硼化锆

高温三层玻璃反应釜厂家技术1、由于玻璃反应釜采用的材料（GG17高硼硅玻璃)是拥有优良物料和化学性能。在变频调速的搅拌过程运转中会比较平稳，即使力矩大也不会产生火花。2、另外，组件采用四氟密封，在市场同类产品中可保持较好的真空度（一般在-0.095mpa左右），保持在工作状态下的高精度密封。而且还有磨屑收集槽。3、合金钢机械密封，聚四氟乙烯连接口，保持在工作状态下的高精度密封。4、Pt100传感器探头，测温精度高，误差小，有效提高工作效率5、聚四氟乙烯放料阀，可活动接口，出料彻底快捷。6、玻璃反应釜夹层的制冷或加热溶液在反应完毕后，能彻底排积，不积液7、整体不锈钢立柱移动式框架结构，五口反应釜盖，具回流、加液、测温等全套玻璃。8、强扭力，无噪声。采用的日本技术交流齿轮减速电机9、玻璃反应釜的双聚四氟乙烯搅拌桨，适用于低至高黏度液体的搅拌与混合。高温三层玻璃反应釜厂家简介： 实验室真空保温三层玻璃反应釜是常用的生化仪器，广泛地被现代精细化工，生物制药，科研实验等行业所选用，可在恒速，恒力，恒温的条件下做浓缩，蒸馏，回馏，分离，提纯反应，是教学，实验，中试，生产的理想仪器设备。产品可与循环水真空泵、隔膜真空泵、低温循环泵、循环冷却器、高温恒温循环器、低温冷却液循环泵、密闭制冷加热循环装置（又名：高低温循环装置）等配套组成系统装置。工作原理： 玻璃反应器内胆放反应物料，密闭状态下，常压或负压进行搅拌反应，其夹层可连通介质（冷冻液、加热水或加热油）做循环加热或冷却。双层玻璃反应器（电机采用全防爆电机，电器采用防爆电器箱、柜及本安化防爆处理）从而极大满足了现代生物、化学、制药等实验生产车间的防爆要求，达到Q/HA01—2005标准。 公司以科技创新，服务社会为宗旨，积极研究开发新产品，奉献于教育和科学，经过长期的研究开发和不断的技术积累，为化学、化工、生物、制药、高分子工程、电池、电子、钢铁、石油、机械、新材料等领域的科学研究和工业应用提供了精良装置

六硼化镧单晶阴极lanthanum-hexaboride-cathodes-single-crystal高电流、高亮度、单晶发射电流密度高达 30 A/cm 2发射表面尺寸范围长寿命工作压力 10 -7 torr定制尺寸在 AEI 底座、紧凑型 CB-104 底座上或要求定制安装

材质结构普通玻璃层析柱高硼硅玻璃，顶部和底部紧固件采用高硬度聚甲醛（POM）塑料（可根据需求订制PP,ABS等材质），坚固耐用。普通玻璃层析柱默认不带转换接头柱塞，可选购加装可伸缩调节的转换接头柱塞，可加压≤0.2Mpa，压紧柱内填充物；中压玻璃层析柱（带转换接头柱塞）采用加厚高硼硅玻璃材质，顶部紧固件、下部部紧固件和转换接头柱塞采用高硬度聚甲醛（POM）塑料（可根据需求订制PP,ABS等材质），坚固耐用。耐压≤0.6Mpa夹套蛋白层析柱（带转换接头柱塞）内层为高硼硅玻璃，外层采用加厚亚克力有机玻璃（PMMA），顶部和底部紧固件采用高硬度聚甲醛（POM）塑料（可根据需求订制PP,ABS等材质），坚固耐用。中间夹层可循环温水。技术参数筛网滤膜300目（如需其它尺寸订购时说明备注）操作温度0℃~55℃耐压普通玻璃层析柱：0~0.2Mpa；中压玻璃层析柱：0~0.6Mpa柱体清洗通常采用普通肥皂水清洗，或加酶洗衣液清洗即可；柱体消毒普通玻璃柱和中压玻璃柱可以放入灭菌锅中灭菌蒸煮，夹套蛋白层析柱需拆下外层有机玻璃（PMMA），在进行灭菌操作；注意事项1、除氯化的碳氢化合物(二氯乙烷***)。丙酮、酮类化合物、脂肪族脂和苯酚之外，其他的所有有机溶剂均可适用。2、禁止使用浓度大于10%的氢氧化钠，10%的盐酸或5%的醋酸溶液，因上述溶液会损坏尼龙网筛。3、如果您使用的化合物及溶液属以上注意事项中的1、2请告诉我们，以便根据您的需要，提供相应材料的层析柱。

朋环测控 高惰性前处理系统--硫化物、磷化物专用 ULT7300采用电子深冷技术,可有效富集痕量硫化氢、有机硫以及农残等特征因子。支持在线实时监测和离线苏码罐、气袋分析,支持外标进样,兼容市场上各类GC或GC/MS联用,如有特殊需要也可使定制。制冷源极限低温-200℃产品特点抗干扰能力强系统采用多级冷阱富集,前级冷阱除水,后级富集,有效去除空气采样干扰。不换冷阱成本省冷阱中不含吸附剂填料,后期无需更换冷阱,减少运维成本。全惰性化流路全气路管道、阀路、接头采用惰性化处理,确保硫化物不残留,不损失。适用标准《GB 14678-1993 空气质量 硫化氢、甲硫醇、甲硫醚和二甲二硫的测定 气相色谱法》《HJ 1078-2019 固定污染源废气甲硫醇等8种含硫有机化合物的测定 气相质谱》《气体分析 氢气中硫化合物含量的测定 低温富集-硫化学发光气相色谱法》

朋环测控 高惰性前处理系统--硫化物、磷化物专用 ULT7300采用电子深冷技术,可有效富集痕量硫化氢、有机硫以及农残等特征因子。支持在线实时监测和离线苏码罐、气袋分析,支持外标进样,兼容市场上各类GC或GC/MS联用,如有特殊需要也可使定制。制冷源极限低温-150℃产品特点抗干扰能力强系统采用多级冷阱富集,前级冷阱除水,后级富集,有效去除空气采样干扰。不换冷阱成本省冷阱中不含吸附剂填料,后期无需更换冷阱,减少运维成本。全惰性化流路全气路管道、阀路、接头采用惰性化处理,确保硫化物不残留,不损失。适用标准《GB 14678-1993 空气质量 硫化氢、甲硫醇、甲硫醚和二甲二硫的测定 气相色谱法》《HJ 1078-2019 固定污染源废气甲硫醇等8种含硫有机化合物的测定 气相质谱》《气体分析 氢气中硫化合物含量的测定 低温富集-硫化学发光气相色谱法》

氧化锆陶瓷坩埚、氧化锆瓷舟、氧化锆圆柱形坩埚、氧化锆弧形坩埚氧化锆坩埚纯度达到99.9,密度为6.00,zui高使用温度为2200度,主要运用在熔炼贵金属,抗热稳定性能良好。 主要用途 熔化贵稀金属。氧化锆坩埚,高温稳定性好, 是理想的实验高温耐火制品。二氧化锆的熔点比锆高，达2700℃，是自然界中耐火性能zui好的材料之一。它的导热性能差，但导电能力很强，沆蚀能力也很强，即使加热到1900多摄氏度也不会跟熔融的铝、铁、镍、铂等金属、硅酸盐和酸性炉渣发生作用。因而可以用它来制造熔炼贵金属的坩埚、耐火管、耐热玻璃和耐热搪瓷等。在搪瓷和玻璃中加入二氧化锆可以使它们增强抵抗酸、碱腐蚀的能力。用二氧化锆衬砌的高温炉，受热后体积不会增大很多，温度变化对它影响很小，炉体不致因热胀冷缩而产生裂缝，可以大大延长炉子的寿命。用二氧化锆作耐火材料，加进5％的氧化钙作稳定剂，它的耐热温度比氧化铝高500度，绝热能力比添加以前提高三倍。把白色的二氧化锆掺进陶瓷，能使陶瓷更洁白光亮、更耐热，强度也有所增加，用这种陶瓷制造高温绝缘瓷瓶，绝缘能力很强，膨胀系数很小。 品质信誉你我的追求！ 产品介绍：主要用于梭式窑、推板窑中烧色料、色剂、熔块、颜料、发光材料等光学玻璃，还可用于稀土等矿物原料的分析与烧制、陶瓷粉末等高温制品的烧成，还可以用于熔炼铂、铑、铱等贵重金属及合金。 技术参数： 项目ZrO2密度g/cm36抗弯强度MPa 1000抗压强度MPa3000弹性模量GPa200 耐冲击性MPam1/28威布尔模m22维氏硬度HV0.5 1300热导率W/mk2zui高使用温度℃2200体积电阻20℃Ω.cm201013热膨胀系数X10-6/K10熔点℃ 2700莫氏硬度7 氧化锆的优点：1.抗烧，热导系数高。2.超低膨胀系数。3.高热稳定性好。4.使用寿命长、尤其适用于急冷急热。6.导热快、能耗低、降低能耗。8.内壁光、不沾粉、减少稀土抛光量。 氧化锆的特点：1、耐火度高2、耐冲刷3、耐腐蚀4、硬度高

短程分子蒸馏仪AY-SP2L高硼硅玻璃材质产品介绍：短程分子蒸馏是一种短距离运行的蒸馏技术。它是一种基于负压下液体混合物中沸点差异来分离混合物的方法。 当待净化的样品混合物被加热时，蒸气挥发上升进入立式冷凝器，随之被水冷却。 该技术用于在高温下不稳定的化合物，因为它可以保证较低的沸点。其优点是加热温度可以比标准压力下的液体沸点低得多（负压状态下），并且蒸馏物在冷凝之前仅有很短的距离。同时短程蒸馏后残留的化合物的量较少。产品特征：1. 四氟螺口温度计接头 （带氟橡胶垫圈）2. 向下放料口3. 真空夹套蒸气通道4. 多套分流瓶蒸馏头5. 高质量耐用3.3高硼硅玻璃制作6. 加热套外加磁力搅拌功能7. 冷阱保护真空泵不受到蒸汽的污染和破坏8. 配备真空泵和加热&制冷设备 产品参数：型号AY-SP2LAY-SP5LAY-SP10LAY-SP20L材料硼硅酸盐玻璃 3.3加热温度300℃工作压力大约 5 Pa蒸馏烧瓶体积 (L)251020接口2 x 24/40 接口34/45接口,24/40 接口24/40 接口, 2 x 34/45 接口24/40 接口,2 x 34/45 接口接收瓶体积 (mL)2 x 500mL2 x 1000mL2 x 2000mL4 x 2000mL接口24/40 接口24/40接口24/40接口24/40 接口冷阱干冰体积 (L)1L1L1L2 x 1L加热套加热功率(w)650110021003000搅拌速度 (rpm)50-180050-180050-180050-1800电机功率(w)40404040真空泵泵送率(CFM)10101015低温循环槽冷却温度 -10℃ ~ 95℃ -10℃ ~ 95℃ -10℃ ~ 95℃ -10℃ ~ 95℃通用电压220V 50/60Hz

调速玻璃反应釜主要是用于物料合成、蒸馏、浓缩等实验。釜体结构分为单层、双层及三层三种类型。根据需要可将釜内抽至负压状态，满足实验条件。 用途特点：●可调节式承重地脚，防滑；●搅拌桨直径可达25mm，叶片直径大，力矩大；●结构上下盘稳重，高速运转时稳定。●配有316材质接料托盘，可回收物料，防止污染环境。●高硼硅玻璃材质，具有优良的物理、化学性能。●可在高温（200℃）至低温（-80℃）的范围内使用。●可在常压及负压条件下工作，真空度可达0.095MPa。●釜内可承受压力范围：-0.1MPa~0MPa。●特氟隆+FV橡胶材质的旋塞或放料阀；外加四氟乙烯保护层的“O”型圈。温馨提示： 1.仪器设备验收后提供一年的免费保修(不含玻璃件)，终身维修。 2.在设备的质保期内，如有质量问题或质量缺陷，我公司给予免费给 换配件，保证用户设备及时正常使用。 3.质保期过后，如需 换配件，只收取配件成本费。 4.实验数据来源于长城科工贸研发中心实测数据。 5.在设备投入使用前，请认真阅读产品使用说明书。 6.如有疑问可咨询在线客服或拨打免费热线。

氧化锆坩埚纯度达到99.9,密度为6.00,使用温度为2200度,主要运用在熔炼贵金属,抗热稳定性能良好。 主要用途 熔化贵稀金属。氧化锆坩埚,高温稳定性好, 是理想的实验高温耐火制品。货期20-30天内发货 ！二氧化锆的熔点比锆高，达2700℃，是自然界中耐火性能好的材料之一。它的导热性能差，但导电能力很强，沆蚀能力也很强，即使加热到1900多摄氏度也不会跟熔融的铝、铁、镍、铂等金属、硅酸盐和酸性炉渣发生作用。因而可以用它来制造熔炼贵金属的坩埚、耐火管、耐热玻璃和耐热搪瓷等。在搪瓷和玻璃中加入二氧化锆可以使它们增强抵抗酸、碱腐蚀的能力。用二氧化锆衬砌的高温炉，受热后体积不会增大很多，温度变化对它影响很小，炉体不致因热胀冷缩而产生裂缝，可以大大延长炉子的寿命。用二氧化锆作耐火材料，加进5％的氧化钙作稳定剂，它的耐热温度比氧化铝高500度，绝热能力比添加以前提高三倍。把白色的二氧化锆掺进陶瓷，能使陶瓷更洁白光亮、更耐热，强度也有所增加，用这种陶瓷制造高温绝缘瓷瓶，绝缘能力很强，膨胀系数很小。 备：可根据用户需求定制各种非标异型氧化锆坩埚！

石膏收缩膨胀仪是检测仪器，用来测定石膏、砂浆、水泥的收缩和膨胀变形量，以确定其收缩系数和膨胀参数。使用前务必仔细阅读说明书。并由实验人员操作，以避免操作不当引起的伤害。如需了解更多资料请与我公司客服人员联系。石膏收缩膨胀仪由上海荣计达仪器科技有限公司提供，设备质保期一年，一年内产品如有质量问题，供方负责免费维修。如果因操作不当或者人为损坏，我公司亦应提供维修、更换服务，由此产生的费用我公司会酌情收取。石膏收缩膨胀仪技术参数:标准棒长度 175mm标准棒膨胀系数 15×10-6/℃位移计精度 0.01mm位移计量程 ±5mm百分表最小刻度值：0.01mm百分表最大量程：10mm测量范围：170～180mm测头球面孔半径：R=3mm标准杆基长：175mm外形尺寸 220×220×510 石膏收缩膨胀仪使用方法1、先将标准棒置于工作台上，拧动调整螺丝使之近似垂直。2、将测量框架置于标准棒的顶头，调整螺杆和螺母，使百分表对准零位（或记下百分表之刻度）。3、将制作养护好的试件两端擦拭净，然后放置在工作台上，然后把测量框架套在试件上，并左右移动表框，使试件与测量框架的测量头准确地接触，此时即可开始读数，并记录下表盘上的刻度值。4、如果实验不是连续进行或实验历时较久后，则在测试前须先在标准棒上校准测量框架。SP-175石膏收缩膨胀仪使用注意事项:1、使用时，忌用手直接与标准棒接触，应持外外套部分，以防止标准棒受人体手温的影响。2、仪器用毕后，应将测量框架的测量头和百分表探拭净，并涂以钟表油；测试过程中，应使百分表的测头缓慢而平稳地与试件接触，不允许冲击和碰撞，严禁将百分表测杆顶过最大量程范围，以免影响表的灵敏度和使用寿命。

高真空电子束蒸发镀膜机（电子束蒸镀机是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。可用于生产、科学实验及教学，可根据用户要求专门订制。可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式, 通过PLC 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制, 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。设备特点设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点，配备 E 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。PID自动控温，具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式,通过PLC和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制,包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。真空性能极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa恢复工作真空时间短，大气至7×10-4Pa≤30分钟；设备构成E 型电子束蒸发枪、电阻热蒸发源组件（可选配）、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵真空机组或低温泵真空机组、旋转基片加热台、工作气路、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置 E 型电子束蒸发系统 1套 功率 6kW～10kW 其它功率(可根据用户要求选配） 坩埚 1～8只 （可根据用户要求选配） 电阻热蒸发源组件 1～4套 （可根据用户要求配装）电阻热蒸发源种类-钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件-石英舟热蒸发源组件-钨极或钨蓝热蒸发源组件-钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）-束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司（简称：鹏城半导体），由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机，离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）|OLED中试设备（G1、G2.5）|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备（PECVD+磁控溅射）团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延（MBE）设备，包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪（反射高能电子衍射仪）、直线型电子枪、膜厚仪（可计量外延生长的分子层数）、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用，至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统，应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备，应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备，可加水平磁场和垂直磁场，自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉，用于GaN和ZnO的外延生长，实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD，用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备，用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备（采用热激发技术和CVD技术）。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备，制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计，开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备，目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备（≥Φ6英寸）。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。

实验室玻璃反应釜主要是用于物料合成、蒸馏、浓缩等实验，提取生成物，拥有密封技术，釜体结构分为单层、双层及三层三种类型。根据需要可将釜内抽至负压状态，满足实验条件。釜体为1L、2L、3L三种规格，可支持定制。1L~3L实验室用高硼硅调速玻璃反应釜技术特点● 玻璃组件均为高硼硅玻璃3.3，具有优良的物理、化学性能。● 适用温度范围-80℃~200℃。● 适用压力范围-0.1 MPa—0MPa。● 夹套进、出液口连接不锈钢保温软管，消除进出液口应力。● 机架采用SUS304+铝板6061-F喷塑，耐腐蚀性强，便于清洁维护；带刹车装置的脚轮便于移动设备和安装定位。● 自主研发的搅拌轴承，密封效果好。● 搅拌桨叶片采用聚四氟乙烯材料制作；搅拌轴采用SUS304，外包聚四氟乙烯。1L~3L实验室用高硼硅调速玻璃反应釜技术参数郑州长城科工贸有限公司为您提供多种规格型号的玻璃反应釜，支持定制。郑州长城科工贸有限公司专注科学仪器 试验设备领域，热销产品主要包含：ZT系列制冷加热循环装置、LT系列超低温循环冷却器、DL系列循环冷却器、HX系列恒温循环器、SY系列高温循环器、DLB系列低温冷却循环装置（中试放大试验专用）、DHJF低温恒温搅拌反应浴、MP隔膜真空泵、SHB循环水式多用真空泵、DLSB低温冷却液循环泵、旋转蒸发仪（实验室级，中试级）、玻璃反应釜（调速，升降，不锈钢）、集热式恒温磁力搅拌浴等十几种系列，一百多种型号科学实验仪器。

产品名称：氧化锆(YSZ)晶体基片产品简介：氧化锆（ZrO2）由于ZrO2单晶需掺入钇（Y）以稳定其结构， 一般实际使用的是YSZ单晶――加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好，价格较低因而得以广泛应用。技术参数： 化学分子式 (Zr,Y)O2with Zr : Y = 91:9 晶体结构 立方 晶格常数 a = 5.125 ? 密度 5.8 g / cm3 纯度 99.99% 熔点 2800 oC 热膨胀系数 10.3 x10-6/ oC 介电常数 27 晶体生长方法 弧熔法产品规格：100, 110, 111公差：+/-0.5度dia2"x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm单抛或双抛，Ra5A注：可按客户需求定制相应的方向和尺寸。标准包装：1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装 相关产品：A-Z系列晶体列表清洗机 基片包装盒系列划片机旋转涂层机

电子显微镜用六硼化镧阴极ES-Microscopy高电流、高亮度、微扁平单晶电流密度高达 30 A/cm 2发射表面尺寸适合显微镜使用使用寿命长工作压力 10 -7 torr陶瓷 AEI 底座或各种显微镜底座

GASTEC快速气体检测管无论何时由于不用分析仪器和化学药剂，省略了测量前的准备工作，无论何时都可以进行测定。无论何地极为小巧便于携带，只要有微量的空气就可以进行测定，最适合于现场测定。无论何人测定的操作非常简单，无论专业人士或非专业人士。多种气体GASTEC快速气体检测管可以检测多达300余种气体。检测快速测定的结果几分钟就可得到，可以立即转入下一步操作。过程安全日本GASTEC快速气体检测管不用电源，热源，不产生火花，即使有易燃易爆的气体存在，也可以确保操作安全。选型指南型号被测物质分子式可检测范围 ppm19LA砷化氢AsH30.04-1021羰基硫COS5-20021LA2-12522乙硼烷B2H60.02-5.023M二氧化氯ClO20.1-1023L0.025-1.2

全自动石膏砂浆收缩膨胀仪SP-175A是检测仪器，用来测定石膏、砂浆、水泥的收缩和膨胀变形量，以确定其收缩系数和膨胀参数。使用前务必仔细阅读说明书。并由专业实验人员操作，以避免操作不当引起的伤害。如需了解更多资料请与我公司客服人员联系。石膏收缩膨胀仪由上海荣计达仪器科技有限公司提供，设备质保期一年，一年内产品如有质量问题，供方负责免费维修。如果因操作不当或者人为损坏，我公司亦应提供维修、更换服务，由此产生的费用我公司会酌情收取。 全自动石膏砂浆收缩膨胀仪SP-175A技术参数:★标准棒长度 175mm★标准棒膨胀系数 15×10-6/℃★位移计精度 0.01mm★位移计量程 ±5mm★百分表刻度值：0.01mm★百分表量程：10mm★测量范围：170～180mm★测头球面孔半径：R=3mm★标准杆基长：175mm★外形尺寸 220×220×510mm★重量：约2kg石膏收缩膨胀仪使用方法★先将标准棒置于工作台上，拧动调整螺丝使之近似垂直。★将测量框架置于标准棒的顶头，调整螺杆和螺母，使百分表对准零位（或记下百分表之刻度）。★将制作养护好的试件两端擦拭净，然后放置在工作台上，然后把测量框架套在试件上，并左右移动表框，使试件与测量框架的测量头准确地接触，此时即可开始读数，并记录下表盘上的刻度值。★如果实验不是连续进行或实验历时较久后，则在测试前须先在标准棒上校准测量框架。SP-175石膏收缩膨胀仪使用注意事项:★使用时，忌用手直接与标准棒接触，应持外外套部分，以防止标准棒受人体手温的影响。★仪器用毕后，应将测量框架的测量头和百分表探拭净，并涂以钟表油；测试过程中，应使百分表的测头缓慢而平稳地与试件接触，不允许冲击和碰撞，严禁将百分表测杆顶过A大量程范围，以免影响表的灵敏度和使用寿命。

一． SF-2L双层玻璃反应釜用途：玻璃真空反应釜为双层玻璃设计，内层放入反应溶媒可做搅拌反应，夹层可通上不同的冷热源（冷冻液，热水或热油）做循环加热或冷却反应。在设定恒温条件下，在密闭的玻璃反应器内，可根据使用要求在常压或负压条件下进行搅拌反应，并能做反应溶液的回流与蒸馏，是现代精细化工厂、生物制药和新材料合成的理想中试、生产设备。二、SF-2L双层玻璃反应釜特点 1.双层玻璃反应釜电子调速、减速电机。电子调速，无电刷、无火花，安全稳定，可连续工作。 2.双层玻璃反应釜全套玻璃仪器采用GG17高硼硅玻璃生产，有良好的化学、物理性能。 3.双层玻璃反应釜玻璃夹层接口通上热油经过循环，可做加热反应，通上冷冻液可进行低温反应。 4.双层玻璃反应釜可在常温下反应，通上自来水即能快速将反映热量带走。 5.双层玻璃反应釜下放料口具法兰口和聚四氟阀门，容器内无死角，可拆卸便于固体物料出料。 6.双层玻璃反应釜五口反应器盖，特大口设计便于清洁，标准口插口可选择组装回流，蒸馏合成装置。三、SF-2L双层玻璃反应釜参数基本参数型号 SF-2L玻璃材质GG-17底板式主体支架不锈钢反应瓶容积2L夹层容量0.8L便插式进出油循环口低进高出釜盖瓶口数五口放料口离地30mm釜体反应温度-80～200℃真空度-0.098Mpa搅拌转速50-600rpm搅拌轴径￠8mm搅拌功率120W电压/频率220V/50Hz外形尺寸（mm*mm*mm）350*345*1000底板尺寸（mm*mm）325*345包装尺寸（mm*mm*mm）1200*480*400包装重量（KG）32功能配置调速方式电子调速转速显示方式智能数显密封方式四氟组件密封，￠50法兰搅拌口24#标口立式冷凝器40*400mm24#标口滴加装置250ml恒压漏斗减压装置19#标口减压阀测温管19#标口放料方式斜出料式四氟放料阀，￠50法兰口真空显示方式真空表搅拌连接方式万向节连接搅拌棒锚式不锈钢棒，外包四氟

高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室＋进样室-单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手）设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置。可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件：数量：1～12套（可根据用户要求配装）；电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）。高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）工作条件（实验室应具备的设备工作条件）供电：4kW，三相五线制～ AC 380V工作环境湿度：10℃～ 40℃工作环境温度：≤50%冷却循环水：0.2m3/h，水温18℃～ 25℃水压：0.15MPa ～ 0.25MPa真空性能极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机，离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）|OLED中试设备（G1、G2.5）|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备（PECVD+磁控溅射）团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延（MBE）设备，包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪（反射高能电子衍射仪）、直线型电子枪、膜厚仪（可计量外延生长的分子层数）、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用，至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统，应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备，应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备，可加水平磁场和垂直磁场，自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉，用于GaN和ZnO的外延生长，实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD，用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备，用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备（采用热激发技术和CVD技术）。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备，制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计，开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备，目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备（≥Φ6英寸）。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。

适用范围 适用于煤炭、电力、冶金、化工等化验室以及大专院校的实验室分析和工业热处理等行业。尤适用于流动气氛条件下各类固体材料的高温合成、煅烧、焙烧、烧结、灰化、焚化、熔融及热处理等。通用功能1、组成：微波加热箱体、微波发生器、物料输送系统、控制系统、三通高硼硅玻璃管、物料收集箱。2、使用环境：1．输入电源：3相，380V（10%变化范围）,50Hz2．配电功率：7.5KVA3．使用环境：无易燃、易爆和腐蚀性气体4．辅件：三通高硼硅玻璃管3、 微波系统1．微波频率： 2450MHz2．微波功率：4KW 3．设备尺寸：约1200× 600× 1000mm （高× 宽× 深，暂订），金属管道距离设备侧边为500mm以上，留有法兰4．设备内腔尺寸：约400× 400× 400 mm（宽× 高× 深）5．玻璃管尺寸：横管长700mm直径230mm，竖管长275mm直径81mm6．微波箱体材料:内腔不锈钢，外壳碳钢喷塑7．微波馈入部位:侧部8．冷却方式:磁控管风冷；变压器自冷9．管道各连接口安装截止波导，防止微波泄漏10．微波泄漏量国标:5mW/cm² （检测方法：手持式泄漏仪检测，置于微波可能泄漏的地方检测，大于5mW/cm² 为超标）4、物料输送系统1．称量式料桶：物料经自动称量系统进入料斗，经闭合式开关送入管道2．鼓风机：管道一侧设置鼓风机，根据时间判断，经阀门进风及时将物料送入收集水箱3．刮料板：手动推拉式可拆卸环形刮料板，将设备工作过程中可能出现的未反应的物料清理出管道（操作的过程为:将管道的防泄漏密封取下后，运用刮板将物料推出管道）4．管道密封：设备管道处保持良好的气密性，在工作过程中不出现管道接口处漏气的情况5、控制系统1．控制方式：PLC实现多段功率、时间精确控制，及闭合开关、鼓风机等联动控制2．微波功率调节范围: 0～4KW可选择使用，单个微波源功率线性无级可调3．采用温度控制器，保护微波源核心部件，以延长使用寿命4．观察窗：侧部开观察窗配合内部照明，可随时观察加热过程5．闭合开关：门控式开关，自动判断进料及微波启动条件，确保物料及时加热并防止微波泄漏规格参数1、 设备总输入功率：约7.5kVA2、 输入电源：3相，380V（-5～5%变化范围）,50Hz3、 使用环境:无易燃、易爆和腐蚀性气体4、 进料温度：厂房的室温，平均按照20℃设计 5、 加热物料：石墨烯6、 盛料结构：三通高硼硅玻璃管

乙硼烷，化学式为B2H6，属于无机化合物，是目前能够分离出的**简单硼烷，常温下外观为无色气体状，有特殊臭味，有剧毒，易水解，易溶于二硫化碳。乙硼烷在潮湿空气中易爆炸，室温下可分解，能与多种有机溶剂及金属发生剧烈反应，因此乙硼烷存储条件要求高，需要存储在低温、干燥环境中，并远离热源、明火以及氧化剂、卤素等物质。用于半导体产业中；用作高能燃料，用于火箭、导弹制造中；用作有机合成原料，用于化工产业中；用来制备高纯度硼单晶；还可用于制药、金属焊接等领域。其中，半导体产业是乙硼烷的重要下游市场。名称：固定式乙硼烷检测仪产品简介：主要是针对化工厂、实验室，危化品仓库等有限空间研发检测气体进行优化后的一款专用的在线固定式检测仪。它能将现场检测到的有毒有害气体浓度，转换为对应的标准信号（标准信号种类选择请参考技术参数表），然后将信号传输到 PLC、DCS、报警控制主机等上位机进行统一显示、管理和控制，从而组成功能强大的智能化气体检测报警控制系统。该设备内置继电器，可控制外围声光报警器、风机、电磁阀等设备。如该设备连入我司服务器，可实现远程设置报警值和远程标定等功能，节省后期维护成本。广州市诺达电子有限公司以专业、负责的态度致力于为客户提供与环境匹配的检测产品和服务。 主要特点：★速核系统：采用高精度32位高速微处理器，**Epsion数据处理系统，速测危害气体，高效预警毒气泄漏； ★多级标定：业内智能化多级校准技术，多重滤波技术，更精准更快速地反馈现场浓度值；★自动标定：通入实际标气，无需标定员操作，**智能识别标定；★稳定性超强：经过严格的进料筛选工序，及行业经验十几年的研发人员匠心打造，抗EMC、EMI干扰，大幅度提高**侦察兵的可靠性；★多结构的通讯方式：支持4-20mA与RS485单路或多路同时通讯，有线与内置无线433M/GPRS等无线多路通讯（选配）；★规范标准：JJF 1363-2012,JJF 1368-2012,JJF 1421-2013,JJF 1364-2012 GB3836-2010,GB 12476.5-2013 技术规格参数及气体种类：检测气体乙硼烷量 程0-10PPM/0-50PPM/0-100PPM（更多量程可以来电咨询）；分 辨 率0.01PPM检测原理电化学原理精 度≤±3F.S显示方式320*240 高清彩屏响应时间T90＜30S恢复时间≤30S（T90-T10)使用寿命传感器2-3年检测方式扩散式重 复 性≤±1 %F.S继 电 器容量 220VAC **/24VDC ** 无线输出（选配）433M（≤无障碍3公里 ） （定制）GPRS（无距离限制） （定制）WIFI/zigbee/LORA （定制） 有线输出（选配） 485+开关量输出 （标配）4-20mA+RS485+开关量报警输出 （定制）以上任选一种防护等级 IP66防爆等级隔爆型：ExdⅡCT6 Gb 尺 寸205*140*92mm(L×W×H)探头材质铝合金、不锈钢（可选）安装方式壁挂式、杆装式、管道式重 量1KG工作电压12－35VDC，常用 12VDC、24VDC电气接口接线口尺寸：内螺牙 M20*1.5（ G1/2 内螺牙、G3/4 内螺牙、 1/2NPT标准配件探测器、说明书、红外遥控器、厂家出厂检测报告选 配 件防爆声光报警、安装支架、管道式安装配件等工作环境温度：催化燃烧：-40~+70℃；电化学：-20~+50℃；PID：-20~+50℃；红外：-20~+50℃； 荧光法：-20~+50℃； 氧化锆:-40℃~+700℃压力：86-110Kpa；（氧化锆：≤0.6Mpa)湿度：15%RH~95%RH（无凝露）产品功耗电化学传感器：P ≤ 1.2W 红外传感器：P ≤ 2.0W普通催化传感器 ：P ≤ 2.6W 低功耗催化传感器 ：P ≤ 1.5W 热导传感器 ：P ≤ 2.0W 执行标准GB15311.1-2003； GB3836.1-2010； GB3836.2-2010； GB3836.4-2010；气体选型O30-100%LELCH2O0-10,50,100PPMCO0-100,1000,2000,10000PPMO30-1,10,50,100%VOLH2S0-50,100,1000,2000PPMCH40-1,10,50,100%VOLO20-30,100%VOLPH30-10,100,1000,5000PPMNH30-50,100,1000,2000PPMH20-100,1000,5000,40000PPM,100%VOLO30-5,10,50,100,1000,5000,10000PPMN20-100%VOLCL20-10,20PPMHCL0-10,100,500,1000PPMNO0-100,500,1000,5000PPMSO20-10,20，100,500,1000,5000,40000PPM

高真空电子束蒸发镀膜机是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。可用于生产、科学实验及教学，可根据用户要求专门订制。可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式, 通过PLC 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制, 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。设备特点设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点，配备 E 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。PID自动控温，具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式,通过PLC和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制,包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。真空性能极限真空：7×10-^5Pa～7×10^-6Pa设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa恢复工作真空时间短，大气至7×10-4Pa≤30分钟；设备构成E 型电子束蒸发枪、电阻热蒸发源组件（可选配）、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵真空机组或低温泵真空机组、旋转基片加热台、工作气路、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置 E 型电子束蒸发系统 1套 功率 6kW～10kW 其它功率(可根据用户要求选配） 坩埚 1～8只 可根据用户要求选配 电阻热蒸发源组件 1～4套 （可根据用户要求配装）电阻热蒸发源种类-钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件-石英舟热蒸发源组件-钨极或钨蓝热蒸发源组件-钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）-束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）操作方式手动、半自动

传统煤场管理模式粗放，经营效率低下，人力资源冗余严重，不能有效控制发电成本，主要生产要素成本高，经济效益低，缺乏燃料系统管理理念。因此，对煤场存煤的精细、准确性盘点是燃煤企业燃料经济优化决策过程中的一大前提，是电力产业经济发展的趋势和必然选择。 我公司根据多年经验及各大煤场实际使用情况，应厂家对煤场盘存全面无死角扫描，且能实时将数据回传到数字化煤场系统的要求，以及避免常规固定式盘煤系统存在的问题等要求，通过对比激光扫描仪的安装位置、安装方式、盘煤准确性，同时对造价以及维护等方面进行全面考虑，结合实地考察数据，自主研发设计了固定式煤棚顶部定点安装方案。该方案在国内燃煤企业首屈一指，是应煤场封闭盘存智能化管理的新型方案。 煤棚顶部定点安装全自动盘煤仪盘料仪数字化煤场

高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室＋进样室-单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手）设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置。可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件：数量：1～12套（可根据用户要求配装）；电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）。高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机） 工作条件（实验室应具备的设备工作条件）供电：4kW，三相五线制～ AC 380V工作环境湿度：10℃～ 40℃工作环境温度：≤50%冷却循环水：0.2m3/h，水温18℃～ 25℃水压：0.15MPa ～ 0.25MPa真空性能极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa操作方式手动、半自动

朋环测控 静态稀释仪(可做高纯气体稀释) SD6000/7000静态稀释仪用于实验室标准气体、样品气的稀释,稀释过程中不会将标气排入大气环境中,环保安全、节省气体标准(或样品) 也可用于样品的加标、加压 除稀释气外的所有流路均采用了高惰性化不锈钢管路和接头,且具有加热功能,避免残留和吸附。该产品最多可将5种不同含量的标准气体混合稀释成要求的标准气体,同时支持稀释活性较大的气体(如硫化物等)。系统优势稀释范围宽带温度补偿的24位高精度压力传感器内部流路体积小于200uL,易清洗全流路惰性材料(硅烷化不锈钢,PEEK)全流路伴热,减少吸附损失自动检漏自定义建立稀释方法，可溯源控制界面,使用直观方便内置标签打印,方便工作记录占用工作台面积小32cmx32cm,10寸触摸屏

CYCW-408(温度监控系统高精多路采集保鲜速冻食品车间)是一款防水，多点测温智能控制，支持无线通信的温度仪表。CYCW-408温度仪表(温度监控系统高精多路采集保鲜速冻食品车间)功能强大，适用于食品加工、冷藏库、保鲜库、医药、农业大棚等行业。CYCW-408(温度监控系统高精多路采集保鲜速冻食品车间)功能特点：1、采用ABS工程塑料防水外壳，具有较佳的防水防潮性能。2、通信方式多样化，可选485通信、无线433M通信，无线ZIGBEE通信。3、可接入1-8个DS18B20数字化温度探头，测量精度高，无须校准。4、全部采用可插拔接插件，便于维修、更换。CYCW-408(温度监控系统高精多路采集保鲜速冻食品车间)性能指标：●温度测量范围：－55℃～125℃（采用进口数字化探头）●温度测量误差：+/-0.1℃（-20℃～+50℃）, +/-0.2℃（-55℃～+125℃）●分辨率：温度0.1℃　●通讯接口：RS485接口或无线433M通信或无线ZIGBEE通信●电源电压：180V～240V●环境温度：－20℃～60℃　　●外型尺寸：200mm×120mm×60mm

借助Sievers 超纯水硼分析仪对硼进行持续的在线监测Sievers硼分析仪可用于去离子超纯水应用，实现对超低硼含量的连续自动在线监测。该分析仪每小时能够检测10个样品，具有15 ppt硼的检测极限（LOD）。Sievers硼分析仪设计用于满足设备管理人员、去离子水工程师和晶圆制造工程师的需求。易于操作和维护Sievers硼分析仪可以预测混床失效、优化EDI性能并控制抛光循环水的硼水平。这款硼分析仪可以在二氧化硅释放前检测到硼含量的增加，这有助于防止二氧化硅渗漏到超纯水中。Sievers硼分析仪可显著降低运营成本，保持超纯水系统的质量。硼分析仪的特点与优势在极具挑战的应用中提供更高的可靠性和更长的正常运行时间 连续在线监测低至15 ppt的硼多流路选项——最多四个样品流丰富的输出选择——四个独立的4-20 mA输出，一个独立的RS-232，一个通用并行打印机端口，两个报警输出和四个独立的二进制输出最少的维护与耗材需求配件包包含安装所需的配件应用半导体超纯工艺水超纯水电力应用运行规格浓度范围0.015至20 ppb B检测限（LOD）0.015 ppb B准确度± 0.01 ppb B 0.05 ppb B± 15% 0.05 ppb B精确度± 3%或0.005 ppb B（以较高者为准）最小样品电阻率15 megaohms–cm样品温度15°-40°C样品流速0.1 -0.5 L/分钟环境温度10°C–40°C样品压力20-100 psig（138-689 kPa）校准稳定性通常12个月样品颗粒15微米样品预过滤废物重力排放（无背压）仪器规格输入5个隔离二进制输入输出4个独立4-20 mA输出，1个独立RS-232，1个通用并行打印机端口，2个报警输出，4个独立二进制输出尺寸20.625 H x 17.25 W x 12.25 D英寸（53 x 44 x 31 cm）重量48 lbs（22kg）认证CE（点击此处获取符合性声明）耗材硼试剂90天（12分钟取样率）45天（6.5分钟取样率）试剂柱12个月零柱12个月

温室大棚加湿器 技术动态：在现代农业生产中，温室大棚的应用可以为我们提供反季节瓜果蔬菜，而且还可以为我们大大提高农作物的产量和品质；不过，温室大棚内的温湿度是保证农作物优质生产中的两个重要因素，但却也是最难以控制的；针对温室大棚湿度过低的问题，现在可以通过正岛电器专业生产的ZS-40Z及ZS系列温室大棚加湿器来解决，可以让农户根据温室大棚的湿度要求进行设定进行科学合理的加湿！ 正岛ZS-40Z及ZS系列温室大棚加湿器产品，对于其他加湿方式的加湿器而言，具有【雾化颗粒细】 、【使用能耗低】 、【雾化能效高】，【加湿速度快】的显著优势。 正岛电器生产的ZS-40Z及ZS系列温室大棚加湿器是采用超声波高频振荡的原理，从而达到均匀加湿的目的；具有空气加湿、净化、防静电、降温、降尘等多种用途；既可以较大空间进行均匀加湿，也可对特殊空间进行局部湿度补偿，具有较高的使用灵活性。 TEL： 正岛ZS系列超声波工业用加湿器生产厂家：正岛电器，产品优势区别与对比，谨防假冒！备注目前市场部分加湿器厂家仿冒正岛加湿器ZS系列型号低配置低价格在销售请客户区别以下：品 牌电 源风 机外 壳正 岛变频电源 防水等级IP68(低能耗、低故障)特制防水风机全不锈钢外壳及内胆仿冒变压器(高耗能、高故障高、维修频率高)普通风机(易烧毁)普通钣金(易锈)正岛电器郑重承诺：整机保修一年，完善售后服务体系；以质量为先，诚信至上为企业宗旨。 欢迎您来咨询大棚加湿器，温室大棚加湿器，工业加湿器厂家的详细信息！工业用加湿器种类有很多,不同品牌工业用加湿器价格及应用范围也会有所不同,而我们将会为您提供全方位的售后服务和优质的解决方案。 正岛ZS-40Z及ZS系列温室大棚加湿器控制方式，技术参数： 控制方式加湿量1.8kg/h加湿量3kg/h加湿量6kg/h加湿量9kg/h加湿量12kg/h加湿量18kg/h开关控制ZS-06ZS-10ZS-20ZS-30ZS-40ZS-F60时序控制ZS-06SZS-10SZS-20SZS-30SZS-40SZS-F60S湿度控制ZS-06ZZS-10ZZS-20ZZS-30ZZS-40ZZS-F60Z出雾方式单管单管单管双管双管三管湿度标准适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）50%RH以下250500100015002000250055-65%RH20040080012001600200065-75%RH1503006009001200150075-85%RH100200400600800100085-95%RH7515030045060075095%RH以上50100200300400500消耗功率180W300W600W900W1200W1500W净重15kg18kg22kg30kg38kg55kg正岛ZS-40Z及ZS系列温室大棚加湿器产品六大核心配置优势： 优势一：【全不锈钢箱体】机组采用全不锈钢箱体结构，喷塑处理，美观耐用；自动进水，设有溢水保护，可自动控制水位；底部装有万向轮，可自由移动。 优势二：【集成式雾化器】机组采用集成式超音波钢化机芯，自带缺水保护装置，无机械驱动、无噪音、雾化效率高，杜绝易堵塞、维修繁锁等问题。 优势三：【IP68级防水电源】机组采用独家专利的全密封防水变频电源和全密封集成电路，防水等级为IP68（可置于水下1米深处也不会短路）。 优势四：【轴承式防水风机】机组风动装置采用防水等级为IP68的滚珠轴承式36V防水风机，具有启动快、风量大、振动小，耐腐蚀、运转稳定。 优势五：【耐碱酸陶瓷雾化片】机组选用的陶瓷雾化片适合较硬水质和耐碱酸的使用环境，且正常使用寿命长达3000－5000小时，更换方便快捷。 优势六：【高精度湿度传感器】机组配有微电脑自动控制器&日本神荣高精度湿度传感器，全自动控制面板，人机对话界面，智能化轻触式按键操作。您可能还对以下内容感兴趣...1. 洁净型湿膜加湿器(QS-9)2. 移动式水桶加湿器(CS-20Z)3. 微调型工业加湿机(ZS-20Z )4. 大型工业用加湿机(ZS-F60Z)工业加湿器厂家记者核心提示：温室大棚只有使用正岛ZS-40Z及ZS系列温室大棚加湿器进行科学合理的加湿，使湿度始终能够满足各种农作物在各个生长阶段对室内环境湿度的要求，在最适宜的湿度环境中才能确农作物的优质高产；以上关于大棚加湿器，温室大棚加湿器，工业加湿器厂家的相关报道是正岛电器为大家提供的！ 您可以在这里更详细地了解温室大棚加湿器的相关信息： 以往在寒冷的冬天里蔬菜很匮乏只有白菜萝卜还有少量从外地运来的蔬菜。但是现在随着温室大棚的建设，广大民众可以在冬天吃到反季节菜。民以食为天，反季节菜拥有着广阔的市场。 然而蔬菜的种植技术，最重要的大概就是蔬菜大棚建设了。传统的蔬菜大棚是由竹材搭建的，功能单一，抗风能力很差。现代化的温室建设考虑的不光是保温，还有浇水系统，温控系统等多种复杂的技术，使用起来更加的方便。对温度以及湿度的把控也更加的精准，蔬菜的产量以及质量得以提升，种植户也得赚到更多的钱。 温室大棚是用于蔬菜、瓜果、花卉的保护设施，利用温室的气候效应进行农业生产，起到避雨栽培、旱涝保收、反季节调控等作用。目前我国的温室大棚技术发展大多是以矩形或长程形为特征的温室大棚，有没有更为先进的温室设计呢？下面小编为大家提出一种新型的智能温室大棚。 温室大棚是我们现在比较常见，也比较依赖的一种新型种植模式，它能够改变单位空间内的一些影响植物生长的元素，包括温度，水分，土壤等，从而达到生产反季节作物的目标。温室大棚造价并不是很贵，一般的菜农都足以负担，并且温室大棚的效益是很好的，能够很快的收回成本，并且持续的收益。 温室大棚造价虽然不高，但我们还是需要注意某些事情的，比如环境的选择，温室大棚比较适合在地势平坦，能够接收到阳光的地方，这样更有利于作物的生长；其次不能在风口建造，因为风力过大，可能对大棚本身造成相应的破坏；还有我们最好在水源附近搭建，或者在附近打口井，便于灌溉。 随着互联网技术的普及应用，智能温室大棚可以运用互联网技术达到改善蔬菜品质、提高生长速度的目的。大规模的温室大棚，利用人工来调控温室内的环境条件，需要大量工期和时间。如果应用互联网技术，只需要坐在电脑前点击鼠标，就能在最短的时间里完成人工操作，速度非常快，不存在任何风险。我想未来互联网智能温室大棚将在农业中得到更广泛应用。

MS500手持式乙醇气体检测仪用于快速检测乙醇气体浓度、温湿度测量并超标报警的场合。MS500手持式五合一气体检测仪采用2.5寸高清彩屏实时显示浓度，选用当前行业内著名品牌的气体传感器，主要检测原理有：电化学、红外、催化燃烧、热导、PID光离子。MS500先进的电路设计、成熟的内核算法处理，取得了多项软件著作专利和外观专利。MS500可以检测管道中或受限空间、大气环境中的气体浓度，也可以检测各种气体泄漏和各种背景气体为氮气或氧气的高浓度单一气体纯度，检测种类超过500多种。　　MS400便携式乙硼烷检测报警仪特点：　　● 防水溅、防尘、防爆、防震，本安电路设计，抗静电，抗电磁干扰，通过国标测试和CMC计量器具生产许可认证　　●防护级别IP65，内置水汽、粉尘过滤器，防止因水汽和粉尘损坏传感器和仪器　　●内置泵吸式测量，集成水汽、粉尘过滤器，可选配专业配件用于高温、高湿、高粉尘环境，响应迅速 特殊路设计，采样距高大于10米。　　●2.31寸高清彩屏显示实时浓度、报警、时间、温度、湿度、存储、通信、电量、充电状态等信息，菜单界面采用高清仿真图标显示各个菜单的功能名称　　●大容量数据存储功能，支持10万条数据存储容量，更大容量可订制。支持实时存储、定时存储，或只存报警浓度数据和时间、支持本机查看、删除数据，也可通过USB接口将数据上传到电脑，用上位机软件分析数据和存储、打印。　　●USB充电接口，可用电脑或充电宝充电，兼容手机充电器，过充、过放、过压、短路、过热保护，5级精准电量显示，支持USB热插拔，检测仪在充电时可正常工作，选配RS485通讯　　●采用4600mAH大容量可充电高分子聚合物电池，可长时间连续工作　　●声光报警、振动报警、视觉报警、欠压报警、故障报警，报警时多方位立体显示报警状态。　　●报警值可设，报警方式可选低报警、高报警、区间报警、加权平均值报警　　●高精度温湿度测量(选配)，同时对传感器进行温度补偿，仪器使用温度范围-40～70度，可检测400度的气体，更高温度的气体检测可订制(选配高温采样降温过滤手柄或高温高湿预处理系统)　　●可以选配同时检测1～4种气体，单位自由切换，常规气体不需要输入分子量，特殊气体需要输入分子量就自动计算并切换，单位可选：PPM、mg/m3、Vol%、LEL%、PPHM、ppb、mg/L　　●三种显示模式可切换：同时显示四种气体浓度、大字体循环显示单通道气体的浓度、实时曲线，各通道之间自动循环或手动循环可切换，可设置是否显示最大值、最小值、气体名称，可查看历史记录曲线图。　　●中英文界面可选择，默认中文界面，简明中文或英文操作提示　　●数据恢复功能，可以选择性恢复或全部恢复，免去误操作引起的后顾之忧　　●零点自动跟踪，长期使用不受零点漂移影响。　　●目标点三级校准，保证测量的线性度和精度，能同时符合国家标准和地方计量局标准。　　●浓度校准误操作自动识别并阻止，能避免人为因素造成的不良。　　●可以实时检测或定时检测(针对被测气体的量比较小的情况)，不检测时可以把泵关闭以延长开机时间。　　●可记录校准日志、维修日志、故障解决对策，传感器寿命到期提醒，下次浓度校准时间提醒功能　　MS400便携式乙硼烷检测报警仪技术参数：　　检测气体：乙硼烷B2H6 ，选配：同时检测1～4种气体浓度和温湿度测量，视传感器和现场环境而定　　检测范围：0～1ppm、10、50、100ppm、100%Vol可选，其他量程可订制　　分 辨 率：0.01ppm或0.001ppm(0～10 ppm) 0.01ppm(0～100 ppm)，0.1ppm(0～1000 ppm)，　　1ppm(0～1000 ppm以上)，0.01%Vol或0.001%Vol(0～99.999%Vol)　　检测原理：电化学、红外、热导、PID光离子、催化燃烧，根据气体类型、量程、现场环境和用户需求而定　　传感器寿命：电化学原理2～3年，氧气2年或6年，红外5～10年，催化燃烧3年、热导5年，PID2年　　检测方式：内置泵吸式，流量500毫升/分钟　　显示方式：2.31寸320X240高清彩屏显示,5按键操作　　检测精度：≤±3%(F.S)(更高精度可定制)　　线 性 度：≤±2%　　重 复 性：≤±2%　　报警方式：声光报警、振动报警、视觉报警、声光+振动+视觉报警、关闭报警可选　　响应时间：T90≤20秒　　恢复时间：≤30秒　　工作电源：DC3.7V　　电池容量：3.7VDC，4600mAH大容量可充电高分子聚合物电池 ,带过充、过放、过压、过热、短路保护功能　　使用环境：温度-40℃~+70℃ 相对湿度≤0-99%RH(内置过滤器可在高湿度或高粉尘环境使用)　　样气温度：-40℃~+70℃ ，选配高温采样降温过滤手柄，可检测400度或更高温度的烟气浓度　　温度测量：-40℃~+70℃ (选配) 精度0.5℃　　湿度测量：0-100%RH(选配) 精度3%RH　　数据存储：标配10万条数据容量，支持本机查看、删除或数据导出，免费上位机通讯软件存储功能默认为关闭状态，可设置为开启状态，存储时间间隔任意设置　　通讯接口：USB(充电与通讯)， 选配RS485通讯接口　　界面语言：中文或英文可设置，默认中文界面　　防爆类型：本质安全型　　防爆标志：Exia II CT4　　防护等级：IP65，防尘、防水溅　　外型尺寸：178×67×40mm(L×W×H)　　重 量：300g　　标准附件：说明书、合格证、保修卡、USB充电器(含数据线)、高档铝合金仪器箱 、鳄鱼夹、上位机通讯软件、湿度粉尘过滤器1个　　选配附件：温湿度测量功能、0.9m可伸缩采样手柄(1-10米软管，标准长度1米)、高温采样降温过滤手柄、高温高湿预处理系统、湿度粉尘过滤器多个、挂绳　　应用场合：石油、化工、医药、环保、烟气分析、空气治理等所有需要检测气体浓度的场合

产品特点:n 洁净棚的性能完全符合ISO14644.1 的有关标准，n 多种洁净等级和空间搭配可以根据使用需求设计制作，n 简便运用、弹性大、安装容易、且施工期短、以及可移动性、n 美国AAF的过滤单元（Fan Filter Units）洁净棚同时针对在一般等级的洁净室中局部地区需要高洁净度的地方做局部增设以降低成本。洁净棚是一种可提供局部高洁净环境的空气净化设备。洁净棚主要有箱体，风机，初效空气过滤器，阻尼层，灯具等组成，外壳喷塑，该产品既可悬挂，又可地面支撑，结构紧凑， 结构：1. 框架：以工业铝材（或不锈钢方便，铁方便喷塑）作为框架稳固，美观，不生锈，不产尘，2. 防静电垂帘：四周围用防静电垂帘（或钢化玻璃），防静电效果好，透明度高，网格清晰，柔韧度好，不变形，不易老化。3. 风机滤网机组FFU:采用离心风机，具有长寿命，低噪声，免维护，震动小，可无极变速等特性，风机质量可靠，工作寿命长，加上独特的风道设计，大大提高了风机的效率，降低了噪声，内部净化级别可达100-100K级；特别适用于车间内局部净化级别要求高的区域，如流水线作业区域。4. 内部采用净化室专用净化灯，不产尘、注：各种规格和洁净度等级可以订制。可选配置：：1风淋室 2传递箱 3风淋递箱 4 工作台 5 超高效过滤器 6 粘尘地板胶 7 透明/网格窗帘 8 气压表9 不锈钢材料 10 恒温恒湿空调系统应用领域：1. A级药物填充程序2. 医疗设备/塑料注射模塑3. 电子装配4. 隐形眼镜包装5. 医院药房6. 生物技术7. 纳米技术8. 生命科学9. 航天10. 质量控制11. 食品工业

ComBondAutomated High-Vacuum Wafer Bonding SystemComBond自动化的高真空晶圆键合系统 高真空晶圆键合平台促进“任何物上的任何东西”的共价键 EVG ComBond高真空晶圆键合平台标志着EVG独特的晶圆键合设备和技术产品组合中的一个新里程碑，可满足市场对更复杂的集成工艺的需求。 EVG ComBond支持的应用领域包括先进的工程衬底，堆叠的太阳能电池和功率器件到高端MEMS封装，高性能逻辑和“超越CMOS”器件。 EVG ComBond系统的模块化集群设计提供了高度灵活的平台，可以针对研发和高通量，大批量制造环境中的各种苛刻的客户需求量身定制。 EVG ComBond促进了具有不同晶格常数和热膨胀系数（CTE）的异质材料的粘合，并通过其独特的氧化物去除工艺促进了导电键界面的形成。 EVG ComBond高真空技术还可以实现铝等金属的低温粘合，这种金属可以在周围环境中快速重新氧化。对于所有材料组合，都可以实现无空隙和无颗粒的粘结界面以及出色的粘结强度。特征高真空，对齐，共价键合在高真空环境（510-8 mbar）中进行处理原位亚微米面对面对准精度高真空MEMS和光学器件封装原位表面和原生氧化物去除优异的表面性能导电结合室温过程多种材料组合，包括金属（铝）无应力粘结界面高粘结强度用于HVM和R＆D的模块化系统多达六个模块的灵活配置基板尺寸最大为200毫米完全自动化 技术数据真空度：处理：7E-8 mbar；处理：5E-8毫巴集群配置处理模块：最小 3，最大 6加载：手动，卡带，EFEM可选的过程模块：键合模块ComBond激活模块（CAM）烘烤模块真空对准模块（VAM）晶圆直径：高达200毫米；