六甲基环五

有毒挥发性有机物（VOC）的泄漏只要化学品生产装置存在，就存在有毒挥发性有机物泄漏的潜在危险，监管机构通常都会要求工厂监测环境气体成分，以避免工人受到长期接触的伤害。有各种形式的捕获装置包括真空罐（苏玛罐）、可挥发性有机物报警器或吹扫和捕获装置。收集到的样品需要送往环境实验室进行分析。另外，还可利用电化学传感器来即时显示是否存在浓度超过预定水平的目标分子。还有一种定量方法是使用开路式傅利叶变换红外光谱仪测定VOC是否在警戒线以内。利用这些不同技术获得的数据，通常都用来满足当地法规的要求。然而，这些技术都不能提供满足诉讼依据要求的时间和空间的分辩率。Sentinel PRO环境质谱仪：简单全面的数据采集Sentinel PRO环境质谱仪能够在15分钟以内监测100个以上的取样点，并在0.01至1ppm精度范围内检测特定物质。凭借其速度和精度，它可监测所有关键区域的短时泄漏，并提供准确的8小时、时间加权平均泄露数据。由于具有大量可用的取样点，许多取样点可位于靠近潜在泄漏点的地方，如：阀杆处等，以便在有毒危害发生之前进行泄漏检测和修复。尽管安装这种装置的主要目的是为了保护操作人员和符合环保法规，但其使用效果往往超越了对泄露防护的要求。Sentinel PRO ：渗透膜进样质谱仪 Sentinel PRO环境质谱仪之所以取得成功，关键之一是独特的配有32或64接口的快速多流路取样器(RMS）。它采用零死体积设计，可实现快速置换，且交叉干扰为零。每台Sentinel PRO质谱仪均可装配两套RMS，这样，一个单一系统便可代替很多的灵敏度较差、单组分的分析仪。RMS包括一个旁路取样设计，允许一个流量检测器对各流路依次监测。如果过滤器出现堵塞，或液体堵住取样管，系统就会发出报警。分析仪配有一个渗透膜进样口,以便将空气样品的压力由大气压减小至 Sentinel PRO封闭离子源的工作压力（通常为10-4 mbar）。这个渗透膜进样口采用的进样方法可大大提高系统对挥发性有机物（VOC）的灵敏度。对绝大多数 VOC而言，通常可达到 ppb级检测限，确保Sentinel PRO质谱仪能适应未来法规的变化。由于渗透膜对 VOC的渗透性要强于对空气的渗透性，所以，它通常能够提供多个数量级的富集，包括＜0.01ppm的苯检测限。Sentinel PRO质谱仪有经过加热的进样探针组件，可提供稳定的有代表性的样品进入离子源。此外，进样探头采用符合人体工程学的设计，允许在每年的日常例行维护中轻松更换渗透膜，以便最大限度缩短停机时间，提高生产率。 Sentinel PRO：检测极限从 0.01PPM丙酮乙腈丙烯腈苯丁二烯二硫化碳四氯化碳氯仿氯苯环己烷二氯甲烷二甲乙酰胺（DMAC）二甲基甲酰胺（DMF）二恶烷环氧氯丙烷乙苯环氧乙烷氟利昂六甲基二硅烷氰化氢溴甲烷甲基乙基酮碘甲烷甲基异丁基酮甲基丙烯酸甲酯 1甲基 2吡咯烷酮甲基叔丁基醚（MTBE）环氧丙烷异丙醇苯乙烯四氢呋喃四氯乙烯甲苯三氯乙烯醋酸乙烯乙烯基溴化氯乙烯二甲苯

概述：空气分子污染物(AMC)对于高科技生产过程是关键性因素，特别是微电子行业，有机污染物是生产过程中的消极因素，会导致高科技公司因产品质量问题而产生的成本增加。无空气分子污染物生产是理想的生产目标，通过污染物源头控制、传播控制，实时监控污染物浓度并结合多级过滤器以及新风系统来实现，持久监测AMC浓度，有助于掌握污染物源头、稳定生产、预防过滤器突发性寿命减少等。阿瑞斯-μVOC提供给客户一个实时快捷持续的在线空气分子污染物AMC监测方案，不需要采样，离线测量。检测限达到sub-ppb级洁净室环境中的空气分子污染物AMC，内部来自建筑材料释出、设备和材料释出、腐蚀和光刻等工艺过程中化学药品逸散、人员产生、管路泄露、设备维护修理时散发等，外部来自环境空气中存在的气相污染物,以及洁净室的废气排放重新送回洁净室。一旦AMC空气分子污染物超标会引起一系列严重后果，比如晶圆废弃、停产、重新净化洁净室等。可测组份2-氨基乙醇 CH3NH2CH2OH(t-乙酸丁脂)二羟基甲苯 H3CC6H3(t-C4H9)2OH2-氨基丙醇 CH3NH2C2H4OH六甲基二硅胺烷(CH3 ) 3SiNHSi(CH3)3异丙醇(CH3 ) 2CHOH二乙氨基乙醇(C2H5)2NC2H5OH乙醇胺 H2NCH2CH2OH邻苯二甲酸二辛酯C6H4(C=OOC8H15)2环己胺C6H11NH2邻苯二甲酸二乙酯C6H4(C=OOC2H5)2环聚二甲基硅氧烷(-Si(CH3)2O-)n邻苯二甲酸二丁酯 C6H4(C = OOC4H9)2对二氯苯CIC6H4CL三乙胺(C2H5 ) 3N邻苯二甲酸二壬酯C6H4(C=OOC9H19)2邻苯二甲酸二环己酯C6H4(C=OOC6H11)2邻苯二甲酸二癸酯 C6H4(C=OOC10H21)2磷酸三乙酯(C2H5O ) 3P=0十甲基环五硅氧烷(-Si(CH3)2O-)5十二甲基环五硅氧烷(-Si(CH3)2O-)6二甲苯(CH3)2C6H4三甲酚磷酸酯(CH3C6H4O ) 3P=0三甲基硅醇C3H10OSi......亮点一般特点：在线连续质量监测全部自动化系统低浓度VOC监测独立分开测量有机物成份Sub-ppb检测限集成计算机和控制软件以及数据采集与处理功能 应用洁净间污染物监测过滤器状态监测加工过程全组份测量诊断污染物

上海那艾实验仪器设备[那艾仪器厂家]网站 全国送货厂家一手货! 品质保证!实验仪器非电子产品,使用效率和售后服务很重要。我们同品质比价格,同价格比效率,同效率比售后。设备仪器属于精密设备 客户订单录档案 免费1年质量保质,任何问题提供配件保养维护上海那艾仪器专注以实验仪器设计、研发,生产,销售为核心的仪器企业,目前销售生产有一体化蒸馏仪,中药二氧化硫蒸馏仪,COD消解仪,高氯COD消解仪,硫化物酸化吹气仪,全自动液液萃取仪,挥发油测定仪等等。全自动硫化物酸化吹气仪是我公司根据《HJ 1226-2021 水质硫化物的测定 亚甲基蓝分光光度法》“酸化-吹气-吸收”法量身定做的一款专门用于检测水中硫化物的前处理仪器。该仪器采用自动加酸、自动氮吹时间控制、酸化吸收等一体化设计，一次可处理1-6组样品。每个单元采用独立的转子流量计控制氮气流速；PID加热控温程序，自动升温至设定温度，缺水自动报警，自动补水；大屏幕液晶触摸屏操作等程序实现了对水质硫化物测定的智能预处理。适用标准HJ 1226—2021水质 硫化物的测定-亚甲基蓝分光光度法HJ/T 60-2000 水质硫化物的测定 碘量法HJ 833-2017 土壤和沉积物 硫化物的测定 亚甲蓝分光光度法（水浴）GB/T 11941-1989 水源水中硫化物卫生检验标准方法主要特征1、仪器机身采用框架一体式设计，稳固牢靠，主体采用1毫米厚度的品牌冷轧板配合静电粉末涂装，更加耐磨、耐腐蚀；2、从空开到触点，继电保护器到按钮开关等，选用正泰/德力西或同级别品牌电气，保证仪器品质和的使用寿命；3、PLC控制性能强劲稳定，7寸触控屏一键即达；创新采用平行横排布局方式，操作便捷直观；☆4、采用恒温内循环水浴加热方式，PID控温程序温差在±1℃，自动水位控制，自动补水，缺水自动报警；☆5、设计了加酸瓶塞摆放架，方便用户加酸时的瓶塞摆放，不易遗失，安全便捷；☆5、通过自动加酸模块，实现全自动闭环加酸进样，实验环节更加安全简单；☆6、主机设有可方便外接氮气源的专用接口，系统内设有过压保护系统；每一路都配置稳压阀，保证氮气流量稳定且节约氮气；7、每个样品的氮气流量独立控制，流速控制范围应在0.1-1L/min，符合国标范围；8、每路均内置氮气限流通断阀，可设定吹气时间，酸化完成氮气可自动切断，节约氮气保护样品；9、盐酸入口、气体进口、出口三口一体且相互独立，操作互不干扰；10、垂直加酸，加酸单元与反应瓶采用磨口垂直连接；加酸单元的调节旋钮采用聚四氟乙烯材质防止酸碱液体腐蚀；☆11、系统预设两种工作模式，可以满足水浴和非水浴运行状态；12、系统内自带说明书和服务中心二维码，手机扫码自动查看电子说明书和一键链接服务中心。产品参数型号NAI-LHW-6T控制系统PLC；7寸触控屏工作模式两种（水浴和非水浴）样品数量6通道设计，可一次性处理1-6个样品样品反应瓶规格500ml三口反应瓶加热方式循环水浴加热加热功率2000W控温范围室温~99.9℃控温精度实际水温与设计水温温差≤±1℃水浴控制水位自动控制，缺水自动补水，一键自动排空 加酸控制 可通过液晶触摸屏实现自动加酸进样氮气控制浮子流量计，流速范围0.1-1L/Min，可定时通断氮气保护有过压保护；每路独立限流通断阀节省氮气漏电保护功能有电源220V；50hz

GASTEC快速气体检测管无论何时由于不用分析仪器和化学药剂，省略了测量前的准备工作，无论何时都可以进行测定。无论何地极为小巧便于携带，只要有微量的空气就可以进行测定，最适合于现场测定。无论何人测定的操作非常简单，无论专业人士或非专业人士。多种气体GASTEC快速气体检测管可以检测多达300余种气体。检测快速测定的结果几分钟就可得到，可以立即转入下一步操作。过程安全日本GASTEC快速气体检测管不用电源，热源，不产生火花，即使有易燃易爆的气体存在，也可以确保操作安全。选型指南型号被测物质分子式可检测范围 ppm191丙烯腈CH2:CHCN2-360191L0.1-18192甲基丙烯腈CH2:C(CH3)CN0.2-321932-戊烯腈CH3CH2CH:CHCN0.5-15.0230H甲基碘CH3I100-348002300.5-108231硫酰氟SO2F21-20

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n产品简介BASIXX SH22是一款台式半自动匀胶机热板复合系统系统，功能强大，具有匀胶、清洗、显影、干燥、预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺等多种功能，样品最大尺寸为8寸晶圆或者150mm*150mm方片，广泛用于大学，研究所等科研实验室。 n产品特色匀胶机： ÷ 落地台式机，结构紧凑，所有单元集成在一台设备中，集成度高。÷ 手动装载/卸载÷ 衬底最大可达 ?200 mm (?8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)÷ 软件提供用户友好的操作÷ 直驱旋涂电机÷ 全轴电机驱动且完全可编程÷ 带安全中断传感器的透明盖÷ 外壳上有电源开关 ON / OFF÷ 工艺腔和可更换防溅环，易于拆卸以进行清洁。÷ 系统材料为PP材质，耐所有类型的抗蚀剂和溶剂以及各种清洁介质。 ÷ 包括 0.5 升废液瓶 热板：÷ 温度高达 300°C÷ 电子驱动升降pin÷ 支撑pin材料为不锈钢，尖端采用 PEEK 材料 (最大250°C)÷ 程序控制支撑pin的升降（不同停止的速度和步数）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 热板盖手动控制÷ 集成排烟装置÷ 通过设置receip自动进行加热处理 n技术数据匀胶机：÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (?8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)÷ 电机转速: 最大 10.000rpm, 步长 1 rpm÷ 电机加速: 最大 4.000 rpm/s÷ 步进时间: 1 至 999.9 s，步长为 0.1s÷ 工艺腔材质: 由天然 PP 制成÷ 系统架构材质: 由白色 PP 制成÷ 液体线路： 3线: 2 x 24 V / 最大 1 Amp (每条) / 触发点 0.1 秒 - ∞ 5线: 6 x 24 V / 最大 1 Amp (每条) / 触发点 0.1 秒 - ∞ 热板：÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (? 8”) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度: 最大可达 300°C, 步进1°C÷ 温度精度: ±1°C@100°C ÷ 支撑pin: ?50 mm (?2”) ,最大可达 ?200 mm(?8”) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板材质: 硬质阳极氧化铝÷ 加热盖材质: 不锈钢 n选项 匀胶机： ÷ 自动液体输送臂 ÷ 液体罐 ÷ 防溅环÷ 废液池 ÷ DI水冲洗 ÷ N2吹扫÷ 热板 ÷ 不同类型的夹具 ÷ 中心定位模块 热板： ÷ 支撑pin材料 ÷ 边缘支撑pin ÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆） ÷ 600℃热板 ÷ 真空泵

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

北斗星PBD5-VOC便携式有机挥发气体VOC检测仪，挥发性有机物气体检测仪生产厂家直销PBD5-VOC便携式有机挥发气体VOC检测仪系智能系统，内置单片微机,系统设计有先进的硬件系统, 包括2MB的。所有数据可以掉电保存。每种仪器都提供专业的分析/测试技术，大限度的固化专业方法。具有现场总线支持能力和RS232/485通信接口。可以刷新程序。BD5测试仪使大多数仪器将能提供全范围测试，省去量程选型的麻烦。 北斗星手持式传感器，巧妙地设计，即可以雷同一般仪器使用，又可以直接用于磨口瓶，也可以用管螺纹连接于管线进行临时连续检测。 可用键盘选择要测试的气体种类。应用 Application 环境指标 VOC,VOCs or TVOC 含磷毒剂,战剂探测, 炸药, 推进剂等探测 人类动物呼吸及排泄气体检测 医院垃圾、医疗废弃物，工业恶臭味检测 毒气探测 制冷剂，灭火剂，绝缘介质挥发物检测 农药，杀虫剂等探测刺激性化学物质探测 实验室烟雾探测 气体安全探测 环境督察 泄露探测 残余气体探测 毒p等危险品探测 可燃气检测，劳动安全检测 用途：各种气体泄露探测 多种单气浓度测试 VOC 分析 工业生产,科研 环境检测场合 污染源/排放口规律研究 能探测的常见气体 多数能被 PID 测量的化合物都包含碳元素，他们包ZUI括： 芳香烃类（一些拥有苯环的化合物），像：苯、甲苯、二甲苯、乙苯等 酮类和醛类（一些含有 C=O 基的化合物），像：丙酮、甲基酮、乙基酮、乙醛等 胺以及胺类化合物（包含氮元素的碳化物），像：二乙基胺 氯代烃类，像：三氯乙烯、全氯乙烯 硫化物，像：硫醇 不饱和烃类，像：丁烷、辛烷 氨气（无机物） 半导体气体，砷化氢、磷化氢 氮氧化物，溴气，碘 不能测试的常见气体: 放射物 空气（N2、O2、CO2、H2O） 一般的有毒气体（CO、HCN、SO2）天然气（甲烷、乙烷、丙烷） 酸性气体(HCL、HF、HNO3) 其他：氟利昂、臭氧。其他不可挥发的。 BD5 分析器技术指标 Specifications z显示 器：2×16 LCDz电源：9V充电 电池z响应时间： 1msz电池连续工作：10 hr/掉压报警z环境温度：-30℃～70℃（处理器）z处理器尺寸:98W×180H×35Dz 环境湿度：0%～90%R（处理器）z分析器分辨率:24位（FS=+/-1280mV）VOC3229 传感器规格及技术参数ND扩散式可选ND+Wxm投入式扩散式与电缆组合作成投入式,便于测试人员不可及的位置 x 代表要订几米导线 SP泵吸式采样SP+Pxm导引式用气管和泵组合,可以将人员不可及的位置的气体抽入测试 x 代表要订几米管 VOC3229 传感器型号型号117106AH106A1102测试气体电离势11.7eV电离势10.6eV 的气体电离势10.6eV 的气体电离势10.2eV的气体的气体离子化能量11.7eV10.6eV10.6eV10.2eVz低探测限5ppb100ppb线性量程50ppm300ppmz大测试值1000 ppm6000 ppm预热时间/分钟155使用温度-40~+40oC,max to 60oC-40~+40oC,max to 60oC使用湿度0-90%,无结露0-90%,无结露响应时间/秒33安全指标IECEx Ex ia IIC T4 ATEXIECEx Ex ia IIC T4 ATEX EEx iaEEx ia II 1G -40oC TaII 1G -40oC Ta +40oC+40oC仪器制造标准规范: 作业环境气体检测报警仪通用技术要求 GB 12358-90PID 探测气体参数具体参见 高于 100ppm 警报 化合物CFEXRu-10.6化合物CFEXRu-10.6丙酮1.101000.00909.09煤油0.60500.00833.33石油馏出0.71500.00704.23干洗溶剂汽油0.71500.00704.23异丙醚0.80500.00625.00甲基环己烷0.97500.00515.46二氯乙烯 t-1,20.45200.00444.44甲苯0.50200.00400.00芥子气(LCT50)0.6231.00385.00环乙烯0.80300.00375.00二乙基醚1.10400.00363.64汽油 #10.85300.00352.94蒎烯，a-0.31100.00322.58汽油 92 辛烷1.00300.00300.00松节油0.35100.00285.71辛烷，n-1.80500.00277.78蒎烯, b-0.37100.00270.27二氯乙烯 c-1,2-0.80200.00250.00苯乙烯0.40100.00250.00甲基乙基酮0.86200.00232.56 二甲苯, m-0.43100.00232.56二甲苯，p-0.45100.00222.22戊酮(2-)0.93200.00215.05环乙胺1.40300.00214.29二甲苯，o-0.49100.00204.08甲基苯乙烯 (a-)0.50100.00200.00乙基苯0.52100.00192.31氯苯0.4075.00187.50庚烷，n-22.80500.000178.57二甲苯 o-0.59100.00169.492-乙氧基乙醇1.30200.00153.85燃油，#2 00.66100.00151.52间戊二烯0.69100.00144.93壬烷1.40200.00142.86硅乙烷0.71100.00140.85异己酮0.80100.00125.00戊烷8.401000.00119.05四氢呋喃1.70200.00117.65乙烷4.30500.00116.28燃料油#100.93100.00107.53二氯苯 (o-)0.4750.00106.38乙酸叔丁酯2.00200.00100.00氯甲苯，o-0.5050.00100.00丙烯乙二醇1.00100.00100.00100ppm 警报异丙基醋酸2.60250.0096.15枯烯0.5450.0092.59三氯乙烯0.5450.0092.59二氧杂环乙烷1.10100.0090.911.4乙酸乙酯4.60400.0086.96航空油 JP-50.6050.0083.33航空油 JP-8 0.l.6050.0083.33乙醇12.001000.0083.33异戊烷及戊烷异8.20600.0073.17双丙酮醇0.7050.0071.43构1,3,5 三甲基苯0.3525.0071.43丙二醇单甲醚1.40100.0071.43乙酸正丁酯(sec-3.00200.0066.67乙丙醇6.00400.0066.67)甲基丙烯酸甲酯1.50100.0066.67乙酸正丁酯（n-2.60150.0057.69）乙酸异丁酯2.60150.0057.69乙酸正丙酯，n-3.50200.0057.14环己酮0.9050.0055.56醋酸另戊酯2.30125.0054.35(sec-)航空油 JP-41.0050.0050.0050ppm 警报醋酸异戊酯2.10100.0047.62甲基叔丁醚0.9140.0043.96四氯乙烯0.5725.0043.86醋酸正戊酯（n-2.30100.0043.48）丁氧基乙醇 2-1.2050.0041.67仲丁醇4.00150.0037.501-己烯0.8030.0037.50石脑油（焦油）2.80100.0035.71叔丁醇2.90100.0034.48乙醛6.00200.0033.33正丙醇6.00200.0033.33乙酸甲酯6.60200.0030.30三乙胺0.9025.0027.78异丁醇3.80100.0026.32二乙胺0.9725.0025.7725ppm 警报崩塔(LCT50)0.820.0025.00萘0.4210.0023.81甲基碘0.225.0022.73正丁醇4.70100.0021.28六甲基二硅氮烷0.245.0020.83石脑油（纯）5.70100.0017.54丁硫醇0.6010.0016.67二硫化碳1.2020.0016.67 乙硫醇0.6010.0016.67甲硫醇0.6010.0016.67环氧丙烷6.50100.0015.38二甲基乙酰胺0.8010.0012.50二甲基甲酰胺0.8010.0012.50乙胺0.8010.0012.50乙烯基溴0.405.0012.50丁烷67.00800.0011.94二溴乙烷，1,2-1.7020.0011.76甲基溴1.7020.0011.76三甲胺0.8510.0011.76三氯苯(1,2,4-)0.465.0010.87苯胺0.485.0010.42二聚环戊二烯0.485.0010.42丙烯酸乙酯2.4025.0010.42甲氧基乙醇 2-2.4025.0010.42对苯甲胺0.505.0010.0010ppm 警报氯丁二烯（β）3.0025.008.33环己胺1.2010.008.33甲胺1.2010.008.33醋酸乙烯酯1.2010.008.33异丁烷100.00800.008.00嘧啶0.685.007.35二异丙胺0.745.006.76烯丙基缩水甘油1.5010.006.67醚二甲胺1.5010.006.67丙烯酸正丙酯1.6010.006.25糠醛0.925.005.43氨9.7050.005.15二氯乙基醚3.0015.005.00甲酰胺4.0020.005.00苯酚1.005.005.00NO5.2025.004.81正丁胺1.105.004.55苯甲醛0.502.004.00乙二醇16.0050.003.13硫化氢3.3010.003.03二甲基乙胺1.003.003.00丙烯酸甲酯3.7010.002.70沙林(LCT50)4.612.002.61己内酰胺2.005.002.50苯0.531.001.89巴豆醛1.102.001.82苯乙腈0.601.0401.73氯甲苯0.601.001.67亚丙基亚胺1.252.001.60二乙醇胺2.003.001.50苯乙醚，蒸气0.701.001.43溴苯0.600.781.301-乙烯基-砒珞烷0.801.001.25丁二烯0.851.001.18酮1,3-二氯-1-丙烯0.961.001.04二乙撑三胺1.001.001.00碘0.100.101.001ppm 警报丙烯酸12.0010.000.83烯丙醇2.402.000.83苯酰氯0.60.500.83乙酸酐6.105.000.82乙醇胺4.003.000.751,1-二甲基肼0.780.500.64叔丁基过氧化氢1.61.000.63戊二醛0.800.500.63表氯醇8.505.000.59硝基苯1.901.000.53氯乙烯2.001.000.50醋酸22.0010.000.45过氧化甲乙酮2 0.7.000.35肼，联氨3.001.000.33二氧化氮16.005.000.31联苯0.700.200.29双烯酮2.000.500.25烯丙基氯4.301.000.23溴仿2.500.500.20一甲基肼1.200.200.17

上海那艾实验仪器设备[那艾仪器厂家]网站 全国送货厂家一手货! 品质保证!实验仪器非电子产品,使用效率和售后服务很重要。我们同品质比价格,同价格比效率,同效率比售后。设备仪器属于精密设备 客户订单录档案 免费1年质量保质,任何问题提供配件保养维护上海那艾仪器注以实验仪器设计、研发,生产,销售为核心的仪器企业,目销售生产有一体化蒸馏仪,中药二氧化硫蒸馏仪,COD消解仪,高氯COD消解仪,硫化物酸化吹气仪,全自动液液萃取仪,挥发油测定仪等等。硫化物酸化吹气吸收装置是我公司根据国家标准研发生产，适用于地面水、地下水、生活污水和工业废水中硫化物的测定。该酸化吹气仪具有容易控制、操作简便、快捷等特点。该仪器是由恒温水浴、温控仪、气体分配、样品架、升降系统、气体流量调节阀、转子流量计等组成。主要特征1、仪器机身采用框架一体式设计，稳固牢靠，主体采用1毫米厚度的品牌冷轧板配合静电粉末涂装，更加耐磨、耐腐蚀；2、从空开到触点，继电保护器到按钮开关等，选用正泰/德力西或同别品牌电气，保证仪器品质和的使用寿命；3、创新采用平行横排布局方式，操作便捷直观；4、采用恒温水浴加热方式，PID控温精确，加热均匀，温度状态实时显示；5、垂直加酸、氮气吹脱、酸化吸收一体化设计，盐酸入口、气体进口、样品出口三口一体且相互独立，操作互不干扰。6、量调节范围：0.1-1l/min，六路单独控制，确保实验安全有效进行；7、每个样品的氮气流量独立控制调节或关闭；无需升降支架，稳定无漏气；8、可定时操作，到达时间，自动停止，并报警提示。适用标准HJ 1226—2021水质 硫化物的测定-亚甲基蓝分光光度法HJ/T 60-2000 水质硫化物的测定 碘量法HJ 833-2017 土壤和沉积物 硫化物的测定 亚甲蓝分光光度法（水浴）产品参数 产品型号 NAI-LHW-6加热方式 自动控温恒温水浴加热功率2000W气体流量计0.1-1L/min温度范围室温~99.9℃显示方式数字显示控温精度±1 ℃氮气入口压力0.1Mpa工作电源AC(220±22)V，50HZ

关于岩征仪器双环戊二烯DCPD热解反应装置：环戊二烯（CPD）是C5馏分中主要的三个双烯烃之一，它含有一个双键和一个亚甲基，因此性质非常活泼，可进行聚合、氧化、加成、缩合和还原等系列反应，广泛应用于农药、塑料、石油树脂、合成橡胶、茂化合物以及新型高分子材料等方面。所以对环戊二烯，物别是较高纯度的环戊二烯需求不断增加，而环戊二烯的来源是离不开优质的二聚体双环戊二烯(DCPD)的。 环戊二烯在常温下可聚合成双环戊二烯，受热以后分解为环戊二烯，利用这一特点可以将环戊二烯从乙烯裂解的C5馏分中分离出来。而要获得环戊二烯可将分离出的双环戊二烯再进行分解即可。由于环戊二烯在常温下能自发地二聚为双环戊二烯，一般需在-20℃下贮存或即刻用掉，工业上以其稳定的双环戊二烯的形态贮存和运输，然而，化学反应总是利用单体（如果反应是在DCPD解聚为单体的温度下进行，则可以用双环戊二烯DCPD。）

n产品简介UNIXX HTe20型热板是一款桌面型半自动烘焙系统，用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺。 n产品特色÷ 温度高达 300°C÷ 电子驱动升降pin÷ 支撑pin材料为不锈钢，尖端采用 PEEK 材料 (最大250°C)÷ 程序控制支撑pin的升降（不同停止的速度和步数）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 热板盖手动控制÷ 集成排烟装置÷ 通过设置receip自动进行加热处理 n主要技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (? 8”) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度: 最大可达 300°C, 步进1°C÷ 温度精度: ±1°C@100°C ÷ 支撑pin: ?50 mm (?2”) ,最大可达 ?200 mm(?8”) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板材质: 硬质阳极氧化铝÷ 加热盖材质: 不锈钢 n可选项÷ 支撑pin材料÷ 边缘支撑pin÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆）÷ 600℃热板÷ 真空泵

热板HOTPLATES 温度模块(电子)最大 200 或最大 300mm温度模块设计用于基材的单面烘烤，用于预烘烤和后烘烤或脱水烘烤过程。osiris 特别提供用于粘合剂底漆(HMDS 六甲基二硅氮烷)的底漆，osiris提供用于蒸汽底漆或真空干燥的热板模块。带有电子可编程升降销的烘烤模块配有触摸屏，用于操作。osiris 软件提供了简单方便的过程控制和配方创建。用户友好和不言自明的界面强调了易用性，并使流程随时可控。这些温度模块有台式安装，塔式安装或独立安装的不同版本。UNIXX HvT20：（Ø 200mm）适用于HMDS底漆和真空脱水烘焙的台式热板工具。（可用台式或独立式）UNIXX HeT20：(Ø 200mm) 带有电子驱动升降销的台式热板工具。（或台式）UNIXX HpT20(Ø 200mm) 带气动升降销的台式加热板工具。（或台式）

产品简介UNIXX HTe20型热板是一款桌面型烘焙系统，用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），HMDS底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺。 产品特色÷ 温度高达 300°C÷ 电子驱动升降pin÷ 支撑pin材料为不锈钢，尖端采用 PEEK 材料 (最大250°C)÷ 程序控制支撑pin的升降（不同停止的速度和步数）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 热板盖手动控制÷ 集成排烟装置÷ 通过设置receip自动进行加热处理主要技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 Φ200 mm (8英寸) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度: 最大可达 300°C, 步进1°C÷ 温度精度: ±1°C@100°C ÷ 支撑pin: Φ50 mm (2英寸) ,最大可达 Φ200 mm(8英寸) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板材质: 硬质阳极氧化铝÷ 加热盖材质: 不锈钢可选项÷ 支撑pin材料÷ 边缘支撑pin÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆）÷ 600℃热板÷ 真空泵

FD-iCheck 磺胺二甲基嘧啶检测仪 产品简介FD-iCheck 磺胺二甲基嘧啶检测仪基于胶体金免疫层析快速检测技术（GICA）通过图像分析技术定量快速检测粮食作物、食用油、酱油、米酒、食醋中黄曲霉毒素B1、脱氧雪腐镰刀菌烯醇、玉米赤霉烯酮，以及赭曲霉毒素A等真菌毒素的含量，是中国与全球新一代真菌毒素、非法添加物、抗生素等食品安全快速检测技术与设备和解决方案的提供者。 产品优势1. 个性化服务：为每个企业每个产品提供专有的分析方法 2. 使用方便：可以用于实验室和现场的检测 3. 快速筛查：1 个小时 1 个人可以检测 30 个样品 4. 操作简单：不需要特殊的培训 5. 针对性强：具备项目校正和仪器校正，结果更可靠6. 环境友好：不需要有毒的标准品 7. 数据安全：电子标定二维码专用 8. 结果准确：最低检测限满足食品安全限量标准 9. 数据完整：测定结果实时显示、可以打印、可以转存计算机中 10. 配套性强：提供全套检测仪器设备，配套齐全，体积小，携带方便 检测项目序号产品名称样品类别检测范围ppb真菌毒素1黄曲霉毒素总量定量快检卡玉米、大米、小麦及其制品0-25坚果、籽类0-25植物油0-25辣椒、胡椒、中药材0-25茶叶0-10饲料0- 50/0-1002黄曲霉毒素M1定量快检卡乳及乳制品、婴幼儿配方食品0- 2.03玉米赤霉烯酮定量快检卡大米、玉米、小麦、饲料0-500/0-2000植物油0-5004呕吐毒素定量快检卡玉米、玉米面（渣、片）、小麦、饲料0-50005赭曲霉毒素A 定量快检卡小麦、谷物及其制品、饲料、咖啡0-20葡萄酒0-10辣椒、胡椒0-50非法添加物6三聚氰胺定量快检卡乳、饲料0-5007β-兴奋剂定量快检卡尿0-5.08苏丹红定量快检卡番茄酱、沙司、辣椒、红酒0-109玉米赤霉醇定量快检卡乳、畜产品0-10抗生素10卡那毒素定量快检卡乳0-20011磺胺二甲基嘧啶定量快检卡乳、畜产品0-5012恩诺沙星定量快检卡乳、畜产品0-200/0-50013庆大霉素定量快检卡乳、畜产品0-30014安普霉素定量快检卡乳、畜产品0-200/0-100015四环素定量快检卡乳0-20016氟喹诺酮类定量快检卡乳、畜产品0-200/0-50017链霉素定量快检卡乳、畜产品、蜂蜜0-250

广泛用作绝缘、润滑、防震、防尘油、介电液和热载体，以及用作消泡、脱膜、油漆和日用化妆品的添加剂等。 201甲基硅油具有各种优异的特性，因此在工农业生产，国防工业，科学研究及医疗卫生等部门，都得了极其广泛的应用。它广泛用于电气绝缘、脱模、消泡、阻尼、防震、滚压、防尘、防水、高低湿润等方面。 1、在机电工业中的应用：201甲基硅油广泛用在电机、电器、电子仪表上作为耐温、耐电弧电晕、抗蚀、防潮、防尘的绝缘介质、目前还用做变压器、电容器、电视机的扫描变压器的浸渍剂等。在各种精密机械、仪器及仪表中，用作液体防震、阻尼材料。201甲基硅油的消震性能受温度影响小，多用于具有强烈机械震动及环境温度变化大的场合下，使用的仪表如：飞机、汽车的仪表中。用于防震、阻尼、稳定仪表读数，还可作为液体弹簧，且于飞机的着陆装置中。2、在消泡剂中的应用：由于201甲基硅油表面张力小，且不溶于水，动植物油及高沸点矿物油中，化学稳定性好、又无毒，用作消泡剂已广泛用于石油、化工、医疗、制药、食品加工、纺织、印染、造纸等行业中，只要加入10-100PPM的硅油就具有良好的消泡剂作用。3、在脱模剂中的应用：由于201甲基硅油与橡胶、塑料、金属等的不粘性，又用做各种橡胶、塑料制品成型加工的脱模剂，及用于精密铸造中。用它做脱模剂不仅脱模方便，且使制品表面洁净、光滑、纹理清晰。4、在绝缘、防尘、防霉涂层中的应用：在玻璃、陶瓷器表面浸涂一层201甲基硅油，并在250-300℃进行热处理后，可形成一层防水、防霉和绝缘性的薄膜。用之处理绝缘器件，可提高器件的绝缘性能：用之处理光学仪器，能防止镜片、棱镜发霉；用之处理药瓶，能延长药品的保存期，并不使制剂因粘壁而损失；用之处理电影胶片的表面，可起润滑作用，减少磨擦，延长影片寿命。5、在润滑剂中的应用：201甲基硅油适于做橡胶，塑料轴承、齿轮的润滑剂。也可做为在高温下钢材对钢的滚动磨擦，或钢与其它金属磨擦时的润滑剂。6、在添加剂中的应用：201硅油可作许多材料的添加剂，如可作为油漆的增光剂，加少量硅油到油漆中，可使油漆不浮包、不起皱提高漆膜的光亮度，加少量硅油到油墨中，可提高印刷质量，加少量硅油到抛光油中（如汽车上光油），可增加光亮，保护漆膜，并有优良的防水效果。7、在医疗卫生中的应用：201甲基硅油对人体无生毒性，也不被体液分解，故在医疗卫生事业中，也被广泛应用。利用其消泡作用，制成了口服胃肠消胀片，及肺水肿消泡气雾剂等药用。在药膏中加入硅油，可提高药物对皮肤的渗透能力，提高药效。以硅油为基础油的某些膏药剂对烫伤、皮炎、褥疮等都有很好的疗效，利用硅油的抗凝血作用，可用其处理贮血器表面，延长血样贮存时间等。8、在其它方面中的应用：201甲基硅油在其它方面还有许多用途。如：利用其闪点高、无嗅、无色、透明且对人体无毒等特性，在钢铁、玻璃、陶瓷等工业和科研中，作为油浴或恒温器中的热载体。利用其抗切变性能好，可做液压油尤其是航空液压油。用其处理人造丝纺丝头，可消除静电，提高抽丝质量。在化妆品上加入硅油能提高对皮肤的滋润和保护作用等等。

全自动硫化物酸化吹气仪是我公司根据《HJ 1226-2021 水质硫化物的测定 亚甲基蓝分光光度法》“酸化-吹气-吸收”法量身定做的一款专门用于检测水中硫化物的前处理仪器。该仪器采用自动加酸、自动氮吹时间控制、酸化吸收等一体化设计，一次可处理1-6组样品。每个单元采用独立的转子流量计控制氮气流速；PID加热控温程序，自动升温至设定温度，缺水自动报警，自动补水；大屏幕液晶触摸屏操作等程序实现了对水质硫化物测定的智能预处理。适用标准HJ 1226—2021水质 硫化物的测定-亚甲基蓝分光光度法HJ/T 60-2000 水质硫化物的测定 碘量法HJ 833-2017 土壤和沉积物 硫化物的测定 亚甲蓝分光光度法（水浴）GB/T 11941-1989 水源水中硫化物卫生检验标准方法主要特征1、仪器机身采用框架一体式设计，稳固牢靠，主体采用1毫米厚度的品牌冷轧板配合静电粉末涂装，更加耐磨、耐腐蚀；2、从空开到触点，继电保护器到按钮开关等，选用正泰/德力西或同级别品牌电气，保证仪器品质和的使用寿命；3、PLC控制性能强劲稳定，7寸触控屏一键即达；创新采用平行横排布局方式，操作便捷直观；☆4、采用恒温内循环水浴加热方式，PID控温程序温差在±1℃，自动水位控制，自动补水，缺水自动报警；☆5、设计了加酸瓶塞摆放架，方便用户加酸时的瓶塞摆放，不易遗失，安全便捷；☆5、通过自动加酸模块，实现全自动闭环加酸进样，实验环节更加安全简单；☆6、主机设有可方便外接氮气源的专用接口，系统内设有过压保护系统；每一路都配置稳压阀，保证氮气流量稳定且节约氮气；7、每个样品的氮气流量独立控制，流速控制范围应在0.1-1L/min，符合国标范围；8、每路均内置氮气限流通断阀，可设定吹气时间，酸化完成氮气可自动切断，节约氮气保护样品；9、盐酸入口、气体进口、出口三口一体且相互独立，操作互不干扰；10、垂直加酸，加酸单元与反应瓶采用磨口垂直连接；加酸单元的调节旋钮采用聚四氟乙烯材质防止酸碱液体腐蚀；☆11、系统预设两种工作模式，可以满足水浴和非水浴运行状态；12、系统内自带说明书和服务中心二维码，手机扫码自动查看电子说明书和一键链接服务中心。

HT20e加热台 UNIXX系列可处理基片达200 mm / 8英寸半自动单面烘烤系统设计用于：软烘（预烤）；硬烘HMDS（六甲基二硅氮烷）的选配：蒸气起泡，真空干燥HT20e加热台设计用于基材的单面烘烤，用于预烘烤和后烘烤或脱水烘烤过程。尤其适用于粘合剂底漆（HMDS 六甲基二硅氮烷），可用于蒸汽底漆或真空干燥的热板模块。带有电子可编程升降针的烘烤模块，配有触摸屏，便于操作。 软件提供了简单方便的过程控制和配方创建。 界面简单易于使用，可随时控制流程。这些温度模块有台式安装式，塔式安装式或独立式供选择。特点：温度模块（电动）加热板系统带有电动升降顶针加热板模块（最高300°C）电子驱动的升降针标准的顶针由不锈钢和PEEK尖端制成（最高250°C）升降针，可编程（根据不同停止的速度和步长）加热板表面上的真空管路用于固定基板手动控制加热板的顶盖集成式排气半自动控制器单元：7英寸彩色触摸屏配方编辑器来编写，管理和配置实际可视化效果监控用于配方，流程，日志文件的库功能（例如，错误跟踪历史记录）具有密码保护服务访问权限的用户管理通过USB或Intranet连接进行更新和备份功能产品参数：基板尺寸：最大直径200毫米（直径8英寸）圆片或200x 200毫米（8 x8英寸）方片；温度范围：最高300°C *，以1°C/步可调；温度精度：在100°C时士1°C；升降针(1套）：直径50 mm（直径2英寸）到直径200 mm（直径8英寸）或200x 200mm（8 x8英寸）；加热台表面：由硬质阳极氧化铝制成；加热台顶盖：由微抛光不锈钢制成；加热台外壳：由PP制成；控制器单元：7寸触摸屏；HT20p加热台 UNIXX系列 可处理基片达200 mm / 8英寸手动控制单面烘烤系统单面烘烤系统可选项，还提供温度高达600°C的加热板温度模块设计用于单面烘烤用于烘烤前和烘烤后的基材。带有气动升降销的烘焙模块配有一个手动PID控制器和计时器开关。 经过微处理（PID）控制器用于高测量温度控制准确性。 确定过程的设定值和参数用5场塑料薄膜键盘调节。可自由编程的定时开关有两个可调派生计时器和两个省略计时器。 与各种参数的可能性，两个输出触点和两个切换输入将允许使用任何一种应用程序可以使用的。 计时器可以使用前按钮和开关输入。特点：温度模块（气动）加热板系统带有气动升降顶针加热板模块（最高300°C）气动顶针标准的顶针由不锈钢和PEEK尖端制成（最高250°C）加热板表面上的真空管道用于固定基板手动控制加热板的顶盖集成式排气手动控制器单元：• 1个PID 控制器，用于在高测量时进行温度控制。通过调节薄膜键盘的5个键来设定关键参数。• 1个计时器开关，带有两个可调微分计时器和两个延时计时器，并可以设置各种参数。可以使用前按钮和开关输入来启动和停止计时器。产品参数：基板尺寸：最大直径200毫米（直径8英寸）圆片或200x 200毫米（8 x8英寸）方片；温度范围：最高300°C *，以1°C/步可调；温度精度：在100°C时士1°C；升降针(1套）：直径50 mm（直径2英寸）到直径200 mm（直径8英寸）或200x 200mm（8 x8英寸）；加热台表面：由硬质阳极氧化铝制成；加热台顶盖：由微抛光不锈钢制成；加热台外壳：由PP制成；控制器单元：1个PID控制器，1个计时器；

1.恒奥德仪器硫化物蒸馏仪 远红外一体蒸馏仪HAD-ZL6亚甲基蓝分光光度法 执行标准： 水质 硫化物的测定 亚甲基蓝分光光度法（HJ1226-2021） 水质 挥发酚的测定 4-氨基安替比林分光光度法（HJ 503-2009 ） 水质 氰化物的测定 容量法和分光光度法（HJ 484—2009 ） 水质 氨氮的测定 蒸馏-中和滴定法（HJ 537-2009 ） 土壤 氰化物和总氰化物的测定 分光光度法（HJ 745-2015） 生活饮用水标准检验方法（GB 5750-2006） 生活饮用水卫生标准（GB 5749-2006） 性能参数： 1、加热系统： 1.1加热方式：采用碗状远红外陶瓷加热炉，红外线辐射加热（无明火加热、防水），加热过程安全稳定，导热效果佳，单孔加热功率：0-800W(单孔可调） 1.2温度控制：通过PID控制炉温加热（单孔单控室温-420℃） 1.3配置隔热防护罩防止热量流失，使样品受热均匀； 1.4蒸汽冷凝单元：为提高蒸馏效果，蒸汽区域与冷却区域分开设计，蒸汽腔位于冷却水腔的外侧，采用双层抽真空技术，冷凝管的上部应设有磨口塞，方便清洗冷凝管。 2、智能终点控制系统： 2.1蒸馏终点控制：采用压力称重传感器控制蒸馏终点，可任意设置蒸馏体积重量，自动停止加热，蒸馏结束后灯光报警，整个实验过程无需人员看守，自动化程度高； 2.2防过量蒸馏保护系统：为防止馏出液蒸馏过量，在每个馏出液出口部分许设计有防过量蒸馏保护系统，蒸馏结束后系统能自动锁住馏出液出口，实现自动精确定量，定量范围：1-500g（ml）。管路内的残液可通过一键放空排出； 3、清洗系统： 3.1冷凝管与蒸馏烧瓶采用全玻连接，连接处采用磨口； 3.2实验结束后可对冷凝管实现一键反吹冲洗功能，智能化程度高； 4、冷却系统： 4.1采用封闭式内循环回流系统，冷风水冷+内置压缩机制冷双重制冷方式，无需外接冷却水源，适合大批量样品连续工作 4.2压缩机制冷量：2000W 4.3温度范围：5℃-35℃可调 4.4内置循环水箱：20L 5、防倒吸系统： 防倒吸：设有仿真空电磁阀，自动识别瓶内压力，具有蒸出液防倒吸功能； 6、接收装置： 接收者装置不受限制，默认配置为容量瓶接收可根据实验要求更换其他器皿接收，托盘可灵活配置； 7、一键式内循环水箱加水，具有自动停止功能； 8、主机在馏出液接收区设有废液排出口，操作系统有一键排空功能； 9、主机设有短路保护功能，在潮湿的工作状况下，加热区极易受潮造成电路短路，可通过加热区预热进行烘干，烘干时间可定时0-999秒。单个加热区受潮情况下，启动预热功能可修复受潮线路，是设备恢复至正常工作状态； 主要技术参数： 显示方式：7寸彩色触摸屏 加热单元：6组，可单孔单控制 升温时间：5-8min 蒸馏速度：2-12ml/min 时间控制：0-200min可调 整机功率：4800W(可调） 仪器尺寸：1000*540*800mm（长*宽*高） 蒸馏瓶规格：500mlx6,250x6或更多规格可选 接收瓶规格：接收瓶不受限制（容量瓶、锥形瓶、量筒等） 额定电压/频率：220V/50HZ 2.电解抛光腐蚀仪 金相抛光仪 试样腐蚀测定仪 型号：HAD-EP06 一．设备功能介绍 HAD-EP06电解抛光腐蚀仪，利用电化学原理进行金相样品的制备。该设备既可用于金相试样的抛光，也可用于金相试样的腐蚀，具备制样快，重复性好、没有机械加工的变形层等优点，是有色金属试样、钢尤其是不锈钢制备金相样品的设备。 该设备的特点： 1． 电压、电流范围大，可同时满足多种材料的抛光和腐蚀； 2． 实现恒定电流和恒定电压工作方式； 3． 可控制样品的抛光/腐蚀面积，从而样品的抛光/腐蚀电流稳定； 4． 可控制抛光/腐蚀液的工作温度； 5． 控制抛光/腐蚀时间； 6． 搅拌装置保证了抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致； 7． 工作电压、电流可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究。 二、主要技术参数： 工作电压 AC220V 50Hz 输出电压 0－100V，数字显示，电压可预设 输出电流 0－6A，数字显示，电流可预设，有过载保护 工作时间 1秒--99分59秒，数字显示，时间可设定；到达设定时间后，蜂鸣器提醒 3.BOD测定仪 生化需氧量测定仪 型号：HAD-Y2A BOD生化需氧量测定仪是根据国家标准《HJ505-2009》5日培养法，模拟自然界中有机物的生物降解过程，采用简单、安全、可靠的无汞压差感测法测量水中BOD；实验过程无需实验人员值守；适用于排污企业、环境监测、污水处理厂、第三方检测机构、科研、高校等领域的生化需氧量测定。 一、技术参数 测定项目：BOD *测定量程：0-4000mg/L(直接测量) 分辨率：0.01mg/L *采样点：≤60个/周期 测量原理：无汞压差法； 测定精度：±8% *数据存储：可存储10年检测数据 搅拌：程序控制、磁力搅拌 测量周期：1天--30天 测量数量：独立6组检测 培养瓶容积：580ml 培养温度：20±1℃ *电池寿命：≥2年 电源配置：AC220V±10%/50-60HZ 4.笔式电导率仪 型号：HAD-B12L 一、概述 HAD-B12L笔式电导率仪,是为在现场或野外操作而设计的可同时显示电导率值和温度值的便携笔式精密仪器。该仪器适用于自来水水源监测，水产养殖、环保、印染、电镀、饮料行业及科研单位对水质电导率的测定。 二、仪器主要技术性能 测量范围 电导率 0-5000us 解析度 电导率 1μs 精度 电导率 ± 2us +1%FS 电导率 校准 电导率 1413μs 一点校准 温度显示 0.1℃/℉ 工作温度 0～50℃（32～122℉） 温度自动补偿 0～50℃ 尺寸 Φ40*185mm 包括电极. 重量 88 g (包括电极). 5.小鼠测温仪 大鼠动物体温计 型号：HAD212 为测量动物体温、肛门温度制作的测温仪，可测量小白鼠、兔子等动物的体温；传感器可根据客户要求定制，适用于各大医院、高效等实验室。产品特点：1、内置液晶照明功能，以便在光线较暗处查看数据；2、全数字调校，可对零点误差，满度误差进行修正；3、8-15段拆线修正功能，可对传感器非线性误差进行修正；4、低功耗设计，整机工作电流仅为1mA；5、无操作自动休眠功能；6、传感器可互换，，误差小；7、低电量提醒功能；8、A/D转换器，分辨率可达0.1℃，精度可达±0.2%FS；主要技术参数：电 源： DC9V电池使用环境：-20~60°C 外形尺寸：130x66x24mm重 量：200g(不含传感器)测量范围：-30~50°C分 辨 率：0.1°C精 度：±0.2°C传感器规格：φ2x10mm导线长度：1.5m显示方式：5位宽温型液晶显示屏6.双通道微波功率计 型号:HAD-YM2498 三、HAD-YM2498微波功率计技术指标 频率范围 10MHz ~ 500GHz(视配置的功率传感器而定) 功率范围 -70dBm ~ +20dBm 零设置 ±0.1nW 显示分辨率 对数方式为0.001dB 50MHz/1mW 功率校准源 功率准确度±2% 温度范围 -10℃ ~ 55℃ 存贮温度 -40℃ ~ 70℃ 外形尺寸 330×260×105mm 重量 约3.5kg 四、HAD-YM8171功率传感器主要技术指标 型号 HAD-YM8171 频率范围 10MHz～18 GHz 功率范围 -57dBm～+20dBm(200nW~100mW) 最大功率 +23 dBm 功率线性度 -20dBm～+20dBm ±0.21dBm/10dB 其余±0.09dB/10dB VSWR 全频段小于或等于1.3 输入连接器形式 N(M) 温度范围 -10 ~ 55℃ 存贮温度 -40 ~ 70℃ 重量 约0.4kg 7.便携式原油含水测定仪 废油、煤焦油、原油含水率测试仪、 HAD-YY 技术支持：日本技术仪表，小型计算机控制。◆测定范围广：适用测量油罐、原油、机油、柴油、汽油、重油、煤焦油、废油等水份，测量范围为0～99.99％。◆轻便灵巧：约重250克，长约150mm，小巧玲珑，便于携带，适合现场快速测定分析。◆直观便捷：直接在大液晶屏幕数字显示。◆简单快捷：设置了种类修正，能保证仪器对油类含水率的准确测试。◆分体结构：探头与机体分开，方便测量。 技术参数：◆测定方式：高频电磁波感应式，高分辨率◆测量范围：0～99.99% ◆分 辨 率：0.01% ◆显 示：超大液晶屏显示◆种类修正：40个档位◆电 源： 1节9V电池◆尺 寸： 150×80×35（mm）◆重 量： 约250g◆探头长度：600mm、1000mm 8.在线氨水浓度检测仪 液体浓度仪 在线式氨水浓度 HAD-ASND 工作原理 液体浓度仪采用高能电磁波原理。由于不同介质对电磁波的吸收系数不同，当对样品施加高能电场时，因吸收的差异，会影响高能电场的相位和幅度，影响的程度与水分含量和浓度有关。通过测试高能电场的相位和幅度的变化，并经过智能变送器进行数模转换和相关的数据处理。以达到精确测量的目的。 适用范围 制药厂、酒厂、化工厂、建材等行业液体酒精浓度快速测试 生物制药业酒精浓度自动配比，酒精回收工艺环节测试 有机工业酒精，氨水，乙二醇等工艺过程连续监测化验室日常水分化验 矿业过程中矿浆，泥浆浓度监测 食品业浆体，乳化液水分化验监测产品特点： 动态范围大，能应用于0.1 到100%的范围 应用范围广，能应用于极性到非极性物质浓度测试 响应速度快，信号反应时间5s, 对仪器进行双温度补偿，精确度更高。 无蒸馏挥发气体的污染，无耗材费用，减少人为操作误差 探测结构方便连接调试 材料坚固耐用，不易结垢、粘附、堵塞 技术参数： 准确度: +/- 0.1%- +/- 1% 分辨率： 0.01% 量程： 0-30% 工作温度 (传感器): 0℃ to 60℃ 工作压力： 1.6MPa (标准) , 安装连接： 1. ZG1” (标准)，管螺纹插入式； 2. DN50法兰安装； 3. 卡盘方式安装 插入深度： 标配：150 mm 特殊要求可以定制。 重量： 2.5~4 kg 接触材料：聚四氟，304. 316,特殊要求可以订货 9.焊缝密性检验仪 真空箱 储罐检测罩 罐底焊缝真空检测盒 型号：HAD-500 以往对船体舱室焊缝密性的检验，采用传统方法是冲水、灌水、煤油和泵气。 煤油试验方法因受舱室结构、天气条件和试验时间长的影响，所以船检部门不同意使用；而灌水密性试验，又因受船台基面的承受荷载的限制和排注水时间过长而限制使用。目前造船行业均采用舱室泵气密性试验。采用这种方法固然有许多优点，但也有局限性，即进行泵气密性试验时．舱室前后上下都必须接通完整，故影响下道工序的涂装油漆及下水滑道板的安装。为此，采用密性真空罩，那怕是密性舱室未完整，随时随地都可以施行。这样一来，为船体涂装作业和下水装置的设置提供了超前条件，使生产管理工作具有更高的均衡性，船体坞修、局部外板调换的密性检查为简便。 密性真空罩试验所需条件 试验采用的液体：肥皂水溶液。 真空标准：-0.014a 当环境温度小于0度时，应对肥皂水溶液添加防冻液，并保证被检验的焊缝不结冰。 真空表，用以检测空气抽出的压力。 空气调节阀，用以调节空气压力。 可采用真空泵和空压机两种抽真空方式。 适用于焊缝检测，机械，无损检测，核电，造船………… 密封件属于易耗品，损坏可自行更换。 密性真空罩主要购成部件密性罩体均为10mm的透明有机玻璃（亚克力）胶合而成，罩体内设有加强板（亚克力），罩体下沿四周胶合整体软质进口海绵。罩体顶部装有真空压力表 （-0.1MPa-0MPa），变径抽气接头。便于携带的把手（铝合金）。 密性真空罩使用方法 先将待检的焊缝涂上肥皂水溶液，然后将真空罩固定在需检测的焊缝处，要求真空罩周界不能透气，然后通过空气排出器来吸取真空罩内部的空气，当真空罩内部的压力达到-0.014MPa 时，检验真空罩内焊缝上的肥皂水溶液变化情况，来确定焊缝质量，若焊缝表面的肥皂水溶液有气泡产生，说明焊缝有质量缺陷，反之，则焊缝质量没有问题。 密性真空罩试验注意事项 1.检测前检查空气压缩机或真空泵工作是否正常 发泡剂及其他相应工具是否齐全,工作区域光线不足时,必须配备照明工具 .2.试验前彻底清除焊缝及焊缝两侧50mm范围内的灰尘，沙土，油锈，焊渣，飞溅，焊瘤以及其他影响观察焊接区域泄露情况的物质。 3.相邻两段检测的焊缝，两次真空罩的重合距离应以消除可视死角为宜。 4.如果需检测部位的板材不平或焊角不平整，现场应用足够的人力将真空罩压住，通过密封软质海绵的弹性将真空罩与检测部位紧密接触，现场应经常检查真空罩上的软质海棉，发现海绵有断裂或变质应及时更新。 5.真空罩上的空气抽出端应配备压力表及空气调节阀，通过空气调节阀来调节气压，当真空测量表中的测量值达到真空标准时，记录此时的空气端压力表中的值，为下一次试验的空气抽出压力提供参考。 6.真空罩内的真空压力不能过大，若压力过大，焊缝缺陷无法通过肥皂水溶液（不能形成气泡）检测，因此现场应通过空气调节阀来控制，使真空罩内的真空压力缓慢达到标准值，从而避免真空罩内的真空压力过大情况的发生。 7.当真空罩内的真空压力达到规定值-0.014MPa时，待压力稳定后，才能进行检查工作。 8.在真空罩内的空气向外抽出过程中，如发现真空罩在焊肉处由于密封不好发生漏气现象，现场应重新涂肥皂水溶液，重新进行试验。 真空罩大小尺寸由于使用方位和地段的不同，故无法做出库存真空罩，尺寸由买家自行提供，若有特殊尺寸要求，可通过电话沟通解决。 10在线氯离子检测仪 在线氯离子测试仪在线式氯离子 HAD-LLZY 氯离子仪产品特点 校正和设定设置密码保护带背光大点阵LCD可在现场用按键设定技术参数高稳定性，高精度 可用于工业上离子及温度的测量超强抗干扰电路设计，可在强干扰现场安装使用断电后设定参数和校准资料不会丢失，具有手动设定/自动温补过程温度和校准温度，当温度电极损坏时由自动温补转换成手动温度补偿可在线校验测试数据多种输出方式(继电器、4.00….20.00mARS485)产品参数 ION 测量范围 0.00 …30000 ppm 分辨率 :0.01ppm，0.1ppm，1ppm 测量精度 ±0.01ppm ，±0.1ppm，±1ppm 电压输入范围 !0.0...1000.0mV 温度补偿 补偿范围 10.0..130.0℃ 分辨率 0.1℃ 测量精度 ±0.2 ℃ 温度传感器___ PT1000/NTC30K 温度补偿模式 自动/手动 电流信号 信号输出 4.….20 mA(可调) 输出_.- 电流精度__ ±0.05mA 负载 ，小于500Ω 继电器 负载能力 5A230VAC/5A30VDC 数据通讯 Rs485 支持MODBUS-RTU 工作电源_____ 90….265VAC_ 工作温度 -------0….70℃ -----防护等级_____ Ip65 其它 安装方法____- 表盘安装 外形尺寸(H*W*D)144*144*120 mm 开孔尺寸-138138mm 重量 0.85 kg 以上参数资料与图片相对应

n产品简介UNIXX HTp20型热板是一款手动桌面型烘焙系统，采用手动PID控制器和定时器开关可确保高的温度控制精度。用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺。 n产品特色÷ 加热板模块（最高可达 300°C）÷ 气动驱动支撑pin升降÷ 支撑pin材料：不锈钢，尖端采用 PEEK （最高 250°C）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 集成排烟装置÷ 热板盖手动控制÷ 集成1x PID 控制器，用于在高测量时进行温度控制÷ 集成1x 定时器开关 n技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (? 8”) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度区间: 最大可达 300°C*, 以 1°C 步进可调÷ 温度精度: 100°C 时 ±1°C÷ 提升销（一套）: ?50 mm (?2”) 最大可达 ?200 mm(?8”) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板表面: 由硬质阳极氧化铝制成÷ 加热板盖: 由微抛光不锈钢制成÷ 控制器单元: 1x PID控制器, 1x 时间开关÷ Pin顶部 采用PEEK 材料最高温度 250°C n可选项÷ 支撑pin材料÷ 边缘支撑pin÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆）÷ 烘焙距离可调模组÷ 真空泵

我公司为国内生产异辛烷产品服务商年销售异辛烷产品超过五千吨我们将为您提供优质的商品和满意的服务！2,2,4-三甲基戊烷，是一种有机化合物，化学式为C8H18，主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。理化性质熔点：-107.4º C沸点：98-99º C密度：0.691（20℃）闪点：4.5℃（OC）折射率：1.391（20℃）饱和蒸气压：5.1kPa（20º C）临界压力：2.57MPa引燃温度：417º C爆炸上限（V/V）：6.0%爆炸下限（V/V）：1.1%外观：无色透明液体溶解性：不溶于水，混溶于庚烷、丙酮，溶于乙醚、苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二硫化碳、四氯化碳等用途主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。储存方法储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜超过37℃，保持容器密封。应与氧化剂分开存放，切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。山东强森化工有限公司，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。公司是集研究、生产、加工、销售为一体的制品企业，工厂占地面积大，公司具有较强的自助研发能力，拥有多项国家发明专利超强的品质保障，专业生产，多年行业经验，出厂严格把关，公司与中国石化、齐鲁石化、东岳集团、内蒙远兴集团、兖矿集团、海力集团、金岭集团丶华鲁恒升、万华集团等大型上市公司建立了长期稳固的合作关系，能够为客户提供优质的产品和服务，在行业中树立了良好的商业信誉，赢得了国内外众多客户的信赖与支持。 公司发扬“诚信、专业、团结、拼搏”的企业精神，秉承“以信为本，以诚待人，以稳求实，优质服务”的经营理念，愿与各界朋友及客户精诚合作，共创辉煌。

上海那艾实验仪器设备[那艾仪器厂家]网站 全国送货厂家一手货! 品质保证!实验仪器非电子产品,使用效率和售后服务很重要。我们同品质比价格,同价格比效率,同效率比售后。设备仪器属于精密设备 客户订单录档案 免费1年质量保质,任何问题提供配件保养维护上海那艾仪器专注以实验仪器设计、研发,生产,销售为核心的仪器企业,目前销售生产有一体化蒸馏仪,中药二氧化硫蒸馏仪,COD消解仪,高氯COD消解仪,硫化物酸化吹气仪,全自动液液萃取仪,挥发油测定仪等等。全自动硫化物酸化吹气仪是我公司根据《HJ 1226-2021 水质硫化物的测定 亚甲基蓝分光光度法》“酸化-吹气-吸收”法量身定做的一款专门用于检测水中硫化物的前处理仪器。该仪器采用自动加酸、自动氮吹时间控制、酸化吸收等一体化设计，一次可处理1-6组样品。每个单元采用独立的转子流量计控制氮气流速；PID加热控温程序，自动升温至设定温度，缺水自动报警，自动补水；大屏幕液晶触摸屏操作等程序实现了对水质硫化物测定的智能预处理。适用标准HJ 1226—2021水质 硫化物的测定-亚甲基蓝分光光度法HJ/T 60-2000 水质硫化物的测定 碘量法HJ 833-2017 土壤和沉积物 硫化物的测定 亚甲蓝分光光度法（水浴）GB/T 11941-1989 水源水中硫化物卫生检验标准方法主要特征1、仪器机身采用框架一体式设计，稳固牢靠，主体采用1毫米厚度的品牌冷轧板配合静电粉末涂装，更加耐磨、耐腐蚀；2、从空开到触点，继电保护器到按钮开关等，选用正泰/德力西或同级别品牌电气，保证仪器品质和的使用寿命；3、PLC控制性能强劲稳定，7寸触控屏一键即达；创新采用平行横排布局方式，操作便捷直观；☆4、采用恒温内循环水浴加热方式，PID控温程序温差在±1℃，自动水位控制，自动补水，缺水自动报警；☆5、设计了加酸瓶塞摆放架，方便用户加酸时的瓶塞摆放，不易遗失，安全便捷；☆5、通过自动加酸模块，实现全自动闭环加酸进样，实验环节更加安全简单；☆6、主机设有可方便外接氮气源的专用接口，系统内设有过压保护系统；每一路都配置稳压阀，保证氮气流量稳定且节约氮气；7、每个样品的氮气流量独立控制，流速控制范围应在0.1-1L/min，符合国标范围；8、每路均内置氮气限流通断阀，可设定吹气时间，酸化完成氮气可自动切断，节约氮气保护样品；9、盐酸入口、气体进口、出口三口一体且相互独立，操作互不干扰；10、垂直加酸，加酸单元与反应瓶采用磨口垂直连接；加酸单元的调节旋钮采用聚四氟乙烯材质防止酸碱液体腐蚀；☆11、系统预设两种工作模式，可以满足水浴和非水浴运行状态；12、系统内自带说明书和服务中心二维码，手机扫码自动查看电子说明书和一键链接服务中心。产品参数型号NAI-LHW-6T控制系统PLC；7寸触控屏工作模式两种（水浴和非水浴）样品数量6通道设计，可一次性处理1-6个样品样品反应瓶规格500ml三口反应瓶加热方式循环水浴加热加热功率2000W控温范围室温~99.9℃控温精度实际水温与设计水温温差≤±1℃水浴控制水位自动控制，缺水自动补水，一键自动排空 加酸控制 可通过液晶触摸屏实现自动加酸进样氮气控制浮子流量计，流速范围0.1-1L/Min，可定时通断氮气保护有过压保护；每路独立限流通断阀节省氮气漏电保护功能有电源220V；50hz

主要特征：1、采用恒温水浴加热方式，加热均匀2、电动控制样品架和配气系统的升降(4S选配)3、旋转样品架，正面安装样品，操作简单4、每个样品的氮气流量独立控制调节或关闭5、针阀气体流量计准确控制和显示气体总消耗量6、采用不锈钢材料或特氟龙涂层，具有耐酸碱、抗腐蚀、耐高温的特点水质硫化物-酸化吹气仪是我院根据中华人民共和国标准研发生产的。满足样品前处理的需要。适用于地面水、地下水、生活污水和工业废水中硫化物的测定。该酸化吹气仪具有容易控制、操作简便、快捷等特点。方法原理水样中的硫化物经酸化，生成的硫化氢随载气（氨气）进入吸收瓶/吸收显色管中被吸收溶液（乙酸锌-乙酸钠溶液或2%氢氧化钠溶液）吸收，选择相应的分析方法对吸收瓶/吸收显色管中吸收的硫离子进行分析测定。注意事项：1、水质硫化物--酸化吹气仪使用AC220V，50HZ电源，并有良好接地。2、该仪器内部有电加热元件，仪器请远离易燃易爆物品。3、请在通风的环境中使用。4、打开电源前，须确认水浴锅内已经倒入蒸馏水、纯水、离子水。干烧会损坏加热元件。5、氮吹仪停用时请将样品架停在中间的任意位置，不要将样品架停在低或高的自动停止位置。背景技术：目前我国水质硫化物的测定一般是两种方法，一种是亚甲基蓝分光光度法，一种是碘量法，两种方法在实验过程中略有不同，但是所需的仪器大体相同。针对亚甲基蓝分光光度法，一般前处理的仪器需要反应瓶、加酸通氮管、直形冷凝管、吸收显色管、吸收显色内管、五孔小球、氮气流量计等，种类繁多，连接复杂，安装和固定不便，每套组合完成的仪器只能检测一个样品，仪器的一体化程度较低，不便于实验室快速检测。针对碘量法，一般的前处理仪器需要圆底反应瓶、加酸漏斗、多孔砂芯片、吸收瓶或碘量瓶、玻璃连接管、流量计、恒温水浴等，种类繁多，连接复杂，安装和固定不便，每套组合完成的仪器只能检测一个样品，仪器的一体化程度较低，不便于实验室快速检测。另外市面上还有一种仪器就是结合了这两种方法，将所用的各种部件集成到一起，功能上可以满足这两种方法。但是仪器功能冗余，成本昂贵，操作复杂，需要专业人员通过专门学习之后才可以正常使用，后期维护成本也相对较高，设计不合理，操作控制不便。传统仪器的主流量计设计于主机上，而分路的流量计则设计于支架杆顶部，气体从总流量计输出后，还需要再接一条管路至支架顶部的圆柱状分配系统，气体分配为一个玻璃件，一路进气，4路输出气，玻璃件易损，运输或日常维护很容易损坏，传统仪器的气体分配玻璃件没有专用的接口，传统仪器的支架为整体结构，不可拆卸，传统仪器放置显色管的支架只能放置10ml显色管。技术实现要素：为解决背景技术中提到传统吹气仪的缺陷，本实用新型展示了一种水质硫化物酸化吹气仪。为实现上述目的，现提供技术方案如下：如图1-4所述，一种水质硫化物酸化吹气仪，包括外壳、恒温水浴锅、样品支架，所述恒温水浴锅设置于外壳上部，所述恒温水浴锅内设置有加热管和温度传感器，所述恒温水浴锅的底部设置有连接和固定样品支架内杆的底座，样品支架内杆上设置有一个弹簧，样品支架外杆设置于弹簧上方；所述样品支架下方设置均布4个固定底座，4个反应瓶放置于底座上部；所述样品支架设置于恒温水浴锅中心，所述样品支架中部设置有压力调节机构，所述压力调节机构包括固定板、螺栓、螺母、弹簧、固定环，所述固定板与所述样品支架的连接杆固定连接，所述固定板以所述连接杆为中心均布有四个螺栓孔，所述螺栓穿过螺栓孔，所述螺母置于固定板上部与所述螺栓配合，所述弹簧置于所述固定板下部被螺栓贯穿，所述固定环的连接端穿过所述螺栓下部的孔并挡住弹簧脱落，所述固定环套在反应瓶的瓶口端，压力调节机构与支架外杆间设置有螺栓固定，可通过调节螺栓的紧固程度，从而上下调节和固定压力调节机构的位置；所述样品支架上部设置有显色管支架，显色管支架与支架外杆间设置有螺栓固定，可通过调节螺栓的紧固程度，从而上下调节和固定显色管支架的位置；所述显色管支架以所述连接杆为中心设置有两层共8个显色管支架孔，所述显色管支架孔内放置显色瓶；所述外壳正面设置有5个转子流量计、船型开关、温控器，5个所述转子流量计中1个总流量计的进气口和其余4个转子流量计的出口端设置于外壳的上部，所述船型开关与所述温控器、加热管、外壳内部设置的继电器电连接，所述温度传感

Lovibond® 德国罗威邦® 水质分析 Lovibond 罗威邦 甲基橙碱度快捷测试套装 Minikit罗威邦 甲基橙碱度快捷测试套装 Minikit 采用片剂计数法快捷测试水样甲基橙碱度，量程为 10-500 mg/l CaCO3。罗威邦 Minikit 快速测试系列适用于现场快速测试，针对不同参数化学特性采用片剂计数法、滴定法、定性判断法、浊度法。可测参数有碱度、酸度、硬度、氯离子、氰尿酸、亚硝酸、正磷酸盐、季铵盐、硫酸盐、亚硫酸盐、硫、丹宁指数等。订购信息量程20-500 mg/l CaCO3，10-250 mg/l CaCO3试剂类型片剂测试方法片剂计数法化学方法甲基橙碱度包装次数根据测试量程不同约 50-100次补充试剂515320BT100片515321BT250片使用方法确定水样：20 - 500 mg/l CaCO3 范围内水样取 50 ml，10 - 250 mg/l CaCO3 范围内水样取 100 ml。添加片剂直到黄色变成红色：向水样中加入一个片剂，摇晃至溶解，观察颜色，再加入一片溶解，直到水样由黄色变成红色。记住片数。计算碱度：50 ml 水样:总碱度 (mg/l CaCO3) = (片剂数 x 40) - 20100 ml 水样:总碱度(mg/l CaCO3) = (片剂数 x 20) - 10冲洗干净容器 标准配置塑料盒片剂试剂装水样的容器必须的附件操作指南

一、概述JT-108Y型药物残留检测仪，采用免疫胶体金检测技术，可应用于农药、瘦肉精，畜禽、水产品、牛奶、蛋、蜂蜜激素的快速检测。仪器利用高清CCD成像和人工智能算法，实现免疫胶体金定性数据定量化，避免肉眼判断造成的人为误差。 二、功能及技术1、采用高清CCD读取，自动扫描分析，自动区分无效卡和有效卡。对所有胶体金检测卡即插即读，无需自动或手动进样。2、10.1寸液晶触摸屏，安卓操作系统，简洁化操作界面，全面提升操作便捷性。带大容量数据保存功能，内置 SD卡扩展功能，保存数据可达百万条。3、检测直接快速，自动判断检测结果和显示浓度。4、仪器具有自动保存检测结果，胶体金检测图像及判断结果，并能随意查询保存的记录。5、仪器采用开放式平台设计，可实现功能自动升级和远程管理，内置操作视频做到即时学习。6、多种打印模式，带有不干胶宽版打印、热敏纸和A4纸打印自由选择，合格证打印带有追溯二维码，内容符合《全国试行食用农产品合格证制度实施方案》规定。7、带无线WiFi上网和RJ45网口，扩展3G、4G、5G通讯上网功能，以及GPS/AGPS定位。8、检测数据和农产品信息实时上传云平台，自动产生可追溯二维码，实现农产品检测、合格证打印和数据溯源一体。9、信息化建设为农业合作社实现快速低成本云平台建设服务，客户通过手机二维码扫描，详细展示农产品信息，使用单位形象展示，农产品广告宣传。实现产品广告投放和企业形象宣传。10、完整的数据链可实现数据溯源、数据管理、统计分析及第三方数据联网应用。11、检测通道：10个12、测量速度：＜1s13、检测输出：色度检测，CT比值检测，T线检测，C线检测等自动判断功能。14、通讯接口： USB 15、网络通讯： wifi、RJ4516、工作电源:220V17、检测项目检测范围检测项目畜禽、水产、蛋抗生素激素克伦特罗、沙丁胺醇、莱克多巴胺、唑酮、妥因、西林、它酮、孔雀石绿、氯霉素、五氯酚钠、磺胺、恩诺沙星、氧氟沙星、土霉素、喹诺酮、头孢氨苄、内酰胺类、四环素、硝基米唑（甲硝唑）、庆大、链霉素、甲氧卞胺嘧啶、喹乙醇、红霉素、青霉素、奎乙醇代谢物、林可霉素、新霉素、卡那霉素、泰乐菌素、替米考星、甲砜霉素、氟苯尼考等粮油饲料真菌毒素黄曲霉毒素B1\M1、赭曲毒素、伏马毒素、玉米赤霉烯酮、呕吐毒素、T2毒素等蜂蜜激素抗生素氯霉素、喹诺酮、磺胺、青霉素、四环素、链霉素、黄曲霉毒素B1、玉米赤霉烯酮、喹乙醇、T2毒素、呕吐毒素等火锅底料罂粟壳、喹诺酮等牛奶三聚氰胺、内酰胺类抗生素、四环素、氯霉素、金霉素、土霉素、黄曲霉毒素M1、喹诺酮、磺胺、青霉素、庆大霉素、卡那霉素、羊奶掺假、林可霉素、新霉素、大观霉素、替米考星、红霉素、链霉素、甲氧苄氨嘧啶、头孢氨苄、泰乐菌素、地塞米松等农药残留毒死蜱 、克百威 、啶虫脒 、氧乐果 、腐霉利 、烯酰吗啉、多菌灵、 百菌清 、甲基对硫磷、 甲萘威 、乙草胺 、百草枯 、甲草胺 、除草定、 甲氰菊酯、阿维菌素 、涕灭威 、异丙威 、噻菌灵 、氟虫睛 、水胺硫磷 、联苯菊酯、甲基异硫磷 、氯吡脲、多效唑、氯噻啉 、苯噻菌酯 、噻虫啉 甲霜灵 、对硫磷 、辛硫磷 、三唑磷 、三唑酮 、4-氯苯氧乙酸 、6-苄基腺嘌呤 、倍硫磷、甲基毒死蜱 、杀螟硫磷 、异菌脲 、嘧菌酯 、氰戊菊酯、溴氰菊酯、氟苯脲、高效氯氟氰菊酯 、二甲戊灵、嘧霉胺、灭蝇胺、赤霉素 、氟节胺、霜霉威、DDT 重金属铅、镉