三甲硅烷基丙炔酸盐

三甲基氯硅烷工艺装置主要由溶解釜、加料釜、反应釜、接收罐、碱液釜和渣浆釜等组成。 其主要仪表及管阀件均采用高性能产品，装置非标采用耐腐蚀材质。PLC 系统采集确保操作人员安全。 装置的整体水平要求自动化程度高，数据精确度及重复性好，安全可靠 并能长周期稳定运行

我公司为国内生产异辛烷产品服务商年销售异辛烷产品超过五千吨我们将为您提供优质的商品和满意的服务！2,2,4-三甲基戊烷，是一种有机化合物，化学式为C8H18，主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。理化性质熔点：-107.4º C沸点：98-99º C密度：0.691（20℃）闪点：4.5℃（OC）折射率：1.391（20℃）饱和蒸气压：5.1kPa（20º C）临界压力：2.57MPa引燃温度：417º C爆炸上限（V/V）：6.0%爆炸下限（V/V）：1.1%外观：无色透明液体溶解性：不溶于水，混溶于庚烷、丙酮，溶于乙醚、苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二硫化碳、四氯化碳等用途主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。储存方法储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜超过37℃，保持容器密封。应与氧化剂分开存放，切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。山东强森化工有限公司，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。公司是集研究、生产、加工、销售为一体的制品企业，工厂占地面积大，公司具有较强的自助研发能力，拥有多项国家发明专利超强的品质保障，专业生产，多年行业经验，出厂严格把关，公司与中国石化、齐鲁石化、东岳集团、内蒙远兴集团、兖矿集团、海力集团、金岭集团丶华鲁恒升、万华集团等大型上市公司建立了长期稳固的合作关系，能够为客户提供优质的产品和服务，在行业中树立了良好的商业信誉，赢得了国内外众多客户的信赖与支持。 公司发扬“诚信、专业、团结、拼搏”的企业精神，秉承“以信为本，以诚待人，以稳求实，优质服务”的经营理念，愿与各界朋友及客户精诚合作，共创辉煌。

JTONE系列光化学反应仪主要用于研究气相或液相介质、固定或流动体系、紫外光或模拟可见光照、以及反应容器是否负载TiO2光催化剂等条件下的光化学反应。具有提供分析反应产物和自由基的样品，测定反应动力学常数，测定量子产率等功能，常应用化学合成、环境保护以及生命科学等研究领域。主要特征Principal Character1.光化学反应仪采用智能微电脑控制，可观察电流和电压实时变化2.进口光源控制器，内置光源转换器，功率连续可调，稳定性高3.具有分步定时功能，操作简便 4.反应暗箱内壁使用防辐射材料，带有观察窗，采用内照式光源，受光充分，灯源采用耐高压防震材质，经久耐用5.配有8（6/12可选）位磁力搅拌装置或大功率磁力搅拌装置，使样品充分混匀受光6.光化学反应仪双层耐高低温石英冷阱，可通入冷却水循环维持反应温度7.光化学反应仪高温度保护系统，自动断电功能8.机箱外部结构设有循环水进出口，内部设有2个专用插座，供灯源和搅拌反应器用技术参数Technical Parameter型号JT-GHX-AJT-GHX-ACJT-GHX-BJT-GHX-BCJT-GHX-DJT-GHX-DC主体部分(含暗箱)光源功率可连续调节大小；集成式光源控制器，可供汞灯、氙灯、金卤灯等多种光源使用汞灯功率调节范围：0~1000W可连续调节；氙灯功率调节范围：0~1000W可连续调节；金卤灯功率调节范围：0~500W可连续调节。小容量反应部分石英试管规格：30ml、50ml（或定做）；/石英试管规格：30ml、50ml（或定做）可同时处理8个样品（或定做）可同时处理8个样品（或定做）八位磁力搅拌装置可同步调节8个样品的搅拌速度（或定做）八位磁力搅拌装置可同步调节8个样品的搅拌速度（或定做）大容量反应部分/玻璃反应器皿可以分别选用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。玻璃反应器皿可以分别选用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。大功率强力磁力搅拌器使样品充分混匀受光。大功率强力磁力搅拌器使样品充分混匀受光。控温装置/配备双层石英冷阱/配备双层石英冷阱/配备双层石英冷阱冷却水循环装置制冷量：＞1000W冷却水循环装置制冷量：＞1000W冷却水循环装置制冷量：＞1000W控温范围：-5°C到100°C（或按照用户要求）控温范围：-5°C到100°C（或按照用户要求）控温范围：-5°C到100°C（或按照用户要求）冷却水循环装置设有脚轮和底部排液阀冷却水循环装置设有脚轮和底部排液阀冷却水循环装置设有脚轮和底部排液阀光化学仪器的维护及保养措施一、重视仪器设备的管理和使用　　仪器设备的高负荷使用，往往容易发生意外故障，光学仪器若因维护和使用不当而起雾，就不能发挥仪器的正常作用，而带来工作上的障碍。所以高效的维护管理仪器设备已成为当今企事业单位有效降低成本，提高劳动生产率的有效手段。目前国内企业设备维护管理一般还停留在被动的抢修作业模式，即当仪器设备发生故障，无法继续使用时，维修人员才在Z短时间内将故障排除，而当没有发生故障时，维修人员只是空闲，所以这样的管理模式是谈不上效率的，因此，仪器设备的管理也应做好计划，同样设备维护管理也需要把非计划性的工作转化为计划性的工作。如果我们定期的检查保养来减低故障的发生，做好仪器的"三防"工作，避免抢修工作，保证仪器随时能投入正常的作用，这就是一种主动的方式。　　二、注意测绘仪器的防雾　　测绘仪器在使用和贮放中，除了有生霉现象外，往往还有光学零件的起雾，影响仪器的正常使用，故可针对光学信器起雾的主要因素，采取防止措施。　　A、设计使用中的防雾措施　　A1、设计仪器时注意防雾，仪器结构应加强密封性能，保证仪器在高温或低温情况下不降低密封性能，以防止因漏气而引起的水性雾，设计人员应当充分注意选择化学稳定性能好的光学玻璃和材料，为防雾打下良好的基础。　　A2、在制造和维修过程中注意整洁生产，装配和维修的工房须清洁，并严格遵守操作规程，精心擦拭光学零件，严禁用手直接接触和拿取光学零件，夹持光学零件的工具须进行脱脂处理，擦光学零件所用的辅件，如棉光、布块、乙醇、yi醚、碘以及与光学零件接触的有机垫片均须进行严格脱脂，控制含脂量，装光学零件的器皿和盛乙醇、yi醚的瓶子，须经常清洗，保持清洁，这些都是减少油性雾的重要途径。　　A3、减少仪器内部的水蒸气，防止水蒸气在玻璃表面上凝结，尽可能在干燥的条件下进行装配或对装配好的仪器进行干燥处理，如充干燥氮气或空气以及放置干燥剂。仪器在使用和库存中，尽量控制使用环境和库房的相对湿度在6%左右，对于外业仪器在使用中不好控制湿度，用后应放在通风、向阳、干燥的地方，在仪器箱内放入干燥剂，并注意密封和及时更换烘干硅胶干燥剂，在潮湿环境下，使用的内业仪器，如纠正仪、复照仪等，对于可取下来的镜头和精密的光学部件，用后及时取下来故人干燥缸内加以保护，并经常保持仪器清洁，减少结雾核心。　　A4、合理选择和使用油脂，光学仪器上用的防尘脂、润油油脂是挥发度低和化学稳定性好的材料，在光学仪器的金属零件上涂油脂时，先要把零件清洗干净，让汽油挥发完后再涂油脂，并且要涂均匀而不能过多，距光学件10-15mm的范围内，禁止涂润滑油脂和防尘脂，防止油脂扩散引起油性雾。　　A5、提高光学玻璃表面的化学稳定性，利用化学镀膜或真空镀膜方法，在玻璃表面镀一层憎水膜，以提高玻璃的化学稳定性，增强玻璃的抗腐蚀能力，减少起雾，为了减轻水性雾对观察的影响，也可采用亲水材料，镀上一层透明的具有yi定的物理性能伪亲水膜，使水雾能全部散开，均匀的分散在膜层中，不影响观察，当大气干燥时，膜层中的水分自然地挥发到大气中。　　A6、除霉，除雾　　光学仪器一旦生霉起雾，就造成了不良的影响，而且给修理工作带来很多麻烦，因此，要以防为主，从仪器设计、制造开始就注意搞好防霉防雾，仪器库存和使用中加强维护保养，是做好防霉防雾工作重要保证。而如果仪器已经生霉起雾，就应及时处理，以免造成更大损失。如果霜雾只在初期阶段，即在仪器生霉起雾后，很短的时间内，只在玻璃表面层附盖着而没有侵蚀玻璃和破坏膜层的时候，可以用混合液擦掉。仪器生雾起雾后应及时处理，否则时间长了，就会腐蚀光学零件的表面和镀膜，甚至于玻璃腐蚀，应及时用一般的混合液或用乙基含氢二氯硅烷溶液擦洗，这种溶液即防雾，又有yi定的除雾除霉作用。多倍仪的绿色滤光片大部分是磷酸盐玻璃，很易起雾，而且很难擦净，可以用稀的氨水摈洗，而后用水洗净，再及时用混合液把滤光片表面擦干，但这种玻璃很不稳定，如果不用时，擦净放在干燥皿内，或及时作雾处理，否则还会生霉起雾。对硅酸盐玻璃尽量避免用碱性的物质去擦，因为碱对硅酸盐类有腐蚀作用。如果当光学零件严重生霉起雾，并已腐蚀了玻璃，只有重新更换玻璃或重新把光学零件抛光。总之光学仪器要以防为主，发现霉雾要及时除掉，除霉雾后，要及时采取防雾防霉措施，才能保护仪器使之发挥更大的作用。　　B、光学仪器起雾的原因及其危害　　雾是指光学零件的抛光面上，呈现出"露水"似的物质，这些物质有的是油质点子构成的，称为油性雾，有的是由水珠或水与玻璃起化学反应形成堆积物构成的，称为水性雾：有的光学零件上，两种雾都有，叫做水油混合雾，一般的都以"露水"状或干的堆积物存在于玻璃表面上。油性雾通常分布在元形光学零件的边缘，并向中央伸延，有的则沿擦拭痕迹分布，油性雾的形成主要是油脂污染了玻璃表面，或是由于油脂的扩散，挥发在玻璃表面凝结而造成的，比如擦拭光学零件所用的辅料含脂量高，或者所用的工具带有油脂，用手指直接拿取和触及光学零件等，都会引起油性雾，或者是光学仪器上所用油脂的化学稳定性不好，产生扩散或使用方法不当涂油过多，油脂扩散到光学零件上而引起油性雾，或者是由于仪表油脂挥发性很大，会产生油质蒸气而形成油性雾，还有的是用汽油清洗金工零件时，没有让汽油充分发挥干净，就涂油装配。还有的用汽油稀释放尘脂涂在镜身内，随着时间的增长和温度的变化，这些汽油及所含的其它成份，逐渐挥发至光学零件上而形成油性雾。　　水性雾是由于潮湿空气在温度变化下而形成，主要分布在零件的全面积上，产生原因主要是潮湿气体所致，但与仪器密封性能、光学玻璃的化学稳定性，以及玻璃表面的清洁程度有关，在较高的相对湿度下，霉菌易生长，有些霉菌生长状大后，便在菌丝体周围产生分泌物，这些分泌物有的是液状的，在液状分泌物外围便形成水性雾。不管何种原因形成的雾，由于雾滴以曲率半径小的球形分布于光学零件表面上、使入射光线产生散射现象，除了降低仪器的有效透光率外，并使成象质量差影响观测。有的光学零件因长期起雾，被腐蚀的玻璃表面形成很多微孔，严重的会使玻璃零件报废。光学仪器起雾不仅在我国东南地区严重存在，就是较干燥的地区，由于温差变化，也会起雾，它比光学仪器生霉的影响范围更大，而且更难防止。　　B1、使用防雾材料防止仪器生雾　　光学仪器的防雾材料，要求具有良好的防雾效果，又要不影响玻璃的光学性能，使用如下的憎水膜材料，可以起到很好的防雾作用。　　B2、使用防雾剂　　采用乙基含氢二氯硅烷处理镀化学双透膜和不镀膜的光学玻璃零件，可以形成较牢固的膜层，具有憎水性能，有较好的防水雾性能，成膜容易，同时涂在光学零件表面，能改善玻璃的机械性能，在yi定程度上保护玻璃表面不易擦伤，提高了光学玻璃表面的化学稳定性，利用它来清洁玻璃，去污能力较强，很容易去掉手指印，口水圈，提高了工效，这是一种很好的防雾剂。使用时用无水yi醚配成乙基含氢二氯硅烷浓度为0.25%-1%(重量%比)使用，在室温下很快成膜并固化，采用气相法，蘸擦法，浸泡法，清洗法均可。使用方便，而且不需要增加设备。但要注意乙基含氢二氯硅烷由于带有刺激气味，配制时勿触及皮肤与衣服，使用时宜用棉球或海棉蘸擦，不要触及金属，若用于不镀膜和无刻线的光学零件，其使用浓度可提高到4%，由于乙基含氢二氯硅烷遇水或吸潮后冒烟起腐蚀作用，故应密封保管，严防对玻璃与金属的腐蚀，配制溶液时要现配现用。磷酸盐玻璃不宜此种方法处理。还可采用防霉防雾剂，对硝基苯氧基乙基含氢氯硅烷，它为一种棕色液体，容易水解，将此药品用yi醚配成5%左右浓度溶液，用离心、浸泡、擦拭方法均可成膜。除此之外，采用乙基含氢硅油和十二烷基三甲氧基硅烷防雾剂都能有效地起到防雾作用。　　B3、用真空镀膜方法，镀聚全氟乙丙烯，这是一种惰性氟塑料，化学稳定性高，且具有耐热、耐寒、耐腐蚀性，与玻璃和金属都有较强的结合力，具有较好的防霉防雾性能。不仅能在一般玻璃表面化学镀膜，氟化膜层形成保护膜，而且可以在磷酸盐玻璃表面成膜，磷酸盐玻璃化学稳定性很差，很容易生霉起雾，而且用一般的化学镀膜方法涂镀硅烷、硅油、硅氟材料等，都不能形成牢固的保护膜，真空镀膜方法，先在磷酸盐玻璃表面镀氟化镁，而后再镀聚金氟乙丙烯，对磷酸盐玻璃有良好的防霉防雾效果，多倍仪的绿色滤片，大部分是磷酸盐玻璃，用这种方法处理的滤光片，防霉防雾效果较好。　　B4、采用非硫化硅橡胶密封腻子防雾　　光学仪器密封性好，对于防霉防雾都有重要作用，非硫化硅橡胶密封腻，是一种非硫化醚硅橡胶，加入填充剂、着色剂、结构控制剂所组成，其密封腻高、低温性能显著优于原来的密封蜡，其他指标均不低于密封蜡。　　三、结语　　由于科学技术的飞速发展，以及世界经济发展的需要，新的科学技术成果不断应用于仪器设备，设备的现代化水平不断提高，现代化设备正朝着高速化，精密化自动化等方向发展，故要积引进国外现代仪器设备管理的理论和方法，使光学仪器设备管理进人一个健康的现代管理阶段。

产品概述应用• 涂上化学增粘剂的超薄保形单层涂层• 精确控制MEMS器件和micro LED防粘解决方案的表面疏水性• 为光学和AR / VR应用提供高度均匀的丙烯酸酯或环氧型粘合剂涂层和界面层• 对于纳米压印光刻（NIL）应用，应涂防粘涂层以延长冲压工具的使用寿命• 在生命科学中，应用硅烷表面单层在固体底物和生物分子（包括DNA和蛋白质）之间实现稳定的共价键连接• 薄的自组装单层（SAM）涂层，用于半导体应用中的选择性沉积特点• 单个过程模块的两个负载端口EFEM或两个过程模块的四个负载端口EFEM的选项• 大容量腔室最多可容纳五十个200/300 mm晶圆• 涂层温度高达250°C，温度均匀度≤1.5％，并进行多区域控制• 多达5条汽化线，具有精确的质量流量和热控制• 远程下游等离子发生器产生反应性原子氧，以去除反应室中的有机残留物优点• 低压工艺减少了对导致晶片翘曲和损坏的高工作温度的需求• 优异的化学沉积均匀性； 接触角控制在+/- 3度内• 兼容多种有机硅烷，包括氨基，环氧，烷基和氯硅烷• 集成的等离子腔室清洁过程有助于保持运行过程的一致性• 环保，与湿法化学工艺相比，化学/溶剂用量明显减少技术参数硬件集成EFEM：具有2个（两个）负载端口的1类（ISO 3）EFEM模块可互换的处理200mm和300mm晶圆的能力晶圆图FOUP和PM机架的能力，可进行交叉开槽和双槽保护晶圆尺寸：可配置200或300 mm晶圆，或用作具有双重处理功能的桥接工具容量：仅200mm配置：50个晶圆200mm / 300mm选项配置：25个晶圆仅300mm配置：50个晶圆蒸汽输送：多达5条汽化线，具有精确的质量流量和热控制箱体材质：316L不锈钢工艺气体输入：2个标准（3个可选），预热整合等离子体：13.56 MHz软件操作系统：基于Windows的配方管理，符合SECS / GEM。符合SEMI标准：E30，E39，E40，E87，E90，E94性能环境清洁度：1级（ISO 3）工作温度范围：50-250°C温度均匀度：稳定后±1.5％腔室压力控制：200 mT至100 T化学用法：典型工艺1 – 10 mL正常运行时间： 95％

什么是硅烷气体硅烷即硅与氢的化合物，是一系列化合物的总称，包括甲硅烷( SiH4) 、乙硅烷( Si2H6) 和一些更**的硅氢化合物。目前应用**多的是甲硅烷。一般把甲硅烷简称做硅烷。硅烷作为一种提供硅组分的气体源，可用于制造高纯度多晶硅、单晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、异质硅、各种金属硅化物。 因其高纯度和能实现精细控制，已成为许多其他硅源无法取代的重要特种气体。硅烷广泛应用于微电子、光电子工业， 用于制造太阳电池、平板显示器、玻璃和钢铁镀层， 并且是迄今世界上**的大规模生产粒状高纯度硅的中间产物。硅烷的高科技应用还在不断出现, 包括用于制造**陶瓷、复合材料、功能材料、生物材料、高能材料等等，成为许多新技术、新材料、新器件的基础。硅烷又以它特有的自燃、爆炸性而著称。硅烷有非常宽的自发着火范围和极强的燃烧能量，决定了它是一种高危险性的气体。主要是针对化工厂、实验室，危化品仓库等有限空间研发检测气体进行优化后的一款专用的在线固定式检测仪。它能将现场检测到的有毒有害气体浓度，转换为对应的标准信号（标准信号种类选择请参考技术参数表），然后将信号传输到 PLC、DCS、报警控制主机等上位机进行统一显示、管理和控制，从而组成功能强大的智能化气体检测报警控制系统。该设备内置继电器，可控制外围声光报警器、风机、电磁阀等设备。如该设备连入我司服务器，可实现远程设置报警值和远程标定等功能，节省后期维护成本。广州市诺达电子有限公司以专业、负责的态度致力于为客户提供与环境匹配的检测产品和服务。 主要特点：★速核系统：采用高精度32位高速微处理器，**Epsion数据处理系统，速测危害气体，高效预警毒气泄漏； ★多级标定：业内智能化多级校准技术，多重滤波技术，更精准更快速地反馈现场浓度值；★自动标定：通入实际标气，无需标定员操作，**智能识别标定；★稳定性超强：经过严格的进料筛选工序，及行业经验十几年的研发人员匠心打造，抗EMC、EMI干扰，大幅度提高**侦察兵的可靠性；★多结构的通讯方式：支持4-20mA与RS485单路或多路同时通讯，有线与内置无线433M/GPRS等无线多路通讯（选配）；★规范标准：JJF 1363-2012,JJF 1368-2012,JJF 1421-2013,JJF 1364-2012 GB3836-2010,GB 12476.5-2013 技术规格参数及气体种类：检测气体硅烷量 程0-10PPM/0-50PPM/0-100PPM（更多量程可以来电咨询）；分 辨 率0.01PPM检测原理电化学原理精 度≤±3F.S显示方式320*240 高清彩屏响应时间T90＜30S恢复时间≤30S（T90-T10)使用寿命传感器2-3年检测方式扩散式重 复 性≤±1 %F.S继 电 器容量 220VAC **/24VDC ** 无线输出（选配）433M（≤无障碍3公里 ） （定制）GPRS（无距离限制） （定制）WIFI/zigbee/LORA （定制） 有线输出（选配） 485+开关量输出 （标配）4-20mA+RS485+开关量报警输出 （定制）以上任选一种防护等级 IP66防爆等级隔爆型：ExdⅡCT6 Gb 尺 寸205*140*92mm(L×W×H)探头材质铝合金、不锈钢（可选）安装方式壁挂式、杆装式、管道式重 量1KG工作电压12－35VDC，常用 12VDC、24VDC电气接口接线口尺寸：内螺牙 M20*1.5（ G1/2 内螺牙、G3/4 内螺牙、 1/2NPT标准配件探测器、说明书、红外遥控器、厂家出厂检测报告选 配 件防爆声光报警、安装支架、管道式安装配件等工作环境温度：催化燃烧：-40~+70℃；电化学：-20~+50℃；PID：-20~+50℃；红外：-20~+50℃； 荧光法：-20~+50℃； 氧化锆:-40℃~+700℃压力：86-110Kpa；（氧化锆：≤0.6Mpa)湿度：15%RH~95%RH（无凝露）产品功耗电化学传感器：P ≤ 1.2W 红外传感器：P ≤ 2.0W普通催化传感器 ：P ≤ 2.6W 低功耗催化传感器 ：P ≤ 1.5W 热导传感器 ：P ≤ 2.0W 执行标准GB15311.1-2003； GB3836.1-2010； GB3836.2-2010； GB3836.4-2010；气体选型O30-100%LELCH2O0-10,50,100PPMCO0-100,1000,2000,10000PPMO30-1,10,50,100%VOLH2S0-50,100,1000,2000PPMCH40-1,10,50,100%VOLO20-30,100%VOLPH30-10,100,1000,5000PPMNH30-50,100,1000,2000PPMH20-100,1000,5000,40000PPM,100%VOLO30-5,10,50,100,1000,5000,10000PPMN20-100%VOLCL20-10,20PPMHCL0-10,100,500,1000PPMNO0-100,500,1000,5000PPMSO20-10,20，100,500,1000,5000,40000PPM

L-半胱氨酸盐酸盐简介：【中文名称】： L-半胱氨酸盐酸盐质量要求： 质量标准（FCC，Ⅳ）含量（干燥后）/% 98.0~101.5干燥失重/% 8.0~12.0灼烧残渣/% ≤ 0.1旋光度[α]20 5.0°~ 8.0°[α]25 4.9°~ 7.9°砷（以As计）/% ≤ 0.0003*（以Pb计）/% ≤ 0.002铅/% ≤ 0.0010金/% ≤ 0.0012.性状 白色结晶或结晶性粉末，微臭，味酸，易溶于水、氨水、乙酸、微溶于乙醇、丙酮、乙酸乙酯、苯、二硫化碳、四氯化碳。对酸稳Chemicalbook定，而在中性或微碱性溶液中易被空气氧化成胱氨酸，微量铁及重金属离子可促进氧化。其盐酸盐较稳定，故一般都制成盐酸盐。3.用途与注意事项： 面粉处理剂、营养增补剂。作为营养增补剂，其添加量不应超过总蛋白质含量的2.3%（包括L-胱氨酸）。我国《食品添加剂使用卫生标准》（GB2760―1996）中规定：用于发酵面制品，0.06g/kg。参考用量：具体使用时可加入面粉中混匀，或在和面时加入。通常，用于面包的添加量为0.02~0.045g/kg；用于天然果汁，可防止维生素C的氧化和褐变，用量为0.2~0.8g/kg。鉴定方法：①向5mL L-半胱氨酸盐酸盐溶液（1 g/ L）中添加0.5 mL吡啶和1 mL茚三酮溶液（1 g/100 mL），加热5min呈现紫至紫褐色。②向100 mL L-半胱氨酸盐酸盐溶液（1 g/L）中添加2 mL氢氧化钠溶液（4 g/100 mL）和2滴亚硝基铁氰化钠[NaFe (CN)5NO?2H2O]溶液（1 g/100 mL），呈现紫红色。

半胱氨酸盐酸盐中文名半胱氨酸盐酸盐外文名L-Cysteine hydrochloride分子式H-Cys-OHHCl英文名称H-Cys-OHHCl分子量157.62半胱氨酸盐酸盐是无色至白色结晶或结晶性粉末，有轻微特殊气味酸味，熔点175℃（分解）发。溶于水，水溶液呈酸性，1%溶液的pH值约为1.7，0.1%溶液pH值约为2.4。亦可溶于醇、氨水和乙酸，不溶于乙醚、丙酮、苯等。具有还原性，有抗氧化和防止非酶褐变的作用。用途L半胱氨酸是一种具有生理功能、在自然界广泛存在的重要物质。它在动植物体内是各组织细胞用来防御有害物质和增加活力的一种氨基酸，也是组成蛋白质的20多种氨基酸之一，并且是具有活性巯基(-SH)的氨基酸。可用作 面包发酵促进剂、保鲜剂；加速谷蛋白的形成，防止老化；用于天然果汁可防止Vc的氧化和褐变；对丙烯腈及芳香族酸中毒有解毒作用；预防放射线损伤作用；治疗支气管炎和化痰作用。L-半胱氨酸还广泛应用于食品添加剂（香精、香料）中

H6型便携式恶臭分析仪 产品介绍： 利用先进的传感器技术、互联网技术、无线通信技术、计算机网络技术、电子地理信息技术等，对颗粒物、气态污染物等排放实现监测的综合实时监控系统。 监测因子包括：标准污染物OU、CS2、NH3、H2S、TVOC、三甲胺、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫醚、苯乙烯；可选配颗粒物、噪声、温度、湿度、大气压等，支持上传云平台。主要特点：&bull 触摸式显示屏，人性化设计，更方便于客户使用；&bull 可用于在线监测、车载监测、走航及应急等多种工作模式，监测数据上传至数据平台，实现对空气质量的监控、追踪及溯源；&bull 设备采用便携式设计，体积小、重量轻、方便移动，可手提或背包使用；&bull 气态污染物采样流量采用单独独立的泵吸式控制。长寿命采样动力系统，安静，高效；&bull 气态污染物监测选用四电极高精度进口定电位电解传感器；&bull 设备可适用于各种严苛的室外环境，电路采用工业级嵌入式处理器，工作环境温度范围（-30~70）℃；&bull 采用工业级数据传输模块，数据传输稳定可靠，3G/4G/5G、RS485、RS232等多样的通信方式供客户选择，支持同时传输多达8个云平台，并具有GPS定位功能；&bull 终端设备可通过FTP服务器，远程升级终端的应用程序，实现远程维护，保证用户可以使用最新的应用程序，及时更新系统功能；&bull 电池具有过充/过流/短路保护，使用更安全；&bull 可采用市电、电池及车载应急充电的多种供电方式。技术参数：气体因子化学式原理测量范围分辨率臭气OUMOS0-100/1000 ou0.1/1 ou氨气NH3电化学0-100 ppm0.01 ppm硫化氢H2S电化学0-100 ppm1 ppb三甲胺C3H9NMOS0-10 ppm10 ppb甲硫醇CH4S电化学0-10 ppm10 ppb甲硫醚C2SH6电化学0-10 ppm10 ppb二甲二硫醚C2H6S2电化学0-10 ppm10 ppb苯乙烯C8H8电化学0-10 ppm10 ppb二硫化碳CS2电化学0-10 ppm10 ppb氯化氢HCL电化学0-100 ppm0.1ppm氯气CL2电化学0-20 ppm0.02ppm二氧化氮NO2电化学0-1000 ppm1ppb二氧化硫SO2电化学0-1000 ppm1ppb总挥发性有机化合物TVOCPID0-10 ppm10 ppb

刮膜式薄膜蒸发器AYAN-B150石油行业技术参数：产品型号AYAN-B80AYAN-B100AYAN-B150AYAN-B200AYAN-B220内径(mm)80100150200220蒸发面积(㎡)0.10.150.250.350.5冷凝面积(㎡)0.150.250.450.550.65进料容积(L）22255处理流量L/H0.5∽4.00.5∽5.01.0∽8.01.5∽10.02.0∽15.0电机功率(W)120120120120200转速(r/min)≤450≤450≤450≤450≤450轻组分收集瓶(L）12355重组成收集瓶(L）12355冷井有有有有有外置冷凝装置有有有有有冷却装置有有有有有真空度(pa)100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下受热温度(°C)室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200 刮膜式薄膜蒸发器AYAN-B150石油行业性能特点：真空压降小：物料汽化气体从加热面送到外置的冷凝器，存在yi定的压差。在一般的蒸发器中，这种压力降（常是比较高的，有时甚至高得难于接受。而刮板式薄膜蒸发器有较大的气体穿越空间，蒸发器内压力能看成与冷凝器中的压力几乎相等，因此，压力降很小,真空度可达5mmHg。操作温度低：由于上述特性，这使得蒸发过程可以保持在较高真空度条件下进行。由于真空度的提高，与之相应的物料沸点迅速降低，因此，操作可以在较低温度下进行，降低了产品的热分解。受热时间短：由于刮板式薄膜蒸发器的独特结构，刮膜器具有泵送作用，使得物料在蒸发器内的停留时间很短；另，在加热的蒸发器上由于薄膜的高速湍流使得产品不会滞留在蒸发器表面。因此，适用于热敏性物料的蒸发。蒸发强度高：物料沸点的降低，增大了同热介质的温度差；刮膜器的功能，减小了呈现湍流状态的液膜厚度，降低了热阻。同时，在这过程中抑制物料在加热面结壁、结垢，并伴有良好的热交换，因此，提高了刮板式薄膜蒸发器的总传热系数。操作弹性大：正是由于刮板式薄膜蒸发器的性能，使其适宜于处理热敏性和要求平稳蒸发的、高粘度的及随浓度提高粘度急剧增加的物料，其蒸发过程也能平稳蒸发。 它还能成功地应用于含聚合、结垢等情况物料的蒸发和蒸馏。刮膜式薄膜蒸发器AYAN-B150石油行业一、概述　　分离技术是化工生产三大技术之一，分离过程的优劣对产品质量、效率、消耗、效益影响极大。GXZ旋转薄膜蒸发器，是按物料的挥发度不同进行分离的设备。该设备的传热系数高、蒸发温度低、物料停留时间短，热效率高、蒸发强度大。在石化、精细化工、农药、食品、医药、生物化工等行业中广泛应用于蒸发、浓缩、脱溶、提纯、汽提、脱气、脱臭等过程。 薄膜蒸发器是通过旋转刮膜器强制成膜，并高速流动，热传递效率高，停留时间短（约5~15秒），可在真空条件下进行降膜蒸发的一种新型蒸发器。它传热系数大、蒸发强度高、过流时间短、操作弹性大，尤其适宜热敏性物料、高粘度物料及易结晶含颗粒物料的蒸发浓缩、脱气脱溶、蒸馏提纯。它由一个或多个带夹套加热的圆筒体及筒内旋转的刮膜器组成。刮膜器将进料连续地在加热面刮成厚薄均匀的液膜并向下移动；在此过程中，低沸点的组份被蒸发，而残留物从蒸发器底部排出。二、性能特点真空压降小：　　物料汽化气体从加热面送到外置的冷凝器，存在的压差。在一般的蒸发器中，这种压力降（Δp）通常是比较高的，有时甚至高得难于接受。而刮板式薄膜蒸发器有较大的气体穿越空间，蒸发器内压力能看成与冷凝器中的压力几乎相等，因此，压力降很小,真空度可≤1Pa。操作温度低：　　由于上述特性，这使得蒸发过程可以保持在较高真空度条件下进行。由于真空度的提高，与之相应的物料沸点迅速降低，因此，操作可以在较低温度下进行，降低了产品的热分解。受热时间短：　　由于刮板式薄膜蒸发器的独特结构，刮膜器具有泵送作用，使得物料在蒸发器内的停留时间很短；另，在加热的蒸发器上由于薄膜的高速湍流使得产品不会滞留在蒸发器表面。因此，适用于热敏性物料的蒸发。蒸发强度高：　　物料沸点的降低，增大了同热介质的温度差；刮膜器的功能，减小了呈现湍流状态的液膜厚度，降低了热阻。同时，在这过程中抑制物料在加热面结壁、结垢，并伴有良好的热交换，因此，提高了刮板式薄膜蒸发器的总传热系数。 操作弹性大：　　正是由于刮板式薄膜蒸发器的性能，使其适宜于处理热敏性和要求平稳蒸发的、高粘度的及随浓度提高粘度急剧增加的物料，其蒸发过程也能平稳蒸发。它还能成功地应用于含固颗粒、结晶、聚合、结垢等情况物料的蒸发和蒸馏。三、应用领域　　在热交换工程中，刮板式薄膜蒸发器得到广乏的应用。尤其对热敏性物料（时间短暂）的热交换，刮膜器有利于热交换的进行，并通过不同的刮膜器设计，能进行复杂产品的蒸馏。　　刮膜蒸发器已在下述领域用于蒸发浓缩、脱溶、汽提、反应、脱气、除臭（气）味等为目的，取得了良好效果：中、西药：抗生素，糖液，雷公滕、黄芪等中草药，甲基咪唑、单腈胺等中间体；轻工食品：果汁，肉汁，色素，香精，香料，酶制剂、乳酸、木糖、淀粉糖，山梨酸钾；油脂日化：卵磷酯，VE，鱼肝油，油酸，甘油，脂肪酸，废润滑油，烷基多糖苷，醇醚硫酸盐等；合成树脂：聚酰胺树脂，环氧树脂，多聚甲醛，PPS（癸二酸聚丙烯酯），PBT，甲酸丙烯酯；合成纤维：PTA，DMT，炭素纤维，聚四氢呋喃，聚醚多元醇等；石油化学：TDI，MDI，三甲基氢醌，三羟甲基丙烷，氢氧化钠等；农药生物：乙草胺、丙草胺、毒死蜱、呋喃酚、广灭灵、等除草剂，杀虫剂、除莠剂，除螨剂；废　　水：无机盐废水等；

不锈钢短程分子蒸馏仪AYAN-F80主要特征：1.远低于物料沸点的温度下操作,而且物料停留时间短 利于高沸点、热敏及易氧化物料的分离2.有效地脱除液体中的物质如有机溶剂、臭味等,对于采用溶剂萃取后液体的脱溶是非常有效的方法3.可有选择蒸挥发出产物,去除其它杂质,通过多级分离可同时分离2种以上的物质4.蒸馏真空度高，真空度可达0.1pa以下，其内部可以获得很高的真空度，通常分子蒸馏在很低的压强下进行操作，因此物料不易氧化受损5.蒸馏液膜薄,传热效率高，膜厚度小于0.5mm6.分离程度更高，分子蒸馏能分离常规不易分开的物质7.没有沸腾鼓泡现象，分子蒸馏是液层表面上的自由蒸发，在低压力下进行，液体中无溶解的空气，因此在蒸馏过程中不能使整个液体沸腾，没有鼓泡现象。8.提供多种规格客户选择，适用于客户小试实验,中试实验，如果需要更大蒸发面积规格的可以根据客户要求定制。9.物理分离法，无毒、无害、无污染、无残留，可得到纯净安全的产物9.刮板系统由PTFE材料和SS316L不锈钢材料制成，具有极高抗腐蚀的功效；10.进料罐可选实现预加热功能，预热温度可以调节。11.各个接口采用的是氟胶垫片进行密封，气密性好，如客户需要耐腐蚀可以更换成四氟材质 技术参数：产品型号AYAN-F60AYAN-F80AYAN-F100AYAN-F150AYAN-F200AYAN-F220内径(mm)6080100150200220蒸发面积(㎡)0.060.10.150.250.350.5冷凝面积(㎡)0.10.150.250.450.550.65进料容积(L）122255处理流量L/H0.1∽2.00.5∽4.00.5∽5.01.0∽8.01.5∽10.02.0∽15.0电机功率(W)120120120120120200转速(r/min)≤450≤450≤450≤450≤450≤450轻组分收集瓶(L）112355重组成收集瓶(L）112355冷井有有有有有有外置冷凝装置选配选配选配选配选配选配冷却装置有有有有有有真空度(pa)10以下10以下10以下10以下10以下10以下受热温度(°C)室温-200 室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200 不锈钢短程分子蒸馏仪AYAN-F80分子蒸馏的特点优势从分子蒸馏技术以上的特点可知,它在实际工业化的应用中比常规蒸馏技术具有以下明显的优势： 1、对于高沸点、热敏及易氧化物料的分离，分子蒸馏提供了分离方法。因为分子蒸馏在远低于物料沸点的温度下操作，而且物料停留时间短； 2、分子蒸馏可极有效地脱除液体中的物质如有机溶剂、臭味等,这对于采用溶剂萃取后液体的脱溶是非常有效的方法； 3、分子蒸馏可有选择地蒸出目的产物，去除其它杂质，通过多级分离可同时分离2种以上的物质； 4、分子蒸馏的分馏过程是物理过程，因而可很好地保护被分离物质不受污染和侵害。 应用领域 　　在热交换工程中，刮板式薄膜蒸发器得到广乏的应用。尤其对热敏性物料（时间短暂）的热交换，刮膜器有利于热交换的进行，并通过不同的刮膜器设计，能进行复杂产品的蒸馏。 　　刮膜蒸发器已在下述领域用于蒸发浓缩、脱溶、汽提、反应、脱气、除臭（气）味等为目的，取得了良好效果： 中、西药：抗生素，糖液，雷公滕、黄芪等中草药，甲基咪唑、单腈胺等中间体； 轻工食品：果汁，肉汁，色素，香精，香料，酶制剂、乳酸、木糖、淀粉糖，山梨酸钾； 油脂日化：卵磷酯，VE，鱼肝油，油酸，甘油，脂肪酸，废润滑油，烷基多糖苷，醇醚硫酸盐等； 合成树脂：聚酰胺树脂，环氧树脂，多聚甲醛，PPS（癸二酸聚丙烯酯），PBT，甲酸丙烯酯； 合成纤维：PTA，DMT，炭素纤维，聚四氢呋喃，聚醚多元醇等； 石油化学：TDI，MDI，三甲基氢醌，三羟甲基丙烷，氢氧化钠等； 农药生物：乙草胺、丙草胺、毒死蜱、呋喃酚、广灭灵、等除草剂，杀虫剂、除莠剂，除螨剂； 废　　水：无机盐废水等；

T-BD5-PID2290 –TVOC在线管道式有机气体检测仪 原理： PID电离势10.6eV 的所有有机化合物探测 在线管道式有机气体检测仪应用：环境督察、环境指标 VOC、VOCs or TVOC医院垃圾、医疗废弃物、工业恶臭味检测、污染源/排放口监测含磷毒剂,战剂探测、炸药、推进剂等探测、刺激性化学物质探测人类动物呼吸及排泄气体检测、农药、杀虫剂等探测、实验室烟雾探测泄露探测、毒气探测、气体安全探测、残余气体探测、毒榀等危险品探测制冷剂、灭火剂、绝缘介质挥发物检测、可燃气检测工作环境达标、有机毒气探测、劳动安全检测在线管道式有机气体检测仪用途： 各种气体泄露探测空气背景单一的多种有机物单气浓度测试个别无机物气体浓度测试TVOC分析主要探测气体：异 丁 烯: 5ppb~50/1000ppm；100ppb~500/6000ppm；甲 苯: 10ppb~100/2000ppm；200ppb~1000/12000ppm；其他气体： 乙醛，丙酮，氨，苯，丁二烯，柴油，乙醇，乙烯，汽油，己烷，喷气机燃料(JP8)，煤油，甲基乙基酮，萘，苯乙烯，甲苯，松节油，氯乙烯，二甲苯等。在线管道式有机气体检测仪技术参数：灵 敏 度: 100 ppb(异丁烯)线性范围: 0~300 ppm重复精度: ±5%相对零点漂移: 50%(可调零消除) 蕞大零点漂移预热时间: 5 min温度范围: -40~40°C(本安)；40~60°C(非本安)湿度范围: 0~95%,非结露响应时间： T90：3secs在线管道式有机气体检测仪检测气体： 氢气氨气氧气氟气丁硫醇溴气氢化锗酯酸乙烯酯乙炔乙醇乙烯丙烯磷酰氯丁胺异丙胺1-3-丁二烯二甲胺三甲胺二乙胺乙硫醇乙硼烷甲醇异丙醇二甲基硫醚砷化硼硫化氢氰化氢溴化氢氯化氢氯气磷化氢二甲基乙胺乙烯基氯一氧化氮一氧化碳二氯硅烷二氧化氯乙醛二氧化硫环氧乙烷异丙硫醇三氯化硼三氯化磷三氯硅烷三甲硼烷甲醛四氯化锡四氯化钛一甲胺四氯化硅四氢噻吩过氧化氢n-丙基硫醇硅烷二氧化氮亚硫酰二氯五氯化锑环氧丙烷甲硫醇吗啉三乙胺氢化硒甲苯二甲苯乙基丙烯酸酯1-氯-2.3-环氧丙烷甲基丙烯酸甲酯二乙胺基乙醇

1.实现了在实验室气相色谱平台搭建的烷基汞测量体系，实现了通用仪器专用化的设计思路，在可以测量烷基汞的同时，也可以进行其他气相色谱法的应用检测。2.小型化光路设计，经过复杂的光学设计，使得整体的荧光检测器可以集成在手掌大小，并且在体积缩小的同时，提高了仪器对于汞的灵敏度响应。MAS-100型烷基汞分析仪，满足HJ977-2018《水质 烷基汞的检测 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》国家环境保护标准，适用于样品的批量分析。 水溶液中甲基汞、乙基汞与衍生化试剂四丙基硼化钠反应，并生成具有一定挥发性的甲基丙基汞和乙基丙基汞，经氩气吹扫、Tenax管捕集后，使用气相色谱-冷原子荧光检测器测定。通用仪器专用化在加装AFD的同时，还可以加装其他检测器（FID、ECD、TCD、FPD），满足使用者对于其他应用的分析。主动尾气捕集系统经过检测器的汞蒸气最后会经过金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集。使用毛细色谱柱高效分离更高的柱效，更快的分离速度，使甲基汞、乙基汞的灵敏度更高。产品创新点详解：（1）丰富实验室气相色谱仪应用场景。基于通用仪器专用化的设计思路，在FID、FPD、ECD、TCD和TSD等传统气相色谱检测器的基础上，开发了具有专利技术的小型冷原子荧光检测（AFD），可直接搭载在实验室气相色谱仪上，实现气相色谱仪和原子荧光光谱联用分析，进一步丰富了实验室气相色谱仪的应用场景。（2）对提高汞检测行业的仪器利用率提出了新的方案。各实验室除了烷基汞检测外还有其他检测项目需求，该仪器在实验室气相色谱平台上实现除烷基汞分析外，还可以进行挥发性有机物、挥发性卤代烃、有机磷、有机氯等多气相色谱应用拓展。（3）AFD小型化集成设计。AFD采用小型化集成设计思路，整个检测器只有商用冷原子荧光光谱仪的1/30左右，包括基座、高温裂解模块、荧光池及主动捕集系统。一体化的基座设计，不仅满足毛细色谱柱与高温裂解模块的连接，又避免了高温对于色谱柱的性能影响。高温裂解模块采用纳米隔热层设计，满足内部950℃高温裂解的同时，实现了与外部良好隔热。荧光池采用多级光学陷阱实现特殊的杂散光消除技术，最终实现高灵敏度检测。（4）保护环境及分析者健康。采取主动泵抽式捕集系统，经过检测器的汞蒸气在泵抽吸过程中由金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集，从而保护环境与仪器使用者。（5）引入毛细色谱柱分析，更高的柱效、更快的分离。基于实验室气相色谱仪平台的优势，使用毛细色谱柱进行烷基汞分析，可在4分钟以内实现甲基汞与乙基汞分离，提高仪器使用效率。

MAS-100烷基汞分析仪 北京北分瑞利分析仪器（集团）有限责任公司开发的MAS-100型烷基汞分析仪，满足HJ977-2018《水质 烷基汞的检测 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》国家环境保护标准，适用于样品的批量分析。 水溶液中甲基汞、乙基汞与衍生化试剂四丙基硼化钠反应，并生成具有一定挥发性的甲基丙基汞和乙基丙基汞，经氩气吹扫、Tenax管捕集后，使用气相色谱-冷原子荧光检测器测定。 通用仪器专用化在加装AFD的同时，还可以加装其他检测器（FID、ECD、TCD、FPD），满足使用者对于其他应用的分析。主动尾气捕集系统经过检测器的汞蒸气最后会经过金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集。使用毛细色谱柱高效分离更高的柱效，更快的分离速度，使甲基汞、乙基汞的灵敏度更高。产品创新点详解：（1）丰富实验室气相色谱仪应用场景。基于通用仪器专用化的设计思路，在FID、FPD、ECD、TCD和TSD等传统气相色谱检测器的基础上，开发了具有专利技术的小型冷原子荧光检测（AFD），可直接搭载在实验室气相色谱仪上，实现气相色谱仪和原子荧光光谱联用分析，进一步丰富了实验室气相色谱仪的应用场景。（2）对提高汞检测行业的仪器利用率提出了新的方案。各实验室除了烷基汞检测外还有其他检测项目需求，该仪器在实验室气相色谱平台上实现除烷基汞分析外，还可以进行挥发性有机物、挥发性卤代烃、有机磷、有机氯等多气相色谱应用拓展。（3）AFD小型化集成设计。AFD采用小型化集成设计思路，整个检测器只有商用冷原子荧光光谱仪的1/30左右，包括基座、高温裂解模块、荧光池及主动捕集系统。一体化的基座设计，不仅满足毛细色谱柱与高温裂解模块的连接，又避免了高温对于色谱柱的性能影响。高温裂解模块采用纳米隔热层设计，满足内部950℃高温裂解的同时，实现了与外部良好隔热。荧光池采用多级光学陷阱实现特殊的杂散光消除技术，最终实现高灵敏度检测。（4）保护环境及分析者健康。采取主动泵抽式捕集系统，经过检测器的汞蒸气在泵抽吸过程中由金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集，从而保护环境与仪器使用者。（5）引入毛细色谱柱分析，更高的柱效、更快的分离。基于实验室气相色谱仪平台的优势，使用毛细色谱柱进行烷基汞分析，可在4分钟以内实现甲基汞与乙基汞分离，提高仪器使用效率。

北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统CPT2610-AA-NOX氮氧化物监测报警器采用进口高精度电化学传感器,具有高响应度,重复性,高精确度和操作简便等优点,符合国家相关标准要求。先进的气体检测技术,加之多路双显示声光报警功能, 可满足用户对氮氧化物气体排放实时监控的需求,同时为环境治理政策的制定提供有力的数据支持及预警等服务。北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统配置参数：1、1个NO检测探头，电化学式测量原理，测量范围0 ' 300ppm精度土1.5%F.S.响应时间30s输出4-20mA, 24VDC供电IP65防护，带墙装支架 2、1个NO2检测探头，电化学式测量原理，测量范围0~30ppm, 精度士1.5%F.s响应时间30s,输出4-20mA, 24VDC供电，IP65防护，带墙装支架: 3、1台2通道控制器,用于连接上述2个检测探头信号，为检测探头提供24VDC电源，带现场显示屏幕，输入:两路4-20mA， 输出:4-20mA两路超限继电器报警1路故障继电器报警，供电电源220VAC, IP65防护，带墙装支架，带2根5m与探头连接的电缆。4、XS3.5-2 双路双显示报警，报警器有数字显示和声光报警功能,也可以驱动其他报警 氮氧化物监测报警系统应用：矿井，煤井，输气燃气、能源、石油、化工、冶金甲烷，乙烷，天然气，设备泄露监测食品冷藏氨气、佛里昂泄露，臭氧，过氧化氢；PCBs，油脂，纸浆和造纸厂变压器等存在易燃、易爆、毒性气体的危险场所海运，空运，车辆物流安全，钻井，输油，炼油厂，石化厂和化工厂、发电厂含磷毒剂，战剂探测，炸药，推进剂等探测石油石化、化工厂、冶炼厂、钢铁厂、煤炭厂、热电厂、自来水厂、医药车间、烟草公司、大气环境监测、科研院校、楼宇建设、消防报警、污水处理、工业过程化控制、锅炉房、垃圾处理厂、地下隧道、输油管道、加气站、地下管网检修、室内空气质量检测、食品加工、杀菌消毒、冷冻仓库、农药化肥、杀虫剂生产等。北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统技术参数：采样方式： 自然扩散式环境湿度： ≤95%RH相对湿度（无冷凝）防爆等级： 防爆等级EXdⅡCT6，防护等级IP65 电源电压： DC12V、24V，220V AC可选模拟输出： 4~2mA /0~20mA、0~2.5V可选仪器重量： 300~500g安装方式： 壁挂式安装或螺纹安装安装螺纹： T型变送器带G1”连接口使用电缆： 四线制/三线制，0.2mm2以上铜线屏蔽电缆环境温度： CPT2610/20：-20~50℃；CPT2312/2410：-30~70℃；GD2290/4100：-10~45℃电流输出蕞大负载： RL=(Vs-2.7V)/0.020mA其他可检测气体： 氢气氨气氧气氟气丁硫醇溴气氢化锗酯酸乙烯酯乙炔乙醇乙烯丙烯磷酰氯丁胺异丙胺1-3-丁二烯二甲胺三甲胺二乙胺乙硫醇乙硼烷甲醇异丙醇二甲基硫醚砷化硼硫化氢氰化氢溴化氢氯化氢氯气磷化氢二甲基乙胺乙烯基氯一氧化氮一氧化碳二氯硅烷二氧化氯乙醛二氧化硫环氧乙烷异丙硫醇三氯化硼三氯化磷三氯硅烷三甲硼烷甲醛四氯化锡四氯化钛一甲胺四氯化硅四氢噻吩过氧化氢n-丙基硫醇硅烷二氧化氮亚硫酰二氯五氯化锑环氧丙烷甲硫醇吗啉三乙胺氢化硒甲苯二甲苯

技术参数：产品型号AYAN-B80AYAN-B100AYAN-B150AYAN-B200AYAN-B220内径(mm)80100150200220蒸发面积(㎡)0.10.150.250.350.5冷凝面积(㎡)0.150.250.450.550.65进料容积(L）22255处理流量L/H0.5∽4.00.5∽5.01.0∽8.01.5∽10.02.0∽15.0电机功率(W)120120120120200转速(r/min)≤450≤450≤450≤450≤450轻组分收集瓶(L）12355重组成收集瓶(L）12355冷井有有有有有外置冷凝装置有有有有有冷却装置有有有有有真空度(pa)100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下受热温度(°C)室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200 简介： 刮板薄膜蒸发器是壳体外部装有加热蒸汽夹套，其内部装有可旋转的刮板,刮板由圆筒中心的旋转轴带动。材料液由蒸发器上部沿切向参与后，在重力和旋转刮板的带动下,沿壳体的内壁面构成下旋的薄膜，结束液由底部排出器外，二次蒸汽则经除沫器后由上部排出。这种蒸发器的出色利益是对物料的适应性很强,对高黏度、易结晶、易结垢、含悬浮物或兼有热敏性料液的蒸发均适用。 描述： 它主要由加热夹套和刮板组成，夹套内通加热蒸汽，刮板装在可旋转的轴上，刮板和加热夹套内壁坚持很小空地，一般为0.5～1.5mm。料液经预热后由蒸发器上部沿切线方向参与，在重力和旋转刮板的作用下，分布在内壁构成下旋薄膜，并在下降过程中不断被蒸发浓缩，结束液由底部排出，二次蒸汽由顶部逸出。在某些场合下，这种蒸发器可将溶液蒸干，在底部直接得到固体产品。 这类蒸发器的缺点是结构凌乱（制造、设备和维修工作量大）加热面积不大，且动力消耗大。 工作方法 物料从大直径端接连不断地进入卧式蒸发器，被刮膜片加速和分配并立即在加热面上构成一个薄的活动膜。 圆锥型薄膜蒸发器，依赖于转子施于物料一个离心力，这离心力有两个有效能，一个垂直于加热面，另一个朝大直径端体的方向（留意：相同的效果相同出现在垂直圆锥型薄膜蒸发器里）依托这些力发作物料加速，并且进入的物料保证加热面充分湿润，不依赖于蒸发比或进料速度。因此，部分物料过热和热降解被削减或消除。 在此过程中，轻组份（低沸物）顺流（和液膜同向）穿过卧式薄膜蒸发器进入汽液分别器，在此处经汽液分别所发作的液滴和泡沫被击碎进入液相（高沸物），被分别后的汽体进入外置冷凝器或下道工序；重组份（高沸物）沿着加热壁面爬升到小端出口排出。一、概述　　分离技术是化工生产三大技术之一，分离过程的优劣对产品质量、效率、消耗、效益影响极大。GXZ旋转薄膜蒸发器，是按物料的挥发度不同进行分离的设备。该设备的传热系数高、蒸发温度低、物料停留时间短，热效率高、蒸发强度大。在石化、精细化工、农药、食品、医药、生物化工等行业中广泛应用于蒸发、浓缩、脱溶、提纯、汽提、脱气、脱臭等过程。 薄膜蒸发器是通过旋转刮膜器强制成膜，并高速流动，热传递效率高，停留时间短（约5~15秒），可在真空条件下进行降膜蒸发的一种新型蒸发器。它传热系数大、蒸发强度高、过流时间短、操作弹性大，尤其适宜热敏性物料、高粘度物料及易结晶含颗粒物料的蒸发浓缩、脱气脱溶、蒸馏提纯。它由一个或多个带夹套加热的圆筒体及筒内旋转的刮膜器组成。刮膜器将进料连续地在加热面刮成厚薄均匀的液膜并向下移动；在此过程中，低沸点的组份被蒸发，而残留物从蒸发器底部排出。二、性能特点真空压降小：　　物料汽化气体从加热面送到外置的冷凝器，存在的压差。在一般的蒸发器中，这种压力降（Δp）通常是比较高的，有时甚至高得难于接受。而刮板式薄膜蒸发器有较大的气体穿越空间，蒸发器内压力能看成与冷凝器中的压力几乎相等，因此，压力降很小,真空度可≤1Pa。操作温度低：　　由于上述特性，这使得蒸发过程可以保持在较高真空度条件下进行。由于真空度的提高，与之相应的物料沸点迅速降低，因此，操作可以在较低温度下进行，降低了产品的热分解。受热时间短：　　由于刮板式薄膜蒸发器的独特结构，刮膜器具有泵送作用，使得物料在蒸发器内的停留时间很短；另，在加热的蒸发器上由于薄膜的高速湍流使得产品不会滞留在蒸发器表面。因此，适用于热敏性物料的蒸发。蒸发强度高：　　物料沸点的降低，增大了同热介质的温度差；刮膜器的功能，减小了呈现湍流状态的液膜厚度，降低了热阻。同时，在这过程中抑制物料在加热面结壁、结垢，并伴有良好的热交换，因此，提高了刮板式薄膜蒸发器的总传热系数。 操作弹性大：　　正是由于刮板式薄膜蒸发器的性能，使其适宜于处理热敏性和要求平稳蒸发的、高粘度的及随浓度提高粘度急剧增加的物料，其蒸发过程也能平稳蒸发。它还能成功地应用于含固颗粒、结晶、聚合、结垢等情况物料的蒸发和蒸馏。三、应用领域　　在热交换工程中，刮板式薄膜蒸发器得到广乏的应用。尤其对热敏性物料（时间短暂）的热交换，刮膜器有利于热交换的进行，并通过不同的刮膜器设计，能进行复杂产品的蒸馏。　　刮膜蒸发器已在下述领域用于蒸发浓缩、脱溶、汽提、反应、脱气、除臭（气）味等为目的，取得了良好效果：中、西药：抗生素，糖液，雷公滕、黄芪等中草药，甲基咪唑、单腈胺等中间体；轻工食品：果汁，肉汁，色素，香精，香料，酶制剂、乳酸、木糖、淀粉糖，山梨酸钾；油脂日化：卵磷酯，VE，鱼肝油，油酸，甘油，脂肪酸，废润滑油，烷基多糖苷，醇醚硫酸盐等；合成树脂：聚酰胺树脂，环氧树脂，多聚甲醛，PPS（癸二酸聚丙烯酯），PBT，甲酸丙烯酯；合成纤维：PTA，DMT，炭素纤维，聚四氢呋喃，聚醚多元醇等；石油化学：TDI，MDI，三甲基氢醌，三羟甲基丙烷，氢氧化钠等；农药生物：乙草胺、丙草胺、毒死蜱、呋喃酚、广灭灵、等除草剂，杀虫剂、除莠剂，除螨剂；废　　水：无机盐废水等；四、工作原理 分子蒸馏是利用液相中轻重组份分子逸出液相主体时分子自由程的差来实现分离。要实现分子蒸馏的基本条件是：轻组份分子逸出的分子自由程等于加热面与冷凝面的距离，能正确地达到内置冷凝器实现捕集，而重组份分子逸出的分子自由程要小于加热面与冷凝面的距离，使其不会达到内置冷凝器，也就是内置冷凝器只捕集轻组份的分子，而实现轻重组份的分离。　　 短程蒸馏器就是根据分子蒸馏的原理而设计的，是模拟分子蒸馏的模型，由于其加热面和冷却面的距离很近，阻力很小，故称短程蒸馏器。由于内置冷凝器的作用，能把汽化的汽相瞬间液化，收缩体积，因此能维持设备内部的高真空。短程蒸馏器的操作真空可达1Pa,是其它蒸发、蒸馏设备难以达到的,因此，短程蒸馏器适用于在常压下高沸点，用普通分离方法难以分离的物料，作为一种新型的液--液分离设备已有很多行业得到了成功经验。根据物料特性的不同，也有各种刮板形式的选择，原理与刮板蒸发器相似。短程蒸馏器的处理能力：　　由于短程蒸馏器一般是用来处理高沸点的物料，通常粘度都较高，又通常是用导热油加热，因此分离能力也较小，根据物料的不同，分离能力为30-70kg/ m2.hr。 　 物料从加热区的上方径向进入蒸发器；经布料器分布到蒸发器加热壁面，然后，旋转的刮膜器将物料连续均匀地加热面上刮成厚薄均匀的液膜，并以螺旋状向下推进。在此过程中，旋转的刮膜器保证连续和均匀的液膜产生高速湍流，并阻止液膜在加热面结焦、结垢，从而提高传总系数。轻组份被蒸发形成蒸汽流上升，经汽液分离器到达和蒸发器直接相连的外置冷凝器；重组份从蒸发器底部的锥体排出。　　一个独特的布料器不仅仅具有将物料均匀地泼向蒸发器内壁，防止物料溅到蒸发器内部喷入蒸汽流，还具有防止刚进入的物料在此处闪蒸，有利于泡沫的消除，物料只能沿着加热面蒸发。　　在刮膜蒸发器的上部配有一个依据物料特性设计的离心式分离器，将上升蒸汽流中的液滴分离出来并返回布料器。

MS104K便携式硅烷气体测试仪是一款移动式快速检测硅烷气体浓度的复合型气体检测仪，最多可以同时检测1～4种气体，具有大容量数据存储功能。MS104K便携式硅烷气体测试仪采用2.31寸高清彩屏实时显示浓度，选用知名品牌的气体传感器，主要检测原理有：电化学、红外、催化燃烧、热导、PID光离子。　　MS104K便携式硅烷气体测试仪特点：　　●防水溅、防尘、防爆、防震，本安电路设计，抗静电，抗电磁干扰，通过国标测试和CPA计量器具型式认证　　●2.31寸高清彩屏显示实时浓度、报警、时间、温度、湿度、存储、通信、电量、 充电状态等信息，菜单界面采用高清仿真图标显示各个菜单的功能名称　　●数据存储功能，容量10万条。支持实时存储、定时存储，或只存报警浓度数据和时间、支持本机查看、删除数据，也可通过USB接口将数据上传到电脑，用上位机软件分析数据和存储、打印。　　●USB充电接口，过充、过放、过压、短路、过热保护，5级精准电量显示　　●采用2100mAh可充电高分子聚合物电池，可长时间连续工作　　●声光报警、振动报警、视觉报警、欠压报警、故障报警、关闭报警。　　●报警值可设，报警方式可选低报警、高报警、区间报警　　●可以选配同时检测1～4种气体，单位自由切换单位可选：PPM、mg/m3、Vol%、LEL%、PPHM、ppb、mg/L　　●三种显示模式可切换：同时显示四种气体浓度、大字体循环显示单通道气体的浓度、实时曲线，各通道之间自动循环或手动循环可切换，可设置是否显示最大值、最小值、气体名称，可查看历史记录。　　●数据恢复功能　　●零点自动跟踪，长期使用不受零点漂移影响。　　●多级校准　　●浓度校准误操作自动识别并阻止。　　●支持OEM或ODM订制，可以选配RS485通讯　　●选配环境温湿度测量功能，更多其他功能或通讯接口可订制。　　MS104K便携式硅烷气体测试仪技术参数：　　检测气体：硅烷SiH4 ，选配：同时检测1～4种气体浓度，视传感器和现场环境而定　　检测范围：0-10、100ppm，其他量程可定制　　分 辨 率：0.01ppm更高分辨率可定制　　检测原理：电化学，其他原理可选，根据气体类型、量程、现场环境和用户需求而定　　传感器寿命：2-3年　　检测方式：扩散式测量　　显示方式：2.31寸320X240高清彩屏显示,4按键操作　　检测精度：≤±3%(F.S)　　报警方式：声光报警、振动报警、视觉报警、声光+振动+视觉报警、关闭报警可选　　响应时间：T90≤30秒　　恢复时间：≤30秒　　工作电源：DC3.7V　　电池容量：2100mAH 大容量可充电高分子聚合物电池　　使用环境：温度-40℃~+70℃ 相对湿度≤0~95%RH(非凝露场合)　　温度检测：-40℃~+70℃，精度±0.5℃，选配功能　　湿度检测：0~100%RH，精度±3%RH，选配功能　　数据存储：标配10万条数据容量，支持本机查看、删除或数据导出，存储时间间隔任意设置　　通讯接口：USB(充电与通讯)，选配RS485通讯接口　　界面语言：中文或英文可设置，默认中文界面　　防爆类型：本质安全型　　防爆标志：Exia II CT4 Ga　　防护等级：IP65，防尘、防水溅　　外型尺寸：130×68×34mm(L×W×H)　　重 量：200g　　标准附件：说明书、合格证、保修卡、USB充电器(含数据线)、彩色纸质包装盒 、背夹　　选配附件：高档铝合金仪器箱 、外置手持式采样泵(含0.4米不锈钢采样手柄或0.9m可伸缩采样手柄)　　应用场合：石油、化工、医药、环保、仓储、烟气分析、空气治理等所有需要检测气体浓度的场合

MS400便携式硅烷检测报警仪用于便携式快速检测硅烷气体浓度、温湿度测量并超标报警的场合。MS400复合式四合一气体检测仪采用2.31寸高清彩屏实时显示浓度，选用知名品牌的气体传感器，主要检测原理有：电化学、红外、催化燃烧、热导、PID光离子。先进的电路设计、成熟的内核算法处理，取得了多项软件著作专利和外观专利。MS400可以检测管道中或受限空间、大气环境中的气体浓度，可以检测气体泄漏或各种背景气体为氮气或氧气的高浓度单一气体纯度，检测气体种类超过500种。　　MS400便携式硅烷检测报警仪特点：　　● 防水溅、防尘、防爆、防震，本安电路设计，抗静电，抗电磁干扰，通过国标测试和CMC计量器具生产许可认证　　●防护级别IP65，内置水汽、粉尘过滤器，防止因水汽和粉尘损坏传感器和仪器　　●内置泵吸式测量，集成水汽、粉尘过滤器，可选配专业配件用于高温、高湿、高粉尘环境，响应迅速 特殊路设计，采样距高大于10米。　　●2.31寸高清彩屏显示实时浓度、报警、时间、温度、湿度、存储、通信、电量、充电状态等信息，菜单界面采用高清仿真图标显示各个菜单的功能名称　　●大容量数据存储功能，支持10万条数据存储容量，更大容量可订制。支持实时存储、定时存储，或只存报警浓度数据和时间、支持本机查看、删除数据，也可通过USB接口将数据上传到电脑，用上位机软件分析数据和存储、打印。　　●USB充电接口，可用电脑或充电宝充电，兼容手机充电器，过充、过放、过压、短路、过热保护，5级精准电量显示，支持USB热插拔，检测仪在充电时可正常工作，选配RS485通讯　　●采用4600mAH大容量可充电高分子聚合物电池，可长时间连续工作　　●声光报警、振动报警、视觉报警、欠压报警、故障报警，报警时多方位立体显示报警状态。　　●报警值可设，报警方式可选低报警、高报警、区间报警、加权平均值报警　　●高精度温湿度测量(选配)，同时对传感器进行温度补偿，仪器使用温度范围-40～70度，可检测400度的气体，更高温度的气体检测可订制(选配高温采样降温过滤手柄或高温高湿预处理系统)　　●可以选配同时检测1～4种气体，单位自由切换，常规气体不需要输入分子量，特殊气体需要输入分子量就自动计算并切换，单位可选：PPM、mg/m3、Vol%、LEL%、PPHM、ppb、mg/L　　●三种显示模式可切换：同时显示四种气体浓度、大字体循环显示单通道气体的浓度、实时曲线，各通道之间自动循环或手动循环可切换，可设置是否显示最大值、最小值、气体名称，可查看历史记录曲线图。　　●中英文界面可选择，默认中文界面，简明中文或英文操作提示　　●数据恢复功能，可以选择性恢复或全部恢复，免去误操作引起的后顾之忧　　●零点自动跟踪，长期使用不受零点漂移影响。　　●目标点三级校准，保证测量的线性度和精度，能同时符合国家标准和地方计量局标准。　　●浓度校准误操作自动识别并阻止，能避免人为因素造成的不良。　　●可以实时检测或定时检测(针对被测气体的量比较小的情况)，不检测时可以把泵关闭以延长开机时间。　　●可记录校准日志、维修日志、故障解决对策，传感器寿命到期提醒，下次浓度校准时间提醒功能　　MS400便携式硅烷检测报警仪技术参数：　　检测气体：硅烷SiH4 ，选配：同时检测1～4种气体浓度和温湿度测量，视传感器和现场环境而定　　检测范围：0～10ppm、100、1000ppm、100%LEL可选，其他量程可订制　　分 辨 率：0.01ppm或0.001ppm(0～10 ppm) 0.01ppm(0～100 ppm)，0.1ppm(0～1000 ppm)，1ppm(0～1000 ppm以上)，0.1%LEL(0～100%LEL)、0.01%Vol或0.001%Vol(0～99.999%Vol)　　检测原理：电化学、红外、热导、PID光离子、催化燃烧，根据气体类型、量程、现场环境和用户需求而定　　传感器寿命：电化学原理2～3年，氧气2年或6年，红外5～10年，催化燃烧3年、热导5年，PID2年　　检测方式：内置泵吸式，流量500毫升/分钟　　显示方式：2.31寸320X240高清彩屏显示,5按键操作　　检测精度：≤±3%(F.S)(更高精度可定制)　　线 性 度：≤±2%　　重 复 性：≤±2%　　报警方式：声光报警、振动报警、视觉报警、声光+振动+视觉报警、关闭报警可选　　响应时间：T90≤20秒　　恢复时间：≤30秒　　工作电源：DC3.7V　　电池容量：3.7VDC，4600mAH大容量可充电高分子聚合物电池 ,带过充、过放、过压、过热、短路保护功能　　使用环境：温度-40℃~+70℃ 相对湿度≤0-99%RH(内置过滤器可在高湿度或高粉尘环境使用)　　样气温度：-40℃~+70℃ ，选配高温采样降温过滤手柄，可检测400度或更高温度的烟气浓度　　温度测量：-40℃~+70℃(选配) 精度0.5℃　　湿度测量：0-100%RH(选配) 精度3%RH　　数据存储：标配10万条数据容量，支持本机查看、删除或数据导出，免费上位机通讯软件　　存储功能默认为关闭状态，可设置为开启状态，存储时间间隔任意设置　　通讯接口：USB(充电与通讯)，选配RS485通讯接口　　界面语言：中文或英文可设置，默认中文界面　　防爆类型：本质安全型　　防爆标志：Exia II CT4　　防护等级：IP65，防尘、防水溅　　外型尺寸：178×70×40mm(L×W×H)　　重 量：300g　　标准附件：说明书、合格证、保修卡、USB充电器(含数据线)、高档铝合金仪器箱 、鳄鱼夹、光盘(上位机通讯软件)、湿度粉尘过滤器1个　　选配附件：温湿度测量功能、0.9 m 可伸缩采样手柄(1-10米软管，标准长度1米)、高温采样降温过滤手柄、高温高湿预处理系统、湿度粉尘过滤器多个、挂绳　　应用场合：石油、化工、医药、环保、烟气分析、空气治理等所有需要检测气体浓度的场合

L-精氨酸盐酸盐中文名称:L-精氨酸盐酸盐中文别名:L-胍基戊氨酸盐酸盐 L-精氨酸单盐酸盐 L-盐酸蛋白氨基酸 L-盐酸胍基戊氨酸 盐酸L-精氨酸 胍基戊氨酸盐酸盐 精氨酸HCL 左旋精氨酸单盐酸盐 精氨酸盐酸盐 单盐酸L-精氨酸 L-精氨酸盐酸盐 L-精氨酸甲酯单盐酸盐 盐酸精氨酸 L-精氨酸盐酸盐英文名：L-Arginine Hydrochloride或L-Arginine HClCAS No.：1119-34-2分子式：C6H14N4O2.HCl分子量：210.66产品描述：白色结晶体或结晶粉末，有特殊的酸味，易溶于水和甲酸，微溶于乙醇，不溶于乙醚。生产标准：AJI92，USP26，EP5主要性能指标：旋光度+22.1～+22.9 重金属≤10ppm 含水量≤0.20% 灼烧残渣≤0.10% 含量99.0～101.0% PH 4.7～6.2USP26 标准：项目标准外观白色结晶体或结晶粉末旋光度+21.4～+23.6° 干燥失重≤0.20% 灼烧残渣 ≤0.10% 氯(Cl) 16.5～17.1% 硫(SO4)≤0.03% 铁(Fe)≤20ppm 色析纯度单个杂质≤0.5%总杂质≤2.0% 含量98.5～101.5%AJI92 标准：项目标准外观白色结晶体或结晶粉末旋光度+22.1～+22.9° 透光率 ≥98.0% 氯(Cl) 16.58～17.00% 氨(NH4) ≤0.020% 硫(SO4) ≤0.020% 铁(Fe) ≤10ppm 重金属(Pb) ≤10ppm 砷(As2O3)≤1ppm 其它氨基酸符合干燥失重 ≤0.20% 灼烧残渣≤0.10% 含量 99.0～101.0% PH 4.7～6.2

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

PTM600手提式硅烷气体分析仪用于移动式需要精确检测分析硅烷气体浓度、温湿度测量的场合，PTM600六合一气体分析仪采用3.5寸高清彩屏实时显示浓度，采用的是当前行业内最好品牌的电化学或红外、催化燃烧、热导、PID光离子原理的气体传感器、瑞士高精度电容式数字温湿度传感器。PTM600先进的电路设计、成熟的内核算法处理，取得了多项软件著作专利和外观专利。PTM600可以检测分析管道中或受限空间、大气环境中的气体浓度也可以检测气体泄漏，检测气体种类超过500种，还可以检测分析各种背景气体为氮气或氧气的高浓度单一气体纯度。　　PTM600手提式硅烷气体分析仪特点：　　● 防水溅、防尘、防爆、防震，本安电路设计，抗静电，抗电磁干扰，通过国标测试和CMC计量器具生产许可认证　　●防护级别IP66，内置水汽、粉尘过滤器，防止因水汽和粉尘损坏传感器和仪器　　●内置泵吸式测量，集成水汽、粉尘过滤器，可选配专业配件用于高温、高湿、高粉尘环境，响应迅速 特殊路设计，采样距高大于10米。　　●3.5寸高清彩屏显示实时浓度、报警、时间、温度、湿度、存储、通信、打印、电量、充电状态等信息，菜单界面采用高清仿真图标显示各个菜单的功能名称　　●大容量数据存储功能，标配10万条数据存储容量，更大容量可订制。可选配U盘存储或SD卡存储功能，支持实时存储、定时存储或只存报警浓度数据和时间、支持本机查看、删除数据，也可通过USB、红外通信、RS232 接口将数据上传到电脑，用上位机软件分析数据和存储、打印。　　●蓝牙通信接口、USB接口、RS232接口自动识别，可选配内置打印机或外置无线蓝牙打印机打印内容：公司名称、气体名称、日期时间、环境温湿度、浓度数据、检测结果(是否合格)　　●USB充电接口，可用电脑或充电宝充电，兼容手机充电器，过充、过放、过压、短路、过热保护，5级精准电量显示，支持USB热插拔，检测仪在充电时可正常工作　　●采用10800mAH大容量可充电高分子聚合物电池，可长时间连续工作　　●声光报警、视觉报警、欠压报警、故障报警，报警时多方位立体显示报警状态。　　●报警值可设，报警方式可选低报警、高报警、区间报警、加权平均值报警　　●高精度温湿度测量(选配)，同时对传感器进行温度补偿，仪器使用温度范围-40～70度，可检测1300度的气体(选配高温采样降温过滤手柄或高温高湿预处理系统)　　●最低可以检测到0.001PPM，最高可检测99.999%Vol，支持高低量程自动切换(订货时需注明)。　　●可以实时检测或定时检测(针对被测气体的量比较小的情况)，不检测时可以把泵关闭以延长开机时间。　　●可以同时检测1～6种气体，最多可扩展到24种气体，单位自由切换，常规气体不需要输入分子量，特殊气体需要输入分子量就自动计算并切换，单位可选：PPM、mg/m3、Vol%、LEL%、PPHM、ppb、mg/L　　●三种显示模式可切换：同时显示四种气体浓度、大字体循环显示单通道气体的浓度、实时曲线，各通道之间自动循环或手动循环可切换，可设置是否显示最大值、最小值、气体名称，可查看历史记录曲线图。　　●中英文界面可选择，默认中文界面，简明中文或英文操作提示，各个年龄阶段的使用者都可以轻松操作　　●数据恢复功能，可以选择性恢复或全部恢复，浓度校准误操作自动识别并阻止，避免人为因素造成的不良　　●零点自动跟踪，目标点多级校准，保证测量的线性度和精度，能同时符合国家标准和地方计量局标准。　　●可记录校准日志、维修日志、故障解决对策，传感器寿命到期提醒，下次浓度校准时间提醒功能　　PTM600手提式硅烷气体分析仪技术参数：　　检测气体：硅烷SiH4 ，选配：同时检测1～6种，最多18种气体和温湿度测量，视传感器和现场环境而定　　检测范围：0～1ppm、10、50、100、200ppm、100%LEL可选，其他量程可订制　　分 辨 率：0.01ppm或0.001ppm(0～10 ppm) 0.01ppm(0～100 ppm)，0.1ppm(0～1000 ppm)，1ppm(0～1000 ppm以上)，0.1%LEL(0～100%LEL)、0.01%Vol或0.001%Vol(0～99.999%Vol)　　检测原理：电化学、红外、热导、PID光离子、催化燃烧，根据气体类型、量程、现场环境和用户需求而定　　传感器寿命：电化学原理3年，氧气2年或6年，红外5～10年，催化燃烧3年、热导5年，PID2年　　检测方式：内置泵吸式，流量800毫升/分钟　　显示方式：3.5寸320X240分辨率的大屏幕高清彩屏显示　　检测精度：≤±2%(F.S)(更高精度可定制)　　线 性 度：≤±2%　　重 复 性：≤±2%　　不确定度：≤±2%　　报警方式：声光报警、视觉报警、声光+视觉报警、关闭报警　　响应时间：T90≤20秒　　恢复时间：≤30秒　　工作电源：DC3.7V　　使用环境：温度-40℃~+70℃ 相对湿度≤0-99%RH　　样气温度：-40℃~+70℃ ，选配高温采样降温过滤手柄或高温高湿度预处理系统可检测1300℃的烟气浓度　　温度显示：-40℃~+70℃(选配) 精度0.5℃　　湿度显示：0-100%RH (选配)精度3%RH　　电池容量：3.7VDC，10800mAH可充电的高分子聚合物电池 ,带过充、过放、过压、短路保护功能　　数据存储：标准容量10万条数据，选配SD卡、U盘存储，容量不限，支持本机查看、删除或数据导出，免费上位机通讯软件，存储功能默认为关闭状态，可设置为开启状态，存储时间间隔任意设置　　通讯接口：蓝牙、USB、RS232 自动识别　　打 印 机：选配，内置微型打印机或外置微型无线蓝牙打印机　　无线传输：选配，可以把数据无线传输到手机、远程监控中心、监控电脑等监控设备，利用上位机在电脑上　　进行数据分析、存储、打印等功能　　防爆类型：本质安全型　　防爆标志：Exia II CT4　　防护等级：IP66，防雨淋与水溅、防尘　　外型尺寸：255×210×125mm(L×H×W)　　重 量：2.5Kg　　标准附件：说明书、合格证、保修卡、USB充电器(含数据线)、高档铝合金仪器箱、光盘(上位机通讯软件) 、40cm不锈钢采样手柄(1米软管)　　选配附件：内置微型打印机、外置微型无线蓝牙打印机、温湿度测量功能、U盘存储、无线数据通讯功能、高温采样降温过滤手柄、高温高湿预处理系统、外置远距离采样泵、湿度粉尘过滤器多个、0.9m 可伸缩采样手柄(1米软管)　　应用场合：石油、化工、医药、环保、烟气分析、空气治理等所有需要检测分析气体浓度的场合

产品型号： HMDS-6090 HMDS真空烘箱 产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：850*700*1400载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。 图片： 外壳冷轧板烤漆

产品型号： HS40 产品特点：1、机外壳采用冷轧板烤漆处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：615*615*900载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。外壳冷轧板烤漆

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

全自动烷基汞样品蒸馏仪HGP-30是原理为吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法的烷基汞测定仪的前处理蒸馏装置，采用一体化设计，加热和制冷为一体，加热模块高于制冷模块，蒸汽遇冷液化回流到制冷模块中的接收瓶，制冷模块内置冷冻液，无需外接自来水、冰块或冷循环水机导热。用于对不同的水样（尤其是基质复杂的水样如污水、海水等）进行蒸馏前处理，以消除基体干扰，蒸馏后的水样可直接进行烷基汞的 分析测试。具有蒸馏速度快，数据准确可靠，使用方便的优点,完全符合《水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法 》（HJ 977-2018）中对样品蒸馏装置的要求，非常适合批量样品的蒸馏处理。满足《水质烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》（HJ 977-2018）方法中规定技术要求； 样品位12个加热位及制冷位，每个孔位深13cm以上，保证良好的加热效率； 加热和制冷为一体，加热模块高于制冷模块，方便蒸汽遇冷液化回流到接收瓶； 加热控温范围常温~150℃，精度为±1℃，制冷控温范围2℃~8℃； 过热自动断电； 相关管线材质不吸附汞，接收瓶带有刻度，可以直观观察蒸馏终点（41.0mL）。

产品优势方法原理采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光谱法，完全符合《HJ977-2018 水质 烷基汞的测定》和美国EPA1630标准.分析过程自动化，避免操作者多次接触有毒试剂，解放人力.该仪器操作简便，样品需求量小，分析时间短，实验数据准确.仪器带有尾气处理装置，对环境友好.仪器通过CPA计量认证.可用干地下水、地表水、生活污水、工业废水、固废浸出液、十壤、生物样品中烷基汞的检测.全中文操作界面，易干操作，实验报告可直接打印，也可导出Excel.标准曲线计算方式采用标准曲线法和相应因子法两种。样品位数最大支持96位，进样针采用PEEK材质，在分析全过程中不与金属材质接触，降低引入污染的可能性。采用原位吹扫，直接在样品瓶内进行吹扫，无需进行额外的液体转移，减少管路污染，吹扫装置与进样器采用一体化设计。独有的光源调节模块，基线漂移1% 线性范围可达4个数量级 汞灯寿命可达5000小时。全自动烷基汞分析仪尺寸:1200mm*500mm*500mm重量:75 kg功率:220VAC，50Hz，5A吹扫气体:高纯氮气 (≥ 99.999%)载气: 高纯氩气 (≥ 99.999%)进样器容量:四盘24x40mL(总96位)PC 接口:RS232 接口环境要求:带通风装置的实验室仪器运行环境温度:10°℃~25°℃仪器运行环境湿度20%~80%烷基汞分析仪与《水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》HJ77-2018标准对比指标HJ 977-2018全自动烷基汞分析仪MMA 721 适用范围甲基汞、乙基汞检出限均为0.02ng/L甲基汞、乙基汞均优于0.01ng/L3 方法原理PT-GC-CVAFSPT-GC-CVAFS6.2 吹扫装置原位或异位吹扫原位吹扫7.2 试样准备8.3 试验测定45mL进样量25mL(EPA1630) / 45mL两种配置8.2 校准方法标准曲线法软件支持 标准曲线法和响应因子法（EPA1630）10.1 精密度甲基汞1.1%~6%，乙基汞0.9%~10%甲基汞、乙基汞均1%~5%11.2 校准系数相关系数≥0.996相关系数≥0.99811.4 基体加标甲基汞75%~120%乙基汞70%~120%甲基汞80%~120%乙基汞80%~120% 蒸馏仪(选配)加热范围:常温至150.0℃，加热精度:+1.0 ℃，过热自动断电等功能，确保烷基汞可被完全蒸馏 冷凝模块可以实现自动降温及控温功能，水浴温度≤5°℃ 不使用冰水混合物，完全接收蒸馏后的烷基汞 样品的加热及接收孔位多达12个，满足用户对于样品量的需求 样品管、盖及管路材质均为特氟龙材质，杜绝污染。