六甲基二硅脲

有毒挥发性有机物（VOC）的泄漏只要化学品生产装置存在，就存在有毒挥发性有机物泄漏的潜在危险，监管机构通常都会要求工厂监测环境气体成分，以避免工人受到长期接触的伤害。有各种形式的捕获装置包括真空罐（苏玛罐）、可挥发性有机物报警器或吹扫和捕获装置。收集到的样品需要送往环境实验室进行分析。另外，还可利用电化学传感器来即时显示是否存在浓度超过预定水平的目标分子。还有一种定量方法是使用开路式傅利叶变换红外光谱仪测定VOC是否在警戒线以内。利用这些不同技术获得的数据，通常都用来满足当地法规的要求。然而，这些技术都不能提供满足诉讼依据要求的时间和空间的分辩率。Sentinel PRO环境质谱仪：简单全面的数据采集Sentinel PRO环境质谱仪能够在15分钟以内监测100个以上的取样点，并在0.01至1ppm精度范围内检测特定物质。凭借其速度和精度，它可监测所有关键区域的短时泄漏，并提供准确的8小时、时间加权平均泄露数据。由于具有大量可用的取样点，许多取样点可位于靠近潜在泄漏点的地方，如：阀杆处等，以便在有毒危害发生之前进行泄漏检测和修复。尽管安装这种装置的主要目的是为了保护操作人员和符合环保法规，但其使用效果往往超越了对泄露防护的要求。Sentinel PRO ：渗透膜进样质谱仪 Sentinel PRO环境质谱仪之所以取得成功，关键之一是独特的配有32或64接口的快速多流路取样器(RMS）。它采用零死体积设计，可实现快速置换，且交叉干扰为零。每台Sentinel PRO质谱仪均可装配两套RMS，这样，一个单一系统便可代替很多的灵敏度较差、单组分的分析仪。RMS包括一个旁路取样设计，允许一个流量检测器对各流路依次监测。如果过滤器出现堵塞，或液体堵住取样管，系统就会发出报警。分析仪配有一个渗透膜进样口,以便将空气样品的压力由大气压减小至 Sentinel PRO封闭离子源的工作压力（通常为10-4 mbar）。这个渗透膜进样口采用的进样方法可大大提高系统对挥发性有机物（VOC）的灵敏度。对绝大多数 VOC而言，通常可达到 ppb级检测限，确保Sentinel PRO质谱仪能适应未来法规的变化。由于渗透膜对 VOC的渗透性要强于对空气的渗透性，所以，它通常能够提供多个数量级的富集，包括＜0.01ppm的苯检测限。Sentinel PRO质谱仪有经过加热的进样探针组件，可提供稳定的有代表性的样品进入离子源。此外，进样探头采用符合人体工程学的设计，允许在每年的日常例行维护中轻松更换渗透膜，以便最大限度缩短停机时间，提高生产率。 Sentinel PRO：检测极限从 0.01PPM丙酮乙腈丙烯腈苯丁二烯二硫化碳四氯化碳氯仿氯苯环己烷二氯甲烷二甲乙酰胺（DMAC）二甲基甲酰胺（DMF）二恶烷环氧氯丙烷乙苯环氧乙烷氟利昂六甲基二硅烷氰化氢溴甲烷甲基乙基酮碘甲烷甲基异丁基酮甲基丙烯酸甲酯 1甲基 2吡咯烷酮甲基叔丁基醚（MTBE）环氧丙烷异丙醇苯乙烯四氢呋喃四氯乙烯甲苯三氯乙烯醋酸乙烯乙烯基溴化氯乙烯二甲苯

MERCK默克Supelco色谱科固相微萃取萃取头sigma西格玛SPME纤维组件二乙烯基苯/羧基/聚二甲基硅氧烷 (DVB/CAR/PDMS 50/30UM)SPME纤维头57328-U手柄57329-U自动DVB/CAR/PDMS 50/30UM SPME纤维头组件二乙烯基苯/羧基/聚二甲基硅氧烷固相微萃取头探针名称:SPME固相微萃取萃取头规格:DVB/CAR/PDMS 50/30μm 3支/盒品牌:MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛货号:57328-U/57329-U※产品详细说明※:一、SPME固相微萃取技术概述SPME是一种集采样、萃取、浓缩和进样于一体的样品前处理技术，它利用涂有高分子薄膜的熔融石英纤维来吸附样品中的挥发性或半挥发性有机物，然后直接进行气相色谱（GC）或液相色谱（HPLC）等分析。这种技术具有操作简便、无需溶剂、灵敏度高、选择性好等优点，被广泛应用于环境分析、食品安全、药物检测等领域。二、SPME固相微萃取纤维头57328-U和57329-U的详细信息1. 产品型号与品牌型号：57328-U和57329-U品牌：Supelco（MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛）2. 涂层与规格涂层：两者均采用二乙烯基苯（DVB）/羧基（CAR）/聚二甲基硅氧烷（PDMS）复合涂层，涂层厚度为50/30μm。这种复合涂层结合了DVB的高吸附能力、CAR的选择性和PDMS的通用性，适用于多种化合物的萃取。规格：纤维头长度通常为1cm（除非特别注明为2cm），可伸缩于不锈钢细管内。3. 使用方式57328-U：手动式，适用于与手动进样手柄配合使用，进行气相色谱分析。57329-U：自动式，适用于与自动进样系统配合使用，实现自动化分析。4. 应用范围两者均广泛用于香味物质（挥发性和半挥发性C3-C20）的分析，包括但不限于以下领域：生物药物分析：如血清、血液、血浆、尿液等生物样本中的药物和代谢产物分析。饮品分析：果汁、酒等饮品中的风味成分和添加剂分析。农残分析：烟草、蔬菜、水果、谷物等农产品中的农药残留分析。环境分析：水样中的有机物、气体硫化物和挥发性有机化合物（VOCs）的检测。毒物分析：血、尿、体液中的药物和毒V品分析。三、注意事项选择合适的纤维头：根据样品的极性和吸附能力选择合适的纤维头，以确保分析结果的准确性。操作规范：在使用过程中应严格遵守操作规程，避免纤维头受损或污染。存储条件：纤维头应存放在干燥、避光、无尘的环境中，以保持其性能和稳定性。综上所述，SPME固相微萃取纤维头57328-U和57329-U是两款性能优越、应用广泛的固相微萃取工具，适用于多种化合物的分析和检测。在选择和使用时，应根据具体需求进行考虑和操作。※固相微萃取(SPME)整套装置及选配耗材※:序号、货号、名称描述①、57330-U SPME手柄(手动或自动)②、2637505 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)③、57333-U SPME专用采样台用于4ml瓶④、57357-U SPME专用采样台用于15ml瓶⑤、PC-420D SPME专用磁力加热搅拌装置⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子⑦、57332 SPME专用温度计⑧、57356-U SPME专用进样导管(岛津不可用)⑨、27136 SPME专用专用采样瓶 4ml ⑩、27159 SPME专用专用采样瓶 15ml (11)固相微萃取头(SPME萃取头), (具体信息参见SPME萃取头订购信息)※Supelco SPME萃取头(固相微萃取头)订货信息※:订货号产品名称描述产品应用手动式自动式57330-U57331SPME手柄和萃取头连用573185731975um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(MW30-225)用于气体和小分子量化合物57334-U57335-U85um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(高保留)用于气体和小分子量化合物57302573037um PDMS 固相微萃取头,3支 (MW 125-600)用于非极性大分子量化合物573085730930um PDMS 固相微萃取头,3支用于非极性半挥发性化合物57300-U57301100um PDMS固相微萃取头,3支(MW 60-275)用于挥发性物质57310-U5731165um PDMS/DVB固相微萃取头,3支(MW 50-300)用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物57326-U57327-U65um PDMS/DVB固相微萃取头(不含弹簧2cm),3支用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物(MW 50-300)573045730585um,Polyacrylate, 固相微萃取头,3支 (MW 80-300)用于极性半挥发性化合物57328-U57329-U50/30um,DVB/CAR/PDMS,Stableflex固相微萃取头,3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)/5731760um PDMS/DVB 固相微萃取头(用于HPLC),3支用于胺类或极性化合物57348-U/50/30um DVB/Car on PDMS固相微萃取头(2cm),3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)5730657307SPME萃取头套装1用于挥发性和半挥发性物质85umPA,100um PDMS,7umPDMS各一支57320-U57321-USPME萃取头套装2用于水中挥发性或极性有机物75umCAR/PDMS.65umPDMS/DVB,85um PA各一支57323-USPME萃取头套装3用于SPME/HPLC分析60um PDMS/DVB,85um PA,100um PDMS各一支57324-U57325-USPME萃取头套装4用于香味物质分析100um PDMS,65um PDMS/DVB,75um CAR /PDMS各一支萃取头符号说明:CAR Carboxen CW CarbowaxDVB Divinylbenzene (二乙烯苯) PA Polyacrylate (聚丙烯酸酯)PDMS Polydimethylsiloxane (聚二甲基硅烷)※SPME固相微萃取的典型应用※:* 表面活性剂* 环境水样* 食品、香精、香料* 法庭样品* 血、尿和体液中药物* 聚合物和固样中痕量杂质(顶空方式)* 药物中残留溶剂* 气体硫化物及挥发物(VOC)美国Supelco公司专=利产品-固相微萃取(Solid Phase Micro Extraction),1994年获美国匹兹堡分析仪器会议R&D100项革新大奖,是一种应现代仪器的要求而产生的样品前处理新技术,几乎克服了以往一些传统样品处理技术的所有缺点,集采样、萃取、浓缩、进样于一体,便于携带,真正实现样品的现场采集和富集,能够与气相、气相-质谱、液相、液相-质谱仪联用,有手动或自动两种操作方式,让更多的分析工作者从重复、烦琐的操作中解脱出来。广泛应用于环保及水质处理、临床药理、公=安案件分析、制药、化工、国防等领域。 美国Supelco/Merck/Sigma/色谱科固相微萃取萃取头(DVB/CAR/PDMS 50/30um)57328-U/57329-U C3-C20大范围分析固相微萃取(SPME)非常小巧,状似一只色谱注射器,由手柄(Holder)和萃取头或纤维头(Fiber)两部分构成。萃取头是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有不同色谱固定相或吸附剂的熔融石英纤维头,纤维头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品。

固相微萃取头SPME纤维组件聚二甲基硅氧烷(PDMS 100UM)红色手动自动气相联用spme固相微萃取纤维头手动萃取头（PDMS 100um）57300-U/57301聚二甲基硅氧烷名称:SPME固相微萃取萃取头规格:PDMS 100μm 3支/盒品牌:Supelco货号:57300-U/57301※产品详细说明※:57300-U/57301SPME 纤维组件聚二甲基硅氧=烷 (PDMS)df 100 μm(PDMS, needle size 24 ga, for use with manual holder(手动/自动)SPME固相微萃取纤维头57300-U和57301的相关信息如下：概述：SPME（Solid Phase Micro Extraction）固相微萃取头是一种集成了采样、萃取、浓缩和进样功能的样品前处理新技术。纤维头由外套不锈钢细管的熔融石英纤维制成，长度约为1cm，涂有不同色谱固定相或吸附剂。纤维头在不锈钢管内可自由伸缩，用于萃取和吸附样品。手柄部分用于安装或固定萃取头。产品特性：适用于非极性高分子化合物（MW125-600）的萃取。自动操作方式（57301是自动的，与手动型号相对的是自动型号）。具体的包装数量未在文章中提及。适用于挥发性物质（MW60-275）的萃取。手动操作方式。3支/盒。57300-U：57301：操作方式：SPME固相微萃取技术提供了手动和自动两种操作方式，以适应不同的实验需求。应用领域：广泛应用于环保及水质处理、临床药理、公安案件分析、制药、化工、国防等领域。技术特点：克服了传统样品处理技术的许多缺点，如繁琐、耗时等。便于携带，真正实现样品的现场采集和富集。可与气相、气相-质谱、液相、液相-质谱仪等联用。萃取方式：SPME的萃取方式包括直接SPME法和顶空固相微萃取法（HS-SPME）。直接SPME法是将萃取纤维直接插入液体样品中，而HS-SPME法则是将萃取纤维置于液体或固体样品的顶空进行萃取。价格信息：57300-U的价格为（3支/盒）。57301的价格为（3支/盒）。请注意，以上信息基于提供的参考文章，具体的产品细节和价格可能因市场条件和供应商而异。在购买或使用时，请参考官方资料或联系供应商以获取最准确的信息。※固相微萃取(SPME)整套装置及选配耗材※:序号、货号、名称描述①、57330-U SPME手柄(手动或自动)②、2637505 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)③、57333-U SPME专用采样台用于4ml瓶④、57357-U SPME专用采样台用于15ml瓶⑤、PC-420D SPME专用磁力加热搅拌装置⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子⑦、57332 SPME专用温度计⑧、57356-U SPME专用进样导管(岛津不可用)⑨、27136 SPME专用专用采样瓶 4ml ⑩、27159 SPME专用专用采样瓶 15ml (11)固相微萃取头(SPME萃取头), (具体信息参见SPME萃取头订购信息)※Supelco SPME萃取头(固相微萃取头)订货信息※:订货号产品名称描述产品应用手动式自动式57330-U57331SPME手柄和萃取头连用573185731975um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(MW30-225)用于气体和小分子量化合物57334-U57335-U85um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(高保留)用于气体和小分子量化合物57302573037um PDMS 固相微萃取头,3支 (MW 125-600)用于非极性大分子量化合物573085730930um PDMS 固相微萃取头,3支用于非极性半挥发性化合物57300-U57301100um PDMS固相微萃取头,3支(MW 60-275)用于挥发性物质57310-U5731165um PDMS/DVB固相微萃取头,3支(MW 50-300)用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物57326-U57327-U65um PDMS/DVB固相微萃取头(不含弹簧2cm),3支用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物(MW 50-300)573045730585um,Polyacrylate, 固相微萃取头,3支 (MW 80-300)用于极性半挥发性化合物57328-U57329-U50/30um,DVB/CAR/PDMS,Stableflex固相微萃取头,3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)/5731760um PDMS/DVB 固相微萃取头(用于HPLC),3支用于胺类或极性化合物57348-U/50/30um DVB/Car on PDMS固相微萃取头(2cm),3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)5730657307SPME萃取头套装1用于挥发性和半挥发性物质85umPA,100um PDMS,7umPDMS各一支57320-U57321-USPME萃取头套装2用于水中挥发性或极性有机物75umCAR/PDMS.65umPDMS/DVB,85um PA各一支57323-USPME萃取头套装3用于SPME/HPLC分析60um PDMS/DVB,85um PA,100um PDMS各一支57324-U57325-USPME萃取头套装4用于香味物质分析100um PDMS,65um PDMS/DVB,75um CAR /PDMS各一支萃取头符号说明:CAR Carboxen CW CarbowaxDVB Divinylbenzene (二乙烯苯) PA Polyacrylate (聚丙烯酸酯)PDMS Polydimethylsiloxane (聚二甲基硅烷)※SPME固相微萃取的典型应用※:* 表面活性剂* 环境水样* 食品、香精、香料* 法庭样品* 血、尿和体液中药物* 聚合物和固样中痕量杂质(顶空方式)* 药物中残留溶剂* 气体硫化物及挥发物(VOC)美国Supelco固相微萃取(SPME)57330-U萃取头-产品特点技术指标:用途:小分子挥发性非极性物质PDMS 100um,非键合,红色平头 固相微萃取(SPME)非常小巧,状似一只色谱注射器,由手柄(Holder)和萃取头或纤维头(Fiber)两部分构成。萃取头是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有不同色谱固定相或吸附剂的熔融石英纤维头,纤维头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品 手柄用于安装或固定萃取头,可永久使用。

MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛SPME固相微萃取萃取头(PDMS/DVB 65μm)57310-U/57311MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛57310-U和57331 65μm PS-DVB 手动、自动固相微萃取萃取头，3支/盒SPME固相微萃取萃取头，二甲基硅氧烷/二乙烯基苯(PDMS/DVB)greener alternativedf 65 μm(PDMS/DVB, needle size 24 ga, for use with manual holder名称:SPME固相微萃取萃取头规格:PDMS/DVB 65μm 3支/盒品牌:MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛货号:57310-U/57311※产品详细说明※:一、基本信息产品编号：57310-U/57311品牌：MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛（美国品牌）规格：65μm PDMS/DVB（聚二甲基硅氧烷/二乙烯基苯）数量：通常为3支/盒应用范围：挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物（分子量范围约50-300）二、产品特点高效性：SPME技术集采样、萃取、浓缩、进样于一体，大大提高了分析效率。便携性：SPME固相微萃取头小巧轻便，便于携带，适合现场采集和富集样品。兼容性：能够与气相色谱、气相-质谱、液相色谱、液相-质谱仪等多种分析仪器联用。灵活性：手动或自动两种操作方式可选，满足不同实验需求。三、应用领域环保及水质处理：用于环境水样中污染物的检测。临床药理：药物残留溶剂（VOCs）的检测。案件分析：法庭样品中的毒物分析。制药：药物中残留溶剂的检测。化工：化工产品中挥发性成分的分析。食品与香精香料：食品、香精、香料中香味物质的分析。四、供应商购买信息供应商：多家公司如北京康林科技有限责任公司等提供该产品。五、注意事项在使用前请仔细阅读产品说明书，确保正确安装和使用。萃取头为精密仪器部件，请避免碰撞和损坏。使用过程中应注意安全和稳定性，避免高温、高压等极端条件。存储时应放置于干燥、阴凉处，避免阳光直射和潮湿环境。六、价格信息价格因供应商、促销活动等因素可能有所不同，具体价格请参考各供应商报价。综上所述，SPME固相微萃取头57310-U/57311是一款广泛应用于多个领域的精密分析仪器部件，具有高效、便携、兼容性强等特点。在购买和使用时，请务必注意相关事项以确保其正常工作和安全性。※PDMS/DVB 65μm SPME萃取头固相微萃取纤维头,是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有聚二甲基硅氧/-/烷/二乙烯基/-/苯 (PDMS/DVB) 双层色谱固定相或吸附剂的熔融石英的纤维头,SPME萃取头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品 ※固相微萃取(SPME)整套装置及选配耗材※:序号、货号、名称描述①、57330-U SPME手柄(手动或自动)②、2637505 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)③、57333-U SPME专用采样台用于4ml瓶④、57357-U SPME专用采样台用于15ml瓶⑤、PC-420D SPME专用磁力加热搅拌装置⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子⑦、57332 SPME专用温度计⑧、57356-U SPME专用进样导管(岛津不可用)⑨、27136 SPME专用专用采样瓶 4ml ⑩、27159 SPME专用专用采样瓶 15ml (11)固相微萃取头(SPME萃取头), (具体信息参见SPME萃取头订购信息)※Supelco SPME萃取头(固相微萃取头)订货信息※:订货号产品名称描述产品应用手动式自动式57330-U57331SPME手柄和萃取头连用573185731975um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(MW30-225)用于气体和小分子量化合物57334-U57335-U85um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(高保留)用于气体和小分子量化合物57302573037um PDMS 固相微萃取头,3支 (MW 125-600)用于非极性大分子量化合物573085730930um PDMS 固相微萃取头,3支用于非极性半挥发性化合物57300-U57301100um PDMS固相微萃取头,3支(MW 60-275)用于挥发性物质57310-U5731165um PDMS/DVB固相微萃取头,3支(MW 50-300)用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物57326-U57327-U65um PDMS/DVB固相微萃取头(不含弹簧2cm),3支用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物(MW 50-300)573045730585um,Polyacrylate, 固相微萃取头,3支 (MW 80-300)用于极性半挥发性化合物57328-U57329-U50/30um,DVB/CAR/PDMS,Stableflex固相微萃取头,3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)/5731760um PDMS/DVB 固相微萃取头(用于HPLC),3支用于胺类或极性化合物57348-U/50/30um DVB/Car on PDMS固相微萃取头(2cm),3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)5730657307SPME萃取头套装1用于挥发性和半挥发性物质85umPA,100um PDMS,7umPDMS各一支57320-U57321-USPME萃取头套装2用于水中挥发性或极性有机物75umCAR/PDMS.65umPDMS/DVB,85um PA各一支57323-USPME萃取头套装3用于SPME/HPLC分析60um PDMS/DVB,85um PA,100um PDMS各一支57324-U57325-USPME萃取头套装4用于香味物质分析100um PDMS,65um PDMS/DVB,75um CAR /PDMS各一支※美国MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛固相微萃取萃取头,PDMS/DVB 65μm SPME纤维头 ,部分交联,兰色平头,测挥发性物质、胺类和硝基芳族化合物质,色谱科货号57310-U ※聚二甲基硅氧烷二乙烯基苯 (PDMS/DVB) 固相微萃取萃取头57310-U/57311 SPME fiber assembly Polydimethylsiloxane/Divinylbenzene (PDMS/DVB)df 65μm(partially crosslinked phase, needle size 24 ga, for use with manual holder(Supelco) ※PDMS/DVB 65μm SPME萃取头固相微萃取纤维头,57310-U/57311是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有聚二甲基硅氧烷/二乙烯基苯 (PDMS/DVB) 双层色谱固定相或吸附剂的熔融石英的纤维头,SPME萃取头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品

FD-iCheck 磺胺二甲基嘧啶检测仪 产品简介FD-iCheck 磺胺二甲基嘧啶检测仪基于胶体金免疫层析快速检测技术（GICA）通过图像分析技术定量快速检测粮食作物、食用油、酱油、米酒、食醋中黄曲霉毒素B1、脱氧雪腐镰刀菌烯醇、玉米赤霉烯酮，以及赭曲霉毒素A等真菌毒素的含量，是中国与全球新一代真菌毒素、非法添加物、抗生素等食品安全快速检测技术与设备和解决方案的提供者。 产品优势1. 个性化服务：为每个企业每个产品提供专有的分析方法 2. 使用方便：可以用于实验室和现场的检测 3. 快速筛查：1 个小时 1 个人可以检测 30 个样品 4. 操作简单：不需要特殊的培训 5. 针对性强：具备项目校正和仪器校正，结果更可靠6. 环境友好：不需要有毒的标准品 7. 数据安全：电子标定二维码专用 8. 结果准确：最低检测限满足食品安全限量标准 9. 数据完整：测定结果实时显示、可以打印、可以转存计算机中 10. 配套性强：提供全套检测仪器设备，配套齐全，体积小，携带方便 检测项目序号产品名称样品类别检测范围ppb真菌毒素1黄曲霉毒素总量定量快检卡玉米、大米、小麦及其制品0-25坚果、籽类0-25植物油0-25辣椒、胡椒、中药材0-25茶叶0-10饲料0- 50/0-1002黄曲霉毒素M1定量快检卡乳及乳制品、婴幼儿配方食品0- 2.03玉米赤霉烯酮定量快检卡大米、玉米、小麦、饲料0-500/0-2000植物油0-5004呕吐毒素定量快检卡玉米、玉米面（渣、片）、小麦、饲料0-50005赭曲霉毒素A 定量快检卡小麦、谷物及其制品、饲料、咖啡0-20葡萄酒0-10辣椒、胡椒0-50非法添加物6三聚氰胺定量快检卡乳、饲料0-5007β-兴奋剂定量快检卡尿0-5.08苏丹红定量快检卡番茄酱、沙司、辣椒、红酒0-109玉米赤霉醇定量快检卡乳、畜产品0-10抗生素10卡那毒素定量快检卡乳0-20011磺胺二甲基嘧啶定量快检卡乳、畜产品0-5012恩诺沙星定量快检卡乳、畜产品0-200/0-50013庆大霉素定量快检卡乳、畜产品0-30014安普霉素定量快检卡乳、畜产品0-200/0-100015四环素定量快检卡乳0-20016氟喹诺酮类定量快检卡乳、畜产品0-200/0-50017链霉素定量快检卡乳、畜产品、蜂蜜0-250

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

n产品简介UNIXX HTe20型热板是一款桌面型半自动烘焙系统，用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺。 n产品特色÷ 温度高达 300°C÷ 电子驱动升降pin÷ 支撑pin材料为不锈钢，尖端采用 PEEK 材料 (最大250°C)÷ 程序控制支撑pin的升降（不同停止的速度和步数）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 热板盖手动控制÷ 集成排烟装置÷ 通过设置receip自动进行加热处理 n主要技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (? 8”) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度: 最大可达 300°C, 步进1°C÷ 温度精度: ±1°C@100°C ÷ 支撑pin: ?50 mm (?2”) ,最大可达 ?200 mm(?8”) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板材质: 硬质阳极氧化铝÷ 加热盖材质: 不锈钢 n可选项÷ 支撑pin材料÷ 边缘支撑pin÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆）÷ 600℃热板÷ 真空泵

热板HOTPLATES 温度模块(电子)最大 200 或最大 300mm温度模块设计用于基材的单面烘烤，用于预烘烤和后烘烤或脱水烘烤过程。osiris 特别提供用于粘合剂底漆(HMDS 六甲基二硅氮烷)的底漆，osiris提供用于蒸汽底漆或真空干燥的热板模块。带有电子可编程升降销的烘烤模块配有触摸屏，用于操作。osiris 软件提供了简单方便的过程控制和配方创建。用户友好和不言自明的界面强调了易用性，并使流程随时可控。这些温度模块有台式安装，塔式安装或独立安装的不同版本。UNIXX HvT20：（Ø 200mm）适用于HMDS底漆和真空脱水烘焙的台式热板工具。（可用台式或独立式）UNIXX HeT20：(Ø 200mm) 带有电子驱动升降销的台式热板工具。（或台式）UNIXX HpT20(Ø 200mm) 带气动升降销的台式加热板工具。（或台式）

产品简介UNIXX HTe20型热板是一款桌面型烘焙系统，用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），HMDS底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺。 产品特色÷ 温度高达 300°C÷ 电子驱动升降pin÷ 支撑pin材料为不锈钢，尖端采用 PEEK 材料 (最大250°C)÷ 程序控制支撑pin的升降（不同停止的速度和步数）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 热板盖手动控制÷ 集成排烟装置÷ 通过设置receip自动进行加热处理主要技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 Φ200 mm (8英寸) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度: 最大可达 300°C, 步进1°C÷ 温度精度: ±1°C@100°C ÷ 支撑pin: Φ50 mm (2英寸) ,最大可达 Φ200 mm(8英寸) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板材质: 硬质阳极氧化铝÷ 加热盖材质: 不锈钢可选项÷ 支撑pin材料÷ 边缘支撑pin÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆）÷ 600℃热板÷ 真空泵

概述：空气分子污染物(AMC)对于高科技生产过程是关键性因素，特别是微电子行业，有机污染物是生产过程中的消极因素，会导致高科技公司因产品质量问题而产生的成本增加。无空气分子污染物生产是理想的生产目标，通过污染物源头控制、传播控制，实时监控污染物浓度并结合多级过滤器以及新风系统来实现，持久监测AMC浓度，有助于掌握污染物源头、稳定生产、预防过滤器突发性寿命减少等。阿瑞斯-μVOC提供给客户一个实时快捷持续的在线空气分子污染物AMC监测方案，不需要采样，离线测量。检测限达到sub-ppb级洁净室环境中的空气分子污染物AMC，内部来自建筑材料释出、设备和材料释出、腐蚀和光刻等工艺过程中化学药品逸散、人员产生、管路泄露、设备维护修理时散发等，外部来自环境空气中存在的气相污染物,以及洁净室的废气排放重新送回洁净室。一旦AMC空气分子污染物超标会引起一系列严重后果，比如晶圆废弃、停产、重新净化洁净室等。可测组份2-氨基乙醇 CH3NH2CH2OH(t-乙酸丁脂)二羟基甲苯 H3CC6H3(t-C4H9)2OH2-氨基丙醇 CH3NH2C2H4OH六甲基二硅胺烷(CH3 ) 3SiNHSi(CH3)3异丙醇(CH3 ) 2CHOH二乙氨基乙醇(C2H5)2NC2H5OH乙醇胺 H2NCH2CH2OH邻苯二甲酸二辛酯C6H4(C=OOC8H15)2环己胺C6H11NH2邻苯二甲酸二乙酯C6H4(C=OOC2H5)2环聚二甲基硅氧烷(-Si(CH3)2O-)n邻苯二甲酸二丁酯 C6H4(C = OOC4H9)2对二氯苯CIC6H4CL三乙胺(C2H5 ) 3N邻苯二甲酸二壬酯C6H4(C=OOC9H19)2邻苯二甲酸二环己酯C6H4(C=OOC6H11)2邻苯二甲酸二癸酯 C6H4(C=OOC10H21)2磷酸三乙酯(C2H5O ) 3P=0十甲基环五硅氧烷(-Si(CH3)2O-)5十二甲基环五硅氧烷(-Si(CH3)2O-)6二甲苯(CH3)2C6H4三甲酚磷酸酯(CH3C6H4O ) 3P=0三甲基硅醇C3H10OSi......亮点一般特点：在线连续质量监测全部自动化系统低浓度VOC监测独立分开测量有机物成份Sub-ppb检测限集成计算机和控制软件以及数据采集与处理功能 应用洁净间污染物监测过滤器状态监测加工过程全组份测量诊断污染物

HT20e加热台 UNIXX系列可处理基片达200 mm / 8英寸半自动单面烘烤系统设计用于：软烘（预烤）；硬烘HMDS（六甲基二硅氮烷）的选配：蒸气起泡，真空干燥HT20e加热台设计用于基材的单面烘烤，用于预烘烤和后烘烤或脱水烘烤过程。尤其适用于粘合剂底漆（HMDS 六甲基二硅氮烷），可用于蒸汽底漆或真空干燥的热板模块。带有电子可编程升降针的烘烤模块，配有触摸屏，便于操作。 软件提供了简单方便的过程控制和配方创建。 界面简单易于使用，可随时控制流程。这些温度模块有台式安装式，塔式安装式或独立式供选择。特点：温度模块（电动）加热板系统带有电动升降顶针加热板模块（最高300°C）电子驱动的升降针标准的顶针由不锈钢和PEEK尖端制成（最高250°C）升降针，可编程（根据不同停止的速度和步长）加热板表面上的真空管路用于固定基板手动控制加热板的顶盖集成式排气半自动控制器单元：7英寸彩色触摸屏配方编辑器来编写，管理和配置实际可视化效果监控用于配方，流程，日志文件的库功能（例如，错误跟踪历史记录）具有密码保护服务访问权限的用户管理通过USB或Intranet连接进行更新和备份功能产品参数：基板尺寸：最大直径200毫米（直径8英寸）圆片或200x 200毫米（8 x8英寸）方片；温度范围：最高300°C *，以1°C/步可调；温度精度：在100°C时士1°C；升降针(1套）：直径50 mm（直径2英寸）到直径200 mm（直径8英寸）或200x 200mm（8 x8英寸）；加热台表面：由硬质阳极氧化铝制成；加热台顶盖：由微抛光不锈钢制成；加热台外壳：由PP制成；控制器单元：7寸触摸屏；HT20p加热台 UNIXX系列 可处理基片达200 mm / 8英寸手动控制单面烘烤系统单面烘烤系统可选项，还提供温度高达600°C的加热板温度模块设计用于单面烘烤用于烘烤前和烘烤后的基材。带有气动升降销的烘焙模块配有一个手动PID控制器和计时器开关。 经过微处理（PID）控制器用于高测量温度控制准确性。 确定过程的设定值和参数用5场塑料薄膜键盘调节。可自由编程的定时开关有两个可调派生计时器和两个省略计时器。 与各种参数的可能性，两个输出触点和两个切换输入将允许使用任何一种应用程序可以使用的。 计时器可以使用前按钮和开关输入。特点：温度模块（气动）加热板系统带有气动升降顶针加热板模块（最高300°C）气动顶针标准的顶针由不锈钢和PEEK尖端制成（最高250°C）加热板表面上的真空管道用于固定基板手动控制加热板的顶盖集成式排气手动控制器单元：• 1个PID 控制器，用于在高测量时进行温度控制。通过调节薄膜键盘的5个键来设定关键参数。• 1个计时器开关，带有两个可调微分计时器和两个延时计时器，并可以设置各种参数。可以使用前按钮和开关输入来启动和停止计时器。产品参数：基板尺寸：最大直径200毫米（直径8英寸）圆片或200x 200毫米（8 x8英寸）方片；温度范围：最高300°C *，以1°C/步可调；温度精度：在100°C时士1°C；升降针(1套）：直径50 mm（直径2英寸）到直径200 mm（直径8英寸）或200x 200mm（8 x8英寸）；加热台表面：由硬质阳极氧化铝制成；加热台顶盖：由微抛光不锈钢制成；加热台外壳：由PP制成；控制器单元：1个PID控制器，1个计时器；

喆图HMDS真空镀膜机VCM-125用途概述HMDS化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），HMDS真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统，指需在低真空度下进行的镀膜。喆图HMDS真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭的环境中进行，完全没有HMDS挥发，提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料，为基片在涂胶前改善表面活性，增加光刻胶与基底的粘附力的设备，也可用于晶片其它工艺的清洗，尤其在芯片研发和生产领域应用更加普及。产品特点①采用PLC工控自动化系统，人机界面采用触摸屏，具有可靠性高，操作智能方便；②PLC微电脑PID控制系统具有自动控温、定时、超温报警等,彩色触摸屏显示,控温可靠；③智能化触摸屏控制系统，可根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间；①采用钢化玻璃观察窗，监测方便，一体成型的硅橡胶门封，确保箱内密封性好；②外壳和加热管均采用不锈钢材质，内胆不锈钢，无易燃易爆装置，无发尘材料；③以蒸汽的形式涂布到晶片表面，液态涂布均匀，可一次处理4盒以上的晶片，节省药液；①去水烘烤和增粘（疏水）处理一机完成无需转移，有效规避HMDS泄露的风险；②HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，使真空箱密封性好，确保HMDS气体不外漏；③多余的HMDS蒸汽（尾气）由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道，确保安全以及环保。技术参数型号VCM-90VCM-125VCM-210电源电压AC 220V 50Hz控制系统PLC控制仪表控制彩色触摸屏控温范围RT+10-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5真空度≤133pa内胆尺寸450*450*450500*550*500550*550*650容积90L125L210L真空泵选配选配选配

n产品简介UNIXX HTp20型热板是一款手动桌面型烘焙系统，采用手动PID控制器和定时器开关可确保高的温度控制精度。用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺。 n产品特色÷ 加热板模块（最高可达 300°C）÷ 气动驱动支撑pin升降÷ 支撑pin材料：不锈钢，尖端采用 PEEK （最高 250°C）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 集成排烟装置÷ 热板盖手动控制÷ 集成1x PID 控制器，用于在高测量时进行温度控制÷ 集成1x 定时器开关 n技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (? 8”) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度区间: 最大可达 300°C*, 以 1°C 步进可调÷ 温度精度: 100°C 时 ±1°C÷ 提升销（一套）: ?50 mm (?2”) 最大可达 ?200 mm(?8”) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板表面: 由硬质阳极氧化铝制成÷ 加热板盖: 由微抛光不锈钢制成÷ 控制器单元: 1x PID控制器, 1x 时间开关÷ Pin顶部 采用PEEK 材料最高温度 250°C n可选项÷ 支撑pin材料÷ 边缘支撑pin÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆）÷ 烘焙距离可调模组÷ 真空泵

PR-40DMF二甲基甲酰胺浓度计PR-40DMF浓度计适用于测量合成革、除臭剂溶剂中二甲基甲酰胺的浓度。PR-40DMF二甲基甲酰胺浓度计检测应用领域：*含有DMF二甲基甲酰胺的样品，如合成革、除臭剂溶剂。PR-40DMF二甲基甲酰胺浓度计产品技术参数：型号PR-40DMF货号3489测量范围二甲基甲醯胺浓度0.0 至 40.0% (W/W)最小显示单位0.1%测量准确度±0.3%测量温度5 至 40°C(自动温度补偿)环境温度5 至 40°C电源006P 蓄电池 ( 9V )国际保护等级 IP64 无尘且对泼溅的水具防护作用。尺寸重量17×9×4公分, 300公克(不含零件的重量)PR-40DMF二甲基甲酰胺浓度计产品功能：PR-40DMF二甲基甲酰胺浓度计的测量方法：滴2-3滴样品至棱镜表面→按键START / OFF开关→测量数值在3次闪烁后，得出显示数值是Brix（浓度）。数显折射计基础保养技巧： 1. 清洁棱镜表面工具：纸巾，酒精，棉签，清水等2. 当显示000或测量值时，同时按ZERO（或STANDARDIZATION）和SCAL键，此时显示最后一次测量或调零（校正）时的温度。3. 清洁棱镜表面，滴几滴蒸馏水到棱镜上，使水完全覆盖住棱镜表面，按ZERO键，待显示不闪动的000时，调零完成，用软布拭干棱镜。4. 注意：当每天第一次使用前，或环境温度变化时，或更换电池时，都要调零。

n产品简介BASIXX SH22是一款台式半自动匀胶机热板复合系统系统，功能强大，具有匀胶、清洗、显影、干燥、预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺等多种功能，样品最大尺寸为8寸晶圆或者150mm*150mm方片，广泛用于大学，研究所等科研实验室。 n产品特色匀胶机： ÷ 落地台式机，结构紧凑，所有单元集成在一台设备中，集成度高。÷ 手动装载/卸载÷ 衬底最大可达 ?200 mm (?8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)÷ 软件提供用户友好的操作÷ 直驱旋涂电机÷ 全轴电机驱动且完全可编程÷ 带安全中断传感器的透明盖÷ 外壳上有电源开关 ON / OFF÷ 工艺腔和可更换防溅环，易于拆卸以进行清洁。÷ 系统材料为PP材质，耐所有类型的抗蚀剂和溶剂以及各种清洁介质。 ÷ 包括 0.5 升废液瓶 热板：÷ 温度高达 300°C÷ 电子驱动升降pin÷ 支撑pin材料为不锈钢，尖端采用 PEEK 材料 (最大250°C)÷ 程序控制支撑pin的升降（不同停止的速度和步数）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 热板盖手动控制÷ 集成排烟装置÷ 通过设置receip自动进行加热处理 n技术数据匀胶机：÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (?8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)÷ 电机转速: 最大 10.000rpm, 步长 1 rpm÷ 电机加速: 最大 4.000 rpm/s÷ 步进时间: 1 至 999.9 s，步长为 0.1s÷ 工艺腔材质: 由天然 PP 制成÷ 系统架构材质: 由白色 PP 制成÷ 液体线路： 3线: 2 x 24 V / 最大 1 Amp (每条) / 触发点 0.1 秒 - ∞ 5线: 6 x 24 V / 最大 1 Amp (每条) / 触发点 0.1 秒 - ∞ 热板：÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (? 8”) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度: 最大可达 300°C, 步进1°C÷ 温度精度: ±1°C@100°C ÷ 支撑pin: ?50 mm (?2”) ,最大可达 ?200 mm(?8”) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板材质: 硬质阳极氧化铝÷ 加热盖材质: 不锈钢 n选项 匀胶机： ÷ 自动液体输送臂 ÷ 液体罐 ÷ 防溅环÷ 废液池 ÷ DI水冲洗 ÷ N2吹扫÷ 热板 ÷ 不同类型的夹具 ÷ 中心定位模块 热板： ÷ 支撑pin材料 ÷ 边缘支撑pin ÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆） ÷ 600℃热板 ÷ 真空泵

Lovibond® 德国罗威邦® 水质分析 Lovibond 罗威邦 甲基橙碱度快捷测试套装 Minikit罗威邦 甲基橙碱度快捷测试套装 Minikit 采用片剂计数法快捷测试水样甲基橙碱度，量程为 10-500 mg/l CaCO3。罗威邦 Minikit 快速测试系列适用于现场快速测试，针对不同参数化学特性采用片剂计数法、滴定法、定性判断法、浊度法。可测参数有碱度、酸度、硬度、氯离子、氰尿酸、亚硝酸、正磷酸盐、季铵盐、硫酸盐、亚硫酸盐、硫、丹宁指数等。订购信息量程20-500 mg/l CaCO3，10-250 mg/l CaCO3试剂类型片剂测试方法片剂计数法化学方法甲基橙碱度包装次数根据测试量程不同约 50-100次补充试剂515320BT100片515321BT250片使用方法确定水样：20 - 500 mg/l CaCO3 范围内水样取 50 ml，10 - 250 mg/l CaCO3 范围内水样取 100 ml。添加片剂直到黄色变成红色：向水样中加入一个片剂，摇晃至溶解，观察颜色，再加入一片溶解，直到水样由黄色变成红色。记住片数。计算碱度：50 ml 水样:总碱度 (mg/l CaCO3) = (片剂数 x 40) - 20100 ml 水样:总碱度(mg/l CaCO3) = (片剂数 x 20) - 10冲洗干净容器 标准配置塑料盒片剂试剂装水样的容器必须的附件操作指南

PR-40DMF二甲基甲酰胺浓度计PR-40DMF浓度计适用于测量合成革、除臭剂溶剂中二甲基甲酰胺的浓度。PR-40DMF二甲基甲酰胺浓度计检测应用领域：*含有DMF二甲基甲酰胺的样品，如合成革、除臭剂溶剂、塑料生产、粘合剂、纤维和表层涂料等PR-40DMF二甲基甲酰胺浓度计产品技术参数：型号PR-40DMF货号3489测量范围二甲基甲酰胺浓度 DMF0.0 至 40.0% (W/W)最小显示单位0.1%测量准确度±0.3%测量温度5 至 40°C(自动温度补偿)环境温度5 至 40°C电源006P 蓄电池 ( 9V )国际保护等级 IP64 尺寸重量17×9×4公分, 300公克(不含零件的重量)

美国进口SPME固相微萃取纤维头57318手动/57319自动MERCK默克sigma西格玛Supelco色谱科SPME固相微萃取萃取头Carboxen/聚二甲基硅氧烷CAR/PDMS 75UM；名称:SPME固相微萃取萃取头规格:CAR/PDMS 75μm 3支/盒品牌:Supelco货号:57318/57319详细介绍：MERCK默克sigma西格玛Supelco色谱科SPME（固相微萃取）固相微萃取纤维头57318和57319是两种不同型号的SPME萃取头，分别具有手动式和自动式的特性。以下是对这两种纤维头的详细介绍：1. 57318手动式SPME萃取头 ： - 品牌 ：MERCK默克sigma西格玛Supelco色谱科 - 类型 ：手动式 - 涂层 ：CAR/PDMS（具体涂层材料和比例可能因应用需求而有所不同） - 规格 ：75um（纤维直径） - 包装 ：3个/包 - 主要用途 ：该型号的纤维头适用于固相微萃取技术，特别适用于气体和低分子量化合物（MW 30-225）的提取和分析。由于其手动式操作特性，它可能在一些实验室环境中更为常见和方便使用。2. 57319自动式SPME萃取头 ： - 品牌 ：MERCK默克sigma西格玛Supelco色谱科 - 类型 ：自动式 - 涂层 ：CAR/PDMS（与57318型号相同，具体涂层材料和比例可能因应用需求而有所不同） - 规格 ：75um（纤维直径） - 包装 ：3个/包 - 主要用途 ：与手动式57318类似，该自动式纤维头也适用于固相微萃取技术，对气体和低分子量化合物具有良好的提取效果。由于其为自动式，可能在一些需要自动化和高通量分析的场合中更为适用。3. 归纳 ：* 品牌与涂层 ：两款纤维头均来自MERCK默克sigma西格玛Supelco色谱科品牌，采用CAR/PDMS涂层，这种涂层通常用于萃取非极性或极性较小的化合物。* 规格与包装 ：两者在纤维直径（75um）和包装规格（3个/包）上相同。* 操作方式 ：57318为手动式，适合一般实验室环境；而57319为自动式，更适合自动化和高通量分析场合。* 应用 ：两款纤维头均广泛用于气体和低分子量化合物的提取和分析，是固相微萃取技术中常用的关键部件。在选择时，应根据实验需求、设备配置和操作习惯等因素综合考虑，选择最适合的型号。※固相微萃取(SPME)整套装置及选配耗材※:序号、货号、名称描述①、57330-U SPME手柄(手动或自动)②、2637505 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)③、57333-U SPME专用采样台用于4ml瓶④、57357-U SPME专用采样台用于15ml瓶⑤、PC-420D SPME专用磁力加热搅拌装置⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子⑦、57332 SPME专用温度计⑧、57356-U SPME专用进样导管(岛津不可用)⑨、27136 SPME专用专用采样瓶 4ml ⑩、27159 SPME专用专用采样瓶 15ml (11)固相微萃取头(SPME萃取头), (具体信息参见SPME萃取头订购信息)※Supelco SPME萃取头(固相微萃取头)订货信息※:订货号产品名称描述产品应用手动式自动式57330-U57331SPME手柄和萃取头连用573185731975um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(MW30-225)用于气体和小分子量化合物57334-U57335-U85um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(高保留)用于气体和小分子量化合物57302573037um PDMS 固相微萃取头,3支 (MW 125-600)用于非极性大分子量化合物573085730930um PDMS 固相微萃取头,3支用于非极性半挥发性化合物57300-U57301100um PDMS固相微萃取头,3支(MW 60-275)用于挥发性物质57310-U5731165um PDMS/DVB固相微萃取头,3支(MW 50-300)用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物57326-U57327-U65um PDMS/DVB固相微萃取头(不含弹簧2cm),3支用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物(MW 50-300)573045730585um,Polyacrylate, 固相微萃取头,3支 (MW 80-300)用于极性半挥发性化合物57328-U57329-U50/30um,DVB/CAR/PDMS,Stableflex固相微萃取头,3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)/5731760um PDMS/DVB 固相微萃取头(用于HPLC),3支用于胺类或极性化合物57348-U/50/30um DVB/Car on PDMS固相微萃取头(2cm),3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)5730657307SPME萃取头套装1用于挥发性和半挥发性物质85umPA,100um PDMS,7umPDMS各一支57320-U57321-USPME萃取头套装2用于水中挥发性或极性有机物75umCAR/PDMS.65umPDMS/DVB,85um PA各一支57323-USPME萃取头套装3用于SPME/HPLC分析60um PDMS/DVB,85um PA,100um PDMS各一支57324-U57325-USPME萃取头套装4用于香味物质分析100um PDMS,65um PDMS/DVB,75um CAR /PDMS各一支萃取头符号说明:CAR Carboxen CW CarbowaxDVB Divinylbenzene (二乙烯苯) PA Polyacrylate (聚丙烯酸酯)PDMS Polydimethylsiloxane (聚二甲基硅烷)

二甲基甲酰胺（DMF）浓度计 ATAGO（爱拓）PR-40DMF操作简易，样品量少，测量快速，测量用于合成皮或纤维的溶剂与气体提炼的二甲基甲酰胺DMF的浓度。二甲基甲酰胺（DMF）浓度计 ATAGO（爱拓）PR-40DMF具备温度自动校正功能，常用于塑料生产、粘合剂、纤维和表层涂料待等。 型号PR-40DMF货号3489测量范围二甲基甲酰胺浓度（DMF）0.0 至 40.0% (W/W)分辨率0.1% 测量准确度±0.3%测量温度5 至 40℃(自动温度补偿)环境温度5 至40℃电源006P 蓄电池 ( 9V ) 国际保护等级 IP64 尺寸重量17*9*4cm, 300g(不含零件的重量)

本仪器是根据国家标准GB/T21395-2008 二甲基亚砜和GB/T7533-1993 有机化工产品结晶点的测定方法所规定的要求设计制造的，适用于有机化工产品结晶点。同时也可用于检测化学试剂、增塑剂的结晶点。仪器自动降温、自动往返式机械搅拌、自动显示温度曲线、自动判断结晶点、自动打印测试数据。操作员在放样后，按一键即可开始和完成实验。二甲基亚砜 性质：一种透明、无色、无臭、呈微苦味的液体，毒性极低。它是一种水溶性的化合物，能溶解绝大多数有机化合物，甚至对无机盐也能溶解。液态的二甲基亚砜能高度缔合。属极性溶剂具有很强的吸水性和对肌体的渗透性。纯品对金属无腐蚀，含水对铁、锌、铜有轻微腐蚀。性质稳定，长时间在沸点温度下加热微量分解在碱性状态下可抑制腐蚀或分解。无水级DMSO（二甲基亚砜）结晶点要求 一般是不小于18度。一、技术参数1. 工作电源：AC220V±10% 50Hz2. 依据标准：GB/T7533-1993等3. 显示方式：10寸工业级彩色液晶触摸屏，全中文操作界面，中文输入4. 操作系统：嵌入式Windows系统，软件可升级5. 控制系统：三菱PLC系统，内置16组控制程序6. 温度范围：0～100 ℃，分辨率 0.01 ℃7. 测温元件：进口PT100玻璃温度传感器8. 工作单元：双孔双浴9. 搅拌方式：60次/分钟10. 制冷方式：德国丹佛斯压缩机制冷11. 加热方式：外置陶瓷加热器12. 数据输入：触摸屏数据输入，可以输入中文、英文、数字、标点、符号等13. 数据输出：微型热敏打印机，自动打印，打印快速、清晰14. 存储数据：自动储存100个测定结果，可随时查看或打印历史测试数据15. 修正功能：内置自检、校准系统、可整机、单程序校正16. 仪器重量：60kg17. 环境温度：5℃～30℃ 18. 相对湿度：30～70%RH二、性能特点1. 嵌入式工业级10寸彩色液晶触摸屏，实时显示试样结晶过程的温度曲线。2. 计算机自动控制恒温及搅拌速度，自动判断结晶点、自动打印测试数据。3. 采用进口高精度玻璃温度传感器，内置温度校正，检测结果可靠。4. 仪器采用双浴，根据实验要求选用适合的浴槽来实验。5. 采用国内先进的外层陶瓷加热器，无电火花，安全环保。6. 采用电机搅拌，特殊机械搅拌装置，搅拌均匀，稳定可靠。7. 存储查阅功能，可存储上百条测试结果，随时查阅与打印测试数据。8. 设计制造符合国家标准，国家标准修订时，仪器程序可升级。

产品型号： HMDS-6090 HMDS真空烘箱 产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：850*700*1400载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。 图片： 外壳冷轧板烤漆

产品型号： HS40 产品特点：1、机外壳采用冷轧板烤漆处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：615*615*900载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。外壳冷轧板烤漆

ATAGO（爱拓）二甲基甲酰胺 DMF在线浓度计CM-Isα-DMF，采用折射原理，可用于在线检测二甲基甲酰胺 DMF溶液浓度监测系统，也称：二甲基甲酰胺 DMF在线浓度监测系统，二甲基甲酰胺 DMF在线浓度计，二甲基甲酰胺 DMF在线折光仪。测量更快速，方便，数据实时显示，是二甲基甲酰胺 DMF溶液的浓度测量和过程控制的必备仪器之一，广泛应用于需要实时测量二甲基甲酰胺 DMF浓度的应用场合，防爆设计，防爆等级Ex ia IIB T3 Ga TA ，适用于用危险场所。

一 应用领域 适用于材料科学、光学、光电子学、生命科学、电子学、生物医学、半导体、高分子科学、微观流体学等领域.二 主要实验应用 1.表面清洁 2.表面活化 3.键合 4.去胶 5.金属还原 6.简单刻蚀 7.去除表面有机物 8.疏水实验 9.沉积实验 10.形成新的基团 11.镀膜前处理等三 技术特点 ※1.实时检测和显示真空度,使得设备在智能控制下有了可靠的依据.※2.真空值可自由设定,(范围:10—60帕)为外加气体提供了可靠的辉光启动环境,为辉光纯度提供了有利的保障,保证了实验效果的准确性和可靠性.3.真空腔体采用铰链侧开门结构，带有观察窗，材料为6061材质.4.腔体、管路、阀体全部为不锈钢材料.※5.电容式（CCP）激发,实验效果稳定,均匀可靠,电极板置于样品仓内顶部悬挂.6.采用触摸屏显示控制，手动，自动两种模式任意切换.7.程序化设计，预先编辑好程序，仪器自动完成实验.8.利用气体电离后产生的等离子体的反应活性与材料表面发生的物理或者化学反应，使材料表面成分、组成和结构发生变化，并能得到某些特定的基团。9.无需耗材,使用成本低,无需特殊进行维护,在日常使用中保持仪器清洁即可。四 技术规格 1.样品腔体尺寸：255(深度)X110（直径）mm ，不锈钢材质.2.放置样品托盘尺寸:105(宽)X230（长）mm，材质：6061铝氧化本色※3.射频频率：40KHz .※4.射频功率:200W，0到200W可调，精度：1瓦.※5.最低辉光放电功率：10W.6.辉光放电时间设定：1秒到99分59秒.7.气路设置:3气路（2路进气，一路放空）.※8.工作气体稳定时间:可调，可设定，范围：0--180秒.※9.进气控制：两路浮子流量计控制10.工作气体:空气\氮气\氩气\氮氢混合气\氩氦混合气等均可 也可接入无腐蚀性、无毒的工作液体溶液，例如:六甲基二硅氧烷(HMDSO)，接入工作液体需要选配接枝仪来配套使用。11.进气压力：通入空气时常压，接入钢瓶时，钢瓶进气压力调整到0.1-0.2Mpa12.供电电源：~220V／50Hz13.外形尺寸（宽*深*高）mm:440ⅹ490ⅹ48514.整机重量（约）：20Kg五 真空泵 标准配置为机械油泵：1）抽速:2升/秒 2）极限压强：6*10-2帕 3）噪音 ≤66db 4）抽气KF16法兰接口，排气口KF25接口 5）电源线为阴插线六 基本配置 主机+真空系统（双极机械真空油泵、油雾过滤器、真空管、KF16法兰）、外加气体软管、样品托盘、说明书、电源线、合格证七选配件（一）机械油泵 型号：VRD-8 1.抽速:2.2升/秒 2.极限压强：≤5*10-2帕 3.噪音 ≤56db 4.工作环境温度：5—45（二）干泵（1） 型号：GWSP150 1.抽速:2升/秒 2.极限压强：≤6帕 3.噪音 ≤57db 4.工作环境温度：5--45℃ 干泵（2）型号： SPH10 1.抽速:2.8升/秒 2.极限压强：≤2帕 3.噪音 ≤55db 4.工作环境温度：5--45℃