牛津郡硫丙磷

有了在刻蚀工艺发展上无比广泛的经验和我们应用工程师的支持， 牛津仪器向世界范围内的生产商和研发者提供刻蚀工艺解决方案的经验向我们提供了强大的刻蚀工艺库和刻蚀工艺能力。请与我们联系，讨论您的特定需求，我们专业的销售和应用工作人员将很高兴帮助您选择合适的刻蚀工艺和工具，以满足您的需求。请点击以下产品名，查看产品详细信息，谢谢化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN&mdash 刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP&mdash 感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs&mdash 刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb&mdash 刻蚀锑化镓刻蚀GaN&mdash 刻蚀氮化镓刻蚀InSb&mdash 刻蚀锑化铟刻蚀InP/InGaAsP&mdash 刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀InGaAlP&mdash 刻蚀铝镓铟磷刻蚀InP&mdash 刻蚀磷化铟刻蚀InAlAs&mdash 刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/InGaAsP&mdash 刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀ZnSe&mdash 反应离子刻蚀硒化锌电介质刻蚀(Ta2O5)&mdash 五氧化二钽刻蚀Al2O3&mdash 刻蚀氧化铝&mdash 感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石GST刻蚀- 锗锑碲化物的ICP刻蚀技术感应耦合等离子体刻蚀Bi2Te3&mdash 刻蚀碲化铋反应离子刻蚀ITO&mdash 刻蚀铟锡氧化物干法刻蚀LiNbO3&mdash 刻蚀铌酸锂干法刻蚀LiTaO3&mdash 刻蚀钽酸锂刻蚀PZT&mdash 刻蚀锆钛酸铅刻蚀PbSe&mdash 刻蚀硒化铅刻蚀SiC&mdash 刻蚀碳化硅 金属刻蚀Al&mdash 感应耦合等离子体刻蚀铝溅射刻蚀Au&mdash 溅射刻蚀金刻蚀Cr&mdash 刻蚀铬Cu刻蚀（反应离子刻蚀）&mdash 刻蚀铜刻蚀Mo&mdash 刻蚀钼刻蚀Nb（反应离子刻蚀，感应耦合等离子体）&mdash 刻蚀铌刻蚀Ni&mdash 刻蚀镍离子束刻蚀Ni&mdash 刻蚀镍铬合金溅射刻蚀Pt&mdash 溅射刻蚀铂刻蚀Ti&mdash 超大刻蚀深度刻蚀Ta&mdash 刻蚀钽刻蚀W&mdash 刻蚀钨TiN的各向异性刻蚀&mdash 刻蚀氮化钛WSi刻蚀&mdash 硅化钨刻蚀有机物刻蚀PMMA&mdash 刻蚀聚甲基丙烯酸甲酯感应耦合等离子体刻蚀BCB&mdash 刻蚀苯并环丁烯刻蚀金刚石&mdash 金刚石的刻蚀刻蚀聚酰亚胺&mdash 聚酰亚胺的刻蚀聚二甲基硅氧烷(PDMS)刻蚀刻蚀PR&mdash 刻蚀光刻胶硅烷化光刻胶的干法显影（感应耦合等离子体-反应离子刻蚀）&mdash 硅烷化光刻胶硅博施刻蚀Si&mdash 博施刻蚀硅低温刻蚀Si&mdash 低温刻蚀硅混合刻蚀Si&mdash 八氟环丁烷-六氟化硫刻蚀硅HBr刻蚀Si&mdash 溴化氢刻蚀硅各向同性刻蚀Si&mdash 硅的各向同性刻蚀刻蚀SiGe&mdash &mdash 刻蚀锗硅绝缘层上的硅(SOI)的多层刻蚀

世界知名科研级相机和光谱仪制造商牛津仪器Andor正式发布了全新超灵敏Zyla 4.2 PLUS 科研级CMOS（sCMOS）相机。这款相机拥有一代QE增强型sCMOS传感器技术与业内优越的帧频性能，99.8%的定量线性和全新特殊应用模式。 该款相机提供宽泛的sCMOS量子效率（QE），QE最高达82%，适用于各种常用的荧光基团，Zyla 4.2 PLUS通过USB3.0连接界面，可在全分辨率下经独特的速度优化在53fps环境下连续采集，比竞争对手的sCMOS相机快77%。新的机载智能进行了重要的线性改进，在整个动态范围内提供精确的定量测量。 该款高分辨率420万兆像素相机提供的QE性能比之前黄金标准的sCMOS传感器更高出10%，结合 1 e-读出噪声和33,000:1动态范围，整合依托于轻便紧凑弱振动设计，适用于科研和OEM。Zyla 4.2 PLUS也包含特殊应用模式，如激光片层扫描显微成像和线扫描共聚焦模式。荧光相关光谱（FCS）模式提供行业前沿的采集速度，在ROI选取2048(h) x 8(v)时，高达26,041 fps，与荧光相关光谱的时序要求完美匹配。 牛津仪器Andor成像产品经理Colin Coates博士评价道：“QE增强型Zyla 4.2 PLUS在我们的sCMOS系列中是一项可喜的进步，这直接得益于微透镜设计改进。辅以超常的USB 3.0帧率，卓越的信噪比可使曝光更短。灵敏度的改善还可减少光毒性和光漂白。虽然sCMOS相机的灵敏度在极弱光应用如单分子生物物理学方面不如高端EMCCD相机，但其主要参数与同价位的隔行式CCD相比，仍然性能卓越，可用于活细胞成像，激光片层扫描显微成像，离子信号，超分辨率显微成像和荧光相关光谱。Zyla 4.2 PLUS是行业技术的一大进步，将获得追求前沿科技sCMOS灵敏度和速度的用户的强烈认同。” 牛津仪器将继续以支持中国科学研究发展为己任，为中国广大科研人员提供高性能、高可靠性的Andor相关设备；同时牛津仪器的服务团队也可以为用户提供系列服务套餐，包括配件和耗材、延保合同、产品培训、服务维修和技术支持。

Symmetry S3 电子背散射衍射（EBSD）探测器是全能型 Symmetry 产品系列中的第三代探测器。S3将高速分析（ 5700 个花样每秒（pps））与百万像素相结合，确保更加优异的性能，满足各领域内科研的需要。 Symmetry S3 是一款各种类型的样品均能得到出色结果的全能型EBSD 探测器。无透镜光纤耦合相机系统，可在所有分析条件下，实现出色的灵敏度，从束流敏感材料的分析到常规样品的高速表征。高像素分辨率与有保证的亚像素花样失真水平相结合，使 S3 成为应变深入分析和高精度 EBSD 工作的理想选择，而软件控制的探测器倾转功能，确保了对每种尺寸和形状的样品，都能在优化的几何位置进行采集。 Symmetry S3探测器外观 直播回顾——答疑篇 牛津仪器于2022年9月8日，已经正式发布了Symmetry S3、C+系列 CMOS 探测器，以及花样匹配标定技术 MapSweeper。对于新品发布期间大家的提问，做出以下解答： 1 牛津CMOS EBSD的主要升级 Symmetry S3：最快速度从4500花样/秒升级到了5700花样/秒，此时花样分辨率可达156x128像素。其最大像素可达1244*1024。 C-Swift+：最快速度翻倍，从1000花样/秒升级到了2000花样/秒，适合大部分常规样品快速测试。 C-Nano+：最快速度从400花样/秒升级到了600花样/秒，适合常规样品及高分辨应用。 2 晶粒度的测量 随着 Symmetry S3 速度的提升，晶粒度的测量速度越来越快，已经可以在1分钟内完成采集。按照国标、国际标准或美标，如果要得到有意义的晶粒度的数值，需要统计至少500个晶粒，且晶粒平均包含至少100个像素。 双相钢样品，EBSD 数据采集36秒，共采集到2352个晶粒，ASTM晶粒度：12.6 3 MapSweeper 功能 MapSweeper 是 AZtecCrystal 数据分析软件中的一个高级功能，可以单独购买升级。它主要利用花样匹配技术，对 EBSD 数据进行更精准的标定分析，能提高数据质量、甚至分析常规方法无法标定的花样。它需要用户在采集 EBSD 数据时，保存花样，然后导出至 AZtecCrystal 进行后处理分析。整个软件界面风格非常直观，采用 AZtec 软件一贯的风格，导航栏式的操作，非常容易掌握。对普通用户来讲，不需要了解花样匹配标定技术背后复杂的算法和数学公式，就可以直接使用花样匹配技术来解决应用问题，非常方便。 AZtecCrystal 软件的 MapSweeper 操作界面 4 MapSweeper 花样匹配的准确度 首先，MapSweeper 可以通过动力学方法模拟晶体的衍射花样，能准确模拟每条衍射带的强度分布，相比传统的花样模拟更真实。其次，通过花样匹配，MapSweeper总能在所有备选晶体结构中找到最佳的匹配花样，从而标定出相和取向。 MapSweeper 的精度很高，特别适合结构相似相的区分。常规基于霍夫变换的标定方法，只考虑了衍射带的强度、宽度、夹角等参数；而 MapSweeper 是全花样匹配，不仅考虑了低指数的衍射带，其他所有位置的衍射强度都会影响整个花样的匹配，因此在区分结构相似相时，考虑的因素更全面，更容易准确区分结构相似相。 利用 MapSweeper，有效改善了铁氧化物相似相的区分 5 MapSweeper 中表征花样匹配程度的R值 R值表示了实验花样和模拟花样之前匹配程度，值越高，代表匹配越好，其取值范围为。一般来讲，花样匹配较好时，R值大于0.25；R值低于0.1，则认为匹配太差而不可接受（零解）。R的定义，与经典的图像处理中，衡量两幅图像之间的相似程度的互相关系数（Cross-Correlation Coefficient）是一致的，只是在MapSweeper 中，将R值归一化到了。 Cu 的实验花样、模拟花样及两者之差，整个花样匹配度R值为0.8094

储存杜瓦型牛津湿式制冷机Optistat 储存杜瓦型主要技术参数： 型号 OptistatDN OptistatDN-V77.2 – 300 K 77.2 – 300 K样品温度范围 7 7 . 2 ? 500 K（配蓝宝 77.2 ? 500 K（配蓝宝 石窗片） 石窗片）温度稳定性 ± 0.1 K ± 0.1 K样品空间 20 毫米直径 20 毫米直径样品架尺寸 19 毫米宽 x 30 毫米长 20 毫米宽 x 50 毫米长样品空间类型 交换气 真空样品更换时间 5 分钟 60 分钟制冷到 77K 时间 20 分钟 20 分钟液氮存储量 1.2L 1.2L在 77K 的保持时间 15 小时 15 小时光学通路 f/1 f/1重量 5 千克 5 千克储存杜瓦型牛津湿式制冷机Optistat典型设置：牛津仪器具有60年的设计制造低温系统的经验，这些低温系统广泛运用于科学研究、高真空、半导体和医学等应用领域。牛津仪器纳米科学部专注于生产制造低温系统，包括稀释制冷机、He-3系统、超导磁体、光谱学低温恒温器以及低温零配件等。先锋科技&北京卓立汉光与牛津仪器此次合作，在多年耕耘的荧光/拉曼等光谱产品基础上引入低温光学恒温器产品，旨在为国内客户提供低温光学测量的系统解决方案，以及更顺畅的服务体验。

一、型号：MQC二、产品介绍：台式核磁共振（小核磁）以其操作简单、测试精度高、对环境要求低而受到工业用户的喜欢，台式台式核磁共振（小核磁）有以下应用领域：1. 食品行业，如固体脂肪含量、巧克力中脂肪含量、休闲食品中的含油率等；2. 石化行业，如聚丙烯等规度、聚丙烯二甲苯可溶物、聚丙烯共聚物二甲苯含量以及共聚物中橡胶含量；3. 化纤行业，如各种不同纤维上的含油率；4. 油料种子行业，可以对油料种子的育种选种。Oxford集30多年的台式核磁共振制造的经验，精心打造了结构精巧，获得了工业设计奖。Oxford非常了解实验室仪器最重要的要求：体积、可靠性以及使用方便，MQC均能满足上述要求。三、产品特点：1. 系列的台式核磁共振仪（小核磁）有如下特点：1）电脑程控全自动检测；2）探头灵敏度高、死时间短；3）检测、维护无任何消耗品；4）检测时间只需数十秒至几分钟；5）无污染，对人体和环境完全无害；6）可进行远程诊断、调试；7）标准WINDOWS界面，友好直观。2. 台式核磁共振仪相对于常规的化学分析方法而言，有如下特点：1）分析迅速，可以增加检测的频度，大大提高了工作效率；2）直接测量，无需处理或作简单处理；3）整体样品分析，无表面效应，无颜色效应；4）样品分析无损无伤，可进行重复测量；5）方法成熟，定标过程和模型简单，结果准确可靠；6）良好的重复性，保证测量精度；7）操作简单规范，结果不受操作人员的影响，稳定性好；8）环保、无毒、无副作用，节约了大量的试剂，减少了废旧试剂的处理费用；9）系统稳定，适应各种操作环境；10）经济效益显著。四、产品概述：1. 体积：台式仪器的空间是最重要的，Oxford开发的MQC占用尽量少的空间。MQC仪器内安装了新型的、体积更小的磁体，MQC不需要额外的PC机来控制仪器，所有的仪器控制和数据处理硬件均安装在仪器内，仪器内包括硬盘以及相应的软件。磁体单元和电子单元分别放置在两个独立的机箱中，因此电子单元可以放在地板上、或桌子下、甚至放在架子上以节省空间。LCD显示器可以独立放置，甚至可以安装在磁体单元的背面以最大限度地节约空间。2. 使用方便－－硬件：MQC采用改进的数字化电路，采用Windows PC机母板，采用Linux操作系统来控制仪器。这种难得的配合确保了用户得到高性能、空间小的优势外，还保留了仪器以后的扩展能力。尽管MQC的磁体单元的体积很小，但是磁体却具有较大的空间，探头的样品管体积较大，可以放置更多的样品，同时具有最大的磁场强度，这样的设计保证了MQC在同档次的仪器中有最高的灵敏度。为了更高的灵敏度，将MQA系列的专业技术动态探头（HiQ）技术移置过来。所有的MQC型号均可更换探头，以便不同的应用采用不同的探头。用户自己更换探头是很方便的，是几分钟的事情，另外所有的探头都是直通的，这样一旦探头被样品污染，探头的清洗也是非常方便的。不同的探头状态，显示不同的颜色，用户很容易从颜色上来判断下一步的操作，这对用户来说是非常简单的操作。3. 使用方便－－软件：绝大多数的用户都比较熟悉PC机控制的仪器，因此，虽然MQC有一个内置的PC机母板来节省空间，用户软件界面仍然是基于Windows的软件，外接一个LCD液晶显示器以及一个标准PC键盘，USB接口允许用户进行数据的保存；在必要的时候，MQC可以与局域网连接，将数据文件或测试结果传输到远程计算机上。大部分的MQC仪器在出厂前已安装了完整的MultiQuant，EasyCal以及RINMR等配套软件，这些软件都是大家熟悉的Windows风格，使用非常方便。用户按照这些软件的提示可以引导用户一步一步地建立工作曲线达到专家的效果，另外用户可以选择不同的软件语言。

扫描电容显微镜（SCM）是一种表征材料纳米电学性质的原子力显微镜（AFM）成像技术，它使用微波射频（RF）信号来探测半导体和其它种类样品中的电荷，载流子的位置，掺杂水平和掺杂类型（p型和n型）等。全新快速扫描电容显微镜 SCM可以在牛津仪器的 Asylum Research 的快速扫描 Cypher 和 Jupiter XR AFM 平台上使用。牛津仪器Asylum Research SCM模式的独特之处在于，它不仅可以测量微分电容（dC/dV），还可以测量分辨率低至1aF的电容，而且是可以直接测量电容。与传统的SCM相比，它具有更高的分辨率和更快的扫描速度。更高的灵敏度允许探测金属和绝缘体，以及传统半导体器件以外的非线性材料——包括那些不形成自然氧化物层的材料。图1 静态随机存储 （SRAM） 样品。所有通道同时获得了29μm扫描区域：a：形貌；b：dC/dV振幅（与掺杂浓度成反比）；c：dC/dV相位（蓝色表示p型掺杂，红色表示n型掺杂）；d：电容（与掺杂浓度有线性关系）；电容，而不仅仅是dC/dV传统的SCM模式只能提供微分电容（dC/dV）数据，这大大限制了用户从测量数据中得出的结论。牛津仪器Asylum Research全新设计的SCM模式具有独特的能力，可以提供dC/dV和电容数据，因此可以获得更完整的材料表征。电容通道对掺杂水平提供线性响应，并检测电容的变化，分辨率可达1 aF。全新的SCM模式是一个强大的工具，可以用于材料的纳米电子特性描述。更快的成像牛津仪器Asylum Research全新的高带宽SCM电路允许以高达26 Hz的扫描频率采集高质量的dC/dV和电容数据。传统的SCM模式的带宽要低得多，并且在扫描速率为1 Hz时数据质量明显退化。全新的SCM模式在高达26Hz的扫描频率下几乎没有信息丢失。这种更快的成像改进了用户体验并大大提高了工作效率。不同扫描速度比较的SRAM样品。微分电容（dC/dV）振幅图像给出了相同的5μm区域内扫描率从1 Hz到26 Hz的结果。以最快的速度数据质量几乎保持不变，但是图像只需要1秒就可以获得，而传统的SCM需要5-10分钟。图2 微分电容（dC/dV）振幅图像更高的分辨率牛津仪器Asylum Research全新设计的SCM模式显示出更高的灵敏度，因此可以获得更高的分辨率的图像。以前被认为使用SCM模式由于信号弱难以图像的样品，现在可以常规地获得图像。右侧图中，采用全新的SCM模式对单壁碳纳米管（CNT）进行成像，横向分辨率约为25 nm。图3 绝缘基板上碳纳米管的电容数据与3D形貌叠加图样品是绝缘基板上的碳纳米管。电容数据叠加在3D形貌图上。图像范围2 μm。样品由Harvard Center for Nanoscale Systems的 B.Wilson和J.Tresback提供。二维材料研究SCM在表征二维材料独特物理和电子特性有着广泛的应用前景。右边的图像是沉积在硅上的CulnS，电容信号与剥离材料厚度的具有很高的相关性，因此利用SCM模式分辨二维材料层厚度具有良好的潜力。图4 CulnS沉积在硅上的电容数据和3D形貌叠加图样品CulnS沉积在硅上，电容数据叠加在在3D形貌图上，扫描范围20μm，样品由Northwestern的University M. Cheng和V. Dravid教授提供。电池材料研究能量存储是SCM可以提供重要信息的另一个研究领域。右图中给出了一个电池的测试电极，在电容通道中可以观察到明显的对比。单个晶粒和晶界处的电容信号的变化为了解电子传导提供了依据。这些数据可以与导电AFM和电学应变显微镜相关联，以进一步了解结构和功能特性。图5 测试电池的电极，扫描范围30μm。a：形貌图；b：电容图；技术指标

牛津仪器的5000系列侧窗X射线管广受欢迎且经久耐用。5000系列的电子枪组件封装在内置铅层的不锈钢外壳中，且法兰规格可选择，目前已广泛应用于工业领域。外壳内填充了牛津仪器专用的冷却油，可以将散热效果尽可能地优化。技术参数：最大阳极电流1.0 mA最大阳极电压50 kV最大功率50 W连续灯丝标称电压2.0V @ 50 kV, 1 mA灯丝最大电流1.7 A稳定性4小时之后0.2%焦点尺寸(标称*)110μm阳极材料W, Mo, Rh(其他材料可选)铍窗厚度125μm(另75μm、250μm可选)重量(约)4磅(1816g)散热方法压缩空气@150 CFM发散角25°

The innovative USB 3.0 iStar sCMOS boasts frame rates at least 50% faster than competing CCD or interline platforms (at equivalent pixel matrix size), while offering intrinsically low noise floor. A better signal-to-noise ratio can be achieved with lower intensifier amplification gain, yielding market-leading dynamic range performance. It also features ‘dual-frame’ capabilities for Particle Image Velocimetry (PIV) with optical inter-frame as low as 300 ns. 产品名称：牛津仪器ANDOR iStar门控探测器产地：英国特点及参数：整合先进的CCD & sCMOS芯片以及像增强器技术全新iStar sCMOS超快帧速可达4,000 fps低噪声，高灵敏度简单易用，高度兼容小于2ns的高精度门控高效的全幅动态范围

产品详情牛津Oxford离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE 离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。。多模式功能。能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成。单晶圆传送模式或集群式晶圆操作。双束流配置。更低的表面薄膜粗糙度。更佳的批次均匀性和工艺重复性。准确终点监测 —— SIMS，发射光 产品特点: 质量薄膜高 ——超低污染 产量高，紧凑的系统体积设计 ——运行成本低 已获得专利的高速衬底架（高达1000RPM）设计，并配备了白光光学监视器（WLOM）——更为准确的实时光学薄膜控制 配置灵活 ——适于先进的研究应用 灵活的晶圆操作方式 —— 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式 应用: 磁阻式随机存取存储器（MRAM） 介电薄膜 III-V族光电子材料刻蚀 自旋电子学 金属电极和轨道 超导体 激光端面镀膜 高反射（HR）膜 防反射（AR）膜 环形激光陀螺反射镜 X射线光学系统 红外（IR）传感器 II-VI族材料 通信滤波器

牛津仪器Andor正式发布了我们全新的增强型iKon-M背照式CCD相机，此产品具有很高的动态范围和低噪音。该相机采用了优化的24μm 512x512像元芯片组，此相机像元具有很高的像素井深容量和光子搜集效率。此超高灵敏度的相机有95%以上的量子效率，3 e-的读出噪声，以及300,000 e-的像素井深。iKon-M的暗电流几乎可以忽略不计，这主要受益于业内前沿的真空制冷技术，可以制冷到-100度，即使在非常弱的信号下仍可进行长时间工作。增强后的相机设计提供多种读出速度，从50kHz到5MHz, 5MHz的读出速度适用于超高帧速或者调焦测试实验。牛津仪器Andor Technology成像产品经理，Colin Coates博士说：“iKon-M是一款有非常高井深容量的相机，同时还具有低噪声，高量子效率，并且每个像元都具有高光子搜集能力，以上性能保证相机具有很高的动态范围。因此，此款相机可以应用在很多实验中，包括：天文，荧光成像，布鲁斯特角显微镜，光子发射显微镜等。”牛津仪器将继续以支持中国科学研究发展为己任，为中国广大科研人员提供高性能、高可靠性的Andor相关设备；同时牛津仪器的服务团队也可以为用户提供系列服务套餐，包括配件和耗材、延保合同、产品培训、服务维修和技术支持。 iKon-M 934Andor’s iKon-M 934 low noise CCD camera series are designed to offer the ultimate in high-sensitivity, low noise performance, ideal for demanding imaging applications. These high resolution 1024 x 1024 CCD cameras boast up to 95% QEmax, high dynamic range, and 13μm pixels.100 °C UltraVac™ TE CoolingUp to 95% QE and extra-low noise floor5 MHz readout for dynamic performanceSensor formats up to 1MegaPixel‘Deep depletion’near-IR version availableDedicated photovoltaic inspection model availableiKon-M 912Andor’s iKon-M 912 cooled back-illuminated CCD camera is designed to offer the ultimate in high dynamic range, low noise performance. The 512 x 512 CCD array with 24 μm pixels has been optimized for extremely high well depth and maximum photon collection per pixel.300,000 e- well depthTE cooling to -100°CQE max 90 °C from back-illuminated sensorUltra low noise readoutMulti-Megahertz pixel readoutUltraVac™

产品详情牛津Oxford深硅刻蚀机PlasmaPro 100 Estrelas PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻（DSiE）领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统（MEMS）、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展，PlasmaPro 100 Estrelas 提供了更加出色的工艺灵活性。。光滑侧壁工艺。高刻蚀速率腔刻蚀。高深宽比工艺。锥形通孔刻蚀。广泛的应用领域。机械或静电压盘。加热内衬 。改善重复性。延长了两次清洗间的平均时间间隔（MTBC） 概述:PlasmaPro 100 Estrelas平台旨在确保覆盖MEMS，先进封装和纳米技术的广泛应用，从光滑侧壁工艺到高刻蚀速率腔刻蚀、高深宽比工艺和锥形通孔刻蚀，不需要更换腔室硬件就可以实现。 特征:硬件设计使同一腔室中可进行Bosch™ 和超低温刻蚀工艺，使得纳米和微米结构刻蚀均可实现。兼容50mm至200mm的衬底 - 确保您只需一台系统，便具备从研发器件到量产的能力自动匹配 - 拥有工艺灵活性更高流量的质量流量计以及等离子发生器 - 自由基密度更高减小的腔体尺寸和高效率的泵 - 确保气体高速流通快速近距离耦合质量流量计 - 快速控制（初始为ALD而开发） 应用: 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺 二氧化硅和石英刻蚀

武汉中科牛津波谱技术有限公司是国内唯一从事超导核磁共振波谱仪研发、生产和服务的高新技术企业。企业依托于中国科学院武汉物理与数学研究所强大的学科背景、科研能力以及牛津仪器世界领先的技术力量，以促进和发展我国磁共振技术、应用与产业化为己任，为用户提供谱仪、附件、消耗品等一站式解决方案。 英国牛津仪器公司技术超导磁体：磁体主动屏蔽；磁场稳定均匀；低液氦消耗。 自主知识产权控制台：基于网络的分布式系统设计，多通道，可扩展；数字中频采样，提高了仪器的稳定性；CAN总线控制，提高了系统可靠性和集成度。 自主研发生产探头：瑞士子公司QOneTec研制；宽带多核探头（手动与自动调谐）；灵敏度高，13C灵敏度增强；支持探头定制，能兼容不同厂家磁体（400-600MHz）。 谱仪控制及数据处理软件：可与主流软件数据交互；具备Linux和Windows系统垮平台运行能力；拥有80余种成熟的脉冲序列；支持图形、文本编辑；简洁、高效、免费。 液面计、自动进样器附属配件精良齐全，产品服务快捷精湛。

Proteox 稀释制冷机关键特征：多用户多实验集成一体直流引线、高频同轴线、低温电子器件和样品都可完全集成到多个二级插件上，方便根据不同的使用需求装卸、修改和替换。 高通量接口通过丰富的直通通道接入实现了高输入/输出接口的能力。二级插件最多同时支持2个ISO100的通道，另外主体还支持最多2个KF40和2个KF25端口。 宽阔的实验空间直径达360毫米大尺寸混合室冷盘，结合垂直空间的增加，提供了一个更大的实验空间。冷盘间热导率可控牛津仪器专利设计的气隙热开关系统可主动控制各冷盘间的热导率。 可靠性和便利性全新的气体处理系统通过自动旁路系统提供更可靠和更长的维护周期。 磁体选件稀释制冷机和超导磁体均由牛津仪器设计、制造和服务支持。统一的软件控制和数据记录，为用户提供完全集成的系统。 可集成快速换样牛津仪器专利设计底部快速传样装置可直接安装在二级插件上，从而实现快速换样与超导磁体的耦合。 简洁、强大的软件基于网络的跨平台控制软件，可用于直观简单的系统控制和强大的系统日志可视化。

Pulsar台式高分辨NMR谱仪是Oxford【牛津仪器】最新研发的高分辨永磁体NMR谱仪，采用特殊结构永磁体作为磁体，共振频率为60MHz【磁场强度为1.4T】，有如下优点： 1. 运行费用：永久磁体，不需液氮和液氦，也不需要压缩空气，运行费用低；2. 分辨率：仪器自身带20组匀场线圈，分辨率能达到超导磁体200MHz的仪器的水平，分辨率0.5Hz【0.0083ppm】；3. 5mm样品管，采用氘代试剂作为溶剂，作为超导NMR谱仪的补充；4. 灵敏度：1%乙基苯，单次扫描，2.6ppm处的信噪比为100:1；5. 仪器操作简单、维护方便，仅需通电即可。 应用范围： 1. 高等学校、研究所有机合成、聚合物的合成，产物的表征；2. 大学本科生论文、硕士研究生论文，合成产物的表征；3. 药物合成、药物中间体的表征；4. 可以作为高场超导NMR谱仪的补充，采用与高场NMR谱仪一样的5mm样品管以及氘代试剂；5. 工业领域石化、石油QA/QC。 相关应用

科学级相机和光谱仪制造商牛津仪器Andor Technology，正式发布全新iKon-XL大靶面CCD相机，iKon-XL相机采用独特的“ColdSpace”技术可以将背照式16.8M超大靶面，背照式CCD芯片（e2v）制冷到-100℃，无需液氮或者制冷机。iKon-XL可应用于系外行星搜寻，大尺度巡天，测光，天文光谱，空间碎片追踪，是理想的天文观测相机。此外，iKon-XL相机平台具有创新性的宽动态范围技术，采用高达18bit的A/D，在一次读出中即得到最低的读出噪声和最大的满井容量。其标配USB3.0或远距离光纤接口，连接方式灵活。成像信息可以选择通过单通道或者四通道读出，四通道读出的稳定性得益与其特殊的电路设计和均衡的图像象限平衡。此次发布的这台高灵敏度相机平台使用来自e2v的两款芯片：CCD231-84和CCD230-80， 具有高达95%的量子效率，NIR增强的深耗尽芯片，低至2e-的读出噪声，高达350Ke-满井容量。-100℃制冷温度保证了低于黄道光背景的极低暗电流，可以满足对弱信号的长时间曝光拍摄。牛津仪器Andor成像产品经理Colin Coates博士评价道：“iKon-XL是一款性能优越，设计成熟的‘一站式服务’探测器，该款相机很少需要维护，使用寿命很长，将置于全球观察站并通过远程操控使用。即使在严苛的观测环境下，也可以将此产品视作理想的“现成”解决方案。牛津仪器将继续以支持中国科学研究发展为己任，为中国广大科研人员提供高性能、高可靠性的Andor相关设备；同时牛津仪器的服务团队也可以为用户提供系列服务套餐，包括配件和耗材、延保合同、产品培训、服务维修和技术支持。iKon-XL 231Andor’s NEW iKon-XL is a TE-cooled, very large area CCD camera platform, accommodating big field of view sensors that are ideally suited to long exposure astronomy applications. Patent-pending ColdSpace™ technology thermoelectrically cools a back-illuminated 16.8 Megapixel sensor (e2v) down to -100 °C, avoiding the requirement for liquid nitrogen or unreliable cryo coolers. Extended Dynamic Range technology is complemented by up to 18-bit digitization capability.The iKon-XL 231 model uses the e2v CCD231-84 ‘astro’ back-illuminated sensor, combining exceptionally low read noise of 2.1 e- with a very large well depth of 350,000 e- and available with a range of sensor QE coatings, in both standard and deep depletion formats.– 100 °C TE cooled large area sensorsNO liquid nitrogen, NO cryo-coolerExtended Dynamic Range (18-bit)e2v CCD231-84 sensor (deep depletion available)iKon-XL 230Andor’s NEW iKon-XL is a TE-cooled, very large area CCD camera platform, accommodating big field of view sensors that are ideally suited to long exposure astronomy applications. Patent-pending ColdSpace™ technology thermoelectrically cools a back-illuminated 16.8 Megapixel sensor (e2v) down to -100 °C, avoiding the requirement for liquid nitrogen or unreliable cryo coolers. The iKon-XL 230 model uses the e2v CCD230-84 back-illuminated sensor, offering a very large 61.4 x 61.4 mm imaging area from a 4096 x 4096 array format and 15 μm pixel size, ideal for applications such as Astronomy or X-ray/Neutron radiography.– 100 °C TE cooled large area sensorsNO liquid nitrogen, NO cryo-coolerExtended Dynamic Range (18-bit)e2v CCD230-84 sensor

产品详情牛津Oxford开放式样品载入ALD设备OpAL 紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ALD）系统OpAL提供了专业的热ALD设备，可以简单明了的升级使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。 开放式样品载入热ALD，集成等离子体技术 现场升级到可使用等离子体 从小晶片到200mm大晶片适用于学术、产业、研发的热和/或等离子体化学产品，可用于：氧化物： HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5氮化物：TiN, Si3N4金属： Ru, Pt ALD应用举例： 纳米电子学 高k栅极氧化物 存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区 有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层 钝化晶体硅太阳能电池 应用于微流体和MEMS的高保形涂层 纳米孔结构的涂层 生物微机电系统 燃料电池直观性强的的软件提高性能使用与牛津仪器的值得信赖的Plasmalab 产品家族相同的软件平台， OpAL的程序驱动、多用户级别、PC2000TM控制的软件易于操作且可为快速ALD做相应修改。

牛津湿式制冷机Optistat连续流型OptistatCF 连续流型（交换气） 技术参数OptistatCF-V 连续流型（真空） 技术参数类型Pull 模式Push 模式样品温度范围 2 .3 – 500 K4.2 – 500 K温度稳定性± 0.1 K最大样品空间样品架尺寸30 毫米宽 x 58 毫米长20 毫米宽 x 50 毫米长样品空间类型真空样品更换时间60 分钟制冷到 4.2K 时间10 分钟液氦消耗 @4.2K光学通路 0.45 L/ 小时f/0.9重量2 千克典型设置：牛津湿式制冷机Optistat连续流型主要应用：• 紫外可见，近红外光谱• 红外光谱FTIR• 光致发光和电致发光• 荧光光谱• 拉曼光谱• 透射反射吸收光谱主要特点：• 存储杜瓦型、连续流型多种类型可选• 样品在真空中或者交换气体中• 设计美观，小巧紧凑，质量轻，易于集成• 换样快• 稳定性，可靠性高选项升级：• 500K 高温选项• 精确可调高度和角度的样品杆选项• 反射、透射、比色皿多种样品架可选• 各种材料窗片( 石英、无水石英、蓝宝石、CaF、聚乙烯）• 真空泵系统

产品详情英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 ICP PlasmaPro 80 ICP是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统，可提供多种刻蚀解决方案。 它易于放置，便于使用，且能够确保工艺质量。直开式设计允许快速的进行晶圆装卸，是科学研究、原型设计和少量生产的理想选择。 该设备通过优化了的电极冷却技术和出色的衬底温度控制来实现高度稳定的工艺结果。。直开式设计允许快速装卸晶圆。出色的刻蚀深度和刻蚀速率控制。出色的晶圆温度均匀性。晶圆最大可达200mm。购置成本低。符合半导体行业 S2 / S8标准 应用: III-V族材料刻蚀工艺 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺 二氧化硅和石英刻蚀 用于失效分析的干法刻蚀解剖工艺，可处理封装好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圆 用于高亮度LED生产的硬掩模的沉积和刻蚀 特点: 小型系统 —— 易于安置 优化的电极冷却系统 —— 衬底温度控制 高导通的径向（轴对称）抽气结构 —— 确保能提升工艺均匀性和速率 增加500毫秒的数据记录功能 —— 可追溯腔室和工艺条件的历史记录 近距离耦合涡轮泵 —— 抽速高迅速达到所要求的低真空度 关键部件容易触及 ——系统维护变得直接简单 X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力， 并且可以实现更快更可重复的匹配 通过前端软件进行设备故障诊断 —— 故障诊断速度快 用干涉法进行激光终点监测 —— 在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物)，或者用反射法来确定非透明材料 (如金属) 的边界 用发射光谱（OES）实现较大样品或批量工艺的终点监测 —— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化，以及用于腔室清洗的终点监测

牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。。直开式设计允许快速装卸晶圆。出色的刻蚀控制和速率测定。出色的晶圆温度均匀性。晶圆最大可达200mm。购置成本低。符合半导体行业 S2 / S8标准 应用: III-V族材料刻蚀工艺 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺 类金刚石（DLC）沉积 二氧化硅和石英刻蚀 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺，可处理封装好的芯片, 裸晶片，以及200mm晶圆 用于高亮度LED生产的硬掩模的刻蚀 系统特点 小型系统 —— 易于安置 优化的电极冷却系统 —— 衬底温度控制 高导通的径向（轴对称）抽气结构 —— 确保能提升工艺均匀性和速率 增加500毫秒的数据记录功能 —— 可追溯腔室和工艺条件的历史记录 近距离耦合涡轮泵 —— 抽速高迅速达到所要求的低真空度 关键部件容易触及 ——系统维护变得直接简单 X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力， 并且可以实现更快更可重复的匹配 通过前端软件进行设备故障诊断 —— 故障诊断速度快 用干涉法进行激光终点监测 —— 在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 （例如硅上的氧化物），或者用反射法来确定非透明材料（如金属）的边界 用发射光谱（OES）实现较大样品或批量工艺的终点监测 —— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化，以及用于腔室清洗的终点监测

产品详情牛津Oxford等离子沉积机PlasmaPro 80 PECVD PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。。直开式设计允许快速装卸晶圆。出色的刻蚀控制和速率测定。出色的晶圆温度均匀性。晶圆最大可达200mm。购置成本低。符合半导体行业 S2 / S8标准 应用: 高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途 用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀 系统特点: 小尺寸系统——易于安置 优化了的电极冷却——衬底温度控制 高导通的径向（轴对称）抽气结构—— 确保提升了工艺均匀性和速率 增加了500毫秒的数据记录功能——可追溯腔室和工艺条件的历史记录 近距离耦合涡轮泵——提供优越的泵送速度加快气体的流动速度 关键部件容易触及——系统维护变得直接简单 X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力， 并且可以实现更快更可重复的匹配 通过前端软件进行设备故障诊断——故障诊断速度快 用干涉法进行激光终点监测——在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物)，或者用反射法来确定非透明材料 (如金属) 的边界 用发射光谱（OES）实现较大样品或批量工艺的终点监测—— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化，以及用于腔室清洗的终点监测

产品详情牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。。直开式设计允许快速装卸晶圆。出色的刻蚀控制和速率测定。出色的晶圆温度均匀性。晶圆最大可达200mm。购置成本低。符合半导体行业 S2 / S8标准 应用: III-V族材料刻蚀工艺 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺 类金刚石（DLC）沉积 二氧化硅和石英刻蚀 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺，可处理封装好的芯片, 裸晶片，以及200mm晶圆 用于高亮度LED生产的硬掩模的刻蚀 系统特点 小型系统 —— 易于安置 优化的电极冷却系统 —— 衬底温度控制 高导通的径向（轴对称）抽气结构 —— 确保能提升工艺均匀性和速率 增加500毫秒的数据记录功能 —— 可追溯腔室和工艺条件的历史记录 近距离耦合涡轮泵 —— 抽速高迅速达到所要求的低真空度 关键部件容易触及 ——系统维护变得直接简单 X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力， 并且可以实现更快更可重复的匹配 通过前端软件进行设备故障诊断 —— 故障诊断速度快 用干涉法进行激光终点监测 —— 在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 （例如硅上的氧化物），或者用反射法来确定非透明材料（如金属）的边界 用发射光谱（OES）实现较大样品或批量工艺的终点监测 —— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化，以及用于腔室清洗的终点监测

牛津镀膜机Plasmalab NGP 1000

英国牛津镀膜机PECVD Plasma system 133

PlasmaProTM NGP80 – 下一代等离子体处理系统为等离子体刻蚀和沉积集合了开放式进样工具。多重处理技术：PlasmaPro NGP80在同一个平台上提供了通用的等离子体刻蚀和沉积技术解决方案，并且带有便利的开放式进样装置。系统集合了微足印（smallfootprint）技术，可方便地进行定位及使用，且不会对工艺质量产生不良影响。该设备是研发或小规模量产的理想工具，可处理从小块样品到直径200mm的晶片。开放式进样设计使晶片可以快速进片及退片，适合研究、原型开发及小量生产。PlasmaPro NGP80的优势：关键组建方便装卸有利于维护兼容Semi S2/S8安全标准新一代的总线控制系统可以极大地提升数据的检索、传送、重复匹配能力新的增强用户界面利用前端软件的错误及工具诊断功能实现快速的错误诊断自动的清洗功能可以清除管道内的有毒物质并对管道进行冲洗，通过前端软件实现安全且完全的自锁清洗控制工艺技术配置选项：PlasmaPro NGP80 RIEPlasmaPro NGP80 PECVDPlasmaPro NGP80 RIE/PE 牛津仪器具有广泛、可用的生长工艺。 有了在生长工艺发展上无比广泛的经验和我们应用工程师的支持， 牛津仪器向世界范围内的生产商和研发者提供生长工艺解决方案的经验为我们提供了世界上最强大的生长工艺库和工艺能力。以下是一些可供选择的关键工艺--请与我们联系，讨论您的需要，我们的专业销售和应用的工作人员将很高兴地帮助您选择合适的生长工艺和工具，以满足您的要求。请点击产品名，查看产品详细信息，谢谢Compound Semiconductors外延生长AlGaN&mdash 外延氮化铝镓外延生长InN&mdash 氮化铟外延材料外延生长InxGa1-xN&mdash 外延氮化铟镓 Nanotubes生长碳纳米管Nanowires生长Si纳米线&mdash 生长硅纳米线生长ZnO纳米线&mdash 生长氧化锌纳米线

牛津仪器CMI165系列用于测试高/低温的PCB铜箔、蚀刻或整平后的铜厚定量测试、电镀铜后的面铜厚度测量，在PCB钻孔、剪裁、电镀等工序前进行相关铜箔来料检验。 仪器规格：厚度测量范围：化学铜：0.25μm–12.7μm（0.01mils–0.5mils）电镀铜：2.0μm–254μm（0.1mil–10mil）线性铜线宽范围：203μm–7620μm（8mil–300mil）仪器再现性：0.08μm at 20μm（0.003 mils at 0.79 mils）显示单位：mil、μm、oz操作界面：英文、简体中文存 储 量：9690条检测结果（测试日期时间可自行设定）测量模式：固定测量、连续测量、自动测量模式统计分析：数据记录，平均数，标准差，上下限提醒功能 仪器特点：应用先进的微电阻测试技术，符合EN14571测试标准。SRP-T1探头由四支探针组成，AB为正极CD为负极；测量时，电流由正极到负极会有微小的电阻，通过电阻值和厚度值的函数关系准确可靠得出表面铜厚，不受绝缘板层和线路板背面铜层影响耗损的SRP-T1探头可自行更换，为牛津仪器专利产品仪器的照明功能和SRP-T1探头的保护罩方便测量时准确定位仪器具有温度补偿功能，测量结果不受温度影响仪器为工厂预校准测试数据通过USB2.0 实现高速传输，可保存为Excel文件仪器使用普通AA电池供电 准确货期请与客服咨询为准！谢谢！

MQC+台式核磁共振分析仪可测量各种样品中的油、水、氟和固体脂肪，通常用于品质保证和质量控制。快速、精确的无损分析使用MQC+的分析只需几秒到几分钟的时间，意味着能够快速有效地处理大量样品。因为核磁共振信号从整个样品中生成（而非仅仅从表面生成），即使样品为不透明，也能够保证精确的测量结果。核磁共振测量不会以任何方式对样品造成损坏，因此可以保存样品，以进行重复测量或使用其他技术对其进行分析。只需样品制备，不涉及有害溶剂或化学品极少需要研磨或其他形式的样品制备。只需将样品转移到样品管中稳定后便可进行分析。MQC+核磁共振法不需要溶剂或其他化学品，因此无需通风柜、无需经过专业培训的人员和费用昂贵的处理程序。使用方便MQC+的优点是使用方便。因为只需一定程度的培训，实验室技术人员的生产效率将会立即得到提高。该软件通过清晰的屏幕提示提供逐步操作指导；样品室入口处还设有状态指示灯。能够自定义设置操作提示并以任何语言显示。很多行业需要精确、可靠、便捷地测量固体材料中存在的某种黏性或液体成分的数量。MQC+满足这一需求，得益于其使用的技术避免了需要分离样品的不同相态；让样品制备轻松简单，无需大量的操作培训，并且提供快速、精确的结果。这意味着工业产线上可获得更一致的产品、更好的流程控制和更低的成本。型号样品尺寸（直径/体积）应用场合MQC+235 mm / 0.2 ml适用于多种应用场合的配置。高共振频率提供高灵敏度，大样品尺寸实现良好再现性。10 mm* / 1 ml18 mm* / 8 ml26 mm / 14 mlMQC+540 mm / 40 ml大样品容量，用于（例如农产品行业中的）不均匀样品。51 mm / 80 ml60 mm / 100 mlMQC+F26mm / 14 ml氟敏感型型号，用于牙膏和矿物质。* 提供液体温度可变选项行业与应用Close很多行业需要精确、可靠、便捷地测量固体材料中存在的某种黏性或液体成分的数量。MQC+满足这一需求，得益于其使用的技术避免了需要分离样品的不同相态；让样品制备轻松简单，无需大量的操作培训，并且提供快速、精确的结果。这意味着工业产线上可获得更一致的产品、更好的流程控制和更低的成本。得益于牛津仪器的开发和应用团队，我们的产品适合以下特定行业应用：食品快餐食品中的油、巧克力中的脂肪总量、食品中的脂肪以及固体脂肪含量(SFC)农业油籽及油粕中的油和水分，干橄榄酱中的油和干棕榈果肉中的油纺织业纤维上的纺丝油剂(OPU)、纱线油剂(FoY)、润滑剂和纤维涂层消费品行业纺织品中的洗剂和牙膏中的氟石油行业燃油中的氢含量、蜡中的油含量和石油产品中的蜡含量聚合物行业聚丙烯中的二甲苯可溶物、聚氯乙烯中的可塑剂、聚合物密度和结晶度、橡胶中的油，以及含氟量其他粉末（如氟石、氧化铝）中的氟，以及沥青中的石灰石屑填料

极高性能电化学原子力显微镜（EC-AFM）实时研究电化学反应—Cypher ES原子力显微镜如今支持电化学功能 牛津仪器Asylum Research Cypher ES电化学单元是用原子力显微镜原位研究电化学过程的优质解决方案。受益于简单的模块化设计，它具有强大的多功能性，能够兼容广泛的材料类别。尤为突出的是，它基于一款有着市场上极高分辨率、出众环境控制能力、超高扫描速度、简易操作性的Cypher ES原子力显微镜。 适用于电化学原子力显微镜功能的牛津仪器Asylum Research 电化学单元：牛津仪器Asylum Research全密封电化学单元套件包含独立设计的探针固定器，用于在流体中成像的液体杯，电化学样品固定器和标准电极。适用于任意一款稳压器，稳压器的选择取决于电化学应用适用于大多数常用溶剂，电解质和电极材料易于清洗和组装，即便带着手套操作可选具有局部加热和制冷功能的样品台来观察电化学热力学可选手套箱来实现最严格的环境控制，而又不会降低系统的性能电化学单元的应用电沉积 能量存储 腐蚀表征偏置电压下的储能材料，例如电池极板，薄膜和溶液-电极界面金属的电沉积和溶出腐蚀动力学研究监测附着电极的生物催化剂和微生物随着时间的形貌变化，以及其他生物物理研究纳米粒子的成核以及生长

Microstat系列低温恒温器旨在满足最苛刻的显微镜应用需求。 优异的光学和电气接入，宽泛温度范围，紧凑的设计和专业的低温性能与多种匹配，以确保低温恒温器完全符合您的实验要求。Microstat系列提供不同的制冷技术，以满足不同的实验需求。 Microstat型号的选择取决于实验所需温度和制冷技术，请参见下表。 如果我们的标准范围不满足您的要求，牛津仪器还可以为您提供定制解决方案。microstats可以安装多达2个窗口（取决于型号），以适应从紫外线到远红外线的波长。

牛津干式制冷机Optistat Dry工作原理：Optistat Dry 干式制冷机采用GM 制冷机，主要部件有冷头、压缩机以及高压氦气管。这三个部件组成了一个闭合的氦气循环回路，可以产生制冷功率。冷头是GM 制冷机循环的场所，通过两根高压氦气管以及供电引线连接到压缩机。其中一根高压氦气管供给高压氦气，另一根回收膨胀后的低压氦气。压缩机提供必需的高压氦气流量来提供足够的制冷功率。 牛津干式制冷机Optistat Dry主要配置：• 制冷机主体• 闭循环压缩机• 氦导流管• 热辐射屏蔽• 真空屏蔽• 加热器• 温度传感器• 温度控制器• 密封电学传输通道• 高纯度石英窗片（窗片材质可选）• 涡轮分子泵干式制冷机工作原理示意图Optistat Dry BLV 主要技术参数：• 可控温度范围从 3 K 到300 K• 冷却时间：120 分钟内冷却到10K• 配置风冷压缩机• 低振动：与光学平台结合时振动小于10 微米• 大样品空间，可用于研究各种大小的样品• 低运行费用• 优化的光学通路，数值孔径可达f1，通光孔径可达28mm，大通光区域适合低光密度探测• 创新的电学样品托选项，最高可提供12 路电学引线Optistat Dry BLV 主要特点：• 低振动：与光学平台结合时振动小于10 微米• 兼容性：与英制和公制的光学平台都可匹配使用• 竖直高度可调（635-900 毫米）• 侧面换样：容易操作；换样后不会改变光路（光路稳定），不需要重新调整光路。• 创新的电学样品托选项，最高可提供12 路电学引线• 自带检测线路，加热器以及温度计，由15 路微型D 型接口连接• 配置反射样品架和透射样品架，这些样品架对光学测量非常理想，没有任何电学连接限制。• 配置专用样品托：样品托选项包括一个气密的21 路微型D 型接口。接口与12 路引线（10 路铜镍合金, 2 路铜）相连，安装至为电学测量特别设计的铜质底座上。样品托由层压PCB 构成。用户只需将样品托放到指定位置并拧紧螺丝即可完成电学连接及热连接。Optistat Dry TLEX 主要特点：• 低振动：与光学平台结合时振动小于10 微米• 兼容性：与英制和公制的光学平台都可匹配使用• 竖直高度可调（800-880 毫米）• 顶部换样：样品处于交换气氛围，5 分钟快速换样，45 分钟冷却到基准温度• 创新的电学样品托选项，最高可提供12 路电学引线

牛津仪器的5000系列侧窗X射线管广受欢迎且经久耐用。5000系列的电子枪组件封装在内置铅层的不锈钢外壳中，且法兰规格可选择，目前已广泛应用于工业领域。外壳内填充了牛津仪器专用的冷却油，可以将散热效果尽可能地优化。技术参数：最大阳极电流1.0 mA最大阳极电压50 kV最大功率50 W连续灯丝标称电压2.0V @ 50 kV, 1 mA灯丝最大电流1.7 A稳定性4小时之后0.2%焦点尺寸(标称*)110μm阳极材料W, Mo, Rh(其他材料可选)铍窗厚度125μm(另75μm、250μm可选)重量(约)4磅(1816g)散热方法压缩空气@150 CFM发散角25°