彩色显影剂

近日，芯源微披露投资者关系活动记录表指出，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际品牌以及国内的上海微电子（SMEE）的光刻机联机应用。芯源微表示，涂胶显影机在Iline、KrF、向ArF等技术升级的过程中，主要技术难点在于涂胶显影机结构复杂，运行部件多。研发升级在技术上有很大的跨度，主要体现在颗粒污染物的控制方面，例如烘烤精 度、多腔体的一致性及均匀性、不同光刻胶的涂胶显影工艺精 细化控制，以及设备整体颗粒污染物控制等。据悉，当前，全球半导体设备市场的主要份额基本被国外厂商占据，如美国应用材料、荷兰阿斯麦、美国泛林集团、日本东京电子、美国科天等，为了突破这一卡脖子技术，近年来，国产半导体企业亦在奋力追赶，希望尽早实现国产替代。资料显示，芯源微成立于2002年，是由中科院沈阳自动化研究所发起创建的国家高新技术企业，专业从事半导体生产设备的研发、生产、销售与服务。图片来源：芯源微公告芯源微产品广泛应用于半导体生产、高端封装、MEMS、LED、OLED、3D-IC TSV、PV等领域，产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备，可用于8/12英寸单晶圆处理及6英寸及以下单晶圆处理。目前，芯源微的主要客户包括中芯国际、华力微电子、长江存储、台积电、华为、上海积塔、株洲中车、青岛芯恩、长电科技、通富微电、华天科技、晶方科技、华灿光电、乾照光电、澳洋顺昌等半导体知名厂商。作为芯源微的标杆产品，光刻工序涂胶显影设备成功打破国外厂商垄断并填补国内空白，其中，在集成电路前道晶圆加工环节，作为国产化设备已逐步得到验证，实现小批量替代；在集成电路制造后道先进封装、化合物、MEMS、LED 芯片制造等环节，作为国内厂商主流机型已广泛应用在国内知名大厂，成功实现进口替代。新华社此前报道，芯源微产品在匀胶显影技术领域居国内第一，达到国际先进水平。芯源微在记录表指出，公司现有的厂区已经是满负荷运转，同时新厂房也在建设当中，按照计划将于2021年4季度投入使用，届时对公司产能提升会起到非常大的作用。

2022年6月10日，沈阳芯源12寸KrF涂胶显影设备顺利入驻厦门士兰集科。作为士兰集科引入的首台国产高产能KrF涂胶显影机台，沈阳芯源产品获得了客户的高度重视和充分认可，士兰集科总经理黄军华、副总经理李文深、相关技术和商务代表，沈阳芯源公司董事长兼总裁宗润福、前道设计总监程虎、市场总监王星园以及现场服务代表出席了搬入仪式。此次沈阳芯源公司12寸高产能KrF涂胶显影量产机台的顺利交付，将会为士兰集科提供更加高端的光刻工艺解决方案及服务，为士兰集科后续高端产品稳定量产、产线升级扩产提供更为安全的供应链保障。同时，士兰集科作为中国大陆12寸晶圆特种工艺产线的领导者，也为集成电路高端设备国产化替代提供了优秀的平台和机遇。搬入仪式完成后，双方进行了深入友好的商务交流，沈阳芯源与士兰集科签署了战略合作协议。本次战略合作的达成，既是对过往双方成功合作的肯定，也是对未来深入合作的无限期许，双方也将继续携手前行，协同发展，同“芯”聚力，共创辉煌！

行政法规 废弃电器电子产品回收处理管理条例（中华人民共和国国务院令第551号） 为了规范废弃电器电子产品的回收处理活动，促进资源综合利用和循环经济发展，保护环境，保障人体健康，根据《中华人民共和国清洁生产促进法》和《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》的有关规定，制定本条例。 本条例所称废弃电器电子产品的处理活动，是指将废弃电器电子产品进行拆解，从中提取物质作为原材料或者燃料，用改变废弃电器电子产品物理、化学特性的方法减少已产生的废弃电器电子产品数量，减少或者消除其危害成分，以及将其最终置于符合环境保护要求的填埋场的活动，不包括产品维修、翻新以及经维修、翻新后作为旧货再使用的活动。 列入《废弃电器电子产品处理目录》（以下简称《目录》）的废弃电器电子产品的回收处理及相关活动，适用本条例。 国务院环境保护主管部门会同国务院资源综合利用、工业信息产业主管部门负责组织拟订废弃电器电子产品回收处理的政策措施并协调实施，负责废弃电器电子产品处理的监督管理工作。国务院商务主管部门负责废弃电器电子产品回收的管理工作。国务院财政、工商、质量监督、税务、海关等主管部门在各自职责范围内负责相关管理工作。 部门规章 废弃电器电子产品处理资格许可管理办法（中华人民共和国环境保护部令第13号） 为了规范废弃电器电子产品处理资格许可工作，防止废弃电器电子产品处理污染环境，根据《中华人民共和国行政许可法》、《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》、《废弃电器电子产品回收处理管理条例》，制定本办法。 本办法适用于废弃电器电子产品处理资格的申请、审批及相关监督管理活动。 本办法所称“废弃电器电子产品”，是指列入国家发展和改革委员会、环境保护部、工业和信息化部发布的《废弃电器电子产品处理目录》的产品。 国家对废弃电器电子产品实行集中处理制度，鼓励废弃电器电子产品处理的规模化、产业化、专业化发展。 处理废弃电器电子产品，应当符合国家有关资源综合利用、环境保护、劳动安全和保障人体健康的要求。禁止采用国家明令淘汰的技术和工艺处理废弃电器电子产品。 设区的市级人民政府环境保护主管部门依照本办法的规定，负责废弃电器电子产品处理资格的许可工作。 县级以上人民政府环境保护主管部门依照《废弃电器电子产品回收处理管理条例》和本办法的有关规定，负责废弃电器电子产品处理的监督管理工作。 国家环境保护标准 农药使用环境安全技术导则（HJ 556-2010） 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》、《中华人民共和国水污染防治法》和《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》，防止或减轻农药使用产生的不利环境影响，保护生态环境，制定本标准。 本标准规定了农药环境安全使用的原则、污染控制技术措施和管理措施等相关内容。 本标准适用于指导农药环境安全使用的监督与管理，也可作为农业技术部门指导农业生产者科学、合理用药的依据。 本标准为首次发布。 农村生活污染控制技术规范（HJ 574-2010） 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》、《中华人民共和国水污染防治法》、《中华人民共和国大气污染防治法》和《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》，指导农村生活污染控制工作，改善农村环境质量，促进新农村建设，制定本标准。 本标准规定了农村生活污染控制的技术要求。 本标准适用于指导农村生活污染控制的监督与管理。 本标准为首次发布。 酿造工业废水治理工程技术规范（HJ 575-2010） 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》，防止酿造工业废水污染，规范酿造工业废水治理工程设施建设和运行管理，防止环境污染，保护环境和人体健康，制定本标准。 本标准规定了酿造工业废水治理工程的污染负荷、总体要求、工艺设计、设计参数与技术要求、工艺设备与材料、检测与过程控制、构筑物及辅助工程、劳动安全与职业卫生、施工与验收、运行与维护等技术要求。 本标准适用于酿造工业废水治理工程建设全过程的环境管理，可作为项目环境影响评价，工程的可行性研究、设计、施工、竣工、环境保护验收以及设施建成后运行等环境管理的技术依据。 厌氧-缺氧-好氧活性污泥法污水处理工程技术规范（HJ 576-2010） 为贯彻《中华人民共和国水污染防治法》，防治水污染，改善环境质量，规范厌氧缺氧好氧活性污泥法在污水处理工程中的应用，制定本标准。 本标准规定了采用厌氧-缺氧-好氧活性污泥法的污水处理工程工艺设计、电气、检测与控制、施工与验收、运行与维护的技术要求。 本标准适用于采用厌氧缺氧好氧活性污泥法的城镇污水和工业废水处理工程，可作为环境影响评价、设计、施工、验收及建成后运行与管理的技术依据。 本标准为首次发布。 序批式活性污泥法污水处理工程技术规范（HJ 577-2010） 为贯彻《中华人民共和国水污染防治法》，防治水污染，改善环境质量，规范序批式活性污泥法在污水处理工程中的应用，制定本标准。 本标准规定了采用序批式活性污泥法的污水处理工程工艺设计、主要工艺设备、检测与控制、施工与验收、运行与维护的技术要求。 本标准适用于采用序批式活性污泥法的城镇污水和工业废水处理工程，可作为环境影响评价、设计、施工、环境保护验收及设施运行管理的技术依据。 本标准为首次发布。 氧化沟活性污泥法污水处理工程技术规范（HJ 578-2010） 为贯彻《中华人民共和国水污染防治法》，防治水污染，改善环境质量，规范氧化沟活性污泥法在污水处理工程中的应用，制定本标准。 本标准规定了采用氧化沟活性污泥法的污水处理工程工艺设计、主要设备、检测和控制、电气、施工与验收、运行与维护的技术要求。 本标准适用于采用氧化沟活性污泥法的城镇污水和工业废水处理工程，可作为环境影响评价、设计、施工、验收及建成后运行与管理的技术依据。 本标准为首次发布。 膜分离法污水处理工程技术规范（HJ 579-2010） 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》，规范膜分离法污水处理工程建设与运行管理，防治环境污染，保护环境和人体健康，制定本标准。 本标准规定了膜分离法污水处理工程的设计参数、系统安装与调试、工程验收、运行管理，以及预处理、后处理工艺的选择。 本标准适用于以膜分离法进行污水处理及深度处理回用的工程，可作为环境影响评价、环境保护设施设计与施工、建设项目竣工环境保护验收及建成后运行与管理的技术依据。 本标准所指膜分离法为：微滤、超滤、纳滤及反渗透膜分离技术。本标准不适用于以膜生物反应器法和荷电膜进行污水处理及回用的膜分离工程。 含油污水处理工程技术规范（HJ 580-2010） 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》，规范含油污水处理工程的建设与运行管理，防治环境污染，保护环境和人体健康，制定本标准。 本标准规定了含油污水处理工程的设计、施工、验收、运行及维护管理工作的基本要求。 本标准适用于以油污染为主的污水处理工程，可作为环境影响评价、环境保护设施设计与施工、建设项目竣工环境保护验收及建成后运行与管理的技术依据。 环境影响评价技术导则 农药建设项目（HJ 582-2010） 为贯彻《中华人民共和国环境影响评价法》和《建设项目环境保护管理条例》，保护环境，规范和指导农药建设项目环境影响评价工作，制定本标准。 本标准规定了农药（原药、制剂和中间体）建设项目环境影响评价的一般性原则、内容和方法。 本标准适用于我国所有农药新建、改建、扩建项目的环境影响评价；农药类区域规划环境影响评价可参照执行。 本标准首次发布。 农业固体废物污染控制技术导则（HJ 588-2010） 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》，防治农业固体废物污染，改善农村环境质量，促进新农村建设，制定本标准。 本标准规定了农业植物性废物、畜禽养殖废物和农用薄膜等三种农业固体废物污染控制的原则、技术措施和管理措施等相关内容。 本标准适用于指导农业种植、畜禽养殖等产生的固体废物污染控制管理，实现农业固体废物资源化、减量化、无害化。 本标准为首次发布。 突发环境事件应急监测技术规范（HJ 589-2010） 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》、《中华人民共和国水污染防治法》、《中华人民共和国大气污染防治法》和《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》，防止环境污染，改善环境质量，规范突发环境事件应急监测，制定本标准。 本标准规定了突发环境事件应急监测的布点与采样、监测项目与相应的现场监测和实验室监测分析方法、监测数据的处理与上报、监测的质量保证等的技术要求。 本标准适用于因生产、经营、储存、运输、使用和处置危险化学品或危险废物以及意外因素或不可抗拒的自然灾害等原因而引发的突发环境事件的应急监测，包括地表水、地下水、大气和土壤环境等的应急监测。 本标准不适用于核污染事件、海洋污染事件、涉及军事设施污染事件、生物、微生物污染事件等的应急监测。 本标准为首次发布。 环境空气 臭氧的测定 紫外光度法（HJ 590-2010） 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国大气污染防治法》，保护环境，保障人体健康，规范环境空气中臭氧的监测方法，制定本标准。 本标准规定了测定环境空气中臭氧的紫外光度法。 本标准适用于环境空气中臭氧的瞬时测定，也适用于环境空气中臭氧的连续自动监测。 本标准是对《环境空气 臭氧的测定 紫外分光光度法》（GB/T 15438-1995）的修订。 自本标准实施之日起，原国家环境保护局1995年3月25日批准、发布的国家环境保护标准《环境空气 臭氧的测定 紫外分光光度法》(GB/T 15438-1995)废止。 水质 五氯酚的测定 气相色谱法（HJ 591-2010） 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》，保护环境，保障人体健康，规范水中五氯酚的测定方法，制定本标准。 本标准规定了水中五氯酚和五氯酚盐的气相色谱测定方法。 本标准适用于地表水、地下水、海水、生活污水和工业废水中五氯酚和五氯酚盐的测定。 本标准是对《水质 五氯酚的测定 气相色谱法》（GB 8972-88）的修订。 自本标准实施之日起，原国家环境保护局1988年3月26日批准、发布的国家环境保护标准《水质 五氯酚的测定 气相色谱法》（GB 8972-88）废止。 水质 硝基苯类化合物的测定 气相色谱法（HJ 592-2010） 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》，保护环境，保障人体健康，规范工业废水和生活污水中硝基苯类化合物的测定方法，制定本标准。 本标准规定了水中硝基苯类化合物的气相色谱法。 本标准适用于工业废水和生活污水中硝基苯类化合物的测定。 本标准是对《工业废水 总硝基化合物的测定 气相色谱法》（GB 4919-85）的修订。 自本标准实施之日起，原国家环境保护局1985年8月1日批准、发布的国家环境保护标准《工业废水 总硝基化合物的测定 气相色谱法》（GB 4919-85）废止。 水质 单质磷的测定 磷钼蓝分光光度法（暂行）（HJ 593-2010） 为了贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》，保护环境，保障人体健康，规范水中单质磷的测定方法，制定本标准。 本标准规定了测定水中单质磷的磷钼蓝分光光度法。 本标准适用于地表水、地下水、工业废水和生活污水中单质磷的测定。 水质 显影剂及其氧化物总量的测定 碘-淀粉分光光度法(暂行)( HJ 594-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》，保护环境，保障人体健康，规范废水中显影剂及其氧化物总量的监测方法，制定本标准。 本标准规定了测定废水中显影剂及其氧化物总量的碘-淀粉分光光度法。 本标准适用于彩色和黑白片洗片排放废水中显影剂及其氧化物总量的测定。 水质 彩色显影剂总量的测定 169成色剂分光光度法((暂行)( HJ 595-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》，保护环境，保障人体健康，规范废水中彩色显影剂总量的监测方法，制定本标准。 本标准规定了测定废水中彩色显影剂总量的169成色剂分光光度法。 本标准适用于洗印废水中彩色显影剂总量的测定。 自以上标准实施之日起，下列标准废止： 工业废水 总硝基化合物的测定 气相色谱法（GB 4919-85） 水质 五氯酚的测定 气相色谱法（GB 8972-88） 环境空气 臭氧的测定 紫外分光光度法 (GB/T 15438-1995)

关于发布《环境空气 臭氧的测定 紫外光度法》等六项国家环境保护标准的公告 　　为贯彻《中华人民共和国环境保护法》，保护环境，保障人体健康，现批准《环境空气 臭氧的测定 紫外光度法》等六项标准为国家环境保护标准，并予发布。 　　标准名称、编号如下： 　　一、环境空气　臭氧的测定　紫外光度法（HJ 590-2010）； 　　二、水质　五氯酚的测定　气相色谱法（HJ 591-2010)； 　　三、水质　硝基苯类化合物的测定　气相色谱法（HJ 592-2010)； 　　四、水质　单质磷的测定　磷钼蓝分光光度法（暂行）（HJ 593-2010)； 　　五、水质　显影剂及其氧化物总量的测定　碘-淀粉分光光度法（暂行）（HJ 594-2010) ； 　　六、水质　彩色显影剂总量的测定　169成色剂分光光度法（暂行）（HJ 595-2010)。 　　以上标准自2011年1月1日起实施，由中国环境科学出版社出版，标准内容可在环境保护部网站(bz.mep.gov.cn)查询。 　　自以上标准实施之日起，由原国家环境保护局批准、发布的下述三项国家环境保护标准废止，标准名称、编号如下： 　　一、环境空气　臭氧的测定　紫外分光光度法 (GB/T 15438-1995) 　　二、水质　五氯酚的测定　气相色谱法(GB 8972-88) 　　三、工业废水　总硝基化合物的测定　气相色谱法(GB 4919-85)。 　　特此公告。 　　二○一○年十月二十一日

日前，天津大学李振、谢育俊团队成功研发新型指纹显影剂，可实现高质量指纹图像显影，为身份认证、案件侦办带来新思路。相关成果发表于国际期刊《先进材料》。指纹识别技术目前已经广泛应用于刑事侦查、身份识别等领域。“指纹三级特征”是从指纹纹路进一步提取的微观细节特征，如指纹脊的宽度、形状、指纹脊上的汗腺分布以及间距等。在实际刑侦过程中，很多案发现场往往只留下很少的指纹，现有的指纹识别技术很难据此进行识别，而根据指纹三级特征却能进行身份认定。实现三级指纹特征的可靠检测离不开高质量指纹图像，因此，发展高性能指纹可视化技术对于刑侦等领域具有重要意义。天津大学李振、谢育俊团队研发了一种新型两亲性指纹显影剂。这种显影剂在空气中研磨可使其发光颜色产生变化，还可以自行恢复；该显影剂以水作为溶剂，不仅避免了对指纹精细结构的破坏，而且在各种基质均有良好的显影效果。特别值得一提的是，该显影剂不仅工作浓度低、显影时间短，而且其获得指纹显影图像的分辨率极高，对三级指纹细节尤其具有非常清晰的可视化效果。“该指纹显影剂能够实现目前三级指纹特征显影几乎最佳的效果。”据研究人员表示，“未来这项技术对身份识别与案件场景指纹证据收集具有重要意义。”

p style=" text-indent: 2em " 10月9日，清华大学发布《清华大学涂胶显影一体机采购项目公开招标公告》，预算达600万元。 span style=" text-indent: 2em " 本次采购的涂胶显影一体机主要用于对8英寸及6英寸直径的硅、玻璃、聚合物等材料基片进行光刻胶或聚合物材料的均匀涂覆并在光刻后进行显影，以达到后续光刻或键合等工艺的要求。 /span /p p style=" text-indent: 2em " span style=" text-indent: 2em " 获取招标文件时间为2020年10月09日 至 2020年10月15日，每天上午9:00至11:30，下午13:30至17:00。 /span 提交投标文件截止2020年10月30日 14点00分。开标时间为2020年10月30日 14点00分。以下为公告概要： /p h3 span style=" font-size: 16px " 项目概况 /span /h3 p 清华大学涂胶显影一体机采购项目 招标项目的潜在投标人应在北京市海淀区文慧园北路10号，北京中教仪国际招标代理有限公司603室（中国教育报刊社院内）获取招标文件，并于2020年10月30日 14点00分（北京时间）前递交投标文件。 /p h3 span style=" font-size: 16px " 项目基本情况 /span /h3 p 项目编号：清设招第2020071号（0873-2001HW2L0110） /p p 项目名称：清华大学涂胶显影一体机采购项目 /p p 预算金额：600.0000000 万元（人民币） /p p 采购需求： /p p 1.本次招标共& nbsp 1& nbsp 包： /p table align=" center" border=" 1" cellpadding=" 0" cellspacing=" 0" style=" border: none font-variant-numeric: inherit font-variant-east-asian: inherit font-stretch: inherit line-height: inherit font-family: & quot Microsoft YaHei& quot , 微软雅黑, 黑体 vertical-align: baseline margin: 0px auto padding: 0px border-spacing: 0px color: rgb(56, 56, 56) white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) " tbody style=" border: 0px font: inherit vertical-align: baseline margin: 0px padding: 0px " tr style=" border: 0px font: inherit vertical-align: baseline margin: 0px padding: 0px " class=" firstRow" td style=" font: inherit vertical-align: baseline margin: 0px border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " width=" 59" height=" 49" align=" center" valign=" middle" p style=" text-align: center border: 0px font-style: inherit font-variant: inherit font-weight: inherit font-stretch: inherit font-size: inherit font-family: inherit vertical-align: baseline margin-bottom: 5px line-height: normal margin-top: 5px " span style=" font-family: arial, helvetica, sans-serif " 包号 /span /p /td td style=" font: inherit vertical-align: baseline margin: 0px border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px word-break: break-all " width=" 126" height=" 49" align=" center" valign=" middle" p style=" text-align: center border: 0px font-style: inherit font-variant: inherit font-weight: inherit font-stretch: inherit font-size: inherit font-family: inherit vertical-align: baseline margin-top: 5px margin-bottom: 22px line-height: normal " span style=" font-family: arial, helvetica, sans-serif " 名称 /span /p /td td style=" font: inherit vertical-align: baseline margin: 0px border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " width=" 103" height=" 49" align=" center" valign=" middle" p style=" text-align: center border: 0px font-style: inherit font-variant: inherit font-weight: inherit font-stretch: inherit font-size: inherit font-family: inherit vertical-align: baseline margin-top: 5px margin-bottom: 22px line-height: normal " span style=" font-family: arial, helvetica, sans-serif " 数量 /span /p /td td style=" font: inherit vertical-align: baseline margin: 0px border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " width=" 223" height=" 49" align=" center" valign=" middle" p style=" text-align: center border: 0px font-style: inherit font-variant: inherit font-weight: inherit font-stretch: inherit font-size: inherit font-family: inherit vertical-align: baseline margin-top: 5px margin-bottom: 5px line-height: normal " span style=" font-family: arial, helvetica, sans-serif " 预算金额 /span /p p style=" text-align: center border: 0px font-style: inherit font-variant: inherit font-weight: inherit font-stretch: inherit font-size: inherit font-family: inherit vertical-align: baseline margin-top: 5px margin-bottom: 5px line-height: normal " span style=" font-family: arial, helvetica, sans-serif " （人民币） /span /p /td /tr tr style=" border: 0px font: inherit vertical-align: baseline margin: 0px padding: 0px height: 43px " td style=" font: inherit vertical-align: baseline margin: 0px border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " width=" 59" height=" 43" align=" center" valign=" middle" p style=" text-align: center border: 0px font-style: inherit font-variant: inherit font-weight: inherit font-stretch: inherit font-size: inherit font-family: inherit vertical-align: baseline margin-top: 5px margin-bottom: 22px line-height: normal " span style=" font-family: arial, helvetica, sans-serif " 1 /span /p /td td style=" font: inherit vertical-align: baseline margin: 0px border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " width=" 125" height=" 43" align=" center" valign=" middle" p style=" text-align: center border: 0px font-style: inherit font-variant: inherit font-weight: inherit font-stretch: inherit font-size: inherit font-family: inherit vertical-align: baseline margin-top: 5px margin-bottom: 22px line-height: normal " span style=" font-family: arial, helvetica, sans-serif " 涂胶显影一体机 /span /p /td td style=" font: inherit vertical-align: baseline margin: 0px border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px word-break: break-all " width=" 103" height=" 43" align=" center" valign=" middle" p style=" text-align: center border: 0px font-style: inherit font-variant: inherit font-weight: inherit font-stretch: inherit font-size: inherit font-family: inherit vertical-align: baseline margin-top: 5px margin-bottom: 22px line-height: normal " span style=" font-family: arial, helvetica, sans-serif " 1套 /span /p /td td style=" font: inherit vertical-align: baseline margin: 0px border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " width=" 231" height=" 43" align=" center" valign=" middle" p style=" text-align: center border: 0px font-style: inherit font-variant: inherit font-weight: inherit font-stretch: inherit font-size: inherit font-family: inherit vertical-align: baseline margin-top: 5px margin-bottom: 22px line-height: normal " span style=" font-family: arial, helvetica, sans-serif " 600万元 /span /p /td /tr /tbody /table span style=" background-color: rgb(255, 255, 255) color: rgb(56, 56, 56) text-align: justify text-indent: 24pt " （1）本次招标、投标、评标均以包为单位，投标人须以包为单位进行投标，如有多包，可投一包或多包，但不得拆包，不完整的投标将被拒绝。 /span p （2）本项目接受进口产品投标。 /p p 2.招标用途： br/ /p p 涂胶显影一体机用于对8英寸及6英寸直径的硅、玻璃、聚合物等材料基片进行光刻胶或聚合物材料的均匀涂覆并在光刻后进行显影，以达到后续光刻或键合等工艺的要求。 /p p 以上货物或服务的供应、运输、安装调试、培训及售后服务具体招标内容和要求，以本招标文件中商务、技术和服务的相应规定为准。 /p p 合同履行期限：详见采购需求 /p p 本项目( 不接受 )联合体投标。 /p p style=" text-align: center " a href=" https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCSMD2020/" target=" _self" img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202010/uepic/3e77024c-93ff-43b3-8ef6-5ed6d81686d4.jpg" title=" 半导体材料与器件.jpg" alt=" 半导体材料与器件.jpg" / /a /p

近日，盛美上海宣布首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影Track设备，该设备由盛美半导体设备（亚太）制造中心完成出货，这是该公司提升其在涂胶和显影领域内专业技术的重要一步。盛美上海称，前道涂胶显影Track设备Ultra LITH的出货是盛美上海持续拓展产品系列的又一成果，公司致力于成为晶圆级的工艺解决方案平台，旗下产品还包括单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备，及PECVD设备。此外，盛美上海将于2023年推出i-line型号设备，并且公司已开始着手研发KrF型号设备。

日前，芯源微披露其定增预案，拟向特定对象发行股票数量不超过公司总股本的30%，即本次发行不超过2520万股，募集总金额不超过10亿元（含本数），扣除发行费用后的净额将用于上海临港研发及产业化项目、高端晶圆处理设备产业化项目（二期）、补充流动资金。图片来源：芯源微公告截图其中，上海临港研发及产业化项目位于上海闵行经济技术开发区临港园区。本项目预计建设期为30个月，由公司全资子公司上海芯源微企业发展有限公司实施。本项目计划总投资额为6.40亿元，拟投入募集资金4.70亿元，其余以自筹资金投入。本项目建成并达产后，主要用于研发与生产前道ArF光刻工艺涂胶显影机、浸没式光刻工艺涂胶显影机及单片式化学清洗机等高端半导体专用设备。高端晶圆处理设备产业化项目（二期）位于辽宁省沈阳市浑南区。本项目预 计建设期为30个月，计划总投资额为2.89亿元，拟投入募集资金2.30亿元，其余以自筹资金投入。本项目建成并达产后，主要用于前道I-line与KrF光刻工艺涂胶显影机、前道Barc（抗反射层）涂胶机以及后道先进封装Bumping制备工艺涂胶显影机。为满足公司日益增长的运营资金需要，本次募集资金中的3.00亿元拟用于补充流动资金。本次募集资金补充流动资金将用于支持公司持续推出新产品、满足公司产业扩张需求等。公告指出，公司主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻 蚀机），可用于8/12英寸单晶圆处理（如集成电路制造前道晶圆加工及后道先进封装环节）及6英寸及以下单晶圆处理（如化合物、MEMS、LED芯片制造等环节）。公司专注于高端半导体专用设备领域，通过持续的技术研发和供应链建设，不断开拓新产品、新领域，提升公司的核心竞争力。本次募集资金投资项目围绕公司主营业务展开，对公司现有业务起到了补充和提升的作用，符合公司发展战略。上海临港研发及产业化项目建设后，公司将在前道先进制程设备研发及产业化领域实现进一步突破，推出更高工艺等级的前道涂胶显影设备与清洗设备产品，进一步强化公司在高端设备领域的技术优势并丰富产品结构。高端晶圆处理设备产业化项目（二期）建成后，公司将扩充前道晶圆加工及后道先进封装环节涂胶显影设备产能，满足业务规模快速增长的需求，进一步提升公司的盈利能力和综合竞争实力。此外，基于行业当前发展趋势和竞争格局的变化，公司近年来不断扩大的业务规模，未来几年公司仍处于成长期，生产经营、市场开拓、研发投入等活动中需要大量的营运资金。通过本次发行募集资金补充流动资金，可在 一定程度上解决公司因业务规模扩张而产生的营运资金需求，缓解快速发展的资金压力，提高公司抗风险能力。据公告介绍，经过多年的积累，公司在光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备领域已具备一定的客户优势。在集成电路前道晶圆加工环节，公司生产的前道涂胶显影设备在多个关键技术方面取得突破，已陆续获得上海华力、中芯绍兴、厦门士兰集科、上海积塔、株洲中车、青岛芯恩、中芯宁波、昆明京东方等多个前道客户订单及应用。公司生产的集成电路前道晶圆加工领域用单片式清洗 机Spin Scrubber设备通过持续的改进、优化，已经达到国际先进水平并成功实现进口替代，已在中芯国际、上海华力、厦门士兰集科等多个客户处通过工艺验证，并获得国内多家Fab厂商的批量重复订单。在集成电路后道晶圆加工环 节，公司生产的后道涂胶显影设备与单片式湿法设备，已经从先进封装领域、LE领域拓展到MEMS、化合物、功率器件、特种工艺等领域，作为主流机型应用于台积电、长电科技、华天科技、通富微电、晶方科技、华灿光电、乾照光电、澳洋顺昌、中芯绍兴、中芯宁波等大厂。

当下的全球光刻胶市场，几乎被日本企业垄断，而日本在对华出口管制政策上一直是亦步亦趋追随美国步伐，随着美国对华出口管制制度的加强，业界一直担心日本政府会以防止技术扩散为由，加大对光刻胶出口的审查。日本是我国光刻胶第一大进口来源国。据中国海关总署数据，2023年我国感光化学品进口总额21.77亿美元，从日本进口额11.49亿美元，占比52.8%。2024年1-6月份，从日本进口额为6.38亿美元，同比增长16.7%，6月份进口额为1.12亿美元，同比增长5.1%，环比增长6.2%。爱集微将通过数据详细解读我国感光化学品从日本进口情况，发布《中国半导体海关进出口数据-感光化学品日本进口额》。上半年进口额同比增长16.7% 占比处于历史高位据爱集微统计，2016年Q1-2020年Q4，我国感光化学品的进口额稳步增长，年度复合增长率8.75%。进入2021年，进口额出现大幅增长，同比增长26.6%。2021年Q1-2024年Q2，进口额虽有所波动，但基本保持平稳。2024年上半年，感光化学品的进口额总额为11.77亿美元，同比增长10.9%，Q2进口总额6.27亿美元，同比增长10.8%，环比增长14.1%。日本一直是我国感光化学品进口的第一大来源国，从日本进口的感光化学品变化趋势也基本与进口总额一致。2024年上半年，从日本进口感光化学品的进口额为6.38亿美元，同比增长16.7%，Q2进口总额3.38亿美元，同比增长15.6%，环比增长12.6%。日本进口平均占比约51.5%，近年来占比处于历史高位。沪粤苏进口排名前三 感光乳液同比下降29.96%按国内分注册地进口情况看，2024年1-6月感光化学品进口量前三的是江苏省（23,807.2万美元）、广东省（22,151.01万美元）和上海市（16,140.59万美元），占比分别是20.2%、18.8%和13.7%；从日本进口的感光化学品量前三的是上海市（13,433.80万美元）、广东省（10,630.01万美元）和江苏省（10,233.69万美元），占比分别是21.1%、16.7%和16.0%。分类别日本进口情况，2024年1-6月份，“感光乳液”进口量同比下降29.96%，“未列名摄影用化学制剂；摄影用未混合产品”（光刻胶即归为此类）进口量同比增长28.52%。6月份，上述两类商品环比皆有所上升，其中“感光乳液”环比增长50.60%，“未列名摄影用化学制剂；摄影用未混合产品”环比增长5.91%。附注：本文统计的感光化学品统计口径海关编码为“3707”，商品名称为“摄影用化学制剂（不包括上光漆、胶水、粘合剂及类似制剂）；摄影用未混合产品，定量包装或零售包装可立即使用的”，该品类包含感光乳液、光刻胶及其他摄影用化学制剂等。根据海关总署进出口税则商品及品目注释，本品目包括符合以下第（一）、（二）款所述条件的直接用以显现摄影图像的产品。它们包括：一、乳剂。二、显影剂（例如，氢醌、儿茶酚、焦酚、碘阿芬东、对-N-甲氨基羟基苯磺酸盐及其衍生物），能使潜在的影像显现出来。本品目还包括静电复制文件用的显影剂。三、定影剂，使显影后的图像固定不变〔例如，硫代硫酸钠（海波苏打）、偏亚硫酸氢钠、硫代硫酸铵、硫氰酸铵、硫氰酸钠或硫氰酸钾〕。四、增厚剂及减薄剂，用以增加或减小影像的强度（例如，重铬酸钾、过二硫酸铵）。五、调色剂，用以改善影像色彩（例如，硫化钠）。六、去污渍剂，用以去除显影、定影等过程中产生的污渍（例如，钾矾）。本品目还包括闪光灯材料。此种材料通常由铝或镁的粉、片、箔等组成，有时与其他物料混合以促进燃烧。以上所述所有产品只有在符合下列任一条件下才能归入本品目：（一）未混合物质必须是：1．已配定剂量，即均等地分成可直接使用的剂量，例如，制成供一次冲洗用的片、小包装粉剂。2．零售包装并标有可立即用于摄影方面的说明，不论其说明是用标签、说明书或其他方式表示（例如，使用说明等）。（二）将两种或两种以上物质混合或配合而成的摄影用制剂。此类制剂不论是散装或小包装，也不论是否以零售形式报验。子目注释：子目3707.90包括用于半导体材料光刻制造的感光塑料树脂溶液（“光刻胶”）。这种产品由聚合物、光敏剂、非水溶剂和各种其他化学品组成。光刻胶用于覆盖在沉积了金属氧化物的硅片上，该硅片最终将被制造成半导体材料。

三星电子旗下的晶圆厂设备公司Semes成功开发出一种ArF-i浸润式光刻涂胶/显影设备。该公司6月24日表示，第一台名为“Omega Prime”的设备已于去年供货，Semes正在制造第二台设备。迄今为止，韩国芯片制造商在设备方面严重依赖外国进口，三星每年花费达数千亿韩元。据了解，涂胶设备用于曝光前，对晶圆进行光刻胶涂布。在完成光刻后，需由显影设备进行光刻图案的显影。Semes目前已制造出KrF光刻涂胶/显影设备，并在此基础上开发了ArF版本，以支持波长更短的新型光刻机。据业界报道，目前东京电子（Tokyo Electron）拥有ArF-i光刻涂胶/显影设备全球90%以上的市场份额。Semes表示，在Omega Prime设备上应用了喷嘴、烘烤温度和机器人位置自动调整系统，以消除涂布层的偏差。

韩国基础科学研究院纳米医学研究团的科研团队日前发表了一种全新的纳米磁共振成像(MRI)造影剂技术，能够大幅度提升医学图像的可识别度。动物实验表明，使用该造影剂，实验鼠异常组织的亮度达到了周围健康组织亮度的10倍。　　新的造影剂技术具有选择性，形成的核磁共振图像对癌症等特定代谢的标志物敏感。研究人员将该造影剂命名为“核磁共振纳米灯”。　　纳米造影剂基于磁谐振技术，主要由两种磁性材料组成，包括“开关材料”(磁性纳米颗粒)和“显影材料”(顺磁性MRI造影剂)，两种材料之间的距离不同，核磁共振图像的亮度也不同。两种材料之间的临界距离大于7纳米时，开关材料对显影材料的影响消失，顺磁性造影剂在MRI图像上充分显影，此时相当于开关的“开” 当二者距离小于7纳米时，顺磁性显影材料在MRI图像上的状态则是“关”。　　研究人员制造了一种足以探测实验鼠体内癌症的造影剂。造影剂使用一种能够被癌症代谢产物MMP-2酶切断的生物材料连接“开关材料”和“显影材料”，令两种材料之间的初始距离低于7纳米。显影剂注入实验鼠组织后，如果组织中存在癌变，两种材料之间的连接将会被MMP-2酶切断，导致两种材料分离，MRI图像会将病灶区域显示为高亮度。　　使用纳米造影剂技术，MRI检查能够显示肿瘤的存在和具体分布，还可以通过图像揭示癌组织中MMP-2酶的浓度，获得癌变分期等进一步信息。　　研究人员相信，该技术作为一种全新的生物传感器，还将解决更多的生物和医学课题。现该团队正在开发更安全、更智能的多任务造影剂，以同时记录和解释多个生物学靶标。　　MRI问世至今已有近40年历史，成为一种主要的非侵入式诊断技术。MRI诊断中广泛使用造影剂，以提高图像可辨识性。

p 　　国FDA药物安全委员会发表声明：FDA确定MRI钆对比剂脑沉积迄今未产生任何有害影响。 /p p 　　▲事件回顾 /p p 　　? 自从2017年3月欧洲药物管理局PRAC提出在欧洲市场暂停所有线形对比剂静脉内应用的建议后，美国放射学会(ACR)于2017年4月4日首次回应，表示经过广泛审查相关材料后，ACR药物与对比剂委员会不同意PRAC的建议。ACR认为目前并无有力证据表明钆对比剂(GBCAs,包括线形GBCAs)会对脑内钆沉积产生安全风险。线形对比剂具有大量证据充分的诊断价值，并且一些情况下可能具有比大环形对比剂更理想的药理学性质及更低的急性不良反应风险。 /p p 　　? 此次声明是基于FDA对于重复多次使用MRI钆对比剂后发生脑沉积的风险评估。FDA一直非常关注MRI钆对比剂的脑沉积相关证据，并在未来保留继续审查相关数据。 /p p 　　▲声明内容 /p p 　　[2017-5-22] 美国食品和药物管理局(FDA)审查迄今发表的研究数据，尚未发现在使用GBCA用于磁共振成像(MRI)后脑沉积的不良健康影响。所有的GBCA都可能与脑部和其他身体组织中的钆残留存在联系。然而，由于并未发现任何证据表明，在任何一种GBCA中，脑部钆残留是有害的，即使是高度的钆残留，因此目前并无必要限制GBCA的使用。我们将继续评估GBCA的安全性，并计划在未来召开公众会议来讨论这个问题。 /p p 　　我们对医疗专业人员和患者的建议与2015年7月的情况保持不变：我们正在调查这一潜在风险。当考虑使用任何医学显像剂时，医疗专业人员应将GBCA的使用限制在必要的情况下，并评估重复MRI检查与GBCA的必要性。患者进行MRI检查时如有任何问题或担心，应该与医疗专业人员交谈。钆残留只影响GBCA，并不适用于其他成像方式，例如基于碘或放射性同位素的显影剂。 /p p 　　我们评估了向FDA提交的17篇科学文献和不良事件报告。一些人类和动物研究发现，GBCA的使用周期长于一年。这些文献和报告显示，钆残留在大脑、骨骼和皮肤等器官中。然而，我们的综述并没有发现与这种脑沉积有关的不良健康影响。 /p p 　　迄今为止，与钆残留有关的唯一不良健康影响是一种罕见的疾病，称为肾源性全身纤维化(NSF)，发生在患有肾衰竭的一小部分患者身上。最近发表了一些报道涉及到在正常肾功能的患者中使用GBCA后发生皮肤和其他组织增厚和硬化的反应，但并未发生NSF。我们继续对这些报告进行评估，以确定这些纤维化反应是否对钆沉积有不良的健康影响。 /p p 　　线性GBCA OptiMARK(gadoversetamide)的制造商，更新了它的标签，包含了其在各种身体器官，如大脑、皮肤和其他器官中有钆残留的信息。我们正在检查其他GBCA的标签，以确定是否需要更改。 /p p 　　近期，欧洲药品局(EMA) 药物警戒风险评估委员会的一项评估也确定钆剂脑沉积没有不利的健康影响，但委员会建议暂停某些线性GBCAs的市场销售，因为相比大环的GBCAs，他们导致了更多的脑部钆沉积。委员会的建议目前正处于上诉阶段，由该委员会进一步审查，并随后由EMA人类医疗产品委员会进行审查。 /p p 　　我们正在继续评估GBCA的安全性。FDA的国家毒物研究中心(NCTR)正在进行一项关于对大鼠的大脑记忆能力的研究。其他研究也正在进行，关于钆是如何在体内保留的。我们将在有新信息时更新公众，并计划在未来召开公开会议讨论这个问题。 /p p 　　我们敦促患者和医疗专业人员向FDA的MedWatch程序报告涉及GBCA或其他药物的副作用，并在页面底部使用“联系FDA”的信息。 /p

12月30日晚间，远方光电公告称，公司自主研发的SPIC-200光谱彩色照度计已经实现产业化，将于2014年正式上市销售。 　　据悉，该产品可进行光谱、照度、色度、植物光合光度量等测量，融合360° 取样蓝牙探头、SD移动存储、WIFI无线传输等现代科技，产品可为客户提供了更加便捷、可靠的专业测试，产品为一款手持终端仪器，在现场照明、光源制造、科研等领域有较为广泛应用。 　　该产品相关核心技术已经获得国内外多项发明专利，填补了该领域的国内空白，整体技术国际领先。该产品不会对公司2013年度业绩造成影响，对公司2014年业绩将会有积极作用。

半导体材料无机非金属离子和金属元素解决方案——光刻胶篇李小波 潘广文 近年来，随着物联网、人工智能、新能源汽车、消费类电子等领域的应用持续增长以及5G的到来，集成电路（integrated circuit）产业发展正迎来新的契机。集成电路制造过程中，光刻工艺约占整个芯片制造成本的35%，是半导体制造中最核心的工艺。涉及到的材料包括多种溶剂、酸、碱、高纯有机试剂、高纯气体等。在所有试剂中，光刻胶的技术要求最高。赛默飞凭借其在离子色谱和ICPMS的技术实力，不断开发光刻胶及光刻相关材料中痕量无机非金属离子和金属离子的检测方案，助力光刻胶产品国产化进程。从光刻胶溶剂、聚体、显影液等全产业链，帮助半导体客户建立起完整的质量控制体系。 光刻胶是什么？光刻胶又称抗刻蚀剂，是半导体行业的图形转移介质，由感光剂、聚合物、溶剂和添加剂等四种基本成分组成。将光刻胶旋涂在晶圆表面，利用光照反应后光刻胶溶解度不同而将掩膜版图形转移到晶圆表面，实现晶圆表面的微细图形化。根据光刻机的曝光波长不同，光刻胶种类也不同。 光刻相关材料光刻相关材料主要有溶剂、显影剂、清洗剂、刻蚀剂和去胶剂，这些材料被称为高纯湿电子化学品，是集成电路行业应用非常广泛的一类化学试剂。光刻胶常用溶剂有丙二醇甲醚/丙二醇甲醚醋酸酯（PGME/PGMEA）、甲醇、异丙醇、丙酮和N-甲基吡咯烷酮（NMP）等。常见的正胶显影剂有氢氧化钠和四甲基氢氧化铵等，对应的清洗剂是超纯水。 光刻胶及光刻相关材料中金属离子、非金属阴离子对集成电路的影响半导体材料拥有独特的电性能和物理性能，这些性能使得半导体器件和电路具有独特的功能。但半导体材料也容易被污染损害，细微的污染都可能改变半导体的性质。通常光刻胶、显影液和溶剂中无机非金属离子和金属杂质的限量控制在ppb级别，控制和监测光刻工艺中无机非金属离子和金属离子的含量，是集成电路产业链中非常重要的环节。 光刻胶及光刻相关材料中无机金属离子、非金属离子的测定方法国际半导体设备和材料产业协会（Semiconductor Equipment and Materials International,SEMI）对光刻胶、光刻工艺中使用的显影剂、清洗剂、刻蚀剂和去胶剂等制定了严格的无机金属离子和非金属离子的限量要求和检测方法。离子色谱是测定无机非金属离子杂质（F-、Cl-、NO2- 、Br-、NO3- 、SO42-、PO43-、NH4+）最常用的方法。在SEMI标准中，首推用离子色谱测定无机非金属离子，用ICPMS测定金属元素。赛默飞凭借其离子色谱和ICPMS的领先技术，紧扣SEMI标准，为半导体客户提供简单、快速和准确的光刻胶和光刻相关材料中无机金属离子和非金属离子的检测方案，确保半导体产业的发展和升级顺利进行。针对光刻胶及光刻相关材料中痕量无机非金属离子和金属元素的分析，赛默飞离子色谱和ICPMS提供三大解决方案。 方案一 NMP、PGMEA、DMSO等有机溶剂中痕量无机金属和非金属离子的测定方案 光刻胶所用有机溶剂中无机非金属离子的限量要求低至ppb~ppm级别。赛默飞离子色谱提供有机溶剂直接进样的方式，通过谱睿技术在线去除有机基质，一针进样同时分析SEMI标准要求监控的无机非金属离子。整个分析过程无需配制任何淋洗液和再生液，方法高效稳定便捷，避免了试剂、环境、人员等因素可能引入的污染。ICS 6000高压离子色谱有机试剂阀切换流路图 滑动查看更多 光刻胶溶剂中ng/L级超痕量金属杂质的测定，要求将有机溶剂直接进样避免因样品制备过程引起的污染。由于 PGMEA 和 NMP具有高挥发性和高碳含量，其基质对ICPMS分析会引入严重的多原子离子干扰，并对等离子体带来高负载。iCAP TQs ICP-MS 中采用等离子体辅助加氧除碳，并结合冷等离子体、串联四级杆和碰撞反应技术，可有效去除干扰。变频阻抗式匹配的RF发生器设计，可轻松应对有机溶剂直接进样，并可实现冷焰和热焰模式的稳定切换。 冷焰TQ-NH3模式测定NMP中Mg热焰TQ-O2模式测定NMP中V NMP、PGMEA有机溶剂直接进样等离子体状态未加氧（左），加氧（右） 方案二 显影液中无机金属离子及非金属离子测定方案 光刻工艺中常用的正胶显影液是氢氧化钠和四甲基氢氧化铵，对于这两大碱性试剂赛默飞推出强大的在线中和技术，样品仅需稀释2倍或无需稀释直接进样，避免了样品前处理引入的误差和污染，对此类样品中阴离子的定量限达到10ppb以下。这一方法帮助多家高纯试剂客户解决了碱液检测的技术难题，将该领域的高纯试剂纯度提升到国际先进水平。中和器工作原理四甲基氢氧化铵TMAH是具有强碱性的有机物，作为显影液的TMAH常用浓度为2.38%, 为了避免样品处理中引入的污染，ICPMS通常采用直接进样方式测定。在高温下长时间进样碱性样品，会导致腐蚀石英炬管，引起测定空白值的提高。iCAP TQs使用最新设计的SiN陶瓷材料Plus Torch，耐强酸强碱，可一劳永逸地解决碱性样品中痕量金属离子的测定。新型等离子体炬管Plus Torch 方案三 光刻胶单体和聚体中卤素及金属离子测定方案 光刻胶单体和聚体不溶于水，虽溶于有机试剂但容易析出，常规方法难以去除基质影响。赛默飞推出CIC在线燃烧离子色谱-测定单体和聚体中的卤素，通过燃烧，光刻胶样品基质被完全消除，实现一次进样同时分析样品中的所有卤素含量。燃烧过程实时监控，测定结果准确稳定，满足光刻胶中痕量卤素的限量要求。图 CIC燃烧离子色谱仪SEMI P32标准使用原子吸收、ICP光谱和ICP质谱法来测定光刻胶中ppb级的Al Ca Cr 等10种金属杂质，样品前处理可采用溶剂溶解和干法灰化酸提取两种方法。溶剂溶解法是使用PGMEA等有机溶剂将样品稀释50-200倍，超声波振荡充分溶解后，直接进样测定。部分聚合物较难溶解于有机溶剂中，将采用500-800度干法灰化处理，并用硝酸溶解残留物提取。iCAP TQs采用在样品中添加内标工作曲线法测定，对于不同基质样品及处理方法的样品可提供准确的测定结果。 总结 针对集成电路用光刻胶及光刻相关材料，赛默飞离子色谱和ICPMS提供无机非金属离子和金属离子杂质检测的完整解决方案，为光刻胶及高纯试剂客户提供安全、便捷可控的全方位支持。“胶”相辉映，赛默飞在行动，助力集成电路产业发展，促进光刻胶国产化进程，欢迎来询！ 参考文献：1.SEMI F63-0521 GUIDE FOR ULTRAPURE WATER USED IN SEMICONDUCTOR PROCESSING2.SEMI P32-1104 TEST METHOD FOR DETERMINATION OF TRACE METALS IN PHOTORESIST3.SEMI C43-1110 SPECIFICATION FOR SODIUM HYDROXIDE, 50% SOLUTION4.SEMI C46-0812 GUIDE FOR 25% TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDE5.SEMI C72-0811 GUIDE FOR PROPYLENE-GLYCOL-MONO-METHYL-ETHER (PGME), PROPYLENE-GLYCOL-MONO-METHYL-ETHER-ACETATE (PGMEA) AND THE MIXTURE 70WT% PGME/30WT% PGMEA6.SEMI C33-0213 SPECIFICATIONS FOR n-METHYL 2-PYRROLIDONE7.SEMI C28-0618 SPECIFICATION AND GUIDE FOR HYDROFLUORIC ACID8.SEMI C35-0118 SPECIFICATION AND GUIDE FOR NITRIC ACID9.SEMI C36-1213 SPECIFICATIONS FOR PHOSPHORIC ACID10.SEMI C44-0618 SPECIFICATION AND GUIDE FOR SULFURIC ACID11.SEMI C41-0618 SPECIFICATION AND GUIDE FOR 2-PROPANOL12.EMI C27-0918 SPECIFICATION AND GUIDE FOR HYDROCHLORIC ACID13.SEMI C23-0714 SPECIFICATIONS FOR BUFFERED OXIDE ETCHANTS

5G、人工智能、智慧交通等消费电子、汽车电子、计算机等应用领域的发展，对芯片的性能提出更高的要求，加快了芯片制程升级，从而带动了半导体行业的发展。半导体晶圆制造工艺包括清洗、曝光、显影、刻蚀、CMP（化学机械抛光）、切片等环节，需要用到各种特殊的液体，如显影液，清洗液，抛光液等等，这些液体中表面活性剂的浓度对工艺质量效果产生深刻的影响。动态表面张力在半导体晶圆清洗工艺的应用半导体晶圆清洗工艺要求芯片制造技术的进步驱动半导体清洗技术快速发展。在单晶硅片制造中，光刻，刻蚀，沉积等工艺后均设置了清洗工艺，清洗工艺在芯片制造进程中占比最大，随着芯片技术节点不断提升，对晶圆表面污染物的控制要求也越来越高。为了满足这些高的清洁度要求，在其中部分需要化学清洗的工序，清洗剂的浓度一定要保持在适当的浓度范围之内，成功的清洗工艺有两个条件：1. 为了达成所需的清洁效果，清洗剂的浓度需要在规定范围内。2. 在最后的漂洗过程后，须避免表面活性剂在硅晶圆上残留，残留的表面活性剂对后面的处理工艺会造成不利影响。清洗工艺的好坏直接影响下一道工序，甚至影响器件的成品率和可靠性，然而在清洗工艺过程中，工人往往疏于监控清洗和漂洗工序中表面活性剂的浓度，表面活性剂经常过量，而为了消除表面活性剂过量带来的不利影响，又往往要费时费力地增加漂洗工序阶段的成本。德国析塔SITA动态表面张力仪监控晶圆清洗工艺中清洗剂的添加德国析塔SITA动态表面张力仪通过动态表面张力的测试，建立清洗槽液的表面张力值与表面活性剂浓度关系曲线，进而实现通过监控晶圆清洗工艺中表清洗剂表面张力的变化来调整清洗剂的添加量，从而优化晶圆清洗工艺。动态表面张力在半导体晶圆切片工艺的应用半导体晶圆切片和CMP工艺要求晶圆切片工艺是在“后端”装配工艺中的第一步。该工艺将晶圆分成单个的芯片，用于随后的芯片接合(die bonding)、引线接合(wire bonding)和测试工序。在芯片的分割期间，金刚石刀片碾碎基础材料(晶圆)，同时去掉所产生的碎片。在切割晶圆时某一种特殊的处理液会用于冷却工作时的刀片，这种处理液中会加入某种表面活性剂，以此来润滑刀片并移除切割过程中产生的碎片，改善切割品质、延长刀片寿命。在半导体晶圆CMP工艺中，利用机械力作用于晶圆片表面，同时研磨液中的化学物质与晶圆片表面材料发生化学反应来增加其研磨速率。抛光液是 CMP 技术中的决定性因素之一，其性能直接影响被加工工件表面的质量以及抛光加工的效率。在CMP抛光液中，一般使用水基抛光液作为加工介质，以去离子水作为溶剂，加入磨料（如 SiO2、ZrO2 纳米粒子等）、分散剂、pH 调节剂以及氧化剂等组分，每个组分都具有相应的功能，对化学机械抛光过程起到不同的作用。磨料通过抛光液输送到抛光垫表面后，在抛光垫和被加工表面之间同时受到压力作用以及相对运动的带动，通过对被加工表面形成极细微的切削、划擦以及滚压作用，对表面材料进行微量去除。磨料的形状、硬度、颗粒大小对化学机械抛光都具有重要的影响。分散剂是一种兼具亲水性与亲油性的界面活性剂，能够均匀分散一些不溶于液体的固体颗粒，对于抛光液而言，分散剂能够减少抛光液中磨料颗粒的团聚，提高抛光液中磨料的分散稳定性。德国析塔SITA动态表面张力仪监控晶圆切片和CMP工艺种特殊处理液和抛光液的添加目前在晶圆切片和CMP工艺中，监测切片过程中的特殊处理液和研磨液表面活性剂浓度往往容易出现问题，如果将样品送到第三方实验室进行检测，成本高，且有一定时差，无法快速矫正表面活性剂浓度。德国析塔SITA动态表面张力仪，可以建立液体表面张力值与表面活性剂浓度关系曲线。在几分钟内完成特殊处理液和研磨液动态表面张力的测量，进而可以量化数据呈现液体表面活性剂浓度，帮助工人迅速将实际值与期望值作比较，及时调整表面活性剂浓度。动态表面张力在半导体晶圆光刻工艺的应用半导体晶圆在光刻工艺中使用显影剂溶解光刻胶，将光刻胶上的图形精确复制到晶圆片上。四甲基氢氧化铵（TMAH）溶液是常用的显影剂，人们往往在四甲基氢氧化铵（TMAH）溶液中添加表面活性剂，以降低表面张力，改善光刻工艺中光刻胶的粘附性，改善光刻显影液对硅片涂胶面的润湿，使溶液更易亲和晶圆表面，确保一个稳定且不与表面几何形状相关的蚀刻过程。德国析塔SITA动态表面张力仪监控TMAH溶液表面活性剂浓度德国析塔SITA动态表面张力仪，可以建立TMAH溶液表面张力值与表面活性剂浓度关系曲线。通过快速连续监控TMAH溶液表面张力，并在设定的范围内自动比较数据，使用工人可以在表面活性剂浓度超出限定值后，短时间迅速反应采取相关措施。同时析塔SITA动态表面张力仪可对MAH溶液的润湿性能进行简便快捷的分析。操作简单、无需任何专业经验。动态表面张力在半导体晶圆蚀刻工艺中的应用在太阳能电池生产过程中，需要对晶圆进行蚀刻工艺，将显影后的简要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果，使用工人往往在蚀刻液中添加异丙醇IPA，以降低蚀刻液表面张力。晶圆蚀刻工艺中容易存在的问题是：蚀刻过程的对流会引起异丙醇的快速蒸发，蚀刻液表面张力增加，蚀刻工艺质量下降。因此需要将蚀刻液中异丙醇浓度控制在规定范围内。德国析塔SITA动态表面张力仪监控蚀刻液中异丙醇浓度德国析塔SITA动态表面张力仪可以精确快速测量蚀刻液动态表面张力，使用工人可以将测量值与实际所需值进行对比，得出异丙醇浓度是否在规定范围内，如超出限定值后，则可以在短时间内快速采取相应措施，达到高质量的蚀刻工艺和避免异丙醇过量，节省成本。 析塔SITA动态表面张力仪在半导体行业的客户案例德国析塔SITA动态表面张力仪介绍德国析塔SITA动态表面张力仪采用气泡压力法测量液体动态及静态表面张力，通过智能控制气泡寿命，测出液体中表面活性剂分子迁移到界面过程中表面张力的变化过程，即连续的一系列动态表面张力值以及静态表面张力值。德国析塔SITA动态表面张力仪，共有4种型号。附录（英文原文）●Monitoring of wetting characteristics of etchants and developers●Monitoring the surfactant concentration of TMAH-solutions●Monitoring the surfactant concentration in wafer cleaning processes翁开尔是德国析塔SITA中国独家代理，如需了解各种关于析塔表面张力仪信息以及应用，欢迎致电【400-6808-138】咨询。

6月1日消息，迈睿捷（南京）半导体科技有限公司（以下简称“迈睿捷”）宣布完成数千万元的天使轮融资。本次融资由益华资本领投，重庆渝富资本、开弦资本及国内半导体封装设备龙头企业艾科瑞思跟投。资金主要用于产品研发、生产保障及配套设施的投入。迈睿捷于2022年12月成立，是一家半导体前道涂胶显影设备企业，核心团队拥有半导体涂胶显影设备国际垄断企业东京电子涂胶显影机10-20年以上的设计、应用及开发经验背景。公司致力于解决国家在集成电路前道晶圆加工领域、后道先进封装领域的高端涂胶显影设备的研发、制造、销售以及核心部件的国产化等卡脖子问题。成立伊始即取得首台前道涂胶显影设备订单及预付款，计划于2023年8月交付产品。

近日，肯尼亚向世界贸易组织(WTO)技术性贸易壁垒委员会提交了修订版的化妆品标准，对护肤霜、洗涤剂和发胶等化妆品的要求和测试方法作出了新规定。 　　修订版的标准给出了对苯二酚的限值，从而可以区分产品中存在的对苯二酚是属于污染物还是有意添加。此外，新标准也对微生物限值、产品的标签和包装要求等作出了说明。 　　据了解，对苯二酚是有毒有机化合物，成人误服1克即可出现头痛、头晕、耳鸣、面色苍白等症状。这种物质遇明火、高热可燃，与强氧化剂接触可发生化学反应 受高热分解后，可放出有毒气体。目前，对苯二酚主要用于制取黑白显影剂、蒽醌染料、偶氮染料、橡胶防老剂、稳定剂和抗氧剂。 　　对此，检验检疫部门提醒相关出口企业：一是深入了解肯尼亚新修订化妆品标准的具体内容，加强学习和研究，严格按照标准要求生产化妆品及产品标签的标注 二是从源头控制产品的品质，加强化妆品中对苯二酚及微生物的检测监控，必要时可向检验检疫部门或大型检测机构寻求技术支持，避免因产品化合物及微生物的超标造成退运或销毁 三要与国外进口商加强沟通，及时获取最新的法规信息，避免因信息不对称导致出口风险。

日前,高速光学相干断层影像仪(OCT)由中科院西安光学精密机械研究所研制成功。 　　据研发人员介绍,该样机可高速、无损采集人眼视网膜活体断层影像,分辨率比现有眼科超声高10倍以上,并可快速重建出3D眼底结构图,为疾病更早期、更准确的诊断提供便利。借助该设备,医生只需简单操作,即可在1秒之内扫描出一幅人眼视网膜的三维断层影像。医生可在该影像数据基础上对病人的视盘、黄斑等参数进行数字化分析,使诊疗更加精准。 　　OCT是一种高分辨率的生物活体成像技术,其原理是对进入生物体后被不同密度的组织反射、干涉的光加以信号解调,进而成像。OCT检查无需任何外加显影剂,具有无辐射、无创、分辨率高、安全性高的特点,主要用于眼底黄斑区及视神经疾病的诊断,特别适用于老年性黄斑变性、青光眼、糖尿病视网膜病变、高度近视性眼底病变等疾病,拥有CT或超声无法替代的功能,俗称眼科CT。 　　OCT系统融合干涉光学、弱信号探测、色散补偿、图像处理等多种技术,是典型的交叉学科和系统工程。西安光机所科研团队通过改善各个环节的光学及硬件设计,在保证图像信噪比前提下,实现了每秒5万次的线扫描,超过国外同类高端眼科OCT的最快速度,在硬件上为实现快速3D扫描奠定了基础。

1月9日，华虹半导体披露华虹三厂短时停电事件的最新情况称，2022年1月7日上午9点07分，三厂发生GIS(气体绝缘全封闭组合开关)内PT(电压互感器)故障导致厂区短时停电，现场无人员伤亡，各类环境监测指标正常。公司立即启动应急预案，当天中午起恢复供电，目前生产逐步恢复。预计对公司业绩不会有明显影响。资料显示，华虹三厂位于上海张江基地，是一座8英寸晶圆生产线，最先进工艺为90纳米。根据华虹半导体2020年年报，华虹三厂2020年8英寸晶圆月产能为5.3万片。据此前报道，目前全球芯片产能持续紧张，8英寸产能尤为稀缺，该厂停工三小时或一定程度上导致订单交期延迟，同时或将造成大批量晶圆报废。不过，一位业内人士称，对于一座成熟的晶圆厂而言，停工三小时能够造成的影响有限。

据物理学家组织网2月18日报道，硅纳米晶体的尺寸仅为几纳米，却具有很高的发光潜力。现在，来自德国卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)和加拿大多伦多大学的科研人员借助硅纳米晶体，成功制造出了高效的硅基发光二极管(SiLEDs)，其不含重金属，却能够发射出多种颜色的光。相关研究报告发表在近期出版的《纳米快报》杂志上。 　　硅虽然在微电子和光伏产业占据着主导地位，但长期以来其却一直被认为不适合发光二极管的制造。然而，这在纳米尺度却并非正确，由成百上千的原子构成的微小硅纳米晶体能够产生光线，也具备成为高效光发射器的巨大潜力。迄今为止，硅基发光二极管的制造一直局限于红色的可见光谱范围和近红外线，因此制造可发出彩色光的二极管可谓绝对新颖。 　　KIT科学家发现，通过采用不同大小的单分散的纳米粒子，能够改变二极管所发出光的颜色。其可由深红色光谱区域调谐至橘黄色的光谱区域，外量子效率亦可达1.1%。值得一提的是，制成的硅基发光二极管具有令人惊讶的长期稳定性，这在此前从未实现过。操作组件寿命的增长是因为只采用了同一尺寸的纳米粒子，这能有效增强敏感的薄膜元件的稳定性，而可导致短路的过大尺寸粒子则被排除在外。 　　此款彩色硅基发光二极管还具有不含有任何重金属的优势。与其他使用硒化镉、硫化镉或硫化铅的研究小组不同，科研团队此次采用的硅纳米粒子完全不具毒性，而且地球上的硅储量丰富，成本低廉，更有利于硅基发光二极管的进一步发展。 　　此外，新型发光二极管惹人注目的方面亦在于其发光区域的同质性。研究人员表示，随着液态处理的硅基发光二极管或能以低成本大批量制成，纳米粒子“群体”也将进入新的领域，相关潜力将难以估计，而教科书上有关半导体元件的描述或许也将被改写。

10月29日，江苏雷博科学仪器有限公司（以下简称“雷博科仪”）在2022年浙江省X-射线衍射分析与电子显微学学术交流会上发布了其自主研发的高端电镜制样设备---UM10超薄切片机，同时面向大众推出了此设备的2款配套产品GK25玻璃制刀机和SA350减震台。雷博科仪成立于2013年9月，公司地点在江苏省江阴市，是一家致力于高档科研仪器研发及生产的高科技公司。公司主营纳米薄膜制备类设备和电镜周边制样类设备，主要产品有等离子清洗机、匀胶机、显影机、烤胶机、提拉机、涂膜机等相关纳米薄膜制备产品和电解双喷仪、冲孔仪、超薄切片机、玻璃制刀机、包埋聚合箱、离子溅射仪等相关电镜周边制样产品。超薄切片机是公司2019年立项研发的一款电镜制样的设备，主要应用于生物类、高分子、无机非金属、金属等材料的切片。此前国内应用该款设备主要依赖于进口，不仅价格高而且一旦发生售后，周期较长，严重影响科研项目的进度。2022年10月，历经3年多的时间，经过公司研发团队不懈的技术探索，终于取得技术上的突破，完成了首台样机的问世，并顺利通过XX大学超半年以上的使用测试，测试结果比肩进口设备水平，得到行业内专家的肯定，此款设备的问世，将填补国内空白，打破此前超薄切片机严重依赖进口的尴尬局面。UM10超薄切片机视频演示以下是电镜下观察效果（植物细胞）（肌肉组织）UM10超薄切片机，采用的是机械式推进结构，使切片的过程更平稳连续。三目体视显微镜，更便于直接观察结果。为减少外界震动影响切片效果，机台内置减震模组，可以有效的隔绝外界震动。更多数据可参考一下表格▼

要利用QUV紫外老化加速试验机对彩色涂层板进行紫外老化试验，可以按照以下步骤进行：1.准备样品：将彩色涂层板切割成适当的尺寸，确保其适应QUV试验机的样品架。同时，应注意保护样品表面以免划伤或损坏。设置试验条件：根据所需的试验条件，根据试验机的指引或使用手册，设置合适的光照强度、温度和湿度参数。这些参数应该基于所模拟的实际使用环境。2.安装样品：将切割好的彩色涂层板样品固定到试验机的样品架上，确保样品表面与试验机光源之间的距离是均匀且适当的。3.运行试验：启动试验机，根据设定的试验条件，让样品暴露在QUV试验机的紫外光源下。试验的时间可能根据需求而有所不同，可以根据具体情况进行设置。4.监测和评估：定期监测样品的变化，包括颜色变化、表面质量、表面结构、光泽度和物理性能等。这可以通过视觉观察、光谱测量和物理性能测试等方法进行。5.结果分析：根据试验数据和观察结果，评估彩色涂层板的紫外老化性能。比较试验后的样品与未经紫外老化的对照样品的差异，并分析可能的原因。通过QUV紫外老化试验，可以帮助评估彩色涂层板在长期暴露于紫外环境下的耐候性能和色彩稳定性，以指导产品改进和选用合适的材料或材料配方。在进行试验前，最好理解QUV试验机的使用方法和样品的实际使用条件，以确保试验结果的准确性和可靠性。QUV紫外老化加速试验机QUV紫外老化加速试验机是简单、可靠、易用的紫外老化试验机。世界各地使用的QUV紫外加速老化试验机数以万计，它是世界上使用广泛的紫外老化试验机。QUV紫外老化加速试验机使用特殊的荧光紫外灯管模拟阳光的照射，用冷凝湿度和水喷雾的方法模拟露水和雨水，真实地再现由阳光造成的材料损伤。损伤类型包括褪色、光泽消失、粉化、龟裂、开裂、模糊、起泡、脆化、强度减小和氧化。QUV可方便地容纳多达48个样品（75mm x 150mm），完全符合国际、国家和行业规范，确保了测试程序的可靠性和可重复性。

背景介绍随着可溶液加工激光增益材料的不断发展与改进，该类型的激光器在生物医学治疗、柔性可穿戴设备、通信及军事设备等领域的应用也在不断突破。然而，增益材料的毒性、成本和稳定性问题日益显著，这些问题是增益材料在微/纳激光领域可持续发展的主要障碍。因此，寻找低毒、低成本、高稳定性的激光材料成为该领域内的重要的任务。研究出发点碳点（CDs）作为一种环境友好、稳定性优良、制备成本低及荧光性能优异的碳基纳米材料，近年来引起了人们广泛的研究兴趣。基于CDs激光增益介质的研究不断被报道，并且逐渐走向实际应用。虽然这些早期的研究促进了CDs激光的发展，并证明了CDs是一种优异的激光增益介质。然而，跨度广的全彩色激光，尤其是近红外激光器，一直难以实现。考虑到近红外激光器在空间光通信、激光雷达、夜视，特别是临床成像和治疗等方面的广阔应用前景，开发高性能的近红外CDs激光具有重要意义。此外，CDs激光缺乏系统性的研究，这些研究可以指导CD激光材料的开发，并有助于推动其实际应用的发展。全文速览在此背景下，郑州大学卢思宇课题组合成了具有明亮蓝色、绿色、黄色、红色、深红色和近红外荧光（分别标记为B-CDs、G-CDs、Y-CDs、R-CDs、DR-CDs和NIR-CDs）的全色CDs（FC-CDs）的制备，其PL峰值波长范围为431至714 nm。CDs的低含量sp3杂化碳、高PLQY和短荧光寿命是影响其激光性能的重要因素。结果表明，这些FC-CDs的半高宽明显较窄，在44 ~ 76 nm之间；同时，辐射跃迁速率KR为0.54 ~ 1.74 × 108 s−1，与普通有机激光材料相当，表明FC-CDs具有良好的增益潜力。激光泵浦实验证实了这一点，成功实现了从467.3到705.1 nm宽范围（238 nm）可调的CDs激光出射，覆盖了国家电视标准委员会（NTSC）色域面积的140%。结果表明，CDs具有较高的Q因子、可观的增益系数和较好的稳定性。最后，利用这些FC-CDs激光作为光源，实现了高质量的彩色无散斑激光成像和动态全息显示。此项工作不仅扩大了CDs激光的发射范围，而且为实现多色激光显示和成像提供了有益的参考，是推动CDs激光发展和实际应用的重要一步。文章以“Carbon Dots with Blue-to-Near-Infrared Lasing for Colorful Speckle-Free Laser Imaging and Dynamical Holographic Display”为题发表在Advanced Materials上，第一作者为张永强博士。图文解析图1a-f为其透射电子显微镜照片，显示出B-CDs、G-CDs、Y-CDs、R-CDs、DR-CDs和NIR-CDs为球形或准球形颗粒，平均粒径分别为3.09、3.24、3.76、3.25、4.25和5.98 nm。高分辨率透射电镜（HRTEM）显示，所有CDs的面内晶格间距为0.21 nm，这可归因于石墨烯的（100）面。值得注意的是，NIR-CDs是由单分散CD聚集而成的。B-CDs、G-CDs、Y-CDs、R-CDs、DR-CDs和NIR-CDs的X射线衍射（XRD）峰分别位于20°、22°、22.8°、27°、23°和23.5°。这些值近似于石墨（002）平面25°和层间距（0.34 nm）处的衍射峰。通常，对于脂肪族前驱体，制备的CDs的XRD峰在21°左右，晶格间距比0.34 nm更宽这是因为脂肪族前体在炭化过程中更容易将含氧和含氮杂原子基团引入共轭面，从而扩大了面内间距。R-CDs在27°处有一个清晰的尖锐衍射峰，表明两步溶剂热处理产生了良好的结晶度。此外，NIR-CDs在31.7°和45.5°处有两个尖峰，这两个峰属于NIR-CDs中残留的离子液体（IL），IL具有聚集单分散CDs的功能，有助于形成聚集的颗粒。傅里叶变换红外光谱（FTIR）和X射线光电子能谱（XPS）进一步收集了的结构成分信息（图1h和i）。光谱在3425和3230 cm−1附近显示出广泛的吸收特征，证实了-OH和-NH2的存在。1710和1630 cm−1附近的强信号与C=O拉伸振动有关，1570、1386、1215和1145 cm−1处的峰是由C=C、C-N和C-O- C拉伸振动引起的。这些结果表明，所有的FC-CDs都是由sp2/sp3杂化芳香结构形成的，这些杂化芳香结构在表面被含有杂原子（O和N）的极性基团修饰，这些基团使CDs在极性溶剂中具有良好的溶解性。图1中完整的XPS扫描显示，FC-CDs主要含有碳、氮和氧。高分辨率C 1s在C=C、C-N/C-O/（C-S）和C=O分别为284.6、286.6和288.3 eV处呈现出三个峰。N 1s分别在399.0、399.9和401.4 eV处显示吡啶、吡啶和石墨的N掺杂。O 1s光谱中C=O和C-O基团的峰分别位于531.4 eV和533 eV左右。这些XPS结果与FTIR分析一致。图1 形貌与化学成分表征。（a）B-CDs，（b）G-CDs，（c）Y-CDs， （d）R-CDs，（e）DR-CDs和（f）NIR-CDs；右上方的插图是相应的粒径分布，右下方的插图是单个颗粒的高分辨率TEM（HRTEM）图像。（g）XRD图谱，（h）FTIR谱，（i）XPS全扫描谱图。图2a-f显示了紫外照射下FC-CDs的亮蓝色、绿色、黄色、红色、深红色和近红外荧光，其发射峰分别位于431、526、572、605、665和714 nm。这些PL谱都表现出独立于激发波长的行为。它们的PLQY分别为64.9%、91.2%、41.2%、51.6%、28.3%和37.9%。此外，对于B-CDs、G-CDs、Y-CDs、R-CDs、DR-CDs和NIR-CDs，其PL光谱的半高全宽（FWHM）分别为0.46、0.19、0.18、0.24、0.20和0.14 eV。XPS分析sp3杂化碳含量分别为17.09%、9.01%、11.78%、16.78%、6.26%和11.41%。Yan等人的第一性原理计算表明，C-N、C-O和C-S基团可以导致局域化电子态，并在n -π*间隙中产生许多新的能级。这些sp3杂化碳相关激发能级的密度与C-N、C-O和C-S基团的含量呈正相关，决定了PL光谱的FWHMs。因此，CDs的PL光谱FWHMs可以通过sp3杂化碳的含量来控制。这些CDs的紫外-可见吸收峰存在于高、低两个不同的能带区，分别归因于芳香sp2结构域C=C的π -π*跃迁和CDs表面与C=O相关的不同表面态的n -π*跃迁。图2g显示了FC-CDs溶液的PL光谱的CIE坐标覆盖了NTSC标准色域面积的97.2%，意味着FC-CDs在显示中的具有良好的应用潜力。FC-CDs的时间分辨PL（TRPL）谱显示其荧光寿命分别为12.09、5.24、3.60、3.87、2.43和2.44 ns（图2h）。这些高PLQY、窄发射带和快速的PL衰减寿命的特性都有利于受激辐射（SE）。为了评估CDs的激光增益能力，结合公式（1）和（2）计算了ASE的相关参数。ASE阈值与爱因斯坦系数B和SE截面（σem）成反比:KR = φ / τ, （1） σem（λ）= λ4g（λ）/ 8πn2cτ, （2）B ∝ （c3/8πhν03）KR, （3）其中φ为PLQY，τ为平均荧光寿命，λ为发射波长，n为折射率，c为光速，g（λ）是自发辐射的线性函数，表示为g（λ）dλ = φ，h 为普朗克常数，ν0 为光频率，c 为光速。因此，KR值分别为0.54、1.74、1.14、1.33、1.16和1.55 × 108 s−1（图2i）。计算得到的最大的σem分别为1.46、16.59、13.38、15.45、19.51和38.66 × 10−17 cm2（图2i）。这些值与普通有机激光材料的值相似，表明这些CDs具有优良的增益潜力。基于上述分析，我们认为实现CDs激光有两个重要的因素。首先，需要集中的激发态能级来收集大量的具有相同能量的激发态电子，这有利于粒子数反转。其次，处于激发态能级的电子需要在高KR下跃迁回基态，这样统一的快速过程有利于光放大。这两个因素都可以通过精准的合成来控制：通过减少CDs中sp3杂化碳的含量来获得集中的激发能级，通过增加CDs的PLQY同时降低荧光寿命来获得高KR。 图2 光学表征。（a）B-CDs、（b）G-CDs、（c）Y-CDs、（d）R-CDs、（e）DR-CDs和（f）NIR-CDs的吸收光谱和PL发射光谱，插图为对应CDs溶液在紫外灯照射下的光学图片，，线标签表示激发波长，单位为nm。（g）CDs发光光谱的CIE色坐标。（h）FC-CDs的TRPL光谱和（i）KR和最大σem。采用激光泵浦对FC-CDs的激光性能进行了表征。图3a、c、e、g、i和k分别为不同泵浦强度下的B-CDs、G-CDs、Y-CDs、R-CDs、DR-CDs和NIR-CDs的发射光谱，显示出在467.3、533.5、577.4、616.3、653.5和705.1 nm处的出现尖峰；输出在可见光区域的跨度为238 nm（图3m）。在垂直于泵浦激光器和比色皿端面的方向上观察到这些FC-CDs产生的远场激光光斑（图4a、c、e、g、i和k的插图），表明激光发射的产生。随着泵浦影响的增加，FWHMs从大约60 nm急剧下降到~5 nm。这些发射光谱表明，泵浦强度的增加使发射强度急剧增加，峰的FWHM迅速窄化。为了明确发射峰强度、FWHMs和泵浦强度之间的量化关系，图3b、d、f、h、j和l绘制了相关曲线。它们都表现出明显的拐点：对于拐点以下的泵浦强度，FWHMs和输出发射强度的强度变化不明显，但在拐点以上增加泵浦能量，FWHMs急剧窄化，发射峰值强度急剧增加，其斜率与拐点以下大不相同。拐点表示激光的阈值，B-CDs、G-CDs、Y-CDs、R-CDs、DR-CDs和NIR-CDs的激光阈值分别为319.84、35.89、53.31、11.10、43.90和17.88 mJ cm−2。考虑到这种激光泵浦中无反光镜体系，这些阈值也是合理的。为了评估FC-CDs的激光阈值水平，我们还使用相同的激光泵浦设置测量了罗丹明6G （Rh6G），其激光阈值为32 mJ cm−2，表明FC-CDs具有与常用激光染料相近的激光阈值。为了评估全色激光器的性能和商业化潜力，研究了其CIE颜色坐标、Q因子、增益系数（g）和稳定性。B-CDs、G-CDs、Y-CDs、R-CDs、DR-CDs和NIR-CDs的激光光谱对应的CIE色坐标分别为（0.131，0.047）、（0.178，0.822）、（0.494，0.505）、（0.684，0.315）、（0.728，0.272）和（0.735，0.265）（图3n）。所形成的封闭区域可以达到NTSC色域面积的140%，表明FC-CDs在全彩色激光显示中的巨大潜力。对于B-CDs、G-CDs、Y-CDs、R-CDs、DR-CDs和NIR-CDs，各自的激光线宽分别为0.17、0.13、0.11、0.21、0.21和0.34 nm，相应的Q因子（Q = λp/∆λp，其中λp为激光峰波长，∆λp为激光线宽）分别为2748.8、4103.8、5249.1、2920.5、3111.9和2073.8，这些值目前位于可溶液加工激光器中的前列。这些发现表明，我们的FC-CDs的激光器在激光质量上具有相当大的优势，这有利于其实际应用。光学增益系数量化了荧光材料实现激光发射的能力，可以用变条纹长度法来计算光学增益系数。激光输出强度可表示为：I（l） = （IsA/g） [exp（gl）-1], （4）其中I（l）为从样品边缘监测到的发射强度，IsA描述了与泵浦能量成正比的自发发射，在固定的泵浦能量下为常数，l为泵浦条纹的长度，g为净增益系数。图3p显示了在2倍激光阈值下，输出发射强度与激发条纹长度的关系。B-CDs、G-CDs、Y-CDs、R-CDs、DR-CDs和NIR-CDs的增益系数分别为8.9、24.7、17.1、16.0、13.5和21.5 cm−1。这些结果与大多数有机激光材料相当甚至更优，表明这些FC-CDs具有良好的增益特性。稳定性也是评估激光器时的一个重要考虑因素。在2倍激光阈值下连续泵浦FC-CDs激光，G-CDs、Y-CDs、R-CDs、DR-CDs和NIR-CDs连续工作7、7、5.5、5.5和4 h后，激光强度分别为初始激光强度的0.97、0.97、1、0.98、1.03倍（图4）。在CDs的2倍激光阈值下，将相近激光波长的常用商用激光染料与相应的CDs进行了稳定性比较。香豆素153 （541 nm）、Rh6G （568 nm）、RhB （610 nm）、Rh640 （652 nm）和尼罗蓝690 （695 nm）的激光强度分别下降到初始强度的0.60、0.84、0.89、0.76和0.73倍。对于B-CDs，激光阈值大约比其他CDs高一个数量级；在泵浦的0.6 h时，激光输出逐渐降至零。相比之下，香豆素461 （465 nm）的激光在0.2 h的操作时间内消失。与以往的文献相比，本工作对CDs激光进行了更全面的研究，该激光器具有从蓝色覆盖到近红外区域的宽可调激光范围、高增益系数、高Q因子、良好的辐射跃迁率、可观的增益系数和优异的稳定性。这些参数都处于CDs激光的前沿。图3 激光稳定性。（a）B-CDs、（b）G-CDs、（c）Y-CDs、（d）R-CDs、（e）DR-CDs和（f）NIR-CDs与具有相近激光波长的商用有机激光染料在相应CDs的两倍激光阈值下的稳定性对比。FC-CDs的上述独特激光特性使其能够实现比传统热光源更亮的照明和色域更宽的全色激光成像。图4a-f分别为以B-CDs、G-CDs、Y-CDs、R-CDs、DR-CDs和NIR-CDs激光为光源对分辨率板（1951USAF）照射后的光学成像。利用互补金属氧化物半导体（CMOS）相机观测到的图像强度分布均匀、清晰、无散斑。作为对比，我们也使用商用激光器作为成像光源，使用波长为532 nm的连续波激光器和脉冲（7 ns, 10 Hz）激光器分别产生如图4g和h所示的光学图像，具有明显的激光散斑。从根本上说，这是由于图像质量受到激光高相干性带来的斑点的限制。我们进一步展示了这些CDs激光在全息显示中的潜在适用性，全息显示被认为是在3D空间中重建光学图像的最现实的方法之一，并且作为下一代显示平台为用户提供更深入的沉浸式体验而受到广泛关注。图4i为其实验设置。将CDs激光作为照明源照射到空间光调制器（SLM）上，在SLM上加载不同相位掩模（全息图）以重建全息显示所需的图案，在本例中为郑州大学的徽标。徽标分为三个部分，每个部分都可以使用B-CDs、G-CDs、和R-CDs出射的激光进行全息成像（图4j）。第一行是设计好相位掩模并输入SLM的原始图像。第二到第四行分别是CMOS相机在B-CDs、G-CDs、和R-CDs激光照射下拍摄的光学图像。第一列显示了会徽作为一个整体，并被分成几个部分。不同的组件可以简单地组合起来，以获得完整的彩色徽标（图4k）。这些静态图像具有高分辨率和高对比度，为了更接近实际应用，我们制作了一系列不同运动姿势的人物彩色全息图像，以获得彩色动态人物视频。图4l中的第一行给出了这些运动姿势的原始图片。第二至第四行分别显示了在B-CDs、G-CDs、和R-CDs激光照射下每个运动姿势不同部位的独立全息图像。然后将每个运动姿势的不同颜色部分合并到图41的第五行中。然后以每秒3帧的速度将从左到右依次输出，从而实现动态全息显示。虽然成像质量和显示方案还需改进，但我们的实验证明了未来基于CDs的激光成像的可行性。图4 基于FC-CDs激光的无散斑全彩色激光成像和彩色全息显示。（a）B-CDs、（b）G-CDs、（c）Y-CDs、（d）R-CDs、（e）DR-CDs和（f）NIR-CDs激光，以及（g）连续波激光器（532 nm）和（h）脉冲激光器（7 ns, 10 Hz，532 nm）的商用激光源下的1951USAF的光学图像，标尺均为100 μm。（i）以CDs激光为光源的全息显示器实验装置（S1、S2、A、P分别为狭缝1、狭缝2、衰减器和偏振器；L1-L4分别为焦距40、100、100、50 mm的镜头 圆柱透镜的焦距为100 mm）。（j）郑州大学校徽全息静态展示。（k）为（j）中部分成像合并后的彩色徽标。（l）运动角色的全息动态显示。全息显示器中的比例尺都是1 mm。总结与展望综上所述，在无反光镜体系的光泵浦中，FC-CDs实现了467.3、533.5、577.4、616.3、653.5和705.1 nm的波长可调谐随机激光发射，从蓝色到近红外区跨越238 nm，覆盖了NTSC色域的140%。sp3杂化碳的低含量在n -π*隙中引入了集中的激发态能级，从而实现了较窄的FWHMs和粒子数反转，高KR（高PLQY和小寿命）有利于光放大。这两个因素决定了FC-CDs的激光增益特性，在CDs激光阈值的2倍能量泵浦下，FC-CDs也表现出高Q因子、可观的增益系数和比普通商业有机染料更好的稳定性。最后，我们成功地演示了使用这些FC-CDs激光作为光源的彩色无散斑激光成像和高质量的动态全息显示。我们的研究结果扩展了CDs激光的波长范围，提供了对其激光性能的全面评估，并为全彩色激光成像和显示应用打开了大门，从而显著促进了可溶液加工的CDs基激光器的实际应用和发展。文献链接：https://doi.org/10.1002/adma.202302536

近日，一起跨界收购案引起关注。11月9日，至正股份收到上交所《关于对深圳至正高分子材料股份有限公司对外收购事项的问询函》。11月8日，公司称，拟以现金方式收购苏州桔云科技有限公司51%股权。公告披露，本次收购标的主营半导体专用设备，与公司目前主业无关。公告称，实施本次交易旨在从原有的电线电缆用高分子材料业务向半导体设备领域拓展，提升公司盈利能力。据了解，至正股份是专业从事环保型低烟无卤聚烯烃电缆高分子材料的高新技术企业，定位于中高端电线电缆用绿色环保型特种聚烯烃高分子材料市场，属于国内电线电缆用高分子材料领先企业中的专业企业。 公司主营业务为电线电缆、光缆用绿色环保型聚烯烃高分子材料的研发、生产和销售，公司产品被作为绝缘材料或外护套料广泛应用于电线电缆及光缆的生产过程中。公司目前产品主要分为以下三大类：光通信线缆、光缆用特种环保聚烯烃高分子材料；电气装备线用环保型聚烯烃高分子材料；电网系统电力电缆用特种绝缘高分子材料。11月10日，至正股份发布《深圳至正高分子材料股份有限公司拟以现金收购苏州桔云科技有限公司股权资产评估报告》。资料显示，苏州桔云成立于2019年6月，主要从事半导体专用设备的研发生产和销售，主要产品包括半导体清洗机、腐蚀机、烘箱、分片机、显影机、涂胶机等。公司于2020年推出半导体清洗设备、刻蚀设备和显影设备二代机型，现已成为长电科技、禾芯半导体、芯德半导体、全球化半导体设计与制造企业T公司等知名半导体企业的设备提供商，公司的产品能够有效提升客户的生产效率、产品良率并降低生产成本，已取得良好的市场口碑公司。设备主要使用于后道先进封装制程,包括湿法清洗设备和蚀刻设备、涂胶/去胶设备、显影设备等。未来公司将以清洗机与烘箱为主力产品，持续向前道工艺拓展。

由中国仪器仪表学会分析仪器分会主办的“环境与健康分析仪器技术——先河高层论坛”作为中国仪器仪表学会2008年学术年会的重要组成部分于11月20日在北京中国国际展览中心服务楼201会议室召开。 会议现场 中国仪器仪表学会分析仪器分会秘书长刘长宽先生主持研讨会，中国仪器仪表学会分析仪器分会理事长闫成德先生、中国环境保护部环境监测司曹勤处长、中国仪器仪表学会副理事长吴幼华先生、河北先河科技发展有限公司总裁李玉国先生相继致辞。 中国仪器仪表学会分析仪器分会理事长 闫成德先生 来自环境监测和公共卫生领域的专家围绕着“环境与健康分析仪器技术”的主题或从宏观发展或从具体仪器技术等多角度做了会议报告。 其中，一些专家重点从环境与健康分析仪器技术全局介绍目前中国的状况及存在的问题。如，南京大学陈洪渊教授在报告“环境科学面临的新挑战”中提到：目前我国高端科学仪器几乎100%依靠进口，国产仪器绝大部分为中低档产品，我国科学研究面临者“空心化”、“局域化”、“二流化”等挑战。中国科学院化学所陈义研究员在报告“成像及相关仪器”中，对我国成像尤其是医学成像仪器及技术领域做了具体的展望：高分辨显微成像、组分与性质成像、廉价影像技术、国产显影剂和示踪剂等方面急需加大研发力度。 中国人民解放军卫生监测中心 高志贤研究员 南京大学 陈洪渊教授 中国环境监测总站 齐文启研究员 中国科学院化学所 陈义研究员 部分专家则着重介绍新仪器和新技术。如，清华大学化学系林金明教授在报告“环境雌激素的样品前处理及液相色谱质谱分析”的报告中介绍了其独创的在线LC-MS分析系统，利用泵直接进样、在线稀释、RAM富集柱，实现在线大体积进样。华中科技大学同济医学院教授徐顺清教授在报告“环境内分泌干扰物的生物筛选技术”中介绍了生物监测技术的研究与进展。 清华大学化学系 林金明教授 北京大学公共卫生学院 郭新彪教授 中国科学院安徽光机所 刘建国研究员 华中科技大学同济医学院教授 徐顺清教授 中国医学科学院基础医学研究所 李智立教授 中国科学院生态中心 汪海林研究员 华东理工大学 张嗣良教授 精彩的报告吸引了众多的听众，现场100多位参会者不时报以热烈掌声。为期一天的研讨会虽然很快的过去了，但科研、应用、仪器厂商等领域的听众通过互相交流，共同研讨了环境与健康分析仪器技术领域所面临的挑战与机遇，以及所取得的新成果、新产品和新技术。 会议主办方合影

p 　　10月17日，北京环保宣传中心官方微博@@京环之声今日发帖回应媒体报道《23省44城市自来水检出疑似致癌物》。 /p p 　　@@京环之声表示，清华大学研究人员历时3年，在全国23个省、44个城市和城镇、155个点位采集了164个水样。水样涵盖水厂出厂水、家庭自来水和水源水，这是迄今为止国内规模最大最全面的一次调研。研究人员检测了自来水样中当前已知的全部9种亚硝胺类消毒副产物，其中NDMA(亚硝基二甲胺)是亚硝胺类化合物中含量最高的。 /p p 　　于是有的媒体写出了题为《23 省 44 城市自来水检出疑似致癌物》的报道，一时间引起了大家的恐慌。 /p p 　　对此，@@京环之声进行了解读。 /p p 　　 strong 亚硝胺是致癌物吗? /strong /p p 　　亚硝胺类化合物被国际癌症研究中心判定为 2A 类致癌物，即“动物致癌证据明确，但人类致癌证据不充分”。另有很多流行病学研究表明，亚硝胺类化合物与消化系统癌症有较明显的相关性。 /p p 　　听起来有点吓人的样子，那为什么自来水中会有亚硝胺类物质呢? /p p 　　亚硝胺是自来水消毒的副产物 /p p 　　自来水厂消毒通常会使用含氯消毒剂，在氯的作用下水中的少量污染物会变成消毒副产物，其中部分有机氮化物可以变为亚硝胺类物质。氯是最廉价且相对安全的消毒手段，多年来始终找不到它的替代品，因此亚硝胺等微量消毒副产物也无可避免，世界各国无一例外。 /p p 　　目前大多数学者的观点是：包括亚硝胺在内的自来水消毒副产物并不会对健康产生明显影响，但是如果不消毒，带来的危害可能更大。 strong WHO(世界卫生组织)的饮用水指南也持同样观点。 /strong /p p style=" text-align: center " 　　 img src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201611/insimg/071ce153-2644-44c1-822a-0e3c90fef5a0.jpg" title=" Ma5u-fxwvpat4957263.jpg" / /p p 　　 strong 水中的亚硝胺危险吗? /strong /p p 　　既然目前的自来水中不可避免地会含有亚硝胺类物质，那么我们就来关注一下剂量。 /p p 　　本次清华大学的调查数据显示：中国自来水中 NDMA 的平均浓度大约是 11 ng/L 华东、华南地区，家庭自来水中的 NDMA 平均浓度大约在 18 ng/L 左右 长三角地区的家庭自来水中 NDMA 的平均浓度为 28 ng/L 左右。(注：1 ng/L，万亿分之一，即 0.0000000000001) /p p 　　这也是为什么新闻中说华东华南“最严重”的原因。 /p p 　　那么这些数据意味着什么呢?说明这些自来水都不能喝了吗? /p p 　　虽然自来水中的亚硝胺是一个研究热点，但只有少数国家和地区针对它制定了标准。比如美国加州制定了一个特别严苛的标准(10 ng/L)，如果用这个标准衡量，中国自来水有 1 / 4 左右超标。 /p p 　　但是看看别的标准：加拿大卫生部的指导值是 40 ng/L 澳大利亚的指导值是 100 ng/L WHO 的指导值也是 100 ng/L。 /p p 　　如果用这些标准衡量，本次清华大学的调查中仅有极个别样本超过澳大利亚或世卫组织的标准，而超过加拿大标准的只占 7% 左右。也就是说，如果按照 WHO 的标准，这次检验中绝大多数水是安全的。 /p p 　　@@京环之声表示，虽然水要天天喝，但毕竟亚硝胺的浓度比较低。如果按照媒体报道的数据推算，即使你一辈子喝长三角的水，因为亚硝胺得消化道癌症的概率也只有十万分之几。 相对而言，其他来源的亚硝胺更值得关注。如：腌腊食品、烟草等。 /p p 　　 strong 安全，不代表不需要改进 /strong /p p 　　@@京环之声同时坦言，这次检出 NDMA 的样本中，中国的平均浓度(中位数)大约是22 ng/L，而美国是4 ng/L。此外，无论检出亚硝胺类化合物的种类还是检出率，中国的情况都比美国更严重。如果和欧洲、日本相比，我们的差距更大。而且，清华的研究人员在长三角某县城的龙头水中检出了全国NDMA的最高浓度，是44个城市中唯一超过世界卫生组织100ng/L标准的，这归根结底，是源头污染的问题，所以解决问题重在控制源头污染。 /p p 　　@@京环之声最后强调，安全，不代表不需要改进。当然要尽可能减少亚硝胺这种可疑的致癌物，但如果盲目追求“高标准”，最后伤害的还是全体纳税人的利益。 /p

p 　　Journal of Analysis and Testing(JOAT)为中国有色金属学会、北京有色金属研究总院主办并与德国著名出版商Springer联合出版的新英文期刊，是国内第一本国际性的英文分析化学期刊，致力于发表分析化学研究的高端前沿性论文，快速报道分析化学科学的基础研究和应用的进展。自2014年获得中国科协组织的“中国科技期刊国际影响力提升计划”资助以来稳步推进，于2015年12月10日取得国家新闻出版广电总局同意创办批文，2016年5月取得期刊出版许可证，同年9月召开了编委会成立大会。同时期刊网络投稿系统全球开通。 /p p 　　JOAT创刊伊始就得到国内外专家的大力支持，屠海令院士担任期刊主编，北京大学刘虎威教授，清华大学林金明教授，南京大学鞠熀先教授和德国杜伊斯堡-埃森大学Oliver J. Schmitz教授担任副主编。目前收到约稿及投稿13篇，分别为：美国3篇，德国1篇，加拿大1篇，印度2篇，沙特1篇，中国5篇。已录用稿件9篇并已在线公开发表，5篇为原创性工作论文，4篇为高水平综述论文。原创性工作中，Oliver J. Schmitz教授课题组报道了一种基于二维液相和离子淌度质谱联用的复杂样品四维分离技术 Juewen Liu教授报道了稀土金属氧化物结合DNA探针吸附硒酸根离子的技术 刘虎威教授报道了利用离子漏斗电场聚焦来提高DART-MS灵敏度的技术 李攻科教授报道了原位生长聚苯乙烯高分子薄膜进行六种显影剂的荧光检测方法。在4篇综述论文中，夏兴华教授系统的总结了全反射表面增强红外光谱在生化分析中的应用 鞠熀先教授撰文总结了利用纳米材料和模拟酶进行信号方法建立高灵敏免疫传感体系的新进展 林金明教授总结了空气负离子产生机制和检测新技术 Paul W. Bohn教授总结了细菌和细菌群落的光学传感技术 Peter de Boves Harrington教授报道了H-NMR在复杂材料指纹图谱中的应用。 /p p 　　JOAT第二期由南京大学鞠熀先教授担任客座编辑，主题为：NanoBiosensing。 /p p 　　JOAT期刊前两年出版的文章均可免费阅读、下载全文，欢迎阅读、分享及投稿： /p p 　　http://link.springer.com/journal/41664/1/1/page/1 /p p style=" text-align: right " 　　Journal of Analysis and Testing编辑部 /p p & nbsp /p

全球半导体政策支持力度强化，台积电、英特尔、三星、美光等全球头部晶圆厂纷纷宣布扩产计划。2022年12月，台积电宣布在美国亚利桑那州建设二期项目，投资额高达280亿美元，计划制程3纳米。英特尔也宣布在美国俄亥俄州、亚利桑那州等低的晶圆建设项目，合计金额高达400亿美元，计划2024-2025年投产。全球半导体设备基本由美日荷三国垄断，目前国产半导体设备厂商在刻蚀、沉积、热处理、清洗、涂胶显影、量测、CMP、离子注入以及测试机、分选机、探针台等核心工艺环节已取得长足进步。机构指出，集成电路作为我国现代化产业体系的核心枢纽，关系国家安全和中国式现代化进程，我国已形成较完整的集成电路产业链，同时拥有庞大的芯片消费市场和丰富的应用场景，政策端来看，我国对于半导体设备自主化的支持力度有望持续提升，需求端来看，国内晶圆厂扩产带来的需求有望支持国内半导体设备企业持续快速成长，半导体设备作为半导体产业链本土替代焦点大有可为。据财联社主题库显示，相关上市公司中：联动科技半导体分立器件测试系统已大量应用于大功率器件和第三代半导体器件的测试，代表客户包括安森美集团、安靠集团、力特半导体、通富微电等。芯源微首台浸没式高产能涂胶显影机顺利运付客户现场，并完成了各项工艺验证及光刻机联机产能验证，机台与国际主流光刻机联机作业，完成了客户端十余款光阻、多层layer量产验证，数据均达到客户量产指标。

徕卡显微系统副总裁Maxim Mamin于2017年11与17日来华，并于当日接受了“神外前沿”公众号的专访，对徕卡即将在国内上市的MFL800研发初衷与技术问题进行了独家的解读。神外前沿讯，在洛杉矶举行的2017 AANS美国神经外科年会上，徕卡基于手术显微镜的增强现实荧光成像技术AR荧光（MFL800）正式上市，这个血管荧光突破性的新技术，可以将近红外荧光成像与白光图像相结合，让神经外科医生在双目镜筒中实时观察解剖结构及荧光效果，为手术决策提供实时有效的信息。(点击上图播放手术效果视频)据悉，采用AR（增强现实）荧光技术的徕卡MFL800已经通过CFDA认证，将于明年一季度在中国上市。近日，徕卡显微系统副总裁Maxim Mamin先生就AR荧光新技术的研发情况接受了《神外前沿》的访谈。对话内容如下神外前沿：AR荧光（MFL800）研究开发的初衷是什么，能够帮助神外医生解决什么问题？Maxim Mamin：血管荧光造影剂广泛应用于脑血管手术，包括动脉瘤夹闭，脑血管畸形和微血管减压术等手术。在使用过程中就会发现ICG通过红外成像，是肉眼看不到的，只能在显微镜上看到，而且是黑白的，还有很多解剖结构的细节看不清，并且还有一点延时，这对医生来说是比较被动的事情。ICG只能看到荧光显影，周边的组织是无法看清楚的；MFL800也属于ICG技术，但在镜下高清的，可以把细节和血管等都显示出来。有了深度的感觉了，周边的血管可以看得很清楚，可以在这上面做一些操作。神外前沿：AR荧光（MFL800）和以往的显微镜下的荧光有什么不同，比如肿瘤手术使用的5?ALA肿瘤荧光？Maxim Mamin：ICG荧光方式现在主要用于血管病的手术治疗，因为ICG要用注射的方式注射到到血管里，可以通过血液的流动经过全身，然后可以观察到血流的情况。5-ALA是一种荧光显影剂，使用方式是在患者手术前，通过饮用的方式喝下去，不会在血管显现，只会在肿瘤上显现，而且只会在高级别胶质瘤上显现。可以说ICG是血管显影的介质，5ALA是胶质瘤显影的介质。另外，ICG和5ALA在激发后产生的光波的波谱和波长是不一样的，借助于发射波长为400nm蓝光手术显微镜，5-ALA是可以看见的，ICG的波长是780nm-800nm，是红外光，肉眼看不到的。神外前沿：AR荧光（MFL800）在神经外科中更适合血管还是肿瘤的显影？Maxim Mamin：这个新技术主要应用于血管病，包括动脉瘤、血管畸形、MVD（微血管减压）等，当然还可以用在心血管病的搭桥手术，看血管的流畅情况，还有可以用在整形手术中。（图注：Leica M530 OH6手术显微镜与MFL800的结合，有德国科隆医疗中心神经外科的Cleopatra Charalampaki教授提供的手术照片）神外前沿：这个技术如果应用于脑血管外科，是否会扩大适应症范围，相对于介入技术的不断发展？Maxim Mamin：这是个很好的问题，现在确实有趋势看到很多医生开始采用介入技术，MFL800肯定能帮助神经外科医生看得更清楚，以治疗更复杂的脑血管病。MFL800是基于（增强现实技术的）GLOW平台，现在开发的是用于脑血管病的技术，将来还可以开发应用于肿瘤的技术。这个平台的硬件包括摄像头等设备，另外还有相关软件，以实现定量化、多波长的荧光成像技术，最终就像地图一样，能够显示出比如血流的强度、随时间变化的情况等，因而能够区分动脉和静脉，带来更多的信息。我们采用的是开放性的设计平台，将来有了新技术都可以将其升级到手术显微镜上。新的技术把不可见的光通过数据化显示出来，最重要的一点是MFL800是一个实时的技术，术者可以在目镜下实时观察到手术中的情况，没有延时。神外前沿：MFL800预计在中国何时上市？Maxim Mamin：我们产品的正式上市是在10月份刚刚结束的AANS美国神经外科年会上，正式的装机在11月份，12月份还会在欧洲和美国有新的装机。在中国我们已经通过了CFDA的认证，应该在明年一季度上市。神外前沿：目前内镜技术在神经外科应用越来越多，显微镜如何面对内镜的竞争？Maxim Mamin：显微镜和神经内镜是互补的技术，手术显微镜最明显的优势就是术中可以有很好的深度感受，可以很直观的看到并操作，相对来说也容易操作。另外，显微镜现在可以搭载各种荧光成像技术，但目前的神经内镜还没有。再有，神经内镜很难判断方向，并且并非所有手术器械都适用于脑室镜，比如双极电凝。神经内镜可能更适合于不能直视的一些病变，比如在角落或者被重要器官遮挡的。目前最新的技术可以把神经内镜的成像集成到显微镜上，也就是可以在目镜下直接显示。受访者简介Maxim Mamin, Vice President Medical Division (Surgical Microscopes Imaging) at Leica Microsystems (Danaher company), Leica Microsystems, UCLA Anderson School of Management.International Executive with 15+ years of leadership experience in Siemens Healthcare across various functions (Marketing, Product Development, Sales, Regional Business Development, Country Operations), across diverse products portfolio (Imaging and Lab Diagnostics), and cultures (Russia, Germany, Singapore, Korea, Malaysia).来源：神外前沿关于徕卡显微系统Leica Microsystems 徕卡显微系统是全球显微科技与分析科学仪器之领导厂商，总部位于德国维兹拉(Wetzlar, Germany)。主要提供显微结构与纳米结构分析领域的研究级显微镜等专业科学仪器。自公司十九世纪成立以来，徕卡以其对光学成像的极致追求和不断进取的创新精神始终得到业界广泛认可。徕卡在复合显微镜、体视显微镜、数码显微系统、激光共聚焦扫描显微系统、电子显微镜样品制备和医疗手术显微技术等多个显微光学领域处于全球领先地位。 徕卡显微系统在全球有七大产品研发与生产基地，在二十多个国家拥有服务支持中心。徕卡在全球一百多个国家设有区域分公司或销售分支机构，并建有遍及全球的完善经销商服务网络体系。

成立于2022年的华鑫微纳集成电路有限公司在安徽蚌埠正如火如荼的建设着8寸MEMS晶圆生产线，项目总投资高达50.6亿元，用于生产厂房、动力厂房、仓库等的建设，MEMS生产制造设备、公用设备等的采购，项目实施后将达到月产3万片晶圆的规模，在行业内颇具竞争力。就在近日，中国仪器进出口集团有限公司就华鑫微纳仪器采购发布相关招标信息。截至目前不完全统计，此次采购仪器设备数量达88台/套，种类达49种，涉及多个工艺段的建设，有显影机、金属刻蚀机等工艺设备，也有如套壳检测仪、膜厚检测仪等检测仪器，具体详情如下：序号采购项目数量招标状态截止时间项目详情0709-244035614017蒸发台3套招标中2024/5/30 9:30详情0664-2440SUMECF28/07匀喷一体机1台招标中2024/6/3 10:00详情0664-2440SUMECF18/01匀胶机2台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF28/06原位掺杂多晶硅生长炉1台招标中2024/6/3 10:00详情0664-2440SUMECF20/02有机去胶湿台1台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF20/02氧化清洗湿台1台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF20/03压膜机1台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF20/05线宽测试仪(非金属）3台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF20/06线宽测试仪1台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF18/01显影机2台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF20/04外延层厚度检测仪1台招标中2024/5/27 9:00详情07009-244035614005贴膜机2台招标中2024/5/31 9:30详情0664-2440SUMECF18/04套刻检测仪2台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF28/04探针台5台招标中2024/6/3 10:00详情0709-244035614024台阶仪2套招标中2024/5/31 9:30详情0664-2440SUMECF20/01四探针测试仪3台招标中2024/5/27 9:00详情4197-2440HXWN0001/01刷片机3台 招标中2024/5/30 9:00详情0664-2440SUMECF18/03扫描电镜1台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF18/05缺陷检测仪1台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF28/07喷胶机1台招标中2024/6/3 10:00详情0664-2440SUMECF28/03膜厚检测仪2台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF20/02硫酸去胶湿台1台招标中2024/5/27 9:00详情0709-244035614023离子束刻蚀机1套招标中2024/5/31 9:30详情0664-2440SUMECF28/02快速退火炉1台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF18/06颗粒度检测仪5台招标中2024/6/7 10:00详情0709-244035614019金属溅射机3套招标中2024/5/30 9:30详情07009-244035614006揭膜机2台招标中2024/5/31 9:30详情0709-244035614016键合对准机1套招标中2024/5/31 9:30详情0709-244035614020减薄机2套招标中2024/5/29 9:30详情07009-244035614004化学机械抛光系统1台招标中2024/5/31 9:30详情0709-244035614025多靶溅射机1套招标中2024/5/31 9:30详情0664-2440SUMECF28/06低应力氮化硅生长炉1台招标中2024/6/3 10:00详情07009-244035614003大束流离子注入机1台招标中2024/5/31 9:30详情0664-2440SUMECF28/01剥离机1台招标中2024/6/3 10:00详情0664-2440SUMECF20/02标准清洗湿台2台招标中2024/5/27 9:00详情0709-244035614009UV固胶机1套招标中2024/5/30 9:30详情0664-2440SUMECF28/05PECVD2台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF20/02BOE湿台1台招标中2024/5/27 9:00详情0664-2440SUMECF18/02AOI设备4台招标中2024/5/27 9:00详情07009-244035614007氧化硅、氮化硅刻蚀机3套中标/详情07009-244035614015外延生长系统2套中标/详情07009-244035614022立式氧化炉2套中标/详情07009-244035614022立式退火炉2套中标/详情07009-244035614022立式合金炉1套中标/详情07009-244035614008金属刻蚀机1套中标/详情07009-244035614012多晶硅、硅刻蚀机1套中标/详情0709-244035614001电镀系统设备1套中标/详情07009-244035614011等离子去胶机5台中标/详情