柯伯胶

PMGI & LOR负光刻胶使能高产，广泛应用于在处理多种数据存储和无线芯片到MEMS的金属剥离。PMGI & LOR负光刻胶作为双叠层光刻胶，在超出单层防腐可以延长限制剥离处理。这包括非常高的分辨率的金属化（＜0.25μM），以及非常厚（＞4μm）金属化。这些独特的材料可几乎满足任何客户需要。 PMGI & LOR的特性：1）高分辨，可用于 0.25 μm Lift-off 工艺2）undercut 结构可控，溶解速率易于调节3）在Si，NiFe，GaAs，nP和其它III-V材料上有良好的粘附力4）与 g-， h-，i-line，DUV，193 nm 和 E-beam 光刻胶等兼容5）良好的耐热稳定性6）去胶容易，剥离干净 应用：金属电梯加工，桥制造，释放层 PMGI & LOR的属性1）覆盖在成像抗蚀剂不会混杂2）在TMAH双叠层一步发展，或KOH开发3）高热稳定性：Tg ~190 C4）快速清除和常规抗剥离干净5）0.25μm微米双层抗蚀成像6）产量高，可用于很厚（＞3μm）金属剥离处理加工环境：温度：20-25°± 1°C 湿度：35-45% ± 2% 相关溶液：显影液：101 Developer去胶剂：Remover PG稀释液：G Thinner 一般储存温度：4-27°C

Boekel原位杂交仪InSlide Out产品特点： 1. PID温度控制器2. 标配托盘可放置20块载玻片3. 独te的密封铝制托盘保障内部的温度和湿度4. 选配聚碳酸酯托盘可放置18片1×3英寸的载玻片，托盘可直接放在水浴中清洗 Boekel原位杂交仪InSlide Out应用： 1. 载玻片分子杂交2. 原位分子杂交3. 免疫组织化学实验 Boekel原位杂交仪InSlide Out原位杂交仪型号InSlide Out型号241000-2（230V）温度范围室温+ 10°C - 75°C温度设定范围0°C -75°C稳定性±0.2°C精确性±1°C@65°C显示分辨率0.1°C加热时间容器内：20min；托盘内：25min（至50°C）不锈钢托盘容量20-ink60"ink59"1×3英寸载玻片聚碳酸酯托盘容量18 - 1×3英寸载玻片不锈钢托盘距顶部高度9.5 mm (3.75 in)外部尺寸（W*L*H）45.7 cm x 45.1 cm x 15.2 cm (18 in x 17.75 in x 6 in)内部尺寸（W*L*H）19.4 cm x 29.5 cm x 1.9 cm (7.5 in x 11.5 in x 75 in)净重9.5 kg (21 lb)总重10.9 kg (26 lb)电源230 V 50/60 Hz 155 W (CE)

仪器简介：aboni塑胶酯粒含水量测定仪- 简单且精确的微水含量分析仪 HT3 HydroTracer 是一台精确的仪器，它能够测量固体样品中水分的绝对含量。较大的样 品重量与较高的解析度搭配独特的测量与计算方法，使得低至几 ppm 的水分含量也能被侦测 出来。大小不一的粉末，颗粒和高沸点的液体都能侦测，甚至热塑性泡沫塑料的水分，在装 入体积 50 毫升后也能测出。水分含量在塑胶加工变形时，往往决定了产品的品质。 在测量之前，仪器本身并不需要校正。除了箱体的某些零件外，仪器是以耐用的铝合金 与不锈钢打造而成，以降低重量及增加坚固度。 HydroTracer 因为这些优点加上紧凑的设计， 被推荐为实验室、工厂与移动型的最佳检测仪器 侦测原理 样品秤重后装入样品盘中，样品盘本身是HydroTracer中反应器的一部份，加热器加热样品到设定的温度后， 蒸发出来的水分与粉末状的试药（氢化钙）反应生成氢气。由化学反应式可得知水含量与氢气含量成正比，所以测量反应器中氢气的浓度就可得知水分含量。加上感测器可测得压力与温度计算出大气湿度，并将其从水分含量中扣除后，水分含量可非常精确的计算出来。技术参数：样品重量: 0.01 至50 克(100 克)，视样品密度及水含量而定 样品体积 : 约50 毫升 重现性: ±0.1 毫克水(1 毫克水含量)至±0.3 毫克水(20 毫克水含量) 电脑显示: 样品中的绝对水含量x.xx 毫克，相对水含量x.xxxx%和x ppm，及环境温度、 相对湿度与大气压力 测量范围 : 0.2 至30 毫克水 精度 : 参考附图 加热温度: 50 – 210℃，按1℃升高 试药: 氢化钙粉末，每次使用约消耗0.1 公克 环境温度: 以℃显示，精度至0.1℃ 环境气压: 700 – 1100 毫巴，显示至0.1 毫巴 环境相对湿度: 0 – 100%，显示至0.1% 电源 : 230VAC，1.6A 重量 : 4.6 公斤 尺寸: 285(H) x 170(W) x 250(D) mm 通讯 : RS232 或USB 电脑需求: Windows 98, ME, 2000, NT, XP Pentium 233 或同等级 最少 64MB 记忆体，推荐 128MB 记忆体主要特点：新型专用固体, 粉沫,薄膜样品测试方法. 通过加热使样品内部析出水份同反应剂反应产生氢气, 测出的氢气含量正比于水份含量. 而不受其它气体成份影响. 准确度, 精密度高. 操作简单方便, 替代卡尔费休滴定方法休滴定方法和热失重测量法. 便于携带现场工作. 计算机自动记录存储结果, 直接显示水份含量.高准确度及精密度,成本很低的安全反应试剂, 测试成本低. 符合ISO 15512标准方法. 应用范围ABS PA6 PS expanded PA12 PAA PAI PBT PC PE PE Talcum PEI PETa PETc PMMA 碳酸钙（Calcium carbonate) PP PS PA6.6 TPE PVC POM 已内醯胺（Caprolactam) 沙（Sand) 碳黑（Carbon black)

兆声去胶技术SWC-3000 (D) 兆声辅助光刻胶剥离系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模板清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC-3000是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。 SWC-3000 (D)兆声辅助光刻胶剥离系统应用：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-3000 (D)兆声辅助光刻胶剥离系统的特点： 台式系统无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干支持12”直径的圆片或9”x9”方片微处理机自动控制IR红外灯 SWC-3000 (D)兆声辅助光刻胶剥离系统选配项：掩模版或晶圆片夹具PVA软毛刷清洗化学试剂清洗(CDU)氮气离子发生器

Boekel InSlide Out 原位分子杂交仪产品特点： 1. PID温度控制器2. 标配托盘可放置20块载玻片3. 独特的密封铝制托盘保证内部的温度和湿度4. 选配聚碳酸酯托盘可放置18片1×3英寸的载玻片，托盘可直接放在水浴中清洗 应用： 1. 载玻片分子杂交2. 原位分子杂交3. 免疫组织化学实验 原位杂交仪型号InSlide Out型号241000-2（230V）温度范围室温+ 10°C - 75°C温度设定范围0°C -75°C稳定性±0.2°C精确性±1°C@65°C显示分辨率0.1°C加热时间容器内：20min；托盘内：25min（至50°C）不锈钢托盘容量20-1×3英寸载玻片聚碳酸酯托盘容量18 - 1×3英寸载玻片不锈钢托盘距顶部高度9.5 mm外部尺寸（W*L*H）45.7 cm x 45.1 cm x 15.2 cm内部尺寸（W*L*H）19.4 cm x 29.5 cm x 1.9 cm净重9.5 kg总重10.9 kg电源230 V 50/60 Hz 155 W (CE)美国 Boekel 原位杂交仪 Slide Moat产品特点：?　利用PID温度控制器可以快速升温?　无需等待塑料或者纸巾提供温度，加快杂交时间?　加热单元有密封垫的加热玻璃盖?　相对于热循环做载玻片的仪器， 该杂交仪更廉价和高效参数：外形尺寸406 x 349 x 146 mm容量三层加热，30个载玻片温度范围室温+5℃-100℃升温速度20分钟从室温到65℃温度均一性+/- 0.35℃ at 37 ℃　；　+/- 0.7℃ at 65 ℃温度稳定性+/- 0.2℃应用：美国 Boekel 原位杂交仪 Slide Moat 快速升温， 加快杂交时间 ， 更廉价和高效 。可用于原位杂交或者平板杂交、单一恒定温度培养载玻片、 载玻片的加热。

GPC600 mini 半自动凝胶净化系统，采用手动进样将样品注入进样阀，自动通过高效不锈钢净化柱净化， 自动收集目标组分溶液，收集瓶可与平行浓缩及旋蒸配套，无需转移样品，运行稳定，操作方便，适用 于环境、食品、农产品等样品的净化。凝胶净化系统是根据凝胶渗透色谱原理，对复杂样品按照分子体积的大小进行分离和收集，能有效去除样品中的大分子基质及小分子干扰物质，提高后续分析的灵敏度与准确性，延长分析仪器的使用寿命。GPC600 mini 半自动凝胶净化系统手动进样，自动净化、收集目标组分创新不锈钢净化柱净化，无需人工装填，有效节省时间和溶剂使用量隔垫穿刺密闭收集，避免有机溶剂挥发高精度双柱塞输液泵，流量压力更稳定可变波长紫外检测器，方便灵活2 个旋蒸瓶收集位交替使用，旋蒸瓶可与旋蒸浓缩设备 配套使用支持实验室常规浓缩杯，可与平行浓缩设备配套使用模块化设计，组合灵活，可快速升级至 GPC600 UP/GPC1000 系列凝胶净化系统

GPC600 UP 半自动凝胶净化系统，采用手动进样将样品注入进样阀，自动通过高效不锈钢净化柱净化，自动批量收集目标组分溶液，收集瓶可与平行浓缩及旋蒸配套，无需转移样品，运行稳定，操作方便，适用于环境、食品、农产品等样品的净化。凝胶净化系统是根据凝胶渗透色谱原理，对复杂样品按照分子体积的大小进行分离和收集，能有效去除样品中的大分子基质及小分子干扰物质，提高后续分析的灵敏度与准确性，延长分析仪器的使用寿命。GPC600 UP 半自动凝胶净化系统手动进样，自动净化、收集目标组分创新不锈钢净化柱净化，无需人工装填，有效节省时间和溶剂使用量精密三维机械臂收集平台，连续多位收集隔垫穿刺密闭收集，避免有机溶剂挥发，自动清洗收集针内外壁，无污染高精度双柱塞输液泵，流量压力更稳定可变波长紫外检测器，方便灵活支持多种规格收集架可选，可与平行浓缩产品直接配置使用支持实验室常规各种收集瓶、浓缩杯以及旋蒸瓶图形化界面，具有权限管理和数据溯源功能，支持多种收集模式模块化设计，组合灵活，可快速升级至 GPC1000 全自动凝胶净化系统

GPC1000 全自动凝胶净化系统 , 可全自动批量完成样品上样、分离净化、目标组分收集等操作，创新不锈钢净化柱设计、完全上样系统以及独立的三维机械进样和收集平台，净化效率更高，使用更方便，广泛应用于环境、食品、农产品等检测领域。凝胶净化系统是根据凝胶渗透色谱原理，对复杂样品按照分子体积的大小进行分离和收集，能有效去除样品中的大分子基质及小分子干扰物质，提高后续分析的灵敏度与准确性，延长分析仪器的使用寿命。自动完成样品进样，分离净化、收集目标组分系列操作标配不锈钢凝胶净化柱，无需人工装填，有效节省时间和溶剂使用量双柱塞精密输液泵及阻尼器，保证输液平稳精准配置可变波长紫外检测器，实时反应凝胶色谱流出物状态，便于方法开发采用完全上样模式，满足 10ml 以内任意体积样品完全进样实时压力监控，具有超压及泄压报警高精密三维机械平台实现自动上样 / 收集功能，隔垫穿刺有效防止溶剂挥发上样和收集独立，上样针和收集针可支持内外壁清洗支持多种规格样品瓶，上样架、收集架与固相萃取以及浓缩产品可配套使用模块化设计，根据样品量，可增加多个收集器

Autoclean 全自动凝胶净化系统用于净化分离含痕量、超痕量农药残留样品，或净化含油、脂肪等复杂基质样品中的大分子保留目标小分子，或收集目标大分子去除小分子杂质，满足EPA3640要求，适于农产品检测、食品检测、环境检测及生命科学领域，提高分析的灵敏度与准确性，延长色谱柱使用寿命。该套系统可升级为定量浓缩、全自动固相萃取等多联机系统。Autoclean 全自动凝胶净化系统对样品进行净化，可提高分析的灵敏度与准确性，延长色谱柱使用寿命。自动完成样品进样，分离净化、收集目标组分系列操作标配不锈钢凝胶净化柱，无需人工装填，有效节省时间和溶剂使用量双柱塞精密输液泵及阻尼器，保证输液平稳精准配置可变波长紫外检测器，实时反应凝胶色谱流出物状态，便于方法开发采用完全上样模式，满足 10ml 以内任意体积样品完全进样实时压力监控，具有超压及泄压报警高精密三维机械平台实现自动上样 / 收集功能，隔垫穿刺有效防止溶剂挥发

光刻胶检测系统,光刻胶测试系统用于检测光刻胶的光谱灵敏度(波长特性)。这是一种光谱系统，它将连续的光(大约240纳米宽)照射到一种光敏材料上，例如光阻剂。标准配置两种光源。一种是能照射强线谱光的深紫外光灯，另一种是能照射连续谱光的氙灯。规格波长范围:波长波段一次照射约240nm辐照有:高度方向:89mm(5-13步)波长方向80mm(约240nm)辐照时间:0.01-1200s辐照步骤:1-13步

搅拌式微波化学反应釜产品应用反应釜在化工领域普遍应用，采用微波技术和反应釜结合，可以实现开放式，在搅拌和循环的情况下，搅拌式微波化学反应釜采用微波对物料进行催化反应工艺；搅拌式微波化学反应釜适合化工领域微波催化工艺使用。搅拌式微波化学反应釜产品特点1、工业化搅拌式反应釜化学催化合成处理平台，定位于开放式化学反应领域2、支持室温～250℃以内产品工艺3、支持1m3以上不锈钢反应釜，采用地罐式反应釜可实现100m3催化反应4、支持微波浸入式辐射方式5、支持多点测温和闭环功率控制技术 6、智能化控制系统，温度和功率闭环可控，触摸屏人机对话界面7、执行标准：GB5959.6-2008《电热装置的安全 第6部分 工业微波加热设备的安全规范》技术参数（一）、微波系统1.微波功率：①额定功率：AkW / 2450MHz（功率范围：A=8～50kW）②电热辅热功能：BkW（功率范围：B=30～100kW）③采用工业级微波变频电源，适合连续工作2.微波加热腔设计：①304不锈钢一体焊接而成，坚固可靠；②采用液体浸入式多源多口宽带馈入，确保罐体内热量均衡；3.内腔结构：圆柱式反应釜，配置搅拌和循环回流管路（二）、功能系统1.处置系统：①不锈钢反应釜，内置液位计和测温、测压系统②内置锚式搅拌器，变频调速③外置置耐腐蚀循环管道泵，动态循环加热液体 2.温度控制：①温度范围：常用工作温度0～150℃，回温温差15～20℃；②采用热电偶测温方式；3.匀料控制：①垂直状态：采用高速循环泵，均衡加热 ②水平状态：锚式搅拌器搅拌混料4.进出料系统：①液态物料自动加料、补料系统②产成物底部卸料系统（三）、控制系统 1.采用PLC编程控制：良好的人机互动，一体化控制终端，温度、时间、功率、速度均智能可控2.触摸屏对话窗口，操作简单快捷，即时显示时间、温度、和各单元工作状态3.设置异常状态监控和报警功能4.选配支持远程计算机操作和监控（四）、安全系统 1.设备主体采用一体化装配工艺，开口处微波屏蔽保护2.操作系统和监控可选用主机一体或者与设备分体控制模式3.根据现场要求，可以选配防火结构，支持氮气保护和水雾喷淋（五）、整机说明1.设备供电：380Vac / 50Hz 2.设备供水：长时间工作，建议选用水冷微波系统，现场需配置水源（软化水）3.外观尺寸：根据要求4.公司产品通过ISO9001质量认证体系　整机质保一年

品牌介绍：Boekel Scientific 公司成立于19世纪中期，坐落于宾西法尼亚州，生产制造经营实验室设备100多年的历史。在美国，甚至在爱迪生发明电灯之前，该公司就生产出了首批水浴锅和培养箱。在生命科学产品方面，Boekel一直处于世界前列，例如杂交炉及培养箱，原位杂交仪，加热制冷金属浴和新型的水浴摇床设备。Boekel实验室产品在临床，环保，食品，化妆品，医药和生物技术测试和研究方面都有广泛地应用。产品特点1. PID温度控制器---快速升温、稳定温度2. 强制空气对流---温度均一3. 可设置过温保护4. 可编程数字定时器---99时59分5. 转速0-60RPM，可变增量：1RPM6. 可叠放、不锈钢滴水盘7. 多种产品配件，扩大产品应用 产品参数货号 230402-2 (230 V)容量（标配转子）10个35 mm x 300 mm杂交管10个35 mm x 225 mm杂交管20个35 mm x 150 mm杂交管20个35 mm x 100 mm杂交管温度范围 室温+10℃-100℃温度设定范围 0℃-100℃稳定性 ±0.2℃精确性 ±0.25℃@65℃升温时间 环境温度到65℃小于25分钟速度 5-60rpm（可调）定时 最长99小时59分产品尺寸（整体） 47.6 cm x 35.9 cm x 47.9 cm产品尺寸（内部） 34.3cm x 25.7cm x 27.3cm总重 24.5 kg

产品应用进口硅片直径:2~8英寸 掺杂:N/P 晶向:100/110/111 电阻率:0.001~20000Q.cm国产硅片直径:2~8英寸 掺杂:N/P 晶向:100/110/111 电阻率:0.001~20000Q.cm高阻硅片(进口)FZ硅片直径:2~8英寸 掺杂:N/P 电阻率:10Q.cm~20kΩ.cm及以上MCZ硅片直径:2~8英寸 掺杂:N/P 电阻率:10Q.cm~20kQ.cm及以上测试片直径:2~8英寸,该类片可作为工艺陪片使用,或者作为对电学性能没有要求的正片使用外延片直径:2~8英寸,根据用户提供的衬底和外延层详细指标进行定制氧化硅片(国产/进口)直径:2~8英寸 氧化层厚度:200A~20um 氧化层厚度3um,需根据用户需求定制Dummy直径:2~12英寸 一般作为没有洁净度要求的单项工艺测试SOI硅片直径:4~8英寸 根据用户提供顶层硅、氧化硅、载片这三层的指标参数,检索库存或特殊定做其他特殊硅片1.超厚硅片2.招薄硅片3.金属化硅片(硅片表面镀有各类金属,Cr,Ti,Ni,Cu,Au ,Pt等)4.氮化硅硅片(普通LPCVD生长,或低应力SiN)5.超平硅片6.特殊晶向硅片7740玻璃片(Corning)BF33玻璃片(Sochott)直径:4～8英寸 厚度:300um~5mm,参数及包装标准:表面光洁度:0.5nm(两面光学研磨) 可定制切边:32.5±1mm(4寸) 导角:0.05~0.2mm石英片直径:2~6英寸 厚度:200um~5mm 分为单晶石英片和熔融石英玻璃片铌酸锂,钽酸锂GaNd等特殊材质衬底直径:2~4英寸砷化镓片直径 2~6英寸 晶向 100蓝宝石直径 2~6英寸 晶向 CA.R.M等.厚度:200um~1mm产品型号类型型号光源胶厚适用范围微流控胶SU-8 2000系列Near UV(350-400nm),推荐i-Line,也可用于E-beam,X-ray0.5-650um高深宽比,垂直性好,耐高温,光学透明,适用于MEMS工艺,钝化层,微流控以及光电子器件SU-8 3000系列5-100um高深宽比,垂直性好,耐高温,光学透明,较2000系列具有更好的基底粘附性,更不易在工艺过程中产生内应力积累,适用于MEMS工艺,微流控,光电器件制作以及作为芯片绝缘、保护层使用HTG910-Line95-168um厚胶,适用于电镀KMPRNear UV(350-400nm),推荐i-Line,也可用于E-beam,X-ray5-115um高分辨率,垂直性好,显影适用TMAH&KOH,易去胶,耐干法刻蚀SU-8干膜-Line5-1000um多种厚度选择,深宽比5,粗糙度小,耐腐蚀电子束胶SML系列(耐刻蚀)E-beam50-5000nmEM RESIST,5nm线宽,高分辨率,高深宽比,垂直性好,耐刻蚀,与基底粘附性好PMMA国产E-beam40-7um高分辨率,涵盖40k-1000k多种分子量,适用于掩模版制作,金属剥离lift-off和电镀掩模等工艺PMMA/MMA(进口)E-beam,X-ray&deepUV imaging50-5000nmMicroChem,950K,495K两种分子量,线宽0.1um,与基底粘附性好,适用于电子束光刻,多层T-Gate剥离,晶圆减薄等PMMA(进口)E-beam30-2000nm高分辨率电子束胶,具有35K,120K,350K,495K,950K等多种分子量,适用于各种电子束光刻SU-8GM1010E-beam,X-ray500-700nm可用于做高宽比较大的纳米结构HSQE-beam,X-ray30-950nm高分辨率,耐刻蚀,垂直性好,最常用的电子束负胶Lift-off胶ROL-7133g/h/i-Line2.2-4um负性光刻胶,倒角75~80°,粘附性好,使用普通正胶显影液,适用于制作金属电极或导线LOR/PMGI-SF与g/h/i-Line,DUV,193nm,E-beam光刻胶兼容50nm-6um高分辨率,可用于0.25um Lift-off工艺,粘附性好,良好的耐热稳定性,易去胶,作为双层胶的底层胶使用HTIN160-Line1.2-2um高分辨率负胶,400nm线宽,高对比度、高宽容度、易去胶,应用于负胶光刻、ift-off工艺,制作电极,导线等.NLOFi-Line1.8-12um感光性好,高分辨率,耐高温,适用于lift-off工艺NR系列i-Line或g/h-Line0.5-20umFuturrex,粘附性好,耐高温,适用于MEMS、封装、生物芯片等工艺DUV光刻胶HTKN601系列248nm0.4-1.2um高分辨率负胶,300nm线宽,适用于半导体的光刻工艺和金属剥离工艺RD1000248nm150-300nm分辨率高,130nm线宽,国产深紫外光刻胶,已经在量产单位规模使用正胶HTI751-Line0.8-1.2um国产高分辨率正胶,0.35um线宽,高分辨率、低驻波效应、垂直度好,应用于MEMS、IC工艺RDP-8003(55cp)i-Line,Broadband2.3-3.5um国产正胶,高分辨率,工艺宽容性高,应用于MEMS、IC、LEDSPR955系列-Line0.7-3.5um分辨率高,0.35um线宽,广泛使用的高分辨率正胶S18xx系列g-Line0.4-2.7um高分辨率正胶,0.5um线宽,粘附性好,最常用的薄光刻胶,稳定可靠SPR220系列-Line1-10um粘附性好,耐干法/湿法刻蚀,适用于选择性电镀,深硅刻蚀等工艺负胶SU-8 GM10xx系列g/h/i-Line0.1-200um高深宽比,透明度高,垂直性好,适用干微细加工的机械结构(MEMS)和其他的微型系统SU-8Microchem系列Near UV(350-400nm)推荐i-Line,也可用于E-beam,X-ray0.5-650um高深宽比,垂直性好,耐高温,光学透明,适用于MEMS工艺,钝化层,微流控以及光电子器件HTG910-Line60-140um适用于选择性电镀NR26-25000P-Line20-120um分辨率高,粘附性好,显影时间短,相对容易去胶临时键合胶激光响应LB210+临时键合TB4130激光响应波长308nm,355nm0.2-0.6um/10-40um激光拆键合,适用于器件晶圆减薄、背面工艺及室温无应力分离等工艺TB1202/12361-50um热滑移拆键合,适用于器件晶圆减薄拿持及其背面工艺等键合胶PermiNex 1000i-Line1-32 um光敏负性,工作温度:200℃,与硅和玻璃粘附性很好PermiNex 2000i-Line1-32 um光敏负性工作温度:200℃、与硅和玻璃粘附性很好兼容水性显影液

光刻胶（resist） 概 述 光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC)，封装(Packaging)，微机电系统(MEMS)，光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics)，平板显示器(LED,LCD,OLED)，太阳能光伏(Solar PV)等领域。 德国ALLRESIST公司是从事光刻用电子化学品研发、生产和销售的专业公司，有丰富的经验和悠久的传统。可以为您提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶，电子束光刻胶（抗蚀剂）以及相关工艺中所需要的配套试剂。 北京汇德信科技有限公司作为德国ALLRESIST的国内独家代理经销商，为国内用户提供高品质的光刻胶以及配套服务。 产品类型：1. 紫外光刻胶（Photoresist）各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。 2. 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist）电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物， LIGA用胶等。电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。3. 特殊工艺用胶（Special manufacture/experimental sample）电子束曝光导电层，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。4. 配套试剂（Process chemicals）显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。 产品特点1. 光刻胶种类齐全，可以满足多种工艺要求的用户。 产品种类包含：各种厚度的紫外光刻胶（正胶或负胶），lift-off工艺用胶，LIGA用胶，图形反转胶，化学放大胶，耐刻蚀保护胶，聚酰亚胺胶，全息曝光用胶，电子束光刻胶（包含PMMA胶、电子束负胶、三维曝光用胶（灰度曝光用胶）、混合曝光用胶等） 2. 光刻胶包装规格灵活多样，适合各种规模的生产、科研需求。 包装规格包含：250毫升、1升、2.5升等常规包装，还提供试验用小包装，如30毫升、100毫升等。 3. 交货时间短。 我们每个月20号左右都会向德国厂商下订单，产品将于第二个月中旬到货，您可以根据实际情况，合理安排采购时间。具体的订购情况，请联系我们的销售人员。 4. 可以提供高水准的技术咨询服务，具有为客户开发、定制特殊复杂工艺用光刻产品的能力。 5. 储存条件： 密闭储存在容器中并置于避光、干燥阴凉、通风良好之处。 储存在适当的温度下。详情请联系我们的销售人员。 光刻胶理论光刻胶定义 光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。因为光刻胶的作用就是作为抗刻蚀层保护衬底表面。光刻胶只是一种形象的说法，因为光刻胶从外观上呈现为胶状液体。 光刻胶通常是以薄膜形式均匀覆盖于基材表面。当紫外光或电子束的照射时，光刻胶材料本身的特性会发生改变，经过显影液显影后，曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶将会留在衬底表面，这样就将设计的微纳结构转移到了光刻胶上，而后续的刻蚀、沉积等工艺，就可进一步将此图案转移到光刻胶下面的衬底上，最后再使用除胶剂将光刻胶除去就可以了。 光刻胶按其形成图形的极性可以分为：正性光刻胶和负性光刻胶。正胶指的是聚合物的长链分子因光照而截断成短链分子；负胶指的是聚合物的短链分子因光照而交链长链分子。 短链分子聚合物可以被显影液溶解掉，因此正胶的曝光部分被去掉，而负胶的曝光部分被保留。 光刻胶一般由4部分组成：树脂型聚合物（resin/polymer），溶剂（solvent），光活性物质（photoactive compound，PAC），添加剂（Additive）。 其中，树脂型聚合物是光刻胶的主体，它使光刻胶具有耐刻蚀性能；溶剂使光刻胶处于液体状态，便于涂覆；光活性物质是控制光刻胶对某一特定波长光/电子束/离子束/X射线等感光，并发生相应的化学反应；添加剂是用以改变光刻胶的某些特性，如控制胶的光吸收率/溶解度等。 光刻胶的主要技术参数1. 灵敏度（Sensitivity） 灵敏度是衡量光刻胶曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的曝光剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2．分辨率（resolution） 区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（CD，Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。 光刻胶的分辨率是一个综合指标。影响该指标的因素通常有如下3个方面： （1）曝光系统的分辨率。 （2）光刻胶的对比度、胶厚、相对分子质量等。一般薄胶容易得到高分辨率图形。 （3）前烘、曝光、显影、后烘等工艺都会影响光刻胶的分辨率。3. 对比度（Contrast） 对比度指光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度。 对比度越好，越容易形成侧壁陡直的图形和较高的宽高比。4. 粘滞性/黏度 （Viscosity） 衡量光刻胶流动特性的参数。黏度通常可以使用光刻胶中聚合物的固体含量来控制。同一种光刻胶根据浓度不同可以有不同的黏度，而不同的黏度决定了该胶的不同的涂胶厚度。5. 抗蚀性（Anti-etching） 光刻胶必须保持它的粘附性，在后续的刻蚀工序中保护衬底表面。耐热稳定性、抗刻蚀能力和抗离子轰击能力。6. 工艺宽容度（Process latitude） 光刻胶的的前后烘温度、曝光工艺、显影液浓度、显影时间等都会对最后的光刻胶图形产生影响。每一套工艺都有相应的最佳的工艺条件，当实际工艺条件偏离最佳值时要求光刻胶的性能变化尽量小，即有较大的工艺宽容度。 这样的光刻胶对工艺条件的控制就有一定的宽容性。 特殊光刻胶介绍1. 化学放大光刻胶（CAR，Chemical Amplified Resist） 化学放大胶中含有一种叫做“光酸酵母”（PAG, Photo Acid Generator）的物质。在光刻胶曝光过程中，PAG分解，首先产生少量的光酸。在曝光后与显影前经过适当温度的烘烤，即后烘（PEB, Post Exposure Baking）这些光酸分子又发连锁反应，产生更多的光酸分子。大量的光酸使光刻胶的曝光部分变成可溶（正胶）或不可溶（负胶）。 主要的化学反应是在后烘过程中发生的，只需要较低的曝光能量来产生初始的光酸，因此化学放大胶通常有很高的灵敏度。 光刻胶推荐： AR-N 4340，AR-N 4400，AR-N 7700等。2. 灰度曝光（Grey Scale Lithography） 灰度曝光可以产生曲面的光刻胶剖面，是制作三维浮雕结构的光学曝光技术之一。灰度曝光的关键在于灰度掩膜板的制作、灰度光刻胶工艺与光刻胶浮雕图形向衬底材料的转移。传统掩膜板只有透光区和不透光区，而灰度掩膜板的透光率则是以灰度等级来表示的。实现灰度掩膜板的方法是改变掩膜的透光点密度。 灰度曝光用胶的特点：光刻胶要有较大的黏度。光刻胶要有比较低的对比度。光刻胶的抗刻蚀比尽量和衬底材料的接近。 光刻胶推荐：AR-N 7720 3. LIGA技术 由厚胶曝光形成深结构的目的是进行电铸，使之转化为金属深结构，因为只有金属结构才是为系统器件所需要的功能结构。这种技术又称为LIGA技术。LIGA是德文Lithographie(LI) Galvanoformung(G) Abformung(A)，即“光刻、电镀、注塑复制”的缩写。 光刻胶推荐：AR-P 6510，AR-N 4400， PMMA等 4. lift-off工艺 溶脱剥离法（lift-off）是微纳加工中应用到的最普遍的图形转移技术之一。其基本原理是由光学或电子束曝光首先形成光刻胶的图形，在薄膜沉积之后将光刻胶用除胶剂等溶解清除，凡是没有被光刻胶覆盖的区域都留下了金属薄膜，实现了由光刻胶图形向金属薄膜图形的转移。 光刻胶推荐: AR-P 5350，AR-P 5400，AR-N 4240，AR-N 4340，AR-N 4400等 5. 电镀法（electroplating） 电镀法是转移较厚的金属结构时使用到的一种转移技术。其过程一般为3个步骤：首先，在衬底材料上制作一层金属导电薄膜作为电镀的起始衬底，然后通过光刻或电子束曝光形成光刻胶或抗蚀剂掩膜； 第二步是将制作有光刻胶图形的基片放在电镀液中与被镀金属电极连接成电流通路，金属电极在电解液作用下释放金属离子并在电场驱动下沉积到基片表面暴露的金属层上； 最后，将光刻胶去除，并腐蚀清除衬底表面其余的金属膜，便得到金属微结构图形。 光刻胶推荐： AR-P 3200, AR-N 4400等

北京开源国创科技现货供应Scilogex赛洛捷克FlatSpin超薄磁力搅拌器赛洛捷克FlatSpin超薄磁力搅拌器赛洛捷克FlatSpin超薄磁力搅拌器产品特点：-超薄磁力搅拌器具有体积小巧，防护等级高的特点，适用于低粘度液体或固液混合，主要应用于理化分析、生物制药、材料学等领域-采用最先进的磁力线圈技术，内部无运动部件，无磨损-具有正反转功能，搅拌效果更好-高IP保护等级-盘面和外壳采用耐化学腐蚀材料制成-结构精巧，设计美观，节省空间赛洛捷克FlatSpin超薄磁力搅拌器技术参数：转速rpm15-1500电压V100-240频率Hz50/60最大搅拌量（H2O）L0.8

胶带剥离力试验机 胶带剥离试验机 不干胶剥离性能试验仪（XLW-PC智能电子拉力试验机）适用于塑料薄膜、复合材料、软质包装材料、塑料软管、胶粘剂、胶粘带、不干胶、医用贴剂、离型纸、保护膜、组合盖、金属箔、隔膜、背板材料、无纺布、橡胶、纸张纤维等产品的拉伸、剥离、变形、撕裂、热封、粘合、穿刺力、开启力、低速解卷力、拨开力等性能测试。胶带剥离力试验机 胶带剥离试验机 不干胶剥离性能试验仪技术特征：XLW(PC)是一款专业用于测试各种软包装材料拉伸性能等力学特性的电子拉力试验机；其超高的精度（0.5级）保证了测试的准确性；七种独立试验程序、多种规格力值传感器、以及七档试验速度选择，可以满足用户的各种试验条件；智能的操作软件不仅方便用户操控设备，还提供了多种数据分析和比对等实用功能。 √ 0.5级的测试精度，有效的保证了试验结果的准确性√一台试验机集成拉伸、剥离、撕裂等七种独立的测试程序，为用户提供了多种试验项目选择√ 1000mm的超长行程可以满足超大变形率材料的测试√ 多种规格的力值传感器以及七档试验速度选择，为用户不同试验条件的测试提供了便利√ 微电脑控制、菜单式界面、PVC操作面板、以及大液晶屏显示，方便用户快速操作√ 限位保护、过载保护、自动回位、以及掉电记忆等智能配置，保证用户的操作安全√ 专业的操控软件提供了成组试样统计分析、试验曲线叠加分析、以及历史数据比对等多种实用功能√ 支持LystemTM实验室数据共享系统，统一管理试验结果和试验报告测试原理：将试样装夹在夹具的两个夹头之间，两夹头做相对运动，通过位于动夹头上的力值传感器和机器内置的位移传感器，采集到试验过程中的力值变化和位移变化，从而计算出试样的拉伸、撕裂、变形率等性能指标。执行标准：ISO 37、GB 8808、GB/T 1040.1-2006、GB/T 1040.2-2006、GB/T 1040.3-2006、GB/T 1040.4-2006、GB/T 1040.5-2008、GB/T 4850-2002、GB/T 12914-2008、GB/T 17200、 GB/T 16578.1-2008、 GB/T 7122、 GB/T 2790、GB/T 2791、GB/T 2792、GB/T 17590、ASTM E4、 ASTM D882、 ASTM D1938、ASTM D3330、ASTM F88、 ASTM F904、JIS P8113、QB/T 2358、QB/T 1130胶带剥离力试验机 胶带剥离试验机 不干胶剥离性能试验仪技术指标：规格：500N（标配）；50N、100N、250N（可选）；750N、1000N（可定制）精度：0.5级试验速度：50 100 150 200 250 300 500mm/min试样数量：1件试样宽度：30mm（标配夹具）；50mm（可选夹具）行程：1000 mm外形尺寸：450mm(L)×450mm(W)×1410mm(H)电源：220VAC 50Hz / 120VAC 60Hz净重：68kg仪器配置：标准配置：主机、通用夹具、专业软件、通信电缆选购件：计算机、标准压辊、试验板、取样刀、浮辊式夹具、非标夹具

CA300M设备配置货期：15天 品牌：北斗仪器 名称：大平台自动型接触角测量仪 产地：广东东莞 型号：CA300A自动滴液/M手动滴液-平台大小如5050等 接触角（Contact angle）是指在气、液、固三相交点处c作的气-液界面的切线，此切线在液体一方的与固-液交界线之间的夹角θ，是润湿程度的量度。是现今表面性能检测的主要方法。北斗仪器大平台光学接触角测量仪CA300采用光学成像的原理-图像轮廓分析方式测量样品表面的接触角、润湿性能、表界面张力、前进后退角、表面能等。主要由光源、注射单元、样品台、采集系统、分析软件等组成。北斗仪器大平台光学接触角测量仪CA300采用全自动进液装置，性价比高、拓展性强、功能全面、可满足各种常规测量需求，目前已经广泛使用在众多高校院所及企业。测量方法 固体表面处理评价、等离子清洗效果分析、表面清洁度分析、固液体之间或固体黏驸特性研究、液体配方设计、表面印刷性能的表征、分析表面改性、玻璃（包括塑料或金属等固体）表面润湿性研究等。北斗仪器大平台光学接触角测量仪CA300在手机制造、玻璃制造、表面处理、材料研究、化学化工、半导体制造、涂料油墨、电子电路、纺织纤维、医疗生物等领域，接触角测量已经成为了一项评估表面性能的重要仪器。ASTM D 1173/评价表面活性剂发泡性能的标准测试方法（罗氏泡沫分析法）ASTM 5725 / 用自动接触角测试仪测试片状材料表面润湿性和吸收性的标准方法ASTM 724 / 纸表面润湿性的标准方法（接触角法）ASTM C 813 / 用接触角测量法测试玻璃疏水污物的标准方法ASTM D 971 / 用环法测试油对水的界面张力的标准方法ASTM D 1331 / 表面活性剂溶液表面张力和界面张力的标准测试方法ASTM D 1417 / 测试合成橡胶胶乳的标准方法ASTM D 1590 / 水表面张力的标准测试方法DIN 53914 / 表面活性剂测试 – 测定表面张力DIN 55660 / 色漆和清漆 - 润湿性评价DIN EN 14210 / 表面活性剂 – 用镫法或环法测定表面活性剂溶液的表面张力DIN EN 14370 / 表面活性剂 - 表面张力的测定DIN 14272 / 泡沫化合物德标 - 适用于消防用低膨胀水性成膜泡沫化合物ISO 1409 / 塑料/橡胶-聚合物分散体和橡胶胶乳（天然和合成）-表面张力的环法测定ISO 4311/阴离子和非离子表面活性剂-临界胶束浓度的测定ISO 6295 / 油水界面张力的测定ISO 6889 / 表面活性剂 – 用拉膜法测定界面张力ISO 304 / 表面活性剂 - 用拉膜法测定表面张力Amtsblatt EU L251/37 / 表面张力OECD 115 / 化学品测试准则- 水溶液的表面张力型号CA300大平台光学接触角测量仪 三维平台左右X移动3030：手动：行程300mm,精度0.1mm前后Y移动3030：手动：行程300mm,精度0.1mm上下Z移动3030：手动：行程30mm,精度0.1mm水平调整整机水平调整，摄像头水平调整（配送专业级XY水平仪）样品台尺寸300*300mm（可定制如400*400mm、500*500mm、600*600mm、800*800mm、1000*1000mm）可放置最大样品300（W）*∞(L)*50(H)mm（可定制）样品台材质铝合金进 液系统微量进样器XY移动行程：100mm，精度0.1mm（针头对中及液滴转移）进液控制移动行程：70mm,精度：0.001mm滴液控制模式CA300A自动，精度：0.01ulCA300M手动，精度：0.1ul加液方式自动（配送5ml玻璃烧杯自动一键加液，加满自动停止）手动(手动抽取)微量进样器容量：500ul(实时显示剩余容量)容量：1000ul针头亲水针头0.5mm不锈钢针头（可替换）20个、超疏水针头0.25mm（可替换）20个成像系统镜头Subpixel级别1倍远心轮廓深度定制镜头相机日本SONY原装进口高速工业级芯片(Onsemi行曝光)传感器类型1/1.8 英寸逐行扫描CMOS分辨率1280× 1024镜头控制仰视角度：±10度，精度：1度调焦移动行程：0-10mm，精度1mm。帧率80帧/s（可选配全局曝光高速400帧/s的相机）光源系统组合方式采用石英扩散膜与均光板使得亮度更均匀，液滴轮廓更清晰光源采用进口CCS工业级蓝色冷光源（有效避免因光源散发热量蒸发液滴），使用寿命可达5万小时以上亮度调节PWM数字调节光源波长460-465nm功率10W接 触角测量接触角测量方法悬滴法、座滴法、前进角、后退角、滚动角、薄膜法等测量软件CA V1.2.1静/动态接触角测量软件+表面能测量软件软件操作系统要求windows 10(64位)接触角测量方式自动与手动接触角计算方法（static contact angle） 自动拟合法（ms级别一键全自动拟合，不存在人工误差）、三点拟合、五点拟合、自动测量（包括圆拟合法/斜圆拟合法（Circle method/ Oblique Circle）、椭圆拟合法/斜椭圆拟合法(Ellipse method /Oblique Ellipse)）、凹凸面测量等动态接触角测量（Dynamic contact angle）前进角（Advancing angle），后退角（receding angle），滞后角（hysteresis angle），滚动角（选配）(可批量拟合多张图片或视频连续拟合计算Video analysis)基线拟合自动与手动角度范围0°＜θ＜180°精度0.1°分辨率0.001°表面能表面能测量方法Fowks法，OWRK法，Zisman法，EOS法，Acid-Base Theory法,Wu harmonic mean法,Extended Fowkes法（软件中预装37种液体数据库，可自行建立液体性能参数）数据可直接调入用于表面能估算，液体库数据可自行添加、删除和修改。可分别得到固体表面能、色散力、极性力、氢键力、范德华分量、路易斯酸分量、路易斯碱分量等表面能单位MN/m其他机架型材欧标40*多条输入电源220V 50-60Hz仪器尺寸5050：约1050mm（W）*380mm(L)* 600mm(H)仪器重量约60KG表界面张力测量方法自动拟合+手动拟合精度0.01MN/m测量范围0.1MN/m-2000MN/m润湿性分析粘附功一键自动分析铺展系数一键自动分析粘附张力一键自动分析精度0.001 MN/m单位MN/m配件选配件纸片夹具、温控平台（高温、低温、高低温、湿度）、旋转台（滚动角）、蠕动泵等。设备选配件众所皆知，软件是一台仪器的灵魂所在，组成系统的硬件虽为测量提供了基础，但只有在软件的支持下，才能完美地实现硬件的功能，充分发挥其潜力，使系统的总体功能和性能如虎添翼。本公司研发定制的CA V1.2.1静/动态接触角测量软件+表面能测量软件专用测控软件自2010年开始就面向客户提供使用，经过多年来各行业客户的使用反馈、使用要求、国家标准和国外标准的融合，已经达到一个很成熟稳定的状态。拥有自主知识产权的软件控制系统（行业内极少），在对以后软件升级，新标准更换的时候起到一个很大的优势。本款产品所操控的软件已经获得国家版权局登记证书，仿冒必究。软件主界面图版权声明：广东北斗精密仪器有限公司拥有光学静动态接触角分析测量仪CA V1.2.1软件的所有知识产权，本计算机程序受版本法/著作权法和国际公约保护，未经书面授权擅自传播本程序部分或者全部可能遭受严厉的民事刑事制裁，并将在法律允许的范围内受到最大可能的起诉测试报告1.精细机械：系统的框架选用高质量的进口高强度氧化保护铝型材并烤漆处理，所有的其它主要组件也都是由铝合金，不锈钢和铜合金通过精密制作而成。保证仪器极强的稳定性。2.精密定位：系统所有的线性移动单元，包括三维样品台（xy-轴），(Z-轴)注射器/针头的移动调节，均是由直线铜齿条和精密燕尾槽驱动，确保传动平稳、轻松和精细。3.配置齐全的进样器与针头选择：提供数十种不同规格的进样器供使用者选择，如不同规格（25ul/50ul/100ul/250ul/500ul/1000ul….）,不同材质（气密玻璃进样器/塑料进样器），不同品牌（Hamilton/boli….）以满足不同客户需求。提供各种规格（10-34#）以及不同材质（不锈钢/聚四氟乙烯/pp挠性针头）以及特殊针头（弯曲针头），可用于常规接触角测量，也可用于超疏水、超亲水、高粘度等特殊液体的进样、液滴转移等。4.成像系统：采用了行曝光（Rolling Shutter）高分辨率CMOS图像传感器配合pomeas0.7-4.5远心轮廓镜头。保证最佳的成像效果。同时亮度连续数字可调的高强度背光冷光源为成像提供了均匀的背景照明。优质镜头和高分辨率相机能够以理想的尺寸和亮度在图像中显示出液滴，即使是非常小的液滴。5.领 先 的 软 件 平 台 ：软 件 是 整 个 测 量 系 统 的 灵 魂 和大 脑 。 CA V1.2.1软件 为用户 提 供 了 范 围 广 泛 的功 能 和 特 性 ，而 且 其 中 的 许 多 项目 在 这 一 领 域 均是 出类拔萃 。作 为 一 光 学 方 法 ，测 量 的 精 度 取 决于 成 像 的 质 量 和 后 着 的 处 理 、 分析 和 计 算 方 法 。 其 中 采 用 的 亚 像 素 （ sub-pixel） 液 滴 坐标 检 测 ，自 动 液 /固 /流 -三 相 接 触 线 识 别 ， 液 滴 全 轮 廓 分析 ，和 基 于 连 续 信 息 反 馈 的 液 滴 监 视 功能 等构成了 软 件 的 核 心 组 件 ， 而且 这 一 切 又 都 能 实 时 完成。具备双边接触角自动测量快速拟合功能，分析液体与固体的表面润湿性能、更准确的分析表面的实际润湿情况。6.软件自动生成报告，其中涵盖word、excel、PDF图文、谱图等多种数据报告。7.基线自动倾斜功能，可修正由于样品倾斜或机台倾斜时的差异。8.分级管理系统，权限管理。分实验员与管理员。避免人为数据的改动影响测试结果。9.具备双边接触角测量快速拟合功能，更全面量分析液体与固体的表面润湿性能、更准确的分析表面的实际润湿情况；10.动态拍摄、视频快速测试数据，可以连续性记录测试接触角的变化，再由软件自动批量拟合；11.具备历史数据库功能，记录每一次的测试结果，可追溯历史测试结果。1.usb2.0数字CCD摄像头 1个 2.手动加样系统 1套 3.表界面分析测量系统应用软件 1套4.说明书纸质一份及说明书电子版 1份5.保修卡及合格证1份6.亲水进样针20个 7.500ul进样器1个8.数据线1条9.XY专用水平仪1个 配置清单CA300A设备配置物料名称数量规格描述主机框架1高强度进口欧标航空铝合金结构搭配模块化设计相机1USB2.0接口， SONY 1/1.8" MT9M001 Rolling shutter CMOS，分辨率H1280×V1024，帧率80fps镜头1对焦距离90mm，0.7×时视场13.71～18.28mm，4.5×时视场2.13～2.84mm光源1日本CCS工业级深度定制单波长LED轮廓冷光源，120个密集光源点，配合美国进口柔光板与均光板，亮度连续可调，24V安全电压支撑脚1铝合金+减震胶垫结构，配合减震系统，可调节机台水平与防震效果俯仰调整滑台1螺杆控制，调整范围±1°滴液驱动模块1电机驱动，超细牙丝杆转动，移动行程60mm， 导程0.5mm，重复定位精度±0.1μl滴液升降模块1旋钮驱动，丝杆转动，XY移动行程50mm，重复定位精度±1mm样品台升降滑台1齿轮齿条控制，移动行程40mm，分辨率0.1mm 样品台平移滑台1齿轮齿条控制，移动行程X300×Y300mm，分辨率0.1mm固定件和连接件1AL6061铝合金数控加工而成，表面烤漆处理控制器1微机控制系统，发送指令控制滴液系统电气控制单元1集成了包括电路、电位器、开关、电源等测量软件1包括接触角测量、表面张力测量、表面能估算和润湿性分析微量进样器1500uL，分辨率0.001ul耗材1亲水进样针，疏水进样针,500ul进样器电脑（选配）1如下配置CA300M设备配置物料名称数量规格描述主机框架1 高强度进口欧标航空铝合金结构搭配模块化设计相机1USB2.0接口， SONY 1/1.8" MT9M001 Rolling shutter CMOS，分辨率H1280×V1024，帧率80fps镜头1对焦距离90mm，0.7×时视场13.71～18.28mm，4.5×时视场2.13～2.84mm光源1日本CCS工业级深度定制单波长LED轮廓冷光源，120个密集光源点，配合美国进口柔光板与均光板，亮度连续可调，24V安全电压支撑脚1铝合金+减震胶垫结构，配合减震系统，可调节机台水平与防震效果俯仰调整滑台1微量进样器21000uL耗材1亲水进样针，疏水进样针,1000ul进样器电脑（选配）

产品名称：胶带不干胶剥离试验机电子剥离试验机应用行业： 纸张、薄膜、塑料橡胶 塑料颗粒 防水卷材、防水涂料、高分子防水材料、塑料薄膜、复合材料、软质包装材料、塑料软管、胶粘剂、胶粘带、不干胶、医用贴剂、保护膜、离型纸、组合盖、金属箔、隔膜、背板材料、无纺布、编织袋、、电线电缆、网绳等类产品 检测项目：剥离强度、剥离力、拉力、弯曲抗折、拉伸强度 、断裂伸长率、、撕裂力、热合强度，粘合、穿刺力、开启力、低速解卷力、拨开力等项目 符合标准： YBB00112003-2015国家药品包装容器（材料）方法标准-拉伸性能测定法 GB/T16578.1--008塑料薄膜和薄片第1部分:裤形撕裂法耐撕裂性能的测定 GB/T1040-2006 塑料拉伸试验方法 GB/T–13022-1991 塑料 薄膜拉伸性能试验方法 YBB00132002《药品包装用复合膜袋通则》 GB 8808-1988 软质复合塑料材料剥离试验方法 YY/T0148-2006 医用胶带 通用要求 GB 8808、GB 13022、GB 1040、GB 4850、GB 7753、GB 7754、GB 453、GB/T 17200、GB/T 16578、GB/T 7122、GB/T 2790、GB/T 2791、GB/T 2792、ASTM E4、ASTM D828、ASTM D882、ASTM D1938、ASTM D3330、ASTM F88、ASTM F904、ISO 37、JIS P8113、QB/T 2358、QB/T 1130 一、主要用途： 该系列拉力试验机适用于薄膜、纸张、塑料、橡胶、复合材料、胶带、药包材、塑料片材、纸张、铝箔、锡箔、铜箔、金属等材料的拉伸强度、伸长率、撕裂，剥离、热封强度等试验，具有试验力数字显示，试验速度连续可调,试样拉断自动停机，峰值保持等功能。二、功能特点：1、采用高精度、全数字调速系统及精密减速机，驱动精密丝杠副进行试验，实现试验速度的大范围调节，试验过程噪音低、运行平稳。2、万向节采用十字插销结构，而且具有摆角限制功能，一方面便于试样夹持，保证试验同心度，另一方面很好的消除了不规则试样对传感器的影响。3、触摸键操作方式，液晶显示器实时显示。显示界面可显示试验方法选择界面、试验参数选择界面、试验操作及结果显示界面和曲线显示界面，方便快捷。4、可实现试样装夹时横梁快慢升降调整，具有过流、过压、过载等保护装置。。5、选配微机控制型（加装微机控制软件），可外接微机实现试验过程的控制及数据的存储、打印。三、技术指标：1、 机 型： 单臂（液晶显示）2、 最大试验力： 100N 200N 500N 1000N 2000N 5000N（可选）3、 操 作 方式： 全中文菜单操作4、 测 量 范 围： 最大试验力的0.5%—100%5、 精 度 级 别： 1级6、 试验力准确度： 优于示值的±1%7、 试 验 力： 最小分辨力0. 001N8、 位 移 测 量： 分辨率为0.01mm9、 变形准确度： 优于±1%10、液晶显示内容： 试验力、位移、峰值、运行状态、运行速度等11、无 级 调 速： 采用数字直流电机及控制系统12、试验空间调整机构：数字电机，同步带传动13、调 速 范 围： 1mm/min~~1000 mm/min14、试 验 行 程： 600mm（可根据客户需求定制1000mm）15、拉 伸 空 间： 600mm（可根据客户需求定制1000mm）16、压 缩 空 间： 600mm（可根据客户需求定制1000mm）17、主 机 尺 寸： 540*280*1450mm18、外 观： 符合国家GB/T2611标准19、成 套 性： 符合标准要求20、试验保护功能： 过载保护21、安全保护装置： 限位开关22、供 电 电 源： 200V 50Hz23、重 量： 约120Kg24、工 作 环 境： 室温～45℃，湿度20%～80%四、主要功能及特点：1、调速系统：采用伺服电机和减速机，性能稳定可靠，具有过流、过压、过载等保护装置。调速范围可达1～100mm/min。2、传动机构：传动部分采用圆弧同步齿形带，精密丝杠副传动，传动平稳，噪音低，传动效率高。3、附具连接：万向节采用十字插销结构，而且具有摆角限制功能，一方面便于试样夹持，保证试验同心度，另一方面很好的消除了不规则试样对传感器的影响。4、操作系统：触摸健操作方式，液晶显示器实时显示，全中文操作，克服了老式数码管显示容易发生故障的难题，并且美观大方、方便快捷。5、自动标定：系统可自动实现示值准确度的标定.6、自动显示：在整个试验过程中，液晶实时显示试验力、位移、峰值、运行状态、运行速度等。7、自动控制：试验参数输入完毕，可自动完成试验过程。8、试样判断：试样断裂后，移动横梁自动停止移动。9、限位保护：具有机械和程控两级限位保护功能。10、特殊附具：除配有标准拉伸或压缩附具外，也可根据用户需要配备特殊附具。五、系统基本配置：1、试验机主机(单臂) 1台2、电机 1个3、减速系统 1套4、负荷传感器 1只5、精密丝杠副 1套6、限位开关 1套7、液晶操作显示器 1个8、拉伸夹具 1套9、电源连接线 1套10、技术资料：包括：使用说明书 合格证、装箱单

三为科学光刻胶专用高压计量泵是采用凸轮传动的高压柱塞泵，输液液体粘度可以达到1000厘泊（cP），高精度无脉冲连续供胶，可以用于涂胶显影机中输送光刻胶，sanotac光刻胶高压计量泵还具有：在线流量和压力变化曲线、客户端流量校正，按体积输送功能和按重量输送功能，Modbus协议，232/485，PLC模拟量输入：0—5V , 4—20 mA；流量精度高、压力脉冲低，重复性好，质量优异。技术特点：1， 压力保护设定：可设置压力上限和压力下限；2， 压力脉冲低 ， 采用凸轮曲线补偿和流量脉冲电子抑制技术；3， 流速单位切换：按体积输送ml/min和按质量输送g/min；4， 流量校准：提供用户参数区用于校准泵的流速，满足不同系统工况需求；5， 流量控制程序： 提供两种运行程序，恒流运行和梯度运行；6， 压力曲线显示：各设备分别显示当前压力曲线，直观判断设备运行状况；7， 流量曲线显示：各设备分别显示当前运行的流量曲线；8， 支持RS-232，RS-485，RS-422；Modbus RTU和 ASCII协议；9， 一对多控制，单泵操作和多元梯度操作自由选择，可扩展1对32操作；10， 运行数据保存：开启或停止数据记录，将压力曲线和流量曲线保存至Excel格式文件中。11， 设置方法保存：保存运行参数设置，如串口端口参数，压力保护值，流量控制程序等。12， 可以实现流体入口天平减重系统的闭环控制（根据客户天平规格定制）。 高粘度高压柱塞泵产品参数：序号产品型号VP-0106VP-0506VP-10061泵头材质不锈钢泵头2输液方式双柱塞并联模式，浮动柱塞设计3流量范围0.01-10.00/min0.01-50.00/min0.01-100.00/min4输送粘度范围0-1000cP0-100cP0-100cP5增量0.01ml/min6流量准确度± 0.5%7流量重复性≤ 0.1%8压力范围≤ 6Mpa9压力脉动≤ 0.05Mpa10流路材料316L不锈钢、PTFE、红宝石、陶瓷11流量校正功能用户端 0.01--100.00ml范围内多参数流量校正功能12通信功能RS232，RS485/422(选配)； Modbus RTU和 ASCII协议13上位机软件 SanoFlu流体控制管理系统14电源220±10%VAC,50Hz15尺寸360×260×160 mm3

胶带剥离试验机_胶带剥离力测试仪BLD-B电子剥离试验机适用于胶黏剂、胶粘带、不干胶、复合膜、人造革、编织袋、薄膜、纸张、电子载带等相关产品的剥离、剪切、拉断等性能测试。材料的玻璃性能试验中反应材料的粘结强度，是控制胶粘制品不开胶、不脱落的高性价比剥离强度试验机产品特点：◎ 微电脑控制，菜单式界面，PVC操作面板，人性化设计，方便用户操作使用。◎ 精密丝杠传动系统，有效提高位移的准确性，可以实现无级调速功能。◎ 智能运算系统可同时具备Z大值、平均值、实时值三大数据测试功能。◎ 具有参数设置、打印、查看、清除、标定等多项功能。◎ 系统自带过载保护、紧急断电保护，人为操作零故障。◎ 配备微型静音打印机，可打印输出试验数据。胶带剥离试验机_胶带剥离力测试仪测试原理：BLD-B电子剥离试验机采用卧式结构，精密丝杠传动系统拖动负载夹头，有效提高了位移精度。整机由拖动电机、主机壳、微电脑控制器，微型打印机等组成。技术参数：规 格：100N （可选配5N 30N 50N）精 度：1级 试验速度：50 100 150 200 250 300 500mm/min 试验宽度：30 mm（标配夹具） 50mm （可选夹具）行 程：400mm 主机外形尺寸：750mm(L)×300mm(B)×210mm(H) 电 源：AC 220V 50Hz 主机净重：40kg 标准配置：主机、通用夹具、专业软件、标准压辊、试验板选 购 件：取样刀、浮辊式夹具、低速解卷装置、非标夹具测试标准该仪器符合多项国家和国标标准：GB/T4850、GB/T8808、GB/T7754、GB/T13022、GB/T7753、GB/T17200、GB/T2790、GB/T2791、GB/T2792、QB/T2358 售后服务承诺三月内只换不修，一年质保，终身提供。快速处理，1小时内响应问题，1个工作日出解决方案。 体系荣誉资质ISO9001：2008质量体系认证、计量合格确认证书、CE认证、软件著作权、产品实用新型、外观设计。实力铸造品牌三大研发中心，两条独立生产线，一个综合体验式实验室。赛成自2007年创立至今，全球用户累计成交产品破万台，完善四大产品体系，50多种产品。

产品名称：不干胶剥离试验机应用行业： 纸张、薄膜、塑料橡胶 塑料颗粒 防水卷材、防水涂料、高分子防水材料、塑料薄膜、复合材料、软质包装材料、塑料软管、胶粘剂、胶粘带、不干胶、医用贴剂、保护膜、离型纸、组合盖、金属箔、隔膜、背板材料、无纺布、编织袋、、电线电缆、网绳等类产品 检测项目：剥离强度、剥离力、拉力、弯曲抗折、拉伸强度 、断裂伸长率、、撕裂力、热合强度，粘合、穿刺力、开启力、低速解卷力、拨开力等项目 符合标准： YBB00112003-2015国家药品包装容器（材料）方法标准-拉伸性能测定法 GB/T16578.1--008塑料薄膜和薄片第1部分:裤形撕裂法耐撕裂性能的测定 GB/T1040-2006 塑料拉伸试验方法 GB/T–13022-1991 塑料 薄膜拉伸性能试验方法 YBB00132002《药品包装用复合膜袋通则》 GB 8808-1988 软质复合塑料材料剥离试验方法 YY/T0148-2006 医用胶带 通用要求 GB 8808、GB 13022、GB 1040、GB 4850、GB 7753、GB 7754、GB 453、GB/T 17200、GB/T 16578、GB/T 7122、GB/T 2790、GB/T 2791、GB/T 2792、ASTM E4、ASTM D828、ASTM D882、ASTM D1938、ASTM D3330、ASTM F88、ASTM F904、ISO 37、JIS P8113、QB/T 2358、QB/T 1130 一、主要用途： 该系列拉力试验机适用于薄膜、纸张、塑料、橡胶、复合材料、胶带、药包材、塑料片材、纸张、铝箔、锡箔、铜箔、金属等材料的拉伸强度、伸长率、撕裂，剥离、热封强度等试验，具有试验力数字显示，试验速度连续可调,试样拉断自动停机，峰值保持等功能。二、功能特点：1、采用高精度、全数字调速系统及精密减速机，驱动精密丝杠副进行试验，实现试验速度的大范围调节，试验过程噪音低、运行平稳。2、万向节采用十字插销结构，而且具有摆角限制功能，一方面便于试样夹持，保证试验同心度，另一方面很好的消除了不规则试样对传感器的影响。3、触摸键操作方式，液晶显示器实时显示。显示界面可显示试验方法选择界面、试验参数选择界面、试验操作及结果显示界面和曲线显示界面，方便快捷。4、可实现试样装夹时横梁快慢升降调整，具有过流、过压、过载等保护装置。。5、选配微机控制型（加装微机控制软件），可外接微机实现试验过程的控制及数据的存储、打印。三、技术指标：1、 机 型： 单臂（液晶显示）2、 最大试验力： 100N 200N 500N 1000N 2000N 5000N（可选）3、 操 作 方式： 全中文菜单操作4、 测 量 范 围： 最大试验力的0.5%—100%5、 精 度 级 别： 1级6、 试验力准确度： 优于示值的±1%7、 试 验 力： 最小分辨力0. 001N8、 位 移 测 量： 分辨率为0.01mm9、 变形准确度： 优于±1%10、液晶显示内容： 试验力、位移、峰值、运行状态、运行速度等11、无 级 调 速： 采用数字直流电机及控制系统12、试验空间调整机构：数字电机，同步带传动13、调 速 范 围： 1mm/min~~1000 mm/min14、试 验 行 程： 600mm（可根据客户需求定制1000mm）15、拉 伸 空 间： 600mm（可根据客户需求定制1000mm）16、压 缩 空 间： 600mm（可根据客户需求定制1000mm）17、主 机 尺 寸： 540*280*1450mm18、外 观： 符合国家GB/T2611标准19、成 套 性： 符合标准要求20、试验保护功能： 过载保护21、安全保护装置： 限位开关22、供 电 电 源： 200V 50Hz23、重 量： 约120Kg24、工 作 环 境： 室温～45℃，湿度20%～80%四、主要功能及特点：1、调速系统：采用伺服电机和减速机，性能稳定可靠，具有过流、过压、过载等保护装置。调速范围可达1～100mm/min。2、传动机构：传动部分采用圆弧同步齿形带，精密丝杠副传动，传动平稳，噪音低，传动效率高。3、附具连接：万向节采用十字插销结构，而且具有摆角限制功能，一方面便于试样夹持，保证试验同心度，另一方面很好的消除了不规则试样对传感器的影响。4、操作系统：触摸健操作方式，液晶显示器实时显示，全中文操作，克服了老式数码管显示容易发生故障的难题，并且美观大方、方便快捷。5、自动标定：系统可自动实现示值准确度的标定.6、自动显示：在整个试验过程中，液晶实时显示试验力、位移、峰值、运行状态、运行速度等。7、自动控制：试验参数输入完毕，可自动完成试验过程。8、试样判断：试样断裂后，移动横梁自动停止移动。9、限位保护：具有机械和程控两级限位保护功能。10、特殊附具：除配有标准拉伸或压缩附具外，也可根据用户需要配备特殊附具。五、系统基本配置：1、试验机主机(单臂) 1台2、电机 1个3、减速系统 1套4、负荷传感器 1只5、精密丝杠副 1套6、限位开关 1套7、液晶操作显示器 1个8、拉伸夹具 1套9、电源连接线 1套10、技术资料：包括：使用说明书 合格证、装箱单

DJ MicroLaminates成立于二零零九年，以销售电子光刻胶材料技术，并提供产品开发，工艺开发服务和市场开发活动。由DJ MicroLaminates开发的产品有针对性的技术，以满足先进的MEMS制造和晶圆级封装的需求。DJ MicroLaminates目前开发的光刻胶干膜(TDFS)，是层压板预切晶圆或基板尺寸。SUEX TDFS是感光厚环氧树脂片，应用于晶圆级封装和MEMS。该片材由两个被剥离的聚酯薄膜保护层（PET）中间包含的阳离子固化改性环氧树脂的光阻构成。环氧树脂的光阻中含有无锑的光酸生成剂，并在一个严格控制的无溶剂的过程中制备，它能提供均已的涂层。该方法应用于负性光阻的开发，该种光阻对在350-400nm的范围内的紫外线辐射敏感。 DJ MicroLaminates提供的产品是SUEX, SUEX Plus,以及ADEX系列的环氧树脂负性光刻胶干膜，厚度范围在5微米至超过1mm内。干膜很容易层压在基板表面，并可在几分钟内预备使用。SUEX适合并且与以下物质有良好的粘合性：硅，氮化硅，铜，金，玻璃，聚合物和其它金属和氧化物。标准厚度：100um，150um，200um，250um，350um，500um，650um，750um和1mm 一般储存温度：使用之前，应在21℃至25℃温度中存放15-18小时，这样为最佳效果，并易于加工。 SUEX/SUEX Plus/ADEX干膜光刻胶1）总处理时间：小于5分钟2）卓越的厚度均匀性，边缘无光3）高热稳定性-高韧性4）无锑化学环境，无材料浪费 选择干膜的优势1）无需昂贵的匀胶和烘胶设备2）对Fab环境要求较低3）整片晶圆上厚度均匀4）无需去边工艺5）100%平坦化（真空压膜）6）胶膜内部成份分布均匀7）适合UV和X射线曝光8）高透过率9）生产过程中减少了溶剂使用10）绿色环保

博科BKX-G100A核酸气溶胶清除器核酸气溶胶清除器产品优势1、可以控制核酸清除剂以微纳米级液珠的形式喷出， 减少凝结液体，确保对比较复杂并且难到达的地方的渗透和降解效果。2、7寸全彩触摸屏，操作简易明了，用户体验舒适度高。3、无腐蚀性，无毒性，应用范圈广，完美替代传统人工喷淋降解的方式。4、使用灵活操作简单，体积小便于移动，适合各种对微生物限度有要求的单位使用。5、具有自动计算功能，只需输入所需清除污染的房间大小，即可自动计算所需清除剂的用量。6、具有定时预约功能，该产品可提前预约时间，定时约好后，设备可自动开始消毒。7、配有遥控器，可以远程遥控启动。型号BKX-G100A电流5A电压AC220V功率1100W净重55KG尺寸580mm×580mm×820mm装液量4L适用空间100m3

microchem 光刻胶SU-8 2000系列永久性环氧负性光刻胶:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075 SU-8 2000 特性 &bull 高纵横比成像&bull 0.5 200 ?m 膜 厚度 在 一 个 外套&bull 改善涂层性能&bull 加快干燥速度，提高产量&bull 近UV (350-400 nm)加工&bull 胎侧垂直 处理指南 SU-8 2000光刻胶最常用的是传统的UV (350-400 nm)辐射，尽管i-line (365 nm)是推荐的波长。SU-8 2000也可以用电子束或x射线照射。在曝光后，交联过程分为两个步骤(1)在曝光过程中形成强酸，接着是(2)在曝光后烘烤(PEB)过程中酸催化、热驱动环氧交联。正常的工艺是:旋涂、软烤、曝光、PEB，然后显影。当SU-8 2000结构仍将作为设备的一部分时，建议使用受控硬烘焙技术进一步交叉连接这些结构。整个过程应针对具体应用进行优化. COAT SU-8 2000有12种标准粘度。本加工指南文件涉及四种产品:SU-8 2025、SU-8 2035、SU-8 2050和SU-8 2075。图1所示。提供所需的信息，以选择合适的SU- 8 2000抗蚀剂和旋转条件，以达到所需的薄膜厚度。衬底制备 为了获得最大的工艺可靠性，在使用SU-8 2000抗蚀剂之前，基板应保持清洁和干燥。为了达到最佳效果，底物应该用食人鱼湿蚀刻(使用H2SO4和H2O2)清洗，然后用去离子水冲洗。基片也可以用反应离子蚀刻法清洗(RIE)或任何装有氧气的桶式装置。通常不需要附着力促进剂。对于包括电镀在内的应用，推荐使用MCC引物80/20 (HMDS)对基体进行预处理。 推荐项目1)。为每英寸(25mm)的衬底直径分配1ml的抗蚀剂。2)。以每分钟500转的速度旋转5-10秒，加速度为每秒钟100转。3)。以每分钟2000转的速度旋转30秒，加速度为每秒钟300转。边缘去除(EBR) 在自旋涂覆过程中，光刻胶可能在基板边缘形成。为了最大限度地减少热板的污染，应该去除这个厚珠。这可以通过在晶圆片顶部或底部边缘使用少量溶剂(MicroChem的EBR PG)来实现。大多数自动旋转涂布机现在都有这个功能，可以通过编程自动完成。通过移除任何边缘珠，掩模可以与晶圆片紧密接触，从而提高分辨率和长宽比。 软烤 建议在软烘烤过程中使用具有良好热控制和均匀性的水平热板。不建议使用对流烤箱。在对流烤箱烘烤过程中，抗蚀剂上可能会形成一层表皮。这种皮肤可以抑制溶剂的进化，导致薄膜不完全干燥和/或延长烘烤时间。表2。显示各种SU-8 2000产品在选定薄膜厚度下的推荐软烘焙温度和时间。注意:v要优化烘烤时间/条件，请在规定时间后将晶圆片从热板中取出，并将其冷却到室温。然后，将晶圆片返回到热板。如果薄膜“起皱”，将晶圆片放在热板上几分钟。重复冷却和加热循环，直到“皱纹”不再出现在影片中。光学参数色散曲线和柯西系数如图3所示。这一信息对于基于椭圆度和其他光学测量的薄膜厚度测量是有用的。曝光 为了在SU-8 2000抗蚀剂中获得垂直侧壁，我们建议使用长通滤波器来消除350NM以下的紫外线辐射。欧米茄光学公司()或旭硝子科技玻璃公司(AsahiTechnoglass)推荐的V-42型和UV-D35型滤镜()的推荐滤镜(PL- 360-LP)需要增加约40%的曝光时间才能达到最佳的曝光剂量。 注:在最佳曝光条件下，将显影潜影置于PEB热板上后5-15秒内，而不是之前。应进行接触矩阵实验，以确定最佳剂量。 曝光后烘烤(PEB) PEB应在暴露后直接进行。表5所示。显示推荐的时间和温度。 注:在95°C条件下，经PEB处理1分钟后，SU-8 2000光刻胶涂层应能看到掩膜的图像。如果在PEB期间或之后没有看到可见的潜影，这意味着没有足够的曝光、加热或两者兼备。发展 SU-8 2000型光刻胶已与MicroChem公司的SU-8显影剂一起被设计用于浸没、喷雾或水坑工艺。其他溶剂型显影剂，如乳酸乙酯和二丙酮醇也可以使用。当发展高展弦比和/或厚膜结构时，强烈搅拌是推荐的。表6给出了浸入式工艺的推荐开发时间。这些发展时间是近似的，因为实际溶解速率可能随搅拌作用而变化很大注:使用超声波或megasonic浴可能有助于开发通过或孔的模式或结构与紧密节距。 清洗和干燥 使用SU-8显影剂时，喷洗显影剂图4。光学透过率图像用新鲜溶液冲洗约10秒，然后用异丙醇(IPA)再喷/洗10秒。空气干燥与过滤，加压空气或氮气。注: IPA冲洗过程中产生的白色薄膜表明未曝光的光刻胶发育不良。只需简单地用额外的SU-8显影剂浸没或喷洒基板即可除去白色薄膜并完成显影过程。重复清洗步骤。使用超声波或megasonic浴将激活溶剂，并允许更有效地开发未暴露的抗蚀剂。

医用胶带剥离强度测试仪 水凝胶贴剂剥离力试验机仪器名称：DBL-01电子拉力试验机制造商：山东泉科瑞达仪器设备有限公司仪器品牌：泉科瑞达医用胶带剥离强度测试仪 水凝胶贴剂剥离力试验机是一种专门用于测试医用胶带剥离强度的设备，它能够准确测量胶带的初始粘度力值大小，确保数据准确可靠。这种测试仪通常符合FINAT和ASTM等国际标准，广泛应用于研究中心、胶粘制品企业、质检中心等单位。医用胶带剥离强度测试仪 水凝胶贴剂剥离力试验机产品特点高精度传感器和伺服电机，确保测试数据的准确性和可靠性。友好的用户界面和强大的数据处理软件，方便操作和数据分析。可选的恒速剥离、恒载剥离和分层剥离功能，满足不同测试需求。可选的恒温腔或环境箱，满足不同温度环境下的测试要求。符合国际标准，如 ASTM D3330、ISO 527、GB/T 24124 等。医用胶带剥离强度测试仪 水凝胶贴剂剥离力试验机试验原理医用胶带剥离强度测试仪基于剥离试验原理，测量将胶带从特定表面剥离所需的力。测试过程如下：将胶带样品粘贴在测试板上。将测试板安装在试验机的下夹头上。将一个干净的试棒（剥离头）安装在试验机的上夹头上。设定测试参数，如剥离速度、剥离角度和剥离距离。启动试验机，试棒将以设定的速度和角度将胶带从测试板上剥离。试验机将记录剥离力-位移曲线。执行标准医用胶带剥离强度测试仪 水凝胶贴剂剥离力试验机符合以下标准：ASTM D3330 标准测试方法：压力敏感胶带的剥离粘合强度ISO 527 纸和纸板 - 剥离强度 - 剥离试验方法GB/T 24124 塑料薄膜及复合膜的撕裂强度试验方法YY/T 0299 医用胶粘剂带此外，该仪器还可以根据客户的特定要求定制，满足不同的测试标准和应用需求。

PMT-2高粘光刻胶液体颗粒计数器，采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和分析，目前是英国普洛帝分析测试集团向水质领域及微纳米检测领域的重要产品。 高粘光刻胶液体颗粒计数器产品优势：应用：创新性、多用途、多模块条件；技术：第八代双激光窄光检测技术应用；软件：分析测试和校准计量相分离消除干扰；输出：IPAD数据采集技术使用；在线优势：清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线颗粒监测和分析，都是PMT-2微纳米监测仪的经典应用场所，并为生产线上的重要组成部分。在线、实时、连续取样、报警提示，能够即时掌握颗粒污染诊断和趋势。离线优势：移动测量和固定测量颗粒大小及多少双模式，解决连续跟踪监测的生产过程难题，无论您是即时测量还是清洁跟踪监测，都会为您提供完善的测试方案，让您的测试更加快捷。应用范围：可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片、手机零部件、纯水机、纳米过滤、微米过滤等领域进行固体颗粒污染度检测，及对有机液体、聚合物溶液进行不溶性微粒的检测。技术参数：订制要求：各类液体检测要求；传感器：第八代双激光窄光检测器；测试软件：V8.3分析测试软件集成版&PC版；测试标定：JJG1061或乳胶球或ISO21501；操作方式：彩色液晶触摸屏操作&无线键鼠组合；检测范围：0.1-0.5um；特殊检测：自定义1~100μm或者4~70µ m（c）微粒，0.1μm或者0.1µ m（c）任意检测；取样方式：精准计量泵；进样精度：±1%精确度：±3%典型值；重合精度：1000粒/mL（2.5%重合误差）；模拟输出：4mA～20mA接口；并带超标报警功能（可定制）； 报告方法：颗粒数/ml及污染度等级；输入电压：100V～265V,50Hz～60Hz；售后服务：普洛帝服务中心/中特计量检测研究院。

PMT-2低粘光刻胶液体颗粒计数器，采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和分析，目前是英国普洛帝分析测试集团向水质领域及微纳米检测领域的重要产品。 低粘光刻胶液体颗粒计数器产品优势：应用：创新性、多用途、多模块条件；技术：第八代双激光窄光检测技术应用；软件：分析测试和校准计量相分离消除干扰；输出：IPAD数据采集技术使用；在线优势：清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线颗粒监测和分析，都是PMT-2微纳米监测仪的经典应用场所，并为生产线上的重要组成部分。在线、实时、连续取样、报警提示，能够即时掌握颗粒污染诊断和趋势。离线优势：移动测量和固定测量颗粒大小及多少双模式，解决连续跟踪监测的生产过程难题，无论您是即时测量还是清洁跟踪监测，都会为您提供完善的测试方案，让您的测试更加快捷。应用范围：可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片、手机零部件、纯水机、纳米过滤、微米过滤等领域进行固体颗粒污染度检测，及对有机液体、聚合物溶液进行不溶性微粒的检测。技术参数：订制要求：各类液体检测要求；传感器：第八代双激光窄光检测器；测试软件：V8.3分析测试软件集成版&PC版；测试标定：JJG1061或乳胶球或ISO21501；操作方式：彩色液晶触摸屏操作&无线键鼠组合；检测范围：0.1-0.5um；特殊检测：自定义1~100μm或者4~70µ m（c）微粒，0.1μm或者0.1µ m（c）任意检测；取样方式：精准计量泵；进样精度：±1%精确度：±3%典型值；重合精度：1000粒/mL（2.5%重合误差）；模拟输出：4mA～20mA接口；并带超标报警功能（可定制）； 报告方法：颗粒数/ml及污染度等级；输入电压：100V～265V,50Hz～60Hz；售后服务：普洛帝服务中心/中特计量检测研究院。

PMT-2在线光刻胶液体颗粒计数器，采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和分析，目前是英国普洛帝分析测试集团向水质领域及微纳米检测领域的重要产品。 在线光刻胶液体颗粒计数器产品优势：应用：创新性、多用途、多模块条件；技术：第八代双激光窄光检测技术应用；软件：分析测试和校准计量相分离消除干扰；输出：IPAD数据采集技术使用；在线优势：清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线颗粒监测和分析，都是PMT-2微纳米监测仪的经典应用场所，并为生产线上的重要组成部分。在线、实时、连续取样、报警提示，能够即时掌握颗粒污染诊断和趋势。离线优势：移动测量和固定测量颗粒大小及多少双模式，解决连续跟踪监测的生产过程难题，无论您是即时测量还是清洁跟踪监测，都会为您提供完善的测试方案，让您的测试更加快捷。应用范围：可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片、手机零部件、纯水机、纳米过滤、微米过滤等领域进行固体颗粒污染度检测，及对有机液体、聚合物溶液进行不溶性微粒的检测。技术参数：订制要求：各类液体检测要求；传感器：第八代双激光窄光检测器；测试软件：V8.3分析测试软件集成版&PC版；测试标定：JJG1061或乳胶球或ISO21501；操作方式：彩色液晶触摸屏操作&无线键鼠组合；检测范围：0.1-0.5um；特殊检测：自定义1~100μm或者4~70µ m（c）微粒，0.1μm或者0.1µ m（c）任意检测；取样方式：精准计量泵；进样精度：±1%精确度：±3%典型值；重合精度：1000粒/mL（2.5%重合误差）；模拟输出：4mA～20mA接口；并带超标报警功能（可定制）； 报告方法：颗粒数/ml及污染度等级；输入电压：100V～265V,50Hz～60Hz；售后服务：普洛帝服务中心/中特计量检测研究院。

PMT-2离线光刻胶液体颗粒计数器，采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和分析，目前是英国普洛帝分析测试集团向水质领域及微纳米检测领域的重要产品。 离线光刻胶液体颗粒计数器产品优势：应用：创新性、多用途、多模块条件；技术：第八代双激光窄光检测技术应用；软件：分析测试和校准计量相分离消除干扰；输出：IPAD数据采集技术使用；在线优势：清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线颗粒监测和分析，都是PMT-2微纳米监测仪的经典应用场所，并为生产线上的重要组成部分。在线、实时、连续取样、报警提示，能够即时掌握颗粒污染诊断和趋势。离线优势：移动测量和固定测量颗粒大小及多少双模式，解决连续跟踪监测的生产过程难题，无论您是即时测量还是清洁跟踪监测，都会为您提供完善的测试方案，让您的测试更加快捷。应用范围：可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片、手机零部件、纯水机、纳米过滤、微米过滤等领域进行固体颗粒污染度检测，及对有机液体、聚合物溶液进行不溶性微粒的检测。技术参数：订制要求：各类液体检测要求；传感器：第八代双激光窄光检测器；测试软件：V8.3分析测试软件集成版&PC版；测试标定：JJG1061或乳胶球或ISO21501；操作方式：彩色液晶触摸屏操作&无线键鼠组合；检测范围：0.1-0.5um；特殊检测：自定义1~100μm或者4~70µ m（c）微粒，0.1μm或者0.1µ m（c）任意检测；取样方式：精准计量泵；进样精度：±1%精确度：±3%典型值；重合精度：1000粒/mL（2.5%重合误差）；模拟输出：4mA～20mA接口；并带超标报警功能（可定制）； 报告方法：颗粒数/ml及污染度等级；输入电压：100V～265V,50Hz～60Hz；售后服务：普洛帝服务中心/中特计量检测研究院。

产品详情 microchem 光刻胶SU-8 2000系列永恒性环氧负性光刻胶:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075SU-8 2000是一种高对比度的环氧树脂基光刻胶，适用于微加工和其他微电子应用领域，需要厚、化学和热稳定的图像。SU-8 2000是SU-8的改进配方，多年来被MEMS生产厂家广泛使用。采用更快的干燥速度，更极性的溶剂体系，可改善涂层质量，提高工艺吞吐量。SU-8 2000有12种标准粘度可供选择。薄膜厚度0.5到200微米,可以通过一个单一的涂层工艺实现。暴露的和随后的热交联部分的薄膜是不溶性的液体显影液。SU-8 2000具有良好的成像特性，能够产生非常高的展弦比结构。SU-8 2000在360纳米以上具有非常高的光学传输能力，这使得它非常适合在非常厚的薄膜中近垂直侧壁成像。SU-8 2000非常适合长久应用，它是成像，固化和留在设备上。 SU-8 2000 特性 &bull 高纵横比成像&bull 0.5 200 ?m 膜 厚度 在 一 个 外套&bull 改善涂层性能&bull 加快干燥速度，提高产量&bull 近UV (350-400 nm)加工&bull 胎侧垂直 处理指南SU-8 2000光刻胶最常用的是传统的UV (350-400 nm)辐射，尽管i-line (365 nm)是推荐的波长。SU-8 2000也可以用电子束或x射线照射。在曝光后，交联过程分为两个步骤(1)在曝光过程中形成强酸，接着是(2)在曝光后烘烤(PEB)过程中酸催化、热驱动环氧交联。正常的工艺是:旋涂、软烤、曝光、PEB，然后显影。当SU-8 2000结构仍将作为设备的一部分时，建议使用受控硬烘焙技术进一步交叉连接这些结构。整个过程应针对具体应用进行优化.衬底制备为了获得较大的工艺可靠性，在使用SU-8 2000抗蚀剂之前，基板应保持清洁和干燥。为了达到较高效果，底物应该用食人鱼湿蚀刻(使用H2SO4和H2O2)清洗，然后用去离子水冲洗。基片也可以用反应离子蚀刻法清洗(RIE)或任何装有氧气的桶式装置。通常不需要附着力促进剂。对于包括电镀在内的应用，推荐使用MCC引物80/20 (HMDS)对基体进行预处理。 COATSU-8 2000有12种标准粘度。本加工指南文件涉及四种产品:SU-8 2025、SU-8 2035、SU-8 2050和SU-8 2075。图1所示。提供所需的信息，以选择合适的SU- 8 2000抗蚀剂和旋转条件，以达到所需的薄膜厚度。 推荐项目1)。为每英寸(25mm)的衬底直径分配1ml的抗蚀剂。2)。以每分钟500转的速度旋转5-10秒，加速度为每秒钟100转。3)。以每分钟2000转的速度旋转30秒，加速度为每秒钟300转。边缘去除(EBR)在自旋涂覆过程中，光刻胶可能在基板边缘形成。为了较大限度地减少热板的污染，应该去除这个厚珠。这可以通过在晶圆片顶部或底部边缘使用少量溶剂(MicroChem的EBR PG)来实现。大多数自动旋转涂布机现在都有这个功能，可以通过编程自动完成。通过移除任何边缘珠，掩模可以与晶圆片紧密接触，从而提高分辨率和长宽比。 软烤建议在软烘烤过程中使用具有良好热控制和均匀性的水平热板。不建议使用对流烤箱。在对流烤箱烘烤过程中，抗蚀剂上可能会形成一层表皮。这种皮肤可以抑制溶剂的进化，导致薄膜不完全干燥和/或延长烘烤时间。表2。显示各种SU-8 2000产品在选定薄膜厚度下的推荐软烘焙温度和时间。注意:要优化烘烤时间/条件，请在规定时间后将晶圆片从热板中取出，并将其冷却到室温。然后，将晶圆片返回到热板。如果薄膜“起皱”，将晶圆片放在热板上几分钟。重复冷却和加热循环，直到“皱纹”不再出现在影片中。光学参数色散曲线和柯西系数如图3所示。这一信息对于基于椭圆度和其他光学测量的薄膜厚度测量是有用的。曝光为了在SU-8 2000抗蚀剂中获得垂直侧壁，我们建议使用长通滤波器来消除350NM以下的紫外线辐射。欧米茄光学公司(www.omegafilters.com)或旭硝子科技玻璃公司(AsahiTechnoglass)推荐的V-42型和UV-D35型滤镜(www.atgc.co.jp)的推荐滤镜(PL- 360-LP)需要增加约40%的曝光时间才能达到较好的曝光剂量。 注:在良好曝光条件下，将显影潜影置于PEB热板上后5-15秒内，而不是之前。应进行接触矩阵实验，以确定剂量。 曝光后烘烤(PEB)PEB应在暴露后直接进行。表5所示。显示推荐的时间和温度。 注:在95°C条件下，经PEB处理1分钟后，SU-8 2000光刻胶涂层应能看到掩膜的图像。如果在PEB期间或之后没有看到可见的潜影，这意味着没有足够的曝光、加热或两者兼备。发展SU-8 2000型光刻胶已与MicroChem公司的SU-8显影剂一起被设计用于浸没、喷雾或水坑工艺。其他溶剂型显影剂，如乳酸乙酯和二丙酮醇也可以使用。当发展高展弦比和/或厚膜结构时，强烈搅拌是推荐的。表6给出了浸入式工艺的推荐开发时间。这些发展时间是近似的，因为实际溶解速率可能随搅拌作用而变化很大注:使用超声波或megasonic浴可能有助于开发通过或孔的模式或结构与紧密节距。 清洗和干燥使用SU-8显影剂时，喷洗显影剂图4。光学透过率图像用新鲜溶液冲洗约10秒，然后用异丙醇(IPA)再喷/洗10秒。空气干燥与过滤，加压空气或氮气。注:IPA冲洗过程中产生的白色薄膜表明未曝光的光刻胶发育不良。只需简单地用额外的SU-8显影剂浸没或喷洒基板即可除去白色薄膜并完成显影过程。重复清洗步骤。使用超声波或megasonic浴将激活溶剂，并允许更有效地开发未暴露的抗蚀剂。 物理性质(近似值) 光学性质图4的流程条件。软烤:5分钟，在95°C暴露:180 mJ/cm2硬烘焙:300°C, 30分钟 硬烤SU-8 2000具有良好的机械性能。然而，对于那些将成像电阻作为设备的一部分保留的应用程序，可以将硬烘焙加入到该过程中。这通常只有在设备或部件在常规操作中进行热处理时才需要。一个硬烘焙或终末的固化骤，以确保SU-8 2000的性质不改变在实际使用。SU-8 2000是一种热树脂，因此，当暴露在比以前更高的温度下时，它的性能可以继续变化。我们建议使用比设备运行温度高10℃的烘烤温度。根据需要的固化程度，通常使用的烘焙温度范围在150°C到250°C之间，时间在5到30分钟之间。 注:硬烘烤步骤也适用于退火任何表面裂纹，可能是明显的发展后。推荐的步骤是在150°C的温度下烘烤几分钟。这适用于所有的薄膜厚度。等离子体去除SU-8 2000被设计为一种长久性、高交联的环氧树脂材料，用传统的溶剂型抗剥离剂很难去除。MicroChem的去除剂PG将膨胀，并发射最小交联SU-8 2000。然而，如果使用OmniCoat (30-100 nm)，浸泡在去除剂PG中，可以使SU- 8 2000材料得到干净彻底的提升。如果不使用OmniCoat，则不能完全固化或硬烘焙SU-8 2000。 去除最小交联SU-8 2000，或使用Omnicoat时:将去除剂PG浴加热到50-80℃，并将底物浸泡30-90分钟。实际带钢时间将取决于抗蚀剂厚度和交联密度。有关微化学Omnicoat和去除剂PG的更多信息，请参阅相关产品数据表。 重新工作完全交联的SU-8 2000:晶圆片可以剥离氧化酸溶液，如食人鱼蚀刻，等离子灰，RIE，激光烧蚀和热解。等离子体去除RIE 200W, 80sccm O2, 8sccm CF4, 100mTorr, 10℃ 存储在40-70°F(4-21°C)的温度下，将SU-8 2000储存在阴凉干燥的环境中，避免阳光直射。远离光、酸、热和火源。保质期为自生产之日起十二个月。 处理根据当地的州和联邦法规，SU-8 2000的抗蚀剂可以和其他含有类似有机溶剂的废物一起被丢弃销毁或回收。客户有责任确保处置符合所有联邦、州和当地环境法规的SU-8 2000抗蚀剂和残留物。 环境、健康和安全在使用SU-8 2000抗阻剂前，请参阅产品材料安全数据表。小心轻放。在处理SU-8 2000耐药时，应戴上化学护目镜、化学手套及适当的防护服。不要进入眼睛、皮肤或衣服。使用时应通风良好，避免吸入蒸汽或薄雾。如与皮肤接触，请用肥皂和清水冲洗患处。如不慎与眼睛接触，应立即用清水冲洗，并经常提起眼睑冲洗15分钟。寻求紧急医疗援助。 这些信息基于我们的经验，我们认为是可靠的，但可能不完整。对于这些产品的信息、使用、处理、存储或拥有，或本协议中描述的任何过程的应用或期望的结果，我们不作任何明示或暗示的担保或保证，因为这些产品的使用和处理条件超出了我们的控制。