酞菁二氯化硅

参数：硅/二氧化硅（90纳米）晶圆（4英寸直径，N型）氧化物厚度：90纳米颜色：紫色晶片厚度：450微米电阻率：1-10欧姆厘米类型/掺杂剂：氮方向： 100 前表面：抛光背面：蚀刻Parameter:Silicon/Silicon Dioxide (90 nm) Wafers (4" Diameter, n-type)Oxide Thickness：90 nmColor：VioletWafer Tickness：450 μmResistivity：1-10 ohm-cmType/Dopant：NOrientation：100Front Surface：PolishedBack Surface：Etched

bruker afm探针氮化硅针尖ScanAsyst利用一种的曲线采集方法和复杂的算法，对图像质量进行持续的监测，并能自动地对参数进行适当的调整。因此无论用户的专业技术水平如何，图像自动优化都能更快获取更*的结果。-可直接控制力的强弱，调到超低力，从而保护易碎样品和针尖不受损坏。实现了悬臂调节的消除，定位调整，获得zui大优化让液态成像变得简单。仅适用于具有Scansyst成像的AFM。其中包含：DimensionIcon,Multimode8,BioscopeCatalyst,BioscopeResolve.【SCANASYST-AIR】brukerafm探针规格几何:旋转对称尖端高度h:2.5-8.0m前角FA:152.5背角BA:252.5侧角SA:17.52.5尖端半径Nom:2nm尖端半径最大:12nm尖端挫折TSBNom:5m尖端回缩TSBRNG:3-7m悬臂规范材料:氮化硅几何:三角悬臂梁数量:1悬臂厚度Nom:0.65m悬臂厚度RNG:0.6-0.7m背面涂层:反光铝

硅/二氧化硅晶片（5片）Wafers - Silicon/Silicon Dioxide Wafer常用石墨烯基底硅/二氧化硅（90纳米）晶片（4英寸直径，N型）氧化物厚度：90纳米颜色：紫色晶片厚度：450微米电阻率：1-10欧姆厘米类型/掺杂剂：氮方向： 100 前表面：抛光背面：蚀刻

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

特性○ 阶跃折射率○ 数值孔径： 0.66○ 全接受光锥：82.6度○ 紫外-可见光-近红外传输○ FUS：高-OH二氧化硅芯，特氟龙® AF包层○ FLU：低-OH二氧化硅芯，特氟龙® AF包层○ 推荐使用硅酮或丙烯酸盐缓冲层○ 可选用FEP/ETFE护套○ 运行温度– 10oC 至+160 oC○ 可消毒○ 验证测试可达100kpsi○ 尺寸及组件可定制该光纤配置适用于需要纯合成熔凝二氧化硅芯光纤且具有超高数值孔径的用户。Polymicro 生产的此种光纤可配 备多种缓冲层和/或护套。纤芯尺寸范围为125μm至760μm 以上。该光纤兼具超高数值孔径，高强度及宽带光谱传输等特性。因其可见光光谱保真度高（源色不变黄），所以它是硼硅酸盐光纤的最佳替代品(硼硅酸盐光纤要求白光)。

二氯化N,N-二甲基-对-苯二铵 GR for analysis

产品特点：二氧化硅漫射滤光片 备件110674800密封在三角荧光池中的浓玫瑰精B 溶液6610021700订购信息：标准品和参比材料说明部件号密封充满水的荧光池用于拉曼水荧光带的信噪比测量6610021800 二氧化硅漫射滤光片，备件1106748001.5 Abs中密度衰减器，备件110677500PMMA 中的罗丹明 B6610021900PMMA 中的铕6610022200密封在三角荧光池中的罗丹明 B 溶液三角荧光池中的饱和玫瑰精 B 溶液用于收集激发校正因子6610021700 密封在石英荧光池中的 4% 高氯酸钬的高氯酸溶液密封荧光池用于在发射单色仪上精确测量波长。要求使用池支架，部件号110678600。包括可追溯的证书和性能证书6610022100 高氯酸钬荧光池支架特殊池支架用于在标准池支架前方安装一个比色池。这个附件用于安装高氯酸钬荧光池支架以获得准确的波长测试，这允许将漫射滤光片安装在标准池支架且高氯酸池定位在这个池支架上，从而可使用高氯酸钬溶液测试 Cary Eclipse 的精确波长110678600 荧光样品，PMMA 中含有六种烃类化合物其中四种在 300-700 纳米波长范围内有宽荧光带，另两种有窄发射荧光带，用于波长校正和带通检测；包括 Anthracence/Napthalene，Ovalene，p-三联苯，四苯基丁二烯，化合物 610 和 PMMA 中的Rhodamine B6610010300 荧光演示工具包包括 PMMA 中的铕，PMMA 中的卵苯，一个密封充水的荧光池和一个 10 x 10 毫米的荧光池9910101900

单分散星状介孔二氧化硅纳米球 Monodisperse Mesoporous Silica Nanosphere Stellate MSN制备方法：软化学单分散星状的介孔二氧化硅纳米球的的MSN平均尺寸：80 nm比表面积（BET）：大于500平方米/克。总体积：~ 1.4毫升/克孔径（MSN星状圆锥孔）：2.9 nm 孔径（MSN之间颗粒空隙填充）：50 nm

GR-8028型硫酸雾/氯化氢/氟化氢采样管1.产品概述 GR8028型硫酸雾/氯化氢/氟化氢采样管是我公司为现场硫酸雾、氯化氢或氟化氢采样精心设计的采样设备。具有一体化全程加热烟枪，高精度温控主机，高效保温箱，适应多种吸收瓶等特点。搭配烟尘采样器，既可以用于水平烟道采样也可以用于垂直烟道采样，便于操作，方便携带，是现场硫酸雾/氯化氢/氟化氢采样的首选仪器。2.适用范围配套烟尘采样器使用，适用于固定污染源硫酸雾、氯化氢、氟化氢、铬酸雾的采样。可供环保、卫生、劳动、安检、军事、科研、教育等部门使用。3.采用标准《HJ544-2016固定污染源废气 硫酸雾的测定 离子色谱法》《HJ549-2016环境空气和废气 氯化氢的测定 离子色谱法》《HJ688-2013固定污染源废气 氟化氢的测定 离子色谱法》《HJ/T29-1999固定污染源排气中铬酸雾的测定二苯基碳酰二肼分光光度法》 4.技术特点1) 一体化全程加热烟枪，采用高防腐钛合金材料，外形美观。2) 采样管内衬聚四氟乙烯管，避免管路吸附。 3) 一枪三用，即可满足颗粒态、蒸汽态和气态硫酸雾的采样，又适用于对氯化氢或盐酸雾的采样，也适用于氟化氢的采样。4) 滤膜夹采用聚四氟乙烯材质，采样时自动保持恒温120℃。5) 配套管路闭合装置，方便闭合气路。6) 高效保温箱，可放置多种吸收瓶组合。7) 既可以用于水平烟道采样也可以用于垂直烟道采样。8) 低压直流供电，使用安全可靠。9) 进口高精度温控器，大功率电源，快速加热至恒定温度。10) 多功能组合型采样枪，包含烟温及皮托管测流速功能。 5.技术指标 表1技术指标主要参数参数恒温温度（80～200）℃，误差±3℃升温时间＜20min采样管长度1.5m采样嘴直径Φ4.5/Φ6/Φ7/Φ8/Φ10/Φ12滤膜直径Φ47吸收瓶规格250ml/75ml冲击式吸收瓶电源DC36V功耗350W重量8.0kg

参数：制备方法：软化学单分散星状的介孔二氧化硅纳米球的的MSN平均尺寸：80 nm比表面积（BET）：大于500平方米/克。总体积：~ 1.4毫升/克孔径（MSN星状圆锥孔）：2.9 nm孔径（MSN之间颗粒空隙填充）：50 nmParameter:Preparation Method：soft chemistryMonodisperse Mesoporous Silica Nanosphere- Stellate MSNAverage Size：80 nmSpecific Surface Area (BET)：500 m2/gVtotal：~1.4 mL/gPore Size (conical pores of the stellate MSNs)：2.9 nmPore Size (inter particle voids between the packed MSNs)：50 nm

晶圆表面用二氧化硅 SiO2微粒子标准溶液粒子产品名称：SiO2微粒子标准溶液纳米级别二氧化硅SiO2标准粒子晶圆表面用二氧化硅 纳米二氧化硅™ 尺寸标准 MSP Corporation 的 NanoSilica™ Size Standards 是 SiO2颗粒的浓缩水悬浮液，具有高度均匀的尺寸分布。这些粒径标准目前提供的标称尺寸范围为 15至 200 nm，非常适合为下一代晶圆和光掩模检测系统生产高质量校准标准。 虽然 MSP 23000NPT 系列和 2300G3 系列粒子沉积系统为表面缺陷校准标准的生产提供了最佳结果，但较旧的 MSP 系统和其他制造商的系统也适用于纳米二氧化硅尺寸标准。特征+ 极其均匀的尺寸分布我们的纳米二氧化硅尺寸标准采用获得专利的 SiO2合成工艺开发，其尺寸分布比市售的 PSL 球更窄。+ 使用 SI 可追溯性测量的峰直径允许产量提高和计量小组根据 ISO 9000 标准和 SEMI 指南建立其检查和缺陷审查方法的可追溯性。+ 受到强烈 DUV 辐射时稳定MSP 的 SiO2颗粒在暴露于 DUV 辐射时不会降解，这与 PSL 球体不同，PSL 球体的尺寸会减小。+ 易于使用NanoSilica 颗粒悬浮液在滴管瓶中提供，以便在您的应用中混合具有适当数量浓度的悬浮液时使用方便。+ 高粒子浓度一些应用需要高浓度。 MSP 的颗粒浓度是业内最高的之一。 + 轻松辨别模态（峰值）直径+ 避免由于平均和峰值直径值之间的差异而导致的差异+ 制备适用于效率相对较高或较低的气溶胶产生装置的稀释悬浮液+ 为最先进的检测工具创建持久的校准标准+ 消耗更少的材料；存钱+ 随附校准和可追溯性证书以及带有处理和处置说明的安全数据表 (SDS) 型号 目录编号标称粒径 [nm] 认证1峰值直径 [nm]大约Size Dist. Width, RFWHM2 1044NS-0015A1514-1613%1046NS-0018A1817-1912%1047NS-0020A2019-2111%1048NS-0024A2423-2510%1075NS-0027A2726-289%1049NS-0030A3029-318%1079NS-0032A3231-337%1062NS-0035A3534-367%1076NS-0037A3736-386%1051NS-0040A4039-416%1063NS-0045A4544-465%1052NS-0050A5049-515%1077NS-0055A5553-575%1053NS-0060A6058-624%1067NS-0064A6462-664%1054NS-0070A7068-724%1068NS-0074A7472-764%1055NS-0080A8078-824%1069NS-0084A8482-864%1057NS-0090A9088-924%1070NS-0094A9492-964%1058NS-0100A10098-1024%1071NS-0104A104102-1064%1059NS-0125A125120-1304%1060NS-0150A150145-1554%1061NS-0200A200190-2104%1给定目录号的认证直径将在规定范围内提供。2相对半高宽（半高全宽）； FWHM 除以模态直径。 规格粒子组成无定形SiO2粒子密度1.9 克/厘米3折射率633纳米时为1.41英寸体积5 毫升专注每毫升 1013至 1015颗粒截止日期≥ 24 个月 添加剂乙醇（按质量计 5-20%）有机稳定剂（0.1% 质量） 储存和处理在室温下储存（参见校准和可追溯性证书更多详情。 NanoSilica™ 微粒子标准溶液是由MSP Corporation制作的高度均匀尺寸SiO2微粒子浓缩水溶液，微粒子尺寸从18nm到200nm都可选择，是市面上最理想、高质量的校正标准，适用于最新一代的晶圆表面污染/缺陷检查系统及光罩检查系统。 最先进的半导体检查技术已经发展到小于30nm，以往使用Polystyrene latex (PSL)球形化粒子即可做晶圆表面污染/缺陷检查系统及光罩检查系统的校正，但新一代的检查系统使用到Deep ultraviolet (DUV) or Extreme ultraviolet (EUV)才能检查小于20nm的污染或缺陷，当UV光重复打在PSL球形化粒子上，将影响到PSL球形化粒子的质量 由于SiO2微粒子在DUV及EUV的照射下拥有稳定的质量，因此SiO2微粒子是最佳的替代产品。 NanoSilica™ 微粒子标准溶液是使用有专利的SiO2合成技术，可以做到如PSL球形化粒子一样的尺寸分布，从目前最小的微粒子尺寸来看，NanoSilica™ 微粒子标准溶液是尺寸最均匀，适合做尺寸大小峰值的量测的工具。 NIST-traceable NanoSilica™ 微粒子标准溶液是MSP Corporation透过National Institute of Standards and Technology (NIST)追溯到标准单位的产品，加上ISO 9000与SEMI的认证，让良率提升及表面检查和缺陷评估有所依据。 NanoSilica™ 微粒子标准溶液使用15-mL滴定，让使用者操作更方便。每一瓶溶液的卷标皆标示产品编号、生产编号、微粒子尺寸峰值、尺寸分布半高宽及有效期限，而且提供NIST-traceable证明书与MaterialSafety Data Sheet (MSDS)说明书。 产品优势 • 尺寸大小分布均匀 • NIST traceability 的尺寸大小 • DUV及EUV的照射下拥有稳定的质量 • 高浓缩度微粒子悬浮溶液 产品效益 • 易于微粒子撒粒系统、晶圆表面污染/缺陷检查系统或各类分析仪器侦测与量测尺寸峰值 • 可避免平均尺寸与尺寸峰值的差异性 • 适合气胶产生设备使用 • 提供耐久校正标准给先进的检测设备使用 • 省钱而且耗用量少

Struers提供市面上最全面的材相切割专用切割轮。Struers切割轮针对在Struers切割机上使用经过了全面测试和优化。切割轮也适用于市面上类似规格的其他切割机。如果您对机器的兼容性有任何疑问，请联系Struers。碳化硅切割轮适用于有色金属或韧性材料的切割。请点击此处，登录耗材商城查看详细型号和应用。

标准物质石英尘红外方法做粉尘中二氧化硅的曲线规格：70g

为确保施加精确的力度并正确加液，我们建议您使用与设备配套的Struers耗材。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用，以控制研磨过程的所有参数，例如以合适的数量和有效的分布添加磨料和悬浮液。这是充分利用您投资的理想方式。 MD-System先进的MD-System包括与金属基座研磨盘和抛光布结合的磁性支撑盘。由于这些研磨盘均匀地磨削试样中的硬相和软相，因此能够实现恒定的高材料磨削率和最大平整度。制备时间和成本也显著减少。 只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。请点击此处，登录耗材商城查看碳化硅砂纸的详细型号和应用。

Quantifoil多孔二氧化硅支持膜（Holey SiO2 Films）最新推出的二氧化硅支持膜，非常受到欢迎！列表仅仅举例，选择时注意：1. 载网的材质，一般有三种：铜，镍、金2. 载网目数有200目、300目、400目3. 孔型多样(圆形孔、方形孔、花型孔)，产品列表仅仅举例，圆形孔另有R 3/3,R 5/10,R 5 /20,R 6/6.5，R 6/100,R 10/5,R 10/10,R 10/20,R 17/5等等。4. 包装一般有100包装，也可以提供50个装的5. 产品选购表所放置产品仅是举例，你可以根据自己的实际需求来电沟通。一、圆孔二氧化硅支持膜：货号孔型Hole sizePeriod网规格Q250CR-06SR 0.6/10.6μm1.6μm200目铜100个/盒Q450CR-06SR 0.6/10.6μm1.6μm400目铜100个/盒Q2100CR-12SR 1/21μm3μm200目铜100个/盒Q4100CR-12SR 1/21μm3μm400目铜100个/盒Q250CR-14SR 1/41μm5μm200目铜100个/盒Q450CR-14SR 1/41μm5μm400目铜100个/盒Q2100CR1.3SR 1.2/1.3～1.2μm～2.5μm200目铜100个/盒Q4100CR1.3SR 1.2/1.3～1.2μm～2.5μm400目铜100个/盒Q2100CR2.5SR 1.2/2.5～1.2μm～3.5μm200目铜100个/盒Q4100CR2.5SR 1.2/2.5～1.2μm～3.5μm400目铜100个/盒Q2100CR1SR 2/12μm3μm200目铜100个/盒Q4100CR1SR 2/12μm3μm400目铜100个/盒Q2100CR-2SR 2/22μm4μm200目铜100个/盒Q4100CR-2SR 2/22μm4μm400目铜100个/盒Q2100CR-4SR 2/42μm6μm200目铜100个/盒Q4100CR-4SR 2/42μm6μm400目铜100个/盒 二、方孔二氧化硅支持膜 Quantifoil方孔二氧化硅支持膜, 具有较小的网格线宽，适用于透射电子显微镜（TEM）分析。当你不仅要求良好的机械稳定性，还要求最大开孔面积时，Quantifoil S7/2 表现出最佳的几何学订购信息：货号孔型Hole sizePeriod网规格Q2100CS7SS 7/27μm×7μm9μm200目铜100个/盒Q4100CS7SS 7/27μm×7μm9μm400目铜100个/盒

深圳方源仪器供应日本爱党PAL系列迷你折射仪，该系列有不同种类测试仪器，可广泛地使用在果汁测试、调味料测试、食品加工等多方面，使用方法非常简单而且非常安全，快速准确任何人都会使用&diams Pâ tissier 型号 Model 特殊标度种类 面板颜色 4508 PAL-Pâ tissier 糖度(Brix)/ 糖Baume(糖波美度) I &diams 蜂蜜 型号 Model 特殊标度种类 面板颜色 4422 PAL-22S 蜂蜜水分 B &diams 豆奶,盐卤(氯化镁) 型号 Model 特殊标度种类 面板颜色 4427 PAL-27S 豆奶 A 4443 PAL-43S 盐卤(氯化镁) C &diams 拉面汤(两种刻度) 型号 Model 特殊标度种类 面板颜色 4496 PAL-96S 拉面汤浓度/面用盐水 A &diams 调味料 型号 Model 特殊标度种类 面板颜色 4498 PAL-98S 调味料 A &diams 盐水 型号 Model 特殊标度种类 面板颜色 4232 PAL-ES2 盐度(电导法) 4233 PAL-ES3 盐度(电导法) 4403 PAL-03S 氯化鈉(g/100g) C 4506 PAL-106S 氯化鈉(g/100ml) C4404 PAL-04S 氯化鈉(比重) D 4405 PAL-05S 氯化鈉(波美) D &diams 海水 型号 Model 特殊标度种类 面板颜色 4406 PAL-06S 海水(浓度) D 4407 PAL-07S 海水(比重) D 4408 PAL-08S 海水(波美) D &diams 食品添加物,　成份 型号 Model 特殊标度种 面板颜色 4429 PAL-29S 檸檬酸 A 4430 PAL-30S 醋酸 A 4432 PAL-32S磷酸 E 4464 PAL-64S 重碳酸钠 E 4465 PAL-65S 酒石酸钠 E 4470 PAL-70S 磷酸钾 E &diams 切割油 型号 Model 特殊标度种类 面板颜色 4502 PAL-102S 切割油 E &diams 酒精 型号 Model 特殊标度种类 面板颜色 4434 PAL-34S 乙醇 C 4436 PAL-36S 甲醇 C 4437 PAL-37S 异丙醇 C 4485 PAL-85S 聚乙烯醇 C &diams 药剂 型号 Model 特殊标度种类 面板颜色 4412 PAL-12S 右旋糖酐 E 4413 PAL-13S 肌酸 E 4423 PAL-23S 甘油 丙三醇 (低浓度) E 4424 PAL-24S 甘油 丙三醇 (高浓度) E 4425 PAL-25S 菊糖 E 4426 PAL-26S 甘露醇 E 4431 PAL-31S 蚁酸 E 4432 PAL-32S 磷酸 E 4451 PAL-51S 溴化钠 E 4455 PAL-55S 硫酸镁 E 4464 PAL-64S 重碳酸钠 E 4465 PAL-65S 酒石酸钠 E 4466 PAL-66S 草酸钾 E 4468 PAL-68S 重铬酸钾 E 4470 PAL-70S 磷酸钾 E 4472 PAL-72S 钨酸盐钠 E

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

14MGastec便携式气体检测管氯化氢检测管（HCl） 被检物质和化学式检测管型号和名称　抽气颜色变化保存备注　检测范围次数期限管理范围(ppm)(n)检测前检测后(年)(ppm)氯化氢14R氯化氢200-5000①紫色※黄/淡桃色35（J）HCl　50-2002-4，Gastec便携式气体检测管氯化氢检测管(HCl) 14MGastec便携式气体检测管氯化氢检测管（HCl） 的详细介绍 14MGastec便携式气体检测管氯化氢检测管（HCl） 被检物质和化学式检测管型号和名称　抽气颜色变化保存备注　检测范围次数期限管理范围(ppm)(n)检测前检测后(年)(ppm)氯化氢14R氯化氢200-5000①紫色※黄/淡桃色35（J）HCl　50-2002-4，Gastec便携式气体检测管氯化氢检测管(HCl) Gastec便携式气体检测管氯化氢检测管（HCl）的详细介绍： 被检物质和化学式 检测管型号和名称 　 抽气 颜色变化 保存 备注 　 检测范围 次数 期限 管理范围 （ppm） （n） 检测前 检测后 （年） （ppm）氯化氢 14R 氯化氢 200-5000 ① 紫色 ※黄/淡桃色 3 5（J） HCl 　 50-200 2-4 　 　 　 　 　　　　　　　　　 　　　　　　　　 14M 氯化氢 500-1000 1/2 黄色 红色 3 　 　 　 20-500 ① 　 　 　 　 　 　 10-20 2 　 　 　 　 14L 氯化氢 20-76 1/2 黄色 桃色 3 　 　 1-20 ① 　 　 　 　 　 0.2-1 2-5 　 　 　 　 80 酸性气体 8-160 2 紫色 淡红紫色 2 　 8HH 氯气 1.5-30% 1/2 红紫色 黄色 3 　 T：需要温度校正 H：需要湿度校正 +：双管 ++：9支管 *：冷藏储存 气体检测管，迅速、简单、准确地对所有气体进行检测和测定的直读式气体检测管。 直读式气体检测管 检测管式气体检测器是由检测管和气体采集器两部分构成。在一定直径的玻璃管内紧密地装填检测剂，将两端密封，然后在玻璃管表面印制表示浓度的刻度，就制成了一支检测管。在对检测目标气体进行检测时，先将检测管两端切断，通过采集器将一定量需要检测的气体抽入检测管内，检测管内就会立刻与检测试剂发生反应，并出现颜色的变化。通过变化层所在的相应位置，读取该气体的浓度。 检测试剂是通过在硅胶或氧化铝等物质表面附着显色试剂的方法制成的。显色试剂遇到被检测气体时会发生特定的反应，而且这种检测试剂具有相当的稳定性。 反应可分为两种，一种是被检测气体与检测试剂直接发生反应，产生变色。另一种是将被测气体转变为其他气体，转变后的气体再与检测试剂反应，产生变色。

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

氮化硅膜主要用于纳米技术研究；支撑强度高，TEM与原子力电镜都可以使用。氮化硅膜极其稳定可以抵抗温度变化上升至1000摄氏度；但是，疏水性，如果需要亲水，建议用刻蚀法：等离子刻蚀，增加电荷。膜厚：100nm、50nm、30nm；孔：1mm×mm 膜粗糙度2nm。型号名称硅框架厚度（μm）窗口尺寸（mm）膜厚（nm）孔厚包装/个产地21505-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm50110美国21500-10氮化硅膜2000.5 x 0.550110美国21502-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm50110美国21525-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm200110美国21522-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm200110美国21524-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国21528-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国4112SN-BA氮化硅膜2001.0 x 1.0200110SPI4120SN-BA氮化硅膜2000.5 x 0.5200110SPI

有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29 氧化硅薄膜窗氧化硅薄膜窗RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在X-射线显微镜中，由于没有N原子存在而倍受青睐。 氧化硅与氮化硅薄膜窗比较：相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 RISUN氧化硅薄膜窗特点许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。 SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 RISUN氧化硅薄膜窗规格 薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸型号50nm1.5X1.5mm5.0X5.0mmRISUN100nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm200nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm硅片厚度：200um、381um、525um； 定制系列RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。本产品为一次性产品，不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 应用简介实际上，RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：1. 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。2. 作为耐用（如“强力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。3. 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。4. 聚焦离子束（FIB）样本的装载。5．用作Ti、V、Mo等滤光器基质；用于X-射线光学设备中，如分光器定制服务：本公司接受特殊规格的产品预订，价格从优。详情请咨询：admin@instsun.com

Akasel是一家丹麦公司，专门从事开发、生产和销售高质量的金相耗材以及最佳的金相制备方法。 凭借创始人Morten Damgaard在金相学方面的专业知识和实践经验，再加上对可持续性创新解决方案的不懈追求，不断努力，推进金相耗材的开发，提高金相样品制备的效果，创造易于执行的制备方法。经过多年的发展，这个在车库里迈出第一步的公司现在已经成功地将高品质的金相耗材以及高效的制备方法传播到全世界。 如果您为目前样品制备过程的繁琐所累，请联系我们，我们的技术专家将免费为您进行制备流程优化。氧化物抛光某些材料需要使用亚微米级的oxide polishing suspensions才能去除最后的变形。在一般的应用中，可使用alumina悬浮液，对于要求更高的应用，硅悬浮液是最好的选择。氧化硅悬浮液起到化学-机械抛光作用。在抛光过程中，样品表面会受到轻微侵蚀。亚微米级二氧化硅颗粒可将这一侵蚀层去除，使样品表面完全无变形。对于水敏感材料或具有水敏感夹杂物的材料，建议使用我们的无水热解二氧化硅悬浮液。 我司所有的oxide polishing suspensions不结晶、不沉淀，并且含抗干燥剂，使清洁更轻松。根据要抛光的材料，您可以往悬浮液中添加各种化学物质，从而优化化学-机械抛光效果。我们的oxide polishing suspensions可帮助您在非常短的时间内获得出色的抛光效果。我们提供了多种二氧化硅和氧化铝oxide polishing suspensions，可用于不同材料的最终抛光，其中包括：超细粒状硅胶悬浮液或稍粗的热解二氧化硅悬浮液，粒径为0.050μm至0.2μm（50至200 nm）。一种独特的无水悬浮液，0.2μm热解二氧化硅悬浮液。一种pH中性alumina polishing suspension。 常见问题解答：哪种材料需要增加氧化物抛光这一步骤？对于许多材料，用1μm金刚石抛光可获得令人满意的结果。但是，如果您需要绝对无划痕的抛光，尤其是对于柔软而易延展的材料，则使用氧化物抛光作为最后一步可以显着改善结果。利用最后的氧化物抛光步骤可以缩短我的制备时间吗？是的，由于结合了化学/机械材料去除，氧化物抛光通常很快完成。因此，用氧化物抛光步骤代替细粒度diamond polishing步骤可以减少制备时间。但是，氧化物抛光会轻微侵蚀样品的表面，如果不希望出现这种情况（例如图像分析时），应避免使用氧化物抛光。

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

日本GASTEC 51 氟氯化烃（热解管），日本GASTEC 51 氟氯化烃（热解管），说明 电源：4AA电池 可连续工作时间：约2小时 加热丝寿命: 以氟利昂113为例，测定浓度为6,000 ppm时可用1,000次 标准使用温度：0-40°C 尺寸及重量?68╳150，重约245g 热解检测管 [51L] [51] [51H] [52] [53]具体检测气体种类及范围参考下表 览日本GASTEC 51 氟氯化烃（热解管），日本GASTEC 51 氟氯化烃（热解管）气体种类型号检测范围（ppm）刻度范围保存期（年）乙腈52**3-180-3氯甲烷51**12-480-351L**1.6-86-3二氯甲烷51L**1-54-3硝基乙烷52**4-240-31-硝基丙烷52**4.2-252-32-硝基丙烷52**3.7-222-3硝基甲烷52**5-300-3二甲二硫醚53**0.3-6-2FC- 1151H**275-6600-351**8-320-351L**0.8-43-3FC- 1251H**325-7800-351**11-440-351L**1.8-97-3FC- 2251H**1000-24000-351**25-1000-351L**2.5-135-3FC-11251H**125-3000-351**7-280-351L**1-54-3FC- 11351H250-6000250-200035110-40010-400351L1-541-203FC- 113a51H**125-4800-351**10-400-351L**0.8-43-3FC- 11451H**475-11400-351**20-800-351L**1.8-97-3FC- 12351**14-560-351L**1.4-28-3FC- 141b51**10-400-351L**1.1-22-3FC- 22551**20-800-3FC- 225Ca + FC- 225Cb 1:151L**1.4-28-3二甲二硫醚53**0.25-10 (0.5)-10251H/51/51L/53为双管*:按换算表读数 **:按换算系数读数

日本GASTEC 840氟氯化烃（热解管），日本GASTEC 840氟氯化烃（热解管），说明 电源：4AA电池 可连续工作时间：约2小时 加热丝寿命: 以氟利昂113为例，测定浓度为6,000 ppm时可用1,000次 标准使用温度：0-40°C 尺寸及重量?68╳150，重约245g 热解检测管 [51L] [51] [51H] [52] [53]具体检测气体种类及范围参考下表 览日本GASTEC 840氟氯化烃（热解管），日本GASTEC 840氟氯化烃（热解管）气体种类型号检测范围（ppm）刻度范围保存期（年）乙腈52**3-180-3氯甲烷51**12-480-351L**1.6-86-3二氯甲烷51L**1-54-3硝基乙烷52**4-240-31-硝基丙烷52**4.2-252-32-硝基丙烷52**3.7-222-3硝基甲烷52**5-300-3二甲二硫醚53**0.3-6-2FC- 1151H**275-6600-351**8-320-351L**0.8-43-3FC- 1251H**325-7800-351**11-440-351L**1.8-97-3FC- 2251H**1000-24000-351**25-1000-351L**2.5-135-3FC-11251H**125-3000-351**7-280-351L**1-54-3FC- 11351H250-6000250-200035110-40010-400351L1-541-203FC- 113a51H**125-4800-351**10-400-351L**0.8-43-3FC- 11451H**475-11400-351**20-800-351L**1.8-97-3FC- 12351**14-560-351L**1.4-28-3FC- 141b51**10-400-351L**1.1-22-3FC- 22551**20-800-3FC- 225Ca + FC- 225Cb 1:151L**1.4-28-3二甲二硫醚53**0.25-10 (0.5)-10251H/51/51L/53为双管*:按换算表读数 **:按换算系数读数

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

为确保施加精确的力度并正确加液，我们建议您使用与设备配套的Struers耗材。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用，以控制研磨过程的所有参数，例如以合适的数量和有效的分布添加磨料和悬浮液。这是充分利用您投资的理想方式。 MD-System先进的MD-System包括与金属基座研磨盘和抛光布结合的磁性支撑盘。由于这些研磨盘均匀地磨削试样中的硬相和软相，因此能够实现恒定的高材料磨削率和最大平整度。制备时间和成本也显著减少。 只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。请点击此处，登录耗材商城查看碳化硅薄膜的详细型号和应用。

产品介绍氧化硅磁珠在顺磁性磁核上完全均匀包覆氧化硅壳层，具有高磁响应性；单分散粒径纳米微球使氧化硅磁珠具有更为良好的悬浮性和更大比表面积，可用于核酸提取等过程。产品特性粒径:500nmpH稳定性:pH 4-12高磁响应性: 30emu/g单分散性：去掉磁场，磁珠即可均匀分散非特异性结合低