硅化镍

ROTA2.1E 镍释放磨损仪图片 手表、饰品都可能含镍 容易引起皮肤过敏 镍是一种容易导致接触性过敏的元素。镍元素通过一些含镍材料的释放并长期与皮肤接触后会被皮肤吸收，从而对部分个体导致过敏；进一步暴露在可溶性镍盐中会导致国民性接触性皮炎(据统计，20%的人对镍有很明显的过敏反应症状)。目前，在出口欧洲的服装、首饰等日用品中，若其材料构成中有含镍的金属辅料，一般要求对其镍释放量进行检测。 ROTA2.1E 镍释放磨损仪是欧盟标准EN12472:2005及ISO24348:2007标准设备 由香港知名品牌HongKong Labware与著名检测中心共同研发的拳头产品，于2004年正式推出，至今已经销售超过9年，出口已超过30个城市，遍及中国各地、远销欧洲、美洲及亚洲地区。 ROTA2.1E 镍释放磨损仪产品资料介绍： ◎仪器的定义： 镍释放量测试仪，也称旋转磨损仪/镍释放打磨机，它是一款滚筒式的模拟试验机，专门用以研磨金属制品表面的涂层镀层，以达到2年的使用磨损程度的一种辅助仪器。 ◎仪器的用途： 该仪器的主要用途是应对欧盟最新的镍释出标准EN12472:2005中提及的镍释放量的辅助检测。 ◎仪器的测试方法： 欧盟标准EN12472:2005规定镍释放测试的状态为：模拟金属制品与人体皮质接触两年的磨损状态，经人工汗液在一定条件下浸泡7天后，配合原子吸收光谱仪定量分析浸泡液中镍的含量，限量为0.5微克/平方厘米/每周。 ◎仪器的参考标准： 欧盟标准EN12472:2005； 行业标准ISO24348:2007； 国标GBT28485； ◎仪器的适用范围：所有饰物，眼镜，手表等金属产品…… 广东省质量监督眼镜检验站推荐使用！ 【镍释放磨损仪產品規格】 型号 ROTA 2.1E 控制 全计算机程序控制 转速 每分钟30±2转 尺 寸 700mm（W）×360mm（D）×340mm（H） 仪器净重 33公斤（ROTA2.1E主机（RA20.01.02）& 六角型滚筒，连盖，胶制（RA20.02.10）） 完成提示 闪灯及声音 金属样品挂架 铝 样品挂架厚度 10±0.5mm 滚筒物料 透明胶制 滚筒内阔 190±2mm（边与边之间距离） 滚筒内长 345mm±5mm 安全 电源及断电保护设计 电源 220V（50Hz）/110V(60Hz) 更多关于EN12472镍释放测试仪的相关信息，可以参考 莱华尔科技主页http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102618/镍释放量测试仪http://www.instrument.com.cn/netshow/C194906.htm http://www.instrument.com.cn/Consumables/P1461365.htm http://www.instrument.com.cn/Consumables/P1461369.htm http://www.instrument.com.cn/Consumables/P1461372.htm

Optical Tweezers（光镊） Elliot科学提供最广泛范围的可用光镊系统不论你是想寻求一个经济型的开放结构的光镊，给你现有显微镜增添光学镊子功能，采购一个完全集成的电脑控制的多点光学镊子，或增加单点或多点的力值测量。我们都可以满足您的需求。我们交付完全整合的系统，使得用户从开始可以开始他们的研究。标准系统包括： 元件化的开放式结构光镊独立的，便携，台式单光束光镊工作站带商业显微镜整合的单光束光镊与商业显微镜集成的全电脑控制下的多点光镊用QPD测量单陷阱强度的力值测量配件利用照相机颗粒轨迹显示多陷阱刚度，多粒子径迹的力值测量配件应用：细胞学细胞粒子相互作用单生物分子和生物聚合物等

EDX9000B能量色散荧光光谱仪-镍矿分析专家作为一款高性能的台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新款EDX9000B配置了最先进的基于Windows基本参数算法的FP（Fundamental parameter）软件，同时配备了最优的高性能硬件，来满足客户对于复杂矿石样品的元素分析需求。无论客户的样品是是固体，合金，粉末，液体或者浆液，EDX9000B都可以轻松实现从钠（Na）到铀（U）元素的无损定性和定量分析。更快的分析速度，更精确的测试结果，更稳定的仪器性能， 使得EDX9000B成为了客户进行元素分析的最佳工具之一。产品特点&bull 无需或者很少的样品制备，全程无损分析，一到三分钟即可出结果&bull 强大的基于Windows的FP（基本参数算法）软件降低了基体效应的影响&bull 50 kV 光管管和电制冷的SDD硅漂移检测器不仅具有出色的短期重复性和长期重现性，而且具有出色的元素峰分辨率&bull 能同时进行元素和氧化物成分分析&bull 多重仪器硬件保护系统，并可通过软件进行全程实时监控, 让仪器工作更稳定、更安全&bull 特别设计的光路和真空系统大大提高了轻元素(Na, Mg, Al, Si, P）的测试灵敏度和准确性，同时在测试Cd,Pb,Cr,Hg,Br,Cl等其他元素的灵敏度和稳定性都有了明显的提高&bull 友好的用户界面，可定制的分析报告，可一键打印测试报告，包括分析结果，样品信息，光谱信息和样品图像&bull 八种光路准直系统，根据不同样品大小自动切换，亦可测试样品不同位置再求平均值，降低样品不均匀性造成的误差&bull 高清内置摄像头，清晰地显示仪器所检测的样品部位

菲希尔金镍测厚仪，无损多层镀层测厚仪金镍测厚仪用途 该设备适用于多层镀层厚度测量及材料分析，可用来定量和定性分析样品的元素组成，也可用于镀层和镀层系统的厚度测量，最多可同时测定24种元素，广泛应用于电路板、半导体、电镀、珠宝等工业中的功能性镀层及电镀槽液中的成分浓度分析。 金镍测厚仪特点：1、无论是镀层厚度测量，还是镀液分析，复杂的多镀层应用，一个软件程序就可以完成所有测量应用2、X射线管有带玻璃窗口和钨靶的X射线管或带铍窗口和钨靶的微聚焦X射线管多种选择3、X射线探测器PC（比例接收器）、PIN（硅PIN接收器）、SDD（硅漂移接收器）4、可自动切换的准直器和多种滤片可以灵活地应用不同测量。X射线荧光镀层测厚及材料分析仪测量方向产品型号应用范围检测器射线管基本滤片准值器数量/尺寸(mm)C型开槽从下往上XUL一款适合电镀厂测量镀层厚度的性价比高的仪器，它配备了一个固定的准值器和滤，射线管出射点稍大，非常适合测量点在1mm以上的应用。对于测量典型电镀层厚度的应用，如Cr/Ni/Cu等，非常合适。PC标准11（Φ0.3）是XULM多用途的镀层厚度测量仪。无论是薄的还是厚的镀层（如50nm Au或100um Sn）都通过选择好的高压滤片组合很好的测量。微聚焦管可以达到在很短的测量距离内小到100um的测量点大小。高达数kcps的计数率可以被比例接收器接收到。PC微聚焦34（0.05*0.05-Φ0.3）是XAN110/120专门为分析金合金开发的划算的仪器。比较XAN而言，只有一个固定的准直器和固定的滤片，特别适合贵金属分析。XAN 110配备比例接收器，适于几种合金元素的简单分析。XAN120配备了半导体接收器，更可以应用于多元素的复杂分析。PC(XAN 110)PC(XAN 120)标准11（Φ0.3XAN110）1(Φ1XAN120)否XAN分析专用仪器，测量方赂从下到上。用途广泛。测量室全封闭，可以使作大准直器分析，高计数康可也可被硅漂移探测器处理。激发和辐射检测方式与XDV-SDD相同。它是金合金分析和塑料中有害物质衡量分析的理想仪器。PINSDD微聚焦3/64（Φ0.2-Φ2）否从上往下测量XDL适合镀层厚度测量的耐用仪器，即使大测量距离也可以测量（DCM，范围0-80mm）配备一个固定的准值器和固定的滤片。适合测量点在1mm以上的应用；跟XUL类似。可选 用自动测量的可编程工作台。PC标准11（Φ0.3）是XDLM比XDL适用面更广，配备微聚焦管，4个可切换的准直器和3个基本滤片。测量头与XULM想似；适合于测量小的结构如接插件触点或印刷线路板，也可以测量大的工作（DCM,范围0-80mm）PC微聚焦34（0.05*0.05-Φ0.3）是XDAL与XDLM类似但配备了半导体接收器。这样就可能可以分析元素和测量超薄层（基于良好的信噪比）。比较适合测量结构较大的样品。PIN微聚焦34（Φ0.1-Φ0.6）是XDC-SDD适合于全部应用的高端机型。根据测量点大小和光谱组成，激发方式灵活多样。配备了硅漂移接收器，即使强度高达100kcps的信号也可以在不损失分辨率的情况下处理。SDD微聚焦64（Φ0.1-Φ0.3）否SDV-U专用微观分析的测量仪器。根据X射线光学部件的不同，可以分析小到100um或更小的结构。强度很高所以精度也非常好。即使很薄的镀层，测量不确定性小于1nm也是可能的。仅适于测量表面平整或接近平整的样品。SDD微聚焦4多毛细管系统是XDV-Vacuum具备综合测量能力的通用高端机型。与XDV-XDD相当。但可外配备了可抽真空的测量室，这样就使得分析从原子序数Z=11(Na)开始的轻元素成为可能。高精度的马达驱动的XYZ平台和视频摄像头可以精确定位样品位置和测量细小部件。SDD微聚焦64（Φ0.1-Φ3）否在线测量X-RAY 4000用于生产过程中薄膜，金属带或穿孔带的连续测量。测量头可以装配与样品传送方向的直角的位置。操作方便，启动迅速。数据接口可集成到质量管理或控制系统X-RAY54000用于生产线上连续测量的法兰式测量头。测量带状物，薄膜或玻璃的金属元素。在空气和真空都可以测量。提供水冷版本仪器。

高分辨可视化单分子操纵的荧光显微镜光镊C-Trap 是世界上第一台高分辨可视化单分子操纵的光学镊子。结合共焦显微镜和STED 高分辨纳米显微镜, 整合先进的微流控系统，实时进行分子间相互作用的同步操纵和可视化，可以达到碱基对的分辨率。完整成像为了解读复杂的分子间作用力，科学家需要一种能从多个角度观察同一个生物过程的能力。C-Trap结合光镊和荧光显微，可以同步实时可视化单分子、测量生物分子复合物的机械性能获得更好的细节。用这种新的技术来进行同步操纵、力学测量、复合物可视化，可以得到结合在DNA 上的蛋白的构象状态，同时实现机械性能的定量、定位。技术特点* 2-4光镊系统，可实现单个或多个生物分子的操纵* 超高分辨率：多个可视化平台：多色共聚焦荧光显微镜&STED,SuperC-Trap（40nm）* 层流微流体设计* 高精度力学测量：实现亚pN 的分辨率和1000PN的范围测量* 稳定性&可重复性* 人性化的软件设计：简单的手动点击和参数设置产品应用：* 分子相互作用，如分子、细胞、纳米颗粒，可达到（40nm）可视化分辨率；* 力的测量：分辨率，亚pN 测量范围〉1000pN；* 微小粒子 可以在物理、化学、生物及材料的研究中发挥重要的作用。我们的用户：* 阿姆斯特丹自由大学* 国际生物技术和生物医学中心（BIOCEV）* 洛克菲勒大学* 格罗宁根大学* 荷兰FOM研究所* 约翰斯霍普金斯大学* 格廷根大学* 上海科技大学* 伯克利大学* 哈佛大学发表文献代表：Science,2016；Nature Communications,2016；应用案例：*分子间相互作用--DNA与蛋白质相互作用下图显示了随着时间（水平）DNA结合的花青染料Sytox-Orange（DNA嵌入剂）的位置（垂直）。波动曲线显示了XRCC4和XLF的位置（垂直），两个修复蛋白在非同源末端接合，随着时间的推移结合到DNA（水平）。这个图显示了XRCC4(绿，9%)，XLF(红，62%)和XRCC4-XLF复合物的动态变化。这个波动曲线提供了在DNA修复过程中实时了解DNA-蛋白质的相互作用和蛋白质和蛋白质相互作用*力学测量--蛋白质结构域的展开 下图一显示了两个光学捕获的珠粒之间的蛋白质。通过同时拉伸蛋白质并测量力和距离，可以获得力 - 伸展曲线。得到的力-距离曲线表明了蛋白质的展开分为三步，对应着三个独立的蛋白质域。通过观察特定标记区域的FRET荧光信号，有可能研究在由于在相对的位置的变化引起的FRET信号波动蛋白质域的展开。这样可以将整个蛋白质的机械性能与局部结构性能联系在一起。 由于C-Trap（高达50 kHz帧率）的高时间分辨率，可以显示出显示短生命结构中间状态之间转换的平衡动力学。测量平衡动力学的这种能力归因于固有距离夹具，其将珠保持在固定距离，同时测量力波动。当该测量应用于钙调蛋白时，可以通过力分辨率低于0.1pN观察到状态之间的精确平衡波动和相对概率。 下图二显示，钙调蛋白在两种状态之间切换，没有明确的偏好，中间步骤可以解决，因为钙调蛋白偶尔在短时间内跳到第三种状态。* DNA组织的可视化 * 转录的可视化 * DNA修复的可视化* DNA复制的可视化 * 蛋白质的展开 * DNA复制的活性* 转录活性 * 聚合物和丝蛋白 * DNA-DNA相互作用* DNA修复 * 膜蛋白和液滴融合 * 小分子和酶活性* 细胞骨架的可视化 * DNA组织的构象的变化

IBE离子束刻蚀系统NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时，旋转晶圆片以达到想要的均匀度。NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品特点：14.5”不锈钢立体离子束腔体16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板离子束中和器氩气MFC6”水冷样品台晶片旋转速度3、10RPM，真空步进电机步进电机控制晶圆片倾斜自动上下载晶圆片典型刻蚀速率：铜200 ?/min, 硅：500 ?/min6”范围内，刻蚀均匀度+/-3%极限真空5x10-7Torr，20分钟内可达到10-6Torr级别（配套500 l/s涡轮分子泵）配套1000 l/s涡轮分子泵，极限真空可达8x10-8Torr磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完整的安全联锁NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀 Features：14.5" SS Cube ion beam chamber16 cm DC Ion gun 1000V, 500 mA ,DC motor driven SS shuttersIon Beam neutralizerAr MFCChilled water cooled 6” substrate platenWafer rotation 3-10 RPM, Vacuum stepper motorWafer Tilt with a stepper motor through differentially pumped rotational sealManual wafer load/unloadTypical Etch Rates: 200 ?/min Cu, 500 ?/min Si+/-3% etch uniformity over 6“ area5x 10-6 Torr 20 minutes 2 x10-7 Torr (2 days) Base Pressure with 500 l/sec turbo8x10-8 Torr Base pressure with 1000 l/sec Turbo pumpMagnetron Sputtering of Si3N4 to protect etched metal surfaces from oxidationPC Controlled with LabVIEW SoftwareRecipe Driven, Password ProtectedFully Safety Interlocked

二硅化钼复合材料属于金属化合物,是一类介于金属与陶瓷间的新型材料，其典型代表是二硅化钼发热元件，二硅化钼粉涂层.作为一种重要的髙温发热材料和结构材料,二硅化钼在高温下稳定的物理性能引起国际材料界的兴趣，近十年来成为高温结构陶瓷的研究热点.二 硅化钼不但具有熔点高、密度低、高温抗氧化性及抗热 腐蚀性等性能，同时又有较好的高温韧性，因此被誉为 有前途的高温材料之一.目前，国内外在对二硅化钼的研究上，集中在髙温发热体、高温结构材料、功能,涂层材料等方向. 二硅化钼电热元件(硅钼棒)在氧化气氛中使用时，表面能形成一层致密、气密性好的玻璃态二氧化硅膜，二氧化硅膜减弱了氧向内部的扩散，有效阻止了硅钼棒的进一步氧化，这是硅钼棒氧化气氛中使用时能维持较长的高温寿命的原因.因此，高温下硅钼棒表面保护膜的质量和稳定性对二硅化钼的使用性能具有重要的意义，同时二硅化钼的高、低温力学性能、抗热震性、冷热端结合性能等也是影响二硅化钼使用性能的重要因素。

RIBE反应离子束刻蚀系统NIE-4000（R）RIBE反应离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时，旋转晶圆片以达到想要的均匀度。NIE-4000（R）RIBE反应离子束刻蚀产品特点：14.5”不锈钢立体离子束腔体16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板离子束中和器氩气MFC6”水冷样品台晶片旋转速度3、10RPM，真空步进电机步进电机控制晶圆片倾斜自动/手动上下载晶圆片典型刻蚀速率：铜200 ?/min, 硅：500 ?/min6”范围内，刻蚀均匀度+/-3%极限真空5x10-7Torr，20分钟内可达到10-6Torr级别（配套500 l/s涡轮分子泵）配套1000 l/s涡轮分子泵，极限真空可达8x10-8Torr磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完整的安全联锁 NIE-4000（R）RIBE反应离子束刻蚀 Features：14.5" SS Cube ion beam chamber16 cm DC Ion gun 1000V, 500 mA ,DC motor driven SS shuttersIon Beam neutralizerAr MFCChilled water cooled 6” substrate platenWafer rotation 3-10 RPM, Vacuum stepper motorWafer Tilt with a stepper motor through differentially pumped rotational sealManual/Auto wafer load/unloadTypical Etch Rates: 200 ?/min Cu, 500 ?/min Si+/-3% etch uniformity over 6“ area5x 10-6 Torr 20 minutes 2 x10-7 Torr (2 days) Base Pressure with 500 l/sec turbo8x10-8 Torr Base pressure with 1000 l/sec Turbo pumpMagnetron Sputtering of Si3N4 to protect etched metal surfaces from oxidationPC Controlled with LabVIEW SoftwareRecipe Driven, Password ProtectedFully Safety Interlocked

ROTA 2.1E镍释放测试磨损仪欧盟标准EN12472:2005设备符合国标GB/T28485标准 欧盟正式于2006年通过有关镍释出测试之最新版本(EN12472:2005)替代旧有标准EN12472:1998，所有饰物、眼镜、手表等金属产品必须通过有关测试才能于欧洲地区销售。多家世界领航的检验检测机构（比如TUV、SGS、ITS等）都有使用此ROTA 2.1E磨损仪。ROTA 2.1E是Hong Kong Labware Co., Ltd. 与著名检测中心共同研发的品牌，在2004年开始推售，至今超过9年，已出口到超过30个城市，包括中国各地、欧洲、美洲及亚洲。我司是首家提供一站式EN12472:2005仪器及耗材的供应商。客户群包括各大小检测中心 、政府出入境局、眼镜、饰物、五金、手袋皮革等行业生产商，广泛使用，深受客户欢迎。 仪器定义： 镍释放量测试磨损仪，也称旋转磨损仪，是一种专门用来打磨金属制品表面的图层镀层，以达到2年的使 用磨损程度的一种辅助仪器。仪器用途： 该仪器的主要用途是应对欧盟最新的镍释出标准中提及的镍释放量的辅助检测。测试方法： 模拟金属制品与人体皮质接触两年的磨损状态，经人工汗液在一定条件下浸泡7天后，配合原子吸收光谱仪定量分析浸泡液中镍的含量，限量为0.5微克/平方厘米/每周。参考标准： 欧盟标准EN12472:2005适用范围： 所有饰物，眼镜，手表等金属产品… 广东省质量监督眼镜检验站经已率先使用！质量保证，安全可靠！【產品特点】仪器特点：◎ 针对BS/DIN镍释出EN/DIN 12472而设；◎ 本产品是根据最新镍释出标准制造，提供稳定的转速；◎ 配合六角型滚筒金属样品挂架滚料及滚酱。数码计算机控制◎ 软垫头接触式按钮提供标准的时间及程序调教。 全自动设计◎ 全自动程序控制，能于特定时间转向；◎ 出厂预设为顺逆方向各转向2.5小时，此为EN12472:2005指定之测试时间；◎ 当测试完毕，仪器会自动停止，并配备蜂鸣及闪电通知用家。 清晰数码显示◎ 清晰数码显示已运作及剩余时间，让用家更好地分配工作。 安全设计◎ 仪器设有保护门及透明观察窗，配合电源及断电保护设计，确保使用安全。 高扭力马达◎ 高性能马达能提供稳定转速，而不受高重量影响。 先进设计◎ 配备“暂停”键，让用家能在任何情况下暂时停止仪器运作。【镍释放磨损仪規格】型号ROTA 2.1E控制全计算机程序控制转速每分钟30±2转尺 寸（W×D×H）700mm（W）×360mm（D）×340mm（H）仪器净重33公斤（ROTA2.1E主机（RA20.01.02）& 六角型滚筒，连盖，胶制（RA20.02.10））完成提示闪灯及声音金属样品挂架铝样品挂架厚度10±0.5mm滚筒物料透明胶制滚筒内阔（边与边之间距离）190±2mm滚筒内长345mm±5mm安全电源及断电保护设计电源220V（50Hz）/110V(60Hz) 【镍释放磨损仪相关配件】项目单位货品编号ROTA2.1E主机1RA20.01.02六角型滚筒，连盖，胶制1RA20.02.10铝制样品挂架（2层）1RA20.02.20铝制样品挂架（3层）1RA20.02.30样品挂架（2层）, 胶制1RA20.02.31硅片（2片/套）1套RA20.03.01样品挂具（18件/套） 1套RA20.03.02参考片 （片）1RA20.03.03滚料，已配制，10公斤/包1包HKL12472-G滚酱，已配制，1公斤/樽1樽HKL12472-C（请下载产品资料以查阅配件图片）产品采用进口配件，品质优良！全球领导品牌 销量第一 欢迎了解我司实验室耗材产品信息莱华尔科技主页http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102618/镍释放量测试仪http://www.instrument.com.cn/netshow/C194906.htm

镍粉又分为**镍粉，主要用于涂料和塑料作导电颜料屏蔽电磁干涉及射频干涉，作各种高光泽装饰漆和塑料，代替铝粉在水性体系作防腐蚀漆等，细颗粒球形镍粉可用于导电油墨。性状：呈灰色不规则状粉末，在潮湿空气中易氧化。用途：用于制取非铁基合金，制取耐高温、***材料，磁性材料，亦可用作化学反应的加氢催化剂。包装：采用充有保护气体的内衬塑料袋、布袋外加铁桶包装。以金属镍为主要成分的金属颜料，包括镍粉和片状镍粉，前者是用经过蒸馏并提纯的**镍[Ni（CO）4]蒸气分解，通过控制温度，用一氧化碳稀释并有气体助剂（氧和氮）存在下形成适宜外形的镍粒子，再用二氧化碳气体冲洗掉一氧化碳并控制粒子表面氧含量为0.065%；后者是用高纯**镍粉，在适宜润滑剂和液体介质存在下，用钢球在球磨机中研磨形成适宜厚度的片状。工业应用金刚石工具镍粉介绍（金属胎体合金粉末）: 金属结合剂是决定金刚石锯片，刀头，磨轮，薄壁钻等产品的质量关键因素之一，在金刚石确定以后，金属结合剂的质量就成了决定因素，钴粉和镍粉都可以作为主粘结剂，但钴粉的价格较高。在金刚石工具中,胎体指包裹,金刚石的金属烧结体,胎体的作用是把持金刚石,使其起到切割的作用,而不会过早地脱落掉.胎体一般由多种金属元素组成，主要采用低熔点金属粉作为粘结剂，比如镍粉等。建筑业用的金刚石薄壁钻头、切割片，石油天然气等矿用金刚石钻头、硬质合金钻头的胎体粘接材料大多采用镍粉；金属材料加工、汽车、摩托车机械打磨加工等用的工具大多采用金刚石磨料磨具，其胎体材料也大都采用镍粉。包括**镍粉、电解镍粉和还原镍粉。

一、SZ-Ni总镍(镍离子)在线分析仪产品原理：总镍水质在线自动监测仪采用丁二酮肟分光光度法测定水样中的总镍值，实现仪器自动化测定。二、SZ-Ni总镍(镍离子)在线分析仪技术参数：项目总镍水质在线自动监测仪测量范围 (0~2) mg/L,(0~10) mg/L(量程可扩展) 检出限0.01mg/L示值误差 ± 10.0%重复性≤5.0%测量周期 ≤60min绝缘电阻 20MΩ以上 MTBF ≥720h/次 接口RS232或RS485,4-20mA模拟量输出外形尺寸 500mmx440mm x1440mm (L x W x H) 仪器重量 55Kg 　显示屏 触摸屏(7寸) 工控主机安全可靠PLC环境温度 (5 ~40) º C 环境湿度 (20~85) %RH 电源电压 AC(220±25) V电源频率 (50±0.5) Hz 额定功率 100W三、SZ-Ni总镍(镍离子)在线分析仪仪器介绍产品完全具有自主知识产权。且产品集成度高，方便维护，自动化程度高。试剂用量大大减小，为运维服务节省更多成本。体积减小，节省运输成本。7寸彩色触摸屏，内存大，速度快。仪器具有自动标定，量程自动切换，缺液报警，故障报警功能等。清洗液和废液分开，大大降低废液处理成本。多种测量模式可以选择。独特的算法让测量更准确。独特的试剂配方，抗离子干扰，浊度，色度等干扰能力强。四、SZ-Ni总镍(镍离子)在线分析仪应用场所广泛地应用于企业污水、生活污水、地表水的监控、监测。五、SZ-Ni总镍(镍离子)在线分析仪仪器特点日本进口光电定量装置，可靠稳定，抗干扰能力强。日本进口冷光源，光强无衰减，寿命可达10年以上。探测板采用日本进口原件，精度高，温漂小。PLC采用德国西门子技术触摸屏采用工业级设计，环境适应性强。水管件材质采用耐强酸强碱的PTFE材料。可选：物联网反控功能，可以手机APP远程操控，让运维和售后更方便。可选：打印功能

HI97726哈纳HANNA镍高量程光度计HI96726升级版测量范围：0.00 to 7.00 g/L (as Ni)符合IP67防水标准，采用的光学系统设计，具有良好的精度，可重复性和进行测量所需的时间，Hanna精心设计的CAL Check&trade 功能允许使用NIST可追溯标准对仪表进行性能验证和校准，多种测量方法，用户可以选择使用粉剂试剂或水剂，内置反应计时器，确保样本测量与用户之间的结果一致，自动记录50次测量读数，良好实验室规范（GLP）显示*一次用户校准的日期和时间，电池状态指示灯和自动关机设置。HI97726微电脑镍高量程防水光度测定仪【新款】HI96726微电脑镍高量程光度测定仪测量范围：0.00 to 7.00 g/L (as Ni)测量范围：0.00 to 7.00 g/L (as Ni)光学系统：硅光电池，LED @ 575 nm，滤波器带宽：8 nm ±1.0 nm光学系统：窄带干涉滤光片，硅光电池，钨灯@ 575 nmGLP功能：自动记录、查询和清除*一次校准值和日期时间GLP功能：手动记录、查询和清除*一次校准值和日期时间数据存储：自动存储、查询提取*50次测量读数数据存储：无此功能显示模式：128 x 64像素黑白液晶显示屏，带背景灯显示模式：无HI97726哈纳HANNA镍高量程光度计HI96726升级版技术参数：技术指标HI97726镍测量模式测量范围0.00 to 7.00 g/L (as Ni)解析度0.01g/ L精度@25oC/77oF读数±4% ± 0.07 g/ L标准方法适应光度法光学系统光源模式硅光电池，LED @ 575 nm滤波器带宽8 nm ±1.0 nm其他指标数据管理50个读数存储电源模式3×1.5AAA高性能电池，在测量模式下，15分钟不用后自动关机使用环境0 to 50°C（32 to 122°F），RH max *，符合IP67防水标准尺寸重量主机尺寸：142.5 x 102.5 x 50.5 mm (5.6 x 4.0 x 2.0")，主机重量：380 g (13.4 oz.)专属附件玻璃比色皿HI731397玻璃比色皿（HI731331+HI731336），规格：外径24.6mm（内径22mm），4套/组测量试剂HI93726-01镍高量程试剂，预测次数：100次；HI93726-03镍高量程试剂，预测次数：300次标准曲线核定组HI97726-11镍NIST测量曲线标定组，标准值@25oC：0.00 and 3.50 ±0.10 g/L Ni

HI97740哈纳HANNA镍低量程光度计HI96740升级版测量范围：0.000 to 1.000 mg/L (as Ni)温馨提示：样品*温度范围：20 to 24oC，当待测样温度高于30oC时，可能会出现浑浊情况，将2-3滴HI93703-51定制分散剂【选购】分别加入到玻璃比色皿中，轻巧旋转，直至浑浊消除。符合IP67防水标准，采用的光学系统设计，具有良好的精度，可重复性和进行测量所需的时间，Hanna精心设计的CAL Check&trade 功能允许使用NIST可追溯标准对仪表进行性能验证和校准，多种测量方法，用户可以选择使用粉剂试剂或水剂，内置反应计时器，确保样本测量与用户之间的结果一致，自动记录50次测量读数，良好实验室规范（GLP）显示*一次用户校准的日期和时间，电池状态指示灯和自动关机设置。HI97740微电脑镍低量程防水光度测定仪【新款】HI96740微电脑镍低量程光度测定仪测量范围：0.000 to 1.000 mg/L (as Ni)测量范围：0.000 to 1.000 mg/L (as Ni)光学系统：硅光电池，LED @ 575 nm，滤波器带宽：8 nm ±1.0 nm光学系统：窄带干涉滤光片，硅光电池，钨灯@ 575 nmGLP功能：自动记录、查询和清除*一次校准值和日期时间GLP功能：手动记录、查询和清除*一次校准值和日期时间数据存储：自动存储、查询提取*50次测量读数数据存储：无此功能显示模式：128 x 64像素黑白液晶显示屏，带背景灯显示模式：无HI97740哈纳HANNA镍低量程光度计HI96740升级版技术参数：技术指标HI97740镍测量模式测量范围0.000 to 1.000 mg/L (as Ni)解析度0.001mg/L精度@25oC/77oF读数±7% ± 0.010 mg/L标准方法参照1-(2-吡啶偶氮基)-2-萘酚PAN方法 光学系统光源模式硅光电池，LED @ 575 nm滤波器带宽8 nm ±1.0 nm其他指标数据管理50个读数存储电源模式3×1.5AAA高性能电池，在测量模式下，15分钟不用后自动关机使用环境0 to 50°C（32 to 122°F），RH max *，符合IP67防水标准尺寸重量主机尺寸：142.5 x 102.5 x 50.5 mm (5.6 x 4.0 x 2.0")，主机重量：380 g (13.4 oz.)专属附件玻璃比色皿HI731397玻璃比色皿（HI731331+HI731336），规格：外径24.6mm（内径22mm），4套/组测量试剂HI93740-01镍低量程试剂，预测次数：50次；HI93740-03镍低量程试剂，预测次数：150次标准曲线核定组HI97740-11镍NIST测量曲线标定组，标准值@25oC：0.00 ａnd 0.500 ± 0.020 mg / L（ppm）Ni

一体机环境污染检测仪器六价铬 铬 铜 镍 锌 硫化物 氰化物 氟化物污水等水质监测，是监视和测定水体中污染物的种类、各类污染物的浓度及变化趋势，评价水质状况的过程。监测范围十分广泛，包括未被污染和已受污染的天然水（江、河、湖、海和地下水）及各种各样的工业排水等。为了提高检测的准确性，有些时候就需要进行现场检测，因为只有进行现场水质检测才能大限度的提高数据的准确性，而且现场进行水质检测也可以更加直观的了解到数据的变化。使用便携式水质检测仪时可以避免由于气温等因素变化导致的数据差别。便携式多参数现场水质检测仪该仪器适合于实验室或者野外等各种条件恶劣的环境条件下，对地表水、地下水、工业废水等各种水质中的多种参数进行分析测量，具有实验室级的精度，格的耗材和配置灵活等优点,同时适合实验室与野外现场使用，测量快速准确, 配置全面，精巧设计，便于携带。新业多参数水质快速测定仪，可快速测定水中COD、氨氮、总磷、总氮、重金属（铬、六价铬、铜、镍、锌、铁）等常规水质污染参数，在水质分析领域的成熟技术，使整个分析系统更加完善，操作更加简单。XY-800s水质检测系统采用级高强度防水手提安全箱一体化设计，360°旋转检测模块，双温区消解模块，微电脑智能系统，彩色液晶触摸屏，进口光源，进口检测传感器，内置高容量锂电池，仪器性能稳定、测量准确、测定范围广、功能强大、操作简单.

二硅化钼保护管是郑州毅信窑炉有限公司的主营产品之一，底部加厚密封，壁厚均匀，耐急冷急热，部分现货，可定做带孔二硅化钼保护管，技术经验丰富，如咱有相关问题或需要订购，欢迎来电。 二硅化钼保护管属于金属陶瓷管类保护管，对热电偶或其它需要保护的电热元件起到与工作环境隔离的作用，能延长热电偶或电热元件的使用寿命。二硅化钼保护管是在硅钼棒元件的材料基础上开发的又一种介于金属和陶瓷之间的耐高温产品。它与其它同类产品相比具有更郝的抗热冲击性， 抗养化性，气密性和机械性能。具有耐高温腐蚀，热稳定性好等特点。适合在氧化，还原，氧化与还原交替，某些化学腐蚀气体，熔化金属等介质环境中使用。用在天然气，化肥，石油化工，煤化工等行业的测温元件保护方面，效果优于其它种类的保护管。 二硅化钼保护管是采用二硅化钼粉经成型，烧制，测试等工序制作而成。由于制作工艺难度较大，成品率低，成品用的久，一次采购几支的二硅化钼保护管单支价格都在800左右，其中模具费用比较高。常用规格直径为10-35mm，壁厚在5-10mm之间。壁厚在5mm以下的容易破裂，使用寿命较短，所以不建议做壁厚在5mm以下的二硅化钼保护管。

5分钟内将显微镜升级为 纳米激光光镊分析仪 NanoTweezer新型纳米光镊转换装置，是个显微镜附上装置。该装置使研究人员使用现有显微镜能够捕获、操纵纳米级微粒。 NanoTweezer新型纳米光镊转换装置，采用世界先进的集成光波导和共振体技术，通过微芯片发出的激光捕获与操纵丛纳米至微米级的粒子。 可以实现多种应用， 如操作远远小于传统的光学镊子的样品，并保持粒子结构不被破坏 实行新类型的实验和分析. 粒子捕获操纵尺寸范围：10nm-5微米感光度(Sensitivity):10650.3V/ W 功率灵敏度(Power Sensitivity) ：6 uW–12 mW激光波长(Wavelength) ： 1065nm激光功率(Optical Power) ：0—500 mW连续可调光纤接口： FC / APC SMPM光电隔离(Optical Isolation): 33-38 dB易与现有显微镜整合：NanoTweeze™ 很容易与研究型倒置显微镜如国际大品牌蔡司、尼康和奥林巴斯等联合使用。 至关重要的稳定性：不需手动调节的长时间稳定性和操作性能是NanoTweeze™ 的一个关键设计原则。高稳定性的激光光源和短程折返光路结合漂移补偿设计保障了NanoTweeze™ 高性能实验Applications include :1)蛋白质聚集体分析 2)单颗粒光谱 (包括拉曼光谱), 2)涂层测量3)形状分析4)颜料分析5)亚微米成像 Label Free Nanoparticle Sizing and Imaging Nanoparticle Functionalization and Coating Analysis Nanophotonics Based Optical Tweezing - Smallest Particles Ever!概述： NanoTweezer新型激光光镊系统配备强大的光学捕获系统，操纵对象涵盖了单细胞、单分子、细胞器、病毒、核酸、金属纳米粒子、碳纳米管、蛋白等。 轻松操作远远小于传统的光学镊子的样品，并保持粒子结构不被破坏 实行新类型的试验和分析 避免表面化学 创造新的纳米结构 保留了生物分子方面的基础上，改变了背景的解决方案 捕获单一的细菌，并观察它的分裂等。 NanoTweezer激光控制器、光学谐振芯片以及特殊设计的显微镜适配器，能够直接与现有的显微镜设备无缝连接。 特性及亮点： 1)无损伤操纵生物微粒 光镊以一种温和的、非机械接触的方式完成夹持和操纵物体，捕获力是施加在整个微粒上，非机械捕获那样集中在很小的面积上，不会对捕获的生物微粒造成机械损伤和污染。 2) 不干扰生物粒子周围环境和它的正常生命活动 光的无形性和穿透性，光镊可以在保持细胞自然生活环境的情况下对其进行捕获与操纵 光镊的所有机械部件离捕获对象的距离都远大于捕获对象的尺度(1000倍)，是遥控操作.1)简洁、操纵捕获能力强、观测分辨率更高： 系统捕获操纵能力： 新一代纳米激光光镊系统，采用新型集成光学、光子共振技术，能对纳米至微米级的粒子轻松操作和捕获 粒子捕获操纵尺寸范围：10nm-5微米； 还可以增强生物分子观测的分辨率，捕捉细菌观测器分裂过程。 观测分辨率更高 光镊与高空间分辨率的技术相结合，使之具备精细的结构分辨能力和动态操控与功能研究的能力 捕获操纵粒子种类： A)生物材料，诸如蛋白质聚集体、蛋白质晶体、抗体与微管等等； B)纳米材料，诸如量子点、碳纳米管、高分子小珠、纳米硅、纳米二氧化钛等。 C) 单个细胞、病毒、核酸、纳米颗粒、碳纳米管和蛋白质的可逆纳米级操作 2)优于传统光镊系统： 该系统采用以芯片为基础的光子共振捕获技术，可以实现多种应用，如操作远远小于传统的光学镊子的样品，并保持粒子结构不被破坏； 普通光镊只能捕捉和处理100纳米及更小的物体；该系统通过使用最新技术集成光子克服光的散射障碍，该系统的光学谐振器可以增强是由波导产生的光学梯度的强度。由于集中了更强的光点，可以操纵最大达到1064nm的粒子。 3)系统联机能力强： 能与科研级正置显微镜联用； 能与激光显微镜拉曼光谱仪联用； 典型应用： —精确捕获微粒和牵引微粒是光镊最基本的功能 光镊捕获的粒子在几纳米到几微米,在这个尺度上,它提供了一种对宏观现象的微观机理的研究手段,特别是为研究对象从生物细胞到大分子的纳米生物学,提供了活体研究条件,比如激光光镊易于操纵细胞,可有效分离各种细胞器,并在基本不影响环境的情况下对捕获物进行无损活体操作。 通过捕获和分离细胞,可了解细胞的诸多特性,如细胞间的粘附力、细胞膜弹性、细胞的应变能力及细胞的生理过程等,从而研究细胞的真实生理过程.1.单细胞领域应用 1.1 捕获牵引纳米级微粒 (细胞的捕获和分离) 用波长为1064纳米的激光将凝聚物移动了近半米,而过去通常采用的磁学方法,只能将凝聚物移动很短的距离. 该新纳米激光光镊粒子捕获操纵尺寸范围：10nm-5微米，激光光镊可容易地操纵细胞， 能有效地分离各种细胞器，并在基本不影响环境的情况下对捕获物进行无损活体操作。 通过对细胞的捕获和分离便可了解细胞的诸多特性如细胞间的粘附力、细胞膜弹性、细胞的应变能力及细胞的生理过程如细胞融合等，从而有效地了解细胞的真实生理过程。 1.2 研究细胞的应变能力 细胞内部的应变能力在通常情况下很难用显微镜观察。而光镊可对活体细胞进行非侵入微观操纵,能够诱导细胞产生应变. 1.3 测量红细胞膜的弹性 红细胞膜弹性是血液的生理功能指标,在测量红细胞膜弹性的技术中,双光镊法是最为直接、准确的方法.1.4促进细胞融合 把光镊同激光微束(光刀)耦联起来可实现激光诱导细胞融合, 当前最先进的转基因技术就是利用光镊和光刀将DNA导入细胞而实现基因转移,这种方法可节约大量资源、缩短转基因时间、提高成功率。 1.5直接应用于动物体内研究对细胞进行实时观察、操控与测量，实施非接触式手术的实验取证 激光镊可直接深入到动物活体内对细胞进行实时观察、操控与测量，实施非接触式手术的实验取证，从而开拓了光镊技术研究活体动物新领域，为活体研究和临床诊断提供了一种全新的技术手段.在活的动物体内研究细胞生长、迁移、细胞及蛋白质间相互作用等生物学过程，对生命科学、医学研究以及临床诊断具有重大意义，因此体内研究技术一直是活体研究热点之一。 2.单分子研究领域中的应用 2.1 定量测量生物大分子的力学特性 生物大分子通常被束缚在直径约1um的聚苯乙烯小球上，而介质小球则通过光镊技术被俘获在光阱中。通过光镊对单分子进行扭转、弯曲、拉伸操作来研究其力学特性。这些研究对研究蛋白自组装及细胞间的作用有重要意义。 2.2 对生物大分子进行精细操作 用光镊解开了DNA的分子缠绕，对生物大分子的折叠构象进行了深入的研究；用双光镊法对DNA分子扭转、打结，为细胞内蛋白纤维相互作用等分子力学的研究开辟了新途 光镊可以跟踪和描述单个分子之间的结合情 2.3 分子水平上的特异识别和生命调控 光镊所具有的纳米量级的操控精度和观测精度，使得光镊可将要观察的对象按需要进行配对，并观察配对的新变化 这使人们能在纳米尺度上实时动态地研究细胞特异性识别中的单分子机制并显示其特异性相互作用， 从而为解开细胞特异性分子识别提供微观信息。 2.4 在分子马达研究中的应用 光镊在生物大分子研究中最重要的成果之一是动力原蛋白的研究。科学家利用光镊观察到了生命运动的元过程，发现分子马达是以步进方式运动， 并且测量了步长，给出单驱动蛋白分子产生的力及其速度与ATP浓度的函数关系。 NanoTweezer显微镜纳米激光镊操控转换装置的组成部分 1)台式NanoTweezer激光器控制仪(NanoTweezerTM Instrument) 台式NanoTweezer仪含有操作Optofluidics NanoTweezer系统所需的所有光学和微流控的基础设施，以及从nanotweezer芯片连接到仪器的即插即用操作的光纤和流控管。 2) NanoTweezer芯片(NanoTweezer Chips)： 2.1包含光学部件及微流光波导控芯 2.2光子共振器设备 2.3高光学质量的微流控光波导芯片 该NanoTweezer芯片包含光子共振器设备以及高光学质量的微流控光波导芯片。考虑到客户昂贵的样品。通道容积少于300 nL(可调)，硬耦合的光纤连接到芯片不再需要任何光学校准，即可在整个实验过程保持稳定。 3) NanoTweezerTM芯片与显微镜的适配器(Custom Microscope Mounts) 特别设计定制的显微镜适配器，使NanoTweezer芯片与现有的显微镜设备即插即把直接连接。流体样本通过芯片下侧的显微流动池入口放进去。该安装件不到5分钟，连接、卸下来极为方便。 4) NanoTweezer电脑控制系统 NanoTweezer电脑控制系统可以使用自定义的图形用户界面直接操纵。易于使用的图形用户界面，可同时及持续控制流的速度和激光功率。该接口还提供了探测器功率的直接反馈。 系统参数 1、系统联机能力： 1. 能与科研级正置显微镜联用 2. 能与激光显微拉曼光谱仪联用 2、捕获与操纵能力： 新型纳米光镊系统NanoTweezer，采用世界先进的集成光波导和共振体技术，通过微芯片发出的激光捕获与操纵丛纳米至微米级的粒子。可以实现多种应用，如操作远远小于传统的光学镊子的样品，并保持粒子结构不被破坏 实行新类型的实验和分析.2.1 粒子捕获操纵尺寸范围：10nm-5微米 2.2 操作对象涵盖了单个细胞、单个分子、病毒、核酸、纳米颗粒、碳纳米管和蛋白质 3、激光器： 3.1激光波长(Wavelength) ： 1065nm3.2激光功率(Optical Power) ：0—500 mW连续可调 3.3光纤接口： FC / APC SMPM3.4光电隔离(Optical Isolation) ： 33-38 dB4、显微镜流动池： 4.1最大压力：20psi (1psi=6.895kPa)4.2流动速度：80nl/min (min)–1000ml/hr (max)5、与显微拉曼光谱仪联用附件 5.1 光镊与拉曼光谱仪联链接适配器 5.2 OD6带阻滤光片（1064nm） 6、仪器尺寸： 8“（宽）X14”（长）x9“（高） 典型应用：激光光镊在单细胞、单分子科学中的研究应用 生物医学中光镊的运用 光镊技术应用于动物体内研究取得新进展

滑块产品特点：材质：6061-T6 铝合金导轨滑块将组件安装到燕尾导轨手拧螺丝夹具圆形尖端用于固定滑块位置 产品介绍：OMTOOLS燕尾导轨滑块适用于将组件安装到LBAxx系列燕尾槽导轨上。一旦附接后，这些导轨滑块可以实现在沿着导轨长度的任何位置处对光机械元件进行一维运动。滑块和导轨经过精密加工而成，在沿着导轨长度平移时能维持良好的横向对准。卡入式结构设计，无需拆解系统，在导轨任意位置可卡入安装。 选型表：型号材质固定平台尺寸厚度表面处理LBB016061-T6 铝合金25x25.4 mm15.5 mm黑色阳极氧化LBB026061-T6 铝合金50x25.4mm15.5mm黑色阳极氧化LBB056061-T6 铝合金18x32mm15.5 mm黑色阳极氧化

NIE-4000 离子束刻蚀系统 NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。通常情况下，样品表面采用厚胶作掩模，刻蚀期间高能离子流将会对基片和光刻胶过加热，除非找到合适的方法移除热量，光刻胶将变得昂变得很难以去除。支持百级超净间使用。 NANO-MASTER 拥有成熟的技术能力可以使基片温度保持在50°C 以下。通过倾斜和旋转，深沟可以切成斜角，通过控制侧壁轮廓和径向可提高均匀度。对于大尺寸的基片，我们配置线性离子源，通过扫描的方式，可以实现均匀的离子束刻蚀或反应离子束刻蚀。不同的构造不同的应用可选择不同的选配项，若要刻蚀之后马上涂覆，可以增加溅射选项。对于标准的晶圆片，也可选择自动装载卸载晶圆片。 工艺过程通过触摸屏电脑和 LabView 软件，可实现全自动的 PC控制，具有高度的可重复性，且具有友好的用户界面。 系统具有完整的安全联锁，提供四级密码授权访问保护，防止使用者越权使用，含：。 操作者权限：运行程序。工艺师权限：添加/编辑和删除程序。工程师权限：可独立控制子系统，并开发程序。服务权限：NM 工程师故障诊断和排除 系统支持不限数量的工艺菜单，每套工艺菜单可根据需要支持 1到 100 个工艺工序（步骤），可实现简单操作完成复杂的工艺。 系统标准配置包含涡轮分子泵和机械泵，极限真空可达到10-7 Torr 量级(可升级到 10-8Torr 量级)。分子泵与腔体之间的直连设计，系统可获得最佳真空传导率，12 小时达到腔体极限真空。腔体压力调节通过 PC 自动控制涡轮速度而全自动调节，快速稳定。双真空计配置，可实现真空的全局测量和精确测量。 对标准晶圆可支持单片或 25 片 Cassette 的 Auto L/UL 升级，可自动进样、对准、出样，在不间断工艺真空情况下连续处理样片。Load Lock 腔体配套独立真空系统，通过 PC 全自动监控。 若离子铣工艺之后需要马上进行反应离子刻蚀处理，NMC 技术可以双腔体系统，在一个系统的两个腔体内完成两种不同的工艺，若加上自动传输，还可实现整个处理过程都不打破彼此真空状态，实现非常高效的工艺处理 典型应用： 。 三族和四族光学元件。激光光栅。高深宽比的光子晶体刻蚀。在二氧化硅、硅和金属上深沟刻蚀。 微流体传感器电极及测热式微流体传感器 设备特点：。 24”x60”x10”长方或 14.5”立方型不锈钢离子束腔体。24”Wx10”H 或 8”测开门，带 2 个 2”观察视窗。支持 600X600mm 的基片(可定做更大尺寸)。 倒装磁控无栅无灯丝准直 60cm 线性离子源(离子枪)，1500-2500V，并且高达 1000mA，无需中和器。。 离子源均匀性可达+/-2.5%，操作压力1mTorr。与带栅极离子源相比更可靠，更低维护，更少污染。。 离子枪电源：4KV 电源。配套 Ar 和 CF4 MFC，支持 IBE 和 RIBE 刻蚀应用。 反应性气体通过靶枪的长度方向引入，均匀分布。冷却水冷却（背氦冷却可选）。 步进电机控制离子枪扫描或样品台旋转/倾斜。 手动或自动(自动仅对标准晶圆)上下载晶圆片。 配套 1200L/Sec 涡轮分子泵，串接 2021C2 机械泵，带 Fomblin 泵油。 极限真空可达 7×10-7 Torr。下游压力通过 PC 对分子泵涡轮速度的控制自动调节。SiN4 磁控溅射保护被刻蚀金属表面以防氧化(选配)。 基于 LabVIEW 软件的计算机全自动工艺控制。菜单驱动，密码保护，完全的安全联锁。紧凑型设计，占地面积仅 26”Dx66”W,节省空间 系统可选：。光谱终点探测器。氦气背部冷却。更大尺寸的电镀方形腔体。 自动装载/卸载。 低温泵组。 附加反应气体质量流量控制器。 格状射频电感耦合等离子体。 用于钝化层沉积的溅射源

RJW-900 总镍水质在线分析仪产品概述RJW-900总镍水质在线分析仪具有结构简单、精确可靠、重现性高、测量范围极宽等显著特点，能够对自来水、江河湖泊水、工业污水以及水处理前高浓度废水等进行直接测量。基本原理仪器基于国家标准方法丁二酮肟分光光度法，在高温高压下，水样中的各种镍化合物及未溶解的镍单质等经过过量硝酸和氧化物氧化消解变成正二价镍离子，在碘/碘化钾存在的条件下，将正二价镍离子氧化成正三价镍离子，在碱性条件下正三价镍离子与显色剂反应，生成络合物使溶液颜色发生变化，络合物在 530 nm 波长处的吸光度与镍离子浓度成正比，利用郎伯比尔定律定量测定总镍。产品特点l 自主研发的高精密型的陶瓷八通阀，耐强腐蚀、结构简洁、稳定性好、可靠性高；l 高低液位定量技术及液位报警系统，进样量精准，具有自动扩大测量范围数倍的功能；l 采用单片机集成技术实现仪器的高度集成，电控简单方便、方便维修；l 具有仪器初始化功能，开机自检各部件、软件等是否正常；l 具有故障处理指南，在仪器出现故障时，可简单指导现场人员进行维修和维护；l 具有光源自恢复功能，当光源出现衰减或者更换部件时，可以自行调节仪器的光电压；l 具有自提示功能，易损件到了寿命后会自动提醒客户进行更换；l 使用10寸高清工业触摸屏，用户界面更加友好、方便操作；l 可远程遥控完成对仪器校准、参数记录、分析时间的设定；l 废液和清洗液分开收集，减少仪器的二次污染；技术参数技术指标量程范围0.1～50 mg/L实际水样比对不超过±10%定量下限≤0.124h低浓度漂移/24h高浓度漂移≤10%/24h ≤5%/24h重复性≤8%模拟输出/数字通讯4~20 mA两路；RS232/RS485各一路重量/外形尺寸45 kg/（宽×高×深=480×1350×330）mm工作温度建议温度（5～40)℃；湿度≤85%(不结露)电源/功率50Hz，220V/150W测量周期/采样周期50min/时间间隔（0～9999min任意设定）和24H整点时间测量模式其他功能未采到水样和试剂时自动报警；异常后仪器自动排出残留液，复位自动恢复工作状态等

yc6100-ni型镍离子/总镍测定仪根据标准根据gb11910-89水质 镍的测定 丁二酮肟分光光度法标准设计研发，检测系统采用进口光学元器件，性能稳定可靠。采用5寸lcd显示屏，界面简单易懂，配合简单三步式检测程序，使用人员能够快速、准确使用。检测原理：镍离子在氨性或碱性溶液中先被氧化成四价，再与显色剂反应形成络合物,通过进口冷光源、窄带干涉技术，再以分光光度法测定其吸光度，经过仪器芯片计算后直接显示水质中镍离子/总镍的值（mg/l）。技术参数：检测项目 镍离子/总镍检测标准 gb11910-89水质 镍的测定 丁二酮肟分光光度法 量程范围 0-4mg/l检测下限 0.001mg/l测定误差 ≤± 5％重复性 ≤± 3%光学稳定性 ≤±0.001a/20分钟比色方式 16毫米比色管数据处理 1800条记录、80条曲线操作界面 中文显示屏 5寸lcd供电方式 ac220v±10%/50hz功率 3w工作环境 5-45℃ ≤85%无冷凝主机尺寸 310mm*240*155仪器重量 主机2kg配置标准：序号 名 称 数 量 序号 名 称 数 量1 镍离子/总镍测定仪 主机 1台 6 简易操作流程图 1份2 16毫米比色管 10支 7 使用说明书 1份3 镍离子/总镍测定试剂 1套 8 比色架 1个4 比色管清洁布 1块 9 合格证 1份5 保修卡 1份 10 电源连接线 1条

仪器原理采用高温氧化-丁二酮肟分光光度法测定水中总镍含量。在酸性环境中进行高温氧化，然后再用氢氧化钠中和后，在氨水和碘存在时，镍与丁二酮肟作用，形成酒红色可溶性络合物，在530nm处测量吸光度，并计算总镍的含量。仪器特点人性化设计，故障率超低，维护量超低，使用寿命超长；原装进口多通阀，安装、维护简单便利；高精度红外光电试剂计量系统；超高精度分光光度计单元；无接触式进样系统，避免试剂对硬件设备的腐蚀、损害；进口改型PTFE进样软管，超长使用寿命；高效安全的高温高压消解体系，反应更充分；高精度温控系统，超低的系统误差。 技术参数测量原理：高温氧化-丁二酮肟分光光度法；测量范围：0-2.0mg/L（可扩展或定制）；检出限：0.005mg/L；重复性：±5%；示值误差：±10%；分析时间：≤40分钟；测量模式：间隔测量（1～9999min任意设定）和整点测量；校准周期：每月一次；校准模式：自动校准；

镍片剥离力拉力试验机 的主要技术参数1，荷重：1000N2，松下伺服马达及驱动器2，机械系统：单立柱结构、高精密滚珠丝杠；4，导向杆：表面经高温及硬铬电镀处理，HRC60以上；5，防尘装置：抑叠防尘罩，保护丝杆；延长使用寿命；6，显示方式：液晶显示，人机界面/电脑双控，操作方便；7，控制软件：UTM材料试验机专用软件， 中英文显示互换,力量和长度单位可任意切换，向导式菜单操作,测试项目完整,打印报告格式美观,与国际接轨 ，已涵盖GB、ASTM、DIN、JIS、BS… 等测 试标准，亦可自编达到所需； 8，各种控制模式任选: 定位移、定速度、定荷重等；9，夹具: 根据客户要求具体配备镍片剥离力拉力试验机 专用夹具一套；10，机台外壳: 优质55#钢板,静电喷涂,美观大方，长久不褪色；11，多重保护装置: 上下限行程, 紧急刹车开关, 漏电保护装置,断裂停机保护,软体超载保护等；12，整台设备外观大气，造型美观，操作有序，精密度高；13，自动清零：主控计算机接到试验开始指令，测量系统便自动清零；14，自动返车：自动识别试样断裂后，活动横梁自动高速返回初始位置；15，自动存盘：试验数据和测试条件自动存盘，杜绝因突然断电或忘记存盘引起的数据丢失；16，自动变速：试验过程中横梁速度可按预先设定的程序自动变化，也可手动变化；17，结果再现：试验结果可任意存取，可对数据曲线再分析；18，曲线遍历：试验完成后,可用鼠标找出试验曲线逐点的力值和变形数据，求取各种材料的试验参数方便实用；19，结果对比：多个试样特性曲线可用不同颜色迭加、再现、局部放大,实现一组试样的分析比较；20，曲线选择：可根据需要选择应力-应变、力-时间、强度-时间等曲线进行显示和打印；21，单位互换：应力 应变 力 时间 强度等项目可根据需要选择不同单位切换.22，批量试验：对参数相同的试样,一次设定后可顺次完成一批试样的试验；23，试验报告：可按用户要求的格式对试验报告进行编程和打印；24，限位保护：具有程控和机械两级限位保护功能；25，过载保护：当负载超过额定值的 5%时自动停机；26，一机多用：通过配置不同规格的传感器，连接系统和测量软件，实现一机多用。 我公司生产的电子万能材料试验机主要用于对各类材料等进行常规力学性能指标的测试，可根据GB、JIS、ASTM、DIN、ISO等标准自动求取 试验力值、断裂力值、屈服强度、上下屈服强度、抗拉强度、抗压强度、断裂延伸率、拉伸弹性模量、弯曲弹性模量等试验数据。

灯头温升试验镍圈满足GB/T24392-2009 和 IEC60360：2002相关灯头温升测试标准要求制作而成。成分：NI纯度99.6%以上的日本进口纯镍；结构和特性： 材料的晶粒应精细且有规则结构，晶粒度：最小值为ASTM8(最大不超过0.019 mm)。灯头温升试验镍圈具体规格：序号名称对应标准1E14/E20温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图3,,内径13.5mm2E17/E20温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图43E26/E27温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图54E39/E40温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图65E14温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图7,内径15mm6E14温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图8,内径17mm7B22温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图9,内径26mm8B15温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图10,内径14.5mm9B15温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图11,内径22mm10B15温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图12,内径17.5mm11B22温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图13,内径21.5mm12E12温升试验灯座符合IEC60360标准要求,图14设备特征：（1）成分：NI纯度99.6%以上的日本进口纯镍；（2）结构和特性：材料的晶粒应精细且有规则结构，晶粒度：最小值为ASTM8(最大不超过0.019 mm)；（3）厚度：0.5 mm±0.02 mm；（4）维氏硬度：HV=135±15；（5）质量和粗糙度： 材料的成分和特性应一致。将镍片卷成光滑的圆筒，表面应光洁。套筒应纵向切割，并且不应有弯曲、波度、压痕、夹杂物、油脂和其他缺陷。符合标准：满足GB/T24392-2009 和 IEC60360：2002相关灯头温升测试标准要求制作而成。

HC-740S水质 离子（总镍）测定仪 产品简介：水质镍离子（总镍）测定仪基于权威认证方法——GB11910-89《水质 镍的测定 丁二酮肟分光光度法》，该方法以其检测快速、操作简单、测试成本低等特点，广泛应用于应急监测、污水处理、化工化学、制药、医院废水、食品等行业废水检测方面。水质 镍离子（总镍）测定仪不仅用于各行业废水检测，还可以应用于科研单位、大中专院校等机构的废水研究使用。技术参数：检测标准GB11910-89《水质 镍的测定 丁二酮肟分光光度法》测定范围0-4ppm检测下限0.009ppm测定精度误差≤± 5％重复性≤±3%光学稳定性≤±0.001A/20分钟（10万小时寿命）比色方式比色管比色供电方式AC(220V±10%)，50Hz主机尺寸270mm*220mm*95mm环境温度5~40℃环境湿度≤85%无冷凝重量1.3kg

菲希尔金镍厚度分析仪、金镍厚度测量仪、金镍分析仪 ——Ｘ射线荧光镀层测厚及材料分析仪菲希尔金镍测厚仪用途：XDLM-PCB 200型：首先PCB板将在仪器集成的激光点的协助下准确放置于样品台上。然后将样品台如抽屉般推入仪器内部。设计用途：能量色散型X射线荧光镀层测厚及材料分析仪（EDXRF），用于测量微小结构上的薄镀层厚度和材料分析菲希尔金镍测厚仪技术参数：元素范围：从元素氯(17)到铀（92），最多可同时测定24种元素。形式设计：台式仪器，测量门底部开槽设计。测量方向：由上往下X射线管：带铍窗口的微聚焦钨管高压：三档：30KV，40KV，50KV孔径（准直器）：0.2mm基本滤片：固定测量点尺寸：取决于测量距离和使用的孔径大小；视频窗口中显示的就是实际的测量点尺寸；最小测量点约为：0.16mm测量距离：0-10mm (0-0.4in),使用受专利保护的DCM测量距离补偿法X射线探测器：比例接收器菲希尔金镍测厚仪应用领域：钟表，首饰，眼镜 汽车及紧固件 卫浴五金连接器化学药水通信半导体封装测试电子元器件 PCB

主机：6B-60Ni型（V9）镍测定仪配套：6B-6型（V9）智能消解仪可广泛应用于大专院校、科研院所、污水处理厂、环保监测站、石化、造纸、制药、印染、纺织、皮革、酿酒、乳业、电子、市政工程等行业可直接测定镍，浓度直读内存标准曲线，无需标样繁琐校准，可实现快速检测具有时间记忆系统，大容量储存卡，可保存500万个数据冷光源、窄带干涉、光源寿命长达10万小时USB接口，可实现联机操作，自动生成图谱打印当前数据和所有存储的历史数据 测量项镍型号6B-60Ni测定范围0-5mg/L比色方式比色皿准确度±8%光源稳定性≤±0.005A/20min光源寿命10万小时存储数据500万条通讯接口USB接口打印机热敏打印机环境湿度相对湿度＜85%（无冷凝）额定电压AC220±10%50HZ净重2.5KG产品尺寸36*28*15额定功率15W 凡是我方提供的仪器，运输、包装等费用均由我方承担；一年之内免费保修，一年后进行有偿服务。凡是我方提供的仪器一年以后均按照供货范围表的报价进行有偿服务。

二硅化钼保护管主要成分为二硅化钼，规格主要是说壁厚与孔的大小，长度越长的二硅化钼保护管，在烧结过程中因为目前工艺限制，有些不可抗拒的问题，如管的直度，同轴度等。在制作中，一般都要考虑在内，二硅化钼制品越长的二硅化钼需要注意的更多。 一般使用规格为壁厚5毫米-6毫米左右，规格为8/18，,,12/25，16/25,10/20,20/32甚至更大规格，因二硅化钼密度比较大，越大的规格重量也相应较大，单纯的依靠胶粘在高温下无法满足固定需求，经过长期实践，在二硅化钼固定处采取打孔挂螺丝固定，可有效解决胶粘固定脱落问题，也可做出异型加工件。根据其应用特性，材料主要为二硅化钼及稀有金属添加剂，以达到耐高温，耐腐蚀，延长的特点。 二硅化钼保护管主要用于电厂，玻璃窑炉，钢厂热风管道测温的保护管，与刚玉相比，二硅化钼不容易炸裂，瞬间高温然后空气冷却，不会因为应力集中而拉断，在硅钼棒电热元件整形当中，几秒内升温支1600度，然后空气冷却。反复几百次对二硅化钼来说没有丝毫影响，主要用于高温领域，列如碳化硅保护管应用在1350度，重结晶的碳化硅使用在1400多度，但是寿命不是很理想，虽然便宜，但是更换频繁，间接的增加了用工成本及材料成本。二硅化钼适合温度为1300-1650度，这个范围是二硅化钼的软化范围，测温时被测温的产品不能有所搅动，以免对造成二硅化钼的形变，缩短二硅化钼保护管的使用寿命。

二硅化钼鼓泡管常见直径14、16、20；孔径从1孔到九孔，4孔、9孔使用较多；长度在500-1200毫米之间。郑州毅信窑炉有限公司二硅化钼鼓泡管耐高温，纯度高。孔径细小均匀可以过滤玻璃中的小杂质，提高玻璃的生产质量。 二硅化钼鼓泡管主要成分是二硅化钼，化学式MOsi2,属四方晶体结构,是Mo-Si二元合金系中含硅量 高的一种中间相，是成分固定的道尔顿金属间化合物，灰色，有金属光泽。具有耐高温特性，优宜的抗养化性，导电性、导热性，还有一定的机械性能，是制作高温发热元件、热电偶保护管、鼓泡管的好材料。同硅钼棒类似，二硅化钼产品本身并不具有高温抗氧化性，而是在高温养化气氛下，二硅化钼鼓泡管表面生成一层致密的高熔点的二氧化硅保护膜，这层膜抑制了产品继续氧化。二硅化钼鼓泡管性质：密度：5.5-5.6kg/cm3 气孔率： 5% 吸水率：1.2% 维氏硬度 ：（HV）570kg/mm2。 二硅化钼鼓泡管也是金属陶瓷制品，安装使用过程中应避免发生碰撞，对其施加外力。鼓泡管也有其他材质的，如钨鼓泡管、玻璃鼓泡管，钼鼓泡管等，我司主要生产二硅化钼鼓泡管，欢迎咨询。

仪器概述 水样通过注射泵注入消解池中，然后注入酸性药剂；然后混合液经加热消解，将不同价态的镍转化为二价镍；然后注入显色剂，经过反应后，在指定波长下根据显色颜色的深浅测定总镍的含量。 仪器特点 ? 更为强大的数据处理功能，可以对生成历史测量自动绘制数据曲线。? 采用国外进口的多通道选择取液装置，保证了测量的高重复性和准确性。? 可以实现用户反控平台，用户在电脑上安装好设备控制软件（选购），便可以实现在电脑上对仪器进行控制测试。? 具有打印功能，可以连接打印机（选购），及时打印所测量数据。? 采用7 寸触摸屏，以及简洁的操作界面，可达到用户易学、易操作、易维护。? 超大的数据存储容量，实现了不低于5 年的历史数据的保存（测量间隔为1 次/2h）。极大的满足了客户的需求。? 自动漏液报警功能，当出现试剂泄露时，仪器自动报警，提示用户进行维护。? 定量采用信号自动识别功能，保证了测量的高准确性和重复性。? 化学试剂维护简单化，便捷化，每月更换1 次试剂，大大减少了用户的维护工作量。? 预处理采用管路式，保证了水样的真实性，保证了取样不堵塞、易调节。? U 盘一键升级，软件更新更轻松。 技术参数 测试方法光学比色法模拟输出1 路0/4- 20mA 输出测试范围(0.01- 2)mg/L继电器控制2 路24V 1A 继电器高低点控制（可定义仪器状态）重 现 性优于5%数据通讯RS485、RS232准 确 度±10％显示屏幕7 寸彩色液晶显示屏，分辨率800*480仪器校准自动数据存储可以保存5 年以上数据 （测量间隔为1 次/2h）消解时间5min，可以任意设定样 品 PH5 ~ 10监测模式连续测量、等周期测量、定时测量、手动任意测量消解温度110 ℃校正间隔任意设定工作温度+5 ～ +40 ℃清洗间隔任意设定电 源(220±10%)VAC；(50- 60)Hz用户保养保养间隔 6 个月，次约30min功 耗小于100 VA试剂消耗1 个月（试剂和标准液）尺 寸1300mm×500mm×300mm （H×W×D）自检系统自我监测泄漏；仪器状态自我诊断

主要特点： 仪器特点：该仪器具有良好的整体性特色，电源，光具座和存放调整架的工具箱有机的结合在了一起。使实验的安排和整理工作更加简洁和明晰。 可开设实验：菲涅尔单缝衍射实验 菲涅尔圆孔衍射实验 菲涅尔直边衍射实验等多项菲涅尔类实验 成套性：导轨、二维调整架、干板架、白屏、多孔架、单面可调狭缝、氦氖激光器、透镜、刀片。