软毛马利筋素

产品简介----肉豆蔻酰五肽-17/睫毛肽肉豆蔻酰五肽-17/睫毛肽是一种有效的促进睫毛生长的化妆品原料，可以有效刺激毛发的角蛋白的合成，促进毛发（睫毛、眉毛、头发）的生长，使毛发更加浓密，坚韧。 产品参数----肉豆蔻酰五肽-17/睫毛肽 中文名称：肉豆蔻酰五肽-17/睫毛肽/促睫素英文名称：Myristoyl pentapeptide-17CAS号：959610-30-1纯度：≥98%分子量 ：796.14g/mol分子式 ：C41H81N9O6外观：白色粉末或液体储存条件：2 ℃～8 ℃包装规格（粉末）：1g, 10g, 100g包装规格（液体）：20ml/瓶，1KG/瓶应用：化妆品原料 功效与应用----肉豆蔻酰五肽-17/睫毛肽增长和增粗眼睫毛促进睫毛生长的护理产品，可用与睫毛膏、睫毛护理液等 作用机理----肉豆蔻酰五肽-17/睫毛肽睫毛的主要成份是角质蛋白，约占毛干的85%-90%，而角质蛋白是由氨基酸所组成。睫毛的生长周期分为三个阶段：从生长（即活跃期，约30天）经退化期（约15天）过渡到休止期（约100天）。控制睫毛的生长周期与毛凸和毛乳头两个组织之间复杂的相互作用有关，由于毛乳头中含有神经及给睫毛提供营养的血液供给，可促进睫毛的生长。肉豆蔻酰五肽-17，是一种有效的促进睫毛生长的五肽，直接作用于角质蛋白基因，促进角质蛋白生成，若连续使用7天，可显著促进睫毛的生长，使其变得更浓密修长。 云希专业研发美容多肽原料，现有蓝铜肽、二胜肽、三胜肽、四胜肽、五胜肽、六胜肽、七胜肽、八胜肽、九胜肽、十胜肽和寡肽系列等100多种美容活性胜肽，是国内、质量可靠的美容肽供应商。因为专业，所以更好！详细请咨询：罗女士

人员去污洗消设备SJH-01按照企业标准规范内容设置，箱内药品及物品符合各类国家标准及行业标准，药箱设立了10人份装箱包装，可实现应急情况下反应快速、使用便捷、携带方便等特点。可用于核和辐射突发事件时，对放射性核素体表污染人员的去污处理。“人员去污洗消设备SJH-01”由三大部分构成：试剂，卫生用品和专用洗消制剂。前两个部分为来自符合国家及行业标准的产品，自制洗消制剂以 特种螯合剂DTPA为主剂，合成符合药典要求的DTPA-Na盐稳定制剂，用之配制成 schubert液和复方洗消液等放射性核素污染洗消剂。使用原则：当体表有放射性核素污染时，立即停止工作。尽快离开现场，测量污染程度。并 确立污染放射性核素种类。及时登记，尽早洗消去污。洗消时宜用软毛刷，流动水或 温水，按先低污染区后高污染区，先上后下顺序。特别注意褶皱处和指甲缝。组成：1）A型锕系核素体表污染去污洗消液 2瓶（单瓶240mL）,2）T型过渡金属核素体表污染去污洗消液2瓶（单瓶240mL）3）H型洗消液2瓶（单瓶240mL）：4）W型伤口核素污染去污洗消液2瓶（单瓶240mL,）：5）去污洗消辅料和工具包： 健康体表放射性核素的污染处理流程：1）要优先于严重污染人员和创伤污染人员。要优先处理人体孔腔（如眼、口、 鼻等）处污染。去污要遵循先低污染区，后高污染区和先上后下的顺序。注意皮 肤褶皱和指甲缝处的去污。2）尽可能用温热的（＜40℃）流动水去冲洗去污。用核素洗消液清洗的同时，要 用软毛刷认真细致轻柔的擦洗3次-5次。3）眼和头面部污染，首先俯面用向上喷淋的流动水冲洗眼和头面部。再用生理 盐水冲洗眼，用棉签擦拭鼻腔，必要时剪去鼻毛，向鼻腔内喷洒血管收缩剂，以 减少放射性核素的吸收。最后用核素洗消液进行清洁。4）存在与人体体表放射性核素的污染，原则上应尽快去除干净。但也不能过度 实施去污程序，以免损伤体表。创伤体表放射性核素污染的处理1）污染创伤的尽早去污更为重要，若疑及放射性核素（特别是高毒性的a核素 和易转移性放射性核素）污染工具或硬物刺伤，则最好立即开始用清水冲洗，失血不多时，也不要急于止血，然后再做表面污染测量。2）将创伤人员迅速移离至安全场所，在保护创面清洁的前提下，脱掉或剪下衣 服，暴露创面，以便于处理。3）尽早用医用核素洗消液冲洗创伤表面，不要延误清洗时间。禁用可能促进污 染放射性核素入体的有机制剂、浓度较大的酸碱溶剂和对皮肤有较强刺激性的溶 剂。4）对创伤清洗，手术要遵循放射性污染手术处理规程进行，防止手术器械污染 扩散。注意事项1）处理放射性核素污染的工作人员要注意自身防护，防止污染扩散；2）必须详细认真填写去污染洗消记录表；3）现场情况要及时报上级主管部门；4）所有污染处理物品装入污物袋中集中处理；5）工作人员最后要用 核素洗消液清洗后脱离现场。

一、上海保圣恒速型毛细管流变仪产品介绍恒速型毛细管流变仪，即用于测定聚合物熔体，聚合物溶液、悬浮液、乳液、涂料、油墨和食品等流变性质的仪器。分为旋转流变仪、毛细管流变仪、转矩流变仪和界面流变仪。上海保圣恒速型毛细管流变仪可用于测定聚合物熔体，聚合物溶液、悬浮液、乳液、涂料、油墨和食品等流变性质的仪器。上海保圣恒速型毛细管流变仪可用于观察高分子材料内部结构的窗口，通过高分子材料，诸如塑料、橡胶、树脂中不同尺度分子链的响应，可以表征高分子材料的分子量和分子量分布，能快速、简便、有效地进行原材料、中间产品和最终产品的质量检测和质量控制。流变性能测量是高聚物的分子量、分子量分布、支化度与加工性能之间构架了一座桥梁，所以它提供了一种直接的联系，帮助用户进行原料检验、加工工艺设计和预测产品性能。二、上海保圣恒速型毛细管流变仪主要功能及应用范围上海保圣恒速型毛细管流变仪可应用于食品（液态、固态、凝胶、分散体系）、发酵、化工、医药、纺织、农业等行业的多种检测，适合于蛋白、多糖等大分子亲水胶体材料的流变特性测定，包括任何粘度的流体、软固体、聚合物、凝胶和分散液的流变特性研究。由于食品物料的流变特性与食品的质地稳定性和加工工艺设计等有着重要关系，所以通过对食品、化工材料流变特性的研究，可以了解食品、化工材料的组成、内部结构和分子形态等，能为产品配方、加工工艺、设备选型及质量检测等提供方便和依据。通过流变仪检测，可进行食品、医药的质量监控、食品研发以及食品工程设计。1. 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于聚合物领域上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于微悬浮法PVC增塑溶胶凝胶化和熔化特性的研究；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于PVC物料标准流变曲线；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于聚合物研究，通过记录物料在混合过程中对转子或螺杆产生的反扭矩以及温度随时间的变化,可研究物料在加工过程中的分散性能,流动行为及结构变化(交联,热稳定性等),同时也可作为生产质量控制的有效手段；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于r-PET/ABS复合材料的制备及其结晶动力学研究；{C}2. {C}{C}上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于食品流域上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于酱料制品流变性能研究；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于食品配方及工艺研究；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于在馒头品质分析中的应用浅探；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于不同链/支比玉米淀粉的形态及其在有/无剪切力下糊化的研究；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于蕨根淀粉的颗粒形态与糊化特性研究；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于番茄酱制品的流变特性比较；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于蓝莓发酵副产物制作低糖果酱的工艺研究；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于巧克力的粘度测定，用旋转流变仪对巧克力原料进行质量控制；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于旋转流变仪在油脂研究中的应用。3. 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于化妆品领域上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于凝胶流变性能研究 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于乳状液体系流变性能研究 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于表面活性剂流变性能研究 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于油包水型乳化化妆品 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于普鲁兰多糖对牙膏流变学性能影响的初步研究 4. 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于胶体领域上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于高分子水凝胶材料的流变学研究方法；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于合成水凝胶的流变学性能及相关生物材料的基础研究；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于新型天然高分子多糖智能水凝胶生物材料的制备及性能研究；上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于天然蚕丝丝素蛋白在不同油/水界面的粘弹性和稳定性研究。{C}5. {C}{C}上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于石油领域 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于石油钻井泥浆检测中的应用； 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于生物降解材料流变性能的研究； 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于沥青性能评价方面的应用； 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于含蜡原油触变性实验； 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于胶质液体泡沫的流变性； 上海保圣恒速型毛细管流变仪应用于低温凝胶类调堵剂溶液的流变性。

毛发移植机是一种新型的无痕植发设备，用于毛发移植手术中毛囊的提取，通常应用于医疗美容科和皮肤科，毛发移植机原理是通过环切单个毛囊单位周围的皮肤组织的方式直接获取毛囊单位，毛发移植机与传统的植发手术相比，毛发移植机的优点是提取毛囊的效率高，提取速度快，操作简单，创伤小。整个手术过程不需要全身麻醉，出血量很小，术后恢复快，不留瘢痕。属于一项非常先进的无痕微创技术。图1 毛囊-毛发移植机-仪无痕毛发移植核心理论：毛发移植重要理论——供区优势理论（Donor Dominant）1959年，美国Norman Orentreich提出了供区优势(donor dominant)的理论• 枕部毛发不受雄性激素及其代谢产物影响，长期生长不脱落• 从此处切取的毛囊移植到其它部位，成活后仍保留枕部毛囊的特质毛发移植主要是切取不易脱发的枕部的毛囊，移植到脱发的部位，成活后的毛囊仍是枕部毛囊的特质，不受雄激素及代谢产物影响，不会脱落。图2 毛囊-毛发移植机-仪毛发移植机生产厂家北京有未来科技有限公司，多年来一直专注于无痕植发毛发移植器械设备的技术开发和生产制造，经过多年的经验积累和产品优化升级，目前所研发生产的毛发移植机，毛囊提取机，毛囊移植机、毛发提取机、毛囊检测仪和毛囊毛发检测分析系统的各项性能指标均已达到国际先进水平，并且得到了无痕植发专家的高度认可和一致好评。图3 毛囊-毛发移植机-仪生产厂家 北京有未来科技有限公司

ZHDL-400计算机控制毛细管流变仪产品介绍一、毛细管流变仪价格适用范围： 1、本机适用于满足ISO1443-2005-3-5《用毛细管和狭缝流变仪测定塑料的流动性》标准，测定塑料及高分子材料的剪切速率和在一定温度条件下，测定剪切应力作用下熔体的流动性，包括热塑性塑料的表观粘度。2、 本流变仪为计算机测控智能化毛细管流变仪，可以在恒压下、恒速度、恒温度、不同的升温速率下、不同温度、不同剪切速率等下工作，通过软件自动测定出不同塑料在不同口模环境下的压力、温度、速度等检测参数。软件自动绘制曲线，并且进行数据的保存、打印等。 3、可根据用户要求定制不同的规格的（低温型、高温型、不同压力、不同料杆直径等）机型。二、毛细管流变仪价格中航鼎力公司研制的动态测控毛细管流变仪具有以下特点：1、数据采集频率高（大于100PPS），能更*确的记录出材料不同状态下的转化点，不会漏掉关键的材料状态转化点；*确计算出不同剪切速率下的表观黏度；2、可实现多种数据曲线的叠加；多种曲线形式的坐标显示 。3、该仪器的负荷加载装置设计合理，采用高精度压力传感器进行数据采集，取消了传统的负荷传感器采集；软件、硬件双闭环，实现速度、加载力的无级调节；可以采用手动、自动两种加载控制，方便、快捷、准确。4、关于剪切粘度和剪切速率曲线坐标轴：试验验时坐标轴为正常坐标轴，当实验室结束如果想观看log坐标轴图像可以直接通过鼠标调整调出log坐标轴，这样就可以用两种方式观察图像，同时坐标轴的*低点设置都是在试验结束后用鼠标设置。5、整机采用框式铝合金结构，外观更美观，稳定性更强，并且更易于运输和安装。 三、系统组成传动结构采用台湾品牌精密滚珠丝杠实现动能的传递，调速系统采用AC伺服系统实现位移和压力的准控制。加热单元采用螺旋状加热丝整体加热，料筒整体温度均匀。高科技的测控系统和软件界面简洁直观，可以设置测试模式、和相关运行参数，实时显示有关曲线和计算结果四、试验项目。1、恒速剪切测试：能够测量剪切应力与剪切速率曲线，和剪切粘度与剪切速率曲线恒压剪切测试：能够测量剪切粘度与剪切速率曲线阶梯剪切速率测试：根据用户的要求可以设置不同的剪切速率，能够测量剪切应力与剪切速率曲线，和剪切粘度与剪切速率曲线，并且在实验过程中根据曲线的变化来判断熔体破裂情况及熔体的*低流动压力和剪切速率。1流动/不流动测试：测量粘度与温度关系，能*精测定*低流动温度熔体破裂和流动不稳定性，研究流动不稳定性现象，包括熔体破裂和熔体断裂。 五、软件操控界面、压力-剪切速率曲线压力、剪切速率-时间曲线 压力-时间曲线 下降阶梯压力、剪切速率-时间曲线 上升阶梯压力、剪切速率-时间曲线 六、主要技术参数及精度： 1、温度范围：室温~400℃2、升温速率：1-10℃/min，连续可调，并可快速升温3、测温显示精度： 0.1℃4、压力范围：1-50MPa±0.5%5、*大驱动力： 5KN6、压力测量精度：±0.5%FS7、压力分辨率：0.1Mpa8.速度范围：0.01-500mm/min 9.变形测量精度：±0.5%FS10、塞头直径：φ12 mm（可根据用户要求定制、价格另议）11、塞头面积：113.04mm212、出料口模规格：? 1×5、? 1×10、?1×20、?1×40（mm×mm）13、出料口模材料： 碳化钨14、电源：220V，50Hz,功率1000W15、外形尺寸：640×430×1700mm七、设备主要配置：1、机械主机 一台2、日本高精度控温检测系统 一套3、日本富士伺服控制器 一台4、日本富士电机 一台5、位移行程的限位系统一套6、位移检测系统 一套7、高精度压力检测系统 一套 8、品牌控制计算机 一套 9、彩色喷墨打印机 一台10、专用测控试验软件 一套

东莞塑宝磁力泵SM系列SM F 25 250–1 H C–6 V R N (1)(2)(3) (4) (5)(6)(7)(8)(9)(10)(11) (1)SM：机型编号 (2)F-泵体材质FRPP K-泵体材质PVDF P-泵体材质CFRPP (3)20-口径3/4” 25-口径1” (4)100-马力100W 180-马力180W 250-马力260W 400-马力400W (5)1-单相 3-三相 (6)H-管式 S-外牙式 (7)轴心材质S-SSIC T-钛 C-陶瓷 (8)频率：5-50Hz 6-60Hz (9) V-VITON N-NBR E-EPDM (10) 轴承材质R-RULON(11)N-标准规格 S-特殊规格东莞市塑宝泵业有限公司SM型无轴封磁力耐酸碱泵浦工作原理: 磁力泵（磁力驱动泵）主要由泵头、磁力传动器（磁缸）、电动机、连接底板等几部分零件组成。磁力泵磁力传动器由外磁转子、内磁转子及不导磁的隔离套组成当电动机带动外磁转子旋转时，磁场能穿透空气隙和非磁性物质，带动与叶轮相连的内磁转子作同步旋转，实现动力的无接触同步传递，将容易泄露的动密封结构转化为零泄漏的静密封结构。由于泵轴、内磁转子被泵体、隔离套完 封闭，从而解决了"跑、冒、滴、漏"问题。 SM型无轴封磁力耐酸碱泵浦特性:．耐强酸强碱：采用FRPP/CFRPP/PVDF塑料材质射出成型，依客户使用之化学性选择不同材质。．适用 域广：电镀、涂装、蚀刻、表面处理、实验室、化学制程等，可耐大部份的化学性，适合各种酸碱液输送作业。．特殊的铁氟龙弹性轴封设计，搭配各种材质的轴封如陶瓷、碳精、SSIC 及 Hastelloy-C 合金弹簧 异的耐久及耐腐蚀性。．结构上：塑料射出成型之底座，轻便，耐腐蚀。SM型无轴封磁力耐酸碱泵浦型号表:SM型无轴封磁力耐酸碱泵浦电机配置——更让你刮目相看！美观方便保养简便小型化设计，框号降低，体小量轻，经济性佳，搬运，安装方便轴端附攻牙（攻牙规格依BS-4999），使用更具选择性与方便性。

辽宁辽阳营口鞍山生物同位素质谱联用仪色谱柱填充毛细柱——崔经理 辽宁辰硕实业有限公司是一家从事理化仪器、实验室设备、试验仪器、环境监测仪器等仪器设备销售、维修及技术开发、技术咨询、技术服务为一体的综合性公司。致力于把国内外更好仪器设备推荐给客户，涉及仪器方面的咨询、售后、维修、改装等业务都可以通过我们来提供更好的解决方案。为用户提供的不仅仅是产品，而是我们多年积累的能力和信誉。辽宁辰硕实业有限公司本着“服务至上、信誉为重”的企业精神，为科研院所、质检实验室、大专院校、冶金、机械、食品、环保、能源等行业提供各种进口、国产的仪器设备，凭借过硬的技术、快捷的服务和经济的价格，真正帮助客户节约成本、提高技术、提升收益，受到广大用户的一致好评，赢得了良好的商业信誉。选择辰硕，选择放心仪器与服务。辰硕期待与您的合作！辽宁辰硕实业有限公司地址：辽宁省鞍山市铁西区九道街 崔经理 一、光谱分析1、721型可见分光光度计2、紫外可见分光光度计、紫外分光光度计3、原子吸收分光光度计、原子荧光光度计、火焰光度计4、红外光谱仪、红外分光光度计、近红外分光光度计5、原子吸收光谱仪6、荧光分光光度计、荧光光度计、原子荧光光谱仪、形态分析仪7、直读光谱仪、光电直读光谱仪，ICP-AES，拉曼光谱仪8、X荧光光谱仪、等离子光谱仪9、光谱仪配件：比色皿、吸收池、样品池、钨灯、氘灯、空心阴级灯二、试验机硬度计1、液压试验机、电子试验机、冲击试验机2、拉力试验机、拉伸试验机、压力试验机、拉力机、疲劳试验机3、弯曲弯折摇摆试验机、扭转试验机、拉弯试验机4、试验机配件、试验机夹具5、布氏硬度计、洛氏硬度计、维氏硬度计、布洛维氏硬度计标准试块6、里氏硬度计、肖氏硬度计7、韦氏硬度计 、巴氏硬度计、邵氏硬度计8、硬度计、显微硬度计、超声波硬度计9、制样设备：金相磨抛机、金相切割机、全自动镶嵌机、金相预磨机、金相抛光机三、无损检测1、超声波探伤仪2、便携式磁粉探伤仪、磁粉探伤机(卧式大型机)3、X射线探伤仪、涡流探伤仪4、探伤机试块、测厚/焊缝/标准/对比/TOFD试块、X射线胶片、着色渗透探伤剂5、探伤灯、黑光灯、荧光探伤灯、观片灯、黑白密度计、密度片6、超声波测厚仪探头、近场/远场/漏磁/涡流探头7、工业内窥镜8、超声波测厚仪9、涂层测厚仪、覆层测厚仪10、薄膜测厚仪、橡胶测厚仪11、表面粗糙度仪、粗糙度轮廓仪12、冷媒/卤素检漏仪四、实验室设备1、pH计、pH/离子计电极2、电导率仪、电导仪3、酸度计、离子计、钠度计4、滴定仪、电位滴定仪、水份滴定仪、水分滴定仪测定仪5、溶解氧测定仪/DO测定仪6、浊度仪、浓度计7、色度仪、比色计、酶标仪、洗板机8、多参数水质分析仪、在线多参数监测仪9、水质分析仪/检测仪/监测仪、库伦法水分测定仪、微量水分测定仪、PH/ORP测量仪、卡氏水分测定仪10、运动粘度测定仪、蛋白质测定仪、凯氏定氮仪11、水中油份测定仪、红外测油仪、露点仪12、水质BOD测定仪、COD测定仪13、氨氮总氮检测仪在线监测仪、在线总磷分析仪监测仪14、ORP测定仪、氧化还原测定仪15、碳氢氮元素分析仪、硫氮测定仪、定碳定硫仪、紫外荧光测硫仪、碳氢氧元素分析仪、发光定氮仪16、γ能谱仪、测氡仪、αβ测量仪17、氧弹量热仪、热量计、灰熔点测定仪、灰熔融性测定仪18、微波/固相萃取仪、COD萃取仪、COD消解器、石墨消解仪19、真空/电热/鼓风干燥箱、烘箱20、低温/生化/振荡培养箱、恒温恒湿箱21、老化实验箱、试验箱22、电炉、箱式电阻炉、马弗炉23、恒温水浴箱/锅/槽、低温/循环/恒温槽24、超低温冰箱、低温保存箱、冷藏箱25、生物安全柜、实验室通风柜、实验室通风橱26、超纯水机、纯水器、蒸馏水器27、蒸汽/真空/低温/高压灭菌器、灭菌锅、清洗消毒机、超声波清洗器28、移液枪、移液器29、超净工作台、净化工作台、洁净工作台30、标准筛、分样筛、试验筛31、离心机、振荡器、震荡器、摇床32、旋转粘度计、在线/数字/落球/毛细管/平氏粘度计33、真空泵、蒸发器、蒸发仪、玻璃烘干器34、漩涡混合器、混匀仪、磁力搅拌器、电动搅拌机、恒温加热板五、电子天平1、精密电子天平、赛多利斯电子天平、精密电子天平、电子天平、分析天平、比重天平2、电子秤、电子称、电子台秤、磅秤、料斗秤称重控制器显示仪3、电子汽车衡、电子地磅、称重传感器、砝码六、光学仪器 1、照度计、紫外辐照计、亮度计、光泽度计仪、白度计仪、雾度计2、测色仪、色度仪、色度计、色差计仪、色度仪、比色计3、阿贝折射仪、全自动折光仪、糖量计糖度折射测试仪、盐度计、酸度计4、旋光仪、显微熔点仪5、光源箱、对色灯箱、比色灯箱七、色谱分析1、气相色谱仪2、液相色谱仪、凝胶色谱仪3、离子色谱仪、便携式色谱仪4、液相/气相色谱质谱联用仪、等离子体质谱联用仪、生物/气体质谱联用仪、有机质/无机质谱联用仪、同位素质谱联用仪、核磁共振波谱仪5、色谱检测器：热导、火焰光度、电子捕获、氮磷、荧光6、气相/液相色谱仪耗材配件、色谱柱、填充柱、毛细柱、极性柱7、色谱进样:顶空进样器、顶空瓶、液体进样器、色谱进样针8、氮吹仪、吹氮仪、浓缩仪、氮气吹扫仪、氮气浓缩器9、氢气/氮气/空气/气体发生器、色谱工作站 八、显微镜1、光学显微镜、金相显微镜、偏光显微镜、正置显微镜、倒置显微镜、体视显微镜、工具测量显微镜2、材料显微镜、生物显微镜3、显微镜配件/组件九、测量仪器1、 桥式三坐标测量机、龙门式三坐标测量机、复合式三坐标测量机、关节臂式三坐标测量机、三坐标划线机、三坐标夹具2、齿轮测量中心、光学影像测量仪、测量投影仪、表面轮廓测量投影仪3、测长仪、测长机、圆度仪、圆柱度测量仪4、量规、测厚规、对表环规、螺纹塞规、螺纹环规、带表内外卡规5、百分表、内径/外径千分尺、游标卡尺、角度尺、宽座角尺6、立式光学计、光学比较仪、7、千分尺检定校准专用量块（20块）、游标卡尺检定校准专用量块(12块)、表面粗糙度比较样块、陶瓷量块、角度量块十、气体检测仪1、固定便携式可燃气体检测仪、可燃气体探测仪2、固定便携式CO一氧化碳检测仪、二氧化碳CO2检测仪、固定便携式煤气检测仪3、NO检测仪、固定便携式一氧化氮检测仪、有毒有害气体检测探测仪4、氧气检测仪、微量氧分析仪、测氧仪5、气体检测仪、在线气体监测仪6、复合气体检测仪、多气体检测仪器、四合一气体检测仪、7、H2氢气检测仪、氨气气体检测仪、硫化氢气体检测仪、苯检测仪 十一、环境检测1、声级计、噪音计、个人声暴露计、音频分析仪、噪声分析仪、测振仪振动计、振动测量信号分析仪2、风速计、风量仪3、大气采样器、烟尘采样器、总悬浮微粒采样器、综合智能大气采样器、防爆粉尘采样器、环境空气颗粒物采样器4、 大流量低浓度烟尘/烟气测试分析仪、自动烟尘烟气测试仪分析仪、智能双路烟气采样器、综合烟气分析仪5、手持式烟气分析仪、便携式烟气分析仪6、尘埃粒子计数器 7、皂膜流量计、孔口流量校准仪、皮托管、取样管十二、测绘仪器1、 全站仪2、 水准仪、电子水准仪、激光水准仪3、 红外测距仪、激光测距仪4、 经纬仪、电子经纬仪5、 垂准仪、激光垂准仪6、 水平仪、标线仪、投线仪、水平尺7、 求积仪、面积仪8、 地质罗盘仪、森林罗盘仪、指北针、激光指向仪、激光电子测高测角仪十三、电学仪器1、 绝缘耐压测试仪、数字万用表、钳形电流表2、 绝缘电阻测试仪、数字兆欧表3、 接地电阻测试仪、接地电阻表十四、化玻仪器1、刻度移液管、单标移液管、移液管架2、多刻度容量瓶、梯形容量瓶、刻度量筒、烧杯3、滴定管、微量滴定管、全自动滴定管、全自动碱式滴定管4、三角锥形瓶、蓝盖试剂瓶、棕色试剂瓶、5、微量毛细管、血球容积计毛细管、熔点毛细管、微量采血毛细管、毛细管移液器、巴斯吸管6、刻度离心管、刻度试管十五、工控仪表1、 压力变送器、温度变送器、差压变送器、液位变送器、压力传感器、温度传感器、位移传感器2、 二次仪表:温度巡检仪、智能单通道/多通道数字显示仪表、流量积算仪、无纸记录仪、温度控制器/调节器3、 浮子浮球液位计、超声波液位计、磁翻板液位计、雷达物位计4、 电磁流量计、涡街流量计、涡轮流量计、孔板流量计、质量流量计、超声波流量、气体流量计、液体流量计、靶式流量计、塑料玻璃转子流量计、明渠流量计、金属管浮子流量计、椭圆齿轮流量计、旋进旋涡流量计5、双金属温度计、温度补偿导线、数显温度控制器6、红外测温仪崔经理

产品用途该产品主要用于体外定性检测女性尿液样本中的人绒毛膜促性腺激素（HCG）。HCG是由胎盘的滋养层细胞分泌的一种糖蛋白，是怀孕女性的重要生物标志物。通过检测尿液中的HCG水平，该产品可用于辅助诊断早期妊娠，对妇产科、妇科、计生科、检验科等科室具有重要意义。技术参数检测方法：胶体金免疫层析技术检测原理：应用双抗体夹心法原理，当尿液中的HCG浓度等于或高于检出度时，与胶体金标记的抗体反应形成复合物，在层析作用下被检测区捕获，形成红色条带，提示阳性结果。灵敏度与特异性：具体数值需根据产品说明书，但通常具有较高的灵敏度和特异性，以确保检测结果的准确性。功能特点快速便捷：操作简便，只需将试纸一侧放入尿液中数秒即可完成检测。准确可靠：采用先进的胶体金免疫层析技术，确保检测结果的准确性。多规格选择：提供多种包装规格，满足不同使用需求。易于判读：结果清晰可见，通过红色条带的出现与否即可判断是否怀孕。优势性能高灵敏度：能够检测到较低浓度的HCG，提高早期妊娠的诊断率。高特异性：减少非特异性反应，确保检测结果的准确性。稳定性好：试纸保存期长，性能稳定，不易受外界因素影响。安全性高：无毒无害，对人体无副作用，适合家庭自检和医院检测。售后服务技术咨询：提供专业的技术支持和咨询服务，解答用户在使用过程中遇到的问题。质量保障：保证产品质量符合国家标准和企业标准，对不合格产品实行退换货政策。物流支持：提供及时的货源供应和完善的物流支持，确保产品能够迅速送达用户手中。长期合作：公司具有长期合作的决心和信心，致力于为用户提供优质的产品和服务。

全自动热解析仪日常保养1、仪器内部的吹扫、清洁全自动热解吸仪停机后，打开仪器的侧面和后面面板，用仪表空气或氮气对仪器内部灰尘进行吹扫，对积尘较多或不容易吹扫的地方用软毛刷配合处理。吹扫完成后，对仪器内部存在有机物污染的地方用水或有机溶剂进行擦洗，对水溶性有机物可以先用水进行擦拭，对不能彻底清洁的地方可以再用有机溶剂进行处理，对非水溶性或可能与水发生化学反应的有机物用不与之发生反应的有机溶剂进行清洁，如甲苯、丙酮、四氯化碳等。全自动热解吸仪厂家介绍要注意，在擦拭仪器过程中不能对仪器表面或其他部件造成腐蚀或二次污染。 2、电路板的维护和清洁全自动热解吸仪准备检修前，切断仪器电源，全自动热解吸仪厂家介绍首先用仪表空气或氮气对电路板和电路板插槽进行吹扫，吹扫时用软毛刷配合对电路板和插槽中灰尘较多的部分进行仔细清理。操作过程中尽量戴手套操作，防止静电或手上的汗渍等对电路板上的部分元件造成影响。 吹扫工作完成后，全自动热解吸仪厂家介绍应仔细观察电路板的使用情况，看印刷电路板或电子元件是否有明显被腐蚀现象。对电路板上沾染有机物的电子元件和印刷电路用脱脂棉蘸取酒精小心擦拭，电路板接口和插槽部分也要进行擦拭。 3、进样口的清洗在检修时，全自动热解吸仪厂家介绍要对全自动热解吸仪进样口的玻璃衬管、分流平板，进样口的分流管线，EPC等部件分别进行清洗是十分必要的。　　北京北分三谱仪器有限责任公司是一家集研发、生产、销售和服务于一体的专业分析仪器生产厂家。主要生产:气相色谱仪、顶空进样器、热解析仪、解析管老化仪、数字皂膜流量计、氢气发生器、空气发生器、氮气发生器等产品。公司拥有一批长期从事色谱仪开发及分析应用、维修经验丰富的工程师，在色谱类仪器的维护、维修、和调试等方面的技术力量雄厚。近年来，我们已为国内知名高等院校、科研单位、生产企业及检验检测机构提供了大量的分析仪器和设备及完整的系统解决方案。正是因为高品质的产品、专业的应用及完善的售前售后服务，我们赢得了广大用户的支持与信赖，具有良好的声誉。　　欢迎各经销商，中间商，销售来合作，详细咨询！！

日本东发V20E(S)手抬消防泵 15马力产品型号 V20E长度 555mm宽度 470mm高度 532mm重量 42 公斤发动机类型 立式，单缸，手动，电动，风冷，二冲程输出功率 15PS=12KW水泵类型 单泵单程离心泵真空泵 碳纤维活片无油式（吸程约9米）抽真空时间 1米吸程（0.7秒）；7米吸程（11.5秒）吸水口尺寸 Φ65 mm出水口尺寸 Φ65 mm（可转动90度）吸程3米 流量／压力 527升/分钟/0.5MPa 250升/分钟/0.8MPa标准喷嘴 Φ19 mm Φ13 mm转速规格 6,000 转/分钟油箱容量 3.5升（标准耗油量每小时约3.5升）润滑供应 分离吸油点火方式 飞轮永磁电机（C.D.I.）起动系统 自动反冲系统，绳拉式润滑供应：分离吸油 不同之处： V20D2SEXJIS（30:1 (即30升汽油混合1升润滑油)）V20ES东发泵和V20D2S东发泵较低的区别是：V20ES东发泵汽油和机油是自动匹配,和VC52和VC82是一样的,V20D2S东发泵是汽油和机油30:1要人工匹配。东台市凯航安全装备有限公司位于江苏省东台市，坐落于江苏省沿海中部，长江三角洲北翼，是中国的“鱼米之乡”，被誉为“黄海明珠”。公司主营:船用油水分离器,污水处理装置，15ppm油份浓度报警器，OCM-15舱底水报警器，组装式压力水柜，电加热压力水柜，三片式救生衣，海事救生衣，船用工作救生衣，ZHPTQ气动式抛投器，RSCY-A4船用救生衣，XT-5582M气胀式救生衣美国NRS激流救援救生衣，防滑网，CCS海上撤离系统，游艇救生筏，自扶正气胀式救生筏，可吊式救生筏，救生圈，Hammar H20R静水压力释放器，10人平台吊笼，救生浮具，救生气垫，PY8/700泡沫灭火装置，PSY50消防水炮，PLKDC电动消防炮，高压细水雾灭火装置，L型水枪，高压脉冲水枪，折叠式堵水墙，消防栓，耐火救生绳，细水雾灭火装置，水带接口，消防员个人装备，9575卫星电话，FT-8700船用自动识别系统，FT8800船载AIS设备，古野FA-170避碰仪，XF-808BAIS自动识别系统，新诺XA-200，AIS-B-1200，FT-9800网位仪，顺航SH-998，古野GP-170，HD-1000CF导航仪，海洋HD-70CF鱼探仪，古野雷达，飞通IC-988B渔用无线电话，JRC JAX-9B气象传真机，无线电示位标，FT-8200示位标，甚高频对讲机，艾可幕海事对讲机，IC-GM1600E甚高频电话，HX1500无线电话，韩国三荣STR-6000A甚高频，IC-M88海事对讲机，船用防水对讲机，古野FCV-1900/1150鱼探仪，摩托罗对讲机深仪，上海埃威AWENA-1电子海图，JRC JAN-2000电子海图，卫星C站，救生衣灯，救生筏灯，白昼信号灯，网标灯，MR-1210R2雷达，FAR-2127雷达，日本JRC雷达，光电雷达，宁禄船用风速仪，DS2007测深仪，俊禄DS606-2测深仪，赛洋测JQ83潜水服，693潜水面罩，保温服，消防隔热服，洗眼器，消防防化服，液氮防护服，海事头盔，KCB-200船用齿轮泵，100CWZ-18离心泵，德国宝华充气泵，1CWF-11B船用粉碎泵，自吸式排污泵，SSQ85泡沫输转泵，WD-2雾笛，WDK-1船用雾笛控制器，防腐锌块，WD-2A电笛，正压式空气呼吸器，国际信号旗，抛缆球，町野式母扪盖,町野式短身水枪,町野式三段水枪,美式短身水枪,美式内牙配外牙消防栓（公）,美式直流水枪卡环式,东台市凯航安全装备有限公司为每一位客户进行产品实施工作，包括了解客户需求、根据客户需求提供解决方案，以丰富的行业经验与专业的服务保障客户项目成功实施。

该仪器主要适用于有机涂料划格法附着力的测定。不仅适用于实验室，也可用于各种条件下的施工现场。工作原理和适用范围 该仪器以一定规格的工具，将涂层做格阵图形切割并穿透，划格完成的图形按六级分类，评定涂层从底材分离的附着效果。1、适用适用于测定塑胶及木器家具表面漆膜厚度小于250mm的漆膜于基材附着力度。2、适用于喷涂或电镀产品表面的粘附力强弱牢度或底面漆相互结合的强弱力度。技术参数指标1、 导格规根据BS3962-6，GB4893.4-85标准设计制造，具有方便简单等特点。2、 割痕间距：1mm,1.5mm,2mm,3mm,3、 割痕长度：35mm,4、 割痕数量：11条,操作使用方法1、测试片必须按ISOR1514及ISO2828的规定制备。2、将试片放置在有足够硬度的平板上。3、手持导格规（百格板）使底面完全与做好表面涂层物的表面平贴。4、使用均力压制百格板，用利刃介刀平稳不颤动?氖址ㄒ?20-50mm/S的切割速度割划。5、将百格板旋转90度，在所割划的切口上重复以上操作，以使形成格阵图形。6、用软毛刷清理掉划下的毛屑使用试片表面格阵图形。7、用符合标准的胶带贴在划格的表面并撕起胶带来观察其表面的涂层附着力强度。注意事项1、 所有切口应穿透涂层，但切入底材不得太深。2、 如因涂层过厚和硬而不能穿透到底材，则该实验无效，但应在试验报告中说明。3、 测试胶带必须是美国3M公司生产的610-1PK测试专用胶带。将胶带贴在整个划格上，然后以最小角度撕下，结果可根据漆膜表面被胶落面积的比例来求得。4、 试验应在温度23±2℃和相对湿度50±5%中进行。

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产品介绍：1.产品特点 可以进行10个毛细管样品的自动进样； 通过STOE软件来调整毛细管在X射线束中的位置和曝光时间； 附加手动高度调节来优化样品在光束中的位置； 毛细管样品转换后无需校准。 2.适用仪器 STADI P、STADI MP

人绒毛膜促甲状腺激素(hCT)elisa试剂盒本试剂盒采用双抗体夹心ELISA法，用于体外定量检测Human 血清，血浆或其他生物体液中天然及部分重组hCT浓度。

核辐射损伤洗消箱产品介绍： 核辐射损伤洗消箱是中国辐射防护研究院研制的核损伤洗消箱采用箱式整体包装，携带方便，可提可背，洗消液具有独立凹槽，可缓震、防磕碰，可应用于核工业、核医学、核事故等场所的应急救治。核损伤洗消箱包含锕系核素洗消液、过渡金属洗消液、碘洗消液、伤口洗消液和皮肤洗消液等产品。各洗消液均独立封装，使用时撕掉外部覆膜，打开盖按压喷涂即可，使用方便。针对锕系核素、过渡金属、碘等不同放射性核素，各洗消液分别采用了其特异性络合剂和表面活性剂等成分按一定工艺配置而成，因此可有效去除体表其对应放射性污染，阻断核素的体内转移及沉积，并对其他核素也有一定去除效果。其中伤口洗消液还具有止痛、杀菌作用。tian补了部分核素去除领域的国内kong白，并获得了第三方实验室的quan威认证，并具有ji高的性价比，可广泛应用于核电，部队，医疗、民用日常或应急防护。1.产品名称：去除放射性核素洗衣（洗消）液产品内容描述：净核宝去除放射性核素洗衣（洗消）液采用专业配方，高效去除放射性核素，有效去除织物静电，朝强洁净、易漂洗、无残留，高档织物洗护，更柔顺舒适。2.产品名称：去除放射性核素全能洗消液（泡沫型）产品内容描述：去除放射性核素全能洗消液（泡沫型）用于日常皮肤表面放射性核素（Tc、F、I、Co、Cs、Mn、U、Th等）的洗消去污。在使用时取掉泵头下方卡扣，轻压泵头（初次使用需要按压2-3次）即可出现绵密慕斯泡沫，泵出洗消液于手心，揉搓污染部位后清水冲洗，可以高效去除放射性核素。3.产品名称：去除放射性核素全能洗消液产品内容描述：去除放射性核素全能洗消液用于物体及皮肤表面（金属表面喷涂后及时擦拭）放射性核素（Tc、F、I、Co、Cs、Mn、U、Th等）的洗消去污。在使用前充分摇匀，适量喷洒于受到放射性核素的皮肤表面或者物体表面，用纸巾或软毛刷轻轻擦洗约1分钟左右，并用适量清水清洗，擦拭干净，可以高效去除放射性核素。4.产品名称：放射性核素洗消去污湿巾产品内容描述：放射性核素洗消去污湿巾用于放射性核素沾污去污，对常见放射性核素均具有较强的去除能力。在使用时，将湿巾打开，尺寸为230*230mm，擦拭手、脸等皮肤被污染部位，湿巾双面使用，重复擦拭3-5次。

一、主要性能特点： 1. 大屏幕液晶，触屏操作，中英文可切换两种显示。2. 高定制的温控技术，宽幅的升温速率，快速的降温系统。 3. 完善的自诊断功能，可以方便的检查故障部位和故障类型。 4. 完善的温度过热保护及铂丝电阻开路、短路报警功能，保证温度不失控。 5. 可选配内置AD转换电路，直接输出数字信号。6. 可靠的温度过热保护、断电保护、断气保护以及铂丝电阻开路、短路报警功能。 7. 在有干冰或液氮的条件下，可实现负温度操作，支持-80℃至450℃的宽范围的温度控制。 8． 可同时安装二个填充柱一支毛细管柱或同时安装两支毛细管柱， 9. 可以实现双TCD、双FID、或者两者同时工作，可同时安装三个检测器和甲烷转化炉。 10. 手动进样、自动启动进样装置、自动点火等功能任选。11. 可实现检测器、色谱柱的串并联和多维色谱系统，成为各种专用分析的最佳选择机型 。12. 可以安装各种自动进样器、顶空进样器、热解析仪、气体自动进样阀等外部设备。 13. 六路控温，七阶程序升温，毛细管和填充柱汽化室独立控温，智能双后开门。 14. 具有进样自动采集功能（专利号：ZL 2012 20285852.6）和加热一体式模块技术（专利号ZL 2012 20286908.X） 一、主要技术指标： 1. 柱箱控温范围：室温+5℃-450℃（以0.1℃为增量任设）。 2. 温度精度：不大于±0.1℃。 3. 温度梯度：±1℃（100℃-360℃程序升温）。 4. 升温速率：0.1℃-40℃/min（以0.1℃为增量任设）。 5. 进样口、检测器控温范围：室温+10℃-400℃。 6. 电压220V±10%，最大功率2200W。 检测器敏感度/灵敏度 噪音漂移线性特点FIDMf≤1×10-11g/s(苯，CS2)≤ 0.02mV≤0.15mV/h≥107铂金点火丝、刚玉瓷喷嘴TCDS≥5000mV.ml/mg(苯)≤ 0.02mV≤0.15mV/h≥105进口铼钨丝、恒流供电FPDMp≤2×10-11g/sec(1605)Ms≤5×10-11g/sec(噻吩)≤ 0.02mV≤0.15mV/h单火焰设计、适用于硫、磷残留分析NPD Mf≤5×10-12g/s( 偶氮苯)Mf≤5×10-12g/s(马拉硫磷 )≤ 0.02mV≤0.15mV/h进口铷珠、适用于磷的残留分析ECDMf≤1×10-13g/ml(r-666)≤ 0.02mV≤0.15mV/h≥107Ni63放射源；适用于电负性物质的残留分析三、检测器技术指标： 注：外型尺寸: 660*460*465mm 整机重量：60kg 输入电源：AC 200V±10% 50HZ 2KW

兆声辅助湿法去胶技术SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统应用：湿法去胶带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统的特点： 机械手全自动上下载片支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统选配项：多系统集成掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

兆声湿法去胶技术SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统应用： 光刻胶去除，剥离带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统的特点：支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统选配项：机械手自动上下载片掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

兆声清洗技术SWC-4000 (W) 兆声晶圆清洗机概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-4000 (W) 兆声晶圆清洗机应用：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-4000 (W) 兆声晶圆清洗机的特点：支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积 SWC-4000 (W) 兆声晶圆清洗机选配项：掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

兆声清洗技术SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机应用：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机的特点：支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机选配项：掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

兆声清洗技术SWC-4000 (C) 兆清洗系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-4000 (C) 兆清洗系统应用：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-4000 (C) 兆清洗系统的特点：支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-4000 (C) 兆清洗系统选配项：机械手自动上下载片掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

兆声清洗技术SWC-5000 (AC)全自动兆声清洗系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-5000 (AC)全自动兆声清洗系统应用：湿法刻蚀带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-5000 (AC)全自动兆声清洗系统的特点： 机械手全自动上下载片支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-5000 (AC)全自动兆声清洗系统选配项：多系统集成掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

【简单介绍】目前膜片钳实验记录电极一般选择硼硅酸盐玻璃拉制，较少使用其他类型。一般选择外径1.2mm-1.5mm的玻璃毛坯做膜片钳实验，细胞内注射可选择外径1.0mm。如果做单通道膜片钳记录，可选择壁厚的；如果做全细胞记录，对壁厚一般没有特殊要求【详细说明】目前膜片钳实验记录电极一般选择硼硅酸盐玻璃拉制，较少使用天然石英其他类型。一般选择外径1.2mm-1.5mm的玻璃毛坯做膜片钳实验，细胞内注射可选择外径1.0mm。如果做单通道膜片钳记录，可选择壁厚的；如果做全细胞记录，对壁厚一般没有特殊要求。 1. 美国Sutter公司 生产各种型号的玻璃毛坯，用于拉制玻璃微电极。见下表。 STANDARD WALL BOROSILICATE TUBING标准壁硼硅酸盐玻璃毛坯（有芯）型号（目录号）外径内径长度数目/包装BF100-50-7.51.00mm0.50mm7.5cm225BF100-50-101.00mm0.50mm10cm225BF100-50-151.00mm0.50mm15cm225BF100-58-101.00mm0.58mm10cm250BF100-58-151.00mm0.58mm15cm250BF120-60-101.20mm0.60mm10cm225BF120-69-101.20mm0.69mm10cm250BF120-69-151.20mm0.69mm15cm250BF150-75-101.50mm0.75mm10cm225BF150-86-7.51.50mm0.86mm7.5cm250BF150-86-101.50mm0.86mm10cm250BF150-86-151.50mm0.86mm15cm250BF200-100-102.00mm1.00mm10cm225BF200-116-102.00mm1.16mm10cm250BF200-116-152.00mm1.16mm15cm250标准壁硼硅酸盐玻璃毛坯（无芯）型号（目录号）外径内径长度数目/包装B100-50-101.00mm0.50mm10cm225B100-50-151.00mm0.50mm15cm225B100-58-101.00mm0.58mm10cm250B100-58-151.00mm0.58mm15cm250B120-69-101.20mm0.69mm10cm250B120-69-151.20mm0.69mm15cm250B150-86-7.51.50mm0.86mm7.5cm250B150-86-101.50mm0.86mm10cm250B150-86-151.50mm0.86mm15cm250B200-116-102.00mm1.16mm10cm250B200-116-152.00mm1.16mm15cm250 THIN WALL BOROSILICATE TUBING薄壁硼硅酸盐玻璃毛坯（有芯）型号（目录号）外径内径长度数目/包装BF100-78-101.00mm0.78mm10cm250BF100-78-151.00mm0.78mm15cm250BF120-94-101.20mm0.94mm10cm250BF120-94-151.20mm0.94mm15cm250BF150-110-7.51.50mm1.10mm7.5cm225BF150-110-101.50mm1.10mm10cm225BF150-117-101.50mm1.17mm10cm250BF150-117-151.50mm1.17mm15cm100BF200-156-102.00mm1.56mm10cm250BF200-156-152.00mm1.56mm15cm100WITHOUT FILAMENT薄壁硼硅酸盐玻璃毛坯（无芯）型号（目录号）外径内径长度数目/包装B100-75-101.00mm0.75mm10cm225B100-75-151.00mm0.75mm15cm225B120-90-101.20mm0.90mm10cm225B150-110-7.51.50mm1.10mm7.5cm225B150-110-101.50mm1.10mm10cm225B200-156-102.00mm1.56mm10cm250B200-156-152.00mm1.56mm15cm250 MULTIBARREL BOROSILICATE1 WITH FILAMENT多管硼硅酸盐玻璃毛坯（有芯）型号（目录号）外径内径长度数目/包装2BF100-50-102 barrels1.00/0.5010cm752BF100-75-102 barrels1.00/0.7510cm752BF150-86-102 barrels1.50/0.8610cm1002BF150-86-152 barrels1.50/0.8615cm1003BF100-50-103 barrels1.00/0.5010cm753BF100-75-103 barrels1.00/0.7510cm753BF120-69-103 barrels1.20/0.6910cm1003BF120-69-153 barrels1.20/0.6915cm100 QUARTZ TUBING WITH FILAMENT石英毛坯（有芯）型号（目录号）外径内径长度数目/包装QF100-50-7.51.00mm0.50mm7.5cm100QF100-50-101.00mm0.50mm10cm100QF100-60-7.51.00mm0.60mm7.5cm100QF100-60-101.00mm0.60mm10cm100QF100-70-7.51.00mm0.70mm7.5cm100QF100-70-101.00mm0.70mm10cm100QF100-70-151.00mm0.70mm15cm100QF120-60-7.51.20mm0.60mm7.5cm100QF120-90-101.20mm0.90mm10cm100QF150-75-7.51.50mm0.75mm7.5cm100WITHOUT FILAMENT石英毛坯（无芯）型号（目录号）外径内径长度数目/包装Q100-30-7.51.00mm0.30mm7.5cm100Q100-30-151.00mm0.30mm15cm100Q100-50-7.51.00mm0.50mm7.5cm100Q100-50-101.00mm0.50mm10cm100Q100-70-7.51.00mm0.70mm7.5cm100Q100-70-101.00mm0.70mm10cm100Q114-53-8.91.14mm0.53mm8.9cm100Q120-40-7.51.20mm0.40mm7.5cm100Q120-60-7.51.20mm0.60mm7.5cm100Q120-90-7.51.20mm0.90mm7.5cm100Q120-90-101.20mm0.90mm10cm100Q150-50-7.51.50mm0.50mm7.5cm100Q150-75-7.51.50mm0.75mm7.5cm100Q150-75-101.50mm0.75mm10cm100Q150-110-101.50mm1.10mm10cm100Q165-115-101.65mm1.15mm10cm100

Barranca钻石BD10修整锯与1/3马力的电机完美适配切割方面材料，乳石和所有类型的岩石板。以15-3/8" x 19-1/2"的工作台面轻松地切片。特性：• 所有铸铝罐、工作台、刀片防护罩和动力馈电箱• 铰链式桌面，便于清除污泥/油垢和刀片• 垂直岩石虎钳夹紧系统• 使用手动修边锯时，虎钳可以旋转• 密封叶片arbor-bearing组装• PETG高冲击，共聚物罩• 黄铜离合器板接合/分离系统• 单速(每分钟3/16英寸进给率)动力进给系统• 安装在1/2英寸的聚丙烯底座上• 专业宝石钻石刀片(10英寸×0.040×5/8)• 装运重量80磅装箱 规格参数：• 电机：Leason• 马力：1/3• 电流：5.8• 电机转速：1,725RPM• 叶片芯轴：5/8”• 叶片容量：8" - 10"• 切割深度-手动切割：3”-动力进给切割：2 - 5/8"• 最大：虎钳开口:3 - 1/4"• 尺寸：27英寸x17英寸x19英寸(69×43×48厘米) • 重量：70磅(31.8公斤) 产品编号：127-68：115V，60Hz127-68-1：230V，50Hz

矿用塑料柱鞋是一种由支撑面、支撑筋、嵌镶槽组成的抗静电轻型柱鞋柱帽,其整体可采用抗静电剂改性MＣ塑料浇铸成型或采用抗静电深层或采用抗静电膜涂在柱鞋柱帽外表面，机械性能指标和抗静电性能指标达到矿用使用要求，特别适用于煤矿采煤工作面，单体液压支柱和摩擦支柱。　　规格：260mm、280 mm、300 mm、320mm、350mm、400mm　　矿用塑料柱鞋适用于煤矿及其它矿井、隧道等工作面支护用的单体支柱柱鞋,本产品实用新型涉及矿井支护类产品，用于软底回采工作面，尤其是特软底板条件的单体支柱柱鞋。

产品名称：电子万能材料试验机供应商 拉力机产品型号：BWN-5KN主要技术指标 1、最大试验力：0—5KN2、试验力分档：全程不分档，全程分辨率不变3、试验力显示范围:0～5KN4、试验力有效测量范围：满量程的2%～100%5、试验力测量精度：优于示值的±1%6、位移速度控制范围：0.05mm/min～500mm/min，无级调速，速度任意设定7、位移分辨率：0.01mm8、位移速度控制精度：优于±0.5%9、位移测量准确度：优于±0.5%10、拉伸行程：0～1000mm（不含附具）11、软件及用户界面：WINDOWSXP操作环境下的软件和交互式人机对话操作界面12、供电电源：220V，50Hz 功能介绍1）自动停机：试样破坏后，移动横梁自动停止移动（或自动返回初始位置）2）自动换档：根据试验力大小自动切换到适当的量程，以确保测量数据的准确性3）条件模块：试验条件和试样原始数据可以建立自己的标准模块的形式存储；方便用户的调用和查看，节省试验时间4）自动变速：试验过程的位移速度可自动完成也可手动改变5）自动保存：试验结束，试验数据和曲线计算机自动保存，杜绝因忘记存盘而引起的数据丢失6）测试过程：试验过程及测量、显示、分析等均由微机完成7）批量试验：对相同参数的试样，一次设定后可顺次完成一批试验8）试验软件：中文Windows用户界面，操作简便9）显示方式：数据与曲线随试验过程动态显示10）曲线遍历：试验完成后，可对曲线进行放大再分析，用鼠标查到试验曲线上各点对应的数据11）试验报告：可根据用户要求进行编辑打印12）限位保护：具有程控和机械两级限位保护13）过载保护：当负荷超过额定值3～5%时，自动停机14）自动和人工两种模式求取各种试验结果，自动形成报表，使数据分析过程变的简单，便于用户的调用和查看。性能特点： 微机控制电子万能试验机、采用国外先进设计理念，外形美观、操作方便、性能稳定可靠。计算机通过我公司研制的全数字控制系统进行采集控制、经全数字调速控制器直接控制全数字调速电机转动、电机转速经圆弧同步减速系统减速后传递给精密滚珠丝杠副实现横梁上升、下降，完成试样的拉伸、剥离、压缩等力学性能试验。试验机专业软件实现自动求取定伸长率、定力伸长、抗拉强度、试样延伸率、上、下屈服及屈服强度等数据，还可满足位移保持控制。计算机控制系统对试验过程的控制和数据处理符合相应金属、非金属及复合材料国家标准的要求、试验报告多样化如WORD、EXECEL等方式。本机无污染、噪音低，效率高，具有较宽的调速范围。本机适用于各种金属、非金属及复合材料的力学性能指标的测试，完全符合国家相关标准的要求。该机广泛应用于建筑建材、航空航天、机械制造、电线电缆、橡胶塑料、纺织、家电等行业的材料检验分析，是科研院校、大专院校、工矿企业、技术监督、商检仲裁等部门的理想测试设备。主机配置 高强度主机一台 高精度光电编码器一只 全数字调速系统和全数字调速电机各一套 高精密滚珠丝杠副一套 精密圆弧同步减速系统一套 高精度负荷传感器一支 专用拉伸辅具一套计算机一台打印机一台 AD800万能试验卡一套试验机专用软件一套万能试验机的颐养技巧 1、仪器需放置在契合的状态中，最佳单调、洁净、防晒、防烦扰的情况中。 2、运用人员需把握仪器的构造、道理、操作流程和性能特性等，避免由于误断给仪器带来的损伤。3、严谨的仪器运用，维护制度。最佳依据分歧仪器的赋性订定维护人员和维护周期，停止定期的考试，并做好关联记载，以便当日后查阅。 4、仪器取、放时，需胆怯如鼠，避免摔碰构成涣散。同时仪器最佳平放在水平、顽固的中央。5、、关于运用干电池的仪器装备，长期没紧要时要将电池掏出后寄放，避免电池靡烂涣散仪器。6、防尘。许多粗拙仪器在沾附了尘埃后，会涌现各种毛病，也会影响测试的精度等。因而要屡屡对仪器停止除尘处置，可用干布拭擦，毛巾掸刷，软毛刷刷，仪器内部尘埃可采用吹气除尘、吸尘器吸尘等。非凡的仪器或许用用镜头纸拭擦。 7、机械及传动等，要定期除锈迹、污物、并补充润滑油。

兆声去胶技术SWC-3000 (D) 兆声辅助光刻胶剥离系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模板清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC-3000是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。 SWC-3000 (D)兆声辅助光刻胶剥离系统应用：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-3000 (D)兆声辅助光刻胶剥离系统的特点： 台式系统无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干支持12”直径的圆片或9”x9”方片微处理机自动控制IR红外灯 SWC-3000 (D)兆声辅助光刻胶剥离系统选配项：掩模版或晶圆片夹具PVA软毛刷清洗化学试剂清洗(CDU)氮气离子发生器

兆声清洗技术SWC-3000 (W) 兆声晶圆清洗机概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-3000 (W) 兆声晶圆清洗机应用：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-3000 (W) 兆声晶圆清洗机的特点：台式系统 无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干支持12”直径的圆片或9”x9”方片微处理机自动控制IR红外灯 SWC-3000 (W) 兆声晶圆清洗机选配项：掩模版或晶圆片夹具PVA软毛刷清洗化学试剂清洗(CDU)氮气离子发生器

兆声清洗技术SWC-3000 (M) 兆声掩模板清洗机概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模板清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-3000 (M) 兆声掩模板清洗机应用：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-3000 (M) 兆声掩模板清洗机的特点：台式系统 无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干支持12”直径的圆片或9”x9”方片微处理机自动控制IR红外灯SWC-3000 (M) 兆声掩模板清洗机选配项：掩模版或晶圆片夹具PVA软毛刷清洗化学试剂清洗(CDU)氮气离子发生器

仪器简介：本仪器是单柱、双气路的小型气相色谱仪。具有配置FID的GC-2011F型或配置TCD的GC-2011T型两种形式。仪器图片： 技术参数：主要技术指标： 1、控温范围：室温 +8℃-420℃ 控温精度：在 200℃以内为±0.1℃；在200℃以上为±0.2℃ 五阶程序生温.升温速率： 1-30℃/分钟 2、FID检测器： 敏感度Mf≤2×10-11 g/s(苯) 线性范围 107 噪音：≤0.02mV 漂移：≤0.1mV/h 3、 TCD检测器 灵敏度≥2500mV.ml/mg(苯) 噪音：≤0.02mV 漂移：≤0.1mV/h主要特点：主要性能特点： 1、中文大屏幕 LCD 显示器，显示内容丰富直观，设定参数及其方便。 2、采用了微机自动点火装置。 3、采用了稳定可靠的数字调零，避免了电位器调零引起的基线不稳定现象。 4、单柱、双气路结构，基本配置为FID或TCD检测器。 5、配备一个填充柱汽化室和一个专用毛细管进样系统， 6、具有五阶程序升温功能。 7、具有变频功能的智能后开门自动降温装置，实现了真正意义上的近室温操作。 8、具有掉电保护功能，可自动记忆设定参数。 9、具有超温保护功能，温度超过所设上限自动断电并报警。任一路温度超过设定温度，均会自动停止加热；并有中文提示故障原因及报警提示． 10、具有断气/漏气保护及中文提示功能，可最大限度地保护 TCD钨丝和色谱柱不受损害. 11、具有掉电保护功能，可自动记忆设定参数。具有抗电源突变干扰功能和秒表计时功能．