托格列净

关键词：大赛璐手性柱；恩格列净、艾帕列净，IF手性柱艾帕列净（Empagliflozin、恩格列净） 属于一类用于降低 T2D 成年患者的血糖水平的在研治疗药物中的一种。大赛璐IF手性柱，具有很高的分离能力，耐受性好、流动相种类无限制、产品寿命长等优点。大赛璐手性柱IF手性柱对于艾帕列净（Empagliflozin、恩格列净）有很好的分离效果，柱校高、峰型好，是分析艾帕列净（Empagliflozin、恩格列净）的首选手性柱。需要详细色谱分离条件请联系北京绿百草

所属类别： ? 光学部件 ? 微透镜阵列/透镜阵列所属品牌：英国Power Photonic公司天空才是极限！-----革命性的“3D打印”光学加工技术！英国Power Photonics公司专业生产各种透镜阵列及微透镜阵列，包括各种一维透镜阵列和二位透镜阵列。Power Photonics公司有各种常用的标准微透镜阵列提供。 采用其独有的激光3D直写技术，PowerPhotonic 提供无与伦比的加工的灵活性。这种类似于3D打印的光学加工技术，可以轻松实现各种以前被认为极为复杂的光学加工。Power Photonic乐意接受任意定制化的要求，并致力于给客户提供最适合的微透镜阵列。 对于一维微透镜阵列，Power Photonics公司既可以提供柱面镜阵列，也可以提供非柱面透镜阵列，我们有各类标准的产品供客户选择，也可以根据客户的要求提供定制化的产品。 对于二位微透镜阵列，Power Photonics公司可以提供包括，球面镜阵列，非球面镜阵列，象散透镜阵列等，并且可以根据客户要求的排布方式排布透镜。我们可以将指定透镜组制作在一块较大的石英基底上以留出客户安装的空间。加工能力 各种焦距、周期、宽度、高度 任意镜片排布 非球面透镜、非柱面透镜可选非均匀排布，啁啾排布，随机排布 双面透镜阵列主要应用光束匀化光束整形光纤阵列耦合 激光加工高功率半导体激光器制造固体激光器泵浦标准产品指标

所属类别： ? 光学部件 ? 微透镜阵列/透镜阵列所属品牌：英国Power Photonic公司 天空才是极限！-----革命性的“3D打印”光学加工技术！英国Power Photonic 公司专业生产各种光纤耦合用微透镜阵列，通过采用其独有的激光3D直写技术，PowerPhotonic 提供无与伦比的加工的灵活性。这种类似于3D打印的革命性的光学加工技术，可以轻松实现各种以前被认为极为复杂的光学加工。我们标准的一维透镜阵列排布周期是250um，同时也可以提供任意客户指定的排布周期。对于二位微透镜阵列，我们可以提供各种球面镜阵列，非球面镜阵列，象散镜阵列，柱面镜阵列，非柱面镜阵列等。.我们可以将指定透镜组制作在一块较大的石英基底上以留出客户安装的空间。主要特点大尺寸、大数量的透镜阵列 一维阵列、二位阵列极高的一致性球面镜阵列，非球面镜阵列，象散镜阵列，柱面镜阵列，非柱面镜阵列 UV融石英基底主要应用 光纤耦合镜阵列 WSS系统 R/OADM系统 光互连 高性能光通讯主要特点 根据客户应用要求定制相应透镜阵列，不需要再因为要配合标准产品牺牲系统性能 优化透镜面型达到最佳效果 低散射及串扰定制化程序因为采用PowerPhotonic独特的“3D打印”光学加工技术，我们的标准产品可以非常容易的进行参数修改于调整以配合客户的使用要求。请和我们联系以获得更多信息。标准产品指标

一、晶片切割工具包划线和切割是获得晶片最佳横断面的关键步骤，这套工具包适合多种材料的基板和晶圆（硅，砷化镓,玻璃）。标配如下：笔式钻石刻刀一把直头钻石刻刀一把30度斜角钻石刻刀一把光纤镊一把)晶圆切割钳一把.钢尺一把钨线赠送30X45cm操作垫订购信息：货号产品描述规格7642晶圆切割工具包套二、CleanBreak Pliers晶圆切割钳6 英寸晶圆切割。使用简单方便，干净，适合晶圆和晶圆小条的切割。3/4“ 钳口。配有一套可更换的钳口，以保持最佳的切割性能。订购信息：货号产品描述规格7646CleanBreak Pliers晶圆切割钳个用于在晶圆表面划线或者做标记，也可代替晶圆工具包里的刻刀产品。订购信息：货号产品描述规格7644晶圆刻刀套装（3件）套三、高级精密晶圆刻刀（划线笔）目前最好的晶圆刻刀（划线器），无与伦比的性能能够满足你所有的半导体晶圆划线要求。8点钻石工位。订购信息：货号产品描述规格7645Lattices 晶圆刻刀9划线笔)支 价格仅供参康，详情请电询

&bull 产生非高斯型的线性模式&bull 适用于进行光均匀化&bull 可在 193nm 到 2.5μm范围之间提供卓越性能通用规格类别参数基底 Fused Silica (Corning 7980)涂层Uncoated波长范围200 - 2200 nm产品描述柱面微透镜阵列主要用于均匀化各种光源，其中包括激光或高功率 LED。有别于形成点模式的矩形微透镜阵列，柱面微透镜阵列会产生非高斯型的线性模式，适用于焊、钻或激光烧蚀应用，范围从 UV 到 IR。另外，这些透镜还能用作为快轴准直器。 订购信息标题产品编码10 x 10mm，250μm 间距， 6° 发散角，微透镜阵列86-83910 x 10mm，300μm Pitch， 1.1度发散角，微透镜阵列86-84010 x 10mm，300μm Pitch， 10.1度发散角，微透镜阵列86-84110 x 10mm，500μm Pitch， 1.3度发散角，微透镜阵列86-84310 x 10mm，500μm Pitch， 2.2度发散角，微透镜阵列86-84212 x 12mm, 500µ m Pitch, 2.3° Divergence, Cyl. Microlens Array23-87110 x 10mm，500μm Pitch， 3.2度发散角，微透镜阵列86-84412 x 12mm, 500µ m Pitch, 3.7° Divergence, Cyl. Microlens Array23-87012 x 12mm, 800µ m Pitch, 1.7° Divergence, Double Sided Cyl. Lens Array23-87412 x 12mm, 500µ m Pitch, 6° Divergence, Double Sided Cyl. Lens Array23-87520 x 20mm, 800µ m Pitch, 0.3° Divergence, Cyl. Microlens Array23-87320 x 20mm, 800µ m Pitch, 1.9° Divergence, Cyl. Microlens Array23-872

&bull 熔融石英和硅基底&bull 1x4 和 1x8 透镜阵列配置&bull 是光纤耦合和准直的理想选择通用规格透镜剖面:Spherical注意 :Linear arrays are centered on the part and surrounded by inactive lenses.产品介绍线性微透镜阵列采用熔融石英和硅材料基底，由4个或8个透镜组成。硅材料折射率高，可实现短焦距、高数值孔径透镜阵列设计，而熔融石英具有良好的热稳定性和可见光传输，便于对准。线性微透镜阵列用于在光纤到光纤或激光到光纤应用中准直和耦合光纤阵列，例如与半导体激光二极管一起使用。 这些透镜为近红外（NIR）设计了增透镀膜，用于1310和1550nm，是近红外激光器或电信设备的理想选择。订购信息涂层类型尺寸 (mm)间距 (μm)Mode Field Diameter (mm)产品编码BBAR (1260-1675nm), Lens Side 1 x 4 Linear Array 2.05 x 1.30 ±0.05250 ±0.3Source: 0.0104 Target: 0.085 21-172BBAR (1260-1675nm), Lens Side 1 x 8 Linear Array 3.05 x 1.30 ±0.05250 ±0.3Source: 0.0104 Target: 0.08521-173BBAR (1250-1620nm) 1 x 4 Linear Array 4.30 x 2.05 ±0.05750 ±0.3Source: 0.0092 Target: 0.2521-174BBAR (1250-1620nm) 1 x 8 Linear Array 7.30 x 2.05 ±0.05750 ±0.3Source: 0.0092 Target: 0.2521-175BBAR (1250-1620nm) 1 x 4 Linear Array 1.45 x 0.70 ±0.02250 ±0.3Source: 0.0092 Target: 0.0821-176BBAR (1250-1620nm) 1 x 8 Linear Array 2.45 x 0.70 ±0.02250 ±0.3Source: 0.0092 Target: 0.0821-177BBAR (1250-1620nm) 1 x 4 Linear Array 4.45 x 2.20 ±0.02750 ±0.3Source: 0.0104 Target: 0.2521-178BBAR (1250-1620nm) 1 x 8 Linear Array 7.45 x 2.20 ±0.02750 ±0.3Source: 0.0104 Target: 0.2521-179BBAR (1250-1620nm) 1 x 4 Linear Array 4.45 x 2.20 ±0.02750 ±0.3Source: 0.0092 Target: 0.2521-180BBAR (1250-1620nm) 1 x 8 Linear Array 7.45 x 2.20 ±0.02750 ±0.3Source: 0.0092 Target: 0.2521-181BBAR (1250-1620nm) 1 x 4 Linear Array 4.45 x 2.20 ±0.02750 ±0.3Source: 0.003 Target: 0.2521-182BBAR (1250-1620nm) 1 x 8 Linear Array7.45 x 2.20 ±0.02750 ±0.3Source: 0.003 Target: 0.2521-183

格列齐特的测定，推荐色谱柱 Cosmosil C8-MS 关键词：格列齐特，辛烷基硅烷键合硅胶，中国药典，北京绿百草 2010年中国药典标准：格列齐特色谱条件：照高效液相色谱法（附录Ⅴ D）测定，用辛烷基硅烷键合硅胶为填充剂；以水-乙腈-三乙胺-三氟醋酸为流动相，检测波长为235nm。理论板数按格列齐特峰计算不低于3000，格列齐特峰与杂质I峰的分离度应大于1.8。（中国药典二部P810） 需要详细的药典标准请联系北京绿百草：010-51659766. 登录网站获得更多产品信息: www.greenherbs.com.cn

&bull 方形透镜和蝇眼配置&bull 精密熔融石英基片通用规格尺寸容差±0.05mm透镜剖面Spherical间距容差±0.25μm厚度容差±0.05mm产品描述微透镜阵列可用于将各种现代光发射器从窄线准分子激光器均匀化为高功率 LED。微透镜非常适合需要高效率和非高斯均匀性的应用。所有微透镜阵列均由紫外级熔融石英构成，具有 193nm 至 2.5μm的卓越性能。微透镜阵列使用标准半导体技术制造，能够实现非常精确的透镜轮廓形状和透镜在阵列内的精确定位。我们提供两种配置的阵列：方形微透镜阵列我们的方形阵列采用标准的 10mm x 10mm 配置，提供各种透镜间距和焦距选项。方形微透镜通常用于光束均匀化和成形，产生斑点图案或方形平顶图案。这些透镜具有高填充系数，可消除照明区域中的零阶热点。方形透镜通常成对使用，与 PCX 透镜配合使用（见上文）。典型应用包括焊接、钻孔、激光烧蚀和光纤耦合。蝇眼聚光镜阵列我们的蝇眼聚光镜阵列有 5 和 10mm 方形配置，专为平顶和线性生成而设计。聚光镜阵列是双表面圆柱形微透镜的整体组件，产生完全无需调节的聚光镜。这些微透镜通常用于需要大照明场的短工作距离应用中，例如医用激光器、太阳能模拟、UV 固化、半导体仪器和荧光显微镜。技术数据订购信息类型尺寸 (mm)间距 (μm)发散角 (°)涂层产品编码Fly's Eye Lens Array 10.0 x 10.0 250.00 ±5 Uncoated 64-489Fly's Eye Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±10 Uncoated 64-490Fly's Eye Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±13 Uncoated 83-910Fly's Eye Lens Array 10.0 x 10.0 350.00 ±6.5 Uncoated 12-844Fly's Eye Lens Array 10.0 x 10.0 400.00 ±6 Uncoated 12-845Fly's Eye Lens Array 5.0 x 5.0 250.00 ±5 Uncoated 64-488Fly's Eye Lens Array 5.0 x 5.0 300.00 ±13 Uncoated 84-132Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±0.5 Uncoated 64-478Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±0.5 UV-VIS(250-700nm) 21-146Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±0.5 VIS-NIR (400-1000nm) 15-812Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±0.5 NIR II (750-1550nm) 21-147Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±1 Uncoated 64-477Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±1 UV-VIS (250-700nm) 21-148Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±1 VIS-NIR (400-1000nm) 15-811Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±1 NIR II (750-1550nm) 21-149Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±1.6 Uncoated 64-476Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±1.6 UV-VIS (250-700nm) 21-150Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±1.6 VIS-NIR (400-1000nm) 15-810Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±1.6 NIR II (750-1550nm) 21-151Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±2.0 Uncoated 86-745Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±2.0 UV-VIS (250-700nm) 21-152Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±2.0 VIS-NIR (400-1000nm) 15-809Lens Array 10.0 x 10.0 300.00 ±2.0 NIR II (750-1550nm) 21-153 Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±0.25 Uncoated 64-483Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±0.25 UV-VIS (250-700nm) 21-154Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±0.25 VIS-NIR (400-1000nm) 15-816Lens Array 10.0 x 10.0500.00 ±0.25 NIR II (750-1550nm) 21-155Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±0.5 Uncoated 64-482Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±0.5 VIS-NIR (400-1000nm) 15-815Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±0.5 NIR II (750-1550nm) 21-157Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±1 Uncoated 64-480Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±1 UV-VIS (250-700nm) 21-158Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±1 VIS-NIR (400-1000nm) 15-814Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±1 NIR II (750-1550nm) 21-159Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±1.2 Uncoated 64-479Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±1.2 UV-VIS (250-700nm) 21-160Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±1.2 VIS-NIR (400-1000nm) 15-813Lens Array 10.0 x 10.0 500.00 ±1.2 NIR II (750-1550nm) 21-161

适用于无菌区和洁净室的湿擦应用。一片装，采用高吸收性聚氨酯制成。该涂层拖把头尤其适用于消毒粗糙或锋利的表面，同时确保有效地吸附液体。 搭配Perfex或Roll-O-Matic® 手柄型号可选Perfex型号采用PU（PE底）材料制成，提供涂层款和无涂层款可选。型号采用高吸收性带夹PU海绵制成，提供涂层款和无涂层款可选 订购须知 请联系美同达客服。 Perfex拖把系统用拖把头：说明 包装规格 VWR目录号 聚氨脂泡沫 50VWRI129-0047 聚氨酯泡沫塑料，抗撕裂，更强吸收性 50VWRI129-0048 Roll-O-Matic® 拖把系统用拖把头说明 包装规格 VWR目录号聚氨酯发泡海绵，带不锈钢架，抗撕裂 12VWRI129-0051 聚氨酯发泡海绵，带镀锌钢架，抗撕裂 12VWRI129-0052 聚氨酯发泡海绵，带不锈钢架，抗撕裂 12VWRI129-0053 聚氨酯发泡海绵，带镀锌钢架，抗撕裂 12VWRI129-0054 聚氨酯发泡海绵，带不锈钢架，抗撕裂 12VWRI129-2504

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价格货期电议Gel-Pak 真空释放 VR 托盘上海伯东代理美国 Gel-Pak 真空释放 VR 托盘, 通用的“无坑”设计托盘可在组件运输, 处理和加工过程中牢固地固定包括裸芯在内的易碎设备. Gel-Pak 真空释放 VR 托盘是大批量组件拾取和放置应用的理想选择！VR 托盘表面在网状材料上使用专有的 Gel 胶或无硅 Vertec&trade 胶膜将组件固定在适当位置, 通过在托盘底侧施加真空将组件释放.VR托盘在真空释放模式 VR 托盘大批量自动拾取模式Gel-Pak 真空释放 VR 托盘应用:极其脆弱或薄的组件放置组件尺寸 (X, Y) 范围从 250μm 到 75mm.大批量自动化组件的取放应用注意: 请勿与设备的边缘或上表面接触Gel-Pak 真空释放 VR 托盘配置：粘性选择范围广2英寸和4英寸托盘尺寸基于 JEDEC 标准Gel 胶或无硅 Vertec&trade 胶膜提供多种托盘 / 盖子 / 铰接盒组合: 透明的, 导电黑, 透明抗静电可以使用打印或网格进行自定义.对于小于 250μm 的设备, 建议使用 NDT托盘 对于大于 75mm的设备, 建议使用 Wafer / Large Format VR板Gel-Pak 真空释放 VR 托盘网格尺寸选择合适的 VR 网格尺寸, 这取决于所放置芯片或器件的尺寸. 为了最优化吸取性能, 上海伯东美国 Gel-Pak 提供了多种网格尺寸 (16, 33, 76,103,137 和195). Gel-Pak 真空释放 VR 托盘粘性等级VR 托盘中使用的 Gel 或 Vertec 薄膜, 膜的粘性范围从超低到高.美国 Gel-Pak 公司自 1980年成立以来一直致力于创新包装产品的生产, Gel-Pak 产品使用高交联合聚合材料 Gel, 材料通过本身表面的张力来固定器件, 固定力等级取决于 Gel 产品的自身特性. 美国 Gel-Pak 真空吸附盒广泛应用于储存和运输半导体精密器件, 光电器件和其他精密器件等, 上海伯东是美国 Gel-Pak 芯片包装胶盒中国总代理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗先生伯东版权所有, 翻拷必究!

价格货期电议Gel-Tray® Gel 凝胶托盘 BD 系列上海伯东美国 Gel-Pak 凝胶托盘 BD 系列提供 2”x 2” 盒子尺寸. 该托盘存储在一个塑料铰链盒中. BD 系列胶盒适用于客户要对放在胶面上的产品进行检测, 整个盒子不是很方便, 这种情况下, Gel-Pak 推出了 BD盒子, Gel 胶是涂布在一个放置在塑料铰链盒的塑料托盘上, 方便客户从盒子中取出托盘, 进行操作.与芯片包装盒类似, BD 系列凝胶托盘产品适用于手动操作的情况下, 芯片或器件用真空吸笔, 镊子或手指放到盒子中, 拾取方式同样也是用吸笔, 镊子或者手指. BD 系列提供透明的托盘，方便客户检查放置产品的背面. Gel-Tray® Gel 凝胶托盘应用1. 应避免器件直接接触顶部表面或边缘2. 使用镊子或手工直接操作, 不适用在自动真空拾取设备中应用3. 不同尺寸器件可放在一个胶盒4. 处理小型组件或大型组装模块Gel-Tray® Gel 凝胶托盘配置1. 标准凝胶托盘尺寸 2” x 2”2. 托盘采用透明或导电材料3. 采用 Gel 或无硅椎体弹性体4. 可提供多种铰链盒顶部 / 底部材料配置, 例如透明盒, 黑色导电盒, 透明防静电盒5. 多种可选的印刷网格模式Gel Pak 胶膜的粘度Gel Pak 胶膜的粘度根据需要分成超低, 低, 中, 高四挡, 用户可以根据自己的产品情况选择合适的粘度等级.所有 Gel Pak 产品都符合 Rohs 和 Reach 的相关要求* ER, EH, EH07 和 FE70 粘性水平是静态耗散美国 Gel-Pak 公司自 1980年成立以来一直致力于创新包装产品的生产, Gel-Pak 产品使用高交联合聚合材料 Gel, 材料通过本身表面的张力来固定器件, 固定力等级取决于 Gel 产品的自身特性. 美国 Gel-Pak 晶圆包装盒广泛应用于储存和运输半导体精密器件, 光电器件和其他精密器件等, 上海伯东是美国 Gel-Pak 芯片包装胶盒中国总代理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗先生伯东版权所有, 翻拷必究!

微阵列清洗干燥工作站配件全自动清洗和干燥微阵列和荧光原位杂交FISH玻片，是分子杂交领域的理想自动清洗干燥仪器。微阵列清洗干燥工作站配件可以处理市面上任何商用或定制的微阵列和玻片或芯片，用于任何类型的微阵列实验，如基因表达，微阵列比较基因组杂交 CGH array，ChIP-on-chip, miRNA，大大提高了杂交的微阵列的的质量，具有更高信号强度，更低的背景噪音和更为均匀干净的玻片，直接可用于扫描使用。从而避免这些步骤常出现的负面影响。 微阵列清洗干燥工作站配件将芯片放置在仪器的载玻片架上（最多可放20个芯片)。最多可以使用5个温度控制的清洗器采用理想的预定程序清洗，通车清洗器被覆盖起来，以便更好的进行温度控制，WALY 机械臂将载玻片架在不同的洗涤器间转移，严格控制清洗时间和温度参数。通过一个可调的垂直搅拌器改善清洗功效 在经过最后一个清洗器后，机器臂自动将玻片转移到其离心机进行有效地干燥。玻片准备好进行扫描。 或者，可在一个稳定的溶液中完成干燥：仪器控制玻片在稳定溶液中的移动速度。 自动清洗干燥工作站具有多功能控制显示屏，能够加载并启动预先编程的清洗程序。清洗干燥站提供直观的图形用户界面，方便有效的操作程序管理，并可以为用户定制优化的操作程序。 微阵列清洗干燥工作站配件大大提高微阵列和FISH的清洗质量和实验的可重复性精度和可靠性，帮助用户节省宝贵的时间和成本，提高微阵列实验的成功几率。