溴化硅

化学式Si3N4，,是一种重要的结构陶瓷材料。它是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损，为原子晶体；高温时抗氧化。化学式Si3N4。白色粉状晶体;熔点1900℃,密度3.44克/厘米3(20℃)；有两种变体：α型为六方密堆积结构；β型为似晶石结构。氮化硅有杂质或过量硅时呈灰色。 　　氮化硅与水几乎不发生作用；在浓强酸溶液中缓慢水解生成铵盐和二氧化硅；易溶于氢氟酸，与稀酸不起作用。浓强碱溶液能缓慢腐蚀氮化硅，熔融的强碱能很快使氮化硅转变为硅酸盐和氨。氮化硅在 600℃以上能使过渡金属氧化物、氧化铅、氧化锌和二氧化锡等还原,并放出氧化氮和二氧化氮。

一、碳化硅的定义 碳化硅是一种人工合成的碳化物，分子式为SiC。通常是由二氧化硅和碳在通电后2000℃以上的高温下形成的。碳化硅理论密度是3.18克每立方厘米，其莫氏硬度仅次于金刚石，在9.2-9.8之间，显微硬度3300千克每立方毫米，由于它具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蚀性及较高的高温强度等特点，被用于各种耐磨、耐蚀和耐高温的机械零部件，是一种新型的工程陶瓷新材料。 二、碳化硅的基本性能　　1、化学性质　　抗氧化性：当碳化硅材料在空气中加热到1300℃时，在其碳化硅晶体表面开始生成二氧化硅保护层。随着保护层的加厚，阻止了内部碳化硅继续被氧化，这使碳化硅有较好的抗氧化性。当温度达到1900K(1627℃)以上时，二氧化硅保护膜开始被破坏，碳化硅氧化作用加剧，所以1900K是碳化硅在含氧化剂气氛下的最高工作温度。　　耐酸碱性：在耐酸、碱及氧化物的作用方面，由于二氧化硅保护膜的作用，碳化硅的抗酸能力很强，抗碱性稍差。　　2、物理机械性能　　密度：各种碳化硅晶形的颗粒密度十分接近，一般认为是3.20克/毫米3，其碳化硅磨料的自然堆积密度在1.2--1.6克/毫米3之间，其高低取决于粒度号、粒度组成和颗粒形状。　　硬度：碳化硅的莫氏硬度为9.2，威氏显微密硬度为3000--3300公斤/毫米2，努普硬度为2670—2815公斤/毫米，在磨料中高于刚玉而仅次于金刚石、立方氮化硼和碳化硼。　　导热率：碳化硅制品的导热率很高，热膨胀系数较小，抗热震性很高，是优质的耐火材料。　　3、电学性质　　常温下工业碳化硅是一种半导体，属杂质导电性。高纯度碳化硅随着温度的升高电阻率下降，含杂质碳化硅根据其含杂质不同，导电性能也不同。碳化硅的另一电性质是电致发光性，现已研制出实用器件。　　4、其他性质　　亲水性好，远红外辐射性等。

做晶体硅的厂都要测试四氯化硅，检测四氯化硅的含量。但是四氯化硅腐蚀性那么强，怎么进样测试呢，微量进样针会堵，大的普通进样针很难控制进样量，主峰容易平头，平头后两个杂质峰也分不开。不知道有哪位同仁做过这个应用？指点一下。

含氮化硅耐火材料中氮化硅含量分析按标准中的方法分析太烦琐，是不是可以用氧氮仪先分析氮含量，换算成氮化硅，有哪些仪器适合做这种分析。

各位大侠，小弟请教下关于测定碳化硅材料中碳化硅的含量所用的方法和具体的设备。

表征氮化硅微粉体个人有些地方有些迷惑，不知道选用什么方法和设备1、粒度方法：光散射法、沉降法、电导法？还有其他不清楚个人想选用 激光粒度仪，理由是检测快速，效率高，精度？2、比表面积这个不太了解，用什么方法和设备比较合适，xdjm帮忙推荐下3、元素分析主要分析金属元素Fe、Al、Ca等，氧、氮、游离硅含量、二氧化硅、氮化硅含量这个好像很复杂，选用什么方法测这些呢，我个人想法是ICP-AES（OES）测量金属元素，氧氮含量怎么测呢？红外氧氮分析仪？游离硅这么测呢，氮化硅含量怎么测量啊？4、堆积密度、堆积角？大家讨论讨论，陶瓷粉体表征有经验的xdjm给指导下

各位专家，有没有氮化硅锰中氮的化学分析方法，氮化硅锰含硅30-50%左右，含锰30-40%，含氮大约在10-20%间，有分析方法的请给予解答。谢谢！

我们的纯水要测定二氧化硅，检测限最好在1ug/L，不知有什么方法？不知道GB11446.6-89电子级水中二氧化硅分光光度法测定是不是最新的方法，有谁能提供该方法的电子文本，谢谢！

二氧化硅量的测定 硅钼黄比色法1.方法提要试样以碳酸钠一过氧化钠熔融分解，然后在pH1. 5的盐酸介质中，硅与钼酸按生成可溶性硅钼杂多酸黄色络合物，与模仿色阶比较，借此测得二氧化硅的含量。主要化学反应方程式如下：SiO2＋Na2CO3——NaSiO2＋C02H4SiO4. 2H20＋12HM004——H8〔Si（M o2O7）6〕＋12H2O本方法适用于钨矿、钼矿、锡矿、铋矿等试样中二氧化硅量的测定。测定范围：0.1一10.00％．2.试剂无水碳酸钠。过氧化钠。盐酸（1＋1）、（1＋S）。酚酞（1％酒精溶液）。钼酸按（10％）；．称取10。克钼酸按铵（（NH4）6MO7O24.4H2O〕溶解于温水中，冷却后再用水稀释至1000毫升。铬酸钾溶液称取1:2600克予先在106一110℃干燥过的铬酸钾，溶解于0.5%硼酸溶液中，移入10。。毫升容量瓶中，再用同浓度的硼酸溶液稀释至刻度，摇匀。此溶液1毫升相当0':200毫克二氧化硅。3.分析步骤称取0.1000克试样（随试样做试剂空白），置于予先盛有1克无水碳酸钠的30毫升银坩埚中，摇散试样，加2克过氧化钠，置于800．℃马福炉中熔融至红色透明均匀状态①，取出，稍冷，置于予先盛有50毫升热水的250毫升塑料杯中浸取熔块，一用水洗净坩埚，冷却至室一温s移入10。毫升容量瓶中，以水稀释至刻度。再将试液倒回塑料杯中，摇匀。用慢速定量滤纸干过滤。移取5. 00 - 10-00毫升试液置于50毫升比色管中，加1滴1％酚酞指示剂，用盐酸（1＋5）中和至红色消褪，，并过量6毫升②，加水至溶液约40毫升，加5毫升10%钥酸按溶液，再用水稀释至50毫升刻度，摇匀。20分钟后与二氧化硅标准在390nm下比色，测其二氧化硅量。二氧化硅模仿色阶配备：移取0.00，• 0.20，0.40，0.60，0.80，1.00，1.20，1.40，1.60，1.80，2.00,2. 20, 2. 40, 2. 60, 2. 80, 3. 00, 3. 20, 3．40, 3.60, 3．80, 4. 00, 4. 20, 4. 40, 4. 60,4.80．5.00毫升每毫升相当0.200毫克二氧化硅的铬酸钾溶液，分别置于一组50毫升比色管中，用水稀释至刻度，摇匀。二氧化硅的百分含量按下式计算：SiO2(%)= ×100式中：r—试液与模仿色阶比较测得的二氧化硅量（微克）； r。—试剂空白与模仿色阶比较测得的二氧化硅量（微克）； V—试液总体积（毫升）； V1—分取试液体积（毫升）； w—称样量（克）4.允许差含二氧化硅量（%）允许差（%）≤3.000.253.01~5.000.305.01~7.000.407.00~10.000.505.注意事项①过氧化钠不宜加得太多，熔融时间不宜太长，否则银坩埚容量溶穿。②此方法不能消除砷、磷对二氧化硅测定的干扰．一般不做试剂空白。③锡精矿试样，加水至溶液约35毫升，用盐酸（1十1）至锡酸刚好溶解完全，并过量0.5毫升，再加钼酸铵。因锡的存在对二氧化硅的测定有干扰，锡精矿试样中二氧化硅量的测定结果仅可供参考．

有个客户想测氮化硅中的微量元素，微波消解时加入HF，但大量硅的存在会干扰测定，据文献报道加入硫酸可以驱赶氟化硅。现在想请教：1.除了硫酸外，还有别的驱赶氟化硅的方法吗？如高氯酸可行吗？2.硫酸在进样系统中很难驱赶，请问有什么好的方法吗？望同行解答，多谢！

各位大侠求助二氧化硅化妆品行业标准，如没有化妆品行业标准 也跪求GB/T 20020-2013 气相二氧化硅，GB 25576-2010食品添加剂二氧化硅 ,GB/T 30451-2013 有序介孔二氧化硅的标准。在此谢谢

本人新手，谁能帮我解析一下四氯化硅的红外特性。

用溴化钾+二氧化硅取样分别为:二氧化硅+溴化钾 abs 25 + 275 0.005 75 + 225 0.025125 + 175 0.052175 + 125 0.074225 +75 0.12 ?为什么成不了线性呢?WGH-30/30A型双光束红外分光光度计 做游离的二氧化硅

求助：关于碱浸钨钼混合矿中浸出液中二氧化硅怎么用硅钼蓝分光光度法检测新来到公司，安排化二氧化硅，没有标准。用硅钼蓝法化的二氧化硅比外测样最少低0.1克/升，高钨高钼的液（0.1-2.0g/L）怎么测二氧化硅，求各位指点。最好有步骤，是不是高钨钼对硅钼蓝有影响？急死我了。谢谢各位

在用钼蓝光度法测定氧化铝中的二氧化硅时，由于二氧化硅的含量较低（0.05％左右），空白的吸光度通常都大于样品的吸光度。请教大家，如何能把空白的吸光度降下来？

我在书本上看到这样一句话，不理解：用偏硼酸锂、四硼酸锂等含锂硼酸盐代替钠盐作熔剂，其最大的优点是可以在制得的溶液中进行钾、钠的测定，但同样由于引入了大量的硼而不利于二氧化硅的测定。请问：引入了大量的硼而不利于二氧化硅的测定？

如何测气相二氧化硅？二氧化硅为絮状，摸起来应该是达到了纳米级，但测试出来却是中心粒径60微米左右，为什么？是二氧化硅絮状没有分散开？还是产生的气泡？

各位大虾，你们用的TEM氮化硅窗口的规格是怎么样的呢？我这边拿到10片9窗口的氮化硅窗口，规格如下：框架3mm*3mm，窗口是0.5mm*0.5mm，3*3阵列，膜厚是50nm，单价170这么小的东西，还有个薄膜，我应该用怎样规格的镊子去夹呢？各位大虾，你们用的是什么样的镊子比较好夹，又安全呢？不会夹碎窗口的……介绍下镊子型号、哪里购买的，价格什么的……

求解，在检测碳化硅中的总硅时（GB/T4333.1-2019），混合溶剂经马弗炉高温溶解后，用热水清洗，再用擦棒清洗 ，总感觉镍坩埚的锅底还有些混合溶剂，洗不干净。还有没有更好的检测碳化硅中的总硅的检测方法，碳化硅含量98的货。

当水质有有很中的颜色，当测定其中的二氧化硅时该怎么样处理水样

怎样判断氮化硅粉的好坏具体说明判断好坏的步骤..急求

用分光光度计测定二氧化硅含量，在标准曲线上查得二氧化硅量为6.42ug/mL,怎么计算出二氧化硅含量（%），这个公式看不懂呀，求助各位大佬[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/07/202307311604011322_3724_6103180_3.png[/img][img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/07/202307311604011322_3724_6103180_3.png[/img]

用分光光度计测定二氧化硅含量，在标准曲线上查得二氧化硅量为6.42ug/mL,怎么计算出二氧化硅含量（%），这个公式看不懂呀，求助各位大佬[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/07/202307311602291589_8599_6103180_3.png[/img][img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/07/202307311602292631_2272_6103180_3.png[/img]

我们公司主要生成的是高含量的二氧化硅粉末要达到99.5%左右，但是最近在测试成分时发现与原来一样的作业条件作业设备，但是二氧化硅粉末无法完全的溶解，而且氧化铝的含量也远远超过我们的要求，达到了3000ppm以上，请问是应为氧化铝含量过高导致二氧化硅无法全部溶解还是其他的原因，谢谢各位的帮助

测定二氧化硅只有偏硼酸锂熔样一种方法吗？

恳求高手赐教，如何分析四氟化硅气体以及其中的各个杂质（氧气，二氧化碳，氯化氢，氟化氢等），要求精确到ppm级别联系信箱：jxfgh@sina.com

求购氧化硅和氧化铝公司要求开发这两种 产品，要求用XＲＤ测试以上两种样品 求购氧化硅和氧化铝样品。。做实验用。。

二氧化硅的用途二氧化硅的用途很广。自然界里比较稀少的水晶可用以制造电子工业的重要 部件、光学仪器和工艺品。二氧化硅是制造光导纤维的重要原料。一般较纯净的石英，可用来制造石英玻璃。石英玻璃膨胀系数很小，相当于普通玻璃的1/18，能经受温度的剧变，耐酸性能好（除HF外），因此，石英玻璃常用来制造耐高温的化学仪器。石英砂常用作玻璃原料和建筑材料。从硅石获得消光剂的方法很多，根据其制造工艺主要可以分为两类。一类是热液法制造，生产的二氧化硅形态相对较为松软。用硅胶制造的产品质地则较硬。经过处理后的两类产品均可制成标准的二氧化硅消光剂。处理过程是指使用有机(石蜡)或无机材料对二氧化硅表面进行一定程度的改性。与硅胶消光剂相比，处理过的二氧化硅拥有不同的粒径、粒径分布和孔隙体积。热液法消光剂在粒径和分布方面也不同。未处理与处理过的产品也有所不同。目前只有一种消光剂适应于特殊场合，该消光剂采用热解法制造，拥有很强的消光效率，且特别适用于水基涂料体系。二氧化硅的消光效果相对较强，浓度较高时可能导致粘度升高。储存过程中有沉淀的趋势，特别是未经处理的二氧化硅。为了避免积聚，我们可以使用石蜡或热解法二氧化硅。该消光剂能够调节45°、60°和85°方位的消光度。添加了二氧化硅消光剂的涂料可以进行罩涂。所有这些都是‘stir-in’产品。合成的硅酸铝能部分替代二氧化钛做为一种高质量增量剂使用，可应用于乳液底漆。该产物在干燥的乳液漆膜中能表现出均衡的消光效果。在长油醇酸树脂体系中可做为消光剂使用，但必须与颜料和填料一起进行分散。除了在粉末涂料系统中，二氧化硅消光剂可应用于所有的涂料。

最近有碳化硅的样品要消解，买不到高温高压的消解罐，那位大哥有经验，请帮忙分析一下，提供点信息。谢谢

各位大虾，碳化硅要溶解用ICP-OES测试，有谁知道前处理具体要怎样操作吗？不甚感激！！