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三甲基硅氧基三氯硅烷

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三甲基硅氧基三氯硅烷相关的仪器

  • 产品简介  可挥发性低沸点和高沸点碳氢化合物是臭氧前驱体的主要成份,也是造成光化学烟雾的主要原因之一。臭氧前驱体分析仪是应用于环境空气中C6-C12高沸点碳氢化合物和C2-C5低沸点碳氢化合物实时在线监测的仪器,能够监测的项目包括2-甲基戊烷,正己烷,苯,正庚烷,甲苯,正辛烷,乙苯,间,对-二甲苯,邻-二甲苯,1,3,5-三甲苯,1,2,4-三甲苯,1,2,3-三甲苯,乙烷,乙烯,丙烷,丙稀,异丁烷,正丁烷,异戊烷,正戊烷,反式-2-丁烯,1-丁烯,顺式-2-丁烯,1,3-丁二烯,反式-2-戊烯,1-戊烯,异戊二烯,2,2,4-三甲基戊烷等。多达几十种,沸点的跨度达300K。性能特点  采用PID和FID双检测器,确保高灵敏度和高分辨率;  内置Tenax预浓缩管或带冷却预浓缩系统,热解析或低温热解析,标准毛细预分离柱和分析柱,两台色谱的完美结合使C2-C12范围的碳氢化合物得到良好分离;  采用内置步进式采样活塞作为采样动力系统,可精确测量采样量,并可根据采样温度、压力的变化自动修正采样量,具有自动线性化功能;  电子自动控制十通阀,和气动阀比较,控制更精确灵活;  双色谱柱构成二维色谱分析系统,节省分析时间,并延长其使用寿命;  内置标准工控机,可自动控制仪器各运行参数,自动存储和处理数据结果;  人性化色谱工作站,自动控制仪器各运行参数,自动保存仪器任何时刻的重要参数信息,可随时追溯故障发生原因和发生部位,方便解决问题;  多种数据通讯协议,包括Ethernet,COM,USB及模拟和数字输入输出选项。
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  • 三甲基氯硅烷工艺装置主要由溶解釜、加料釜、反应釜、接收罐、碱液釜和渣浆釜等组成。 其主要仪表及管阀件均采用高性能产品,装置非标采用耐腐蚀材质。PLC 系统采集确保操作人员安全。 装置的整体水平要求自动化程度高,数据精确度及重复性好,安全可靠 并能长周期稳定运行
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  • 我公司为国内生产异辛烷产品服务商年销售异辛烷产品超过五千吨我们将为您提供优质的商品和满意的服务!2,2,4-三甲基戊烷,是一种有机化合物,化学式为C8H18,主要用于有机合成,也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。理化性质熔点:-107.4º C沸点:98-99º C密度:0.691(20℃)闪点:4.5℃(OC)折射率:1.391(20℃)饱和蒸气压:5.1kPa(20º C)临界压力:2.57MPa引燃温度:417º C爆炸上限(V/V):6.0%爆炸下限(V/V):1.1%外观:无色透明液体溶解性:不溶于水,混溶于庚烷、丙酮,溶于乙醚、苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二硫化碳、四氯化碳等用途主要用于有机合成,也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。储存方法储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜超过37℃,保持容器密封。应与氧化剂分开存放,切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。山东强森化工有限公司,是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。公司是集研究、生产、加工、销售为一体的制品企业,工厂占地面积大,公司具有较强的自助研发能力,拥有多项国家发明专利超强的品质保障,专业生产,多年行业经验,出厂严格把关,公司与中国石化、齐鲁石化、东岳集团、内蒙远兴集团、兖矿集团、海力集团、金岭集团丶华鲁恒升、万华集团等大型上市公司建立了长期稳固的合作关系,能够为客户提供优质的产品和服务,在行业中树立了良好的商业信誉,赢得了国内外众多客户的信赖与支持。 公司发扬“诚信、专业、团结、拼搏”的企业精神,秉承“以信为本,以诚待人,以稳求实,优质服务”的经营理念,愿与各界朋友及客户精诚合作,共创辉煌。
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  • 四氯硅烷分析氦离子色谱仪适用电子工业用气体中痕量杂质的检测,小检测浓度可达5ppb。仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用华爱公司的中心切割技术,进样阀均带有吹扫保护气路;整机采用多柱箱设计,并配备进样压力自动校正系统,不同底气的样品的进样量。产品先后荣获上海市成果转化A级项目。硅(SiHCl3)含量(体积分数)/l0-6 ≤40025二氯硅烷(SiH2Cl2)含量(体积分数)/l0-6 ≤40025甲基二氯硅烷(SiCl2CH4)含量(体积分数)/l0-6 ≤20050金属元素及其他元素含量(硼+铝)(B+Al)含量/(μg/kg) ≤——0.1(磷+砷)(P+As)含量/(μg/kg) ≤——0.3镓(Ga)含量/(μg/kg) ≤——0.5锑(Sb)含量/(μg/kg) ≤——0.5铟(In)含量/(μg/kg) ≤——0.5钙(Ca)含量/(μg/kg) ≤10.5铬(Cr)含量/(μg/kg) ≤10.5铁(Fe)含量/(μg/kg) ≤10.5钾(K)含量/(μg/kg) ≤10.5钠(Na)含量/(μg/kg) ≤10.5镍(Ni)含量/(μg/kg) ≤10.5钼(Mo)含量/(μg/kg) ≤10.5锰(Mn) 含量/(μg/kg) ≤10.5铜(Cu)含量/(μg/kg) ≤10.5镉(Cd) 含量/(μg/kg) ≤10.5钴(Co)含量/(μg/kg) ≤10.5锌(Zn)含量/(μg/kg) ≤10.5钒(V)含量/(μg/kg) ≤10.5
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  • PECVD沉积 400-860-5168转3855
    PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批处理基片(4x3” 3x4” 7x2”)。Minilock-Orion III用于有毒/发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、无定形硅和碳化硅。工艺气体:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。该系统可选配一个三极管(Triode)或电感耦合等离子(ICP)源。三极管源使得用户可以创建高密度等离子,从而控制薄膜应力。基片通过预真空室装入工艺室,其避免了与工艺室以及任意残余沉积副产品接触,从而提高了用户的安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下,从而保持反应室与大气隔绝。
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  • 北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统CPT2610-AA-NOX氮氧化物监测报警器采用进口高精度电化学传感器,具有高响应度,重复性,高精确度和操作简便等优点,符合国家相关标准要求。先进的气体检测技术,加之多路双显示声光报警功能, 可满足用户对氮氧化物气体排放实时监控的需求,同时为环境治理政策的制定提供有力的数据支持及预警等服务。北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统配置参数:1、1个NO检测探头,电化学式测量原理,测量范围0 ' 300ppm精度土1.5%F.S.响应时间30s输出4-20mA, 24VDC供电IP65防护,带墙装支架 2、1个NO2检测探头,电化学式测量原理,测量范围0~30ppm, 精度士1.5%F.s响应时间30s,输出4-20mA, 24VDC供电,IP65防护,带墙装支架: 3、1台2通道控制器,用于连接上述2个检测探头信号,为检测探头提供24VDC电源,带现场显示屏幕,输入:两路4-20mA, 输出:4-20mA两路超限继电器报警1路故障继电器报警,供电电源220VAC, IP65防护,带墙装支架,带2根5m与探头连接的电缆。4、XS3.5-2 双路双显示报警,报警器有数字显示和声光报警功能,也可以驱动其他报警 氮氧化物监测报警系统应用:矿井,煤井,输气燃气、能源、石油、化工、冶金甲烷,乙烷,天然气,设备泄露监测食品冷藏氨气、佛里昂泄露,臭氧,过氧化氢;PCBs,油脂,纸浆和造纸厂变压器等存在易燃、易爆、毒性气体的危险场所海运,空运,车辆物流安全,钻井,输油,炼油厂,石化厂和化工厂、发电厂含磷毒剂,战剂探测,炸药,推进剂等探测石油石化、化工厂、冶炼厂、钢铁厂、煤炭厂、热电厂、自来水厂、医药车间、烟草公司、大气环境监测、科研院校、楼宇建设、消防报警、污水处理、工业过程化控制、锅炉房、垃圾处理厂、地下隧道、输油管道、加气站、地下管网检修、室内空气质量检测、食品加工、杀菌消毒、冷冻仓库、农药化肥、杀虫剂生产等。北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统技术参数:采样方式: 自然扩散式环境湿度: ≤95%RH相对湿度(无冷凝)防爆等级: 防爆等级EXdⅡCT6,防护等级IP65 电源电压: DC12V、24V,220V AC可选模拟输出: 4~2mA /0~20mA、0~2.5V可选仪器重量: 300~500g安装方式: 壁挂式安装或螺纹安装安装螺纹: T型变送器带G1”连接口使用电缆: 四线制/三线制,0.2mm2以上铜线屏蔽电缆环境温度: CPT2610/20:-20~50℃;CPT2312/2410:-30~70℃;GD2290/4100:-10~45℃电流输出蕞大负载: RL=(Vs-2.7V)/0.020mA其他可检测气体: 氢气氨气氧气氟气丁硫醇溴气氢化锗酯酸乙烯酯乙炔乙醇乙烯丙烯磷酰氯丁胺异丙胺1-3-丁二烯二甲胺三甲胺二乙胺乙硫醇乙硼烷甲醇异丙醇二甲基硫醚砷化硼硫化氢氰化氢溴化氢氯化氢氯气磷化氢二甲基乙胺乙烯基氯一氧化氮一氧化碳二氯硅烷二氧化氯乙醛二氧化硫环氧乙烷异丙硫醇三氯化硼三氯化磷三氯硅烷三甲硼烷甲醛四氯化锡四氯化钛一甲胺四氯化硅四氢噻吩过氧化氢n-丙基硫醇硅烷二氧化氮亚硫酰二氯五氯化锑环氧丙烷甲硫醇吗啉三乙胺氢化硒甲苯二甲苯
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  • 土壤和沉积物 挥发性有机物的测定-顶空气相色谱质谱法——北分三谱为贯彻落实《中华人民共和国环境保护法》,保护环境,保障人体健康,规范环境监测工作,北分三谱推出《土壤和沉积物 挥发性有机物的测定 顶空/气相色谱-质谱法》系统解决方案一、原理在一定的温度条件下,顶空瓶内样品中挥发性组分向液上空间挥发,产生蒸气压,在气液固三相达到热力学动态平衡,气相中挥发性有机物进入气相色谱分离后,用质谱进行检测,通过与标准物质保留时间和质谱图相比较进行定性,内标法定量。二、仪器2.1 气相色谱仪:具有毛细管分流/不分流进样口,可程序升温;2.2 质谱仪:具70eV的电子轰击(EI)电离源,具NIST质谱图库、手动/自动调谐、数据采集、定量分析及谱库检索等功能;2.3 毛细管柱:60m×0.25mm×1.4um(6%腈丙苯基、94%二甲基聚硅氧烷固定液);2.4 北分三谱AHS-20A plus顶空进样器:带顶空瓶、PTFE隔垫、瓶盖2.5 其他相关仪器三、典型谱图: SCAN模式下的总离子流图:图1 100 ng/L 35种挥发性有机物在SCAN模式下的总离子图 1. 氯乙烯;2. 1,1-二氯乙烯;3. 二氯甲烷;4. 反-1,2-二氯乙烯;5. 1,1-二氯乙烷;6. 顺-1,2-二氯乙烯;7. 氯仿;8. 1,1,1-三氯乙烷;9. 四氯化碳;10. 1,2-二氯乙烷;11. 苯;12. 氟苯;13.三氯乙烯;14. 1,2-二氯丙烷;15. 一溴二氯甲烷;16. 甲苯-D8;17. 甲苯;18. 1,1,2-三氯乙烷;19. 四氯乙烯;20. 二溴氯甲烷;21. 1,2-二溴乙烷;22. 氯苯-D5;23. 氯苯;24. 1,1,1,2-四氯乙烷;25. 乙苯;26. 间,对-二甲苯;27. 邻二甲苯;28. 苯乙烯;29. 溴仿;30. 4-溴氟苯;31. 1,1,2,2-四氯乙烷;32. 1,2,3-三氯丙烷;33. 1,3,5-三甲基苯;34. 1,2,4-三甲基苯;35. 1,3-二氯苯;36. 1,4-二氯苯-D4;37. 1,4-二氯苯;38. 1,2-二氯苯;39. 1,2,4-三氯苯;40. 六氯丁二烯。 SIM图: 图2 100 ng/L 35种挥发性有机物的SIM图 1. 氯乙烯;2. 1,1-二氯乙烯;3. 二氯甲烷;4. 反-1,2-二氯乙烯;5. 1,1-二氯乙烷;6. 顺-1,2-二氯乙烯;7. 氯仿;8. 1,1,1-三氯乙烷;9. 四氯化碳;10. 1,2-二氯乙烷;11. 苯;12. 氟苯;13.三氯乙烯;14. 1,2-二氯丙烷;15. 一溴二氯甲烷;16. 甲苯-D8;17. 甲苯;18. 1,1,2-三氯乙烷;19. 四氯乙烯;20. 二溴氯甲烷;21. 1,2-二溴乙烷;22. 氯苯-D5;23. 氯苯;24. 1,1,1,2-四氯乙烷;25. 乙苯;26. 间,对-二甲苯;27. 邻二甲苯;28. 苯乙烯;29. 溴仿;30. 4-溴氟苯;31. 1,1,2,2-四氯乙烷;32. 1,2,3-三氯丙烷;33. 1,3,5-三甲基苯;34. 1,2,4-三甲基苯;35. 1,3-二氯苯;36. 1,4-二氯苯-D4;37. 1,4-二氯苯;38. 1,2-二氯苯;39. 1,2,4-三氯苯;40. 六氯丁二烯。   北京北分三谱仪器有限责任公司是一家集研发、生产、销售和服务于一体的专业分析仪器生产厂家。主要生产:气相色谱仪、顶空进样器、热解析仪、解析管老化仪、电子皂膜流量计、氢气发生器、空气发生器、氮气发生器等产品。公司拥有一批长期从事色谱仪开发及分析应用、维修经验丰富的工cheng师,在色谱类仪器的维护、维修、和调试等方面的技术力量雄厚。近年来,我们已为国内著ming高等院校、科研单位、生产企业及检验检测机构提供了大量的分析仪器和设备及完整的系统解决方案。正是因为高品质的产品、专业的应用及完善的售前售后服务,我们赢得了广大用户的支持与信赖,具有良好的声誉。 北京北分三谱仪器有限责任公司技术部
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  • T-BD5-PID2290 –TVOC在线管道式有机气体检测仪 原理: PID电离势10.6eV 的所有有机化合物探测 在线管道式有机气体检测仪应用:环境督察、环境指标 VOC、VOCs or TVOC医院垃圾、医疗废弃物、工业恶臭味检测、污染源/排放口监测含磷毒剂,战剂探测、炸药、推进剂等探测、刺激性化学物质探测人类动物呼吸及排泄气体检测、农药、杀虫剂等探测、实验室烟雾探测泄露探测、毒气探测、气体安全探测、残余气体探测、毒榀等危险品探测制冷剂、灭火剂、绝缘介质挥发物检测、可燃气检测工作环境达标、有机毒气探测、劳动安全检测在线管道式有机气体检测仪用途: 各种气体泄露探测空气背景单一的多种有机物单气浓度测试个别无机物气体浓度测试TVOC分析主要探测气体:异 丁 烯: 5ppb~50/1000ppm;100ppb~500/6000ppm;甲 苯: 10ppb~100/2000ppm;200ppb~1000/12000ppm;其他气体: 乙醛,丙酮,氨,苯,丁二烯,柴油,乙醇,乙烯,汽油,己烷,喷气机燃料(JP8),煤油,甲基乙基酮,萘,苯乙烯,甲苯,松节油,氯乙烯,二甲苯等。在线管道式有机气体检测仪技术参数:灵 敏 度: 100 ppb(异丁烯)线性范围: 0~300 ppm重复精度: ±5%相对零点漂移: 50%(可调零消除) 蕞大零点漂移预热时间: 5 min温度范围: -40~40°C(本安);40~60°C(非本安)湿度范围: 0~95%,非结露响应时间: T90:3secs在线管道式有机气体检测仪检测气体: 氢气氨气氧气氟气丁硫醇溴气氢化锗酯酸乙烯酯乙炔乙醇乙烯丙烯磷酰氯丁胺异丙胺1-3-丁二烯二甲胺三甲胺二乙胺乙硫醇乙硼烷甲醇异丙醇二甲基硫醚砷化硼硫化氢氰化氢溴化氢氯化氢氯气磷化氢二甲基乙胺乙烯基氯一氧化氮一氧化碳二氯硅烷二氧化氯乙醛二氧化硫环氧乙烷异丙硫醇三氯化硼三氯化磷三氯硅烷三甲硼烷甲醛四氯化锡四氯化钛一甲胺四氯化硅四氢噻吩过氧化氢n-丙基硫醇硅烷二氧化氮亚硫酰二氯五氯化锑环氧丙烷甲硫醇吗啉三乙胺氢化硒甲苯二甲苯乙基丙烯酸酯1-氯-2.3-环氧丙烷甲基丙烯酸甲酯二乙胺基乙醇
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  • 土壤和沉积物 挥发性有机物的测定-顶空气相色谱质谱法——北分三谱为贯彻落实《中华人民共和国环境保护法》,保护环境,保障人体健康,规范环境监测工作,北分三谱推出《土壤和沉积物 挥发性有机物的测定 顶空/气相色谱-质谱法》系统解决方案一、原理在一定的温度条件下,顶空瓶内样品中挥发性组分向液上空间挥发,产生蒸气压,在气液固三相达到热力学动态平衡,气相中挥发性有机物进入气相色谱分离后,用质谱进行检测,通过与标准物质保留时间和质谱图相比较进行定性,内标法定量。二、仪器2.1 气相色谱仪:具有毛细管分流/不分流进样口,可程序升温;2.2 质谱仪:具70eV的电子轰击(EI)电离源,具NIST质谱图库、手动/自动调谐、数据采集、定量分析及谱库检索等功能;2.3 毛细管柱:60m×0.25mm×1.4um(6%腈丙苯基、94%二甲基聚硅氧烷固定液);2.4 北分三谱AHS-20A plus顶空进样器:带顶空瓶、PTFE隔垫、瓶盖2.5 其他相关仪器三、典型谱图: SCAN模式下的总离子流图: 图1 100 ng/L 35种挥发性有机物在SCAN模式下的总离子图 1. 氯乙烯;2. 1,1-二氯乙烯;3. 二氯甲烷;4. 反-1,2-二氯乙烯;5. 1,1-二氯乙烷;6. 顺-1,2-二氯乙烯;7. 氯仿;8. 1,1,1-三氯乙烷;9. 四氯化碳;10. 1,2-二氯乙烷;11. 苯;12. 氟苯;13.三氯乙烯;14. 1,2-二氯丙烷;15. 一溴二氯甲烷;16. 甲苯-D8;17. 甲苯;18. 1,1,2-三氯乙烷;19. 四氯乙烯;20. 二溴氯甲烷;21. 1,2-二溴乙烷;22. 氯苯-D5;23. 氯苯;24. 1,1,1,2-四氯乙烷;25. 乙苯;26. 间,对-二甲苯;27. 邻二甲苯;28. 苯乙烯;29. 溴仿;30. 4-溴氟苯;31. 1,1,2,2-四氯乙烷;32. 1,2,3-三氯丙烷;33. 1,3,5-三甲基苯;34. 1,2,4-三甲基苯;35. 1,3-二氯苯;36. 1,4-二氯苯-D4;37. 1,4-二氯苯;38. 1,2-二氯苯;39. 1,2,4-三氯苯;40. 六氯丁二烯。 SIM图: 图2 100 ng/L 35种挥发性有机物的SIM图 1. 氯乙烯;2. 1,1-二氯乙烯;3. 二氯甲烷;4. 反-1,2-二氯乙烯;5. 1,1-二氯乙烷;6. 顺-1,2-二氯乙烯;7. 氯仿;8. 1,1,1-三氯乙烷;9. 四氯化碳;10. 1,2-二氯乙烷;11. 苯;12. 氟苯;13.三氯乙烯;14. 1,2-二氯丙烷;15. 一溴二氯甲烷;16. 甲苯-D8;17. 甲苯;18. 1,1,2-三氯乙烷;19. 四氯乙烯;20. 二溴氯甲烷;21. 1,2-二溴乙烷;22. 氯苯-D5;23. 氯苯;24. 1,1,1,2-四氯乙烷;25. 乙苯;26. 间,对-二甲苯;27. 邻二甲苯;28. 苯乙烯;29. 溴仿;30. 4-溴氟苯;31. 1,1,2,2-四氯乙烷;32. 1,2,3-三氯丙烷;33. 1,3,5-三甲基苯;34. 1,2,4-三甲基苯;35. 1,3-二氯苯;36. 1,4-二氯苯-D4;37. 1,4-二氯苯;38. 1,2-二氯苯;39. 1,2,4-三氯苯;40. 六氯丁二烯。   北分三谱GC-9860型高端气相色谱仪是在GC-9660的基础上升级换代产品,外观大气、结构合理的设计,同时加载了我公司自主研发的中英文显示技术。使其的自动化水平和整体性能得到了大幅提高。高稳定、高灵敏的微电流放大技术使FID检测限显著提高,新型的热导检测器灵敏度提高5倍。缩短了国产机型与进口机型的差距,能满足石油、化工、制药、食品、环保、疾控、科研院校以及质检部门。主要技术指标: ● 中、英文切换显示技术,5.7寸液晶大屏幕(320*240)。多达20个显示界面,信息量丰富,可储存20套色谱分析数据,并可随时调用。 ● 工业化设计外形,新颖大方、美观实用,结构合理,操作舒适。 ● 断气保护功能,大限度的保护色谱柱及热导池、电子捕获检测器等。 ● 八阶线性程序升温功能及智能双后开门设计,真正实现了近室温控制,控温精度高达±0.1℃满足宽范围分析要求。 ● 完善的超温热保护及铂电阻开路、短路报警功能,保证仪器不受损坏。 ● 自诊断功能及故障中文提示,使用户方便的知道问题原因及部位。 ● 采用的FLASH记忆系统,使数据保护不再依赖于电池。 ● 微机控制FID检测器实现了自动点火功能。 ● 高精度稳压稳流模式使气流精密稳定,实现了多路气路控制系统。 ● 高性能的毛细管汽化室,实现了真正意义上的分流/不分流进样系统。 ● 能同时安装1-4个检测器。可以双FID或双TCD或双ECD或双NPD运行。TCD带有双路柱后补充气,故可单柱、双柱、毛细管柱使用。 ● 能同时安装运行1-3套毛细管柱并可同时运行3个检测器。1台仪器相当于3台(柱室公用)。或双FID双毛。双TCD双毛。双TCD同时工作,互不影响,载气可相互独立。避免了更换色谱柱及检测器的繁琐。 ● 可实现检测器的串、并联使用,通过事件控制,进行智能自动转换。 ● 仪器可安装转化炉、热解吸仪、自动进样器、自动顶空进样器、裂解器等多种进样方式。可定时自动采样,实现自动在线分析。 ● 仪器特别适用于各类企业、技术监督局、环境监测、卫生防疫、大学院校、科学研究等部门。 技术参数: ●外型尺寸:520×480×500mm (长×高×宽) ●柱箱尺寸:260×250×150mm (长×高×深) ●色谱柱安装跨度:152.4mm (6英寸标准接口) ●色谱柱:填充柱外径 3 ~ 5mm ( 金属柱或玻璃柱) ●仪器重量:50Kg ●大功率:2500W ●电压:220±10% ●柱箱控温范围:室温加5℃-400℃ (以1℃增量任设) ●温度精度:不大于±0.1℃ ●温度梯度:±1%(温度范围100℃-350℃)程序升温 ●升温速率:0.1-50℃/min(以0.1℃增量任设) ●时间设定:6000(min) ●程序阶数:8阶检测器技术指标: 氢火焰离子化检测器(FID) ● 检测限:Mt≤2×10-12g/s (正十六烷); ● 噪音:≤2×10-14A(0.02mv) ● 漂移:≤1.5×10-13A/30min(0.15mv/0.5h) ● 线性范围: ≥107 ● 高使用温度:≤450℃ 热导检测器(TCD) ● 灵敏度:S≥10000mV.ml/mg(正十六烷) ● 噪声:≤20μV ● 基线漂移:≤150μv/30min 电子捕获检测器(ECD) ● 检测限:≤1×10-14g/ml ● 线性范围:104 ● 放射源:63Ni 火焰光度检测器(FPD) ● 检测限:(P)≤1×10-12g/s;(S)≤1×10-12g/s ● 线性范围:105(P) 103(S) 氮磷检测器(NPD) ● 检测限:(N)≤5×10-13g/s;(S)≤5×10-13g/s  北京北分三谱仪器有限责任公司是一家集研发、生产、销售和服务于一体的专业分析仪器生产厂家。主要生产:气相色谱仪、顶空进样器、热解析仪、解析管老化仪、电子皂膜流量计、氢气发生器、空气发生器、氮气发生器等产品。公司拥有一批长期从事色谱仪开发及分析应用、维修经验丰富的工cheng师,在色谱类仪器的维护、维修、和调试等方面的技术力量雄厚。近年来,我们已为国内著ming高等院校、科研单位、生产企业及检验检测机构提供了大量的分析仪器和设备及完整的系统解决方案。正是因为高品质的产品、专业的应用及完善的售前售后服务,我们赢得了广大用户的支持与信赖,具有良好的声誉。 北京北分三谱仪器有限责任公司技术部
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  • MERCK默克Supelco色谱科固相微萃取萃取头sigma西格玛SPME纤维组件二乙烯基苯/羧基/聚二甲基硅氧烷 (DVB/CAR/PDMS 50/30UM)SPME纤维头57328-U手柄57329-U自动DVB/CAR/PDMS 50/30UM SPME纤维头组件二乙烯基苯/羧基/聚二甲基硅氧烷固相微萃取头探针名称:SPME固相微萃取萃取头规格:DVB/CAR/PDMS 50/30μm 3支/盒品牌:MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛货号:57328-U/57329-U※产品详细说明※:一、SPME固相微萃取技术概述SPME是一种集采样、萃取、浓缩和进样于一体的样品前处理技术,它利用涂有高分子薄膜的熔融石英纤维来吸附样品中的挥发性或半挥发性有机物,然后直接进行气相色谱(GC)或液相色谱(HPLC)等分析。这种技术具有操作简便、无需溶剂、灵敏度高、选择性好等优点,被广泛应用于环境分析、食品安全、药物检测等领域。二、SPME固相微萃取纤维头57328-U和57329-U的详细信息1. 产品型号与品牌型号:57328-U和57329-U品牌:Supelco(MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛)2. 涂层与规格涂层:两者均采用二乙烯基苯(DVB)/羧基(CAR)/聚二甲基硅氧烷(PDMS)复合涂层,涂层厚度为50/30μm。这种复合涂层结合了DVB的高吸附能力、CAR的选择性和PDMS的通用性,适用于多种化合物的萃取。规格:纤维头长度通常为1cm(除非特别注明为2cm),可伸缩于不锈钢细管内。3. 使用方式57328-U:手动式,适用于与手动进样手柄配合使用,进行气相色谱分析。57329-U:自动式,适用于与自动进样系统配合使用,实现自动化分析。4. 应用范围两者均广泛用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)的分析,包括但不限于以下领域:生物药物分析:如血清、血液、血浆、尿液等生物样本中的药物和代谢产物分析。饮品分析:果汁、酒等饮品中的风味成分和添加剂分析。农残分析:烟草、蔬菜、水果、谷物等农产品中的农药残留分析。环境分析:水样中的有机物、气体硫化物和挥发性有机化合物(VOCs)的检测。毒物分析:血、尿、体液中的药物和毒V品分析。三、注意事项选择合适的纤维头:根据样品的极性和吸附能力选择合适的纤维头,以确保分析结果的准确性。操作规范:在使用过程中应严格遵守操作规程,避免纤维头受损或污染。存储条件:纤维头应存放在干燥、避光、无尘的环境中,以保持其性能和稳定性。综上所述,SPME固相微萃取纤维头57328-U和57329-U是两款性能优越、应用广泛的固相微萃取工具,适用于多种化合物的分析和检测。在选择和使用时,应根据具体需求进行考虑和操作。※固相微萃取(SPME)整套装置及选配耗材※:序号、货号、名称描述①、57330-U SPME手柄(手动或自动)②、2637505 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)③、57333-U SPME专用采样台用于4ml瓶④、57357-U SPME专用采样台用于15ml瓶⑤、PC-420D SPME专用磁力加热搅拌装置⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子⑦、57332 SPME专用温度计⑧、57356-U SPME专用进样导管(岛津不可用)⑨、27136 SPME专用专用采样瓶 4ml ⑩、27159 SPME专用专用采样瓶 15ml (11)固相微萃取头(SPME萃取头), (具体信息参见SPME萃取头订购信息)※Supelco SPME萃取头(固相微萃取头)订货信息※:订货号产品名称描述产品应用手动式自动式57330-U57331SPME手柄和萃取头连用573185731975um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(MW30-225)用于气体和小分子量化合物57334-U57335-U85um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(高保留)用于气体和小分子量化合物57302573037um PDMS 固相微萃取头,3支 (MW 125-600)用于非极性大分子量化合物573085730930um PDMS 固相微萃取头,3支用于非极性半挥发性化合物57300-U57301100um PDMS固相微萃取头,3支(MW 60-275)用于挥发性物质57310-U5731165um PDMS/DVB固相微萃取头,3支(MW 50-300)用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物57326-U57327-U65um PDMS/DVB固相微萃取头(不含弹簧2cm),3支用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物(MW 50-300)573045730585um,Polyacrylate, 固相微萃取头,3支 (MW 80-300)用于极性半挥发性化合物57328-U57329-U50/30um,DVB/CAR/PDMS,Stableflex固相微萃取头,3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)/5731760um PDMS/DVB 固相微萃取头(用于HPLC),3支用于胺类或极性化合物57348-U/50/30um DVB/Car on PDMS固相微萃取头(2cm),3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)5730657307SPME萃取头套装1用于挥发性和半挥发性物质85umPA,100um PDMS,7umPDMS各一支57320-U57321-USPME萃取头套装2用于水中挥发性或极性有机物75umCAR/PDMS.65umPDMS/DVB,85um PA各一支57323-USPME萃取头套装3用于SPME/HPLC分析60um PDMS/DVB,85um PA,100um PDMS各一支57324-U57325-USPME萃取头套装4用于香味物质分析100um PDMS,65um PDMS/DVB,75um CAR /PDMS各一支萃取头符号说明:CAR Carboxen CW CarbowaxDVB Divinylbenzene (二乙烯苯) PA Polyacrylate (聚丙烯酸酯)PDMS Polydimethylsiloxane (聚二甲基硅烷)※SPME固相微萃取的典型应用※:* 表面活性剂* 环境水样* 食品、香精、香料* 法庭样品* 血、尿和体液中药物* 聚合物和固样中痕量杂质(顶空方式)* 药物中残留溶剂* 气体硫化物及挥发物(VOC)美国Supelco公司专=利产品-固相微萃取(Solid Phase Micro Extraction),1994年获美国匹兹堡分析仪器会议R&D100项革新大奖,是一种应现代仪器的要求而产生的样品前处理新技术,几乎克服了以往一些传统样品处理技术的所有缺点,集采样、萃取、浓缩、进样于一体,便于携带,真正实现样品的现场采集和富集,能够与气相、气相-质谱、液相、液相-质谱仪联用,有手动或自动两种操作方式,让更多的分析工作者从重复、烦琐的操作中解脱出来。广泛应用于环保及水质处理、临床药理、公=安案件分析、制药、化工、国防等领域。 美国Supelco/Merck/Sigma/色谱科固相微萃取萃取头(DVB/CAR/PDMS 50/30um)57328-U/57329-U C3-C20大范围分析固相微萃取(SPME)非常小巧,状似一只色谱注射器,由手柄(Holder)和萃取头或纤维头(Fiber)两部分构成。萃取头是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有不同色谱固定相或吸附剂的熔融石英纤维头,纤维头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品。
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  • 仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用华爱公司的中心切割技术,进样阀均带有吹扫保护气路;整机采用多柱箱设计,并配备进样压力自动校正系统 二氯硅烷氦离子色谱仪仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用华爱公司的中心切割技术,进样阀均带有吹扫保护气路;整机采用多柱箱设计,并配备进样压力自动校正系统,不同底气的样品的进样量。产品先后荣获上海市成果转化A级项目、上海市重点新产品、上海市火炬计划和2009科学仪器产品等称号。 项目名称指标三氯氢硅(SiHCl3 )含量(体积分数)/l0-6 ≤ 10(一氯硅烷+氯化氢)含量(SiH3Cl+HCl)含量”,以氯化氢计(体积分数)/l0-6 ≤50氮(N2)含量(体积分数)/l0-6 ≤1(氧+氩)(O2+Ar)含量(体积分数)/l0-6 ≤1一氧化碳(CO)含量(体积分数)/l0-6 ≤1氢(H2)含量(体积分数)/l0-6 ≤10二氧化碳(CO2)含量(体积分数)/l0-6 ≤1总烃(THC)含量,以甲烷(CH4)计(体积分数)/l0-6 ≤1金属元素及其他元素含量(硼+铝)(B+Al)含量/(μg/kg) ≤0.1(磷+砷)(P+As)含量/(μg/kg) ≤0.3镓(Ga)含量/(μg/kg) ≤0.1锑(Sb)含量/(μg/kg) ≤0.1铟(In)含量/(μg/kg) ≤0.1钙(Ca)含量/(μg/kg) ≤1铬(Cr)含量/(μg/kg) ≤1铁(Fe)含量/(μg/kg) ≤5钾(K)含量/(μg/kg) ≤1钠(Na)含量/(μg/kg) ≤0.2镍(Ni)含量/(μg/kg) ≤1钼(Mo)含量/(μg/kg) ≤0.1锰(Mn) 含量/(μg/kg) ≤0.2铜(Cu)含量/(μg/kg) ≤0.2镉(Cd) 含量/(μg/kg) ≤0.5钴(Co)含量/(μg/kg) ≤0.5锌(Zn)含量/(μg/kg) ≤0.1
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  • GASTEC快速气体检测管无论何时由于不用分析仪器和化学药剂,省略了测量前的准备工作,无论何时都可以进行测定。无论何地极为小巧便于携带,只要有微量的空气就可以进行测定,最适合于现场测定。无论何人测定的操作非常简单,无论专业人士或非专业人士。多种气体GASTEC快速气体检测管可以检测多达300余种气体。检测快速测定的结果几分钟就可得到,可以立即转入下一步操作。过程安全日本GASTEC快速气体检测管不用电源,热源,不产生火花,即使有易燃易爆的气体存在,也可以确保操作安全。选型指南型号被测物质分子式可检测范围 ppm134四氯化碳CCl40.5-60134L0.25-111351,1,1- 三氯乙烷(甲基氯仿)CH3CCI3100-2000135L6-900136H甲基溴CH3Br10-600136L2.5-200136LA1-36136LL0.1-3.0137氯仿CHCl34-400137LA0.5-30137LL0.3-4.5138二氯甲烷CH2Cl220-500138L4-150
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  • GC-9280型硅烷分析氦离子化气相色谱仪适用于高纯气体和电子工业用气体中痕量杂质的检测,仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用普瑞公司的中心切割技术,进样阀均带有吹扫保护气路;整机采用多柱箱设计,并配备进样压力自动校正系统,保证不同底气的样品的进样量。 硅烷是重要的新材料产品,广泛应用于LCD平板显示、半导体、太阳能等行业,随着中国半导体等行业的发展,国内对硅烷的需求与日俱增,但是由于国内硅烷生产的技术处于起步阶段,如何对硅烷的纯度进行分析是各个生产厂商需要面临的一个课题 众所周知,高纯气体的分析是一个复杂的过程,也是色谱分析的难点之一;硅烷由于其物理性质的特殊性,其分析的难度可谓难上加难,不仅需要高灵敏的检测器,还要解决硅烷遇氧燃烧的问题。GC-9280氦离子化气相色谱仪克服了硅烷分析过程中的众多技术难点,采用高灵敏度的氦离子化检测器,配备专用的硅烷取样系统,很好的完成了硅烷中痕量的ppb级杂质的分析。 适用的标准:GB/T 15909-2009《电子工业用气体 硅烷》 GC-9280硅烷分析氦离子化气相色谱仪适用于高纯气体和电子工业用气体中痕量杂质的检测,最小检测浓度可达5ppb。仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用普瑞公司中心切割技术,所配备的进样阀均为带有吹扫保护气路的进口阀;整机采用多柱箱设计,不同色谱柱可单独控温,优化了分离条件,并且方便对不同色谱柱分别进行老化处理,方便仪器的维护;仪器配备进样压力自动校正系统,克服了不同底气因分子量不同而造成的进样量多导致的分析误差。 GC-9280硅烷分析氦离子化气相色谱仪的性能优势: 气体工业是国民经济的基础行业,是工业生产的“血液”,随着国民经济的快速发展,对高纯气体和电子工业用气体的需求量也快速增长。痕量杂质的检测是生产高纯气体和电子工业用气的关键环节,而痕量杂质的分析一直是色谱分析的难点,传统的热导等色谱检测器均无法胜任高纯的气体分析。 脉冲放电氦离子化检测器(PDHID)是一种灵敏度极高的通用型检测器,对几乎所有无机和有机化合物均有很高的响应,特别适合高纯气体的分析,能够检测至ng/g(ppb)级的检测器。 仪器的应用范围:本仪器主要应用于高纯硅烷气体中微量杂质的分析,具体内容详见下表: 气体种类需分析的杂质种类HeH2O2ArN2COCH4CO2C2C3SimHn仪器的检测限(PPb)153010501010303050 系统依据的相关标准: 1、电子气标准GB/T 15909-2009《电子工业用气体 硅烷》2.仪器的详细配置(供货明细):仪器名称型号规格厂家单位数量备注氦离子化气相色谱仪GC-9280PDD北京普瑞仪器台1配备PDHID氦离子化检测器多柱箱系统北京普瑞仪器套1可以根据分析的需要设置不同的柱箱温度,以满足样品分离的需要中心切割与反吹系统:吹扫十通阀2只 吹扫六通阀3只. VALCO 套 1配备3个带吹扫保护气路的原装进口阀:一次进样,无需更换色谱柱即可完成对氢、氧、氮、氩、一氧化碳、甲烷、二氧化碳等多种样品中痕量杂质的分析。专用毛细管色谱分离系统VALCO套1用于分离硅烷中的微量:甲硅醚;甲基硅烷;乙硅烷色谱柱:Hayesep -QHayesep -DB5A 硅烷毛细管柱VALCO根61.可分离样品中的H2、O2(Ar)、N2、CO、CO2、CH4等杂质2.CO拖尾处理技术硅烷取样系统普瑞仪器套1专为高纯硅烷色谱分析设计含吹扫气路与取样气路。载气(He)纯化器:HP-2VALCO台1He中杂质含量≤10ppb载气过滤器VALCO个12μm孔径样品过滤器VALCO个12μm孔径标准气体:(10PPM)普瑞仪器套1含: H2, O2, Ar, N2,CO, CH4, CO2高纯氦气:40L用户自备瓶1+1纯度不低于99.999%高纯氮气:40L用户自备瓶1作为VALCO吹扫阀的保护及驱动气使用无死体积专用取样阀带吹扫1/8”口普瑞仪器个4取样时防止空气渗入,带放空结构设计载气专用两级不锈钢减压阀1/16”口HORO个2配:进口载气四通切换阀1/16”口只1配:进口高纯气专用色谱工作站普瑞仪器套1自动控制切割、反吹、进样等过程;并实现对色谱主机的操作控制电脑与打印机联想/HP台1可另选配安装调试费:免费技术服务及培训费:免费(1.发货前 2.安装调试中 3.公司定期办培训班时.)随机备品、备件、工具、材料费(附件四):随机 GC-9280氦离子化气相色谱仪仪器特点 中心切割技术,实现气体全分析: GC-9280氦离子化气相色谱仪采用多阀多柱的中心切割与反吹技术,该系统由多个吹扫型十通阀及多根色谱联合组成,通过工作站设置的时间程序自动控制其进样、切换、切割与反吹等过程。 吹扫型十通阀 GC-9280-HG所配备的均为原装进口VICI生产的带保护气路的吹扫型十通阀,阀平面始终处于载气的氛围中,避免进样和切换时空气渗透到样品之中,大大提高检测灵敏度和准确性。 经特殊加工的色谱柱技术(1)色谱柱管材采用316L不锈钢材料,且管材内壁均经过钝化处理,防止吸附和一氧化碳拖尾等问题的产生(2)色谱柱担体均经过特殊处理,避免氧吸附等问题的产生(3)预切柱采用微型填充柱技术,全面改善样品的分离,兼顾分离、稳定与快速 多柱箱分离系统 气体样品的形式多种多样,同时杂质种类繁多,需要多根不同的色谱柱联用来完成气体样品中的所有杂质的分离。由于不同色谱柱的最佳工作温度不尽相同,在同一个柱箱中很难找到同时适合不同色谱柱工作的工作温度。GC-9280采用多柱箱设计,有效解决了不同色谱柱需要不同工作温度的难题。 在仪器的日常维护中,由于5A分子筛等不同担体的色谱柱的活化温度各不相同,如果在同一柱箱中进行老化需要将不耐受高温的色谱柱拆下来,然后分别进行活化。GC-9280的多柱箱设计可以有效解决上述问题,不同的色谱柱可以在不同柱箱中分别活化,避免了日常仪器维护工作中需要拆装色谱柱的问题。 HP-2氦气纯化器: GC-9280采用高纯氦气为载气,氦气的纯度直接影响到整个仪器对杂质的检测灵敏度。试验证明,高纯气体分析所用载气的纯度至少比气体样品的本底纯度高一个数量级。 HP-2型氦气纯化器是VICI公司生产的一款专载气纯化器,其纯化基质是一种无挥发性的吸附性合金,吸附剂粒子表面有一层氧化膜需通过加热活化,活化过程必须在真空或惰性气体环境下完成,这样可允许氦气在其间自由扩散,防止氧气纯化层的形成,又可以进行杂质气体的吸附。HP的吸附剂材料具有良好的热稳定性,包括两个温度控制范围。可纯化气体:He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn最大操作压力:1000Psi去除气体:H2、O2、N2、CO、CO2、CH4、H2O、NO、NH3、CF4等残留浓度:≤10ppb 进样压力校正系统 传统的色谱仪采用在进样阀出口处控制流量的办法来控制定量管内的进样体积,试验证明这种方法有着很大的分析误差 以分析高纯氢气为例:标准气是配置在氦气中的六种杂质,而样品气是在氢气中的六种杂质;由于氦气和氢气的分子量不同,从而造成了在相同流量下的进样量是不的情况 GC-9280配备压力校正系统,克服因底气不同造成的进样量不的问题,确保数据的准确性。 无死体积取样阀 GC-9280配备了无死体积的专用取样阀,采用带吹扫保护的取样方式,有效的避免了空气残留的问题,将取样过程对分析的影响降至低的水平。 载气专用减压阀 普通减压阀由于大量死体积的存在,直接影响到经减压阀输出后的载气纯度,造成载气中的本底杂质浓度很高,从而影响到整个系统的检测限。 GC-9280氦离子化气相色谱仪配备具有两级稳压功能的全不锈钢载气减压阀,大大提高了压力稳定性,确保基线的稳定,同时也降低了阀体内的死体积,进一步提高检测灵敏度。
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  • 什么是硅烷气体硅烷即硅与氢的化合物,是一系列化合物的总称,包括甲硅烷( SiH4) 、乙硅烷( Si2H6) 和一些更**的硅氢化合物。目前应用**多的是甲硅烷。一般把甲硅烷简称做硅烷。硅烷作为一种提供硅组分的气体源,可用于制造高纯度多晶硅、单晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、异质硅、各种金属硅化物。 因其高纯度和能实现精细控制,已成为许多其他硅源无法取代的重要特种气体。硅烷广泛应用于微电子、光电子工业, 用于制造太阳电池、平板显示器、玻璃和钢铁镀层, 并且是迄今世界上**的大规模生产粒状高纯度硅的中间产物。硅烷的高科技应用还在不断出现, 包括用于制造**陶瓷、复合材料、功能材料、生物材料、高能材料等等,成为许多新技术、新材料、新器件的基础。硅烷又以它特有的自燃、爆炸性而著称。硅烷有非常宽的自发着火范围和极强的燃烧能量,决定了它是一种高危险性的气体。主要是针对化工厂、实验室,危化品仓库等有限空间研发检测气体进行优化后的一款专用的在线固定式检测仪。它能将现场检测到的有毒有害气体浓度,转换为对应的标准信号(标准信号种类选择请参考技术参数表),然后将信号传输到 PLC、DCS、报警控制主机等上位机进行统一显示、管理和控制,从而组成功能强大的智能化气体检测报警控制系统。该设备内置继电器,可控制外围声光报警器、风机、电磁阀等设备。如该设备连入我司服务器,可实现远程设置报警值和远程标定等功能,节省后期维护成本。广州市诺达电子有限公司以专业、负责的态度致力于为客户提供与环境匹配的检测产品和服务。 主要特点:★速核系统:采用高精度32位高速微处理器,**Epsion数据处理系统,速测危害气体,高效预警毒气泄漏; ★多级标定:业内智能化多级校准技术,多重滤波技术,更精准更快速地反馈现场浓度值;★自动标定:通入实际标气,无需标定员操作,**智能识别标定;★稳定性超强:经过严格的进料筛选工序,及行业经验十几年的研发人员匠心打造,抗EMC、EMI干扰,大幅度提高**侦察兵的可靠性;★多结构的通讯方式:支持4-20mA与RS485单路或多路同时通讯,有线与内置无线433M/GPRS等无线多路通讯(选配);★规范标准:JJF 1363-2012,JJF 1368-2012,JJF 1421-2013,JJF 1364-2012 GB3836-2010,GB 12476.5-2013 技术规格参数及气体种类:检测气体硅烷量 程0-10PPM/0-50PPM/0-100PPM(更多量程可以来电咨询);分 辨 率0.01PPM检测原理电化学原理精 度≤±3F.S显示方式320*240 高清彩屏响应时间T90<30S恢复时间≤30S(T90-T10)使用寿命传感器2-3年检测方式扩散式重 复 性≤±1 %F.S继 电 器容量 220VAC **/24VDC ** 无线输出(选配)433M(≤无障碍3公里 ) (定制)GPRS(无距离限制) (定制)WIFI/zigbee/LORA (定制) 有线输出(选配) 485+开关量输出 (标配)4-20mA+RS485+开关量报警输出 (定制)以上任选一种防护等级 IP66防爆等级隔爆型:ExdⅡCT6 Gb 尺 寸205*140*92mm(L×W×H)探头材质铝合金、不锈钢(可选)安装方式壁挂式、杆装式、管道式重 量1KG工作电压12-35VDC,常用 12VDC、24VDC电气接口接线口尺寸:内螺牙 M20*1.5( G1/2 内螺牙、G3/4 内螺牙、 1/2NPT标准配件探测器、说明书、红外遥控器、厂家出厂检测报告选 配 件防爆声光报警、安装支架、管道式安装配件等工作环境温度:催化燃烧:-40~+70℃;电化学:-20~+50℃;PID:-20~+50℃;红外:-20~+50℃; 荧光法:-20~+50℃; 氧化锆:-40℃~+700℃压力:86-110Kpa;(氧化锆:≤0.6Mpa)湿度:15%RH~95%RH(无凝露)产品功耗电化学传感器:P ≤ 1.2W 红外传感器:P ≤ 2.0W普通催化传感器 :P ≤ 2.6W 低功耗催化传感器 :P ≤ 1.5W 热导传感器 :P ≤ 2.0W 执行标准GB15311.1-2003; GB3836.1-2010; GB3836.2-2010; GB3836.4-2010;气体选型O30-100%LELCH2O0-10,50,100PPMCO0-100,1000,2000,10000PPMO30-1,10,50,100%VOLH2S0-50,100,1000,2000PPMCH40-1,10,50,100%VOLO20-30,100%VOLPH30-10,100,1000,5000PPMNH30-50,100,1000,2000PPMH20-100,1000,5000,40000PPM,100%VOLO30-5,10,50,100,1000,5000,10000PPMN20-100%VOLCL20-10,20PPMHCL0-10,100,500,1000PPMNO0-100,500,1000,5000PPMSO20-10,20,100,500,1000,5000,40000PPM
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  • 在不同的地域和气候环境下,混凝土建筑物会遭遇到不同的侵蚀和破坏,如海港码头高性能混凝土结构保护,跨海大桥海工混凝土保护,高架桥梁混凝土结构保护,公路桥梁混凝土结构保护,铁路桥梁高性能混凝土结构保护,隧道混凝土结构保护,机场跑道混凝土结构保护,清水混凝土结构保护,热电、核电厂混凝土结构保护等等。硅烷作为一种有效的混凝土保护材料,可以为混凝土提供长效持久地保护。硅烷在混凝土表层形成的保护层可以有效防止水以及氯离子的入侵,使钢筋免遭锈蚀;可以防止混凝土碳化的发生;同时,可以大幅地减少冻融对于混凝土的破坏。混凝土硅烷浸渍防护技术原理是利用硅烷特殊的小分子结构,穿透混凝土的表层,渗透到混凝土内部几个到十几个毫米,渗人混凝土表面深层,分布在混凝土毛细孔内壁,甚至到达最小的毛细孔壁上,与暴露在酸性和碱性环境中的空气及基底中的水分产生化学反应,聚合形成网状交联结构的硅酮高分子羟基团。这些羟基团将与基底和自身缩合,产生胶连、堆积,固化结合在毛细孔 的内壁及表面,形成坚固、刚柔的防腐渗透斥水层。 因为不会阻塞气孔,可保持基材的透气性。通过抵消毛细孔的强制吸力,硅烷混凝土防护剂可以防止水分及可溶解盐类,如氯盐的渗入,有效防止基材因渗水、日照、酸雨和海水的侵蚀而对混凝土及内部钢筋结构的腐蚀、疏松、剥落、霉变而引发的病变,还有很好的抗紫外线和抗氧化性能,能够提供长期持久的保护,提高建筑物的使用寿命。防水处理后的基材形成了远低于水的表面张力,并产生毛细逆气压现象,且不堵塞毛细孔,既防水又保持混凝土结构的“呼吸”。同时,因化学反应形成的硅酮高分子与混凝土有机结合为一整体,使基材具有了一定的韧性,能够防止基材开裂且能弥补0.2 mm的裂缝。当防水表面由于非正常原因导致破损(如外力作用),其破损面上的硅烷与水分继续反应,使破损表面的防水层具有自我修复功能。除了公认的憎水性,硅烷混凝土防护剂也不会受到新浇混凝土碱性环境的破坏。相反,碱性环境如浇筑不久的混凝土,会刺激该反应并加速斥水表面的形成。理论上,硅烷可以和混凝土同样持久,且混凝土强度越强使用寿命越长。依据标准:JTS153-2015《水运工程结构耐久性设计标准》;JTJ275-2000《海港工程混凝土结构表面涂层防腐技术规范》;JTT695-2007《混凝土桥梁结构表面涂层防腐技术规范》。在最后一次喷涂硅烷至少3 d后,钻取直径约50 mm、深度为40±5 mm的芯样。在离原表面的浓度为3-4mm(强度等级≤C45的混凝土)或2-3mm(强度等级≥C45的混凝土)处,劈开芯样。从该芯样新暴露面的各处,取数份粉样,热分解这些粉样为等离子气体,用气相色谱仪(RY-100A+GC-2020/2030)分析,求得其硅烷占水泥浆体粉样的重量百分率的平均值。浸渍区域内的硅烷占水泥浆体粉样重量的百分率应不少于0.1%。热解气相色谱法又称裂解气相色谱法,是使大分子物质(如高聚物、生化试样)在热解器中加热到几百或更高温度,迅速热解成小分子碎片,并直接进入气相色谱仪进行分析的方法。由于挥发性产物的组成和相对含量与被测物质的结构、组成、性质有一定的对应关系,每种物质在一定的热解条件下其热解色谱图具有各自的特征性,称为指纹热解谱图。因而可有效地鉴定高分子化合物的种类、定性和定量地分析混合物中的组分。热解气相色谱还可作为测试手段,用于测定高分子化合物的微型结构、聚合过程及分解过程的动力学机理,并考察其热稳定性。热解谱图随实验条件不同而变化,为得到能重复的,在不同实验室间可互相比对的热解谱图,以下3个参数至关重要:①将样品中加热到预定热解温度所需的时间。②与样品接触的部件所用材料。在热解温度下,有的物质(如石英和铁)产生催化作用,会改变热解产物的分布;铂和金是制作热解器的常用材料。③热解器产物体积应尽可能小,并能马上进入载气流中,保持在均匀温度下。常用的热解器有:①管式热解器;②热丝热解器;③居里点热解器;④激光热解器。热解色谱法可克服通常气相色谱法的不足,分析通常GC不能直接进样分析的一些试样,适用于高聚物、生物大分子、微生物和高沸点有机物的分析。还可测定共聚组成;区分共混物和共聚物;测定某些高聚物端基,从而确定聚合物分子量;测定某些高聚物链结构及对高聚物的热稳定性、耐老化性、加工过程等多种性能进行研究。此外,还可用于医学、生物学等各领域。
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  • 产品介绍:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点:1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。产品参数:型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸(mm)300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸(mm)465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵:德国品牌,莱宝“DC”双极系列旋片式油泵,真空高,噪音低,运行稳定。连接管:不锈钢波纹管,完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理:HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程:先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 产品介绍:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点:1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。产品参数:型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸(mm)300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸(mm)465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵:德国品牌,莱宝“DC”双极系列旋片式油泵,真空高,噪音低,运行稳定。连接管:不锈钢波纹管,完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理:HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程:先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 固相微萃取头SPME纤维组件聚二甲基硅氧烷(PDMS 100UM)红色手动自动气相联用spme固相微萃取纤维头手动萃取头(PDMS 100um)57300-U/57301聚二甲基硅氧烷名称:SPME固相微萃取萃取头规格:PDMS 100μm 3支/盒品牌:Supelco货号:57300-U/57301※产品详细说明※:57300-U/57301SPME 纤维组件聚二甲基硅氧=烷 (PDMS)df 100 μm(PDMS, needle size 24 ga, for use with manual holder(手动/自动)SPME固相微萃取纤维头57300-U和57301的相关信息如下:概述:SPME(Solid Phase Micro Extraction)固相微萃取头是一种集成了采样、萃取、浓缩和进样功能的样品前处理新技术。纤维头由外套不锈钢细管的熔融石英纤维制成,长度约为1cm,涂有不同色谱固定相或吸附剂。纤维头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取和吸附样品。手柄部分用于安装或固定萃取头。产品特性:适用于非极性高分子化合物(MW125-600)的萃取。自动操作方式(57301是自动的,与手动型号相对的是自动型号)。具体的包装数量未在文章中提及。适用于挥发性物质(MW60-275)的萃取。手动操作方式。3支/盒。57300-U:57301:操作方式:SPME固相微萃取技术提供了手动和自动两种操作方式,以适应不同的实验需求。应用领域:广泛应用于环保及水质处理、临床药理、公安案件分析、制药、化工、国防等领域。技术特点:克服了传统样品处理技术的许多缺点,如繁琐、耗时等。便于携带,真正实现样品的现场采集和富集。可与气相、气相-质谱、液相、液相-质谱仪等联用。萃取方式:SPME的萃取方式包括直接SPME法和顶空固相微萃取法(HS-SPME)。直接SPME法是将萃取纤维直接插入液体样品中,而HS-SPME法则是将萃取纤维置于液体或固体样品的顶空进行萃取。价格信息:57300-U的价格为(3支/盒)。57301的价格为(3支/盒)。请注意,以上信息基于提供的参考文章,具体的产品细节和价格可能因市场条件和供应商而异。在购买或使用时,请参考官方资料或联系供应商以获取最准确的信息。※固相微萃取(SPME)整套装置及选配耗材※:序号、货号、名称描述①、57330-U SPME手柄(手动或自动)②、2637505 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)③、57333-U SPME专用采样台用于4ml瓶④、57357-U SPME专用采样台用于15ml瓶⑤、PC-420D SPME专用磁力加热搅拌装置⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子⑦、57332 SPME专用温度计⑧、57356-U SPME专用进样导管(岛津不可用)⑨、27136 SPME专用专用采样瓶 4ml ⑩、27159 SPME专用专用采样瓶 15ml (11)固相微萃取头(SPME萃取头), (具体信息参见SPME萃取头订购信息)※Supelco SPME萃取头(固相微萃取头)订货信息※:订货号产品名称描述产品应用手动式自动式57330-U57331SPME手柄和萃取头连用573185731975um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(MW30-225)用于气体和小分子量化合物57334-U57335-U85um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(高保留)用于气体和小分子量化合物57302573037um PDMS 固相微萃取头,3支 (MW 125-600)用于非极性大分子量化合物573085730930um PDMS 固相微萃取头,3支用于非极性半挥发性化合物57300-U57301100um PDMS固相微萃取头,3支(MW 60-275)用于挥发性物质57310-U5731165um PDMS/DVB固相微萃取头,3支(MW 50-300)用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物57326-U57327-U65um PDMS/DVB固相微萃取头(不含弹簧2cm),3支用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物(MW 50-300)573045730585um,Polyacrylate, 固相微萃取头,3支 (MW 80-300)用于极性半挥发性化合物57328-U57329-U50/30um,DVB/CAR/PDMS,Stableflex固相微萃取头,3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)/5731760um PDMS/DVB 固相微萃取头(用于HPLC),3支用于胺类或极性化合物57348-U/50/30um DVB/Car on PDMS固相微萃取头(2cm),3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)5730657307SPME萃取头套装1用于挥发性和半挥发性物质85umPA,100um PDMS,7umPDMS各一支57320-U57321-USPME萃取头套装2用于水中挥发性或极性有机物75umCAR/PDMS.65umPDMS/DVB,85um PA各一支57323-USPME萃取头套装3用于SPME/HPLC分析60um PDMS/DVB,85um PA,100um PDMS各一支57324-U57325-USPME萃取头套装4用于香味物质分析100um PDMS,65um PDMS/DVB,75um CAR /PDMS各一支萃取头符号说明:CAR Carboxen CW CarbowaxDVB Divinylbenzene (二乙烯苯) PA Polyacrylate (聚丙烯酸酯)PDMS Polydimethylsiloxane (聚二甲基硅烷)※SPME固相微萃取的典型应用※:* 表面活性剂* 环境水样* 食品、香精、香料* 法庭样品* 血、尿和体液中药物* 聚合物和固样中痕量杂质(顶空方式)* 药物中残留溶剂* 气体硫化物及挥发物(VOC)美国Supelco固相微萃取(SPME)57330-U萃取头-产品特点技术指标:用途:小分子挥发性非极性物质PDMS 100um,非键合,红色平头 固相微萃取(SPME)非常小巧,状似一只色谱注射器,由手柄(Holder)和萃取头或纤维头(Fiber)两部分构成。萃取头是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有不同色谱固定相或吸附剂的熔融石英纤维头,纤维头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品 手柄用于安装或固定萃取头,可永久使用。
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  • 北斗星仪器有毒气体报警器,气体探测器,气体传感器CPT2000系列测试的气体主要有:氢化物、丙烯氰、砷烷、硼烷、甲烷、丙烷、有机气体、可燃气、溴气、乙炔、甲醇、乙醇、甲醛、环氧乙烷、氯乙烯、三氯乙烯、氯甲酸乙酯、氯气、二氧化氯、一氧化碳、光气、二氧化碳、氟、锗烷、氢气、氘气、溴化氢、氢氰酸、氯化氢、氟化氢、氟化物、H2O、硫化氢、三氟化氮、氨、含磷毒剂、甲氨、二甲、氨、三甲氨、过氧化氢、肼、二氧化氮、氧化氮、氮氧化物、氧、溴氧、过氧乙酸、磷化氢/磷烷、二氯化二硅、四氯化硅、硅烷、灭火剂,制冷剂,碳氟化合物、碳氯化合物、碳溴化合物, 氟氯碳化物、二氧化硫、四氢噻吩、乙醛、三氯化砷、三氟化砷/五氟化砷、六氟化钨、六氟化钨、三氟化硼、三氯化硼、三溴化硼、甲硫醇、硫醇、硫醚、芥子气、丁硫醇、三氟化氯、三氟化氯、四氯硅锗、十氟化二硫、二氯化二硫、甲酸、锡化氢、碘、异丁醇、甲醇、二氯化磷、五氯化磷、磷酰氯、四氯化硅、锑化(三)氢、氟化硫磺、硫酰氟、六氟化硫、噻吩、四溴化锡、四氯化锡、四氯化钛、四氟化锡、三氯硅烷、三氯三(二氮陆圜)、三氟三(二氮陆圜)、溴甲烷、二硫化碳、二甲基硫醚、二甲基二硫、甲基黄酰氯等。具体测试参数指标请咨询北斗星仪器工程师。气体报警系统常识安静实验室环境: 选择智能变送器蜂鸣器报警即可无机械噪音车间:10米以内:变送器电压信号 ? 100 dB 声光报警器10-1000米: 变送器电流信号 ? 100 dB 声光报警器注意: 易燃易爆气体环境,必须选择符合等级的防爆器件、供电和安装系统重型机械,室外:10-1000米: 变送器电流信号 ? 100 dB 声报警器防爆/防尘/防水 Safety规 格防爆等级易燃易爆安全粉尘安全易燃易爆飘尘安全CPT2610AAIntrinsically Safe,T6Class I,Group A,B,C,DClass II, D1Class III,D1CPT2620AAIntrinsically Safe,T6CPT2620AExIntrinsically Safe,T6CPT2620AWEEx d IIC T3变送器性能 Specifications: l CPT2000型, 专业变送器电路。三/四线制。l 电流信号输出:0-2.5V,0/4-20mA,电流输出Z大负载RL=(Vs-2.7V)/0.020mA。l 2610/2620耗电约50mA*5V,为本安型,可直接用于1,2,3 Class。专门定制,方可用于“0”区。防爆区域使用,注意防爆安全要求以及相应的供电、接线、作业等规范。l 2310/2410类耗电功率 650mA*5V,只有定制隔爆型,方可用于1,2,3类防爆场所。 l 电路测试精度0.05%FS。l 测试种类和准确度由所配探头决定。一般探头理论精度1.5%。由于飘逸,污染,成分干扰等因素实际正常使用相对准确度只能可达到1.5-10%左右。l 外接电源DC 12-24V, 功率:1.40 W, 基本测试功耗100mW。l 工作温度: 一般直接测试 0-50 ℃ (由具体探头之性能决定)。l 压力: 一般直接测试 0-0.7kgf/cm2 (由具体探头之性能决定)。仪器维护:l 保持变送器表面干净,不能有明显的污垢吸着于表面。建议根据现场情况制定定期检查和清理计划;l 变送器每年标定或校准1次,2610系列1-2年定期更换探头;2310/2410系列5-10年更换一次。具体维护周期依所选探头确定。选型常识:l 本系列变送器不是都可以达到分析仪的水平 2610有线性输出,但是普遍受干扰气体影响,只有特定背景气体中,才能达到定量测试要求 l 2310系列只能作为报警器使用,信号输出与浓度的平方根成比例 要求定量时必须选择BD5智能型产品或配套我所其他显示报警器。l 车间报警器布置:1) 巨毒气体或其它危险气体每隔1.5-3米空间距离布置一个变送器;不是非常危险的气体,可以隔7-10米布置;重点保障泄露源附近按规定布置。2) 空气流动性较好的情况下可以适当减少布点,注意将变送器布置在有代表性的气流区域---下风口。3) 装有风扇等临时启动排风装置:基本按空间概念布置;4) 常通风的车间: 一般出风口附近2米左右处安装一个探测器,如果有死角,也应该合理布置探头;另外潜在泄露点下风位置合理布置探头。5) 探头安装高度:相对与空气,特别轻的气体,例如氢气,应该将变送器装在较高的位置;比重比空气重的气体, 则装在泄露点以下位置。一般毒性气体探头装在人头高度(1.3-1.8米空间高度)。l 室外罐区等布置:首先考虑地方各季节的风向特点,确保下风位置有探头;其次考虑具有可能泄露点布置探测,探头仍应装在相对的下风口方位。室外安装高度,一般应该与可能的泄露点位置平行。但是比重轻的气体探头仍应考虑偏上方安装,重的气体则在下方安装。常年风力较大的地方,主要与泄露点平行安装。l 易燃易爆车间,尽量不要采用变送器直接报警,而是通过安装在仪表室的控制器连接报警系统,这样工厂安装容易达到具体工业安全标准要求。0区报警系统应特别订货。
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  • 单层石墨烯机械剥离分散设备,石墨烯分散设备,石墨烯剥离设备,石墨烯锂电池分散机,石墨烯防腐涂料分散机,石墨烯分散技术,双层石墨烯浆料分散机一、单层石墨烯(Graphene):指由一层以苯环结构(即六角形蜂巢结构)周期性紧密堆积的碳原子构成的一种二维碳材料。是世上蕞薄却也是蕞坚硬的纳米材料,它几乎是完全透明的,只吸收2.3%的光,导热系数高达5300 W/mK,高于碳纳米管和金刚石,常温下其电子迁移率超过15000 cm2/Vs,又比纳米碳管或硅晶体高,而电阻率只约10-6 Ωcm,比铜或银更低。二、单层石墨烯高剪切分散机设备原理石墨烯高剪切分散机的线速度达21M/S,由3级可调间隙的锥形定子和4级高速旋转的锥形转子形成研磨模块,根据生产要求,剪切研磨间隙可从0.01mm至2mm无级调速,定转子每一级上的凹槽一级比一级精细,深度,方向的不同增加了流体的揣流。当物料经过的时候,形成强有力的挤压、剪切、乳化、粉碎、混合、分散均质及研磨作用。从而得到精细超微粒乳化研磨的较高效益。锥形定子外围、出料腔体及密封件部位有循环水冷却,可根据用户的特殊要求提供多功能的可空转式运作。石墨烯研磨分散机结合乳化机与胶体磨的特长,具有吸、消泡能力。使石墨烯浆料在设备的高线速度下形成湍流,在定转子间隙里不断的撞击,破碎,研磨,分散,均质,从而得出超细的颗粒(当然也需要合适的分散剂做助剂)。综合以上几点可以得出理想的导电石墨烯浆料。 (洽谈:)三、石墨烯分散难点石墨烯研究所在开发石墨烯的过程中,遇到如何将石墨更好的细化,以及细化后团聚问题,成为大的难点。四、SID石墨烯高剪切分散机及解决方案石墨烯高剪切分散机具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。SDH3是一种三级高剪切在线分散机,用于生产非常精细的乳液和悬浮液。工作腔内的剪切力大大增加了物料的输送,加快了单分子和高分子物质的溶解速度。三级定转子组合(分散头)确保液滴或粒度小且分布范围很窄。此工艺可以使单次混合的混合物长时间保持稳定,尤其是混合乳化液时。SID希德/SDH3系列研磨分散机,可以很好的解决这两个问题.SDH3系列的胶体磨(锥体磨) 分散头的组合,可以先将石墨混合物(配入溶剂和分散剂)研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为石墨烯行业提供了强有力的设备力量。五、石墨烯高剪切分散机剥离过程石墨烯高剪切分散机液相直接剥离法制备,石液相直接剥离法制备墨烯,,液相直接剥离法,石墨烯研磨分散机,德国液相直接剥离法制备石墨烯研磨分散机,SID液相直接剥离法制备石墨烯研磨分散机是是利用剪切力、摩擦力或冲击力将粉体由大颗粒粉碎剥离成小颗粒。分散:纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住,以便达到颗粒完全被分离、润湿、分布均匀及稳定目的。液相直接剥离法制备石墨烯研磨分散机通常直接把石墨或膨胀石墨((一般通过快速升温至1000℃以上把表面含氧基团除去来获取)加在某种有机溶剂或水中, 借助超声波、加热或气流的作用制备一定浓度的单层或多层石墨烯溶液。coleman等参照液相剥离碳纳米管的方式将石墨分散在n-甲基吡咯烷酮(nmp)中, 超声1h后单层石墨烯的产率为1%, 而长时间的超声(462h)可使石墨烯浓度高达1.2mg/ml, 单层石墨烯的产率也提高到4%[17]。 他们的研究表明, 当溶剂的表面能与石墨烯相匹配时, 溶剂与石墨烯之间的相互作用可以平衡剥离石墨烯所需的能量, 而能够较好地剥离石墨烯的溶剂表面张力范围为40~50mj/m2;[18]把石墨直接分散在邻二氯苯(表面张力:36.6mj/m2)中, 超声、离心后制备了大块状(100~500nm)的单层石墨烯;[利用液?液界面自组装在三甲烷中制备了表面高度疏水、高电导率和透明度较好的单层石墨烯。为提高石墨烯的产率, 近 等发展了一种称为溶剂热插层(制备石墨烯的新方法,该法是以eg为原料, 利用强极性有机溶剂乙腈与石墨烯片的双偶极诱导作用来剥离、分散石墨, 使石墨烯的总产率提高到10%~12%。同时, 为增加石墨烯溶液的稳定性, 人们往往在液相剥离石墨片层过程中加入一些稳定剂以防止石墨烯因片层间的范德华力而重新聚集。设 备 参 数功率500W电源220V,50/60Hz流量范围 (H?O)1-15L/min处理粘度1000CP速度范围10000-28000rpm温度120℃转速显示刻度/数显转速控制无级接触物料材质SS316L、FKM标准工作腔不锈钢无夹套工作腔标准工作头20DG机械密封材质SiC、FKM、陶瓷进、出口外径14(软管接口)工序类型在线处理底座材质SS304外形尺寸477×120×122重量~6kg包装纸箱
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  • H6型便携式恶臭分析仪 产品介绍: 利用先进的传感器技术、互联网技术、无线通信技术、计算机网络技术、电子地理信息技术等,对颗粒物、气态污染物等排放实现监测的综合实时监控系统。 监测因子包括:标准污染物OU、CS2、NH3、H2S、TVOC、三甲胺、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫醚、苯乙烯;可选配颗粒物、噪声、温度、湿度、大气压等,支持上传云平台。主要特点:&bull 触摸式显示屏,人性化设计,更方便于客户使用;&bull 可用于在线监测、车载监测、走航及应急等多种工作模式,监测数据上传至数据平台,实现对空气质量的监控、追踪及溯源;&bull 设备采用便携式设计,体积小、重量轻、方便移动,可手提或背包使用;&bull 气态污染物采样流量采用单独独立的泵吸式控制。长寿命采样动力系统,安静,高效;&bull 气态污染物监测选用四电极高精度进口定电位电解传感器;&bull 设备可适用于各种严苛的室外环境,电路采用工业级嵌入式处理器,工作环境温度范围(-30~70)℃;&bull 采用工业级数据传输模块,数据传输稳定可靠,3G/4G/5G、RS485、RS232等多样的通信方式供客户选择,支持同时传输多达8个云平台,并具有GPS定位功能;&bull 终端设备可通过FTP服务器,远程升级终端的应用程序,实现远程维护,保证用户可以使用最新的应用程序,及时更新系统功能;&bull 电池具有过充/过流/短路保护,使用更安全;&bull 可采用市电、电池及车载应急充电的多种供电方式。技术参数:气体因子化学式原理测量范围分辨率臭气OUMOS0-100/1000 ou0.1/1 ou氨气NH3电化学0-100 ppm0.01 ppm硫化氢H2S电化学0-100 ppm1 ppb三甲胺C3H9NMOS0-10 ppm10 ppb甲硫醇CH4S电化学0-10 ppm10 ppb甲硫醚C2SH6电化学0-10 ppm10 ppb二甲二硫醚C2H6S2电化学0-10 ppm10 ppb苯乙烯C8H8电化学0-10 ppm10 ppb二硫化碳CS2电化学0-10 ppm10 ppb氯化氢HCL电化学0-100 ppm0.1ppm氯气CL2电化学0-20 ppm0.02ppm二氧化氮NO2电化学0-1000 ppm1ppb二氧化硫SO2电化学0-1000 ppm1ppb总挥发性有机化合物TVOCPID0-10 ppm10 ppb
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  • 产品详情美国Trion 反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统:Orion III,Oracle III,Minilock-Orion III,Phantom III,Minilock-Phantom III,SirueT2Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商,Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积最小、成本低而著称,且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备,到简单的实验室研发用系统,尽在Trion。 Trion提供升级及回收方案给现有Matrix客户。 批量生产用设备:去胶系统- 低损伤去胶系统 新式去胶系统的成本已攀升到不合理水平,但Trion已通过两套价格低廉、紧凑的多功能系统使这一关键问题得到解决:Gemini和Apollo。利用ICP(电感耦合等离子)、微波和射频偏置功率,可以在低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求,每套系统可以结合SST-Lightning 微波源(既可靠又没有任何常见的微波调谐问题) 或ICP 技术。• 刻蚀速率高达6微米/分 • 高产量• 等离子损伤低 • 自动匹配单元• 适用于100mm 到300mm 基片 • 设备占地面积小• 价格具竞争性 刻蚀/沉积Titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统。Titan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。 刻蚀应用范围: 砷化镓、砷化铝镓、氮化镓、磷化镓、磷化铟、铝、硅化物、铬以及其他要求腐蚀性和非腐蚀性化学刻蚀的材料。 沉积应用范围:二氧化硅、氮化硅、氮氧化物和其他各种材料。 具有ICP选件的Titan系统Oracle III由中央真空传输系统(CVT)、真空盒升降机和最多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接,既能够以生产模式运行,也能够作为单个系统独立作业。 Oracle III是市场上最灵活的系统,既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸),也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。 由于Oracle III 最多可容纳四个独立的工艺室,其可以有多种不同的工艺组合,其中包括RIE/ICP (反应离子刻蚀机/电感耦合等离子)刻蚀和PECVD 沉积。多个室可以同时工作。鉴于所有工艺室均有真空负载锁,工艺运行安全且没有大气污染。 Oracle III是市场上最小的批量生产用集成系统。 深硅刻蚀:- 5μm/min的刻蚀速率- 小于6%的不均匀性- 刻蚀深度可达300μm- 相对于光刻胶15:1的选择率- 垂直光滑的壁面- 纵横比可达12:15 um wide Si trench etch200um Si trench etch120um Si Trench etch40um wide x 320um deepSlope approx. 88 degreesEtching of GaAs/AlGaAs HeterostructuresInP Lens Etch 5.2 micron lens height with PR maskGaN LED Etch 2.6 micron depth with PR 小批量生产用设备: 沉积 (PECVD)Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸),或者多尺寸批量处理基片(4x3” 3x4” 7x2”)。可沉积的薄膜包括:氧化物、氮氧化物、无定形硅和碳化硅。可以使用的反应气体包括:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。该系统可选配一个三极管(Triode)或电感耦合等离子(ICP)源。其中三极管使得用户可以创建高密度等离子,从而控制薄膜应力。基片通过预真空室装入工艺室,其避免了与工艺室以及任意残余沉积副产品接触,从而提高了用户的安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下,从而保持反应室与大气隔绝。 Minilock-Orion III PECVD 刻蚀 (RIE)Minilock-Phantom III 具有预真空室的反应离子刻蚀机。适用于单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批量处理(4x3” 3x4” 7x2”)。系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜,如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。该反应室还可以用于去除光刻胶和有机材料。可选配静电吸盘(E-chuck),以便更有效地在刻蚀工艺中让基片保持冷却。该E-chuck使用氦压力控制器,及在基片背面保持一个氦冷却层,从而达到控制基片温度的作用。该设备可选配一个电感耦合等离子(ICP)源,其使得用户可以创建高密度等离子,从而提高刻蚀速率和各向异性等刻蚀性能。 Minilock-Phantom III具有ICP(感应耦合等离子)选项的刻蚀系统 实验室/研发/芯片失效分析用设备: 沉积Orion III 等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统适用于单个基片、碎片或带承片盘的基片(2” - 300mm尺寸),为实验室和试制线生产提供最先进的沉积能力。Orion III系统用于非发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物和无定形硅。工艺气体 :20% 硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧和氮。该设备可选配一个ICP或三极管(Triode)源。 Orion III 刻蚀Phantom III反应离子蚀刻(RIE)系统适用于单个基片、碎片或带承片盘的基片300mm尺寸,为实验室和试制线生产提供最先进的等离子蚀刻能力。系统有多达七种工艺气体可以用于蚀刻氮化物、氧化物以及任何需要氟基化学刻蚀的薄膜或基片(如碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、聚酰亚胺、石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨以及钨钛) Phantom III Sirus T2 台面式反应离子刻蚀机(RIE)可用于介质以及其它要求氟化基化学的薄膜刻蚀。用於对矽、 二氧化矽、 氮化矽、石英、聚亚醯胺、钽、钨、钨钛以及其他要求特徵控制,高度选择性和良好一致性的材料进行蚀刻。 本机包含200mm下电极, 系统控制器(含电脑主机及触控介面),13.56MHz, 300/600W 射频发生器及自动调谐,最大四路/六路工艺气体及自动压力控制模块等。占地面积小且坚固耐用,非常适合用於研发,实验室环境及失效分析。 Sirus T2 - 台面式反应离子刻蚀机
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  • 产品型号: HMDS-6090 HMDS真空烘箱 产品特点:1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数: 电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率:3000W 控温范围:室温+10℃-250℃ 温度分辨率:0.1℃ 温度波动度:±0.5℃ 达到真空度:133Pa 容积:90L 工作室尺寸(mm):450*450*450 外形尺寸(mm):850*700*1400载物托架:2块 时间单位:分钟选配件: 真空泵:德国品牌,莱宝“DC”双极系列旋片式油泵,极限真空高,噪音低,运行稳定。 连接管:不锈钢波纹管,完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性: 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理: HMDS预处理系统通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程: 先确定工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。 图片: 外壳冷轧板烤漆
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  • 北斗星PBD5-VOC便携式有机挥发气体VOC检测仪,挥发性有机物气体检测仪生产厂家直销PBD5-VOC便携式有机挥发气体VOC检测仪系智能系统,内置单片微机,系统设计有先进的硬件系统, 包括2MB的。所有数据可以掉电保存。每种仪器都提供专业的分析/测试技术,大限度的固化专业方法。具有现场总线支持能力和RS232/485通信接口。可以刷新程序。BD5测试仪使大多数仪器将能提供全范围测试,省去量程选型的麻烦。 北斗星手持式传感器,巧妙地设计,即可以雷同一般仪器使用,又可以直接用于磨口瓶,也可以用管螺纹连接于管线进行临时连续检测。 可用键盘选择要测试的气体种类。应用 Application 环境指标 VOC,VOCs or TVOC 含磷毒剂,战剂探测, 炸药, 推进剂等探测 人类动物呼吸及排泄气体检测 医院垃圾、医疗废弃物,工业恶臭味检测 毒气探测 制冷剂,灭火剂,绝缘介质挥发物检测 农药,杀虫剂等探测刺激性化学物质探测 实验室烟雾探测 气体安全探测 环境督察 泄露探测 残余气体探测 毒p等危险品探测 可燃气检测,劳动安全检测 用途:各种气体泄露探测 多种单气浓度测试 VOC 分析 工业生产,科研 环境检测场合 污染源/排放口规律研究 能探测的常见气体 多数能被 PID 测量的化合物都包含碳元素,他们包ZUI括: 芳香烃类(一些拥有苯环的化合物),像:苯、甲苯、二甲苯、乙苯等 酮类和醛类(一些含有 C=O 基的化合物),像:丙酮、甲基酮、乙基酮、乙醛等 胺以及胺类化合物(包含氮元素的碳化物),像:二乙基胺 氯代烃类,像:三氯乙烯、全氯乙烯 硫化物,像:硫醇 不饱和烃类,像:丁烷、辛烷 氨气(无机物) 半导体气体,砷化氢、磷化氢 氮氧化物,溴气,碘 不能测试的常见气体: 放射物 空气(N2、O2、CO2、H2O) 一般的有毒气体(CO、HCN、SO2)天然气(甲烷、乙烷、丙烷) 酸性气体(HCL、HF、HNO3) 其他:氟利昂、臭氧。其他不可挥发的。 BD5 分析器技术指标 Specifications z显示 器:2×16 LCDz电源:9V充电 电池z响应时间: 1msz电池连续工作:10 hr/掉压报警z环境温度:-30℃~70℃(处理器)z处理器尺寸:98W×180H×35Dz 环境湿度:0%~90%R(处理器)z分析器分辨率:24位(FS=+/-1280mV)VOC3229 传感器规格及技术参数ND扩散式可选ND+Wxm投入式扩散式与电缆组合作成投入式,便于测试人员不可及的位置 x 代表要订几米导线 SP泵吸式采样SP+Pxm导引式用气管和泵组合,可以将人员不可及的位置的气体抽入测试 x 代表要订几米管 VOC3229 传感器型号型号117106AH106A1102测试气体电离势11.7eV电离势10.6eV 的气体电离势10.6eV 的气体电离势10.2eV的气体的气体离子化能量11.7eV10.6eV10.6eV10.2eVz低探测限5ppb100ppb线性量程50ppm300ppmz大测试值1000 ppm6000 ppm预热时间/分钟155使用温度-40~+40oC,max to 60oC-40~+40oC,max to 60oC使用湿度0-90%,无结露0-90%,无结露响应时间/秒33安全指标IECEx Ex ia IIC T4 ATEXIECEx Ex ia IIC T4 ATEX EEx iaEEx ia II 1G -40oC TaII 1G -40oC Ta +40oC+40oC仪器制造标准规范: 作业环境气体检测报警仪通用技术要求 GB 12358-90PID 探测气体参数具体参见 高于 100ppm 警报 化合物CFEXRu-10.6化合物CFEXRu-10.6丙酮1.101000.00909.09煤油0.60500.00833.33石油馏出0.71500.00704.23干洗溶剂汽油0.71500.00704.23异丙醚0.80500.00625.00甲基环己烷0.97500.00515.46二氯乙烯 t-1,20.45200.00444.44甲苯0.50200.00400.00芥子气(LCT50)0.6231.00385.00环乙烯0.80300.00375.00二乙基醚1.10400.00363.64汽油 #10.85300.00352.94蒎烯,a-0.31100.00322.58汽油 92 辛烷1.00300.00300.00松节油0.35100.00285.71辛烷,n-1.80500.00277.78蒎烯, b-0.37100.00270.27二氯乙烯 c-1,2-0.80200.00250.00苯乙烯0.40100.00250.00甲基乙基酮0.86200.00232.56 二甲苯, m-0.43100.00232.56二甲苯,p-0.45100.00222.22戊酮(2-)0.93200.00215.05环乙胺1.40300.00214.29二甲苯,o-0.49100.00204.08甲基苯乙烯 (a-)0.50100.00200.00乙基苯0.52100.00192.31氯苯0.4075.00187.50庚烷,n-22.80500.000178.57二甲苯 o-0.59100.00169.492-乙氧基乙醇1.30200.00153.85燃油,#2 00.66100.00151.52间戊二烯0.69100.00144.93壬烷1.40200.00142.86硅乙烷0.71100.00140.85异己酮0.80100.00125.00戊烷8.401000.00119.05四氢呋喃1.70200.00117.65乙烷4.30500.00116.28燃料油#100.93100.00107.53二氯苯 (o-)0.4750.00106.38乙酸叔丁酯2.00200.00100.00氯甲苯,o-0.5050.00100.00丙烯乙二醇1.00100.00100.00100ppm 警报异丙基醋酸2.60250.0096.15枯烯0.5450.0092.59三氯乙烯0.5450.0092.59二氧杂环乙烷1.10100.0090.911.4乙酸乙酯4.60400.0086.96航空油 JP-50.6050.0083.33航空油 JP-8 0.l.6050.0083.33乙醇12.001000.0083.33异戊烷及戊烷异8.20600.0073.17双丙酮醇0.7050.0071.43构1,3,5 三甲基苯0.3525.0071.43丙二醇单甲醚1.40100.0071.43乙酸正丁酯(sec-3.00200.0066.67乙丙醇6.00400.0066.67)甲基丙烯酸甲酯1.50100.0066.67乙酸正丁酯(n-2.60150.0057.69)乙酸异丁酯2.60150.0057.69乙酸正丙酯,n-3.50200.0057.14环己酮0.9050.0055.56醋酸另戊酯2.30125.0054.35(sec-)航空油 JP-41.0050.0050.0050ppm 警报醋酸异戊酯2.10100.0047.62甲基叔丁醚0.9140.0043.96四氯乙烯0.5725.0043.86醋酸正戊酯(n-2.30100.0043.48)丁氧基乙醇 2-1.2050.0041.67仲丁醇4.00150.0037.501-己烯0.8030.0037.50石脑油(焦油)2.80100.0035.71叔丁醇2.90100.0034.48乙醛6.00200.0033.33正丙醇6.00200.0033.33乙酸甲酯6.60200.0030.30三乙胺0.9025.0027.78异丁醇3.80100.0026.32二乙胺0.9725.0025.7725ppm 警报崩塔(LCT50)0.820.0025.00萘0.4210.0023.81甲基碘0.225.0022.73正丁醇4.70100.0021.28六甲基二硅氮烷0.245.0020.83石脑油(纯)5.70100.0017.54丁硫醇0.6010.0016.67二硫化碳1.2020.0016.67 乙硫醇0.6010.0016.67甲硫醇0.6010.0016.67环氧丙烷6.50100.0015.38二甲基乙酰胺0.8010.0012.50二甲基甲酰胺0.8010.0012.50乙胺0.8010.0012.50乙烯基溴0.405.0012.50丁烷67.00800.0011.94二溴乙烷,1,2-1.7020.0011.76甲基溴1.7020.0011.76三甲胺0.8510.0011.76三氯苯(1,2,4-)0.465.0010.87苯胺0.485.0010.42二聚环戊二烯0.485.0010.42丙烯酸乙酯2.4025.0010.42甲氧基乙醇 2-2.4025.0010.42对苯甲胺0.505.0010.0010ppm 警报氯丁二烯(β)3.0025.008.33环己胺1.2010.008.33甲胺1.2010.008.33醋酸乙烯酯1.2010.008.33异丁烷100.00800.008.00嘧啶0.685.007.35二异丙胺0.745.006.76烯丙基缩水甘油1.5010.006.67醚二甲胺1.5010.006.67丙烯酸正丙酯1.6010.006.25糠醛0.925.005.43氨9.7050.005.15二氯乙基醚3.0015.005.00甲酰胺4.0020.005.00苯酚1.005.005.00NO5.2025.004.81正丁胺1.105.004.55苯甲醛0.502.004.00乙二醇16.0050.003.13硫化氢3.3010.003.03二甲基乙胺1.003.003.00丙烯酸甲酯3.7010.002.70沙林(LCT50)4.612.002.61己内酰胺2.005.002.50苯0.531.001.89巴豆醛1.102.001.82苯乙腈0.601.0401.73氯甲苯0.601.001.67亚丙基亚胺1.252.001.60二乙醇胺2.003.001.50苯乙醚,蒸气0.701.001.43溴苯0.600.781.301-乙烯基-砒珞烷0.801.001.25丁二烯0.851.001.18酮1,3-二氯-1-丙烯0.961.001.04二乙撑三胺1.001.001.00碘0.100.101.001ppm 警报丙烯酸12.0010.000.83烯丙醇2.402.000.83苯酰氯0.60.500.83乙酸酐6.105.000.82乙醇胺4.003.000.751,1-二甲基肼0.780.500.64叔丁基过氧化氢1.61.000.63戊二醛0.800.500.63表氯醇8.505.000.59硝基苯1.901.000.53氯乙烯2.001.000.50醋酸22.0010.000.45过氧化甲乙酮2 0.7.000.35肼,联氨3.001.000.33二氧化氮16.005.000.31联苯0.700.200.29双烯酮2.000.500.25烯丙基氯4.301.000.23溴仿2.500.500.20一甲基肼1.200.200.17
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  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号:HMDS-6210 产品名称:真空烘箱(带基片预处理系统)电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:4000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:± 0.5℃达到真空度:133Pa容积:210L工作室尺寸(mm):560*640*600外形尺寸(mm):720*820*1750载物托架:3块时间单位:分钟真空泵:国内好品牌,上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数:电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:3000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:0.5℃达到真空度:133Pa容积:90L工作室尺寸(mm):450*450*450外形尺寸(mm):615*590*1470载物托架:2块时间单位:分钟真空泵:国内品牌上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。 产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数:电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:4000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:± 0.5℃达到真空度:133Pa容积:210L工作室尺寸(mm):560*640*600外形尺寸(mm):720*820*1750载物托架:3块时间单位:分钟真空泵:国内品牌,上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。 产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数:电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:3000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:± 0.5℃达到真空度:133Pa容积:90L工作室尺寸(mm):450*450*450外形尺寸(mm):615*590*1470载物托架:2块时间单位:分钟真空泵:国内品牌上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。 产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数:电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:3000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:± 0.5℃达到真空度:133Pa容积:90L工作室尺寸(mm):450*450*450外形尺寸(mm):615*590*1470载物托架:2块时间单位:分钟真空泵:国内品牌上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。 产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
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  • 美国进口SPME固相微萃取纤维头57318手动/57319自动MERCK默克sigma西格玛Supelco色谱科SPME固相微萃取萃取头Carboxen/聚二甲基硅氧烷CAR/PDMS 75UM;名称:SPME固相微萃取萃取头规格:CAR/PDMS 75μm 3支/盒品牌:Supelco货号:57318/57319详细介绍:MERCK默克sigma西格玛Supelco色谱科SPME(固相微萃取)固相微萃取纤维头57318和57319是两种不同型号的SPME萃取头,分别具有手动式和自动式的特性。以下是对这两种纤维头的详细介绍:1. 57318手动式SPME萃取头 : - 品牌 :MERCK默克sigma西格玛Supelco色谱科 - 类型 :手动式 - 涂层 :CAR/PDMS(具体涂层材料和比例可能因应用需求而有所不同) - 规格 :75um(纤维直径) - 包装 :3个/包 - 主要用途 :该型号的纤维头适用于固相微萃取技术,特别适用于气体和低分子量化合物(MW 30-225)的提取和分析。由于其手动式操作特性,它可能在一些实验室环境中更为常见和方便使用。2. 57319自动式SPME萃取头 : - 品牌 :MERCK默克sigma西格玛Supelco色谱科 - 类型 :自动式 - 涂层 :CAR/PDMS(与57318型号相同,具体涂层材料和比例可能因应用需求而有所不同) - 规格 :75um(纤维直径) - 包装 :3个/包 - 主要用途 :与手动式57318类似,该自动式纤维头也适用于固相微萃取技术,对气体和低分子量化合物具有良好的提取效果。由于其为自动式,可能在一些需要自动化和高通量分析的场合中更为适用。3. 归纳 :* 品牌与涂层 :两款纤维头均来自MERCK默克sigma西格玛Supelco色谱科品牌,采用CAR/PDMS涂层,这种涂层通常用于萃取非极性或极性较小的化合物。* 规格与包装 :两者在纤维直径(75um)和包装规格(3个/包)上相同。* 操作方式 :57318为手动式,适合一般实验室环境;而57319为自动式,更适合自动化和高通量分析场合。* 应用 :两款纤维头均广泛用于气体和低分子量化合物的提取和分析,是固相微萃取技术中常用的关键部件。在选择时,应根据实验需求、设备配置和操作习惯等因素综合考虑,选择最适合的型号。※固相微萃取(SPME)整套装置及选配耗材※:序号、货号、名称描述①、57330-U SPME手柄(手动或自动)②、2637505 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)③、57333-U SPME专用采样台用于4ml瓶④、57357-U SPME专用采样台用于15ml瓶⑤、PC-420D SPME专用磁力加热搅拌装置⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子⑦、57332 SPME专用温度计⑧、57356-U SPME专用进样导管(岛津不可用)⑨、27136 SPME专用专用采样瓶 4ml ⑩、27159 SPME专用专用采样瓶 15ml (11)固相微萃取头(SPME萃取头), (具体信息参见SPME萃取头订购信息)※Supelco SPME萃取头(固相微萃取头)订货信息※:订货号产品名称描述产品应用手动式自动式57330-U57331SPME手柄和萃取头连用573185731975um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(MW30-225)用于气体和小分子量化合物57334-U57335-U85um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(高保留)用于气体和小分子量化合物57302573037um PDMS 固相微萃取头,3支 (MW 125-600)用于非极性大分子量化合物573085730930um PDMS 固相微萃取头,3支用于非极性半挥发性化合物57300-U57301100um PDMS固相微萃取头,3支(MW 60-275)用于挥发性物质57310-U5731165um PDMS/DVB固相微萃取头,3支(MW 50-300)用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物57326-U57327-U65um PDMS/DVB固相微萃取头(不含弹簧2cm),3支用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物(MW 50-300)573045730585um,Polyacrylate, 固相微萃取头,3支 (MW 80-300)用于极性半挥发性化合物57328-U57329-U50/30um,DVB/CAR/PDMS,Stableflex固相微萃取头,3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)/5731760um PDMS/DVB 固相微萃取头(用于HPLC),3支用于胺类或极性化合物57348-U/50/30um DVB/Car on PDMS固相微萃取头(2cm),3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)5730657307SPME萃取头套装1用于挥发性和半挥发性物质85umPA,100um PDMS,7umPDMS各一支57320-U57321-USPME萃取头套装2用于水中挥发性或极性有机物75umCAR/PDMS.65umPDMS/DVB,85um PA各一支57323-USPME萃取头套装3用于SPME/HPLC分析60um PDMS/DVB,85um PA,100um PDMS各一支57324-U57325-USPME萃取头套装4用于香味物质分析100um PDMS,65um PDMS/DVB,75um CAR /PDMS各一支萃取头符号说明:CAR Carboxen CW CarbowaxDVB Divinylbenzene (二乙烯苯) PA Polyacrylate (聚丙烯酸酯)PDMS Polydimethylsiloxane (聚二甲基硅烷)
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