0.08秒，下降时间小于0.15秒◆ 电压反应比不小于2单位 / 秒◆ 自动励磁调节器的调节精度小于0.2%◆ 励磁PT设有断线检测、自动切换和保护，并发信号◆ 故障信号报警输出 ◆ 欠励限制功能◆ 强励顶值限制功能和强励反时限功能◆ 具有远方控制和就地控制功能◆ 自动励磁调节器的调节精度优于0.1%额定电压◆ 可以用RS485或以太网与上位机通讯◆ 可以采用开关量做接口◆ 电压反应比不小于2单位 / 秒

K12型控制箱为以带霍尔信号的无刷直流电机作为动力源的旋转型接收器的控制装置，可以控制静电纺丝滚筒接收器在300-3600rpm范围内旋转，并实现正反转。用于单独控制收集滚筒的转动 操作简单 设有紧急断电按钮，确保使用安全 设有收集器电机接地柱，确保电机长寿命运行 可控制收集滚筒的无刷直流电机，可以有效控制收集滚筒在300-3600rpm的区间转动 设有方向切换按钮，一键切换方向 可升级到K22双控控制器 技术参数： 转速调节范围： 300-3600/±20 rpm外形尺寸(W*D*H)：275*250*110mm重量：3.5KG电源：AC220V 50Hz

华中区销售工程师 周钟平电话：邮箱： 霍尔效应测试系统依据范德堡法测量材料的电运输性能参数：载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等，薄膜或薄层材料均可测量，可应用于所有半导体材料，包括Si、ZnO、SiGe、SiC，GaAs，InGaAs，InP，GaN（N型&P型均可测量）,广泛应用于国内高校、研究所、半导体、金属、高热导有机新材料等行业。霍尔效应测试系统产品特点自主知识产权产品。采用高精密度恒流源和电压表，确保仪器测试的良好准确度和高稳定性，性能优越。自动控制磁场方向的改变，更加方便准确。样品装夹方式快速方便，且使用能够解决欧姆接触的样品芯片。产品工业外观采用一体化、精密化设计，融入人性化的设计理念，不仅赏心悦目而且操作方便。智能化的用户界面操作简单，功能齐全的软件平台带给客户友好的操作体验，使测试过程更加方便快捷。霍尔效应测试系统测试实例山东大学钛酸锶陶瓷样品测试结果太原理工硅化镁样品测试结果霍尔效应测试系统技术参数型号HET-RTHET-HT磁场强度6800Gs5000Gs磁场稳定性±2％/每年温度范围RT100K~600K（可连续变温）温控精度\±0.5K输出电流100pA-100mA迁移率1-107cm2/Volt-sec阻抗10-6 -107?CM载流子浓度107 -1021cm-3样品测量板样品边长5-20mm，厚度10nm-3mm样品边长5-15mm，厚度10nm-1mm主机尺寸570x545x380，单位mm\重量50kg80kg霍尔效应测试系统技术原理　　采用范德堡法测量材料的霍尔系数和电阻率。范德堡法可测量任意形状、厚度（d）均匀的薄片样品的霍尔系数和电阻率，样品和四个电极联接，相邻的电极通入电流，在另一对电极之间测量电位差，利用电极1、2和2、3通入电流分别做两次测量，测得电阻RA和RB，然后根据范德堡公式推导出样品的电阻率ρ和R构成如下关系：　　在垂直样品的磁场（感应强度B）作用下，电流通过样品的一对不相邻电极，如由电极1到电极3，测得电极2、4之间的电位差V2,4 （VH），可计算出霍尔系数。

霍尔效应测试仪　　霍尔效应测试仪，是用于测量半导体材料的载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等重要参数，而这些参数是了解半导体材料电学特性必须预先掌控的，因此是理解和研究半导体器件和半导体材料电学特性必备的工具。 Hall8800霍尔效应测试仪介绍　　该仪器为性能稳定、功能强大、性价比高的霍尔效应仪,在国内高校、研究所及半导体业界拥有广泛的用户和知名度。　　主要用于量测电子材料之重要特性参数，如载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等，薄膜或体材料均可，其原理主要依据范德堡法则　　仪器轻巧方便，易于携带，主要用于量测电子材料之重要特性参数，如载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等，薄膜或体材料均可，其原理主要依据范德堡法则。　　除了用来判断半导体材料之型态(n或p)以外，它也可应用于LED磊晶层的质量判定，也可以用来判断在HEMT组件中二维电子气是否形成，此未还可以用于太阳能电池片的制程辅助。　　Hall8800可说是一套功能强大、应用广泛的系统，再加上平实的价格， 相信必能受到各界用户之肯定与爱用。　　目前广泛应有于半导体厂商。　　主要特点　　1、高精密度电流源　　输出电流之精确度可达2nA，如此微小之电流可用于半绝缘材料之量测，即高电阻值材料之量测。　　2、高精密度电表　　使用超高精度电表，电压量测能力可达nV等级，上限可达300V，极适合用于量测低电阻值材料。　　3、外型精简、操作简单　　外型轻巧、美观大方，磁铁组之极性更换也很灵活容易，独特之液氮容器设计，可确保低温量测之稳定性最佳。　　4、I-V曲线　　采用图表的方式，测量探针四点(A、B、C、D)间电流-电压曲线，藉此评判样品的欧姆接触好坏。　　5、单纯好用之操作画面　　使用者只需在同一张操作画面中，就可以完成所有的设定，实验结果由软件自动计算得到，并在同一张画面中显示出来，省却画面切换的麻烦，结果可同时得到体载流子浓度(Bulk Carrier Concentration)、表面载流子浓度(Sheet Carrier Concentration)、迁移率(Mobility)、电阻率(Resistivity)、霍尔系数(Hall Coefficient)、等重要实验数据。　　6、自行开发之弹簧样品夹具，特殊设计之弹簧探针，其强度加强可改善探针与接触点之电气接触，提高量测之可靠度。　　技术参数　　磁场强度：0.65T/1T 　　常温和液氮温度(77K)下测量 　　输出电流：2nA-100mA 　　迁移率(cm2/Volt-sec):1-107　　阻抗:10-6 to 107　　载流子浓度(cm-3):107 - 1021　　样品夹具：　　Hall8800弹簧样品夹具(免去制作霍尔样品的麻烦)；　　测量材料：所有半导体材料包括Si,ZnO,SiGe,SiC,GaAs,InGaAs,InP,GaN(N型&P型均可测量)　　仪器尺寸(WxDxH)：260*220*180 mm　　仪器重量：6kg

霍尔效应测试仪　　霍尔效应测试仪，是用于测量半导体材料的载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等重要参数，而这些参数是了解半导体材料电学特性必须预先掌控的，因此是理解和研究半导体器件和半导体材料电学特性必备的工具。 Hall8800霍尔效应测试仪介绍　　该仪器为性能稳定、功能强大、性价比高的霍尔效应仪,在国内高校、研究所及半导体业界拥有广泛的用户和知名度。　　主要用于量测电子材料之重要特性参数，如载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等，薄膜或体材料均可，其原理主要依据范德堡法则　　仪器轻巧方便，易于携带，主要用于量测电子材料之重要特性参数，如载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等，薄膜或体材料均可，其原理主要依据范德堡法则。　　除了用来判断半导体材料之型态(n或p)以外，它也可应用于LED磊晶层的质量判定，也可以用来判断在HEMT组件中二维电子气是否形成，此未还可以用于太阳能电池片的制程辅助。　　Hall8800可说是一套功能强大、应用广泛的系统，再加上平实的价格， 相信必能受到各界用户之肯定与爱用。　　目前广泛应有于半导体厂商。　　主要特点　　1、高精密度电流源　　输出电流之精确度可达2nA，如此微小之电流可用于半绝缘材料之量测，即高电阻值材料之量测。　　2、高精密度电表　　使用超高精度电表，电压量测能力可达nV等级，上限可达300V，极适合用于量测低电阻值材料。　　3、外型精简、操作简单　　外型轻巧、美观大方，磁铁组之极性更换也很灵活容易，独特之液氮容器设计，可确保低温量测之稳定性最佳。　　4、I-V曲线　　采用图表的方式，测量探针四点(A、B、C、D)间电流-电压曲线，藉此评判样品的欧姆接触好坏。　　5、单纯好用之操作画面　　使用者只需在同一张操作画面中，就可以完成所有的设定，实验结果由软件自动计算得到，并在同一张画面中显示出来，省却画面切换的麻烦，结果可同时得到体载流子浓度(Bulk Carrier Concentration)、表面载流子浓度(Sheet Carrier Concentration)、迁移率(Mobility)、电阻率(Resistivity)、霍尔系数(Hall Coefficient)、等重要实验数据。　　6、自行开发之弹簧样品夹具，特殊设计之弹簧探针，其强度加强可改善探针与接触点之电气接触，提高量测之可靠度。　　技术参数　　磁场强度：0.65T/1T 　　常温和液氮温度(77K)下测量 　　输出电流：2nA-100mA 　　迁移率(cm2/Volt-sec):1-107　　阻抗:10-6 to 107　　载流子浓度(cm-3):107 - 1021　　样品夹具：　　Hall8800弹簧样品夹具(免去制作霍尔样品的麻烦)；　　测量材料：所有半导体材料包括Si,ZnO,SiGe,SiC,GaAs,InGaAs,InP,GaN(N型&P型均可测量)　　仪器尺寸(WxDxH)：260*220*180 mm　　仪器重量：6kg

产品简介我公司研发的 LoRa霍尔阀控水表模块，采用LoRa扩频技术进行无线数据传输。具有低功耗、稳定性强、传输距离远等特点，同时配合先进高效的组网算法，通过相邻节点互相中继的方法，实现复杂环境的超长距离通讯。具有安装便利，维护简单、抄收便捷、无需布线、不受安装环境限制等优点。功能特点1.智能分址唤醒机制，有效降低功耗并互不干扰；2.九级中继，实现超远距离和复杂环境下的组网；3.扩频因子和发射功率可修改，改善传输距离与功耗的平衡；4.宽范围信道可设，避免无线干扰；5.支持表端预付费，内嵌5级阶梯水价，告警水量、透支水量可设置；6.具有阀门控制及阀门异常检测功能，阀门动作上报至云平台；7.定期开关阀门防锈死，开关周期可设置；8.电池欠压、传感器故障、磁干扰等异常报警。适用领域1.适用于城镇居民住宅小区等表具较为集中的区域户用计量；2.适用于出租房、学校、酒店商厦、城市水务等场景计量。

MMR Hall Effect Measurement System controlled continuously variable temperature MMR可控连续变温霍尔效应测试系统1. 功能描述： 测量半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数2. 测试范围： Si, SiGe, SiC, GaAs, InGaAs, InP, GaN (N Type & P Type)等材质的半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、 迁移率、电阻率、霍尔系数等参数。3. 磁场强度： 0.5T 电磁场，磁场强度可以定制选择4. 温度区域: 70K ~730K； 80K ~580K； 80K ~730K； 300K ~730K5. 电阻率范围：10-6~1013 Ohm*cm6. 电阻范围：10 m Ohms~ 10G Ohms7. 载流子浓度：102~1022cm-38. 迁移率: 10-2~109 cm2/volt*sec 仪器优点：1. 采用van der Pauw法测试 2. 最大可测25mmX25mm样品，提供两种样品装载方式：弹簧探针、引线治具，以及两个杜瓦瓶：全封闭和带玻璃窗口各一 个 3. 配备电脑和相应的控制软件，测试过程以及设备内各个单元均由软件控制,永磁体需要手动翻转样品，电磁场测试过程全自 动。测试数据能够方便的储存和导出 4. 模块化设计，可升级到温度范围更广、磁场更大的系统，也可升级成塞贝克测量系统 5. 测试过程中，由于致冷或加热所引起的样品振动幅度在um量级或更优 6. 在同一个样品室下进行变温霍尔效应的测试，最大变温范围70K~730K。避免更换样品室给测试带来的不方便性和不连贯 性，其他品牌低温和高温需要在高温和低温两个样品室下测试7.允许在一定气体环境下测试8.提供石英透明窗口，可以测试光激发下电阻率

产品介绍Hall effect Measurement System 霍尔效应测量系统一、产品简介:Hall Effect Measurement System offers an innovative solution on Van der Pauw and Hall Bar measurements. Its unique design allows users to measure the samples between 80K to 500K with ultimate resolution and accuracy. All magnet moves and temperature changes can be done automatically without changing any components.ezHEMS™ enables data logging and plotting of wide range material properties I-V curves, resistance, resistivity, sheet resistance, magnetoresistance, carrier concentration, Hall mobility, Hall coefficient as a function of temperature.霍尔效应测量系统为van der波夫和hallbar测量提供了一个创新的解决方案。它独特的设计允许用户测量在80k到500k之间的最终分辨率和准确性。所有磁体移动和温度变化可以自动完成，不改变任何组件。ezHEMS支持数据记录和绘制宽范围材料属性；I -v曲线、电阻、电阻率、片电阻、磁阻、载流子浓度、霍尔迁移率、霍尔系数作为温度的函数。二、ezHEMS技术规格. Resistivity Measurement Range:10-5 to 109 -cm (sample dependent)电阻率测量范围：10-5至109Ω-cm（取决于样品）. Mobility: 0.1 to 107 cm2 / Volt-sec (sample and field dependent)迁移率：0.1至107cm2 / Volt-sec（取决于样品和磁场）. Concentration: 107 to 1021 per cm3 (sample dependent)流子浓度：每立方厘米107至1021（取决于样品）. Current Source: ±2 nA to ±20 mA, ±12V compliance电流源：±2 nA至±20mA，符合±12V. Minimum Hall voltage measurable: 0.1 μV最小可测量霍尔电压：0.1μV. Supports Van der Pauw as well as Hall bar shaped samples支持Van der Pauw以及Hall Bar样品. Magnetic Field: φ70mm, minimum 0.6 Tesla (±5%) permanent magnet, 1Tesla (±5%) magnet is optional磁场：φ70mm，最小0.6Tesla（±5％）永磁体，1Tesla（±5％）磁体可选. 77-500K & 300-773K temperature range with ±0.2 K resolution.温度范围为77-500K和300-773K及±0.2 K分辨率. Pt-100 resistance thermometer Pt-100电阻温度计. Heater and PID temperature controller 加热器和PID温度控制器. Entire temperature range in a single system 每个系统中均有全面的温度调节范围. Computer control through USB interface 电脑通过USB接口进行控制. Samples sizes from 5x5 mm to 20 mm x 20 mm & with thickness ≤6 mm样品尺寸从5x5mm到20mm x 20 mm以及厚度≤6mm. Automated movement of magnets controlled by ezHEMS Control Software Fully automated measurement sequences三、软件系统由ezHEMS的控制软件控制的磁体自动运动可以全自动测量序列. The ezHEMS Measurement System Software ezHEMS测量系统软件. Software Capabilities: Enables data logging and plotting of different measured quantities I-V curve, resistance, resistivity, sheet resistance, magneto resistance, carrier conc., Hall mobility, Hall coefficient etc. as a function of sample temperature (Full functionality of the software depends on the purchased options.)软件功能：启用不同测量数据的数据记录和绘图 I-V曲线，电阻，电阻率，薄层电阻，磁阻，载流子浓度，霍尔迁移率，霍尔系数等作为样品温度的函数（软件的全部功能取决于购买的选项）。.Provides the measured data in tabular form 以表格形式提供测量数据. LabVIEW™ drivers LabVIEW™ 驱动程序规格如有更改，不再另行通知。

PHYS TECH GmbH RH2035 霍尔效应测试仪器1.设备名称：霍尔效应测试仪2.功能描述：测量半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数3.技术参数：3-1测试范围：Si, SiGe, SiC, GaAs, InGaAs, InP, GaN (N Type & P Type)等材质的半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数3-2磁场：3-2-1磁场强度：1T 电磁体3-2-2磁场类型：电磁体3-2-3磁场均匀性：磁场不均匀性＜± 1 %10年内磁场变化＜± 0.2%3-3温 度：3-3-1温度区域：77K(液氮温度)或室温3-4电阻率范围：1 µ Ohm*cm ~10 M Ohm*cm3-5电阻范围：0.1 m Ohms ~10 G Ohms3-6载流子浓度：107~1021cm-33-7迁移率：10-2~107 cm2/volt*sec3-8输入电流：3-8-1电流范围：1000 pA~10mA3-8-2电流解析度：25 pA (lowest range)3-8-3电流精度：2%3-9输入电压：3-9-1电压范围：± 10V3-9-2电压分辨率：1&mu V 4.仪器特点：4-1Automatic contact check自动接触检查(欧姆接触)4-2Routine and enhanced software常规和增强软件4-3Differential resistivity measurements by I/V-curvesI/V曲线测试电阻率差异4-4Misalignment voltage compensation失调电压补偿4-5Correction of slow sample drift voltage, especially for ZnO,修正慢样品漂移电压，特别是氧化锌4-6Automatic field calibration自动现场标定4-7Large concentration and resistivity range大浓度和电阻率范围4-8Flexible, modular hardware灵活的模块化硬件4-9Support of various magnets, for example BioRad HL 5200支持多样磁场4-10Support of various temperature controllers支持各种温度控制器(支持客户自行升级变温系统) 5硬件5-1The standard system consists of a bench top electronic system, a small magnet and a sample stage for room temperature and LN2 measurements.标准系统包含电子测试系统、磁场和两个温度区域的测试平台（室温和液氮温度）5-2The electronics include the current source, the voltage measurement part, the contact switching module and the IEEE or RS232 interface. It is completely micro processor controlled.电子测试系统包括由单片机控制的电流源、电压测试、接触开关模块、IEEE或RS232接口5-3The contact switching module is designed to allow all possible measurement configurations.接触开关模块支持所有用户用于其他的配置(用户可以采用制冷机做变温霍尔测试)5-4The current source has adjustable limits for voltage and/or power. {+++}电流源具有可调电压和/或电源的限制5-5Voltage measurement provides different input amplifiers optimized for either low current or low voltage applications.电压测量提供了不同的输入放大器或低电流或低电压应用的优化。