三甲硅烷基异氰酸酯

ROTAN内齿轮典型应用:1、化工石化：石油、添加剂、聚合物、润滑油、油、蜡、沥青、松香2、塑料聚酯：聚酯、环氧树脂、硬化剂、异氰酸酯、缓和剂、树脂3、油漆涂料：油墨、墨水、染料、油漆、溶剂、油墨、橡胶溶液、粘胶、乳胶4、纸浆造纸：胶水、粘合剂、黑液、烧碱5、日化行业：磺酸、烷基苯、脂肪醇、洗涤剂、剃须膏、面霜、洗发精、皂液6、食品行业：植物油、卵磷脂、糖浆、巧克力酵母、蛋白、蜂蜜、甘油、香精7、化纤行业：粘胶、烧碱、染料8、设备成套：聚脂设备、巧克力设备、润滑油循环、印刷机械、沥青机械、沥青车苏州埃立特流体设备有限公司20年致力于特殊流体一站式解决方案，提供欧美进口高品质泵，为500家客户提供专业服务，详情请致电：，想了解更多信息请关注微信公众号“流体设备”，登录埃立特流体设备，网址：

ROTAN内齿轮泵是由DESMI ROTAN公司生产的正排量齿轮泵，主要特点：1、可以双向输送2、超强的自吸能力3、仅有两个旋转部件和一个轴封4、 泵体稳固，设计简洁5、采用模块化设计，易于维护检修6、真正的背拉式结构7、拥有多种标准的配置可供选择8、可选磁力驱动无泄漏结构 典型应用:1、化工石化：石油、添加剂、聚合物、润滑油、油、蜡、沥青、松香2、塑料聚酯：聚酯、环氧树脂、硬化剂、异氰酸酯、缓和剂、树脂3、油漆涂料：油墨、墨水、染料、油漆、溶剂、油墨、橡胶溶液、粘胶、乳胶4、纸浆造纸：胶水、粘合剂、黑液、烧碱5、日化行业：磺酸、烷基苯、脂肪醇、洗涤剂、剃须膏、面霜、洗发精、皂液6、食品行业：植物油、卵磷脂、糖浆、巧克力酵母、蛋白、蜂蜜、甘油、香精7、化纤行业：粘胶、烧碱、染料8、设备成套：聚脂设备、巧克力设备、润滑油循环、印刷机械、沥青机械、沥青车

三甲基氯硅烷工艺装置主要由溶解釜、加料釜、反应釜、接收罐、碱液釜和渣浆釜等组成。 其主要仪表及管阀件均采用高性能产品，装置非标采用耐腐蚀材质。PLC 系统采集确保操作人员安全。 装置的整体水平要求自动化程度高，数据精确度及重复性好，安全可靠 并能长周期稳定运行

工业MDI（聚合MDI）中含有很大比例的单体MDI（通常为40~60%），一般情况下认为PM对健康的影响与纯MDI相似，吸入MDI将刺激鼻粘膜，咽喉或气管，造成胸部不适，呼吸困难并且减弱肺功能。所以一定要避免暴露超过TLV（暴露极限），过度暴露超过PEL将会导致眼睛受刺激，头疼，化学性支气管炎，哮喘症状或肺水肿，长期暴露在MDI环境中，有极大的致癌和胎儿致畸风险，让工作环境的MDI浓度处于受控状态，保护员工的健康，是雇主应尽的责任▃专利纸媒发色技术，检测MDI浓度▃监测MDI浓度下限可达1ppb,十亿分之一▃智能光学比色，数字显示MDI气体含量▃可集成到生产控制系统，当MDI浓度超标时自动报警▃方便现场标定指定MDI气体曲线▃MDI浓度现场数据可视，可长期保存和追溯型号IsoSenseCLPXCL1监测方式便携便携台式或者墙面安装感应方式纸媒发色纸媒发色纸媒发色气体浓度定量目视比色光学比色光学比色气体浓度显示无数字显示数字显示数据存储无2GB SD卡2GB SD卡气体采样人工间歇式采样人工间歇式采样自动连续采样气体采样泵分体内置内置远程采集无无45米内自动远程采集超限报警无2级声光报警2级声光报警远程控制无无数字和模拟控制信号输出可监控气体异氰酸酯MDI,TDIMDI，TDI，HDI，IPDIMDI，TDI，HDI，IPDI聚氨酯生产过程中间体 无COCl2,CL2，NH3，N2H4COCl2,CL2，NH3，N2H4氢化物 无AsH3,SiH4,SeH2,GeH4,B2H6AsH3,SiH4,SeH2,GeH4,B2H6无机酸 无HCl,HF,BF3,HBrHCl,HF,BF3,HBr

CO₂ 氨化制三聚氰酸装置通常包含以下几个主要部分：原料供应系统：包括二氧化碳气体供应装置（如气瓶、储罐等）和氨气供应装置（氨气储罐、氨气发生器等），并配备相应的流量控制设备，以精确控制原料的进料量。反应系统：这是核心部分，通常是一个高压反应釜或管式反应器。反应釜内装有催化剂，并且具备良好的温度和压力控制装置，以创造适宜的反应条件。加热和冷却系统：用于调控反应温度，根据反应的需要进行加热或冷却操作。分离和提纯系统：反应完成后，产物需要进行分离和提纯。这可能包括过滤装置、萃取设备、结晶器等，以去除杂质并获得高纯度的三聚氰酸。尾气处理系统：对反应过程中产生的尾气进行处理，以减少对环境的污染。例如，吸收未反应的二氧化碳和氨气等。 控制系统：监测和调节整个装置的运行参数，如温度、压力、原料流量、反应时间等，确保反应的稳定性和安全性。这类装置的设计和运行需要综合考虑化学反应原理、工程技术以及安全环保等多方面的因素。

我公司为国内生产异辛烷产品服务商年销售异辛烷产品超过五千吨我们将为您提供优质的商品和满意的服务！2,2,4-三甲基戊烷，是一种有机化合物，化学式为C8H18，主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。理化性质熔点：-107.4º C沸点：98-99º C密度：0.691（20℃）闪点：4.5℃（OC）折射率：1.391（20℃）饱和蒸气压：5.1kPa（20º C）临界压力：2.57MPa引燃温度：417º C爆炸上限（V/V）：6.0%爆炸下限（V/V）：1.1%外观：无色透明液体溶解性：不溶于水，混溶于庚烷、丙酮，溶于乙醚、苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二硫化碳、四氯化碳等用途主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。储存方法储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜超过37℃，保持容器密封。应与氧化剂分开存放，切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。山东强森化工有限公司，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。公司是集研究、生产、加工、销售为一体的制品企业，工厂占地面积大，公司具有较强的自助研发能力，拥有多项国家发明专利超强的品质保障，专业生产，多年行业经验，出厂严格把关，公司与中国石化、齐鲁石化、东岳集团、内蒙远兴集团、兖矿集团、海力集团、金岭集团丶华鲁恒升、万华集团等大型上市公司建立了长期稳固的合作关系，能够为客户提供优质的产品和服务，在行业中树立了良好的商业信誉，赢得了国内外众多客户的信赖与支持。 公司发扬“诚信、专业、团结、拼搏”的企业精神，秉承“以信为本，以诚待人，以稳求实，优质服务”的经营理念，愿与各界朋友及客户精诚合作，共创辉煌。

产品概述应用• 涂上化学增粘剂的超薄保形单层涂层• 精确控制MEMS器件和micro LED防粘解决方案的表面疏水性• 为光学和AR / VR应用提供高度均匀的丙烯酸酯或环氧型粘合剂涂层和界面层• 对于纳米压印光刻（NIL）应用，应涂防粘涂层以延长冲压工具的使用寿命• 在生命科学中，应用硅烷表面单层在固体底物和生物分子（包括DNA和蛋白质）之间实现稳定的共价键连接• 薄的自组装单层（SAM）涂层，用于半导体应用中的选择性沉积特点• 单个过程模块的两个负载端口EFEM或两个过程模块的四个负载端口EFEM的选项• 大容量腔室最多可容纳五十个200/300 mm晶圆• 涂层温度高达250°C，温度均匀度≤1.5％，并进行多区域控制• 多达5条汽化线，具有精确的质量流量和热控制• 远程下游等离子发生器产生反应性原子氧，以去除反应室中的有机残留物优点• 低压工艺减少了对导致晶片翘曲和损坏的高工作温度的需求• 优异的化学沉积均匀性； 接触角控制在+/- 3度内• 兼容多种有机硅烷，包括氨基，环氧，烷基和氯硅烷• 集成的等离子腔室清洁过程有助于保持运行过程的一致性• 环保，与湿法化学工艺相比，化学/溶剂用量明显减少技术参数硬件集成EFEM：具有2个（两个）负载端口的1类（ISO 3）EFEM模块可互换的处理200mm和300mm晶圆的能力晶圆图FOUP和PM机架的能力，可进行交叉开槽和双槽保护晶圆尺寸：可配置200或300 mm晶圆，或用作具有双重处理功能的桥接工具容量：仅200mm配置：50个晶圆200mm / 300mm选项配置：25个晶圆仅300mm配置：50个晶圆蒸汽输送：多达5条汽化线，具有精确的质量流量和热控制箱体材质：316L不锈钢工艺气体输入：2个标准（3个可选），预热整合等离子体：13.56 MHz软件操作系统：基于Windows的配方管理，符合SECS / GEM。符合SEMI标准：E30，E39，E40，E87，E90，E94性能环境清洁度：1级（ISO 3）工作温度范围：50-250°C温度均匀度：稳定后±1.5％腔室压力控制：200 mT至100 T化学用法：典型工艺1 – 10 mL正常运行时间： 95％

H6型便携式恶臭分析仪 产品介绍： 利用先进的传感器技术、互联网技术、无线通信技术、计算机网络技术、电子地理信息技术等，对颗粒物、气态污染物等排放实现监测的综合实时监控系统。 监测因子包括：标准污染物OU、CS2、NH3、H2S、TVOC、三甲胺、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫醚、苯乙烯；可选配颗粒物、噪声、温度、湿度、大气压等，支持上传云平台。主要特点：&bull 触摸式显示屏，人性化设计，更方便于客户使用；&bull 可用于在线监测、车载监测、走航及应急等多种工作模式，监测数据上传至数据平台，实现对空气质量的监控、追踪及溯源；&bull 设备采用便携式设计，体积小、重量轻、方便移动，可手提或背包使用；&bull 气态污染物采样流量采用单独独立的泵吸式控制。长寿命采样动力系统，安静，高效；&bull 气态污染物监测选用四电极高精度进口定电位电解传感器；&bull 设备可适用于各种严苛的室外环境，电路采用工业级嵌入式处理器，工作环境温度范围（-30~70）℃；&bull 采用工业级数据传输模块，数据传输稳定可靠，3G/4G/5G、RS485、RS232等多样的通信方式供客户选择，支持同时传输多达8个云平台，并具有GPS定位功能；&bull 终端设备可通过FTP服务器，远程升级终端的应用程序，实现远程维护，保证用户可以使用最新的应用程序，及时更新系统功能；&bull 电池具有过充/过流/短路保护，使用更安全；&bull 可采用市电、电池及车载应急充电的多种供电方式。技术参数：气体因子化学式原理测量范围分辨率臭气OUMOS0-100/1000 ou0.1/1 ou氨气NH3电化学0-100 ppm0.01 ppm硫化氢H2S电化学0-100 ppm1 ppb三甲胺C3H9NMOS0-10 ppm10 ppb甲硫醇CH4S电化学0-10 ppm10 ppb甲硫醚C2SH6电化学0-10 ppm10 ppb二甲二硫醚C2H6S2电化学0-10 ppm10 ppb苯乙烯C8H8电化学0-10 ppm10 ppb二硫化碳CS2电化学0-10 ppm10 ppb氯化氢HCL电化学0-100 ppm0.1ppm氯气CL2电化学0-20 ppm0.02ppm二氧化氮NO2电化学0-1000 ppm1ppb二氧化硫SO2电化学0-1000 ppm1ppb总挥发性有机化合物TVOCPID0-10 ppm10 ppb

4-20IQ在线多气体监测仪 4-20IQ是基于微处理器控制的智能型传感变送器。数字显示气体浓度，可在本机读数。工作电压14-24VDC，4-20mA线性输出。防爆外壳。4-20IQ可以作为独立的仪器工作，也可用于控制系统，可在控制室读数并提供报警继电器输出。具有自动校准功能，不需要调整任何电位器，只要提供校准气体，4-20IQ将完成所有校准工作。操作通过磁棒控制前面板的磁性开关完成，不用打开盖子即可完成所有功能。4-20IQ可使用固态，电化学或催化传感器，可检测150多种有毒和可燃气体。 技术参数 传感器类型可选固态、电化学、催化型、红外及氧气传感器，固态传感器寿命高达10年以上气体及量程可测150多种气体，参见可检测气体及量程列表，由用户指定气体种类和量程分辨率0.01ppm(0-10ppm)；0.1ppm(10-100ppm)；1ppm(100-1000ppm)精度± 5％（所有气体和量程）控制磁棒激活开关，可在危险场所现场操作故障提示显示器闪烁，输出电流为0消耗电流300-500mA电源电压14-24VDC输出电流4-20mA非隔离（隔离可选），或100-500&mu A环境温度工作温度-20℃-+60℃，储存温度-40℃-+85℃环境湿度99%RH，无凝露外壳防爆，Class 1，Div 1，Groups B,C,D尺寸115.32× 198.74× 128.27(mm)重量1.765kg 标准配置 主机、校准磁棒、校准证书、中英文说明书 检测气体英文名称FULL-SCALE RANGES（满刻度量程）醋酸，乙酸Acetic Acid100, 200 ppm丙酮Acetone100, 200, 500, 1000, 5000 ppm % LEL氰化甲烷，氰甲烷，乙腈Acetonitrile100 ppm乙炔，电石气Acetylene50 ppm % LEL 3% by Volume丙烯醛Acrolein (Acrylaldehyde)50 ppm丙烯酸Acrylic Acid100 ppm丙烯腈，氰乙烯Acrylonitrile50, 60, 80, 100, 200, 500 ppm % LEL烯丙醇Allyl Alcohol% LEL烯丙基氯，氯丙烯Allyl Chloride200 ppm氨气Ammonia50, 70, 75, 100, 150, 200, 300, 400, 500, 1000, 2000, 2500, 4000, 5000 ppm 1%, 2%, 10% by Vol., 10%, 25%, 100% LEL苯甲醚，茴香醚Anisole100 ppm五氟化砷Arsenic Pentafluoride5 ppm砷化三氢，砷化氢，胂Arsine1, 10 ppm苯Benzene50, 75, 100, 1000 ppm % LEL联苯，联二苯Biphenyl50%, 100% LEL三氯化硼Boron Trichloride500 ppm三氟化硼Boron Trifluoride500 ppm溴气Bromine20 ppm丁二烯Butadiene50, 100, 3000 ppm % LEL丁烷Butane400, 1000 ppm 100%, 200% LEL丁醇，丁基醇Butanol1000 ppm, 100% LEL丁烯Butene100% LEL醋酸丁酯，乙酸丁酯Butyl Acetate100 ppm % LEL二硫化碳Carbon Disulfide50, 60, 100 ppm 5% by Volume一氧化碳Carbon Monoxide50, 100, 150, 200, 250, 300, 500, 1000, 3000, 5000 ppm 3%, 5% by Volume, % LEL四氯化碳Carbon Tetrachloride50, 100, 10000 ppm乙酸溶纤剂Cellosolve Acetate100 ppm氯气Chlorine10, 20, 50, 100, 200 ppm二氧化氯Chlorine Dioxide10, 20 ppm氯丁二烯Chlorobutadiene100% LEL氯乙醇，乙氯醇Chloroethanol200 ppm氯仿,三氯甲烷,三氯化碳,哥罗芳Chloroform50, 100, 200 ppm三氟氯乙烯Chlorotrifluoroethylene100% LEL异丙基苯，异丙苯，枯烯Cumene100% LEL氯化氰Cyanogen Chloride20 ppm环己烷Cyclohexane100 ppm, 100% LEL环戊烷Cyclopentane50 ppm氘气，重氢Deuterium50%, 100% LEL乙硼烷Diborane10, 50 ppm二溴乙烷Dibromoethane50 ppm二丁胺Dibutylamine100% LEL二氯丁烯Dichlorobutene1% by Volume二氯乙烷Dichloroethane (EDC)50, 100 ppm, % LEL二氯氟乙烷Dichlorofluoroethane100, 1000 ppm二氯戊烷Dichloropentadiene50 ppm二氯甲硅烷Dichlorosilane50, 100 ppm柴油Diesel Fuel50 ppm 100% LEL二乙基苯Diethyl Benzene100% LEL二乙基硫，乙硫醚Diethyl Sulfide10 ppm二氟氯乙烷Difluorochloroethane100% LEL二氟乙烷Difluoroethane (152A)100% LEL二甲醚Dimethyl Ether100% LEL二甲胺Dimethylamine (DMA)30, 50 ppm表氯醇，环氧氯丙烷Epichlorohydrin50, 100, 500, 1000 ppm乙烷Ethane1000 ppm乙醇，酒精Ethanol200, 1000, 2000 ppm % LEL乙酸乙酯Ethyl Acetate200, 1000 ppm % LEL乙苯，苯乙烷Ethyl Benzene200 ppm % LEL乙基氯，氯乙烷Ethyl Chloride100 ppm % LEL氯甲酸乙酯Ethyl Chlorocarbonate1% by Volume乙醚Ethyl Ether100, 800, 1000 ppm % LEL乙烯Ethylene100, 1000, 1200 ppm % LEL环氧乙烷，氧化乙烯，乙撑氧Ethylene Oxide (ETO)5, 10, 20, 30, 50, 75, 100, 150, 200, 300, 1000, 1500, 2000, 3000 ppm % LEL氟气Fluorine20, 100 ppm甲醛Formaldehyde15, 50, 100, 500, 1000 ppm氟利昂-11Freon-111000, 2000, 5000 ppm氟利昂-12Freon-121000, 2000, 3000 ppm氟利昂-22Freon-22100, 200, 500, 1000, 2000 ppm氟利昂-113Freon-113100, 200, 500, 1000, 2000 ppm 1% by Vol.氟利昂-114Freon-1141000, 2000, 20000 ppm氟利昂-123Freon-1231000 ppm煤油Fuel Oil or Kerosene100% LEL汽油Gasoline100, 1000, 2000, 20000 ppm % LEL锗烷Germane10, 50 ppm庚烷Heptane1000 ppm, % LEL正己烷，己烷Hexane50, 100, 200, 2000, 2500, 3000 ppm, % LEL己烯Hexene% LEL联胺，肼Hydrazine5, 10, 20, 100, 1000 ppm, 1% by Volume氢气Hydrogen50, 100, 200, 500, 1000, 2000, 5000 ppm 3%, 5% by Vol., 2% to 100% LEL溴化氢Hydrogen Bromide50 ppm氯化氢Hydrogen Chloride50, 100, 200, 400, 500, 1000 ppm氰化氢，氢氰酸Hydrogen Cyanide20, 30, 50, 100, 200, 1000, 10000 ppm氟化氢Hydrogen Fluoride20, 50, 100, 200 ppm硫化氢Hydrogen Sulfide5, 10, 20, 30, 50, 100, 300, 1000 ppm % LEL异丁烷Isobutane1000, 3000 ppm, % LEL异丁烯Isobutylene% LEL异戊烷Isopentane1000 ppm异戊二烯Isoprene% LEL异丙醇Isopropanol200, 400, 500, 1000 ppm % LEL JP41000 ppm % LEL JP51000, 5000 ppm, % LEL甲烷，沼气Methane100, 200, 1000, 1500, 2000, 5000 ppm 1%, 2% by Volume, 100%, 200% LEL甲醇Methanol200, 300, 400, 500, 1000, 2000, 5000 ppm 15%, 30%, 100% LEL乙酸甲酯Methyl Acetate30 ppm丙烯酸甲酯Methyl Acrylate60 ppm溴甲烷，甲基溴Methyl Bromide20, 50, 60, 100, 500, 1000, 10000 ppm甲基丁醇Methyl Butanol% LEL甲基溶纤剂Methyl Cellosolve% LEL氯甲烷，甲基氯Methyl Chloride100, 200, 300, 2000, 10000 ppm % LEL甲乙基酮，丁酮Methyl Ethyl Ketone100, 500, 1000, 4000 ppm 100% LEL甲腙Methyl Hydrazine5 ppm甲基异丁酮Methyl Isobutyl Ketone200, 500, 2000 ppm 50%, 100% LEL甲硫醇Methyl Mercaptan30 ppm甲基丙烯酸甲酯，异丁烯酸甲酯Methyl Methacrylate100 ppm % LEL Methyl-Tert Butyl Ether100% LEL二氯甲烷Methylene Chloride20, 100, 200, 300, 400, 500, 600, 1000, 2000, 3000, 5000 ppm % LEL矿物油精Mineral Spirits200, 3000 ppm % LEL氯苯，一氯代苯Monochlorobenzene100% LEL单乙烷胺Monoethylamine30, 100, 1000 ppm吗啉Morpholine500 ppm石脑油，粗挥发油Naphtha1000 ppm, 100% LEL天然气Natural Gas1000, 2000 ppm 2%, 4% by Volume, % LEL一氧化氮Nitric Oxide20, 50 ppm二氧化氮Nitrogen Dioxide20, 50, 100 ppm三氟化氮Nitrogen Trifluoride50, 500, 1000 ppm壬烷Nonane2000 ppm戊烷，正戊烷Pentane200, 1000 ppm, % LEL全氯乙烯Perchloroethylene200, 1000, 2000, 20000 ppm苯酚，石炭酸Phenol100 ppm光气，碳酰氯Phosgene50 ppm磷化氢，三氢化磷Phosphine3, 5, 10, 20, 30, 50 ppm磷酰氯，三氯氧化磷Phosphorus Oxychloride200 ppm甲基吡啶，皮考啉Picoline% LEL丙烷Propane100, 1000 ppm 100% LEL丙烯Propylene100, 200, 1000, 5000 ppm %LEL环氧丙烷，氧化丙烯Propylene Oxide100 ppm, % LEL硅烷Silane10, 20, 50 ppm四氯化硅Silicon Tetrachloride1000 ppm四氟化硅Silicon Tetrafluoride1000 ppm苯乙烯Styrene200, 300 ppm % LEL二氧化硫Sulfur Dioxide50, 100 ppm四氢呋喃Tetrahydrofuran200, 300, 1000 ppm % LEL四氢化萘，萘满,1,2Tetraline100 ppm甲苯Toluene50, 100, 200, 500, 2000, 5000 ppm % LEL甲苯二异氰酸盐Toluene Diisocyanate15 ppm三氯乙烷Trichloroethane50, 100, 500, 1000 ppm 1% by Volume三氯乙烯Trichloroethylene50, 100, 200, 300, 500, 1000, 2000 ppm %LEL三乙胺Triethylamine (TEA)100 ppm三氟乙醇Trifluoroethanol25, 100 ppm三甲胺Trimethylamine (TMA)50 ppm六氟化钨Tungsten Hexafluoride50 ppm松节油，松脂Turpentine% LEL醋酸乙烯酯Vinyl Acetate1000 ppm % LEL氯乙烯Vinyl Chloride20, 50, 100, 200, 400, 500, 1000, 4000, 10000 ppm 10%, 100% LEL偏二氯乙烯Vinylidene Chloride50 ppm二甲苯Xylene100, 200, 300, 1000

IQ-350便携式单气体检测仪 * 可测150多种有毒或可燃气体中的任何一种* 固态传感器寿命10年以上* 可选电化学传感器/IR红外传感器/PID传感器* 内置采样泵,采样管可远程采样* 数字显示气体浓度* 声光报警,低/高2个报警点，用户可调* 便携包可清洗,易于清除污染 技术参数 工作电源4&lsquo C&rsquo 型碱性电池,AC适配器/充电器,可选镍镉充电电池电池寿命碱性电池20小时；镍镉电池12小时传感器类型可选固态传感器, 电化学传感器, IR红外传感器, PID光离子化传感器气体和量程用户可指定150多种气体中的任何一种气体和量程分辨率0.01ppm(0-10ppm)；0.1ppm(10-100ppm)；1ppm(100-1000ppm)精度± 5％采样方法内置采样泵，采样管长度约1.2米，适于远程或不易到达的空间采样显示3位LED数字显示报警声光报警, 低/高2个报警点，可由用户设定低电压指示连续的声光提示故障指示连续的声音提示,&ldquo ACTIVE&rdquo 灯熄灭环境温度工作温度-20℃-+50℃；存储温度-20℃-+60℃环境湿度0-99%RH, 非连续凝露外壳铝质外壳尺寸181.1× 85.9× 101.6(mm)重量1.14kg（包括电池） 标准配置主机,采样管,碱性电池,110VAC适配器/充电器,使用手册,校准证书,便携包选配附件镍镉充电电池,110/220VAC转换器 检测气体英文名称FULL-SCALE RANGES（满刻度量程）醋酸，乙酸Acetic Acid100, 200 ppm丙酮Acetone100, 200, 500, 1000, 5000 ppm % LEL氰化甲烷，氰甲烷，乙腈Acetonitrile100 ppm乙炔，电石气Acetylene50 ppm % LEL 3% by Volume丙烯醛Acrolein (Acrylaldehyde)50 ppm丙烯酸Acrylic Acid100 ppm丙烯腈，氰乙烯Acrylonitrile50, 60, 80, 100, 200, 500 ppm % LEL烯丙醇Allyl Alcohol% LEL烯丙基氯，氯丙烯Allyl Chloride200 ppm氨气Ammonia50, 70, 75, 100, 150, 200, 300, 400, 500, 1000, 2000, 2500, 4000, 5000 ppm 1%, 2%, 10% by Vol., 10%, 25%, 100% LEL苯甲醚，茴香醚Anisole100 ppm五氟化砷Arsenic Pentafluoride5 ppm砷化三氢，砷化氢，胂Arsine1, 10 ppm苯Benzene50, 75, 100, 1000 ppm % LEL联苯，联二苯Biphenyl50%, 100% LEL三氯化硼Boron Trichloride500 ppm三氟化硼Boron Trifluoride500 ppm溴气Bromine20 ppm丁二烯Butadiene50, 100, 3000 ppm % LEL丁烷Butane400, 1000 ppm 100%, 200% LEL丁醇，丁基醇Butanol1000 ppm, 100% LEL丁烯Butene100% LEL醋酸丁酯，乙酸丁酯Butyl Acetate100 ppm % LEL二硫化碳Carbon Disulfide50, 60, 100 ppm 5% by Volume一氧化碳Carbon Monoxide50, 100, 150, 200, 250, 300, 500, 1000, 3000, 5000 ppm 3%, 5% by Volume, % LEL四氯化碳Carbon Tetrachloride50, 100, 10000 ppm乙酸溶纤剂Cellosolve Acetate100 ppm氯气Chlorine10, 20, 50, 100, 200 ppm二氧化氯Chlorine Dioxide10, 20 ppm氯丁二烯Chlorobutadiene100% LEL氯乙醇，乙氯醇Chloroethanol200 ppm氯仿,三氯甲烷,三氯化碳,哥罗芳Chloroform50, 100, 200 ppm三氟氯乙烯Chlorotrifluoroethylene100% LEL异丙基苯，异丙苯，枯烯Cumene100% LEL氯化氰Cyanogen Chloride20 ppm环己烷Cyclohexane100 ppm, 100% LEL环戊烷Cyclopentane50 ppm氘气，重氢Deuterium50%, 100% LEL乙硼烷Diborane10, 50 ppm二溴乙烷Dibromoethane50 ppm二丁胺Dibutylamine100% LEL二氯丁烯Dichlorobutene1% by Volume二氯乙烷Dichloroethane (EDC)50, 100 ppm, % LEL二氯氟乙烷Dichlorofluoroethane100, 1000 ppm二氯戊烷Dichloropentadiene50 ppm二氯甲硅烷Dichlorosilane50, 100 ppm柴油Diesel Fuel50 ppm 100% LEL二乙基苯Diethyl Benzene100% LEL二乙基硫，乙硫醚Diethyl Sulfide10 ppm二氟氯乙烷Difluorochloroethane100% LEL二氟乙烷Difluoroethane (152A)100% LEL二甲醚Dimethyl Ether100% LEL二甲胺Dimethylamine (DMA)30, 50 ppm表氯醇，环氧氯丙烷Epichlorohydrin50, 100, 500, 1000 ppm乙烷Ethane1000 ppm乙醇，酒精Ethanol200, 1000, 2000 ppm % LEL乙酸乙酯Ethyl Acetate200, 1000 ppm % LEL乙苯，苯乙烷Ethyl Benzene200 ppm % LEL乙基氯，氯乙烷Ethyl Chloride100 ppm % LEL氯甲酸乙酯Ethyl Chlorocarbonate1% by Volume乙醚Ethyl Ether100, 800, 1000 ppm % LEL乙烯Ethylene100, 1000, 1200 ppm % LEL环氧乙烷，氧化乙烯，乙撑氧Ethylene Oxide (ETO)5, 10, 20, 30, 50, 75, 100, 150, 200, 300, 1000, 1500, 2000, 3000 ppm % LEL氟气Fluorine20, 100 ppm甲醛Formaldehyde15, 50, 100, 500, 1000 ppm氟利昂-11Freon-111000, 2000, 5000 ppm氟利昂-12Freon-121000, 2000, 3000 ppm氟利昂-22Freon-22100, 200, 500, 1000, 2000 ppm氟利昂-113Freon-113100, 200, 500, 1000, 2000 ppm 1% by Vol.氟利昂-114Freon-1141000, 2000, 20000 ppm氟利昂-123Freon-1231000 ppm煤油Fuel Oil or Kerosene100% LEL汽油Gasoline100, 1000, 2000, 20000 ppm % LEL锗烷Germane10, 50 ppm庚烷Heptane1000 ppm, % LEL正己烷，己烷Hexane50, 100, 200, 2000, 2500, 3000 ppm, % LEL己烯Hexene% LEL联胺，肼Hydrazine5, 10, 20, 100, 1000 ppm, 1% by Volume氢气Hydrogen50, 100, 200, 500, 1000, 2000, 5000 ppm 3%, 5% by Vol., 2% to 100% LEL溴化氢Hydrogen Bromide50 ppm氯化氢Hydrogen Chloride50, 100, 200, 400, 500, 1000 ppm氰化氢，氢氰酸Hydrogen Cyanide20, 30, 50, 100, 200, 1000, 10000 ppm氟化氢Hydrogen Fluoride20, 50, 100, 200 ppm硫化氢Hydrogen Sulfide5, 10, 20, 30, 50, 100, 300, 1000 ppm % LEL异丁烷Isobutane1000, 3000 ppm, % LEL异丁烯Isobutylene% LEL异戊烷Isopentane1000 ppm异戊二烯Isoprene% LEL异丙醇Isopropanol200, 400, 500, 1000 ppm % LEL JP41000 ppm % LEL JP51000, 5000 ppm, % LEL甲烷，沼气Methane100, 200, 1000, 1500, 2000, 5000 ppm 1%, 2% by Volume, 100%, 200% LEL甲醇Methanol200, 300, 400, 500, 1000, 2000, 5000 ppm 15%, 30%, 100% LEL乙酸甲酯Methyl Acetate30 ppm丙烯酸甲酯Methyl Acrylate60 ppm溴甲烷，甲基溴Methyl Bromide20, 50, 60, 100, 500, 1000, 10000 ppm甲基丁醇Methyl Butanol% LEL甲基溶纤剂Methyl Cellosolve% LEL氯甲烷，甲基氯Methyl Chloride100, 200, 300, 2000, 10000 ppm % LEL甲乙基酮，丁酮Methyl Ethyl Ketone100, 500, 1000, 4000 ppm 100% LEL甲腙Methyl Hydrazine5 ppm甲基异丁酮Methyl Isobutyl Ketone200, 500, 2000 ppm 50%, 100% LEL甲硫醇Methyl Mercaptan30 ppm甲基丙烯酸甲酯，异丁烯酸甲酯Methyl Methacrylate100 ppm % LEL Methyl-Tert Butyl Ether100% LEL二氯甲烷Methylene Chloride20, 100, 200, 300, 400, 500, 600, 1000, 2000, 3000, 5000 ppm % LEL矿物油精Mineral Spirits200, 3000 ppm % LEL氯苯，一氯代苯Monochlorobenzene100% LEL单乙烷胺Monoethylamine30, 100, 1000 ppm吗啉Morpholine500 ppm石脑油，粗挥发油Naphtha1000 ppm, 100% LEL天然气Natural Gas1000, 2000 ppm 2%, 4% by Volume, % LEL一氧化氮Nitric Oxide20, 50 ppm二氧化氮Nitrogen Dioxide20, 50, 100 ppm三氟化氮Nitrogen Trifluoride50, 500, 1000 ppm壬烷Nonane2000 ppm戊烷，正戊烷Pentane200, 1000 ppm, % LEL全氯乙烯Perchloroethylene200, 1000, 2000, 20000 ppm苯酚，石炭酸Phenol100 ppm光气，碳酰氯Phosgene50 ppm磷化氢，三氢化磷Phosphine3, 5, 10, 20, 30, 50 ppm磷酰氯，三氯氧化磷Phosphorus Oxychloride200 ppm甲基吡啶，皮考啉Picoline% LEL丙烷Propane100, 1000 ppm 100% LEL丙烯Propylene100, 200, 1000, 5000 ppm %LEL环氧丙烷，氧化丙烯Propylene Oxide100 ppm, % LEL硅烷Silane10, 20, 50 ppm四氯化硅Silicon Tetrachloride1000 ppm四氟化硅Silicon Tetrafluoride1000 ppm苯乙烯Styrene200, 300 ppm % LEL二氧化硫Sulfur Dioxide50, 100 ppm四氢呋喃Tetrahydrofuran200, 300, 1000 ppm % LEL四氢化萘，萘满,1,2Tetraline100 ppm甲苯Toluene50, 100, 200, 500, 2000, 5000 ppm % LEL甲苯二异氰酸盐Toluene Diisocyanate15 ppm三氯乙烷Trichloroethane50, 100, 500, 1000 ppm 1% by Volume三氯乙烯Trichloroethylene50, 100, 200, 300, 500, 1000, 2000 ppm %LEL三乙胺Triethylamine (TEA)100 ppm三氟乙醇Trifluoroethanol25, 100 ppm三甲胺Trimethylamine (TMA)50 ppm六氟化钨Tungsten Hexafluoride50 ppm松节油，松脂Turpentine% LEL醋酸乙烯酯Vinyl Acetate1000 ppm % LEL氯乙烯Vinyl Chloride20, 50, 100, 200, 400, 500, 1000, 4000, 10000 ppm 10%, 100% LEL偏二氯乙烯Vinylidene Chloride50 ppm二甲苯Xylene100, 200, 300, 1000

全自动烷基汞样品蒸馏仪HGP-30是原理为吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法的烷基汞测定仪的前处理蒸馏装置，采用一体化设计，加热和制冷为一体，加热模块高于制冷模块，蒸汽遇冷液化回流到制冷模块中的接收瓶，制冷模块内置冷冻液，无需外接自来水、冰块或冷循环水机导热。用于对不同的水样（尤其是基质复杂的水样如污水、海水等）进行蒸馏前处理，以消除基体干扰，蒸馏后的水样可直接进行烷基汞的 分析测试。具有蒸馏速度快，数据准确可靠，使用方便的优点,完全符合《水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法 》（HJ 977-2018）中对样品蒸馏装置的要求，非常适合批量样品的蒸馏处理。满足《水质烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》（HJ 977-2018）方法中规定技术要求； 样品位12个加热位及制冷位，每个孔位深13cm以上，保证良好的加热效率； 加热和制冷为一体，加热模块高于制冷模块，方便蒸汽遇冷液化回流到接收瓶； 加热控温范围常温~150℃，精度为±1℃，制冷控温范围2℃~8℃； 过热自动断电； 相关管线材质不吸附汞，接收瓶带有刻度，可以直观观察蒸馏终点（41.0mL）。

ABB羟值分析仪——化繁为简，ABB可提供实验室羟值分析解决方案 历经国内外企业的实际应用验证可代替湿法分析，优化客户生产率GB/T 12008.3-2009- 多参数快速分析，同时分析多项化学和物理性质 - 快速分析，无需样品处理，操作简单，分析时间少于一分钟，可分析羟值、碘值、异氰酸含量、胺值、皂化值、顺反比、酸值、过氧化值、水分等性质 多范围应用方案 - 聚酯和聚醚多元醇、脂肪醇、 季戊四醇、乙二醇、EO/PO和相关化合物中的羟值 - 化工原料和产品质量验收 - 聚酯和聚醚多元醇生产，异氰酸酯/聚氨基甲酸酯醇酸树脂和乙氧基化物等反应过程监控。优化化工生产过程，提供质量保证/质量控制。- 为特殊的表面活性剂产品开发、实施可靠的标定方法 高效低成本整体分析方案提高分析的准确性，提高产品质量及处理量，提高装置产量，降低分析测试及用工成本，绿色环保无需任何化学试剂或溶剂减少化学废料的排放 确保实验室和现场过程之间的标定模型移植ABB开发出了相应的制造工艺，能确保我们所有实验室和现场过程FT-NIR分析仪具有高度的稳定性和良好的线性光度响应，以及具有相同的吸收光谱。这确保了从实验室到现场过程的标定模型移植，无需进行其他标定或数据处理。

什么是硅烷气体硅烷即硅与氢的化合物，是一系列化合物的总称，包括甲硅烷( SiH4) 、乙硅烷( Si2H6) 和一些更**的硅氢化合物。目前应用**多的是甲硅烷。一般把甲硅烷简称做硅烷。硅烷作为一种提供硅组分的气体源，可用于制造高纯度多晶硅、单晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、异质硅、各种金属硅化物。 因其高纯度和能实现精细控制，已成为许多其他硅源无法取代的重要特种气体。硅烷广泛应用于微电子、光电子工业， 用于制造太阳电池、平板显示器、玻璃和钢铁镀层， 并且是迄今世界上**的大规模生产粒状高纯度硅的中间产物。硅烷的高科技应用还在不断出现, 包括用于制造**陶瓷、复合材料、功能材料、生物材料、高能材料等等，成为许多新技术、新材料、新器件的基础。硅烷又以它特有的自燃、爆炸性而著称。硅烷有非常宽的自发着火范围和极强的燃烧能量，决定了它是一种高危险性的气体。主要是针对化工厂、实验室，危化品仓库等有限空间研发检测气体进行优化后的一款专用的在线固定式检测仪。它能将现场检测到的有毒有害气体浓度，转换为对应的标准信号（标准信号种类选择请参考技术参数表），然后将信号传输到 PLC、DCS、报警控制主机等上位机进行统一显示、管理和控制，从而组成功能强大的智能化气体检测报警控制系统。该设备内置继电器，可控制外围声光报警器、风机、电磁阀等设备。如该设备连入我司服务器，可实现远程设置报警值和远程标定等功能，节省后期维护成本。广州市诺达电子有限公司以专业、负责的态度致力于为客户提供与环境匹配的检测产品和服务。 主要特点：★速核系统：采用高精度32位高速微处理器，**Epsion数据处理系统，速测危害气体，高效预警毒气泄漏； ★多级标定：业内智能化多级校准技术，多重滤波技术，更精准更快速地反馈现场浓度值；★自动标定：通入实际标气，无需标定员操作，**智能识别标定；★稳定性超强：经过严格的进料筛选工序，及行业经验十几年的研发人员匠心打造，抗EMC、EMI干扰，大幅度提高**侦察兵的可靠性；★多结构的通讯方式：支持4-20mA与RS485单路或多路同时通讯，有线与内置无线433M/GPRS等无线多路通讯（选配）；★规范标准：JJF 1363-2012,JJF 1368-2012,JJF 1421-2013,JJF 1364-2012 GB3836-2010,GB 12476.5-2013 技术规格参数及气体种类：检测气体硅烷量 程0-10PPM/0-50PPM/0-100PPM（更多量程可以来电咨询）；分 辨 率0.01PPM检测原理电化学原理精 度≤±3F.S显示方式320*240 高清彩屏响应时间T90＜30S恢复时间≤30S（T90-T10)使用寿命传感器2-3年检测方式扩散式重 复 性≤±1 %F.S继 电 器容量 220VAC **/24VDC ** 无线输出（选配）433M（≤无障碍3公里 ） （定制）GPRS（无距离限制） （定制）WIFI/zigbee/LORA （定制） 有线输出（选配） 485+开关量输出 （标配）4-20mA+RS485+开关量报警输出 （定制）以上任选一种防护等级 IP66防爆等级隔爆型：ExdⅡCT6 Gb 尺 寸205*140*92mm(L×W×H)探头材质铝合金、不锈钢（可选）安装方式壁挂式、杆装式、管道式重 量1KG工作电压12－35VDC，常用 12VDC、24VDC电气接口接线口尺寸：内螺牙 M20*1.5（ G1/2 内螺牙、G3/4 内螺牙、 1/2NPT标准配件探测器、说明书、红外遥控器、厂家出厂检测报告选 配 件防爆声光报警、安装支架、管道式安装配件等工作环境温度：催化燃烧：-40~+70℃；电化学：-20~+50℃；PID：-20~+50℃；红外：-20~+50℃； 荧光法：-20~+50℃； 氧化锆:-40℃~+700℃压力：86-110Kpa；（氧化锆：≤0.6Mpa)湿度：15%RH~95%RH（无凝露）产品功耗电化学传感器：P ≤ 1.2W 红外传感器：P ≤ 2.0W普通催化传感器 ：P ≤ 2.6W 低功耗催化传感器 ：P ≤ 1.5W 热导传感器 ：P ≤ 2.0W 执行标准GB15311.1-2003； GB3836.1-2010； GB3836.2-2010； GB3836.4-2010；气体选型O30-100%LELCH2O0-10,50,100PPMCO0-100,1000,2000,10000PPMO30-1,10,50,100%VOLH2S0-50,100,1000,2000PPMCH40-1,10,50,100%VOLO20-30,100%VOLPH30-10,100,1000,5000PPMNH30-50,100,1000,2000PPMH20-100,1000,5000,40000PPM,100%VOLO30-5,10,50,100,1000,5000,10000PPMN20-100%VOLCL20-10,20PPMHCL0-10,100,500,1000PPMNO0-100,500,1000,5000PPMSO20-10,20，100,500,1000,5000,40000PPM

仪器简介：TDI(甲苯二异氰酸酯,在人体中具有积聚性和潜伏性，对皮肤、眼睛和呼吸道有强烈刺激作用，吸入高浓度的甲苯二异氰酸酯蒸气会引起支气管炎、支气管肺炎和肺水肿；液体与皮肤接触可引起皮炎。液体与眼睛接触可引起严重刺激作用，如果不加以治疗，可能导致永久性损伤。长期接触甲苯二异氰酸酯可引起慢性支气管炎。对甲苯二异氰酸酯过敏者，可能引起气喘、伴气喘、呼吸困难和咳嗽。MDI(二苯基甲烷二异氰酸酯)虽然毒性比TDI低，但是长期接触对人体也是极具破坏性。传统测量方法，在现场采样后，需要借助于GC-MS来检测，虽然保证了准确性，却完全丧失了时效性。该快速测定仪可以现场快速采样，现场读取数据。 技术参数：测试方法：色度对照最低检测限： 1PPB准确度：± 25%整套测定仪包含：1 带肩带的采样泵2 充电器3 NIMH电池（满电工作时间大约8小时）4 含5英尺采样管的采样头5 测试卡（一包20pcs）6 浓度比对卡7 携带箱8 说明书 订货信息 简 单 描 述1001-000 MDI 检测套装1001-100 TDI 检测套装1000-700 流量校准器1000-558 MDI/TDI测试卡1200-241 MDI浓度比对卡1200-231 TDI浓度比对卡2780-0350 MDI采样头2780-0300 TDI采样头主要特点：现场快速测定空气中MDI或者TDI浓度，现场采样，现场读取数据，是EHS现场检测的有力工具

Multi-2025多功能烷基汞分析仪一、仪器概述●Multi-2025多功能烷基汞分析仪采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法原理,可用于样品中痕量烷基汞的精确测定 同时,本仪器具有常规原子荧光光谱仪的所有功能,完全符合相关国家标准检测要求。●Multi-2025多功能烷基汞分析仪可兼容各种型号的吹扫捕集样品浓缩仪,不但为客户提供更多选择,同时也允许客户使用实验室原有的吹扫捕集样品浓缩仪,降低采购成本。二、烷基汞分析仪部分●与商品化吹扫捕集样品浓缩仪兼容。●选用改性OV-3填料的色谱柱,相对与毛细柱使用更简便,分离稳定、寿命更长。●热裂解模块最高可达1050度。三、原子荧光光谱仪部分采用●采用3D打印的反应模块集中了氢化反应器、气液分离器等部件的功能于一体。模块内无需管路连接,大大减小样品流路死体积,降低污染。●选用对“Hg”等元素无吸附的特殊材质,采用3D打印技术一次成型,相对于传统部件,故障率大大降低。可用于砷、汞、铅、硒、锑、铋、镉等共12种元素检测。四、图形化软件●软件可动态显示仪器联机、预热,管路冲洗等状态。●具有耗材寿命统计监测功能,方便了解泵管、元素灯等耗材使用情况。●报告格式支持WORD、EXCEL、PDF等多种格式输出。五、检测数据才是仪器设备性能优劣的有效证明 六、应用领域●满足《HJ977-2018水质烷基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》要求。●满足《HJ1269-2022土壤和沉积物甲基汞和乙基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》要求。●满足《HJ1268-2022水质甲基汞和乙基汞的测定液相色谱-原子荧光法》●环境、给排水、农产品、地质冶金、化妆品、中药材、土壤饲料、血液等样品中的As、Hg、Se、Sb等十二种元素总量检测。●SNT 5517-2023 出口水产品及其制品中甲基汞的测定 全自动甲基汞分析仪法七、核心特点●专注痕量“汞”分析!多项技术在降低汞污染、提高仪器稳定性方面发挥重要作用。●成熟的吹扫捕集技术+成熟的原子荧光光谱仪技术=稳定的分析结果。●一机多用,让客户投资实现保值、增值!

MERX全自动烷基汞分析系统，全球烷基汞用户的选择，满足美国EPA标准及《水质烷基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》（HJ977-2018），为双标准制定和验证使用仪器；模块化设计，可升级为烷基汞/总汞二位一体分析系统，检出限可达0.002ng/L，重复性好，结果准确可靠。 在汞循环中，汞是以多种形态存在的，汞的毒性取决于化学形态，汞基本上有3种形态:元素汞、无机汞、有机汞(以甲基汞为主)，它们的中毒症状和暴露途径各不相同。现代研究已经证明，不同形态汞的毒性差别很大，如甲基汞的毒性是无机汞的100 倍以上，而且甲基汞具有亲脂性，更容易和生物体结合，穿过细胞膜和血脑屏而造成毒害。因此，测定元素特定的化学形态的含量，测定有机汞而不仅仅是总汞，对于解释它们的生物化学行为和评价对环境的潜在危害是很有必要的。 采用气液分离器、多通道吹扫和Tenax捕集技术，将液体中的烷基汞（甲基汞，乙基汞）进行吹扫并通过捕集阱富集，然后对捕集阱进行快速加热，烷基汞（甲基汞，乙基汞）被解析随载气进入气相色谱进行分离和高温裂解还原，最后通过冷原子荧光检测器，检测烷基汞的含量；符合并被美国EPA 1630分析方法推荐。 技术指标： ● 多功能自动进样器 -双进样模式。 -高通量：高达72个样品位。 -全封闭型进样。 ● 烷基汞吸附及吹扫模块 -平行三通道Tenax 捕集阱交替捕集，其中一个捕集阱在热脱附，另一个捕集阱在吸附，另一个捕集阱在干燥，准备吸附下一个样品。 -快速弹道红外线加热系统。 ● 气相色谱分离热裂解模块 -气相色谱方法内置已优化，保证良好的分辨效果。精确的控温系统保证分析的优异重复性 ，柱温可编程，提供方法开发的灵活性。 -高温热裂解模块 ：高达900多度的裂解温度将不同形态汞分解还原为蒸汽汞。 ● 冷原子荧光检测器 -在美国EPA标准方法1630及1631中被引用，在全世界领先的研究实验室内被使用 。 -触摸控制屏上可轻松调节设置，通过高清晰LCD显示信号和设定。

、格雷沃夫硅烷检测仪_主要特点：1. 检测硅烷（SIH）气体浓度。2. 用户可选单气体探头，也可选多气体探头，便于以后扩展检测其它气体。2. 气体浓度单位可选：mg/m3、μg/m3、ppm、ppb、%。3. 探头自带温度传感器。4. 主机内置Windows操作系统+格雷沃夫专业软件，功能强大：数据显示直观；参考资料丰富；数据的存储、组织、分析、报告能力超强；检测过程中可随时通过掌上电脑做各种格式的现场注释（文字、声音、图片等）。5. 同一台主机可同时连接其它格雷沃夫探头（TVOC、其它有毒气体、甲醛、颗粒物、风速风量、温湿度、压差、皮托管、热电偶温度），易于扩展，便于维护，具有极高的性价比。6. 小巧便捷、易于使用；响应迅速，适于现场及应急检测。 二、格雷沃夫硅烷检测仪_产品架构： 格雷沃夫主机或用户自己的笔记本电脑、掌上电脑、平板电脑（内置Windows系统+格雷沃夫软件）+探头（内装硅烷传感器） 三、格雷沃夫硅烷检测仪_检测参数： 1. 硅烷（SIH）气体浓度。 2. 温度。 四、格雷沃夫硅烷检测仪_软件功能 1、直观显示各参数读数。 2、对检测数据的存储、组织、分析、报告；可导出文本、表格、图表等各种格式的数据文件。 3、检测过程中，随时在主机上做各种格式的注释，包括：文字、声音、图片等。 4、随时查阅各种相关参数的资料文件。

北斗星仪器有毒气体报警器，气体探测器，气体传感器CPT2000系列测试的气体主要有：氢化物、丙烯氰、砷烷、硼烷、甲烷、丙烷、有机气体、可燃气、溴气、乙炔、甲醇、乙醇、甲醛、环氧乙烷、氯乙烯、三氯乙烯、氯甲酸乙酯、氯气、二氧化氯、一氧化碳、光气、二氧化碳、氟、锗烷、氢气、氘气、溴化氢、氢氰酸、氯化氢、氟化氢、氟化物、H2O、硫化氢、三氟化氮、氨、含磷毒剂、甲氨、二甲、氨、三甲氨、过氧化氢、肼、二氧化氮、氧化氮、氮氧化物、氧、溴氧、过氧乙酸、磷化氢/磷烷、二氯化二硅、四氯化硅、硅烷、灭火剂,制冷剂,碳氟化合物、碳氯化合物、碳溴化合物, 氟氯碳化物、二氧化硫、四氢噻吩、乙醛、三氯化砷、三氟化砷/五氟化砷、六氟化钨、六氟化钨、三氟化硼、三氯化硼、三溴化硼、甲硫醇、硫醇、硫醚、芥子气、丁硫醇、三氟化氯、三氟化氯、四氯硅锗、十氟化二硫、二氯化二硫、甲酸、锡化氢、碘、异丁醇、甲醇、二氯化磷、五氯化磷、磷酰氯、四氯化硅、锑化(三)氢、氟化硫磺、硫酰氟、六氟化硫、噻吩、四溴化锡、四氯化锡、四氯化钛、四氟化锡、三氯硅烷、三氯三(二氮陆圜)、三氟三(二氮陆圜)、溴甲烷、二硫化碳、二甲基硫醚、二甲基二硫、甲基黄酰氯等。具体测试参数指标请咨询北斗星仪器工程师。气体报警系统常识安静实验室环境：　选择智能变送器蜂鸣器报警即可无机械噪音车间：10米以内：变送器电压信号 ? 100 dB 声光报警器10-1000米: 变送器电流信号 ? 100 dB 声光报警器注意: 易燃易爆气体环境,必须选择符合等级的防爆器件、供电和安装系统重型机械，室外：10-1000米: 变送器电流信号 ? 100 dB 声报警器防爆/防尘/防水 Safety规 格防爆等级易燃易爆安全粉尘安全易燃易爆飘尘安全CPT2610AAIntrinsically Safe,T6Class I,Group A,B,C,DClass II, D1Class III,D1CPT2620AAIntrinsically Safe,T6CPT2620AExIntrinsically Safe,T6CPT2620AWEEx d IIC T3变送器性能 Specifications： l CPT2000型, 专业变送器电路。三/四线制。l 电流信号输出:0-2.5V,0/4-20mA，电流输出Z大负载RL=(Vs-2.7V)/0.020mA。l 2610/2620耗电约50mA*5V，为本安型，可直接用于1，2，3 Class。专门定制，方可用于“0”区。防爆区域使用，注意防爆安全要求以及相应的供电、接线、作业等规范。l 2310/2410类耗电功率 650mA*5V，只有定制隔爆型,方可用于1,2,3类防爆场所。 l 电路测试精度0.05%FS。l 测试种类和准确度由所配探头决定。一般探头理论精度1.5%。由于飘逸，污染，成分干扰等因素实际正常使用相对准确度只能可达到1.5-10%左右。l 外接电源DC 12-24V, 功率:1.40 W, 基本测试功耗100mW。l 工作温度: 一般直接测试 0-50 ℃ (由具体探头之性能决定)。l 压力: 一般直接测试 0-0.7kgf/cm2 (由具体探头之性能决定)。仪器维护:l 保持变送器表面干净,不能有明显的污垢吸着于表面。建议根据现场情况制定定期检查和清理计划；l 变送器每年标定或校准1次，2610系列1-2年定期更换探头；2310/2410系列5-10年更换一次。具体维护周期依所选探头确定。选型常识：l 本系列变送器不是都可以达到分析仪的水平 2610有线性输出,但是普遍受干扰气体影响,只有特定背景气体中,才能达到定量测试要求 l 2310系列只能作为报警器使用,信号输出与浓度的平方根成比例 要求定量时必须选择BD5智能型产品或配套我所其他显示报警器。l 车间报警器布置:1) 巨毒气体或其它危险气体每隔1.5-3米空间距离布置一个变送器；不是非常危险的气体，可以隔7-10米布置；重点保障泄露源附近按规定布置。2) 空气流动性较好的情况下可以适当减少布点，注意将变送器布置在有代表性的气流区域---下风口。3) 装有风扇等临时启动排风装置：基本按空间概念布置；4) 常通风的车间: 一般出风口附近2米左右处安装一个探测器，如果有死角，也应该合理布置探头；另外潜在泄露点下风位置合理布置探头。5) 探头安装高度：相对与空气，特别轻的气体，例如氢气，应该将变送器装在较高的位置；比重比空气重的气体， 则装在泄露点以下位置。一般毒性气体探头装在人头高度（1.3-1.8米空间高度）。l 室外罐区等布置：首先考虑地方各季节的风向特点，确保下风位置有探头；其次考虑具有可能泄露点布置探测，探头仍应装在相对的下风口方位。室外安装高度，一般应该与可能的泄露点位置平行。但是比重轻的气体探头仍应考虑偏上方安装，重的气体则在下方安装。常年风力较大的地方，主要与泄露点平行安装。l 易燃易爆车间，尽量不要采用变送器直接报警，而是通过安装在仪表室的控制器连接报警系统，这样工厂安装容易达到具体工业安全标准要求。0区报警系统应特别订货。

TALYS在线羟值分析仪——化繁为简，ABB可提供在线羟值分析解决方案 历经国内外企业的实际应用验证可代替湿法分析 优化客户生产率多参数快速分析，同时分析多项化学和物理性质 快速分析，无需样品处理，操作简单，分析时间少于一分钟，可分析羟值、碘值、胺值、皂化值、酸值、过氧化值、水分、异氰酸含量、顺反比等性质 多范围应用方案 聚酯和聚醚多元醇、脂肪醇、 季戊四醇、乙二醇、EO/PO和相关化合物中的羟值 化工原料和产品质量验收 聚酯和聚醚多元醇生产，异氰酸酯/聚氨基甲酸酯醇酸树脂和乙氧基化物等反应过程监控。优化化工生产过程，提供质量保证/质量控制。为特殊的表面活性剂产品开发、实施可靠的标定方法 确保实验室和现场过程之间的标定模型移植ABB开发出了相应的制造工艺，这确保了从实验室到现场过程的标定模型移植，无需进行其他标定或数据处理。TALYS干涉仪设计与ABB最新一代实验室FT-NIR分析仪（MB3600系列）使用的完全相同，能确保我们所有实验室和现场过程FT-NIR分析仪具有高度的稳定性和良好的线性光度响应，以及具有相同的吸收光谱。这种通用设计加上非常严格的制造公差以及ABB分析仪的高重现性，确保了仪器之间的模型无缝传递。 ABB实验室和过程分析仪之间无缝传递 ABB过程分析仪之间无缝传递 高效低成本整体分析方案提高分析的准确性，提高产品质量及处理量，提高装置产量，降低分析测试及用工成本，绿色环保无需任何化学试剂或溶剂减少化学废料的排放近红外模型无缝传递 技术规格检测器：InGaAs 2.1:4550-10500cm-1InGaAs 2.1 TE-cooled:4750-10500cm-1InGaAs 2.6:4000-10000cm-1光源：带电子稳压器的石英卤素灯测量：固态激光器光谱分辨率（可调节）：1 cm-1-64 cm-1波数重现性（@7300cm-1）0.006cm-1波数准确性（@7300cm-1）0.06cm-1通信：ModBus TCP（以太网、串行RS232/RS485 通过转换器）OPC DA（以太网）CanOpen（通过USB至CAN转换器）可支持的多种化学计量学模型套件：Horizon MB QuantifyPLSPlusPLSIQUnscrambler

iAFS-100全自动烷基汞分析系统烷基汞是一类毒性强并具有强致癌性的有机汞类化合物，广泛存在于大气环境、水环境及土壤环境中。由于此类化合物具有亲脂性、生物积累效应和生物放大效应，其毒性是无机汞的几百倍。烷基汞以甲基汞和乙基汞为代表，其中甲基汞的毒性最强，在环境中任何形式的汞均可在一定条件下转化为甲基汞。iAFS-100全自动烷基汞分析系统通过蒸馏处理，吹扫捕集/气相色谱原子荧光法测量样品中的痕量甲基汞、乙基汞等烷基汞的含量。仪器可以实现完全的自动化操作测量结果准确，检出限低，测量范围宽，是烷基汞测量的最佳仪器。XYZ三维自动进样系统采用全自动XYZ三维机械臂进样器进样，精确定位采用钝化不锈钢双层取样针，具有隔垫穿刺功能，无样品吸附高通量：标配72位。提供36位、72位或108位等多种规格自动进样器可选 吹扫捕集装置吹扫方式：异位和原位吹扫双模式可选，标配异位吹扫方式采用Tenax捕集阱捕集目标样品，专用的捕集阱填料及加热冷却技术保证优秀的吸附/解析效率环绕式加热器脉冲加热，反向解析样品，升温速度快，峰形好高温裂解管柱：可加热至750℃以上，保证不同形态的汞迅速分解还原为蒸汽汞系统标配尾气吸收装置，汞蒸气不会排放在空气中，绿色环保 CVAFS检测器采用低压汞灯作为光源，脉冲恒流驱动方式，光强输出稳定，低噪音采用不分光比例双光束检测方式，光源信号及荧光信号同时，差分运算测量样品，以保证最佳的稳定性和灵敏度甲基汞的线性范围：0~25ng/L；乙基汞的线性范围：0~25ng/L甲基汞的检出限：优于0.003ng/L；乙基汞的检出限：优于0.003ng/L控制软件及数据系统Windows中文易操作界面，可实现编辑序列、自动分析数据、导入标准曲线等操作可以直接通过控制软件对仪器参数进行修改及控制，简单便捷具有最小二乘法和响应因子法两种数据处理方式

产品优势方法原理采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光谱法，完全符合《HJ977-2018 水质 烷基汞的测定》和美国EPA1630标准.分析过程自动化，避免操作者多次接触有毒试剂，解放人力.该仪器操作简便，样品需求量小，分析时间短，实验数据准确.仪器带有尾气处理装置，对环境友好.仪器通过CPA计量认证.可用干地下水、地表水、生活污水、工业废水、固废浸出液、十壤、生物样品中烷基汞的检测.全中文操作界面，易干操作，实验报告可直接打印，也可导出Excel.标准曲线计算方式采用标准曲线法和相应因子法两种。样品位数最大支持96位，进样针采用PEEK材质，在分析全过程中不与金属材质接触，降低引入污染的可能性。采用原位吹扫，直接在样品瓶内进行吹扫，无需进行额外的液体转移，减少管路污染，吹扫装置与进样器采用一体化设计。独有的光源调节模块，基线漂移1% 线性范围可达4个数量级 汞灯寿命可达5000小时。全自动烷基汞分析仪尺寸:1200mm*500mm*500mm重量:75 kg功率:220VAC，50Hz，5A吹扫气体:高纯氮气 (≥ 99.999%)载气: 高纯氩气 (≥ 99.999%)进样器容量:四盘24x40mL(总96位)PC 接口:RS232 接口环境要求:带通风装置的实验室仪器运行环境温度:10°℃~25°℃仪器运行环境湿度20%~80%烷基汞分析仪与《水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》HJ77-2018标准对比指标HJ 977-2018全自动烷基汞分析仪MMA 721 适用范围甲基汞、乙基汞检出限均为0.02ng/L甲基汞、乙基汞均优于0.01ng/L3 方法原理PT-GC-CVAFSPT-GC-CVAFS6.2 吹扫装置原位或异位吹扫原位吹扫7.2 试样准备8.3 试验测定45mL进样量25mL(EPA1630) / 45mL两种配置8.2 校准方法标准曲线法软件支持 标准曲线法和响应因子法（EPA1630）10.1 精密度甲基汞1.1%~6%，乙基汞0.9%~10%甲基汞、乙基汞均1%~5%11.2 校准系数相关系数≥0.996相关系数≥0.99811.4 基体加标甲基汞75%~120%乙基汞70%~120%甲基汞80%~120%乙基汞80%~120% 蒸馏仪(选配)加热范围:常温至150.0℃，加热精度:+1.0 ℃，过热自动断电等功能，确保烷基汞可被完全蒸馏 冷凝模块可以实现自动降温及控温功能，水浴温度≤5°℃ 不使用冰水混合物，完全接收蒸馏后的烷基汞 样品的加热及接收孔位多达12个，满足用户对于样品量的需求 样品管、盖及管路材质均为特氟龙材质，杜绝污染。

1.实现了在实验室气相色谱平台搭建的烷基汞测量体系，实现了通用仪器专用化的设计思路，在可以测量烷基汞的同时，也可以进行其他气相色谱法的应用检测。2.小型化光路设计，经过复杂的光学设计，使得整体的荧光检测器可以集成在手掌大小，并且在体积缩小的同时，提高了仪器对于汞的灵敏度响应。MAS-100型烷基汞分析仪，满足HJ977-2018《水质 烷基汞的检测 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》国家环境保护标准，适用于样品的批量分析。 水溶液中甲基汞、乙基汞与衍生化试剂四丙基硼化钠反应，并生成具有一定挥发性的甲基丙基汞和乙基丙基汞，经氩气吹扫、Tenax管捕集后，使用气相色谱-冷原子荧光检测器测定。通用仪器专用化在加装AFD的同时，还可以加装其他检测器（FID、ECD、TCD、FPD），满足使用者对于其他应用的分析。主动尾气捕集系统经过检测器的汞蒸气最后会经过金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集。使用毛细色谱柱高效分离更高的柱效，更快的分离速度，使甲基汞、乙基汞的灵敏度更高。产品创新点详解：（1）丰富实验室气相色谱仪应用场景。基于通用仪器专用化的设计思路，在FID、FPD、ECD、TCD和TSD等传统气相色谱检测器的基础上，开发了具有专利技术的小型冷原子荧光检测（AFD），可直接搭载在实验室气相色谱仪上，实现气相色谱仪和原子荧光光谱联用分析，进一步丰富了实验室气相色谱仪的应用场景。（2）对提高汞检测行业的仪器利用率提出了新的方案。各实验室除了烷基汞检测外还有其他检测项目需求，该仪器在实验室气相色谱平台上实现除烷基汞分析外，还可以进行挥发性有机物、挥发性卤代烃、有机磷、有机氯等多气相色谱应用拓展。（3）AFD小型化集成设计。AFD采用小型化集成设计思路，整个检测器只有商用冷原子荧光光谱仪的1/30左右，包括基座、高温裂解模块、荧光池及主动捕集系统。一体化的基座设计，不仅满足毛细色谱柱与高温裂解模块的连接，又避免了高温对于色谱柱的性能影响。高温裂解模块采用纳米隔热层设计，满足内部950℃高温裂解的同时，实现了与外部良好隔热。荧光池采用多级光学陷阱实现特殊的杂散光消除技术，最终实现高灵敏度检测。（4）保护环境及分析者健康。采取主动泵抽式捕集系统，经过检测器的汞蒸气在泵抽吸过程中由金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集，从而保护环境与仪器使用者。（5）引入毛细色谱柱分析，更高的柱效、更快的分离。基于实验室气相色谱仪平台的优势，使用毛细色谱柱进行烷基汞分析，可在4分钟以内实现甲基汞与乙基汞分离，提高仪器使用效率。

MS104K便携式硅烷气体测试仪是一款移动式快速检测硅烷气体浓度的复合型气体检测仪，最多可以同时检测1～4种气体，具有大容量数据存储功能。MS104K便携式硅烷气体测试仪采用2.31寸高清彩屏实时显示浓度，选用知名品牌的气体传感器，主要检测原理有：电化学、红外、催化燃烧、热导、PID光离子。　　MS104K便携式硅烷气体测试仪特点：　　●防水溅、防尘、防爆、防震，本安电路设计，抗静电，抗电磁干扰，通过国标测试和CPA计量器具型式认证　　●2.31寸高清彩屏显示实时浓度、报警、时间、温度、湿度、存储、通信、电量、 充电状态等信息，菜单界面采用高清仿真图标显示各个菜单的功能名称　　●数据存储功能，容量10万条。支持实时存储、定时存储，或只存报警浓度数据和时间、支持本机查看、删除数据，也可通过USB接口将数据上传到电脑，用上位机软件分析数据和存储、打印。　　●USB充电接口，过充、过放、过压、短路、过热保护，5级精准电量显示　　●采用2100mAh可充电高分子聚合物电池，可长时间连续工作　　●声光报警、振动报警、视觉报警、欠压报警、故障报警、关闭报警。　　●报警值可设，报警方式可选低报警、高报警、区间报警　　●可以选配同时检测1～4种气体，单位自由切换单位可选：PPM、mg/m3、Vol%、LEL%、PPHM、ppb、mg/L　　●三种显示模式可切换：同时显示四种气体浓度、大字体循环显示单通道气体的浓度、实时曲线，各通道之间自动循环或手动循环可切换，可设置是否显示最大值、最小值、气体名称，可查看历史记录。　　●数据恢复功能　　●零点自动跟踪，长期使用不受零点漂移影响。　　●多级校准　　●浓度校准误操作自动识别并阻止。　　●支持OEM或ODM订制，可以选配RS485通讯　　●选配环境温湿度测量功能，更多其他功能或通讯接口可订制。　　MS104K便携式硅烷气体测试仪技术参数：　　检测气体：硅烷SiH4 ，选配：同时检测1～4种气体浓度，视传感器和现场环境而定　　检测范围：0-10、100ppm，其他量程可定制　　分 辨 率：0.01ppm更高分辨率可定制　　检测原理：电化学，其他原理可选，根据气体类型、量程、现场环境和用户需求而定　　传感器寿命：2-3年　　检测方式：扩散式测量　　显示方式：2.31寸320X240高清彩屏显示,4按键操作　　检测精度：≤±3%(F.S)　　报警方式：声光报警、振动报警、视觉报警、声光+振动+视觉报警、关闭报警可选　　响应时间：T90≤30秒　　恢复时间：≤30秒　　工作电源：DC3.7V　　电池容量：2100mAH 大容量可充电高分子聚合物电池　　使用环境：温度-40℃~+70℃ 相对湿度≤0~95%RH(非凝露场合)　　温度检测：-40℃~+70℃，精度±0.5℃，选配功能　　湿度检测：0~100%RH，精度±3%RH，选配功能　　数据存储：标配10万条数据容量，支持本机查看、删除或数据导出，存储时间间隔任意设置　　通讯接口：USB(充电与通讯)，选配RS485通讯接口　　界面语言：中文或英文可设置，默认中文界面　　防爆类型：本质安全型　　防爆标志：Exia II CT4 Ga　　防护等级：IP65，防尘、防水溅　　外型尺寸：130×68×34mm(L×W×H)　　重 量：200g　　标准附件：说明书、合格证、保修卡、USB充电器(含数据线)、彩色纸质包装盒 、背夹　　选配附件：高档铝合金仪器箱 、外置手持式采样泵(含0.4米不锈钢采样手柄或0.9m可伸缩采样手柄)　　应用场合：石油、化工、医药、环保、仓储、烟气分析、空气治理等所有需要检测气体浓度的场合

MAS-100烷基汞分析仪 北京北分瑞利分析仪器（集团）有限责任公司开发的MAS-100型烷基汞分析仪，满足HJ977-2018《水质 烷基汞的检测 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》国家环境保护标准，适用于样品的批量分析。 水溶液中甲基汞、乙基汞与衍生化试剂四丙基硼化钠反应，并生成具有一定挥发性的甲基丙基汞和乙基丙基汞，经氩气吹扫、Tenax管捕集后，使用气相色谱-冷原子荧光检测器测定。 通用仪器专用化在加装AFD的同时，还可以加装其他检测器（FID、ECD、TCD、FPD），满足使用者对于其他应用的分析。主动尾气捕集系统经过检测器的汞蒸气最后会经过金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集。使用毛细色谱柱高效分离更高的柱效，更快的分离速度，使甲基汞、乙基汞的灵敏度更高。产品创新点详解：（1）丰富实验室气相色谱仪应用场景。基于通用仪器专用化的设计思路，在FID、FPD、ECD、TCD和TSD等传统气相色谱检测器的基础上，开发了具有专利技术的小型冷原子荧光检测（AFD），可直接搭载在实验室气相色谱仪上，实现气相色谱仪和原子荧光光谱联用分析，进一步丰富了实验室气相色谱仪的应用场景。（2）对提高汞检测行业的仪器利用率提出了新的方案。各实验室除了烷基汞检测外还有其他检测项目需求，该仪器在实验室气相色谱平台上实现除烷基汞分析外，还可以进行挥发性有机物、挥发性卤代烃、有机磷、有机氯等多气相色谱应用拓展。（3）AFD小型化集成设计。AFD采用小型化集成设计思路，整个检测器只有商用冷原子荧光光谱仪的1/30左右，包括基座、高温裂解模块、荧光池及主动捕集系统。一体化的基座设计，不仅满足毛细色谱柱与高温裂解模块的连接，又避免了高温对于色谱柱的性能影响。高温裂解模块采用纳米隔热层设计，满足内部950℃高温裂解的同时，实现了与外部良好隔热。荧光池采用多级光学陷阱实现特殊的杂散光消除技术，最终实现高灵敏度检测。（4）保护环境及分析者健康。采取主动泵抽式捕集系统，经过检测器的汞蒸气在泵抽吸过程中由金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集，从而保护环境与仪器使用者。（5）引入毛细色谱柱分析，更高的柱效、更快的分离。基于实验室气相色谱仪平台的优势，使用毛细色谱柱进行烷基汞分析，可在4分钟以内实现甲基汞与乙基汞分离，提高仪器使用效率。

一、智能硅烷气体检测简要介绍：ETA－SIH4是我公司最新推出的一种智能硅烷检测仪，同时可以检测硅烷浓度、温度和湿度。仪器带有数据储存256组，通过USB接口，可以连接电脑。具有非常清晰的彩色触摸屏，声光报警提示，带内置泵，智能硅烷气体检测仪广泛用于公共场所、卫生监督、环境监测、等气体的检测与监测。 二、智能硅烷气体检测仪特点：1、检测空气中的硅烷气体，同时可以检测该环境的温度和湿度。2、仪器自带数据存储，储存数据可达256组。带有USB数据接口3、自带吸气泵可将数十米距离外气体吸入仪器进行测定。4、具有超大彩色触摸屏、操作方便快捷。5、仪器显示有ppm和mg/m3两种显示数据，可以自动转换。 6、开机或需要时对显示、电池、传感器、声光报警功能自检。 三、智能硅烷气体检测仪技术参数： l检测原理：电化学式l检测气体：空气中的硅烷（SIH4）l检测方式：泵吸式 ★ 测量范围：（同时显示ppm、mg/m3）硅烷：0-5ppm（0-20ppm） 分辨率：0.3ppm（0.1ppm）0-50ppm 或0-100ppm分辨率：0.2ppm温度：-20∽60℃。湿度：10-95%RHl基本误差：＜±5%（F.S） l最小读数：0.01ppm、响应时间：≤30秒★同时显示硅烷浓度：ppm、mg/m3,温度、湿度。★彩色触摸显示屏，时间日期记忆功能。★有数据查询功能，数据存储256组，有USB接口。 l传感器寿命：24个月 l报警：声、光报警 l外形尺寸：205x180x98 mm l工作温度：-10∽45℃ 湿度：5-90%RHl内置充电电池，可以220V交流或者直流供电 四、智能硅烷气体检测仪配置:(1)仪器主机(含内置电池) 一台 (2)充电器 一只(3)采样杆 一套 (4)采样软管 一根(5)铝合金携带箱 一只 (6)操作手册和合格证 一份

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。