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米格列奈

仪器信息网米格列奈专题为您提供2024年最新米格列奈价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括米格列奈参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的米格列奈您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合米格列奈相关的耗材配件、试剂标物,还有米格列奈相关的最新资讯、资料,以及米格列奈相关的解决方案。

米格列奈相关的耗材

  • 恩格列净手性柱
    关键词:大赛璐手性柱;恩格列净、艾帕列净,IF手性柱艾帕列净(Empagliflozin、恩格列净) 属于一类用于降低 T2D 成年患者的血糖水平的在研治疗药物中的一种。大赛璐IF手性柱,具有很高的分离能力,耐受性好、流动相种类无限制、产品寿命长等优点。大赛璐手性柱IF手性柱对于艾帕列净(Empagliflozin、恩格列净)有很好的分离效果,柱校高、峰型好,是分析艾帕列净(Empagliflozin、恩格列净)的首选手性柱。需要详细色谱分离条件请联系北京绿百草
  • ibidi μ-Dish 35 mm带计数格培养皿 80156 80151 81166 81161 81148
    产品特点:1.特别适合细胞或细胞簇的定位和重找回;2.独特的ibidi标准底部设计,180um的盖玻片尺寸底部厚度,适合高分辨率显微观察;3.独特的ibiTreat底部包被,适合大多数细胞的贴壁培养;也可根据需求选择未包被的多聚物底部或玻璃底部;4.特殊盖部设计,减小液体挥发;5.玻璃底可用于TIRF和单细胞应用 应用:1.细胞或细胞簇的再定位,如转染细胞的克隆挑选2.对某一划定区域的细胞计数,如计算转染效率3.细胞运动观察,为细胞运动提供一个参考结构4.细胞显微操作中单细胞处理,如显微注射 技术特征:1.直径为35mm标准样式的培养皿2.具500μm或50μm网格刻度3.字母或数字标记(A-U 1-20)4.有多聚物底部和玻璃底部,2种选择5.生物相容性材料制作,不含胶水,无细胞毒性影响6.网格和细胞在同一焦点平面上 产品选择:货号801568015181166811618114881168底部材质聚合物聚合物聚合物聚合物玻璃玻璃计数格500μm500μm500μm500μm500μm50μm高/低壁低低高高高高包被ibitreat未包被ibitreat未包被未包被未包被 500μm格子: 50μm格子: 聚合物底部VS玻璃底: 高壁VS低壁: 1.高壁有更大的容积,用于标准应用;2.低壁有更广的操作角度,利于显微操作。 培养皿盖子的锁扣设计: 35mm,500μm格子格子重复间隔500 μm生长面积3.5 cm2培养皿直径35 mm生长区域直径21 mm容积:高/低边2 / 0.8 ml带盖高度:高/低边14 / 9 mm底部ibidi标准底 35mm,500μm格子,玻璃底 格子重复间隔500 μm使用400 μl可包被面积4.1 cm2培养皿直径35 mm观察区域直径21 mm容积2 ml带/不带盖高度14/12 mm生长面积3.5 cm2底部1.5号玻璃底,精选材质,厚度170 μm +/- 10 μm 35mm,50μm格子,玻璃底 格子重复间隔 50 μm使用400 μl可包被面积4.1 cm2培养皿直径35 mm观察区域直径21 mm容积2 ml带/不带盖高度14/12 mm生长面积3.5 cm2底部1.5号玻璃底,精选材质,厚度170 μm +/- 10 μm 货号产品名称规格(个/盒)81148μ-Dish 35 mm,高壁,玻璃底,50微米格子培养皿 3081168μ-Dish 35 mm,高壁,玻璃底,500微米格子培养皿3080156μ-Dish 35 mm,低壁,ibiTreat底部处理,500微米格子培养皿6080151μ-Dish 35 mm,低壁,无包被,500微米格子培养皿6081166μ-Dish 35 mm,高壁,ibiTreat底部处理,500微米格子培养皿6081161μ-Dish 35 mm,高壁,无包被,500微米格子培养皿60
  • 高通量微阵列清洗器配件
    高通量微阵列清洗器配件专业为玻片清洗,微阵列芯片清洗而设计,拥有耐用的载玻片架,可容纳1-25个25×76毫米规格的玻璃玻片微阵列,可浸入到500ml的缓冲溶液槽。高通量微阵列清洗器配件特色该缓冲溶液槽配备有磁力搅拌棒和盖子,可以防止缓冲物蒸发。高通量微阵列芯片清洗器大大了微阵列芯片干燥前的清洗效率和效果。含独立的缓冲液加快微阵列芯片的处理和清洗速度。是提高基因学,生物医学,制药和农业研究的质量和速度的理想的工具高通量微阵列清洗器配件规格?容量:1?25个微阵列基片?体积:每个清洗步骤400毫升缓冲液。?缓冲液温度:4至50℃?材质:亚克力箱使温和溶剂稳定,如乙醇
  • 203007代尔塔耐高温防切割手套 防护手套
    代尔塔耐高温防切割手套 防护手套 劳保手套由上海书培实验设备有限公司代理提供,产品质量优越,大量现货,欢迎客户来电咨询选购。产品介绍:代尔塔 203007 耐高温防切割手套 防护手套 劳保手套,耐高温 300度 防切割撕裂 欧洲标准 法国品牌,牛皮袖口,防撕裂,热牛皮袖口,短时间可耐高温250-300℃/15秒,是防止机械伤害的全能保护手套,可参与处理热玻璃处理,高温消毒,脱膜热塑等行业产品特点:第一:耐高温 300度 防切割撕裂 欧洲标准 法国品牌,第二:牛皮袖口,防撕裂,热牛皮袖口,短时间可耐高温250-300℃/15秒第三:是防止机械伤害的全能保护手套,可参与处理热玻璃处理,高温消毒,脱膜热塑等行业
  • 格列齐特的测定,推荐色谱柱 Cosmosil C8-MS
    格列齐特的测定,推荐色谱柱 Cosmosil C8-MS 关键词:格列齐特,辛烷基硅烷键合硅胶,中国药典,北京绿百草 2010年中国药典标准:格列齐特色谱条件:照高效液相色谱法(附录Ⅴ D)测定,用辛烷基硅烷键合硅胶为填充剂;以水-乙腈-三乙胺-三氟醋酸为流动相,检测波长为235nm。理论板数按格列齐特峰计算不低于3000,格列齐特峰与杂质I峰的分离度应大于1.8。(中国药典二部P810) 需要详细的药典标准请联系北京绿百草:010-51659766. 登录网站获得更多产品信息: www.greenherbs.com.cn
  • 透镜阵列/微透镜阵列
    所属类别: ? 光学部件 ? 微透镜阵列/透镜阵列所属品牌:英国Power Photonic公司天空才是极限!-----革命性的“3D打印”光学加工技术!英国Power Photonics公司专业生产各种透镜阵列及微透镜阵列,包括各种一维透镜阵列和二位透镜阵列。Power Photonics公司有各种常用的标准微透镜阵列提供。 采用其独有的激光3D直写技术,PowerPhotonic 提供无与伦比的加工的灵活性。这种类似于3D打印的光学加工技术,可以轻松实现各种以前被认为极为复杂的光学加工。Power Photonic乐意接受任意定制化的要求,并致力于给客户提供最适合的微透镜阵列。 对于一维微透镜阵列,Power Photonics公司既可以提供柱面镜阵列,也可以提供非柱面透镜阵列,我们有各类标准的产品供客户选择,也可以根据客户的要求提供定制化的产品。 对于二位微透镜阵列,Power Photonics公司可以提供包括,球面镜阵列,非球面镜阵列,象散透镜阵列等,并且可以根据客户要求的排布方式排布透镜。我们可以将指定透镜组制作在一块较大的石英基底上以留出客户安装的空间。加工能力 各种焦距、周期、宽度、高度 任意镜片排布 非球面透镜、非柱面透镜可选非均匀排布,啁啾排布,随机排布 双面透镜阵列主要应用光束匀化光束整形光纤阵列耦合 激光加工高功率半导体激光器制造固体激光器泵浦标准产品指标
  • 202013代尔塔隔热袖套 防割手套 劳保耐高温
    202013代尔塔隔热袖套 防割手套 劳保耐高温由上海书培实验设备有限公司提供,代尔塔产品质量优越,价格优惠,欢迎客户来电咨询选购。产品介绍:代尔塔 202013防割手套,采用13针针织工艺,工艺精湛,做工精细,耐磨损,使用寿命长,整体柔韧有弹性,透气性好。拇指处留孔设计,穿戴灵巧舒适,柔韧透气,伸张自如。柔韧弹性佳,具有很高的抗牵引力性能,抗撕裂性能好,防切割,护肘护臂性能卓越。产品特点:第一:拇指处留孔设计,穿戴灵巧舒适,柔韧透气,伸张自如。第二:柔韧弹性佳,具有很高的抗牵引力性能,抗撕裂性能好,防切割,护肘护臂性能卓越。第三:采用13针针织工艺,工艺精湛,做工精细,耐磨损,使用寿命长,整体柔韧有弹性,透气性好。产品参数:名称:TAEKI系列针织防切割套袖材质:TAEKI系列颜色:灰色尺寸:长45cm
  • 衍射光栅-相干光栅阵列
    衍射光栅-相干光栅阵列图1。照片LightSmyth单片光栅阵列单片式单基片硅栅阵列(图1)提供独特的高分辨率连续获得超出所能获得的单个光栅的光带宽。这种光栅须不能有移动部件。单片光栅阵列是一致的单次数据采集与许多宽带应用,例如激光诱导击穿光谱,可以帮助系统元件数显著减少。每个阵列由的所有相干在单一基板上形成的多个主光栅。母光栅有连续且轻度重叠的有效光谱范围。此外,在基底的顶部和底部的辅助光栅产生直接的校准的输出区域用于使用一个单一参考波长,如氦氖激光器的波长的光输出。 图2。示意图说明操作的单片光栅阵列光谱仪与2D检测器设置在图2给出在一个简单的光谱仪装置的光栅阵列。一个二维检测器阵列被用来记录的光栅阵列的输出。图3示出了照射时由白色光源和一个共同传播的氦氖激光器的二维探测器阵列上看到的光栅阵列输出的示意图。每个附近的水平行包括四个主光栅中的一个的输出端,并对应于光谱范围表示。此外,还显示为红点是6个辅助光栅校准参考标记,当暴露在氦氖光。进一步详细描述了设备的运行和设计说明请点击http://www.lightsmyth.com/downloads/product_info/LS_MonoGrat_Array.pdf。图3。阵列输出信号检测原理图校准/准直功能特性 顶部和底部的六个小光栅阵列(参见图1)提供了用于校准的光谱输出,以及协助系统对齐标记,这里的校准标记用于氦氖照明,见示意图4。校准标记提供了两个主要的功能:第一,它们表示在主光栅输出的校准部分的开始和结束点。因此,它们允许用户校准波长作为位置的函数的沿着各母光栅色散线 - 注意,校准点所表示的波长范围内是独立的光栅输入角度,使光栅阵列具备各种不同可能的样式。第二,辅助光栅辅助系统调整。当所述检测器表面被适当地定位在焦平面阵列后聚焦镜,两对对准标记设计为一致性和适当远场操作指示。中心两个标记阵列探测器表面使得水平正确的准直方式。更多单片光栅阵列技术细节请参考http://www.lightsmyth.com/downloads/product_info/LS_MonoGrat_Array.pdf。单片硅平面阵列硅基底具有0.73毫米厚度。基板的高度和宽度公差是0.3毫米。光栅基片:单晶硅。光栅镀膜:铝(其它镀膜类型额外收费)。Primary GratingCalibration Markers 1Line/mmSizePart NumberPrice first 99 units 2,3Unit price 100+1381, 522 nm178812.5mm x12.5mmSAG-1212A-Al$96.00 ea.$25.00 ea.2509, 696 nm13413683, 935 nm9984929, 1271 nm7341The calibration markers listed are produced by a HeNe laser incident on the small calibration gratings. Use of a different calibration light source having a different wavelength will produce markers (see Fig. 4) coinciding with different values of the dispersed spectra of the four primary gratings. Using a common input angle for calibration light and signal, the calibration marks delineate spectral output ranges of the primary gratings that are independent of grating input angle.2 For orders with the total product value below $250.00, a handling charge of $75.00 will be added.3 Academic discounts are available for eligible institutions. To determine eligibility complete an account application procedure.
  • 镍网 657-300-NI 正交阵列,2μm孔 - 2μm间隔, 300M
    正交阵列,2μm孔 - 2μm间隔, 300M 镍网
  • 镍网 658-300-NI 正交阵列,1.2μm孔 - 1.3μm间隔,300M
    正交阵列,1.2μm孔 - 1.3μm间隔, 300M 镍网
  • 镍网 658-300-NI 正交阵列,1.2μm孔 - 1.3μm间隔,300M
    正交阵列,1.2μm孔 - 1.3μm间隔, 300M 镍网
  • 铜网 658-200-CU 正交阵列,1.2μm孔 - 1.3μm间隔, 200M
    正交阵列,1.2μm孔 - 1.3μm间隔, 200M 铜网
  • 铜网 657-200-CU 正交阵列,2μm孔 - 2μm间隔, 200M 铜网
    正交阵列,2μm孔 - 2μm间隔, 200M 铜网
  • 铜网 657-200-CU 正交阵列,2μm孔 - 2μm间隔, 200M 铜网
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  • 金网 658-300-AU 正交阵列,1.2μm孔 - 1.3μm间隔, 300M
    正交阵列,1.2μm孔 - 1.3μm间隔, 300M 金网
  • 金网 657-300-AU 正交阵列,2μm孔 - 2μm间隔, 300M
    正交阵列,2μm孔 - 2μm间隔, 300M 金网
  • 金网 658-200-AU 正交阵列,1.2μm孔 - 1.3μm间隔, 200M
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  • 金网 657-300-AU 正交阵列,2μm孔 - 2μm间隔, 300M
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  • 金网 658-300-AU 正交阵列,1.2μm孔 - 1.3μm间隔, 300M
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  • 铜网 657-300-CU 正交阵列,2μm孔 - 2μm间隔, 300M
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  • 镍网 658-200-NI 正交阵列,1.2μm孔 - 1.3μm间隔, 200M
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  • 美国MP FastPrep系列耗材裂解介质Y
    英文名:Lysing Matrix Y中文名:裂解介质Y 每一个耐压管中包含0.5mm钇稳定氧化锆珠。这些珠子非常致密坚硬,因此适合裂解艰难的细胞壁。裂解介质Y被用来裂解革兰氏阳性,革兰氏阴性细菌,真菌,组织,孢子,酵母,霉菌。 样品类型所有样本,坚硬的组织,骨骼肌,肺,心脏,骨骼,种子,孢子分离纯化DNA、RNA、蛋白质、其他小分子裂解介质组成包含0.5mm的钇稳定氧化锆珠形状球体平均大小0.4-0.6mm 密度6.02(g/cm3)硬度Mohs 9,Rockwell A>87,Vickers >1350认证无DNA酶,无RNA酶
  • 蛋白质微阵列芯片制作打印机配件
    蛋白质微阵列芯片制作打印机配件是全球领先的微阵列芯片制作仪器,是专业为蛋白质芯片或DNA芯片,基因芯片等微阵列芯片而设计的微阵列芯片制作打印机器,在全球各大实验室已经安装使用的设备超过500多台。nanoprint微阵列芯片制作打印机全自动化和可编程,采用了先进的线性伺服电机技术,在X,Y方向实现高达500nm的分辨率,在Z轴方向实现250nm分辨率,并具有纳米尺度的定位精度。nanoprint微阵列芯片制作打印机具有高精度湿度和温度控制系统,具有方便用户操作的软件,可以全面和高效地打印微阵列和用于分子生物学研究和诊断应用的各种芯片。微阵列芯片制作打印机具有除湿功能可供用户选择配备,除湿功能可让用户在潮湿环境下操作。微阵列芯片制作打印机可打印高达384个微孔的微孔板,最多可以打印60个标准玻璃芯片底片。也可以打印各种微孔板,1“X3”的芯片和其他任何微流体生物芯片。纳米打印机系统提供先进的微孔板,位于微孔板下的 Peltier将其进行冷却。微阵列芯片制作打印机兼容任何PIN生物材料:DNA,蛋白质,抗体,小分子,肽核酸(PNA),碳水化合物,以及许多其他样品。这些引脚基于由美国专利6101946保护 ArrayIt专有工程和表面化学的技术 这样的设计使打印高效,经过数百万的印刷周期依然耐用。 BioTray根据研究结果提供了3种主要的PIN材料。微阵列芯片制作打印机有两种型号:纳米打印机LM60有384个微孔,最多可以打印60个标准玻璃芯片底片;纳米打印机LM210有384个微孔,最多可以打印210个标准玻璃芯片底片。LM60和LM210对可以打印一种特殊的蛋白质种类。 General Specifications Dimensions (L x P x H, cm) LM60 (110 x 85 x 56 cm) LM120 (164 x 85 x 56 cm) Weight LM60 (150 Kg), LM120 (200 Kg) Positional resolution (X,Y-Axis) 500 nanometers Printing speed 48 spots per second or 192 Spots second according to the pins and printhead technology Printing technology Arrayit Pro, 946 or Stealth pins and printheads Number of pins Configurable 1 to 48 at 4.5 mm centers or 1 to 192 at 2.25mm Spot diameter 65 microns or larger to meet all applications Minimum spot spacing 50 microns Pre-printing User definable Wash/dry station Ultrasonic with 2 wash positions and a dry station Number of microplates Three standard 384-well sample microplates, customizable on the worktable Microplates to be printed into : - 15 96-wells microplates (LM60) - 45 96-wells microplates (LM120) Number of slides 60 glass slide substrates (LM60) 120 glass slide substrates (LM120) Microplate cooling Cool 1-3 microplates with a Peltier system, for protein microarray applications Environment control Fully enclosed, HEPA filtration and user-defined humidity control NanoPrint™ uses 3 linear drives for X, Y and Z axis positioning combined with a proprietary linear drive motion control technology for superior positional resolution and accuracy The X, Y - axis positional resolution is 500 nm. The high speed, high precision linear servo control system of the NanoPrint™ produces superior instrument performance that is essentially free of friction, noise and thermal emission. NanoPrint™ uses a Z-axis encoder reading at 250-nanometers resolution leading to a superior Z-Axis Resolution for Optimum Spot Morphology. NanoPrint™ offers highly precise resolution, repeatability and computer control over the speed and acceleration settings to ensure optimal printing onto any surface taking into account the biological samples to be printed. Optimal parameters are set at the factory but can be easily changed by the user for printing onto many different surfaces with different samples. The user gets a license to be allowed to use this patented technology. The figure above shows 3 Z-Axis moves to configure distance, speed and acceleration are the parameters to set : Z Profile: High speed Z Extend: Printing speed Z Retract: Quick returnFig.1Fig.2Fig.1: this picture shows three 348-wells microplates, the wash/dry module with sonicator (upper part of the picture) and the printhead and pins printing onto glass substrates (middle left). NanoPrint™ deck is configured in a module manner, allowing different worktables to be inserted and removed from the deck allowing users to easily switch between different printing applications such as glass substrates, microplates, and proprietary cassettes and cartridges or other types of substrates.Fig.2: NanoPrint™ is equipped with a Pin Cleaning Module that has a station providing pin washing, drying and sonication (downwards). The sonicator is filled and emptied during the print run in a completely automated manner.Systems sensors prevent splashing and overflowing for pin and deck safety. Drying is accomplished by vacuum using a quiet but powerful ACM-controlled (Accessory Module Control) function. The Pin Cleaning Module is rugged, durable and easy to maintain.Fig.3Fig.4Fig.3: Here the deck is configured with a capacity of three 384-well sample microplates printing onto 60 standard glass slide substrates using a printhead loaded with 48 pins. A 192-pin printhead can also be used instead of the 48-pin printhead.Fig.4: The screenshot shows a worktable allowing printing into 15 microplates (96-well) for the NanoPrint™ LM60. On the left part, three 348-well sample microplates with the pin cleaning module (wash/dry station with sonicator) can be seen.Fig.5Fig.6Fig.5: The ACM (Accessory Control Module) unit provides computer control for the wash/dry, humidity, and ultrasonication stations on the deck of the NanoPrint™ . Accurate sensing of the humidity inside the chamber assures that proper humidity levels are achieved andmaintained during the entire duration of each print run. Humidity is maintained in a user-specified manner of ±1%. HEPA filtration protect the deck from dust to assure the necessary printing quality. Printing onto the worktables and control of the Pin Cleaning Module and the humidity are easily specified in software using the Microarray Manager.Fig.6: Easy connectivity (pump, tubing and connectors) between the ACM and the robot provides proper humidity and tigthness levels.Fig.7: Humidity SensingFig.8: Peltier systemFig.7: A RH sensor monitors the humidity inside the chamber with high accuracy.Together with the ACM, it assures that proper humidity levels are achieved and maintained during the entire duration of each print run. The humidification and dehumidification systems are triggered by the RH sensor that automatically maintain the levels set by the user.Fig.8: NanoPrint™ systems offer sophisticated sample microplates cooling via Peltier s an affordable and highly recommended option in order to minimize sample evaporation during printing. Microplate cooling is highly recommended for protein microarray applications to minimize protein denaturation andmicrobial growth in recombinant protein samples. The Peltier module fits directly beneath the 348-well sample microplate for highly efficient cooling while maintaining a low deck profile.
  • 美国MP FastPrep系列耗材裂解介质I
    英文名:Lysing Matrix I中文名:裂解介质I 每个2ml耐压管中包含2mm氧化锆珠和4mm黑色陶瓷珠。氧化锆非常致密并且抗拉耐磨,因此可以有效的裂解非常坚硬的组织,包括在艰难,致密的外感染体中的生物。适合于分离完整的细胞器和超分子结构。4mm陶瓷珠提供很高的碰撞惯性可以裂解几丁质和蛋白质复合体,包括节肢动物和甲壳类动物的骨骼。裂解介质I也可以用来干磨真菌孢子来分离RNA和蛋白质。 样品类型动植物组织,木材,种子,致密的土壤和沙土,菌落,整个昆虫,蜱,古老和干燥的样本,干磨真菌孢子,铁锈分离纯化DNA、RNA、蛋白质、其他小分子物质裂解介质类型2mm黄色锆珠和4mm黑色陶瓷珠形状黄色氧化锆珠:球体;4mm陶瓷珠,球形平均大小黄色氧化锆珠:1.7-2.3mm;4mm陶瓷珠:3.7-4.2mm密度黄色氧化锆珠:5.5(g/cm3);4mm陶瓷珠:6.0-6.25(g/cm3)硬度黄色氧化锆珠:Vickers 900-1000;4mm陶瓷珠:Mohs 7.5认证无DNA酶,无RNA酶
  • ibidi易必迪 μ-slide 8孔带计数格腔室载玻片 80826-G500 80821-G500
    ibidi易必迪 μ-slide 8孔带计数格腔室载玻片 80826-G500 80821-G500 货号产品名称规格(个/盒)80826-G500µ -Slide 8孔 500微米格子腔室载玻片,ibiTreat底部处理1580821-G500µ -Slide 8孔 500微米格子腔室载玻片,无包被15产品描述: 适合于高端超高分辨率显微成像,带计数格的腔室载玻片:1.较适合细胞或细胞簇的定位和重找回;2.独特的ibidi标准底部设计,180um的盖玻片尺寸底部厚度,适合高分辨率显微观察; 3.仅用少量细胞试剂就能实验,节约实验成本 应用:1.细胞或细胞簇的再定位,如转染细胞的克隆挑选2.对某一划定区域的细胞计数,如计算转染效率 3.细胞运动观察,为细胞运动提供一个参考结构4.细胞显微操作中单细胞处理,如显微注射 5.细胞转染实验6.活细胞或固定细胞的免疫荧光成像7.长时间的活细胞成像8.配套DIC盖可进行DIC成像 技术特征:1.具500µ m网格刻度2.字母或数字标记(A-U 1-20)3.腔室载玻片上有8个独立小孔4.在相差成像,明场,荧光成像中均能看到格子5.适合高分辨率显微成像,共聚焦,DIC6.可以直接在孔中进行固定和染色7.ibiTreat标准底,细胞能直接贴壁,生物兼容性材质,无胶水,无泄漏产品参数: Grid-500格子参数格子个数100单个格子边长500 µ m边界宽度5 µ m +/- 1 µ m边界深度 5 µ m 8 孔腔室载玻片参数孔数8单孔尺寸 (w x l x h) in mm9.4 x 10.7 x 6.8每孔容积300 µ l带盖高度8 mm每孔生长面积1.0 cm² 每孔包被面积2.20 cm² 底部处理:ibiTreat 现场实拍:
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