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英寸传感器

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英寸传感器相关的仪器

  • 仪器简介:HACH公司的GLI 3/4英寸复合pH/ORP电极具有多种材质和安装方式,可应用于各种需要测量PH、ORP的环境;尤其适用在市政污水、工业废水等需要频繁更换传感器的恶劣环境中通用型传感器通用型传感器本体采用Ryton材质,其两端都带3/4英寸NPT螺纹。该传感器可以直接安装在一个标准3/4英寸的三通管内作为流通式安装或者固定在一根管子的末端作为浸没式安装。三通/浸没式安装组件有多种材质以满足各种不同的应用场合。插入式传感器插入式传感器有一个尺寸较长,无螺纹的PVDF材料本体,带两个Viton密封圈,在与哈希插入式安装组件一起使用时起密封作用。电极插入和抽出管道或容器无需切断中断过程液流。卫生型传感器卫生型PH传感器具有一个带316不锈钢衬管的PVDF本体及一个2-英寸法兰。该传感器与一个标准2-英寸的三夹头管件相匹配。供选择的哈希卫生型安装组件包括一个标准2-英寸卫生型三通,卫生型夹紧装置,以及Viton○R卫生型垫圈。技术参数:接液材料:通用型:Ryton本体(内为玻璃)插 入 式:PVDF本体(Kynar)卫 生 型:316不锈钢衬管PVDF本体主要特点:● 与大多数PH和ORP分析仪兼容● 自动进行温度补偿● 传感器有坚固的圆电极、易于清洗的平板电极以及耐HF(氢氟酸)的电极。● 专为特殊的应用而设计● 参比电极的双盐桥设计延长了传感器的使用寿命,另外,电极有一个内置接地点● 传感器本体是抗化学腐蚀的Ryton或PVDF材质
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  • 特性– 半自动划片机/切片机 (8英寸,12英寸)– 最大 16 英寸– 重复精度(Y 轴) : 0.001– 可选 3 英寸刀片、BBD(刀片断裂检测仪)、NCS(非接触式传感器)– 真空卡盘:6~12英寸性能– 多工件(切割) 功能– 1.2kw ~ 1.8kw, 2.4kw 空气主轴– 最大主轴转速 : 60,000rpm– 刀片尺寸 : 62(适用于 2“ 刀片)– 旋转角度 : DD 伺服马达 380(连续/逆时针)– 切割速度 : 0.05 ~ 650毫米/秒 可切割材料:硅晶圆,PCB,QFN,PBGA,陶瓷,石英,LED,移动式蓝色玻璃滤光片、碳化硅等技术参数:型号SD220SD240工件尺寸8英寸(200毫米)12英寸(300毫米)X切割范围220毫米330毫米最大速度0.1 ~ 500 或 1,000 毫米/秒0.1 ~ 500 或 1,000 毫米/秒Y切割范围220毫米330毫米最大速度0.1 ~ 250 毫米/秒0.1 ~ 250 毫米/秒索引步长0.00010.0001定位精度0.002/2200.002/330Z最大行程60/米60/米最大速度0.1 ~ 80 毫米/秒0.1 ~ 80 毫米/秒移动分辨率0.00010.0001重复性精度0.0010.001Θ最大旋转角度380 度380 度纺锤刀片直径2英寸(58毫米)输出1.2千瓦 / 1.8千瓦 / 2.4千瓦最大旋转最大 60,000 rpm杂项电力供应AC220V, 三相, 50~60Hz功耗4.0 千伏(最大)气压0.55 ~ 0.7 兆帕平均耗气量105 升/分(0.5兆帕)平均清洁空气消耗量75 升/分钟降低水压0.3 ~ 0.5 兆帕水压流量切割水 : 6.0 LPM其他 : 0.6 LPM冷却水压力0.3 ~ 0.5 兆帕冷却水流量2.0 升/分钟排气高达 5.5 立方米/分钟可选项目NCS(非接触式传感器)BBD(刀片断裂检测仪)3英寸刀片使用尺寸(宽 x 深 x 高)980 x 840 x 1835 毫米1030 x 880 x 1835 毫米重量875公斤895公斤
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  • 特性–双刀片半自动划片机/切片机(12英寸,16英寸)– 最大 16 英寸 (300mm x 300mm)– 双面主轴 – UPH 增加( x 1.95)– 可选项 : 3 英寸刀片, BBD(刀片断裂检测仪)、NCS(非接触式传感器)– 真空卡盘:300mm x 300mm 方形性能– 多工件(切割)功能– 2.4kw 空气主轴 x 2 套,面向双主轴– 最大主轴转速 : 60,000rpm– 刀片尺寸 : 62(适用于 2“ 刀片)– 旋转角度 : DD 伺服马达 380(CW/CCW)– 切割速度 : 0.05 ~ 650毫米/秒可切割材料 :晶圆、大型半封装、大尺寸PCB等技术参数:型号SD440SD450环形框架尺寸12寸16英寸(300毫米x 300米见方)工作尺寸320方形 300 毫米 x 300 毫米X 轴切割范围330毫米350毫米切割速度0.05~650毫米/秒0.05~650毫米/秒Y1/Y2 轴切割范围320毫米350毫米最大索引步长0.001毫米0.001毫米索引定位步骤0.001/320毫米0.001/350毫米Z1-Z2 轴最大行程40(适用于2“刀片)40(适用于2“刀片)移动分辨率0.001毫米0.001毫米重复性精度0.001毫米/5毫米0.001毫米/5毫米T 轴最大旋转角度DD 伺服 380(连续/变速)DD 伺服 380(连续/变速)刀片最大口径76.2毫米76.2毫米纺锤功率输出1.2~2.4KW1.2~2.4KW速度范围6000~60000转/分6000~60000转/分使用电压三相,220V (50~60Hz)三相,220V (50~60Hz)气压0.5~0.6 MPA0.5~0.6 MPA切割流量(分钟)1.0~10.01.0~10.0切割流量(分钟)3.03.0
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  • 特性– 全自动划片机/切片机(6-8英寸,12英寸)– 最大 12 英寸硅晶圆– 重复精度(Y 轴) : 0.001– 双面主轴, 产量增加( x 1.95)– 选项 : 3 英寸刀片, BBD(刀片断裂检测仪)、NCS(非接触式传感器)– 真空吸盘:6~12英寸性能– 多工件(切割)功能– 1.2kw ~ 1.8kw, 2.4kw 空气主轴 x 2 套,面向双主轴– 最大主轴转数 : 60000rpm– 刀片尺寸 : 62(适用于 2“ 刀片)– 旋转角度 : DD 伺服 380(连续/逆时针)– 切割速度 : 0.05 ~ 650毫米/秒可切割材料:硅晶圆、QFN、陶瓷、印刷电路板、石英、LED、移动式蓝色滤光片、碳化硅等技术指标:型SD620SD640环形框架尺寸6~8寸12寸工作尺寸200300X 轴切割范围250毫米320毫米切割速度0.05~650毫米/秒0.05~650毫米/秒Y1/Y2 轴切割范围250毫米320毫米索引步长0.001毫米0.001毫米索引定步长0.001/250毫米0.001/320毫米Z1-Z2 轴最大行程40(适用于2“刀片)40(适用于2“刀片)移动分辨率0.001毫米0.001毫米重复性精度0.001毫米/5毫米0.001毫米/5毫米T 轴最大旋转角度DD 伺服 380(连续/变速)DD 伺服 380(连续/变速)刀片最大口径76.2毫米76.2毫米纺锤功率输出1.2~2.4KW1.2~2.4KW速度范围6000~60000转/分6000~60000转/分使用电压三相,220V (50~60Hz)三相,220V (50~60Hz)气压0.5~0.6MPA0.5~0.6切割流量(分钟)1.0~12.01.0~12.0切割流量(分钟)3.03.0
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  • 产品说明94081A型4x4英寸ABB级太阳光模拟器使太阳模拟器的水平和价值更上一层楼。这款8英寸x 8英寸,1600瓦太阳光模拟器光源已通过IEC 60904-9第2版(2007),JIS 8904-9(2017)和ASTM E927-10(2015)标准认证,使用无臭氧氙弧灯和专用滤光片,充分满足A级太阳模拟器性能参数要求,而毫不影响1太阳常数输出功率,是专为实验室或生产环境而设计的高性价比太阳模拟器系统。 特点:&bull ABB级太阳光模拟器输出光束的尺寸范围为2x2 英寸、4x4英寸、6x6英寸至8x8 英寸&bull 基于IEC 60904-9 2007版、JIS C 8912 和 ASTM E 927-05工厂认证&bull 仪器使用寿命长且非常可靠,适用于实验室或生产环境&bull 温度传感器和联锁系统可确保操作人员的安全&bull 方便的用户功能简化了操作 ABB级太阳光模拟器技术参数:型号: 94081AABB级太阳光模拟器灯类型:无臭氧氙弧灯功率:1600W输出光束尺寸:8英寸x 8英寸典型输出功率: 100mW/cm2(1太阳常数) 80-110%可调电源要求: 95-264VAC/15A,47-63 Hz工作距离:15.0±0.5英寸
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  • – 适用于 6 英寸晶圆– 6 英寸硅晶圆– 紧凑尺寸的占地面积(宽 x 深 = 590 x 880)– 主轴 : 60,000 rpm (可选: 80,000rpm)– 刀片 : 2“ (φ58mm) (可选 : 3” )– 多处安装划片– 最大主轴转速 : 60,000rpm– 可选功能○ BBD(刀片破损检测器)○ NCS(非接触式传感器) 可划片的样品: 硅晶圆, PCB, QFN, PBGA, 陶瓷, 石英玻璃, LED,移动式蓝色玻璃滤光片、碳化硅等技术指标型号SD110工件尺寸6英寸(150毫米X 150毫米)X切割范围180毫米最大速度0.1 ~ 800 毫米/秒Y切割范围180毫米索引步进0.0001索引定位精度0.002/180Z1最大行程33.5毫米移动分辨率0.00005重复性精度0.001Θ最大旋转角度320 度纺锤输出1.2千瓦 / 1.8千瓦最大旋转最大 60,000 rpm可选项目NCS(非接触式传感器)基本多切割基本卡盘工作台基本尺寸(宽 x 深 x 高)590毫米 x 880毫米 x 1680毫米重量480 公斤
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  • 超大尺寸CMOS传感器 400-860-5168转2831
    CMOS传感器技术服务人员:王工(Karl) 电话: 邮箱:ISDI是高性能CMOS成像半导体领域的创新者,提供定制传感器设计和标准产品。ISDI成立于2010年,由一个半导体设计团队与通过科学和研究领域的项目获得的CMOS图像传感器方面的知识和经验。自成立以来,ISDI已经从一个科学传感器的设计者发展到一个广泛应用的晶片级成像设备的制造商。所提供传感器适合板到板或板通过电缆连接到数据采集PCB。数字接口设计用于直接连接到FPGA或ASIC。对于50μm和100μm传感器,显影板可通过USB或Gigevision直接与摄像机连接。所有传感器设计可用于X射线环境中的低噪声操作,适用于光纤板(FOP)粘合或直接闪烁沉积。一个多功能,功能丰富的硅片级图像传感器结合ISDI专利组成低噪声像素架构。并且,传感器可以对接以形成更大的连续图像区域。关键特征: ?卷帘曝光 ?高、低满阱(HFW、LFW)可选,适合高、低灵敏度应用 ?片内温度传感器 ?动态设置感兴趣区域(ROI) ?非破坏性读出选项应用图例:
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  • 1. 产品概述LMEC-300&trade 是鲁汶仪器针对特种金属膜层刻蚀而推出的 12 英寸集成设备,应用于新兴存储器件的制备。此类器件的核心功能单元含有成分复杂的金属叠层,例如磁存储器的磁隧道节(MTJ)、相变存储器中的合金相变层、阻变存储器中的阻变叠层。其副产物不易挥发,图形化挑战很大。 LMEC-300&trade 反应离子刻蚀与离子束刻蚀协同工艺,可规避 RIE 路径的侧壁沾污问题,也可突破 IBS 路径的工艺线宽局限。薄膜沉积腔室可以不脱离真空环境为器件覆盖钝化层,避免侧壁金属氧化、水化,从而改善可靠性。这种 RIE、IBS与原位钝化工艺集成方案,使 LMEC-300&trade 成为新兴存储器件关键工艺的优选。2. 系统特性设备集成了 Chimera® N 反应离子刻蚀(RIE)腔室、Pangea® A 离子束塑形(IBS)腔室、Basalt® A 原位(in-situ)沉积腔室,工艺不离开真空环境对于磁隧道结等难于形成挥发性产物的金属/合金叠层,该设备可实现等离子体刻蚀、干法清洗和原位钝化保护的功能可提供不同工艺解决方案,满足磁存储器(MRAM)、相变存储器(PCRAM)、阻变存储器(ReRAM)、磁传感器等器件的图形化需求可选配硬掩模刻蚀腔室 Chimera® A,形成从金属硬掩模到器件功能层的一体化刻蚀方案适用于12英寸晶圆
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  • PVD 产品公司生产各种高压和特高压磁控溅射靶枪,适用于各种靶材尺寸。泰坦磁控溅射源的直径范围从 1 英寸到 6 英寸不等。这些光源可以在磁铁就位的情况下烘烤到 200°C。我们靶枪的磁控管磁场设计可提供出色的薄膜均匀性和靶材利用率。这些靶枪基于模块化磁阵列,允许用户在几分钟内从平衡溅射模式切换到不平衡溅射模式。我们所有的磁控管都使用与水隔离且易于现场更换的钕铁硼磁体。钎焊组件将磁体与水隔离,因此没有水真空界面,从而消除了泄漏的可能性。工作范围为0.5 mTorr至1 Torr以上。它们标配直径为 0.75 英寸的 SS 轴,也可以完全兼容 UHV。提供多种源选项,例如定制安装法兰、带或不带计算机控制的手动倾斜或原位倾斜组件、百叶窗、烟囱、气体注入环等。目标不需要背板。我们还可以提供面对靶材溅射的来源。我们还提供全系列的电源。这些源可以运行射频、直流或脉冲直流模式,并可根据需要提供 N、HN 或 UHF 型连接。技术参数:我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪安装法兰口径:NW63CF,NW100CF真空腔体内长度范围:150-400mm真空腔体内端面直径:60-96靶材直径: 1", 2" and 3"靶材最大厚度:4-6mm冷却:水冷特点:100%超高真空(UHV)应用独有的放射性沉积模式在线Z轴驱动及倾斜水冷时不会存在水汽平衡靶和非平衡靶设计高强度磁体应用于磁性材料应用领域:PVD沉积金属涂层纳米结构薄膜多层镀层反应溅射射频溅射,直流溅射,脉冲直流溅射硬质涂层
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  • HACH公司的GLI 3/4英寸复合pH/ORP电极具有多种材质和安装方式,可应用于各种需要测量PH、ORP的环境;尤其适用在市政污水、工业废水等需要频繁更换传感器的恶劣环境中。特点:● 与大多数PH和ORP分析仪兼容● 自动进行温度补偿● 传感器有坚固的圆电极、易于清洗的平板电极以及耐HF(氢氟酸)的电极。● 专为特殊的应用而设计● 参比电极的双盐桥设计延长了传感器的使用寿命,另外,电极有一个内置接地点● 传感器本体是抗化学腐蚀的Ryton或PVDF材质通用型传感器通用型传感器本体采用RytonR材质,其两端都带3/4英寸NPT螺纹。该传感器可以直接安装在一个标准3/4英寸的三通管内作为流通式安装或者固定在一根管子的末端作为浸没式安装。三通/浸没式安装组件有多种材质以满足各种不同的应用场合。插入式传感器插入式传感器有一个尺寸较长,无螺纹的PVDF材料本体,带两个VitonR密封圈,在与哈希插入式安装组件一起使用时起密封作用。电极插入和抽出管道或容器无需切断中断过程液流。卫生型传感器卫生型PH传感器具有一个带316不锈钢衬管的PVDF本体及一个2-英寸法兰。该传感器与一个标准2-英寸的三夹头管件相匹配。供选择的哈希卫生型安装组件包括一个标准2-英寸卫生型三通,卫生型夹紧装置,以及VitonR卫生型垫圈技术指标:pH传感器接液材料:通用型:Ryton本体(内为玻璃)插入式:PVDF本体(Kynar)卫生型:316不锈钢衬管PVDF本体测量范围:0~14 pH温度范围:0~105℃压力范围:100℃时0-6.9bar流速范围:0-2m/s,非磨损性流体精度:小于0.1 pHORP传感器接液材料:通用型:Ryton本体(内为玻璃)插入式:PVDF本体(Kynar)测量范围:-2000~+2000 mV温度范围:0~105℃压力范围:100℃为0~6.9 bar流速范围:0-2m/s,非磨损性流体精度:± 20 mV,仅限于标准溶液订购指南:以下是常用pH/ORP探头的订货资料PC1R1A 通用型pH探头,带4.5米电缆,Pt1000温度补偿PC1R3A 通用型pH探头,带4.5米电缆,Pt1000温度补偿,耐氢氟酸PC2K1A 插入式pH探头,带4.5米电缆,Pt1000温度补偿PC3K2A 卫生型pH探头,带4.5米电缆,Pt1000温度补偿,法兰安装RC1R5N 通用型ORP探头,带4.5米电缆,铂电极RC2k5N 插入式ORP探头,带4.5米电缆,铂电极
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  • 05106风速风向传感器 400-860-5168转4377
    05106风速风向传感器  05106传感器是一个精确的、可靠地风速风向传感器,设计用于严酷的海洋环境。  风速传感器是一个四开口螺旋面螺旋桨,独一无二的变送器产生一个脉冲信号,没有电子接触或者滑环。风向传感器是一个持久耐用的模塑风向标,风向通过一个精密电位计获知,电位计放置在一个密封的盒子内。  传感器所有的材料都是通过仔细选择的,其抗腐蚀性*大程度的保证了传感器在海洋环境的使用持久性。不锈钢转轴可以一直使用,特制的防水润滑油进一步提高了其可靠性。仪器安装在一个1英寸的标准立管上。如果用户需要,我们可以提供单独的信号电路板,提供电压或者电流信号。技术性能参数测量范围:风速,0 – 100米/秒;风向,360°机械,355°电子(5°开口)精度:风速,±0.3米/秒或1%读数;风向,±3°启动风速:螺旋桨,1.1米/秒;风向标,1.1米/秒信号输出:风速:磁**流电压,每个旋转3个脉冲,1800rpm(90Hz)=8.8米/秒风向:导电塑料电位计产生模拟直流电压,阻抗10KΩ,线性0.25%,使用寿命,五千万次旋转供电:电位计激发,*大15VDC尺寸:总高:37厘米总长:55厘米螺旋桨:18厘米直径安装:34厘米直径立管,标准1英寸重量:传感器,1千克;运输重量,2.3千克05603C,0 – 5VDC信号输出供电:8 – 24VDC,5mA @ 12 VDC工作温度范围:-50 – 50℃输出信号:全量程,0 – 5VDC05631C,4 – 20mA信号输出供电:8 – 30VDC,*大40mA工作温度范围: -50 – 50℃输出信号:全量程,4 – 20mA  数据采集器的程序导入以后,把风速风向传感器和数据采集器连线接好,将传感器安装到位,先不要固定传感器底部的卡箍。运行程序,观察风向的实时数。用指南罗盘找到正南方向,将风向标慢慢转向正南方向,调整传感器的底部安装方向,使风向实时数在±5度范围内。然后拧紧传感器底部的固定卡箍。 维护建议至少每24个月检查一次轴承,如果风速计转动时有杂音和涩滞现象,应及时更换轴承。
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  • 8英寸立式炉 400-860-5168转5919
    1. 产品概述FLOURIS 201系列 8英寸立式炉,高精度温度场控制技术,可实现 1200℃ 内氧化退火工艺。2. 设备用途/原理FLOURIS 201系列 8英寸立式炉,高精度温度场控制技术,可实现 1200℃ 内氧化退火工艺,先进的颗粒控制技术,优良的膜厚均匀性控制技术,图形化操作界面和群组管理系统。3. 设备特点晶圆尺寸 8 英寸,适用材料 硅、碳化硅。适用工艺 高温氧化、退火、常压合金、Polyimide 固化。适用域 科研、化合物半导体、集成电路。
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  • MO-磁光传感器-磁光成像MOI物理背景昊量光电全新推出的Matesy磁光传感器-磁光效应传感器-Magneto optical sensors 高灵敏度磁光传感器目前有多种尺寸可选 8 x 8 | 15.5 x 20.5 | 45 x 60 mm,尺寸蕞大可达3英寸!也可以根据用户要求定制化形状尺寸。磁光原理基于法拉第效应。它描述了线偏振光在通过透明介质时偏振面的旋转。仔细观察,线偏振光由具有相同频率和相位的左旋和右旋圆偏振波叠加而成。当光通过磁光介质时,其上施加的磁场平行于光的方向,它分裂成两个相反旋转的圆偏振波。对于这两个部分波,它会引起相移,因为它们具有不同的折射率和不同的速度。它们的频率保持不变。这种偏移导致偏振面的旋转。取决于局部磁场强度的不同旋转角度导致可以视觉评估的对比差异。因此,实现了整个传感器表面准静态磁场的直接实时可视化。传感器生产过程中,秘代忆铁石榴石层通过液相外延沉积在基板上,经过特殊处理从生长的石榴石层中获得蕞好的磁光传感器。MO磁光传感器特点:&bull 耐温度变化:高达+50°C&bull 工作温度范围:可达+35°C&bull 光学分辨率可达1μm&bull 法拉第旋转角度:(λ=590nm) 1 ~ 10°Matesy磁光传感器磁场可视化磁场的应用范围很广,它们有助于传递力和力矩,控制传感器,并携带有关可磁化部件状态的信息。通过MO磁光传感器,磁场可以以蕞高的分辨率在二维上可见,并且可以测量磁通量密度。由于高灵敏度和分辨率,该工艺可以可视化材料的不均匀性、畴、晶粒结构和裂纹。MO磁光传感器用于质量和进料控制。它是实验室基本设备的一部分,支持磁系统的开发、分析和功能优化,用于早期错误检测。全面和适应性强的软件为用户提供了进行广泛的分析和测量的坚实基础。MO磁光传感器提供分析:磁化和非磁化永磁体,磁性编码器,电工钢,钢和不锈钢,结构变化由于热输入或变形,在底盘或武器上的磁性安全标签和数字的测试。在磁轭的帮助下,样品也可以用磁场激励,例如,以更好地表征结构。对于焊缝缺陷的检测,我们的A型MO传感器是蕞好的解决方案。电工钢检测 磁场的3D可视化 磁条卡研究分析被篡改的序列号检查编码器磁化 磁体及部件的结构调查(裂纹试验)MO磁光传感器类型 传感器 Type A 质量检测及几何评定: 磁性油墨(钞票、单据) 磁编码器 电工钢片 法医安全特性 残余磁性 焊缝检测 传感器 Type B表面检测及定量分析: 磁编码器 聚合物粘合磁铁 复合材料中的磁性颗粒 岩石样品和陨石 蕞大磁灵敏度可达±65 mT 传感器 Type C 表面检验及定量分析: 磁性编码器 聚合物粘合磁铁 复合材料中的磁性颗粒 作为超导测试的一部分 蕞大停留场可达±125 mT 传感器 Type D 调查和可视化: 软磁 纸币上的磁性墨水 文件中的磁性墨水 传感器 Type E 大磁场测量: 达1T的永磁体 大磁场多级磁铁产品详细信息可联系我们或下载数据资料!更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是国内知名光电产品专业代理商,代理品牌均处于相关领域的发展前沿;产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等,涉及应用领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及更细分的前沿市场如量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等优质服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站www.auniontech.com了解更多的产品信息,或直接来电咨询4006-888-532。
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  • 攻角传感器 400-860-5168转1973
    攻角传感器 4239标准输出攻角AOA或侧滑角AOS外形尺寸(英寸(毫米))3.06 x 4.1(77.72 x 104.14)风标质量1.00盎司(0.454kg)标称*大校准空速450节加热或不加热总压/静压出口加热典型飞行器小型或中等飞机应用举例和CAD文件● 外型及技术参数PDF
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  • 英国阿尔法Alphasense氧气传感器O2-G2(小尺寸)产品型号:O2-G2产品品牌:英国阿尔法Alphasense所属分类:电化学气体传感器气传感器)O2-G2 (小尺寸) 详细介绍:氧气传感器O2-G2 (小尺寸)英国Alphasense公司是专业生产气体传感器的厂家,其氧气传感器应用广泛,在煤矿,钢铁,石油化工,医疗等都大量使用一、氧气传感器O2-G2主要特性:(1) 工作寿命:>2年(2) 尺寸(mm) :Φ20.3×10.2mm(3)输出:30- 42 1A @ 22°C,20.9% 02(4)响应时间190(秒):18S(5) 重量:7g(6) 温度范国:-30 -55°C(7) 压力范围:80- 120kpa(8) 湿度范围:5-95%RH9) 储存时间:6月(10) 负载电阻:47- 100欧姆、氧气传感器O2-G2典型应用:氧气报警器,气氛分析仪英肖仪器仪表(上海)有限公司专业提供氧气传感器O2-G2(小尺寸),欢迎您来电咨询氧气传感器O2-G2小尺寸)价格、氧气传感器O2-G2(小尺寸)原理等详细信息!氧气传感器O2-G2(小尺寸)
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  • 4英寸ECO 废液收集器 400-860-5168转1639
    您是否为敞开的废液容器而烦恼? “在实验室,试剂挥发是个非常重要的问题!”为了您的健康和肺,请选择 Safety ECO 漏斗,它可以有效防止实验室99%的有机试剂挥发! 建议以下设备配置:高效液相色谱DNA 合成仪蛋白质测序仪蛋白质合成仪中低压制备色谱气相色谱ECO漏斗产品特点:解决了“敞口废液容器”问题漏斗材质为高密度聚乙烯材质,耐腐蚀。体积小,可置于通风橱或水槽避免因挥发性可燃有机溶剂导致的火灾减少有机试剂挥发,利于实验室人员健康避免因实验程序导致的交叉污染广泛应用与高校研究院、医药行业、生物行业和政府实验室环保部门强力推荐,废物管理安全有效适用各种安全条款可选择4” ECO漏斗(450mL)或8” ECO漏斗(2000mL)4英寸ECO漏斗技术参数:1、漏斗直径为4"(1英寸=2.54cm),漏斗颈部底端带螺旋口,可以与对应直径的试剂瓶组合为废液收集器2、漏斗颈部长11英寸,可以有效减少试剂挥发3、漏斗上部尺寸为 5" x 7"(宽x长)4、漏斗过滤器可以有效过滤固体颗粒。5、漏斗材质为高密度聚乙烯材质,耐腐蚀。6、漏斗容量为450mL。7、最多可安装6个HPLC接头 订货号 产品图片 产品描述顶部直径 漏斗颈尺寸 EF-4-38 4" 漏斗,适用2L和4L试剂瓶,可以与以下试剂瓶组合:1、2L LDPE 试剂瓶,型号: EC-2002A2、4L LDPE 试剂瓶,型号: EC-20043、4L窄口聚丙烯试剂瓶,型号:NG-2203-00104、4 L 试剂瓶NG-2126-40005、4 L 试剂瓶NG-2204-0010 4" 38-430 EF-4-38Y 4" 漏斗,黄色盖子,适用2L和4L试剂瓶 4" 38-430 EF-4-38-400 4" 漏斗,红色盖子,适用容量为1/2加仑和1加仑的壶 4" 38-400 EF-4-53B 4" 漏斗,适用2L试剂瓶 4" 53mm EF-4-83B 4" 漏斗,适用10L大试剂瓶 4" 83mm EF-4-FS70 4" 漏斗,适用5加仑圆桶 4" 70mm EF-4-3009 4" 漏斗,适用9L长形试剂瓶 4" 100mm EF-4-30020 4" 漏斗,适用20L长形大试剂瓶 4" 70mm EF-4-63B 4" 漏斗,适用10L横形大试剂瓶 4" 63mm EF-4-63BY 4"漏斗,黄色盖子,适用10L横形大试剂瓶 4" 63mm EF-4-Justrite-B 4" 漏斗,适用容量为2&5加仑和1加仑的挤压瓶 (#EC-1275120,1275450) 4"n/a EF-4-38-006 4" 漏斗,带w/PP接头,适用容量为2&5加仑和1加仑的QD 安全罐 4" n/a EF-4-38-008 4" 漏斗,带w/SS接头,适用容量为2&5加仑和1加仑的QD 安全罐 4" n/a
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  • Judd雪深传感器 400-860-5168转4377
    Judd超声波距离传感器对于远程雪深或者水位测量非常的理想,传感器通过计算从物体表面返回的脉冲运行时间测量距离。一个集成在防辐射罩内的温度探头跟传感器仪器使用,测量空气温度,作为对距离测量的温度补偿。传感器内置的微处理器计算距离测量的温度补偿,并执行误差校验。距离测量和温度测量都以模拟电压信号输出,电压测量范围在0 – 2.5V。当然,测量信号也可以通过数字串行ASCII码输出,用户在订货时需要指出需要的输出信号。  由于采用了比较通用的数据接口,该距离传感器可以适合任何数据采集器或者控制系统,供电之后测量输出之前可以延时至少3秒钟。 传感器技术性能参数电源:+12V – 24VDC, 50mA(*大采样时间2.6秒)模拟输出:0 -2.5 VDC或者0 – 5 VDC数字输出:1200波特率串行ASCII测量范围:0.5 – 10m(1.6 – 32.8英尺)波束宽度:22°精度:1厘米 或4%至目标距离分辨率:3mm(0.12英寸)工作温度范围:-40 – 70℃尺寸:8×8×13厘米重量:0.6Kg安装:0.5英寸镀锌螺纹管电缆长度:7.6米(25英尺)*大电缆长度:模拟输出,304米(1000英尺);数字输出,76米(250英尺)温度传感器技术性能参数精度:1℃,-40 – 85℃分辨率:0.5℃
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  • FLIR A65红外温度传感器FLIR A65配备热成像温度传感器,提供全面的可视化温度监测,适用于过程控制/质量保证、火灾预防和状态监控。FLIR A65可无缝集成到现有系统中,能通过GenICam™ 兼容软件提供温度线性输出。适用于状态监控的先进热成像系统经济实惠且小巧便携FLIR A65尺寸仅为4.1英寸×1.9英寸×1.8英寸,以经济实惠的价格让您享用可在狭小空间使用的热成像技术。即插即用得益于兼容GigE Vision和GenICam协议且配有GigE Vision可锁止连接器,可实现便捷设置。连接多台热像仪多台热像仪之间同步,能实现更广范围的覆盖和通信,亦可用于立体应用。
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  • 09101风速风向传感器09101风速风向传感器结合了RM Young公司标准风速风向传感器的性能和耐久性,而具有独立的光电编码器风向变送器和串口信号输出功能。风速传感器是一个四开口螺旋面螺旋桨,螺旋桨旋转在一个静止的线圈中产生了一个可变频率信号。通过主板上的微型处理器电路,把原始信号转换成数字串口输出。风向传感器是一个耐用的模塑风向标,即使断电,优良编码器保留原始方向。通过简单的调整内部跳线,就可以选择串口输出或者电压输出。传感器的外形部分是抗紫外的稳定热塑材料,其它材料为不锈钢和阳极电镀铝组成。仪器安装在一个1英寸立管上。 技术性能参数材料范围:风速,0 -100米/秒;风向,0 – 360°分辨率:风速,0.1个单位(米/秒,英里/小时,千米/小时,节);风向,1°精度:风速,±0.3米/秒或1%读数;风向,±2°启动风速:螺旋桨,1米/秒;风向标,1.1米/秒可用输出:电压输出:风速,0 – 5VDC @ 0 – 100米/秒;风向,0 – 5VDC @ 0 – 540°串口输出:RS-485,RMY,NCAR或NMEA协议,抽样输出或连续输出供电:11- 24VDC @ 20mA尺寸:37厘米高×55厘米长螺旋桨:18厘米直径安装:34mm直径立管,标准1英寸管重量:1千克;运输重量,2.3千克工作温度范围:-50 – 50℃
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  • 硫化氢传感器H2S-D1(小尺寸)产品型号:H2S-D1产品品牌:英国阿尔法Alphasense所属分类:电化学气体传感器 硫化氢传感器H2S-D1(小尺寸)详细介绍:硫化氢传感器H2S-D1(小尺寸)英肖仪器仪表(上海)有限公司专业进口传感器、提供英国 Alphasense 电化学气体传感器。欢迎致电询问英国AIphasense电化学气体传感器相关信息一、硫化氢传感器H2S-D1主要参数过载:200ppm响应时间:20s尺寸:Φ14.5×8.4测量范围:0-100ppm灵敏度:110 to 160nA/ppm二、硫化氢传感器H2S-D1主要特点两年寿命体积极小,低成本,适用于大批量OEM客户。三、硫化氢传感器H2S-D1典型应用应用于硫化氦便携仪英肖仪器仪表(上海)有限公司专业提供进口传感器、硫化氢传感器H2S-D1(小尺寸),欢迎您来电咨询硫化氢传感器H2S-D1(小尺寸)价格、硫化氢传感器H2S-D1(小尺寸)原理等详细信息
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  • 12英寸单片清洗设备 400-860-5168转5919
    1. 产品概述Saqua SC3080A系列 12英寸单片清洗设备。2. 设备用途/原理Saqua SC3080A系列 12英寸单片清洗设备,精密的腔室微环境控制能力,支持多种化学品,高效的化学品回收效率,4 腔或 8 腔可选。3. 设备特点晶圆尺寸 12 英寸,适用材料 单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、介质膜、金属膜。适用工艺 后段 Cu/Al 制程刻蚀后清洗、Al Pad 清洗、背面清洗、背面刻蚀, 后段控挡片回收。适用域 新兴应用、集成电路、先进封装。
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  • 8-48黑白辐射传感器 400-860-5168转4377
    8-48黑白辐射传感器辐射测量Eppley公司的8-48黑白辐射传感器用于测量全球短波总辐射,反射辐射和散射辐射。传感器的探测器是一个差分热电堆,热端接收器为黑色,冷端接收器为白色。 热电堆为3m的黑**层金属和白色的钡硫酸盐表面。内置的温度补偿热敏电阻电路,用于减少环境温度的影响。精密的Schott光学玻璃 WG295做顶部半球顶罩,对于0.285—2.800微米波长的能量传输有很好的均一性。该半球顶罩和外接环境之间保持密封,在仪器进行维修是可以拆卸。铝制的外壳含有一个水平泡和一组水平调节螺栓。 辐射测量技术性能参数灵敏度:大约11mV/Wm-2温度依赖性:±1.5% @ -20—40℃阻抗:350欧姆线性:5s(1/e信号)玻璃透明度:280—2800nm余弦响应:±2% @ 0—70°天顶角;±5% @ 70—80°天顶角尺寸:直径5.75英寸,高度3.75英寸测量范围:0——1500 Wm-2光谱范围:0.3——3μm输出:大约15 μV/Wm-2或4—20 mA = 0—1500 Wm-2工作环境温度:-40—60℃分辨率:<1 Wm-2稳定性:<1%/年方位角响应:<3%响应时间:<25s(95%);<45s(99%)重量:1.0Kg电缆:2芯屏蔽,3米长
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  • 12英寸单片清洗设备 400-860-5168转5919
    Saqua 3080B系列 12英寸单片清洗设备1、良好的颗粒与背面刻蚀均匀性控制能力 Excellent particle control and backside etch uniformity control2、 稳定的晶圆传输、定位、翻转能力 Wafer transfer/flip system is stable 3、晶圆正面保护技术 Wafer front side protection technology 4、支持多种化学品同时回收,避免交叉污染 Multi-Chemical reclaim without different chemical mixing 5、高效的化学品回收效率,最低的用户成本 High Chemical reclaim efficiency, Lowest CoO技术参数1、晶圆尺寸 12 英寸2、适用材料 单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、介质膜、金属膜3、适用工艺 背面清洗,背面刻蚀,硅刻蚀,控片清洗4、适用领域 新兴应用、集成电路、先进封装
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  • 产品描述 5英寸系列间歇式球磨机和棒磨机驱动器Roll Drives, 5in Diameter Roll Series 描述: Sepor的5英寸系列间歇式球磨机和棒磨机驱动器是一种坚固耐用的重型磨机驱动器,特别适用于钢制研磨罐或大型瓷器研磨罐(5加仑大小)。驱动机构是一个1/2 HP齿轮电动机,具有可变速度,能够在40 RPM和230 RPM之间滚动。这些卷的直径为5英寸,长为24英寸,覆盖70英寸硬橡胶,中心距10英寸。磨机机架的一端装有一个工作架和内置的排球炉排。 Photo是批量钢球/棒磨机,通常与5英寸辊驱动器一起使用。球磨机和棒磨机是同一磨机,并且可以装入任何一个球棒。它们有不锈钢和碳钢两种。在这些磨机中也可以使用标准的20磅装料。 目录编号描述卷数装运重量尺寸图010E-001驱动辊,110 V / 1 Ph / 60 Hz驱动辊,220 V / 1 Ph / 50 Hz 2 2250磅250磅 43“ x 33” x 30“ 43” x 33“ x 30”010E-002驱动辊,110 V / 1 Ph / 60 Hz驱动辊,220 V / 1 Ph / 50 Hz3 3300磅300磅43“ x 33” x 30“ 43” x 33“ x 30”010E-003驱动辊,110 V / 1 Ph / 60 Hz驱动辊,220 V / 1 Ph / 50 Hz4 4350磅350磅43“ x 33” x 30“ 43” x 33“ x 30” 研磨罐直径(英寸)罐子研磨速度@临界速度75%(RPM)获得缸磨速度(RPM)所需的驱动辊速度8 7011396611910631261160132125713813 55144 1453149上面是研磨缸表,5“直径辊的辊速 研磨介质通常,钢磨球与钢磨机一起使用,陶瓷球与瓷器或搪瓷磨机一起使用,钢,陶瓷或其他高密度介质与弹性体衬里磨机一起使用。瓷球的SG为2.3,平均重量/体积为每加仑12.8磅。高密度氧化铝(陶瓷)球的SG为3.2,平均重量/体积为每加仑17.5磅。钢球的SG为7.7,平均重量/体积为40磅/加仑。较高密度的研磨介质通常会导致球磨机更快地研磨。可以通过实验确定球磨机的最佳研磨量,但是通常范围是球磨机体积的20%至50%,或至中心线。大约30%到40%的球电荷将是空白空间。干磨球磨机干磨的材料负荷通常落入磨机体积范围的25%至50%。如果磨机装载有50%的研磨料和50%的球料,则不会充满100%,因为大约30%的球量是空隙。为了对各种材料进行最有效的研磨,将需要进行一些实验才能获得适当的研磨料。如果磨机过载,则可能无法通过研磨获得细粒度,并且随着磨削时间呈指数增加,磨机的磨削效率呈指数下降。因此,应避免轧机过载。湿磨 球磨机湿磨的材料负荷通常落入磨机体积范围的30%至50%。浆料的固含量按重量计可以在30%到60%之间。需要进行一些实验才能获得适当的磨粉机,以对各种材料进行最有效的研磨。如果磨机过载,则可能无法通过研磨获得细粒度,并且随着磨削时间呈指数增长,磨机的磨削效率呈指数下降。因此,应避免轧机过载。
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  • 土壤氧气传感器 400-860-5168转3476
    土壤氧气传感器用于测量土壤中的氧气含量。可以监测土壤呼吸和透气性。产品应用: 农业(土壤,堆肥) 园艺(温室,研究) 工业(建筑环境监测,矿山) 研究(hypoxic或hyperoxic室)坚固的结构 耐用的铝或聚丙烯外壳盆栽固体防水传感器。聚丙烯外壳被推荐用于酸性环境,可以腐蚀的铝外壳。内部加热器可以防止膜冷凝可以减少信号直到膜干燥。精度高,内部温度传感器可用于补偿温度变化。产品的快速响应的类型:SO-110热敏电阻SO-210热敏电阻SO-120 K型热电偶SO-220 K型热电偶工作探头选配技术指标:产品规格S0-110SO-120SO-210S0-220测量范围0~100 %O2灵敏度(输出)2.6mv/ %O20.6mv /%O2在0~%O2输出20.95 %O2输出6%20.95 %O2输出3%重复性±0.001 %O2非线性<0.01长期漂移1mv/年0.8/年响应时间60 Sec14 Sec工作环境-20~+60℃,0~100%RH,60~140 kPa工作电压12V DC(内部有加热器);2.5V DC(热敏电阻,需电压激发)加热时电流6.2mA热敏电阻的电流0.1mA尺寸32毫米直径,68毫米的长度扩散探头(选配)直径35毫米,长35毫米,125目筛流通探头(选配)直径32毫米,长91毫米,0.25英寸尼龙连接器
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  • FLIR A35支持GIGE的红外温度传感器(手动调焦)FLIR A35配备热成像温度传感器,适用于状态监控、过程控制/质量保证及火灾预防应用。FLIR A35可无缝集成到现有系统中,提供全面的可视化温度监测。作为Ax5系列的一部分,A35是市场上仅有的能通过GenICam&trade 兼容软件提供温度线性输出的热成像温度传感器。适用于状态监控的先进热成像系统经济实惠且小巧便携FLIR A35尺寸仅为4.1英寸×1.9英寸×1.8英寸,以经济实惠的价格为您带来可在狭小空间使用的热成像技术。即插即用得益于兼容GigE Vision和GenICam协议且配有GigE Vision可锁止连接器,可实现便捷设置。连接多台热像仪多台热像仪之间同步,能实现更广范围的覆盖和通信,亦可用于立体应用。
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  • 纳米压印技术解决了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题,具有分辨率高、低成本、高产率的特点。自1995年提出以来,纳米压印已经经过了14年的发展,演变出了多种压印技术,广泛应用于半导体制造、mems、生物芯片、生物医学等领域。NIL压印机的基本思想是通过模版,将图形转移到相应的衬底上,转移的媒介通常是一层很薄的聚合物膜,通过热压或者辐照等方法使其结构硬化从而保留下转移的图形。整个过程包括压印和图形转移两个过程。根据压印方法的不同,NIL主要可分为热塑(Hot embossing)、紫外固化UV和微接触(Micro contact printing, uCP)三种光刻技术。 二、 功能l 主要功能纳米压印机的主要功能是将图形转移到相应的衬底上,转移的媒介通常是一层很薄的聚合物膜,通过热压或者辐照等方法使其结构硬化从而保留下转移的图形。压印技术主要分为以下两种:热压:首先在衬底上涂上一层薄层热塑形高分子材料(如PMMA)。升温并达到此热塑性材料的玻璃化温度Tg(Glass transistion temperature)之上。热塑性材料在高弹态下,将具有纳米尺度的模具压在上面,并施加适当的压力,热塑性材料会填充模具中的空腔,模压过程结束后,温度降低使热塑性材料固化,从而得到与模具的重合的图形。随后移去模具,并进行各相异性刻蚀去除残留的聚合物。接下来进行图形转移。图形转移可以采用刻蚀或者剥离的方法。刻蚀技术以热塑性材料为掩膜,对其下面的衬底进行各向异性刻蚀,从而得到相应的图形。剥离工艺先在表面镀一层金属,然后用有机溶剂溶解掉聚合物,随之热塑性材料上的金属也将被剥离,从而在衬底上有金属作为掩膜,随后再进行刻蚀得到图形。紫外压印:为了改善热压印中热变形的缺点,特克萨斯大学的C. G. willson和S. v. Sreenivasan开发出步进-闪光压印(Step- Flash Imprint Lithography),这种工艺中采用对紫外透明的石英玻璃(硬模)或PDMS(软模),光阻胶采用低粘度,光固化的单体溶液。先将低粘度的单体溶液滴在要压印的衬底上,结合微电子工艺,薄膜的淀积可以采用旋胶覆盖的方法,用很低的压力将模版压到晶圆上,使液态分散开并填充模版中的空腔。透过模具的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。后刻蚀残留层和进行图形转移,得到高深宽比的结构。后的脱模和图形转移过程同热压工艺类似。 技术特点★主机包含:真空系统,温度控制系统,压力控制系统,水冷系统,PLC 控 制系统,软件操作界面,紫外光源,单面电磁加热系统 设备压印尺寸:4 英寸。 设备可以实现热压印、紫外曝光压印 ★大压力:8bar(空压机),20bar(外接超净室气源) 温度范围:从室温到 250 摄氏度。 紫外光源类型:高压汞灯:功率:400W,主波长:365nm。 ★设备真空度:10 帕。 ★设备随机可以根据科研需求提供全系列的纳米压印胶,包括: 热压胶、紫外光固化胶 深刻蚀型压印胶、举离型(Lift-Off)压印胶 快速模板制作材料、各类模板防沾剂、衬底增粘剂等 ★随设备随机可以根据科研需求提供定制纳米压印模板,包括:周期 400nm的 4英寸点阵模板镍模板 SFP & Hybrid Mold软模板 支持 20nm 分辨率及曲面压印,并提供文献工艺支持, ★支持自动脱模,电磁加热功能 国内外大于 10 个客户 ★工艺包括: 纳米压印胶旋涂工艺支持 纳米压印模板防粘工艺支持,避免脱模粘胶影响 纳米压印机参数调节 软模板工艺,包括 PDMS 模板、SFP 以及 Hybrid Mold 工艺 ICP 刻蚀工艺 柔性聚合物衬底压印工艺,Nickel Template 金属镍模板热压 PET、PMMA 等 举离(Lift-off)工艺支持,加工金属结构 纳米压印表征技术 更新压印工艺研发指导,文献支持 技术能力该设备的发明人2001年至 2003 年,在纳米压印技术发明人、 美国普林斯顿大学 StephenY.Chou 教授的纳米结构实验室作为研究助理进行了为期 3 年的研究工作,发展了紫外光固化纳米压印工艺与材料,对纳米压印技术的发展做出了重要的贡献。2004 年加入材料科学与工程系后继续围绕纳米微加工技术与纳米压印技术开展研究工作,研发了数种新型纳米压印材料,发展了新型高分子压印模板,提出了曲面纳 米压印技术;利用 863 课题“紫外光固化和热压两用纳米压印设备的研制与应用”项目的支持,研制成功具有紫外光固化和热压功能两用纳米压印设备,现已成为产品,并被南京大学、北京航空航天大学、国防科技大学、黑龙江大学、中科院深圳研究院等多家高校和科研机构所采用,形成了具有自主知识产权的纳米压印核心技术,,技术水准与当前国际该领域先进水平同步。纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质,进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和光子的前提下,直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由于这种机械作用,使得纳米压印技术不再受到光子衍射和电子散射的限制,可大面积地制备纳米级图形。同时,由于这项技术所用的设备简单,制备时间短,压印模板可以重复使用,所以应用该技术制备纳米图形所需的成本也较低。目前典型的三类纳米压印技术分别是:热压印,紫外固化压印,微接触印刷。分别适用在其各自的领域:热压印技术:光电、光学器件;微型机电系统领域。紫外固化压印技术:纳米光电器件、纳米电子器件的生产;NEMS和MEMS加工;半导体集成电路的制造。微接触印刷技术:生物芯片和微流体器件的生产;生物传感器(抗体光栅);微机械元件的生产。加工工艺来分,主要包含五大部分:压印,刻蚀,镀膜,检测&表征与其他。所涉及的仪器设备主要包括:纳米压印机,感应耦合等离子体刻蚀机,电子束蒸发镀膜机,原子力显微镜&扫描电镜,以及超声波清洗机&真空干燥箱等。 Sandwiched Flexible Polymer-SFP & Hybrid Mold软模板压印技术尽可能消除灰尘颗粒对于纳米压印结果产生的影响 在不规则表面或者曲面进行纳米压印(下图为单模光纤进行的纳米压印) Nickel Template金属镍模板热压技术直接对于聚合物衬底(PMMA、PET等材料上)直接热压,免去了刻蚀环节。 先进的电镀工艺支持加工微纳米尺度镍模板 600nm周期镍模板镍模板寿命长,适合高温高压连续压印。
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  • 1. 产品概述:Herent® Chimera® A 金属硬掩膜刻蚀设备,为针对 12 英寸 IC 产业的后道铜互连中氮化钛(TiN)金属硬掩膜刻蚀(metal hardmask open) 这一重复道次高的工艺所开发的专用产品,以满足 12 英寸产线的各种硬质掩膜刻蚀需求。此外,Chimera® A 硬掩模刻蚀腔可作为 LMEC-300&trade 设备的选配模块,实现从金属硬掩模刻蚀到器件功能层刻蚀的一体化工艺。12英寸硬掩膜刻蚀设备2. Herent® Chimera® A系统特性Herent® Chimera® A 金属硬掩膜刻蚀设备是面向 12 英寸集成电路制造的量产型设备设备由电感耦合等离子体刻蚀腔(ICP etch chamber)及传输模块(transfer module)构成适用于 55 纳米及其它技术代的 TiN 等硬掩膜刻蚀工艺为针对 12 英寸 IC 产业的后道铜互连中氮化钛(TiN)金属硬掩膜刻蚀(metal hardmask open) 这一重复道次高的工艺所开发的专用产品,以满足 12 英寸产线的各种硬质掩膜刻蚀需求。此外,Chimera® A 硬掩模刻蚀腔可作为 LMEC-300&trade 设备的选配模块,实现从金属硬掩模刻蚀到器件功能层刻蚀的一体化工艺。
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  • 1. 产品概述THEORIS A302L 12英寸立式低温退火炉,先进的压力控制系统。2. 设备用途/原理THEORIS A302L 12英寸立式低温退火炉,先进的压力控制系统,高精度温度场控制技术,先进的颗粒控制技术,可靠的氢气工艺能力技术,高产能。3. 设备特点晶圆尺寸 12 英寸,适用材料硅。适用工艺 低压合金、金属 / 非金属退火、薄片退火。适用域 新兴应用、集成电路、先进封装。退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中,例如氧化,或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉,超节能结构,采用纤维结构,节电60%。
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  • NR01 净辐射传感器 NR01是行业领先的四分量净辐射传感器,主要用于科研级能量平衡和地表通量的研究。它提供了4个球形独立的传感器测量上升和下行的长波辐射测量参数,2个传感器朝上和2个朝下。NR01之所以受到广大用户欢迎归功于其优异的性价比。其优点包括2对完全相同的传感器;在长波测量中,低漂移;易于调平;独有的特性—通过加热辐射表,以减少露水沉积所引起的测量误差。 简介: NR01 测量表面辐射平衡的四个独立分量: 向下和向上太阳和长波辐射。 太阳辐射传感器被称为日射强度计, 长波传感器被称为“地面辐射强度计”从这四个独立的分量中导出净辐射。 在计算天空温度时,需要用热计(Stefan-Boltzmann玻耳兹曼定律)对辐照后的热进行补偿。因此NR01内置了pt 100温度传感器。日照时数可根据WMO核准的日标法估算。 自2007年问世以来,NR01净辐射传感器已广泛应用于市埸,受欢迎的主要原因:l 高性价比;l 可加热的辐射传感器,有效的准确的夜间数据;l 高精度短波校准、重量轻,安装成本;l 模块化设计,2个完全相同的传感器;l 实际测量,自修复和自校准。 使用说明NR01净辐射易于使用。它可以直接连接到常用的数据记录系统。 以w/m2为单位的辐照度水平是通过将小电压的RA01输出除以灵敏度来计算的。长波辐照度应利用仪器自身温度进行校正。所有传感器的灵敏度都在RA01的产品证书上提供。 NR01设计NR01辐射表有模块化设计,带两个相同传感器:可以拆开仪器,易于更换单个传感器,可以调整使用相同的程序。内置一个双轴调平组件。调平组件适合1英寸NPS管(推荐外径为33.4×10-3m)。由于这个原因,它经常被选择用于大型监控网络。 NR01优势 为了阻止在辐射表表面生成冷凝水,NR01内置加热器。这使仪器保持在露点以上。当冷凝阻止长波表测量时,通过启动加热来提高长波辐射测量的可靠性,尤其是在晚上,冷凝最容易发生的时候。长波测量中,辐射漂移是很低的。因为该特性,NR01在能量平衡和表面通量研究中很受客户欢迎。另外,NR0很实用;它比同行竞争产品的重量轻,且内置双轴调平装配。调平组件适合1英寸NPS管(推荐外径为33.4×10-3m)。如果NR01垫片包括在RA01的附件中,也可以使用英寸NPS管。 符合标准符合ISO 9060和WMO-No.-8;气象学仪器和观测方法指南; 参考用户美国国家生态观测网(NEON)是世界上最大的网络采用四分量净辐射计的用户。经过广泛的测试,在2013年我们很自豪,因为我们的NR01在NEON公布的传感器供应厂家名单中。英国生态水文中心(CEH)在2014年的新的测试网络内使用NR01。注:事实上,传感器在网络中的使用并不构成网络所有者的正式认可。NR01技术指标测量参数(参数适用4个传感器)净辐射测量参数太阳总辐射测量参数反射辐射测量参数向上长波辐射测量参数向下长波辐射可选参数表面温度可选参数天空温度可选参数反照率或太阳反射率可选参数日照时数内置传感器2个相同的二级表符合ISO90602个相同的150°视角光谱范围285 to 3000 x 10-9 m长波光谱范围4.5 to 40 x 10-6 m水平测量双轴调平组件(内置)加热器功耗1.5 W 12 VDC温度传感器Pt100Pt100表体温度输出4 x V DC 1 x Pt100安装安装于 1 英寸 NPS管,标配垫片便于NR01 安装在?寸管上(管子需单独订购)校准溯源to WRR不确定度 1.8 %追溯性to WISG长波不确定度 7 %额定工作温度-40 to +80 oC标配电缆长度2 x 5 m (see options)* 所需测量表体温度可选项• 加长电缆, 按 5 m的倍数,电缆长度大于20m的倍数为10m。• 10 k? 热敏电阻可代替Pt 100温度测量。
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