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羟戊基三甲基硅烷

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羟戊基三甲基硅烷相关的仪器

  • 三甲基氯硅烷工艺装置主要由溶解釜、加料釜、反应釜、接收罐、碱液釜和渣浆釜等组成。 其主要仪表及管阀件均采用高性能产品,装置非标采用耐腐蚀材质。PLC 系统采集确保操作人员安全。 装置的整体水平要求自动化程度高,数据精确度及重复性好,安全可靠 并能长周期稳定运行
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  • 我公司为国内生产异辛烷产品服务商年销售异辛烷产品超过五千吨我们将为您提供优质的商品和满意的服务!2,2,4-三甲基戊烷,是一种有机化合物,化学式为C8H18,主要用于有机合成,也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。理化性质熔点:-107.4º C沸点:98-99º C密度:0.691(20℃)闪点:4.5℃(OC)折射率:1.391(20℃)饱和蒸气压:5.1kPa(20º C)临界压力:2.57MPa引燃温度:417º C爆炸上限(V/V):6.0%爆炸下限(V/V):1.1%外观:无色透明液体溶解性:不溶于水,混溶于庚烷、丙酮,溶于乙醚、苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二硫化碳、四氯化碳等用途主要用于有机合成,也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。储存方法储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜超过37℃,保持容器密封。应与氧化剂分开存放,切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。山东强森化工有限公司,是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。公司是集研究、生产、加工、销售为一体的制品企业,工厂占地面积大,公司具有较强的自助研发能力,拥有多项国家发明专利超强的品质保障,专业生产,多年行业经验,出厂严格把关,公司与中国石化、齐鲁石化、东岳集团、内蒙远兴集团、兖矿集团、海力集团、金岭集团丶华鲁恒升、万华集团等大型上市公司建立了长期稳固的合作关系,能够为客户提供优质的产品和服务,在行业中树立了良好的商业信誉,赢得了国内外众多客户的信赖与支持。 公司发扬“诚信、专业、团结、拼搏”的企业精神,秉承“以信为本,以诚待人,以稳求实,优质服务”的经营理念,愿与各界朋友及客户精诚合作,共创辉煌。
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  • 北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统CPT2610-AA-NOX氮氧化物监测报警器采用进口高精度电化学传感器,具有高响应度,重复性,高精确度和操作简便等优点,符合国家相关标准要求。先进的气体检测技术,加之多路双显示声光报警功能, 可满足用户对氮氧化物气体排放实时监控的需求,同时为环境治理政策的制定提供有力的数据支持及预警等服务。北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统配置参数:1、1个NO检测探头,电化学式测量原理,测量范围0 ' 300ppm精度土1.5%F.S.响应时间30s输出4-20mA, 24VDC供电IP65防护,带墙装支架 2、1个NO2检测探头,电化学式测量原理,测量范围0~30ppm, 精度士1.5%F.s响应时间30s,输出4-20mA, 24VDC供电,IP65防护,带墙装支架: 3、1台2通道控制器,用于连接上述2个检测探头信号,为检测探头提供24VDC电源,带现场显示屏幕,输入:两路4-20mA, 输出:4-20mA两路超限继电器报警1路故障继电器报警,供电电源220VAC, IP65防护,带墙装支架,带2根5m与探头连接的电缆。4、XS3.5-2 双路双显示报警,报警器有数字显示和声光报警功能,也可以驱动其他报警 氮氧化物监测报警系统应用:矿井,煤井,输气燃气、能源、石油、化工、冶金甲烷,乙烷,天然气,设备泄露监测食品冷藏氨气、佛里昂泄露,臭氧,过氧化氢;PCBs,油脂,纸浆和造纸厂变压器等存在易燃、易爆、毒性气体的危险场所海运,空运,车辆物流安全,钻井,输油,炼油厂,石化厂和化工厂、发电厂含磷毒剂,战剂探测,炸药,推进剂等探测石油石化、化工厂、冶炼厂、钢铁厂、煤炭厂、热电厂、自来水厂、医药车间、烟草公司、大气环境监测、科研院校、楼宇建设、消防报警、污水处理、工业过程化控制、锅炉房、垃圾处理厂、地下隧道、输油管道、加气站、地下管网检修、室内空气质量检测、食品加工、杀菌消毒、冷冻仓库、农药化肥、杀虫剂生产等。北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统技术参数:采样方式: 自然扩散式环境湿度: ≤95%RH相对湿度(无冷凝)防爆等级: 防爆等级EXdⅡCT6,防护等级IP65 电源电压: DC12V、24V,220V AC可选模拟输出: 4~2mA /0~20mA、0~2.5V可选仪器重量: 300~500g安装方式: 壁挂式安装或螺纹安装安装螺纹: T型变送器带G1”连接口使用电缆: 四线制/三线制,0.2mm2以上铜线屏蔽电缆环境温度: CPT2610/20:-20~50℃;CPT2312/2410:-30~70℃;GD2290/4100:-10~45℃电流输出蕞大负载: RL=(Vs-2.7V)/0.020mA其他可检测气体: 氢气氨气氧气氟气丁硫醇溴气氢化锗酯酸乙烯酯乙炔乙醇乙烯丙烯磷酰氯丁胺异丙胺1-3-丁二烯二甲胺三甲胺二乙胺乙硫醇乙硼烷甲醇异丙醇二甲基硫醚砷化硼硫化氢氰化氢溴化氢氯化氢氯气磷化氢二甲基乙胺乙烯基氯一氧化氮一氧化碳二氯硅烷二氧化氯乙醛二氧化硫环氧乙烷异丙硫醇三氯化硼三氯化磷三氯硅烷三甲硼烷甲醛四氯化锡四氯化钛一甲胺四氯化硅四氢噻吩过氧化氢n-丙基硫醇硅烷二氧化氮亚硫酰二氯五氯化锑环氧丙烷甲硫醇吗啉三乙胺氢化硒甲苯二甲苯
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  • PECVD沉积 400-860-5168转3855
    PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批处理基片(4x3” 3x4” 7x2”)。Minilock-Orion III用于有毒/发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、无定形硅和碳化硅。工艺气体:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。该系统可选配一个三极管(Triode)或电感耦合等离子(ICP)源。三极管源使得用户可以创建高密度等离子,从而控制薄膜应力。基片通过预真空室装入工艺室,其避免了与工艺室以及任意残余沉积副产品接触,从而提高了用户的安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下,从而保持反应室与大气隔绝。
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  • T-BD5-PID2290 –TVOC在线管道式有机气体检测仪 原理: PID电离势10.6eV 的所有有机化合物探测 在线管道式有机气体检测仪应用:环境督察、环境指标 VOC、VOCs or TVOC医院垃圾、医疗废弃物、工业恶臭味检测、污染源/排放口监测含磷毒剂,战剂探测、炸药、推进剂等探测、刺激性化学物质探测人类动物呼吸及排泄气体检测、农药、杀虫剂等探测、实验室烟雾探测泄露探测、毒气探测、气体安全探测、残余气体探测、毒榀等危险品探测制冷剂、灭火剂、绝缘介质挥发物检测、可燃气检测工作环境达标、有机毒气探测、劳动安全检测在线管道式有机气体检测仪用途: 各种气体泄露探测空气背景单一的多种有机物单气浓度测试个别无机物气体浓度测试TVOC分析主要探测气体:异 丁 烯: 5ppb~50/1000ppm;100ppb~500/6000ppm;甲 苯: 10ppb~100/2000ppm;200ppb~1000/12000ppm;其他气体: 乙醛,丙酮,氨,苯,丁二烯,柴油,乙醇,乙烯,汽油,己烷,喷气机燃料(JP8),煤油,甲基乙基酮,萘,苯乙烯,甲苯,松节油,氯乙烯,二甲苯等。在线管道式有机气体检测仪技术参数:灵 敏 度: 100 ppb(异丁烯)线性范围: 0~300 ppm重复精度: ±5%相对零点漂移: 50%(可调零消除) 蕞大零点漂移预热时间: 5 min温度范围: -40~40°C(本安);40~60°C(非本安)湿度范围: 0~95%,非结露响应时间: T90:3secs在线管道式有机气体检测仪检测气体: 氢气氨气氧气氟气丁硫醇溴气氢化锗酯酸乙烯酯乙炔乙醇乙烯丙烯磷酰氯丁胺异丙胺1-3-丁二烯二甲胺三甲胺二乙胺乙硫醇乙硼烷甲醇异丙醇二甲基硫醚砷化硼硫化氢氰化氢溴化氢氯化氢氯气磷化氢二甲基乙胺乙烯基氯一氧化氮一氧化碳二氯硅烷二氧化氯乙醛二氧化硫环氧乙烷异丙硫醇三氯化硼三氯化磷三氯硅烷三甲硼烷甲醛四氯化锡四氯化钛一甲胺四氯化硅四氢噻吩过氧化氢n-丙基硫醇硅烷二氧化氮亚硫酰二氯五氯化锑环氧丙烷甲硫醇吗啉三乙胺氢化硒甲苯二甲苯乙基丙烯酸酯1-氯-2.3-环氧丙烷甲基丙烯酸甲酯二乙胺基乙醇
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  • GC-9280型硅烷分析氦离子化气相色谱仪适用于高纯气体和电子工业用气体中痕量杂质的检测,仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用普瑞公司的中心切割技术,进样阀均带有吹扫保护气路;整机采用多柱箱设计,并配备进样压力自动校正系统,保证不同底气的样品的进样量。 硅烷是重要的新材料产品,广泛应用于LCD平板显示、半导体、太阳能等行业,随着中国半导体等行业的发展,国内对硅烷的需求与日俱增,但是由于国内硅烷生产的技术处于起步阶段,如何对硅烷的纯度进行分析是各个生产厂商需要面临的一个课题 众所周知,高纯气体的分析是一个复杂的过程,也是色谱分析的难点之一;硅烷由于其物理性质的特殊性,其分析的难度可谓难上加难,不仅需要高灵敏的检测器,还要解决硅烷遇氧燃烧的问题。GC-9280氦离子化气相色谱仪克服了硅烷分析过程中的众多技术难点,采用高灵敏度的氦离子化检测器,配备专用的硅烷取样系统,很好的完成了硅烷中痕量的ppb级杂质的分析。 适用的标准:GB/T 15909-2009《电子工业用气体 硅烷》 GC-9280硅烷分析氦离子化气相色谱仪适用于高纯气体和电子工业用气体中痕量杂质的检测,最小检测浓度可达5ppb。仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用普瑞公司中心切割技术,所配备的进样阀均为带有吹扫保护气路的进口阀;整机采用多柱箱设计,不同色谱柱可单独控温,优化了分离条件,并且方便对不同色谱柱分别进行老化处理,方便仪器的维护;仪器配备进样压力自动校正系统,克服了不同底气因分子量不同而造成的进样量多导致的分析误差。 GC-9280硅烷分析氦离子化气相色谱仪的性能优势: 气体工业是国民经济的基础行业,是工业生产的“血液”,随着国民经济的快速发展,对高纯气体和电子工业用气体的需求量也快速增长。痕量杂质的检测是生产高纯气体和电子工业用气的关键环节,而痕量杂质的分析一直是色谱分析的难点,传统的热导等色谱检测器均无法胜任高纯的气体分析。 脉冲放电氦离子化检测器(PDHID)是一种灵敏度极高的通用型检测器,对几乎所有无机和有机化合物均有很高的响应,特别适合高纯气体的分析,能够检测至ng/g(ppb)级的检测器。 仪器的应用范围:本仪器主要应用于高纯硅烷气体中微量杂质的分析,具体内容详见下表: 气体种类需分析的杂质种类HeH2O2ArN2COCH4CO2C2C3SimHn仪器的检测限(PPb)153010501010303050 系统依据的相关标准: 1、电子气标准GB/T 15909-2009《电子工业用气体 硅烷》2.仪器的详细配置(供货明细):仪器名称型号规格厂家单位数量备注氦离子化气相色谱仪GC-9280PDD北京普瑞仪器台1配备PDHID氦离子化检测器多柱箱系统北京普瑞仪器套1可以根据分析的需要设置不同的柱箱温度,以满足样品分离的需要中心切割与反吹系统:吹扫十通阀2只 吹扫六通阀3只. VALCO 套 1配备3个带吹扫保护气路的原装进口阀:一次进样,无需更换色谱柱即可完成对氢、氧、氮、氩、一氧化碳、甲烷、二氧化碳等多种样品中痕量杂质的分析。专用毛细管色谱分离系统VALCO套1用于分离硅烷中的微量:甲硅醚;甲基硅烷;乙硅烷色谱柱:Hayesep -QHayesep -DB5A 硅烷毛细管柱VALCO根61.可分离样品中的H2、O2(Ar)、N2、CO、CO2、CH4等杂质2.CO拖尾处理技术硅烷取样系统普瑞仪器套1专为高纯硅烷色谱分析设计含吹扫气路与取样气路。载气(He)纯化器:HP-2VALCO台1He中杂质含量≤10ppb载气过滤器VALCO个12μm孔径样品过滤器VALCO个12μm孔径标准气体:(10PPM)普瑞仪器套1含: H2, O2, Ar, N2,CO, CH4, CO2高纯氦气:40L用户自备瓶1+1纯度不低于99.999%高纯氮气:40L用户自备瓶1作为VALCO吹扫阀的保护及驱动气使用无死体积专用取样阀带吹扫1/8”口普瑞仪器个4取样时防止空气渗入,带放空结构设计载气专用两级不锈钢减压阀1/16”口HORO个2配:进口载气四通切换阀1/16”口只1配:进口高纯气专用色谱工作站普瑞仪器套1自动控制切割、反吹、进样等过程;并实现对色谱主机的操作控制电脑与打印机联想/HP台1可另选配安装调试费:免费技术服务及培训费:免费(1.发货前 2.安装调试中 3.公司定期办培训班时.)随机备品、备件、工具、材料费(附件四):随机 GC-9280氦离子化气相色谱仪仪器特点 中心切割技术,实现气体全分析: GC-9280氦离子化气相色谱仪采用多阀多柱的中心切割与反吹技术,该系统由多个吹扫型十通阀及多根色谱联合组成,通过工作站设置的时间程序自动控制其进样、切换、切割与反吹等过程。 吹扫型十通阀 GC-9280-HG所配备的均为原装进口VICI生产的带保护气路的吹扫型十通阀,阀平面始终处于载气的氛围中,避免进样和切换时空气渗透到样品之中,大大提高检测灵敏度和准确性。 经特殊加工的色谱柱技术(1)色谱柱管材采用316L不锈钢材料,且管材内壁均经过钝化处理,防止吸附和一氧化碳拖尾等问题的产生(2)色谱柱担体均经过特殊处理,避免氧吸附等问题的产生(3)预切柱采用微型填充柱技术,全面改善样品的分离,兼顾分离、稳定与快速 多柱箱分离系统 气体样品的形式多种多样,同时杂质种类繁多,需要多根不同的色谱柱联用来完成气体样品中的所有杂质的分离。由于不同色谱柱的最佳工作温度不尽相同,在同一个柱箱中很难找到同时适合不同色谱柱工作的工作温度。GC-9280采用多柱箱设计,有效解决了不同色谱柱需要不同工作温度的难题。 在仪器的日常维护中,由于5A分子筛等不同担体的色谱柱的活化温度各不相同,如果在同一柱箱中进行老化需要将不耐受高温的色谱柱拆下来,然后分别进行活化。GC-9280的多柱箱设计可以有效解决上述问题,不同的色谱柱可以在不同柱箱中分别活化,避免了日常仪器维护工作中需要拆装色谱柱的问题。 HP-2氦气纯化器: GC-9280采用高纯氦气为载气,氦气的纯度直接影响到整个仪器对杂质的检测灵敏度。试验证明,高纯气体分析所用载气的纯度至少比气体样品的本底纯度高一个数量级。 HP-2型氦气纯化器是VICI公司生产的一款专载气纯化器,其纯化基质是一种无挥发性的吸附性合金,吸附剂粒子表面有一层氧化膜需通过加热活化,活化过程必须在真空或惰性气体环境下完成,这样可允许氦气在其间自由扩散,防止氧气纯化层的形成,又可以进行杂质气体的吸附。HP的吸附剂材料具有良好的热稳定性,包括两个温度控制范围。可纯化气体:He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn最大操作压力:1000Psi去除气体:H2、O2、N2、CO、CO2、CH4、H2O、NO、NH3、CF4等残留浓度:≤10ppb 进样压力校正系统 传统的色谱仪采用在进样阀出口处控制流量的办法来控制定量管内的进样体积,试验证明这种方法有着很大的分析误差 以分析高纯氢气为例:标准气是配置在氦气中的六种杂质,而样品气是在氢气中的六种杂质;由于氦气和氢气的分子量不同,从而造成了在相同流量下的进样量是不的情况 GC-9280配备压力校正系统,克服因底气不同造成的进样量不的问题,确保数据的准确性。 无死体积取样阀 GC-9280配备了无死体积的专用取样阀,采用带吹扫保护的取样方式,有效的避免了空气残留的问题,将取样过程对分析的影响降至低的水平。 载气专用减压阀 普通减压阀由于大量死体积的存在,直接影响到经减压阀输出后的载气纯度,造成载气中的本底杂质浓度很高,从而影响到整个系统的检测限。 GC-9280氦离子化气相色谱仪配备具有两级稳压功能的全不锈钢载气减压阀,大大提高了压力稳定性,确保基线的稳定,同时也降低了阀体内的死体积,进一步提高检测灵敏度。
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  • 产品介绍资料  山东云唐智能科技有限公司生产的蜂蜜检测仪为集成化食品安全快速检测分析设备,采用手提箱式一体化设计,可检测体现各类蜂蜜品质的蔗糖、还原糖(葡萄糖和果糖)、羟甲基糠醛、农药残留、兽药残留、重金属等项目定性定量检测。  该蜂蜜检测仪为集成化食品安全快速检测分析设备,目前已于食药监局、市场监督部门、高教院校、科研院所、农业部门、蜜蜂养殖场、蜂蜜加工厂等单位广泛使用。  仪器检测项目:  项目项目分类  体现蜂蜜品质蔗糖、还原糖(葡萄糖和果糖)、羟甲基糠醛、脯氨酸、淀粉酶、酸度、糖度等  蜂蜜中农药残留  重金属含量铅、镉、铬等  抗生素残留(兽药)氯霉素、氟喹诺酮类药物、恩诺沙星、环丙沙星、沙拉沙星、氟甲喹、磺胺类药物、磺胺嘧啶、磺胺二甲基嘧啶、磺胺二甲氧嘧啶、磺胺三甲氧苄胺嘧啶、磺胺喹噁啉、磺胺对甲氧嘧啶、链霉素、四环素、金霉素素、土霉素素、强力霉素、新霉素、卡那霉素、大观霉素、呋喃唑酮代谢物、呋喃它酮代谢物、呋喃妥因代谢物、呋喃西林代谢物等  二、技术参数  1、仪器采用台式一体化系统检测技术,将分光光度模块、胶体金检测模块、新型农残检测模块、数字化管理模块、无线通讯模块高度集成于一体,支持检测200种食品安全检测项目,同时预留升级检测方法。  2、仪器检测模块标准化、智能化,检测项目可随意自由组合。检测箱体内置多个标准检测单元,检测模块可以调整配置。  3、显示屏幕:仪器采用10.1英寸竖向液晶触摸屏显,搭配运行安卓智能操作系统,主控芯片采用ARM Cortex-A7,RK3288/4核处理器,主频1.88Ghz,操作方便,性能更强。  4、检测通道:≥12通道 采用精密旋转比色池设计,使用同芯片同光源校准精度,解决不同光源之间的误差值,更加准确高效。(1-12通道间误差0.1%,专利号:ZL202022821055.2)  5、仪器光源:高精度进口四波长冷光源,每个通道均配置 410、520、590、630nm 波长光源,标配先进的光路切换装置,专利光路切换功能可实现64波长,并且所有检测项目可实现所有通道同时检测。  6、设备可一键校准,自动保存校准数据,自动对比校验,得到精准光源,采用Android SP存储数据,光源数据永不丢失,方便每一次使用。  7、通讯接口:配备无线通信模块、4G(APN)通讯模块、蓝牙传输,同时具有双USB接口以及RJ45网线接口,可以多方式实现数据保存及数据传输。  8、存储方式:支持U盘存储,标准USB接口,免驱动安装。检测结果存储容量20万条以上,可生成Excel表格进行拷贝,并具有登录保护功能。  9、智能化操作系统:  9.1、操作系统:仪器可在同一检测界面自动对应相关检测通道,一次性选择1-12个样品名称,无需退出界面,节省操作时间。并可以对每个通道属性和样品信息单独进行编辑,例如送检单位、人员,检测人员等,打印时勾选打印显示。  9.2、数据集成系统:设备首页自动汇总分析检测数据,包含:周检测数据、月检测数据,全部检测总数量,包含检测总数,合格数,不合格数,以及相关柱形分析图,各项检测数据一目了然,无需电脑查询,更加快捷直观。  9.3、数据库系统:十几项数据库分类管理仪器:包含项目类型、项目数据、检测数据、历史记录、国标信息、曲线信息、采样信息、检测信息、受检信息、复核信息、图表信息、光源校准信息、打印样式信息、样品库信息等等,数据库之间互相协调联动保证数据的真实完整性。同时产品数据库以及历史检测记录支持一键检索功能。  9.4、限量规判系统:具有限量查询、添加物质合规判定系统。检测出结果后,系统自动调用系统数据库中相关国标进行比对判定,客观显示判定结果是否合格。  9.5、项目预设系统:仪器具有任务预设模块,一键提前预设,给出方便快捷的新检测方案,每一个任务分别可以设置不同的样品、批次、编号、来源、备注、抽样信息、检测信息、受检信息、复核信息等更多信息。样品送检时一键调取保存信息,并可多次调取,大大提高检测效率。  9.6、数据监管系统:同步对接监管平台,数据可局域网和互联网数据上传,检测结果可直接传至食品安全监管平台。进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计,监测区域食品安全长短期动态及问题预估、预警。  9.7.1、全新打印系统:内置全新打印机,新创自定义打印方式,可按需灵活勾选控制:产品合格证(国家农业部标准要求),二维码,抽样信息、检测信息,受检信息、复核信息、抽样日期、检测日期等信息的打印。  9.7.2、A4纸版本报告打印功能(可选配):设备拥有两种结果展示方式,可以自动生成A4打印模板和小票打印模板两种样式,可通过WiFi及网线等方式链接外置打印机可进行打印。  10、供电模式:仪器交直流两用,直流12V供电,可连接车载电源,配6ah大容量充电锂电池,电量可实时显示,方便户外流动测试。  11、胶体金检测模块:采用CMOS成像处理技术及胶体金免疫层析技术,可读取胶体金卡数据,自动采集、处理分析,将检测结果显示,并可根据参考限值自动判断检测结果,可检测常见的兽药残留、生物毒素、抗生素、违禁添加物等。  11.1、探测技术:CMOS成像探测   11.2、检测通道:1个通道   11.3、检测方式:消线法和比色法   11.4、显示模式:阴性或阳性   11.5、曲线形式:轨道式扫描方式,显示金标卡图像,实时生成、识别CT曲线图,无需手动调整,完成检测后自动退出检测卡。兼容市场上其他金标卡,使用耗材不受限制。  12、仪器具备远程升级功能,可定向分客户分仪器更新,开机后自动更新,并可持续性免费更新系统版本,无需像传统产品返厂更新,节省时间及人力成本并避免了物流运输返厂升级导致设备损坏的潜在风险。  1、仪器采用台式一体化系统检测技术,将分光光度模块、数字化管理模块、无线通讯模块高度集成于一体,支持检测200种食品安全检测项目,同时预留升级检测方法。  2、仪器检测模块标准化、智能化,检测项目可随意自由组合。检测箱体内置多个标准检测单元,检测模块可以调整配置。  3、显示屏幕:仪器采用10.1英寸竖向液晶触摸屏显,搭配运行安卓智能操作系统,主控芯片采用ARM Cortex-A7,RK3288/4核处理器,主频1.88Ghz,操作方便,性能更强。  4、检测通道:≥12通道 采用精密旋转比色池设计,使用同芯片同光源校准精度,解决不同光源之间的误差值,更加准确高效。(1-12通道间误差0.1%,专利号:ZL202022821055.2)  5、仪器光源:高精度进口四波长冷光源,每个通道均配置 410、520、590、630nm 波长光源,标配先进的光路切换装置,专利光路切换功能可实现64波长,并且所有检测项目可实现所有通道同时检测。  6、设备可一键校准,自动保存校准数据,自动对比校验,得到精-准光源,采用Android SP存储数据,光源数据永不丢失,方便每一次使用。  7、通讯接口:配备无线通信模块、4G(APN)通讯模块、蓝牙传输,同时具有双USB接口以及RJ45网线接口,可以多方式实现数据保存及数据传输。  8、存储方式:支持U盘存储,标准USB接口,免驱动安装。检测结果存储容量20万条以上,可生成Excel表格进行拷贝,并具有登录保护功能。  9、智能化操作系统:  9.1、操作系统:仪器可在同一检测界面自动对应相关检测通道,一次性选择1-12个样品名称,无需退出界面,节省操作时间。并可以对每个通道属性和样品信息单独进行编辑,例如送检单位、人员,检测人员等,打印时勾选打印显示。  9.2、数据集成系统:设备首页自动汇总分析检测数据,包含:周检测数据、月检测数据,全部检测总数量,均包含检测总数,合格数,不合格数,以及相关柱形分析图,各项检测数据一目了然,无需电脑查询,更加快捷直观。  9.3、数据库系统:十几项数据库分类管理仪器:包含项目类型、项目数据、检测数据、历史记录、国标信息、曲线信息、采样信息、检测信息、受检信息、复核信息、图表信息、光源校准信息、打印样式信息、样品库信息等等,数据库之间互相协调联动保证数据的真实完整性。同时产品数据库以及历史检测记录支持一键检索功能。  9.4、限量规判系统:具有限量查询、添加物质合规判定系统。检测出结果后,系统自动调用系统数据库中相关国标进行比对判定,客观显示判定结果是否合格。  9.5、项目预设系统:仪器具有任务预设模块,一键提前预设,给出方便快捷的新检测方案,每一个任务分别可以设置不同的样品、批次、编号、来源、备注、抽样信息、检测信息、受检信息、复核信息等更多信息。样品送检时一键调取保存信息,并可多次调取,大大提高检测效率。  9.6、数据监管系统:同步对接监管平台,数据可局域网和互联网数据上传,检测结果可选择直接传至食品安全监管平台。进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计,检测区域食品安全长短期动态,达到食品安全问题预估、预警。  9.7、打印系统:内置全新打印机,新创自定义打印方式,可按需灵活勾选控制:产品合格证(国家农业部标准要求),二维码,抽样信息、检测信息,受检信息、复核信息、抽样日期、检测日期等信息的打印。  10、供电模式:仪器交直流两用,直流12V供电,可连接车载电源,可配6ah大容量充电锂电池,电量可实时显示,方便户外流动测试。  11、仪器加入远程升级功能,可定向分客户分仪器更新,开机后自动更新,客户无需任何操作,即可升级全新项目。做到了无需退换机器即可实现实时远程升级检测仪器。
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  • 产品介绍资料  山东云唐智能科技有限公司生产的蜂蜜检测仪为集成化食品安全快速检测分析设备,采用手提箱式一体化设计,可检测体现各类蜂蜜品质的蔗糖、还原糖(葡萄糖和果糖)、羟甲基糠醛、农药残留、兽药残留、重金属等项目定性定量检测。  该蜂蜜检测仪为集成化食品安全快速检测分析设备,目前已于食药监局、市场监督部门、高教院校、科研院所、农业部门、蜜蜂养殖场、蜂蜜加工厂等单位广泛使用。  仪器检测项目:  项目项目分类  体现蜂蜜品质蔗糖、还原糖(葡萄糖和果糖)、羟甲基糠醛、脯氨酸、淀粉酶、酸度、糖度等  蜂蜜中农药残留  重金属含量铅、镉、铬等  抗生素残留(兽药)氯霉素、氟喹诺酮类药物、恩诺沙星、环丙沙星、沙拉沙星、氟甲喹、磺胺类药物、磺胺嘧啶、磺胺二甲基嘧啶、磺胺二甲氧嘧啶、磺胺三甲氧苄胺嘧啶、磺胺喹噁啉、磺胺对甲氧嘧啶、链霉素、四环素、金霉素素、土霉素素、强力霉素、新霉素、卡那霉素、大观霉素、呋喃唑酮代谢物、呋喃它酮代谢物、呋喃妥因代谢物、呋喃西林代谢物等  二、技术参数  1、仪器采用台式一体化系统检测技术,将分光光度模块、胶体金检测模块、新型农残检测模块、数字化管理模块、无线通讯模块高度集成于一体,支持检测200种食品安全检测项目,同时预留升级检测方法。  2、仪器检测模块标准化、智能化,检测项目可随意自由组合。检测箱体内置多个标准检测单元,检测模块可以调整配置。  3、显示屏幕:仪器采用10.1英寸竖向液晶触摸屏显,搭配运行安卓智能操作系统,主控芯片采用ARM Cortex-A7,RK3288/4核处理器,主频1.88Ghz,操作方便,性能更强。  4、检测通道:≥12通道 采用精密旋转比色池设计,使用同芯片同光源校准精度,解决不同光源之间的误差值,更加准确高效。(1-12通道间误差0.1%,专利号:ZL202022821055.2)  5、仪器光源:高精度进口四波长冷光源,每个通道均配置 410、520、590、630nm 波长光源,标配先进的光路切换装置,专利光路切换功能可实现64波长,并且所有检测项目可实现所有通道同时检测。  6、设备可一键校准,自动保存校准数据,自动对比校验,得到精准光源,采用Android SP存储数据,光源数据永不丢失,方便每一次使用。  7、通讯接口:配备无线通信模块、4G(APN)通讯模块、蓝牙传输,同时具有双USB接口以及RJ45网线接口,可以多方式实现数据保存及数据传输。  8、存储方式:支持U盘存储,标准USB接口,免驱动安装。检测结果存储容量20万条以上,可生成Excel表格进行拷贝,并具有登录保护功能。  9、智能化操作系统:  9.1、操作系统:仪器可在同一检测界面自动对应相关检测通道,一次性选择1-12个样品名称,无需退出界面,节省操作时间。并可以对每个通道属性和样品信息单独进行编辑,例如送检单位、人员,检测人员等,打印时勾选打印显示。  9.2、数据集成系统:设备首页自动汇总分析检测数据,包含:周检测数据、月检测数据,全部检测总数量,包含检测总数,合格数,不合格数,以及相关柱形分析图,各项检测数据一目了然,无需电脑查询,更加快捷直观。  9.3、数据库系统:十几项数据库分类管理仪器:包含项目类型、项目数据、检测数据、历史记录、国标信息、曲线信息、采样信息、检测信息、受检信息、复核信息、图表信息、光源校准信息、打印样式信息、样品库信息等等,数据库之间互相协调联动保证数据的真实完整性。同时产品数据库以及历史检测记录支持一键检索功能。  9.4、限量规判系统:具有限量查询、添加物质合规判定系统。检测出结果后,系统自动调用系统数据库中相关国标进行比对判定,客观显示判定结果是否合格。  9.5、项目预设系统:仪器具有任务预设模块,一键提前预设,给出方便快捷的新检测方案,每一个任务分别可以设置不同的样品、批次、编号、来源、备注、抽样信息、检测信息、受检信息、复核信息等更多信息。样品送检时一键调取保存信息,并可多次调取,大大提高检测效率。  9.6、数据监管系统:同步对接监管平台,数据可局域网和互联网数据上传,检测结果可直接传至食品安全监管平台。进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计,监测区域食品安全长短期动态及问题预估、预警。  9.7.1、全新打印系统:内置全新打印机,新创自定义打印方式,可按需灵活勾选控制:产品合格证(国家农业部标准要求),二维码,抽样信息、检测信息,受检信息、复核信息、抽样日期、检测日期等信息的打印。  9.7.2、A4纸版本报告打印功能(可选配):设备拥有两种结果展示方式,可以自动生成A4打印模板和小票打印模板两种样式,可通过WiFi及网线等方式链接外置打印机可进行打印。  10、供电模式:仪器交直流两用,直流12V供电,可连接车载电源,配6ah大容量充电锂电池,电量可实时显示,方便户外流动测试。  11、胶体金检测模块:采用CMOS成像处理技术及胶体金免疫层析技术,可读取胶体金卡数据,自动采集、处理分析,将检测结果显示,并可根据参考限值自动判断检测结果,可检测常见的兽药残留、生物毒素、抗生素、违禁添加物等。  11.1、探测技术:CMOS成像探测   11.2、检测通道:1个通道   11.3、检测方式:消线法和比色法   11.4、显示模式:阴性或阳性   11.5、曲线形式:轨道式扫描方式,显示金标卡图像,实时生成、识别CT曲线图,无需手动调整,完成检测后自动退出检测卡。兼容市场上其他金标卡,使用耗材不受限制。  12、仪器具备远程升级功能,可定向分客户分仪器更新,开机后自动更新,并可持续性免费更新系统版本,无需像传统产品返厂更新,节省时间及人力成本并避免了物流运输返厂升级导致设备损坏的潜在风险。  1、仪器采用台式一体化系统检测技术,将分光光度模块、数字化管理模块、无线通讯模块高度集成于一体,支持检测200种食品安全检测项目,同时预留升级检测方法。  2、仪器检测模块标准化、智能化,检测项目可随意自由组合。检测箱体内置多个标准检测单元,检测模块可以调整配置。  3、显示屏幕:仪器采用10.1英寸竖向液晶触摸屏显,搭配运行安卓智能操作系统,主控芯片采用ARM Cortex-A7,RK3288/4核处理器,主频1.88Ghz,操作方便,性能更强。  4、检测通道:≥12通道 采用精密旋转比色池设计,使用同芯片同光源校准精度,解决不同光源之间的误差值,更加准确高效。(1-12通道间误差0.1%,专利号:ZL202022821055.2)  5、仪器光源:高精度进口四波长冷光源,每个通道均配置 410、520、590、630nm 波长光源,标配先进的光路切换装置,专利光路切换功能可实现64波长,并且所有检测项目可实现所有通道同时检测。  6、设备可一键校准,自动保存校准数据,自动对比校验,得到精-准光源,采用Android SP存储数据,光源数据永不丢失,方便每一次使用。  7、通讯接口:配备无线通信模块、4G(APN)通讯模块、蓝牙传输,同时具有双USB接口以及RJ45网线接口,可以多方式实现数据保存及数据传输。  8、存储方式:支持U盘存储,标准USB接口,免驱动安装。检测结果存储容量20万条以上,可生成Excel表格进行拷贝,并具有登录保护功能。  9、智能化操作系统:  9.1、操作系统:仪器可在同一检测界面自动对应相关检测通道,一次性选择1-12个样品名称,无需退出界面,节省操作时间。并可以对每个通道属性和样品信息单独进行编辑,例如送检单位、人员,检测人员等,打印时勾选打印显示。  9.2、数据集成系统:设备首页自动汇总分析检测数据,包含:周检测数据、月检测数据,全部检测总数量,均包含检测总数,合格数,不合格数,以及相关柱形分析图,各项检测数据一目了然,无需电脑查询,更加快捷直观。  9.3、数据库系统:十几项数据库分类管理仪器:包含项目类型、项目数据、检测数据、历史记录、国标信息、曲线信息、采样信息、检测信息、受检信息、复核信息、图表信息、光源校准信息、打印样式信息、样品库信息等等,数据库之间互相协调联动保证数据的真实完整性。同时产品数据库以及历史检测记录支持一键检索功能。  9.4、限量规判系统:具有限量查询、添加物质合规判定系统。检测出结果后,系统自动调用系统数据库中相关国标进行比对判定,客观显示判定结果是否合格。  9.5、项目预设系统:仪器具有任务预设模块,一键提前预设,给出方便快捷的新检测方案,每一个任务分别可以设置不同的样品、批次、编号、来源、备注、抽样信息、检测信息、受检信息、复核信息等更多信息。样品送检时一键调取保存信息,并可多次调取,大大提高检测效率。  9.6、数据监管系统:同步对接监管平台,数据可局域网和互联网数据上传,检测结果可选择直接传至食品安全监管平台。进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计,检测区域食品安全长短期动态,达到食品安全问题预估、预警。  9.7、打印系统:内置全新打印机,新创自定义打印方式,可按需灵活勾选控制:产品合格证(国家农业部标准要求),二维码,抽样信息、检测信息,受检信息、复核信息、抽样日期、检测日期等信息的打印。  10、供电模式:仪器交直流两用,直流12V供电,可连接车载电源,可配6ah大容量充电锂电池,电量可实时显示,方便户外流动测试。  11、仪器加入远程升级功能,可定向分客户分仪器更新,开机后自动更新,客户无需任何操作,即可升级全新项目。做到了无需退换机器即可实现实时远程升级检测仪器。
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  • 四氯硅烷分析氦离子色谱仪适用电子工业用气体中痕量杂质的检测,小检测浓度可达5ppb。仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用华爱公司的中心切割技术,进样阀均带有吹扫保护气路;整机采用多柱箱设计,并配备进样压力自动校正系统,不同底气的样品的进样量。产品先后荣获上海市成果转化A级项目。硅(SiHCl3)含量(体积分数)/l0-6 ≤40025二氯硅烷(SiH2Cl2)含量(体积分数)/l0-6 ≤40025甲基二氯硅烷(SiCl2CH4)含量(体积分数)/l0-6 ≤20050金属元素及其他元素含量(硼+铝)(B+Al)含量/(μg/kg) ≤——0.1(磷+砷)(P+As)含量/(μg/kg) ≤——0.3镓(Ga)含量/(μg/kg) ≤——0.5锑(Sb)含量/(μg/kg) ≤——0.5铟(In)含量/(μg/kg) ≤——0.5钙(Ca)含量/(μg/kg) ≤10.5铬(Cr)含量/(μg/kg) ≤10.5铁(Fe)含量/(μg/kg) ≤10.5钾(K)含量/(μg/kg) ≤10.5钠(Na)含量/(μg/kg) ≤10.5镍(Ni)含量/(μg/kg) ≤10.5钼(Mo)含量/(μg/kg) ≤10.5锰(Mn) 含量/(μg/kg) ≤10.5铜(Cu)含量/(μg/kg) ≤10.5镉(Cd) 含量/(μg/kg) ≤10.5钴(Co)含量/(μg/kg) ≤10.5锌(Zn)含量/(μg/kg) ≤10.5钒(V)含量/(μg/kg) ≤10.5
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  • 原子层沉积(ALD)是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积(PEALD)是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。 SENTECH基于多年研发制造PECVD和ICPECVD的经验,包括专有的PTSA技术,推出第一台PEALD设备。新的ALD设备应用SENTECH椭偏仪,使热辅助和等离子辅助的操作和沉积过程都能得到监控。 SENTECH使用激光椭偏仪和宽量程分光椭偏仪的前沿技术——超快在线椭偏仪来监控逐层膜生长。 第一台PEALD设备已经在布伦瑞克科技大学(TU Braunschweig)投入使用,用于生长超高均匀性和密度的氧化膜,如Al2O3和ZnO等。 在Al2O3沉积过程中,三甲基铝(TMA)等离子产生的氧原子反应,衬底温度为80到200℃。PEALD薄膜厚度均匀性高、折射率变化小的特点。
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  • 产品概述凭借其可配置的大容量腔室,手动加载的EcoCoat硅烷气相沉积系统旨在满足您的工艺开发和批量生产要求。 三条独立的蒸汽输送管线,出色的热均匀性和原位气体等离子体为系统提供了工艺灵活性,同时为晶圆,载玻片或热塑性表面保持了优异的硅烷单层沉积均匀性。&bull 表面改性以促进/防止粘附&bull 用于NIL,MEMS,AR/VR的防粘膜&bull 生物分子与玻璃,塑料或硅的共价键合&bull 等离子清洁和活化表面,控制疏水性灵活的化学蒸汽输送系统可与多种有机硅烷兼容。 可以使用小型测试瓶或大型安瓿瓶,从而实现从研究到低成本的大批量生产的过渡。 三个独立的蒸汽输送管线可容纳多种前体或水,以实现表面水合,从而实现最佳的硅烷与底物的结合。 集成的等离子体功能通过三个独立的MFC控制的过程气体输入来实现。 灵活的腔室搁板/电极允许从晶片(200/300 mm)到载玻片和3D热塑设备使用各种各样的基板形状因子。技术参数射频等离子体频率/功率:40 kHz,100-1000瓦工作温度:环境温度205°C温度均匀度:稳定后±1.5%腔室压力控制:100 mT-100 T化学用量:0.1 – 3.0 mL(典型过程)化学分配量:增加0.1 mL化学物数量:最多三种排气量:平均10 SCF运行箱体材质:316L不锈钢腔室尺寸:40.6厘米(宽)x 46厘米(深)x 40.6厘米(高)(16“ x 18” x 16“)系统整体尺寸:116厘米(宽)x 98.4厘米(深)x 112.73厘米(高)(46英寸x 38.75英寸x 44.38英寸)灯塔增加了30厘米装载:12个可移动的不锈钢架子可实现灵活的基板装载和多种等离子体操作模式,包括有源,下游,RIE和离子阱晶圆容量:8盒100毫米-150毫米晶圆/ 2盒200毫米晶圆/ 1盒300毫米晶圆滑轨容量:使用定制机架最多可容纳2,000个蒸汽输送线:三条,具有独立的过程和温度控制
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  • 产品介绍:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点:1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。产品参数:型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸(mm)300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸(mm)465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵:德国品牌,莱宝“DC”双极系列旋片式油泵,真空高,噪音低,运行稳定。连接管:不锈钢波纹管,完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理:HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程:先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 产品介绍:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点:1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。产品参数:型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸(mm)300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸(mm)465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵:德国品牌,莱宝“DC”双极系列旋片式油泵,真空高,噪音低,运行稳定。连接管:不锈钢波纹管,完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理:HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程:先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 产品详情德国Sentech等离子体增强原子层沉积机PE-ALD 原子层沉积(ALD)是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积(PEALD)是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。 SENTECH基于多年研发制造PECVD和ICPECVD的经验,包括专有的PTSA技术,推出第一台PEALD设备。新的ALD设备应用SENTECH椭偏仪,使热辅助和等离子辅助的操作和沉积过程都能得到监控。 SENTECH使用激光椭偏仪和宽量程分光椭偏仪的前沿技术——超快在线椭偏仪来监控逐层膜生长。 第一台PEALD设备已经在布伦瑞克科技大学(TU Braunschweig)投入使用,用于生长超高均匀性和密度的氧化膜,如Al2O3和ZnO等。 在Al2O3沉积过程中,三甲基铝(TMA)等离子产生的氧原子反应,衬底温度为80到200℃。PEALD薄膜厚度均匀性高、折射率变化小的特点。 下图是ALD与PEALD的沉积结果对比
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  • 产品详情德国Sentech等离子体增强原子层沉积机PE-ALD 原子层沉积(ALD)是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积(PEALD)是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。 SENTECH基于多年研发制造PECVD和ICPECVD的经验,包括专有的PTSA技术,推出第一台PEALD设备。新的ALD设备应用SENTECH椭偏仪,使热辅助和等离子辅助的操作和沉积过程都能得到监控。 SENTECH使用激光椭偏仪和宽量程分光椭偏仪的前沿技术——超快在线椭偏仪来监控逐层膜生长。 第一台PEALD设备已经在布伦瑞克科技大学(TU Braunschweig)投入使用,用于生长超高均匀性和密度的氧化膜,如Al2O3和ZnO等。 在Al2O3沉积过程中,三甲基铝(TMA)等离子产生的氧原子反应,衬底温度为80到200℃。PEALD薄膜厚度均匀性高、折射率变化小的特点。
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  • 北斗星仪器有毒气体报警器,气体探测器,气体传感器CPT2000系列测试的气体主要有:氢化物、丙烯氰、砷烷、硼烷、甲烷、丙烷、有机气体、可燃气、溴气、乙炔、甲醇、乙醇、甲醛、环氧乙烷、氯乙烯、三氯乙烯、氯甲酸乙酯、氯气、二氧化氯、一氧化碳、光气、二氧化碳、氟、锗烷、氢气、氘气、溴化氢、氢氰酸、氯化氢、氟化氢、氟化物、H2O、硫化氢、三氟化氮、氨、含磷毒剂、甲氨、二甲、氨、三甲氨、过氧化氢、肼、二氧化氮、氧化氮、氮氧化物、氧、溴氧、过氧乙酸、磷化氢/磷烷、二氯化二硅、四氯化硅、硅烷、灭火剂,制冷剂,碳氟化合物、碳氯化合物、碳溴化合物, 氟氯碳化物、二氧化硫、四氢噻吩、乙醛、三氯化砷、三氟化砷/五氟化砷、六氟化钨、六氟化钨、三氟化硼、三氯化硼、三溴化硼、甲硫醇、硫醇、硫醚、芥子气、丁硫醇、三氟化氯、三氟化氯、四氯硅锗、十氟化二硫、二氯化二硫、甲酸、锡化氢、碘、异丁醇、甲醇、二氯化磷、五氯化磷、磷酰氯、四氯化硅、锑化(三)氢、氟化硫磺、硫酰氟、六氟化硫、噻吩、四溴化锡、四氯化锡、四氯化钛、四氟化锡、三氯硅烷、三氯三(二氮陆圜)、三氟三(二氮陆圜)、溴甲烷、二硫化碳、二甲基硫醚、二甲基二硫、甲基黄酰氯等。具体测试参数指标请咨询北斗星仪器工程师。气体报警系统常识安静实验室环境: 选择智能变送器蜂鸣器报警即可无机械噪音车间:10米以内:变送器电压信号 ? 100 dB 声光报警器10-1000米: 变送器电流信号 ? 100 dB 声光报警器注意: 易燃易爆气体环境,必须选择符合等级的防爆器件、供电和安装系统重型机械,室外:10-1000米: 变送器电流信号 ? 100 dB 声报警器防爆/防尘/防水 Safety规 格防爆等级易燃易爆安全粉尘安全易燃易爆飘尘安全CPT2610AAIntrinsically Safe,T6Class I,Group A,B,C,DClass II, D1Class III,D1CPT2620AAIntrinsically Safe,T6CPT2620AExIntrinsically Safe,T6CPT2620AWEEx d IIC T3变送器性能 Specifications: l CPT2000型, 专业变送器电路。三/四线制。l 电流信号输出:0-2.5V,0/4-20mA,电流输出Z大负载RL=(Vs-2.7V)/0.020mA。l 2610/2620耗电约50mA*5V,为本安型,可直接用于1,2,3 Class。专门定制,方可用于“0”区。防爆区域使用,注意防爆安全要求以及相应的供电、接线、作业等规范。l 2310/2410类耗电功率 650mA*5V,只有定制隔爆型,方可用于1,2,3类防爆场所。 l 电路测试精度0.05%FS。l 测试种类和准确度由所配探头决定。一般探头理论精度1.5%。由于飘逸,污染,成分干扰等因素实际正常使用相对准确度只能可达到1.5-10%左右。l 外接电源DC 12-24V, 功率:1.40 W, 基本测试功耗100mW。l 工作温度: 一般直接测试 0-50 ℃ (由具体探头之性能决定)。l 压力: 一般直接测试 0-0.7kgf/cm2 (由具体探头之性能决定)。仪器维护:l 保持变送器表面干净,不能有明显的污垢吸着于表面。建议根据现场情况制定定期检查和清理计划;l 变送器每年标定或校准1次,2610系列1-2年定期更换探头;2310/2410系列5-10年更换一次。具体维护周期依所选探头确定。选型常识:l 本系列变送器不是都可以达到分析仪的水平 2610有线性输出,但是普遍受干扰气体影响,只有特定背景气体中,才能达到定量测试要求 l 2310系列只能作为报警器使用,信号输出与浓度的平方根成比例 要求定量时必须选择BD5智能型产品或配套我所其他显示报警器。l 车间报警器布置:1) 巨毒气体或其它危险气体每隔1.5-3米空间距离布置一个变送器;不是非常危险的气体,可以隔7-10米布置;重点保障泄露源附近按规定布置。2) 空气流动性较好的情况下可以适当减少布点,注意将变送器布置在有代表性的气流区域---下风口。3) 装有风扇等临时启动排风装置:基本按空间概念布置;4) 常通风的车间: 一般出风口附近2米左右处安装一个探测器,如果有死角,也应该合理布置探头;另外潜在泄露点下风位置合理布置探头。5) 探头安装高度:相对与空气,特别轻的气体,例如氢气,应该将变送器装在较高的位置;比重比空气重的气体, 则装在泄露点以下位置。一般毒性气体探头装在人头高度(1.3-1.8米空间高度)。l 室外罐区等布置:首先考虑地方各季节的风向特点,确保下风位置有探头;其次考虑具有可能泄露点布置探测,探头仍应装在相对的下风口方位。室外安装高度,一般应该与可能的泄露点位置平行。但是比重轻的气体探头仍应考虑偏上方安装,重的气体则在下方安装。常年风力较大的地方,主要与泄露点平行安装。l 易燃易爆车间,尽量不要采用变送器直接报警,而是通过安装在仪表室的控制器连接报警系统,这样工厂安装容易达到具体工业安全标准要求。0区报警系统应特别订货。
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  • 产品用途:  山东善达仪器有限公司生产的蜂蜜羟甲基糠醛检测仪采用全新安卓智能系统,台式一体化设计,应用于现场检测蜂蜜蔗糖、葡萄糖和果糖、羟甲基糠醛、酸度、农残、淀粉酶、脯氨酸、水分、糖分、灰分含量的蜂蜜快速检测仪,可广泛应用于各类蜂蜜品质的快速定量检测。  技术指标:  1、仪器采用台式一体化系统检测技术,将分光光度模块、数字化管理模块、无线通讯模块高度集成于一体,支持检测几十种食品安全检测项目,同时预留升级检测方法。  2、仪器检测模块标准化、智能化,检测项目可随意自由组合。检测箱体内置多个标准检测单元,检测模块可以调整配置。  3、显示屏幕:仪器采用10.1英寸液晶触摸屏显,搭配运行安卓智能操作系统,主控芯片采用ARM Cortex-A7,RK3288/4核处理器,主频1.88Ghz,操作方便,性能更强。  4、检测通道:≥12通道 采用精密旋转比色池设计,使用同芯片同光源校准精度,解决不同光源之间的误差值,更加准确高效。  5、仪器光源:高精度进口四波长冷光源,每个通道均配置 410、520、590、630nm 波长光源,标配先进的光路切换装置,专利光路切换功能可实现64波长,并且所有检测项目可实现所有通道同时检测。  6、通讯接口:配备无线通信模块、可选配4G(APN)通讯模块和蓝牙传输,同时具有USB接口,可以多方式实现数据保存及数据传输。  7、存储方式:支持U盘存储,标准USB接口,免驱动安装。检测结果存储容量20万条以上,可生成Excel表格进行拷贝,并具有登录保护功能。  8、智能化操作系统:  8.1、操作系统:仪器可在同一检测界面自动对应相关检测通道,一次性选择1-12个样品名称,无需退出界面,节省操作时间。并可以对每个通道属性和样品信息单独进行编辑,例如送检单位、人员,检测人员等,打印时勾选打印显示。  8.2、限量规判系统:具有限量查询、添加物质合规判定系统。检测出结果后,系统自动调用系统数据库中相关国标进行比对判定,客观显示结果是否合格。  8.3、数据监管系统:同步对接监管平台,数据可局域网和互联网数据上传,检测结果可选择直接传至食品安全监管平台。进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计,检测区域食品安全长短期动态,达到食品安全问题预估、预警。  8.4、打印系统:内置全新打印机,可以打印:项目名称,二维码,抽样信息、检测信息,受检信息、复核信息、抽样日期、检测日期等信息的打印。  9、供电模式:仪器交直流两用,直流12V供电(标配),可连接车载电源,亦可选配6ah大容量充电锂电池,电量可实时显示,方便户外流动测试。  10、仪器具有重新校准、锁定、恢复出厂设置功能。
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  • 产品概述应用• 涂上化学增粘剂的超薄保形单层涂层• 精确控制MEMS器件和micro LED防粘解决方案的表面疏水性• 为光学和AR / VR应用提供高度均匀的丙烯酸酯或环氧型粘合剂涂层和界面层• 对于纳米压印光刻(NIL)应用,应涂防粘涂层以延长冲压工具的使用寿命• 在生命科学中,应用硅烷表面单层在固体底物和生物分子(包括DNA和蛋白质)之间实现稳定的共价键连接• 薄的自组装单层(SAM)涂层,用于半导体应用中的选择性沉积特点• 单个过程模块的两个负载端口EFEM或两个过程模块的四个负载端口EFEM的选项• 大容量腔室最多可容纳五十个200/300 mm晶圆• 涂层温度高达250°C,温度均匀度≤1.5%,并进行多区域控制• 多达5条汽化线,具有精确的质量流量和热控制• 远程下游等离子发生器产生反应性原子氧,以去除反应室中的有机残留物优点• 低压工艺减少了对导致晶片翘曲和损坏的高工作温度的需求• 优异的化学沉积均匀性; 接触角控制在+/- 3度内• 兼容多种有机硅烷,包括氨基,环氧,烷基和氯硅烷• 集成的等离子腔室清洁过程有助于保持运行过程的一致性• 环保,与湿法化学工艺相比,化学/溶剂用量明显减少技术参数硬件集成EFEM:具有2个(两个)负载端口的1类(ISO 3)EFEM模块可互换的处理200mm和300mm晶圆的能力晶圆图FOUP和PM机架的能力,可进行交叉开槽和双槽保护晶圆尺寸:可配置200或300 mm晶圆,或用作具有双重处理功能的桥接工具容量:仅200mm配置:50个晶圆200mm / 300mm选项配置:25个晶圆仅300mm配置:50个晶圆蒸汽输送:多达5条汽化线,具有精确的质量流量和热控制箱体材质:316L不锈钢工艺气体输入:2个标准(3个可选),预热整合等离子体:13.56 MHz软件操作系统:基于Windows的配方管理,符合SECS / GEM。符合SEMI标准:E30,E39,E40,E87,E90,E94性能环境清洁度:1级(ISO 3)工作温度范围:50-250°C温度均匀度:稳定后±1.5%腔室压力控制:200 mT至100 T化学用法:典型工艺1 – 10 mL正常运行时间: 95%
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  • 产品型号: HMDS-6090 HMDS真空烘箱 产品特点:1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数: 电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率:3000W 控温范围:室温+10℃-250℃ 温度分辨率:0.1℃ 温度波动度:±0.5℃ 达到真空度:133Pa 容积:90L 工作室尺寸(mm):450*450*450 外形尺寸(mm):850*700*1400载物托架:2块 时间单位:分钟选配件: 真空泵:德国品牌,莱宝“DC”双极系列旋片式油泵,极限真空高,噪音低,运行稳定。 连接管:不锈钢波纹管,完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性: 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理: HMDS预处理系统通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程: 先确定工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。 图片: 外壳冷轧板烤漆
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  • 什么是硅烷气体硅烷即硅与氢的化合物,是一系列化合物的总称,包括甲硅烷( SiH4) 、乙硅烷( Si2H6) 和一些更**的硅氢化合物。目前应用**多的是甲硅烷。一般把甲硅烷简称做硅烷。硅烷作为一种提供硅组分的气体源,可用于制造高纯度多晶硅、单晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、异质硅、各种金属硅化物。 因其高纯度和能实现精细控制,已成为许多其他硅源无法取代的重要特种气体。硅烷广泛应用于微电子、光电子工业, 用于制造太阳电池、平板显示器、玻璃和钢铁镀层, 并且是迄今世界上**的大规模生产粒状高纯度硅的中间产物。硅烷的高科技应用还在不断出现, 包括用于制造**陶瓷、复合材料、功能材料、生物材料、高能材料等等,成为许多新技术、新材料、新器件的基础。硅烷又以它特有的自燃、爆炸性而著称。硅烷有非常宽的自发着火范围和极强的燃烧能量,决定了它是一种高危险性的气体。主要是针对化工厂、实验室,危化品仓库等有限空间研发检测气体进行优化后的一款专用的在线固定式检测仪。它能将现场检测到的有毒有害气体浓度,转换为对应的标准信号(标准信号种类选择请参考技术参数表),然后将信号传输到 PLC、DCS、报警控制主机等上位机进行统一显示、管理和控制,从而组成功能强大的智能化气体检测报警控制系统。该设备内置继电器,可控制外围声光报警器、风机、电磁阀等设备。如该设备连入我司服务器,可实现远程设置报警值和远程标定等功能,节省后期维护成本。广州市诺达电子有限公司以专业、负责的态度致力于为客户提供与环境匹配的检测产品和服务。 主要特点:★速核系统:采用高精度32位高速微处理器,**Epsion数据处理系统,速测危害气体,高效预警毒气泄漏; ★多级标定:业内智能化多级校准技术,多重滤波技术,更精准更快速地反馈现场浓度值;★自动标定:通入实际标气,无需标定员操作,**智能识别标定;★稳定性超强:经过严格的进料筛选工序,及行业经验十几年的研发人员匠心打造,抗EMC、EMI干扰,大幅度提高**侦察兵的可靠性;★多结构的通讯方式:支持4-20mA与RS485单路或多路同时通讯,有线与内置无线433M/GPRS等无线多路通讯(选配);★规范标准:JJF 1363-2012,JJF 1368-2012,JJF 1421-2013,JJF 1364-2012 GB3836-2010,GB 12476.5-2013 技术规格参数及气体种类:检测气体硅烷量 程0-10PPM/0-50PPM/0-100PPM(更多量程可以来电咨询);分 辨 率0.01PPM检测原理电化学原理精 度≤±3F.S显示方式320*240 高清彩屏响应时间T90<30S恢复时间≤30S(T90-T10)使用寿命传感器2-3年检测方式扩散式重 复 性≤±1 %F.S继 电 器容量 220VAC **/24VDC ** 无线输出(选配)433M(≤无障碍3公里 ) (定制)GPRS(无距离限制) (定制)WIFI/zigbee/LORA (定制) 有线输出(选配) 485+开关量输出 (标配)4-20mA+RS485+开关量报警输出 (定制)以上任选一种防护等级 IP66防爆等级隔爆型:ExdⅡCT6 Gb 尺 寸205*140*92mm(L×W×H)探头材质铝合金、不锈钢(可选)安装方式壁挂式、杆装式、管道式重 量1KG工作电压12-35VDC,常用 12VDC、24VDC电气接口接线口尺寸:内螺牙 M20*1.5( G1/2 内螺牙、G3/4 内螺牙、 1/2NPT标准配件探测器、说明书、红外遥控器、厂家出厂检测报告选 配 件防爆声光报警、安装支架、管道式安装配件等工作环境温度:催化燃烧:-40~+70℃;电化学:-20~+50℃;PID:-20~+50℃;红外:-20~+50℃; 荧光法:-20~+50℃; 氧化锆:-40℃~+700℃压力:86-110Kpa;(氧化锆:≤0.6Mpa)湿度:15%RH~95%RH(无凝露)产品功耗电化学传感器:P ≤ 1.2W 红外传感器:P ≤ 2.0W普通催化传感器 :P ≤ 2.6W 低功耗催化传感器 :P ≤ 1.5W 热导传感器 :P ≤ 2.0W 执行标准GB15311.1-2003; GB3836.1-2010; GB3836.2-2010; GB3836.4-2010;气体选型O30-100%LELCH2O0-10,50,100PPMCO0-100,1000,2000,10000PPMO30-1,10,50,100%VOLH2S0-50,100,1000,2000PPMCH40-1,10,50,100%VOLO20-30,100%VOLPH30-10,100,1000,5000PPMNH30-50,100,1000,2000PPMH20-100,1000,5000,40000PPM,100%VOLO30-5,10,50,100,1000,5000,10000PPMN20-100%VOLCL20-10,20PPMHCL0-10,100,500,1000PPMNO0-100,500,1000,5000PPMSO20-10,20,100,500,1000,5000,40000PPM
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  • 产品详情美国Trion 反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统:Orion III,Oracle III,Minilock-Orion III,Phantom III,Minilock-Phantom III,SirueT2Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商,Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积最小、成本低而著称,且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备,到简单的实验室研发用系统,尽在Trion。 Trion提供升级及回收方案给现有Matrix客户。 批量生产用设备:去胶系统- 低损伤去胶系统 新式去胶系统的成本已攀升到不合理水平,但Trion已通过两套价格低廉、紧凑的多功能系统使这一关键问题得到解决:Gemini和Apollo。利用ICP(电感耦合等离子)、微波和射频偏置功率,可以在低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求,每套系统可以结合SST-Lightning 微波源(既可靠又没有任何常见的微波调谐问题) 或ICP 技术。• 刻蚀速率高达6微米/分 • 高产量• 等离子损伤低 • 自动匹配单元• 适用于100mm 到300mm 基片 • 设备占地面积小• 价格具竞争性 刻蚀/沉积Titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统。Titan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。 刻蚀应用范围: 砷化镓、砷化铝镓、氮化镓、磷化镓、磷化铟、铝、硅化物、铬以及其他要求腐蚀性和非腐蚀性化学刻蚀的材料。 沉积应用范围:二氧化硅、氮化硅、氮氧化物和其他各种材料。 具有ICP选件的Titan系统Oracle III由中央真空传输系统(CVT)、真空盒升降机和最多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接,既能够以生产模式运行,也能够作为单个系统独立作业。 Oracle III是市场上最灵活的系统,既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸),也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。 由于Oracle III 最多可容纳四个独立的工艺室,其可以有多种不同的工艺组合,其中包括RIE/ICP (反应离子刻蚀机/电感耦合等离子)刻蚀和PECVD 沉积。多个室可以同时工作。鉴于所有工艺室均有真空负载锁,工艺运行安全且没有大气污染。 Oracle III是市场上最小的批量生产用集成系统。 深硅刻蚀:- 5μm/min的刻蚀速率- 小于6%的不均匀性- 刻蚀深度可达300μm- 相对于光刻胶15:1的选择率- 垂直光滑的壁面- 纵横比可达12:15 um wide Si trench etch200um Si trench etch120um Si Trench etch40um wide x 320um deepSlope approx. 88 degreesEtching of GaAs/AlGaAs HeterostructuresInP Lens Etch 5.2 micron lens height with PR maskGaN LED Etch 2.6 micron depth with PR 小批量生产用设备: 沉积 (PECVD)Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸),或者多尺寸批量处理基片(4x3” 3x4” 7x2”)。可沉积的薄膜包括:氧化物、氮氧化物、无定形硅和碳化硅。可以使用的反应气体包括:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。该系统可选配一个三极管(Triode)或电感耦合等离子(ICP)源。其中三极管使得用户可以创建高密度等离子,从而控制薄膜应力。基片通过预真空室装入工艺室,其避免了与工艺室以及任意残余沉积副产品接触,从而提高了用户的安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下,从而保持反应室与大气隔绝。 Minilock-Orion III PECVD 刻蚀 (RIE)Minilock-Phantom III 具有预真空室的反应离子刻蚀机。适用于单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批量处理(4x3” 3x4” 7x2”)。系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜,如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。该反应室还可以用于去除光刻胶和有机材料。可选配静电吸盘(E-chuck),以便更有效地在刻蚀工艺中让基片保持冷却。该E-chuck使用氦压力控制器,及在基片背面保持一个氦冷却层,从而达到控制基片温度的作用。该设备可选配一个电感耦合等离子(ICP)源,其使得用户可以创建高密度等离子,从而提高刻蚀速率和各向异性等刻蚀性能。 Minilock-Phantom III具有ICP(感应耦合等离子)选项的刻蚀系统 实验室/研发/芯片失效分析用设备: 沉积Orion III 等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统适用于单个基片、碎片或带承片盘的基片(2” - 300mm尺寸),为实验室和试制线生产提供最先进的沉积能力。Orion III系统用于非发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物和无定形硅。工艺气体 :20% 硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧和氮。该设备可选配一个ICP或三极管(Triode)源。 Orion III 刻蚀Phantom III反应离子蚀刻(RIE)系统适用于单个基片、碎片或带承片盘的基片300mm尺寸,为实验室和试制线生产提供最先进的等离子蚀刻能力。系统有多达七种工艺气体可以用于蚀刻氮化物、氧化物以及任何需要氟基化学刻蚀的薄膜或基片(如碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、聚酰亚胺、石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨以及钨钛) Phantom III Sirus T2 台面式反应离子刻蚀机(RIE)可用于介质以及其它要求氟化基化学的薄膜刻蚀。用於对矽、 二氧化矽、 氮化矽、石英、聚亚醯胺、钽、钨、钨钛以及其他要求特徵控制,高度选择性和良好一致性的材料进行蚀刻。 本机包含200mm下电极, 系统控制器(含电脑主机及触控介面),13.56MHz, 300/600W 射频发生器及自动调谐,最大四路/六路工艺气体及自动压力控制模块等。占地面积小且坚固耐用,非常适合用於研发,实验室环境及失效分析。 Sirus T2 - 台面式反应离子刻蚀机
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  • 格雷沃夫硅烷检测仪 400-860-5168转2307
    、格雷沃夫硅烷检测仪_主要特点:1. 检测硅烷(SIH)气体浓度。2. 用户可选单气体探头,也可选多气体探头,便于以后扩展检测其它气体。2. 气体浓度单位可选:mg/m3、μg/m3、ppm、ppb、%。3. 探头自带温度传感器。4. 主机内置Windows操作系统+格雷沃夫专业软件,功能强大:数据显示直观;参考资料丰富;数据的存储、组织、分析、报告能力超强;检测过程中可随时通过掌上电脑做各种格式的现场注释(文字、声音、图片等)。5. 同一台主机可同时连接其它格雷沃夫探头(TVOC、其它有毒气体、甲醛、颗粒物、风速风量、温湿度、压差、皮托管、热电偶温度),易于扩展,便于维护,具有极高的性价比。6. 小巧便捷、易于使用;响应迅速,适于现场及应急检测。 二、格雷沃夫硅烷检测仪_产品架构: 格雷沃夫主机或用户自己的笔记本电脑、掌上电脑、平板电脑(内置Windows系统+格雷沃夫软件)+探头(内装硅烷传感器) 三、格雷沃夫硅烷检测仪_检测参数: 1. 硅烷(SIH)气体浓度。 2. 温度。 四、格雷沃夫硅烷检测仪_软件功能 1、直观显示各参数读数。 2、对检测数据的存储、组织、分析、报告;可导出文本、表格、图表等各种格式的数据文件。 3、检测过程中,随时在主机上做各种格式的注释,包括:文字、声音、图片等。 4、随时查阅各种相关参数的资料文件。
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  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号:HMDS-6210 产品名称:真空烘箱(带基片预处理系统)电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:4000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:± 0.5℃达到真空度:133Pa容积:210L工作室尺寸(mm):560*640*600外形尺寸(mm):720*820*1750载物托架:3块时间单位:分钟真空泵:国内好品牌,上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数:电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:3000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:0.5℃达到真空度:133Pa容积:90L工作室尺寸(mm):450*450*450外形尺寸(mm):615*590*1470载物托架:2块时间单位:分钟真空泵:国内品牌上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。 产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数:电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:4000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:± 0.5℃达到真空度:133Pa容积:210L工作室尺寸(mm):560*640*600外形尺寸(mm):720*820*1750载物托架:3块时间单位:分钟真空泵:国内品牌,上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。 产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数:电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:3000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:± 0.5℃达到真空度:133Pa容积:90L工作室尺寸(mm):450*450*450外形尺寸(mm):615*590*1470载物托架:2块时间单位:分钟真空泵:国内品牌上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。 产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数:电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:3000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:± 0.5℃达到真空度:133Pa容积:90L工作室尺寸(mm):450*450*450外形尺寸(mm):615*590*1470载物托架:2块时间单位:分钟真空泵:国内品牌上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。 产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 产品介绍:  山东天研仪器有限公司生产的蜂蜜羟甲基糠醛检测仪为集成化食品安全快速检测分析设备,采用台式一体化设计,可快速检测200多种食品安全项目,包含非食用化学物质、滥用食品添加剂、农药残留、重金属、病害肉、营养强化剂等项目的定量检测。  目前广泛应用于市场监管局、检测中心、卫生监督部门、农业部门、院校及各单位食堂、食品肉产品深加工企业、商超市场、司法部门、餐饮机构、养殖场、屠宰场、检验检疫部门等单位。  蜂蜜羟甲基糠醛检测仪技术指标:  ★1)仪器采用台式一体化系统检测技术,将分光光度模块、新型农残检测模块、数字化管理模块、无线通讯模块高度集成于一体,支持检测200种食品安全检测项目,同时预留升级检测方法。  2)仪器检测模块标准化、智能化,可随意自由组合。检测箱体内置多个标准检测单元,检测模块可以调整配置。  3)仪器采用全新安卓智能系统,主控芯片采用 ARM Cortex-A7,RK3288/4核处理器,10.1寸高清液晶触摸竖屏,更加高效的UI交互界面,运转快捷 仪器配备无线通讯接口:配备无线通信模块、可选配4G(APN)通讯模块和蓝牙传输,同时具有双USB接口以及RJ45网线接口,可以多方式实现数据保存及数据传输  4)创新检测模式:  ★检测通道:≥12通道 采用精密旋转比色池设计,使用同芯片同光源校准精度,解决不同光源之间的误差值。1-12通道间误差为0.1%。  ★仪器具有自动识别比色皿检测功能,即:将样品比色皿放入仪器后,点击样品检测,仪器自动识别比色皿进行通道检测。  5)进口高精光源:  高精度进口四波长冷光源,通道配置 410、520、590、630nm 波长光源,一个光源芯片驱动一个光源,误差极小,每台设备单独精确校准光源,精确比对,同时参照四种不同波段光源多方位覆盖市面上99%的农残食品项目检测。  6)智能操作分析系统:  ★便捷操作系统:设备检测时可在同一检测界面自动对应相关检测通道一次性选择1-12个样品名称,无须退出界面,节省操作时间。(需提供对应证明)  ★数据集成系统:设备首页自动统计检测数据包含:周检测数据、月检测数据,全部检测总数量,均包含检测总数,合格数,不合格数,以及相关柱形分析图,对各项检测数据清晰掌握,无需电脑查询,更加快捷直观。(需提供对应证明文件)  ★项目预设系统:支持添加单个及多个相同或不相同的任务预设,一键快速调取,每一个任务分别可以设置不同的样品、批次、编号、来源、备注、抽样信息、检测信息、受检信息、复核信息等更多信息。无缝链接平台和APP实时查看下发任务。(需提供对应证明文件)  ★数据监管系统:同步对接监管平台,数据可局域网和互联网数据上传,检测结果可选择直接传至食品安全监管平台。集成OSS输出存储服务、区分设备定向管理应用,进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计,检测区域食品安全长短期动态,达到食品安全问题预估、预警。(需提供对应食品理化分析系统计算机软件著作权)。  ★自定义打印系统:内置全新打印系统,新创自定义打印方式,可按需灵活设置开启或关闭:产品合格证(国家农业部标准要求),二维码,抽样信息、检测信息,受检信息、复核信息、抽样日期、检测日期等信息的打印。(需提供对应证明)  ★系统远程更新功能:可定向分客户分仪器更新系统,按照不同客户后期实际需求添加项目,无需机器返厂,即可远程实时升级全新系统,节省时间成本及避免运输造成设备损坏。  7)仪器主机采用一体化防水、抗压、防撞击、防腐蚀箱体设计,同时配备交直流供电,可连接车载电源,可选配大容量充电锂电池,满足现场野外检测需求。
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  • 土壤和沉积物 挥发性有机物的测定-顶空气相色谱质谱法——北分三谱为贯彻落实《中华人民共和国环境保护法》,保护环境,保障人体健康,规范环境监测工作,北分三谱推出《土壤和沉积物 挥发性有机物的测定 顶空/气相色谱-质谱法》系统解决方案一、原理在一定的温度条件下,顶空瓶内样品中挥发性组分向液上空间挥发,产生蒸气压,在气液固三相达到热力学动态平衡,气相中挥发性有机物进入气相色谱分离后,用质谱进行检测,通过与标准物质保留时间和质谱图相比较进行定性,内标法定量。二、仪器2.1 气相色谱仪:具有毛细管分流/不分流进样口,可程序升温;2.2 质谱仪:具70eV的电子轰击(EI)电离源,具NIST质谱图库、手动/自动调谐、数据采集、定量分析及谱库检索等功能;2.3 毛细管柱:60m×0.25mm×1.4um(6%腈丙苯基、94%二甲基聚硅氧烷固定液);2.4 北分三谱AHS-20A plus顶空进样器:带顶空瓶、PTFE隔垫、瓶盖2.5 其他相关仪器三、典型谱图: SCAN模式下的总离子流图:图1 100 ng/L 35种挥发性有机物在SCAN模式下的总离子图 1. 氯乙烯;2. 1,1-二氯乙烯;3. 二氯甲烷;4. 反-1,2-二氯乙烯;5. 1,1-二氯乙烷;6. 顺-1,2-二氯乙烯;7. 氯仿;8. 1,1,1-三氯乙烷;9. 四氯化碳;10. 1,2-二氯乙烷;11. 苯;12. 氟苯;13.三氯乙烯;14. 1,2-二氯丙烷;15. 一溴二氯甲烷;16. 甲苯-D8;17. 甲苯;18. 1,1,2-三氯乙烷;19. 四氯乙烯;20. 二溴氯甲烷;21. 1,2-二溴乙烷;22. 氯苯-D5;23. 氯苯;24. 1,1,1,2-四氯乙烷;25. 乙苯;26. 间,对-二甲苯;27. 邻二甲苯;28. 苯乙烯;29. 溴仿;30. 4-溴氟苯;31. 1,1,2,2-四氯乙烷;32. 1,2,3-三氯丙烷;33. 1,3,5-三甲基苯;34. 1,2,4-三甲基苯;35. 1,3-二氯苯;36. 1,4-二氯苯-D4;37. 1,4-二氯苯;38. 1,2-二氯苯;39. 1,2,4-三氯苯;40. 六氯丁二烯。 SIM图: 图2 100 ng/L 35种挥发性有机物的SIM图 1. 氯乙烯;2. 1,1-二氯乙烯;3. 二氯甲烷;4. 反-1,2-二氯乙烯;5. 1,1-二氯乙烷;6. 顺-1,2-二氯乙烯;7. 氯仿;8. 1,1,1-三氯乙烷;9. 四氯化碳;10. 1,2-二氯乙烷;11. 苯;12. 氟苯;13.三氯乙烯;14. 1,2-二氯丙烷;15. 一溴二氯甲烷;16. 甲苯-D8;17. 甲苯;18. 1,1,2-三氯乙烷;19. 四氯乙烯;20. 二溴氯甲烷;21. 1,2-二溴乙烷;22. 氯苯-D5;23. 氯苯;24. 1,1,1,2-四氯乙烷;25. 乙苯;26. 间,对-二甲苯;27. 邻二甲苯;28. 苯乙烯;29. 溴仿;30. 4-溴氟苯;31. 1,1,2,2-四氯乙烷;32. 1,2,3-三氯丙烷;33. 1,3,5-三甲基苯;34. 1,2,4-三甲基苯;35. 1,3-二氯苯;36. 1,4-二氯苯-D4;37. 1,4-二氯苯;38. 1,2-二氯苯;39. 1,2,4-三氯苯;40. 六氯丁二烯。   北京北分三谱仪器有限责任公司是一家集研发、生产、销售和服务于一体的专业分析仪器生产厂家。主要生产:气相色谱仪、顶空进样器、热解析仪、解析管老化仪、电子皂膜流量计、氢气发生器、空气发生器、氮气发生器等产品。公司拥有一批长期从事色谱仪开发及分析应用、维修经验丰富的工cheng师,在色谱类仪器的维护、维修、和调试等方面的技术力量雄厚。近年来,我们已为国内著ming高等院校、科研单位、生产企业及检验检测机构提供了大量的分析仪器和设备及完整的系统解决方案。正是因为高品质的产品、专业的应用及完善的售前售后服务,我们赢得了广大用户的支持与信赖,具有良好的声誉。 北京北分三谱仪器有限责任公司技术部
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  • 产品介绍资料  山东云唐智能科技有限公司生产的蜂蜜检测仪为集成化食品安全快速检测分析设备,采用台式一体化设计,主要用于各类蜂蜜品质的快速定量检测,应用于现场检测蜂蜜蔗糖、还原糖(葡萄糖和果糖)、羟甲基糠醛、酸度、农药残留、水分、糖分、灰分含量等项目。  该蜂蜜检测仪为集成化食品安全快速检测分析设备,目已于食药监局、卫生部门、高教院校、科研院所、农业部门、蜜蜂养殖场、蜂蜜加工厂及检验检疫部门等单位广泛使用。  技术参数  1、仪器采用台式一体化系统检测技术,将分光光度模块、新型农残检测模块、数字化管理模块、无线通讯模块高度集成于一体,支持检测多种食品安全检测项目,同时预留升检测方法。  2、仪器检测模块标准化、智能化,检测项目可随意自由组合。检测箱体内置多个标准检测单元,检测模块可以调整配置。  3、显示屏幕:仪器采用10.1英寸竖向液晶触摸屏显,搭配运行安卓智能操作系统,主控芯片采用ARM Cortex-A7,RK3288/4核处理器,主频1.88Ghz,操作方便,性能更强。  4、检测通道:≥12通道 采用精密旋转比色池设计,使用同芯片同光源校准精度,解决不同光源之间的误差值,更加准确高效。  5、仪器光源:高精度进口四波长冷光源,每个通道均配置 410、520、590、630nm 波长光源,标配先进的光路切换装置,光路切换功能可实现64波长,并且所有检测项目可实现所有通道同时检测。  6、设备可一键校准,自动保存校准数据,自动对比校验,得到精准光源,采用Android SP存储数据,光源数据不丢失,方便每一次使用。  7、通讯接口:配备无线通信模块、4G(APN)通讯模块、蓝牙传输,同时具有双USB接口以及RJ45网线接口,可以多方式实现数据保存及数据传输。   8、存储方式:支持U盘存储,标准USB接口,免驱动安装。检测结果存储容量20万条以上,可生成Excel表格进行拷贝,并具有登录保护功能。  9、智能化操作系统:  9.1、操作系统:仪器可在同一检测界面自动对应相关检测通道,一次性选择1-12个样品名称,无需退出界面,节省操作时间。并可以对每个通道属性和样品信息单独进行编辑,例如送检单位、人员,检测人员等,打印时勾选打印显示。  9.2、数据集成系统:设备页自动汇总分析检测数据,包含:周检测数据、月检测数据,全部检测总数量,均包含检测总数,合格数,不合格数,以及相关柱形分析图,各项检测数据一目了然,无需电脑查询,更加快捷直观。  9.3、数据库系统:十几项数据库分类管理仪器:包含项目类型、项目数据、检测数据、历史记录、国标信息、曲线信息、采样信息、检测信息、受检信息、复核信息、图表信息、光源校准信息、打印样式信息、样品库信息等等,数据库之间互相协调联动保证数据的真实完整性。同时产品数据库以及历史检测记录支持一键检索功能。  9.4、规判系统:具有查询、添加物质合规判定系统。检测出结果后,系统自动调用系统数据库中相关国标进行比对判定,客观显示判定结果是否合格。  9.5、项目预设系统:仪器具有任务预设模块,一键提预设,给出方便快捷的新检测方案,每一个任务分别可以设置不同的样品、批次、编号、来源、备注、抽样信息、检测信息、受检信息、复核信息等更多信息。样品送检时一键调取保存信息,并可多次调取,大大提高检测效率。  9.6、数据监管系统:同步对接监管平台,数据可局域网和互联网数据上传,检测结果可选择直接传至食品安全监管平台。进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计,检测区域食品安全长短期动态,达到食品安全问题预估、预警。  9.7.1、全新打印系统:内置全新打印机,新创自定义打印方式,可按需灵活勾选控制:产品合格证(国家农业部标准要求),二维码,抽样信息、检测信息,受检信息、复核信息、抽样日期、检测日期等信息的打印。  9.7.2、A4纸版本报告打印功能(可选配):设备拥有两种结果展示方式,可以自动生成A4打印模板和小票打印模板两种样式,可通过WiFi及网线等方式链接外置打印机可进行打印。  10、供电模式:仪器交直流两用,直流12V供电,可连接车载电源,可配6ah大容量充电锂电池,电量可实时显示,方便户外流动测试。  11、仪器具备远程升功能,可定向分客户分仪器更新,开机后自动更新,并可持续性免费更新系统版本,无需像传统产品返厂更新,节省时间及人力成本并避免了物流运输返厂升导致设备损坏的潜在风险。
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