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海德堡掩膜版光刻机VPG+ 800/1100/1400大尺寸掩膜版生产工具平行化曝光制程技术热销的VPG（Volume Pattern Generator）系列-全球安装已超过50台。自成立以来，随着技术的进步，VPG产能不断得到进一步提升。整体的高速光学调制器有了飞跃性表现-升级后的系列命名为：VPG+。大光刻面积VPG+：技术的领航大光刻面积的VPG +维持原VPG系列为根基再进化，使其更加出色。VPG于2007年推出 是拥有专利的量产型曝光技术光刻系统，可靠和经济的解决方案，适用于要求严谨的掩膜板制造。速度更快：超高速曝光VPG+系列具有海德堡所研发的高速光学调制器，在速度最大化下，曝光时间可以达到原始VPG的三倍！强化了曝光动能与数据传输路径。功能和选项：配备性能VPG +可配置各种平台尺寸，最大可达1400mmx1400mm。 该系统具有355nm波长的紫外激光源，空气轴承平台，半自动或全自动入料器，用于基板装载和最先进的温控环境室。应用：光罩制造和直接写入大光刻面积的VPG +系统适用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light emitting diodes, touch panel以及life science应用。出色的图像质量和对位功能，也非常适合在大面积执行多层套刻直写。VPG+ 最大型的设备VPG+ 1400专门针对显示器相关行业应用：是所有VPG+系列中功能最强大，具有极其完善的温控环境室，差分干涉仪和先进的mura校正以及面板间距优化功能。ApplicationMicro-optics, MEMS, Display, Micro sensor 功能: FunctionSubstrates up to size of 800 x 800, 1100 x 1100 and 1400 x 1400 mm2 respectively Minimum structure size: 0.75μm Address grid down to 12.5nm Ultra-high-speed exposure engine High power DPSS laser with 355nm Multiple write modes Automatic write mode exchanger Metrology and alignment system Climate chamber Online data transfer Automatic loading system Multiple data input formats(DXF, CIF, GDSII, Gerber) Stage map correction Edge detector unit Mura correctio

德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机DWL 2000/4000科研型与量产型兼具的激光直写设备高速、高灵活度与高精度的光学系统4096阶灰阶光刻功能DWL2000和DWL4000激光光刻系统为快速、灵活的高分辨率图形产生器，用于制作光罩和直写。这些系统的写入面积高达200x200mm2与400x400mm2，是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors，CGH以及所有其他微结构应用里，需快速构图于光罩和硅片的完美方案。除了高分辨率的2D图形之外，还提供灰度光刻曝光模式，可在厚光刻胶中创建复杂的3D结构。与其他技术相较，此光刻技术能够在大面积中产出3D微结构。优化评估灰度曝光的特殊软件工具，减少新图像设计的循环时间。为了确保最低的表面粗糙度和形状一致性，该系统支持高达4096灰度级，在业界中具备无与伦比的性能。常见的应用包括部份大型的跨国公司制造用于电信或照明产业的晶圆级光学器件，其他新应用包括显微镜制造以及生物学和生命科学领域的器件制造。

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德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机 MLA150德国高精密激光直写绘图机非接触式曝光可支持高效数位光刻与灰度光刻MLA150专为便于操作而设计，涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识。它提供了单层和多层应用所需的所有功能，由于MLA150曝光是非接触式的，因此它可以克服无光罩曝光技术的局限性。与其他图形产生器不同的地方不仅在于MLA150易于使用，还有极快的曝光速度。使用小至1微米的结构曝光100x100mm2的区域仅需要不到10分钟。透过使用三个不同分辨率的集成摄像头，可在2分钟内完成多层应用中的套刻对位，套刻对准精度优于500nm。MLA150无光罩激光直写设备直接曝光图形的灵活性能，可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微结构等领域的工作效率。 功能基板到9 x 9”标准版:1μm结构高分辨率版本:结构可达600纳米2暴露面积150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可选)非接触式曝光光源为405 nm和375 nm基于SLM光引擎多种数据输入格式校准精度为500纳米背面对齐实时自动对焦抵制数据库自动标记和序列化

德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150 德国高精密激光直写绘图机非接触式曝光可支持高效数位光刻与灰度光刻 MLA150专为便于操作而设计，涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识。它提供了单层和多层应用所需的所有功能，由于MLA150曝光是非接触式的，因此它可以克服无光罩曝光技术的局限性。与其他图形产生器不同的地方不仅在于MLA150易于使用，还有极快的曝光速度。使用小至1微米的结构曝光100x100mm2的区域仅需要不到10分钟。透过使用三个不同分辨率的集成摄像头，可在2分钟内完成多层应用中的套刻对位，套刻对准精度优于500nm。MLA150无光罩激光直写设备直接曝光图形的灵活性能，可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微结构等领域的工作效率。 功能基板到9 x 9”标准版:1μm结构高分辨率版本:结构可达600纳米暴露面积150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可选)非接触式曝光光源为405 nm和375 nm基于SLM光引擎多种数据输入格式校准精度为500纳米背面对齐实时自动对焦抵制数据库自动标记和序列化

ULTRA半导体級別图形发生器 The Semiconductor Laser Mask Writer光学系统上的创新与突破-平行化曝光制程技术制版系统VPG +大尺寸曝光系统适合用于先进封装，半导体，显示器，彩色滤光片，LED和触摸屏等相关掩膜版制作的应用。 VPG +系统支持所有工业等级数据化格式，并提供Mura优化功能，呈现完美的CD均匀性和分辨率。VPG + 1400是我们大的系统，特别针对显示器领域和FPD的应用，例如TFT数组和彩色滤光片以及ITO。 VPG + 1400具有高精度的设备架构，分辨率低至1.2 nm的差分干涉仪及先进的Mura校正功能。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

海德堡Heidelberg 高级大型2D，3D直写光刻机DWL 8000 大面积瞄写系统：DWL 8000 搭配海德堡的精密软件控制可以让您在大面积范围中，也可以瞄写2维和3维图形的DWL 8000系列，是针对微光学领域的2维和3维的微构造形式所制作。 对于激光图形生成器，MEMS，Displays 和sensors 都有加宽，加高的设计。DWL 8000精确的温度控制，动态的焦点追踪，closed loop位置决定，确保完美布置和完全覆盖性的直写范围。 DWL 8000多年的经验累积，使Gray Scale曝光技术，可以更有效率于更小的系统上直写更大的区域范围。在使用高分辨率技术掩模板上，使用曝光强度经过调整的激光，可在连续表面上形成1个复杂的3维样式。主要功能：。最小描绘尺寸：0.7um。最小直写尺寸：20nm。5种描绘模式。可转换成自动描绘模式。进阶3维绘画方式。里测/校直用照相机系统。选择线上（Online）传送绘画数据。自动基板加载系统。多种多样的绘画数据输入格式（DXF，CIF，GDSLL，Gerber,STL）。Stage Map补正。Edge detectof unit 应用范围：。Micro-optics。MEMS。Display。Micro-sensor

MLA300批量生产高效能数字光刻解决方案 The Maskless Aligner for Volume Production批量生产高效能数字光刻解决方案批量生产能力，并且实现2μm线宽高分辨率，高产速及高效能。MLA300的特点是搭配全自动硅片自动装取片装置，以及操作软件提供简易的自动化工作流程。在全球半导体产业中，MLA300运用在IC传感器，分立器件，微机电设备(MEMS)，集成电路(ASIC)，OLED显示器，Mirco LED及封装应用的生产领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

上海秉和电子科技有限公司 专业编码器、传感器20年，主营多摩川、海德汉、欧姆龙、渡边、倍加福、亨士乐、森泰克、西克、莱卡、宜科、意尔创、长春禹衡（长春一光）、霍德等 。地址：上海市闵行区虹梅南路3966号陆国时代商务大厦402室

VPG1600海德堡Heidelberg 终级0型大尺寸掩膜版生产工具 新型Volume High Generator(VPG)大尺寸图形发生器，是海德堡科技在大型光学系统上科技的创新与突破的里程碑。其利用独家专利的技术“宽阔的平行化曝光制程技术”而开发出来的。 VPG是目前掩膜板大尺寸，大批量生产的可靠而又经济的解决方案，特别适用诸如：需要大量掩膜版的电子封装产业，彩色滤光片产业，以及其它特别需要大面积，而且高分辨率需求相关产业。另外，VPG还可以提供优异的影像质量与注记差异（实际掩膜板与资料的差异）。 VPG 设计有可以搭载多样化不同尺寸的承载平台，例如：1600mm*1400mm,1100mm*1100mm,800mm*800mm. 但这些系统都安装有气浮装置，可配置半自动或者全自动的上下版装置，并且可以选择最高输出功率20W的UV激光发射头。微细化的写入步距，可以确保优越的粗糙度和连接边界。平台位置自动校正技术，可以进行优异的自我校正，以达到精准的定位效果。

VPG1600海德堡Heidelberg 终级型大尺寸掩膜版生产工具 新型Volume High Generator(VPG)大尺寸图形发生器，是海德堡科技在大型光学系统上科技的创新与突破的里程碑。其利用独家专利的技术“宽阔的平行化曝光制程技术”而开发出来的。 VPG是目前掩膜板大尺寸，大批量生产的可靠而又经济的解决方案，特别适用诸如：需要大量掩膜版的电子封装产业，彩色滤光片产业，以及其它特别需要大面积，而且高分辨率需求相关产业。另外，VPG还可以提供优异的影像质量与注记差异（实际掩膜板与资料的差异）。 VPG 设计有可以搭载多样化不同尺寸的承载平台，例如：1600mm*1400mm,1100mm*1100mm,800mm*800mm. 但这些系统都安装有气浮装置，可配置半自动或者全自动的上下版装置，并且可以选择最高输出功率20W的UV激光发射头。微细化的写入步距，可以确保优越的粗糙度和连接边界。平台位置自动校正技术，可以进行优异的自我校正，以达到精准的定位效果。

机台说明Hildebrand手持数显邵氏硬度计（HDD-2 Shore）是海德新款产品，用于检测橡胶，塑料和其它非金属表面的硬度。机台原理机台可完成不同类型试样的硬度测试。也可以根据需要加配基座，基座分为手持版本和自动版本。手动基座可配置砝码增加荷重来满足不同标准的荷重要求。自动基座实现全自动测试功能；可配置砝码；可手持，可自动，满足多样化需求。

德国海德堡 激光直写光刻机DWL 66+科研用激光直写系统具有多种直写模块，实现不同精度直写需求能于结构上进行灰度曝光 DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器，适用于小批量掩模板制作和直写需求。该系统的功能和灵活性使其成为Life Science, Advanced Packaging, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor以及所有其他需要微结构应用的刻研工具。DWL 66+的客户群包括全球200多所顶尖大学和研究机构，许多系统功能是与这些机构合作开发，及先进技术不断改进以增加高分办率：DWL 66+的最小结构尺寸为300 nm，提供了极高的分辨率，优于或等于研发领域中最强大的光学光刻系统。 基本的DWL 66+包含创造和分析微结构所需的所有功能。它可以用于掩模板制作或直写在任何涂有光刻胶的平坦材料上，多样化选择可提高灵活性，使系统适用于更多应用领域。

VPG+800 / VPG+1100 / VPG+1400大尺寸超高速圖形發生器 The Multi-Purpose Volume Pattern Generators光学系统上的创新与突破-平行化曝光制程技术制版系统VPG +大尺寸曝光系统适合用于先进封装，半导体，显示器，彩色滤光片，LED和触摸屏等相关掩膜版制作的应用。 VPG +系统支持所有工业等级数据化格式，并提供Mura优化功能，呈现完美的CD均匀性和分辨率。VPG + 1400是我们大的系统，特别针对显示器领域和FPD的应用，例如TFT数组和彩色滤光片以及ITO。 VPG + 1400具有高精度的设备架构，分辨率低至1.2 nm的差分干涉仪及先进的Mura校正功能。关于我们 Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备 / 光刻机HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

上海秉和电子科技有限公司 专业编码器、传感器20年，主营多摩川、海德汉、欧姆龙、渡边、倍加福、亨士乐、森泰克、西克、莱卡、宜科、意尔创、长春禹衡（长春一光）、霍德等 。地址：上海市闵行区虹梅南路3966号陆国时代商务大厦402室

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DWL66+多功能无掩膜激光直写机 / 光刻机The Maskless Aligner for Volume Production多种直写模块及灰度光刻 实现各种精度需求 DWL66+ 激光光刻系统是具经济效益、具有高分辨率的图形发生器。适用于小批量掩膜版制作和直写需求。DWL66+拥有多种选配模块,例如:正面和背面对准系统；405nm和375nm波长的激光发生器；进阶选配：精度校准和自动上下板加载系统。DWL66+的高度灵活和可定制的解决方案，专门为您的应用量身定做，已成为生命科学、先进封装、MEMS、微光学、半导体和所有其他需要微结构的应用中必不可缺少的光刻研究工具。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

MPO 100双光子聚合 (TPP) 多用途工具 Multi-user Tool for 3D Lithography and 3D Microprinting3D微打印多用途光刻工具双光子聚合 (TPP) 多用途工具，用于微结构的 3D 光刻和 3D 微打印，应用于光学、光子学、力学和生物医学工程。 3D 模块打印平台- MPO 100 提供 3D 高精度光刻以及 3D 微打印的高产量，并能够在单个工艺步骤中以高吞吐量生产复杂的微结构。 关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM 德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

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