米克青霉

1. 引言PriboMIPTM固相亲和柱已经被用来选择性地提取苹果类制品中的展青霉素，包括苹果汁、苹果酱等。使用PriboMIPTM固相亲和柱进行样品处理，预期得到净化的样品且待测物富集量达到痕量分析水平。2. PriboMIPTM固相亲和柱的原理PriboMIPTM固相亲和柱是通过聚合物聚合过程构建一个三维网络来识别模板分子的形状及功能位点而得到的固定相。PriboMIPTM固相亲和柱的选择性来自源于合成技术中运用到的分子印记聚合物技术。3. 产品信息每个PriboMIPTM展青霉素固相亲和柱包含有100mg的吸附剂.4. 注意事项PriboMIPTM展青霉素固相亲和柱不适合进行以C18及其他吸附剂为载体而发展起来的固相萃取。下述提取过程是针对苹果酱中的展青霉素优化后的提取过程。对于其他样品的处理，请联系我们得到合适的提取程序。在干燥环境中，展青霉素会发生降解。不要让萃取柱干燥。蒸发洗脱液时也能引起回收率变化。因此蒸发过程中操作要谨慎，蒸干后要立即溶于溶剂中。

Magna-Mike 8600是一款利用简单的磁法对非铁性材料进行可靠且重复性极高的厚度测量的便携式测厚仪。Magna-Mike仪器的操作非常简单。测量时，在被测材料的一侧按住或移动磁探头，在材料的另一侧放上或在容器里放入一个小目标钢珠（或目标圆盘、目标钢线）。探头的霍尔效应传感器测量探头端部到目标钢珠的距离。测出的距离即刻被作为厚度读数以容易辨读的数字形式显示在屏幕上。新添特性三种坚固耐用的新型探头设计： --平直型、直角型和薄型关节式可更换防磨端 --标准型、凿尖型及加强型防磨端（仅用于86PR-1和86PR-2）更多的目标选择 --4.76毫米和6.35毫米的目标磁珠 --直径为1.14毫米和0.66毫米的钢线目标更大的厚度测量范围，可达25.4毫米更大的彩色VGA显示RS-232、USB和VGA输出快速测量更新率：60 Hz容量扩充了的字母数字式数据记录器三种新型探头设计Magna-Mike提供平直型、直角型和薄型关节式三种磁性探头。86PR-1和86-PR2探头配有可替换防磨端，从而加强了探头的耐久性，降低了更换探头的费用。 可拆卸标准防磨端 可拆卸加强型防磨端 可拆卸凿尖型防磨端 86PR-3薄型 86PR1-WC 86PR1-EWC 86PR1-CWC 关节式探头测量的厚度范围在0.001毫米到25.4毫米之间Magna-Mike为用户提供了更多的目标选项，以加强仪器的测量性能。内置字母数字式数据记录器Magna-Mike装有一个基于文件的扩展型字母数字式数据记录器，用于方便地存储和传输厚度读数。 数据记录器可以下述4种标准文件格式存储厚度读数：增量型、序列型、带自定义点的序列型，及两维栅格型。可使用WINXL直接将数据以单独发送形式或文件发送形式传送到Excel电子数据表中将数据发送到其它SPC程序中USB和RS-232两个输出将文件以.txt格式或CSV格式导出到可插拔microSD卡中创建机载报告直接与Excel电子数据表连接Magna-Mike 8600带有RS-232和USB输出，可使仪器将数据直接传送到Excel电子数据表中。内置WINXL接口程序可以单独发送形式或文件发送形式传送厚度读数。WINXL接口程序-END-

?进口MIKE3型最小点火能测试仪 ●产品介绍：1)MIKE3最小点火能测试仪用于测试能够引起粉尘云爆炸的火花最小能量，评价粉尘云的潜在爆炸危险性。2)仪器由粉尘扩散装置哈特曼管，能量控制箱和电压图表记录器组成。3)能量控制箱可提供从1mJ到2000mJ的火花能量，最大充电电压为15kV。4)电压图表记录器可记录电容放电过程中的电压变化，计算出电弧真正释放的能量大小。5)符合ASTM E2019-03，IEC 61241-2-3，GB/T 16428《粉尘云最小着火能量测定方法》要求。6)粉尘爆炸危险潜伏在粉末处理的操作过程中，其影响可能是灾难性的，会导致巨大的财产损失，并且对人员生命造成严重威胁。对易燃性，点火灵敏度和爆炸强度的全面理解是安全处理粉尘的关键。实验室测试是对相关参数定性定量分析的一个重要部分。粉尘与空气混合，能形成可燃的混合气体，若遇明火或高温物体，极易着火，倾刻间完成燃烧过程，释放大量热能，使燃烧气体骤然升高，体积猛烈膨胀，形成很高的膨胀压力。燃烧后的粉尘，氧化反应十分迅速，它产生的热量能很快传递给相邻粉尘，从而引起一系列连锁反应。 ●技术指标：1)爆炸容器：修饰过的哈特曼管， V= 1.2L；2)粉尘扩散系统：蘑菇形的喷嘴；3)火花能量范围: 1 mJ~ 2000 mJ；4)充电电压(在1 mJ~10 mJ时)：15 kV；5)充电电压(在30mJ~1000 mJ时)：11kV；6)火花能量触发(在1 mJ~3 mJ时)：高电压延迟； 7)火花能量触发(在10 mJ~1J时)：可移动电极；8)感应(提供)：1.0 mH；9)感应(不提供)：0.01 mH；10)电容规格：20nF , 6nF ,2nF , 600pF；11)软件：可用于分析结果，各种参数的影响评估等；11)压缩空气：7 bar；12)仪器尺寸WDH: 553 x 620 x 980mm；13)仪器电源要求： 230V，50Hz； ●结果判定：1)试验某一物质的MIE应该在不能点燃粉尘云的能量与恰好能引起点火的能量之间，能量区间应尽可能地小。遇到很低的MIE（比如25mJ）时，连续的MIE测试易给出分散的结果，原因是被测粉尘云潜在的特性不一致。2)MIE测试是一个静态测试，影响粉末的MIE的已知参数包括物质本身，颗粒大小以及湿度等因素，所以为测试提供的粉末状样品必须是工厂具有代表性的样品。还应该参考样品的产品说明和其他相关信息。3)应该注意的是，测试得到MIE结果只适用于测试状态中的粉尘，而任何压力、温度和湿度环境的改变都会影响粉尘的MIE测试结果。 ●订购信息：1)进口MIKE3型最小点火能测试仪； ?

Magna-Mike 8600 Magna-Mike 8600是一款利用简单的磁法对非铁性材料进行可靠且重复性极高的厚度测量的便携式测厚仪。Magna-Mike仪器的操作十分简单。测量时，在被测材料的一侧按住或移动磁探头，在材料的另一侧放上或在容器里放入一个小目标钢珠（或目标圆盘、目标钢线）。探头的霍尔效应传感器测量探头端部到目标钢珠的距离。测出的距离即刻被作为厚度读数以彩色大字体形式显示在屏幕上。 新添特性 l 两种坚固耐用的新型探头设计：--平直型和直角型l 可更换防磨帽--标准型、凿尖型及加强型防磨帽l 更多的目标选择--3/16和1/4英寸的目标磁珠--目标钢线l 更大的厚度测量范围，可达25.4毫米l 更大的彩色VGA显示l RS-232、USB和VGA输出l 快速测量更新率：60 Hzl 可编辑的密码式仪器锁定方式l 设计符合IP67标准l 容量扩充了的字母数字式数据记录器l 保存校准文件，并可调用所存储的校准文件l 新型台式机身结构，带有改进的仪器支架l 可将文件以.txt和CSV格式导出到MicroSD卡中l 新附件盒（校准盒）--标准试块，厚度可达9.1毫米--扩展的范围，可达25.4毫米--目标圆盘盒--目标钢线盒l 带状图视图 带有统计数据的带状图视图两种新型探头设计，带有可替换防磨帽 Magna-Mike提供平直型和直角型两种磁探头。这两种探头都配有可替换防磨帽，从而加强了探头的耐久性，降低了更换探头的费用。 可拆卸标准防磨86PR1-WC 可拆卸加强型防磨帽86PR1-EWC 可拆卸凿尖型防磨帽86PR1-CWC 测量的厚度范围在0.001毫米到25.4毫米之间 Magna-Mike为用户提供了更多的目标选项（6个不同的目标钢珠、2个目标圆盘以及1个目标钢线），以加强仪器的测量性能。 目标最小厚度最大厚度带有标准防磨帽时的精度基本校准多点校准1/16英寸（1.58毫米）钢珠（80TB1）0.0001英寸（0.001毫米）0.080英寸（2.03毫米）4%3%1/8英寸（3.17毫米）钢珠（80TB2）0.0001英寸（0.001毫米）0.240英寸（6.1毫米）4%2%3/16英寸（4.76毫米）钢珠（80TB3）0.0001英寸（0.001毫米）0.360英寸（9.1毫米）3%1%1/4英寸（6.35毫米）钢珠（80TB4）0.0001英寸（0.001毫米）0.360英寸（9.1毫米）3%1%新添3/16英寸（4.76毫米）磁珠（86TBM3）0.160英寸（4.06毫米）0.750英寸（19.05毫米）3%1%新添1/4英寸（6.35毫米）磁珠（86TBM4）0.160英寸（4.06毫米）1.00英寸（25.4毫米）3%1%0.500英寸（12.7毫米）平沿圆盘（80TD1）0.0001英寸（0.001毫米）0.360英寸（9.1毫米）3%2%0.250英寸（6.35毫米）V型沿圆盘（80TD2）0.0001英寸（0.001毫米）0.240英寸（6.0毫米）3%2%新添直径为0.045英寸（1.14毫米）的钢线（86TW1）0.160英寸（4.06毫米）0.500英寸（12.7毫米）3%2% 注释：测量误差 = ± [（精度× 厚度） + 0.0001英寸]测量误差 = ± [（精度× 厚度） + 0.003毫米]内置字母数字式数据记录器 Magna-Mike装有一个基于文件的扩展型字母数字式数据记录器，用于方便地存储和传输厚度读数。 数据记录器可以下述4种标准文件格式存储厚度读数：增量型、序列型、带自定义点的序列型，及两维栅格型。 l 可使用WINXL直接将数据以单独发送形式或文件发送形式传送到Excel电子数据表中l 将数据发送到其它SPC程序中l USB和RS-232两个输出l 将文件以.txt格式或CSV格式导出到可插拔MicroSD卡中l 创建机载报告直接与Excel电子数据表连接 Magna-Mike 8600带有RS-232和USB输出，可使仪器将数据直接传送到Excel电子数据表中。内置WINXL接口程序可以单独发送形式或文件发送形式传送厚度读数。 WINXL接口程序

ZW-B青霉素振荡器已广泛普及于各医院注射室及卫生防疫等单位的化验室,主要作青霉素等标准瓶药液混合之用。性能： 电 源: 交流220V 振荡频率: 1200次/分 容 量: 20个瓶 机 重: 1.2KG 功 率: 25W 连续工作: 4小时 用法： 将需混合的药液瓶插入振动夹具内,接通电源,打开电源开关,绿灯亮,即开始工作。注意： 振动台靠弹簧钢丝支撑,切勿重压,电源一定要用接地线。本厂产品：（本厂除以下产品外，还可根据客户需求订制仪器，欢迎来电咨询）系列培养箱，系列气浴、水浴恒温振荡器，系列调速多用振荡器，系列磁力搅拌器、电动搅拌器，系列水浴锅、沙浴、水箱、离心机，系列捣碎、粉碎、匀浆机，系列不锈钢电热板、升降台、恒温板，系列石英亚沸、不锈钢蒸馏水器，系列电炉、恒温载物台，系列分析仪器。

产品描述 米克罗喷气筛占地面积分析器Mikro Air Jet Sieve™ AnalyzerBasic Mikro Air Jet Sieve™ for 200mm Test Sieves型号: AJ-103 Basic Mikro Air Jet Sieve™ for 8in Test Sieves型号: AJ-103B Advanced Mikro Air Jet Sieve™ for 200mm Test Sieves型号: AJ-105 Advanced Mikro Air Jet Sieve™ for 8in Test Sieves型号: AJ-105B米克罗喷气筛占地面积为10～100g干粉样品，从4号到635号（4.75～20μm），是一种准确可靠的单筛分体系。手术干净、安静。旋转开槽喷嘴提供正空气压力，以便在覆盖的试验筛中使样品缓慢流态化。从外部真空系统向下抽取空气，产生负压以将尺寸较小的颗粒输送到收集罐中。空气喷射筛分作用温和、有效，特别适用于易碎或低比重材料。测试时间和真空/压力设置通过集成计算机控制，具有电容式触摸屏控制和显示。基本或先进的版本提供，每一个单独的模型配置为与ISO 200mm和旧型空气喷射测试筛，或用ASTM 8in（203mm）直径测试筛。联系客户服务零件采用任一型号采用交替筛分尺寸。美国制造。AJ-103 Basic Mikro Air Jet Sieve占地面积适用于特定微米尺寸的评价。它由一个带有清晰的丙烯酸筛网盖子、开槽的黄铜空气喷嘴、电子控制和集成计算机和触摸屏显示器的基础单元组成。15瓦锥齿轮马达具有终身润滑轴承。铸铝仪器外壳具有内置压力差计，并有烤漆完成。集成的电源插座为真空系统提供了方便的连接，该真空系统是分开购买的。在壳体出口处监测真空，并具有调节阀。AJ-103可接受200mm ISO测试筛或老式空气喷射试验筛。AJ-103B型号配置为ASTM E118in（203mm）直径测试筛。AJ-105 Advanced Mikro Air Jet Sieve占地面积包括具有高级菜单驱动软件的基本模型。软件从多个测试筛网中收集和计算颗粒大小，然后生成分布。先进的模型可以通过USB、WiFi或CAT 5电缆和兼容的平衡通过RS-232连接连接到兼容的打印机。附加的高级模型功能包括分析和USB数据备份的比较覆盖。这个模型可以直接订购或者通过购买简单的AJ-111高级软件升级来在现有的基本单元上解锁这些特征。AJ-105可接受200mm ISO试验筛或老式空气喷射试验筛。AJ-105B型号配置为ASTM E118in（203mm）直径测试筛。AJ-105型号或升级需要单独购买AJA135电子天平。天平的容量为4200克，可读性为0.01g，并配有接口电缆。操作需要真空系统并单独购买。AJA—134真空系统推荐在各种各样的材料上获得最佳性能，包括非常精细和导电的样品。AJA—133标准真空系统具有低噪声1000瓦电机和4GAL（15L）容量的低轮廓环氧内衬钢滤罐。注意，标准真空系统不是为导电材料或具有高细粒含量的材料设计的。AJA-4旋风收集器与真空系统结合使用，保证了亚微米细粉的最大回收率。功能特色10～100g干粉样品4.75～20μm的准确可靠系统适用于脆性或低比重材料的筛分作用低轮廓O形环 )AJA—135电子天平使用AJ-105先进MIKRO喷气发动机的要求AJ-111高级软件升级AJ-103型Mikro喷气式喷气发动机升级为全功能AJ-105先进机型

瑞士丹青S_Mike Pro系列数显外径千分尺全新传动设计，每一转能驱动测量轴移动12mm，测量轴不旋转，恒力测量(5N/10N)，测力可调，闲置五分钟自动关机。只需三把千分尺能覆盖102mm测量范围，具有原点记忆功能，线性误差补偿功能，Proximity-USB/RS232数据输出接口，产品符合DIN863标准，可配无线、蓝牙传输模块。

一．ZW-B型药物振荡器概述： 该药物振荡器广泛用于医院各病房、急诊室、注射室、保健院等场所，用于青霉素药瓶的振荡。 二．ZW-B型药物振荡器技术参数： 1．频率：3000次/分 2．振幅：6mm 3．工作量：1-20瓶/次 4．电源：220V ，50HZ 5．整机尺寸：260×250×160mm 三．ZW-B型药物振荡器使用方法： 1．把要混匀的粉剂瓶均匀摆布，然后接通电源，打开电源开关，指示灯亮。 2． 根据粉剂溶解状况，选择合适的振荡速度；机器工作完毕后，关闭电源，取下粉剂瓶。 四．ZW-B型药物振荡器注意事项： 1．仪器必须使用三蕊接地插头，有可靠接地。 2． 工作完毕，建议拔下插头，以防止电源松动而造成危害。

一．ZW-B型药物振荡器概述： 该药物振荡器广泛用于医院各病房、急诊室、注射室、保健院等场所，用于青霉素药瓶的振荡。 二．ZW-B型药物振荡器技术参数： 1．频率：3000次/分 2．振幅：6mm 3．工作量：1-20瓶/次 4．电源：220V ，50HZ 5．整机尺寸：260×250×160mm 三．ZW-B型药物振荡器使用方法： 1．把要混匀的粉剂瓶均匀摆布，然后接通电源，打开电源开关，指示灯亮。 2． 根据粉剂溶解状况，选择合适的振荡速度；机器工作完毕后，关闭电源，取下粉剂瓶。 四．ZW-B型药物振荡器注意事项： 1．仪器必须使用三蕊接地插头，有可靠接地。 2． 工作完毕，建议拔下插头，以防止电源松动而造成危害。

纳米颗粒制备 我司提供专业的纳米颗粒制备仪，可以满足用户不同需求的应用。100克至几批的纳米颗粒批次每年可以用ParteQ的FSP生产系统。这些单元可以连续运行，允许甚至可以生产24/7纳米粉。此外，通过ParteQ获得的结果。实验室规模的系统可以转移到更大的生产单位。例如，纳米材料用ParteQ NPS-20台式机开发系统或类似的实验室反应堆可以是用我们的公斤数量制造连续的FSP工厂。 ParteQ提供三条不同尺寸的线用于纳米粒子生产：建议将S系列用于几百克M系列是最适用于500 g至50 kg的数量。L系列针对想要的客户连续生产纳米粒子每小时几公斤，目标是超过50公斤每年最多。 ParteQ S系列，M系列和L系列为一站式服务包含用于前体和模块的系统气体输送，纳米颗粒生成和产品集合。各个模块可以为顾客量身定制。 S系列：50克/小时S系列基于实验室规模的Flame喷雾热解反应器也是NPS-20台式系统。而NPS-20旨在产品开发，提供每批次纳米克量的S系列可以制造几百克相同的纳米材料。例如，当连续生产约50克/小时，可以将300克纳米颗粒。在一天之内轻松获得。ParteQ FSP S系列：连续纳米粉。实验室规模的合成。最适合生产纳米颗粒的批量可达?500 g。 S系列是完全封闭的独立式系统。移动钻机基于铝大型检修门的型材。所有FSP必需的组件已集成进入钻机：火焰喷雾热解反应器流量控制器，前驱泵，颗粒集尘袋式过滤器，离心风机以及入口和出口安全过滤器。 M系列：500克/小时，如果千克数量的纳米颗粒是需要，中型M系列是系统选择。生产能力从约100克/小时，可达2千克/小时，取决于产品材料和操作条件。该系统由PLC，甚至允许使用24/7纳米粉生产。 实际上，M系列已经是一个很小的过程固定的脚印的工厂大约4 m x 6 m。房间高度应在至少5 m。 L系列：5,000克/小时L系列是真正的纳米粉产品，可以连续运行的工厂，每周7天24小时。操作范围开始大约每小时1公斤，可能会超过5公斤/小时，取决于产品材料和条件。 L系列的设计类似于较小的M系列，但使用的组件更大的尺寸。例如，搅拌250或500 L建议使用前驱箱涵盖一天的原料供应。喜欢M系列，该系统是全自动的并由PLC控制。与M系列一样，所有L系列工厂为客户量身定做。

魔技纳米UV-Smart桌面级无掩膜直写光刻设备专为实验室科研需求和小批量生产设计。其小巧紧凑的设计使其适用于实验室环境，并具有高直写速度、高分辨率和高对准精度等特点。采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适合快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

魔技纳米UV-Ultra高性能无掩膜直写光刻设备UV-Ultra是一款专为高端和工业级应用而设计的高性能无掩膜直写光刻设备。它采用先进的超高速加工方式，采用自研算法和高性能硬件，实现更高的对准、拼接和套刻精度。具备高直写速度和高分辨率，适用于快速、精准的加工需求。MN-UV-Ultra采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适用于高达12英寸的基材。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

霍梅尔-艾达米克W20便携式粗糙度仪:霍梅尔(业纳)便携式粗糙度仪HOMMEL-ETAMIC W20 德国HOMMEL粗糙度仪/表面粗糙度检测仪霍梅尔-艾达米克W20是采用无导头探测系统的便携式测量仪，可测量DIN EN ISO 4287，DIN EN ISO 13565，ISO 12085和JIS B601MOTIF标准下的 72 种参数。 德国HOMMEL粗糙度仪/表面粗糙度检测仪霍梅尔-艾达米克W20特点一览：1，探测**-由于采用了无导头的探测系统，所以可移动测量所有常见的粗糙度、波纹度和原始轮廓特性参数。2，定*位自动-配置了电动测头降低系统，所以测头可自动在工件表面定位并提起。3，测量灵活-内装蓄电池，所以使用时不需外部电源，尽显移动测量的灵活性。4，信息广*泛-可显示特性参数、微观轮廓图形、支撑率曲线和统计数据。5，操作简单-通过配置上下文提示功能键的触摸屏，操作简单。6，记录方便-集成了打印机、可即时记录测量结果文件，简单方便。7，测量可靠-通过内置的粗糙度标准块可即时检测测量仪，保证了测量的可靠性。 德国HOMMEL粗糙度仪/表面粗糙度检测仪霍梅尔-艾达米克W20技术参数：非滑靴式粗糙度测头，*大扫描长度 20mm，截止波长0.25/0.8/2.5mm可设置7种程序，并配置独立的评估条件4.3寸彩色触摸显示屏可直观显示相关参数、轮廓、曲线及统计数据德国HOMMEL粗糙度仪霍梅尔-艾达米克W20内置打印机内存可容纳 2000 个数据及 500 条轮廓数据USB 电缆可与电脑连接Waveline 20 驱动单元，驱动长度 20mm，直线度 0.2um/20mm自动回零功能，调平范围 ±2°测针TTKL 300L 2um/90°，测量范围 300um 探测全面-由于采用了无导头探测系统，所以可移动测量所有常见的粗糙度、波纹度和原始轮廓特性参数定位自动-配置了电动测头降低系统，所以测头可自动在工件表面定位和提起测量灵活-内置蓄电池，所以使用时不需外接电源，尽显移动测量的灵活性信息广泛-可显示特性参数，微观轮廓图形、支撑率曲线和统计数据操作简单-通过配置上下文提示功能键的触摸屏，操作简单记录方便-集成了打印机，可及时记录测量结果文件，方便简单测量可靠-通过内置标准粗糙度标准块，可及时检测测量仪，保证了测量的可靠性 Waveline&trade 20给进单元，用于粗糙度和波纹度的精密测量 集成启动按钮，可单手操作 配置高精密导轨，可对直线度和波纹度进行精密测量 具有不同测量速度 可测量所有位置（还可仰测） 无导头型测头范围广，可针对不同应用情况 测头自动下沉 测头在工件表面自动定位并自动调整所选的测量范围 测量结束时测头自动抬起，可在换工件时免受损坏 通过触摸屏完成上下文提示操作8个测量程序针对4个基本功能的功能键可评价所有常见的粗糙度、波纹度和原始轮廓特性参数公差评估的可能性广通过触摸屏快速且舒适输入其他数据清晰显示测量结果：特性参数、轮廓线图形、交互支撑率曲线、广泛的统计功能 Waveline&trade 20测量站 能使移动式W20变成完整的固定式测量站 带T型槽的石板规格400X280mm 高度可调范围300mm 回转装置的回转范围：±45° 可选配测量平台和其他附件

魔技纳米PROME-Uni基于多光⼦ 聚合原理的超⾼ 速度一体化纳米级三维加⼯ 设备自研专利技术，大幅提高加工效率，突破多光子聚合速度限制，适应不同尺度的精密加工需求；拥有多项稳定系统，可长时无需维护，稳定工作；采用模块化的光机电设计，拥有极高的灵活性和可扩展性；为科研和工业领域提供全新的3D加工技术解决方案，适用于微光学器件、微流控芯片、微机械、超材料、微纳传感器件光子芯片集成等领域 主要特点： 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

μMLA桌面式无掩膜激光直写机 / 光刻机The Table-Top Maskless Aligner适合科研领域的实验室与学术研究所μMLA是新一代桌面式激光直写仪的技术，在科研微结构的应用领域中是一台入门级的工具。μMLA具有灵活性和可定制性，可支持毫米大小范围的样品。主要产业应用有：半导体芯片、微机电、微流体、微光学、传感器、掩膜版以及其它有微纳米结构需求的科研领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备 / 光刻机HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

魔技纳米DLW-Bio专为生物应用设计的加工检测一体纳米级三维激光直写设备DLW-Bio具备纳米级高精度3D加工能力，满足复杂生物结构的微纳制造需求，同时可兼有生物荧光显微功能。设备配备多种生物样品台，可根据具体需求灵活配置和定制，适应不同生物医学样品和微流控芯片等打印要求。该设备还特别配备多种生物相容性打印材料，包括无生物毒性且具备亚微米特征和高纵横比的光敏聚酯、水凝胶，均符合ISO-10993-5/USP87标准，可在生物医学领域安全应用。用户可以根据研究需要选择适合的材料，实现定制化的生物医学样品打印。从组织工程到微流控芯片，从药物递送系统到个性化医疗，DLW-RD-Bio为多样化的生物医学应用提供强大的材料支持。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍] 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

魔技纳米MJ-Works-Fiber专为光纤应用设计的纳米级三维激光直写设备MJ-Works-Fiber是一款专为光纤传感与光通信应用而生的超高精度加工而设计的高性能3D激光直写设备，配有超清成像及纳米级定位对准系统，可实现在光纤纤芯或光芯片表面及内部进行纳米级3D加工。配备有专门的卷对卷光纤自动输送装置，并配有应力监测，纤芯自动识别、定位及对准，实现高通量精准快速生产。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。【企业简介】魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

PriboFast 228黄曲霉毒素、展青霉素固相净化柱 产品名称：（黄曲霉毒素、展青霉素）固相净化柱 产品概述：黄曲霉毒素毒素是一类真菌（如黄曲霉和寄生曲霉）的有毒的代谢产物，它们具有很强的致癌性，是一种毒性极强的剧毒物质.黄曲霉毒素的危害性在于对人及动物肝脏组织有破坏作用,严重时,可导致肝癌甚至死亡,在天然污染的食品中以黄曲霉毒素B1最为多见,其毒性和致癌性也是最强的。黄曲霉毒素B1经常在玉米，花生，棉花种子，一些干果中常能检测到。 许多青霉能产生展青霉素，它们主要生长在水果上。这种毒素会引起动物的胃肠道功能紊乱和各种不同器官的水肿和出血。扩展青霉和展青霉的生长和产毒素的温度范围同样很宽，为0-40℃，最佳温度为20-25℃，最适产毒的pH范围是3-6.5。 产品功能：（黄曲霉毒素、展青霉素）多功能净化柱可选择性吸附样品液中的（黄曲霉毒素、展青霉素），从而对样品起到非常针对性的纯化作用，过柱净化后的样品液可直接用于液相进行呕吐毒素、雪腐镰刀菌烯酮含量的检测。 适用范围及性能: （黄曲霉毒素、展青霉素）多功能净化柱用于定性、定量检测谷物、食品、饲料、酒类等样本中的呕吐毒素、雪腐镰刀菌烯酮时的样品前处理。 产品特点： 采取多重复合填料吸附杂质 一步快速净化，时间短（30s左右） 独特设计原理：干扰物被截留在柱内填充物，待测毒素通过净化柱 可同时净化多种霉菌毒素 稳定性高，30个月以上 回收率高，90%以上 适用于食品、粮食、饲料、饮料、中药材等样品的净化 样品提取步骤： 样品提取 ? 称取25g磨碎样品 ? 加100ml 84/16 乙腈/水 ? 振荡1hr/高速搅拌混匀3min ? 过滤

KJ-202药物振荡器产品概况：◆ 设计合理，正常工作时，机身稳定，不移位、无噪音。◆ 选用不同规格的工作盒，可实现对粉剂药物、液基细胞标本进行快速混匀。◆ 采用高效交流电机，特有的风冷装置，可保证仪器长时间安全有效运行。◆ 可根据实验要求，定制工作盘，以满足不同类型的容器混匀。产品参数：运行方式：水平圆周周转直径：3.4mm额定范围：1000rpm运行模式：连续输入功率：12W输入电压（频率）：AC 220V±10%(50/60Hz)允许相对湿度：80%允许环境温度：5-50℃外壳防护等级：IP21外形尺寸：235*160*160mm净 重：2.3Kg药物振荡器可选工作面板：

厦门福流生物科技有限公司自主研发的纳米流式检测仪（Flow NanoAnalyzer）是一款真正具有单个纳米颗粒（100 nm）多参数综合表征能力的流式产品，是纳米尺度颗粒（7-1000 nm）的有效表征设备，可以在单颗粒水平对生物纳米颗粒的物理化学和生化性状进行快速的多参数综合表征，填补了国际空白，在核酸疫苗、外泌体、疫苗/病毒（慢病毒、腺病毒、腺相关病毒）、纳米药物、细菌、亚细胞器等生物医药领域均有成熟的解决方案，对生物医学和纳米科技的创新发展形成非常重要的助力。详细参数如下：1.前所未有的检测灵敏度和分辨率。2. 梯度稀释的线性相关性和重现性。福流生物的纳米流式检测仪（Flow NanoAnalyzer）可实现外泌体、亚细胞结构、细菌、病毒等天然生物纳米颗粒以及功能化纳米颗粒的表征，为流式分析技术打开了通往纳米世界的窗口。通过对单个7-1000 nm纳米颗粒的粒径、颗粒浓度以及生物化学性质(表面蛋白、核酸、磷脂等)的高分辨、高通量检测，纳米流式检测仪为生命科学和生物医学研究以及纳米科技的发展提供了一个强有力的表征手段。 纳米流式检测仪填补了国际空白，客户遍布全球顶级机构，全球用户接近200家，如美国安德森癌症中心、梅奥诊所、约翰霍普金斯大学、美国国立卫生研究院（NIH）、Codiak Biosciences、EVOX、帝国理工大学、悉尼大学、第一三共、葛兰素史克、赛诺菲、台湾大学、复旦大学等全球高水平研究机构和高科技公司，获得全球机构和科研院所的认可，欢迎电话咨询或留言进行了解！

魔技纳米DLW-RD桌面级经济型三维激光直写设备DLW-RD基于多光子聚合原理，具有封闭光路设计，独特隔振温控系统，使得小型化、经济型设备也具有加工过程中的长时稳定性。得益于多光子聚合和高自由度的设计，给出了一种经济型纳米级3D制造的解决方案，适配多功能的材料，可应用于生物医学工程、微光学器件、超材料等应用领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。【企业介绍】 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，紫外曝光机等；美国公司为全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。3D SEM image mosaics stitched over large areas and in 3D with CAD shape extractionThe CHIPSCANNER combines high-resolution electron optics, multiple high-efficiency electron detectors, and ultra-precise Laser Interferometer Stage technology with unique software to deliver homogenous large-area image mosaics for each layer with minimum stitching errors and stable brightness/contrast values and CAD shape extraction. With features such as&bull Active focus control using laser height sensing&bull Highest position and beam accuracy and stability, and&bull A wide range of selectable electron detectors,the CHIPSCANNER produces the most accurate large-area, high-resolution image mosaics directly acquired by an SEM instrument. Since the absolute position of each pixel, even over cm² , is ultimately known to the accuracy provided by the laser interferometer stage and ultra-precise image calibrations, these images can be precisely stacked (3D-stitched).Various high-speed detectors, flexible working distance, parallel detector stream handling and a high-speed scan generator allow precise and flexible image acquisition that is also high throughput.Large-area, ultra-high-resolution 3D SEM imaging applications in chip reverse engineering, materials science, and life sciences (e.g. connectomics) require surfaces of up to cm² areas to be scanned with nm resolution and excellent layer to layer accuracy (‘3D stitching’) for layout and schematic extraction or 3D modeling. While traditional SEM instruments are inherently limited by small, uncalibrated fields of view (FOVs) and imprecise sample positioning, the CHIPSCANNER addresses these challenges by combining the resolution and flexibility of an SEM instrument with the accuracy, stability, and automation of an electron beam lithography (EBL) instrument – a core area of expertise at Raith. High-resolution, large-area image mosaics are created by capturing sequential SEM images and stitching them together for further analysis, while the laser interferometer stage and field-of-view calibration reduce overlap to an absolute minimum and thus reduce required computing. A true large-area 3D SEM!

1 产品概述: 电子束光刻（E-beam Lithography，简称EBL或EBD）设备，是在电子显微镜基础上发展起来的一种用于微电路研究和制造的曝光技术。它作为半导体微电子制造及纳米科技的关键设备，主要通过高能量电子束与光刻胶的相互作用，实现高精度的曝光和图形制作。电子束光刻设备主要包括电子光学系统、图形发生器系统、真空系统以及高精度运动系统等核心组件。2 设备用途：电子束光刻设备具有广泛的应用领域，主要包括：半导体制造：用于制作光刻掩模版，是半导体芯片制造中不可或缺的一部分。特别是在EUV光刻机掩模版的制作上，目前只能依赖于电子束光刻技术。纳米科学技术研究：由于电子束光刻具有极高的分辨率，它能够制造出微米甚至亚微米级别的精细结构，因此在纳米科技领域有着广泛的应用。集成电路制造：在集成电路的制造过程中，电子束光刻技术用于制作高精度、高密度的芯片结构，提高芯片的性能和可靠性。3 设备特点电子束光刻设备具有以下显著特点：高分辨率：相比于传统光刻技术，电子束光刻技术可以实现更高的分辨率，能够制造出更精细的图案和结构。高精度：电子束光刻设备具有极高的制造精度，能够满足微纳加工领域对精度的严格要求。灵活性：电子束光刻技术可以灵活曝光任意图形，适应不同形状和尺寸的加工需求。高速度：现代电子束光刻设备已经实现了高速、连续的加工过程，大大提高了生产效率。真空环境：设备中的真空系统提供了稳定的真空环境，消除了空气对加工过程的干扰，保证了设备的稳定性和生产效率。 4 技术参数和特点： 电子枪ZrO/W 热场发射型加速电压50 kV 光束电流1 nA ～ 800 nA小光束直径D 10 nm标准写场大小5000 μm□小/大写场大小小 1000 μm□ 大 5000 μm□扫描频率大 400 MHz发射间距小 1.0nm大试样尺寸8” 晶片 / 12” 晶片大绘图区域200 mm x 200 mm / 300 mm x 300 mm输送机构单自动加载器多自动加载器机器人装载机Softwareelms&bull 射束调整功能&bull 曝光文件功能&bull 图案数据转换功能&bull 帐户管理功能&bull Python脚本

1 产品概述: 电子束光刻（E-beam Lithography，简称EBL或EBD）设备，是在电子显微镜基础上发展起来的一种用于微电路研究和制造的曝光技术。它作为半导体微电子制造及纳米科技的关键设备，主要通过高能量电子束与光刻胶的相互作用，实现高精度的曝光和图形制作。电子束光刻设备主要包括电子光学系统、图形发生器系统、真空系统以及高精度运动系统等核心组件。2 设备用途：电子束光刻设备具有广泛的应用域，主要包括：半导体制造：用于制作光刻掩模版，是半导体芯片制造中不可或缺的一部分。特别是在EUV光刻机掩模版的制作上，目只能依赖于电子束光刻技术。纳米科学技术研究：由于电子束光刻具有高的分辨率，它能够制造出微米甚至亚微米别的精细结构，因此在纳米科技域有着广泛的应用。集成电路制造：在集成电路的制造过程中，电子束光刻技术用于制作高精度、高密度的芯片结构，提高芯片的性能和可靠性。3 设备特点电子束光刻设备具有以下显著特点：高分辨率：相比于传统光刻技术，电子束光刻技术可以实现更高的分辨率，能够制造出更精细的图案和结构。高精度：电子束光刻设备具有高的制造精度，能够满足微纳加工域对精度的严格要求。灵活性：电子束光刻技术可以灵活曝光任意图形，适应不同形状和尺寸的加工需求。高速度：现代电子束光刻设备已经实现了高速、连续的加工过程，大大提高了生产效率。真空环境：设备中的真空系统提供了稳定的真空环境，消除了空气对加工过程的干扰，保证了设备的稳定性和生产效率。4 技术参数和特点： 电子枪ZrO/W 热场发射型加速电压50 kV光束电流1 nA ～ 800 nA小光束直径D 2.8 nm标准写场大小1000 μm小/大写场大小小 100 μm 大（选项）3000 μm扫描频率大 100 MHz发射间距小 0.2 nm大试样尺寸8” 晶片 / 12” 晶片大绘图区域200 mm x 200 mm / 300 mm x 300 mm搬送机构单自动加载器多自动加载器机器人装载机Softwareelms束流调整功能曝光文件功能图案数据转换功能帐户管理功能Python脚本

氯霉素分子印迹固相亲和柱 Pribolab公司将先进的分子印迹技术应用于霉菌毒素高效液相色谱（HPLC）检测领域，面向全球推出基于分子印迹技术的氯霉素分子印迹固相亲和柱，在HPLC分析之前选择性地净化和浓缩样品中的毒素，整个样品处理过程不到30分钟，实现高特异性提取、纯化和富集各类样品中的展青霉素，检测灵敏度高于现行AOAC方法和欧盟标准！分子印迹技术 (molecular imp rinting technique, MIT)是一种人工合成的具有分子识别功能介质的新技术.在聚合物制备过程中,待分析检测的分子(目标分子)通过离子键 ,氢键等作用确定了分子印迹聚合物 (molecular imp rinting polymer, MIP)基质孔穴的形状、大小, 确定了聚合物功能基团的取向, 使聚合物分子结构中形成许多作用位点, 从而对目标分子保持特殊的本"记忆"具有预定识别的高度选择性。与传统生物化学识别体系相比 , MIP具有专一性高、制备简单、稳定性好、可重复使用等优点。目前MIP已应用于分析化学许多领域。Pribolab公司推出的PriboMIPTM Patulin 氯霉素分子印迹固相亲和柱，是运用分子印迹技术原理，模拟抗原抗体反应模式，配合HPLC液相方法在检测展青霉素前，将样品中的展青霉素进行特异性提纯处理和富集，完全除去其他杂质。在使用PriboMIPTMPatulin 氯霉素分子印迹固相亲和柱处理后的样品，得到的HPLC液相峰值清晰明确，不仅排除了杂质干扰，还大大提高了HPLC 液相方法的检测灵敏度。使用PriboMIPTM Patulin氯霉素分子印迹固相亲和柱进行样品处理，只需要30分钟，与其他方法的4-6个小时相比，大大节约了时间和相应的人力成本，提供了检测效率。 基本操作程序：样品萃取，离心，过滤并缓慢通过PriboMIP Patulin氯霉素分子印迹固相亲和柱，在柱内发生MIP和毒素的结合。之后检测柱被清洗以移除多余未结合的色素。净化后的展青霉素在注入HPLC前通过100％乙酸乙酯从柱中排出。 分子印迹固相亲和柱优势特点：—即可使用和优化的萃取程序—高特异性，与免疫亲和柱一样用于展青霉素痕量分析的样品净化—操作方便快捷，净化时间30分左右；—适用于不同种类的苹果及其衍生物（苹果汁和苹果酱）—符合欧盟委员会章程（EC）1881/2006—使用MIP技术高特异性提取、纯化和富集展青霉素，而且可以有效移除干扰物质：5－羟甲基糠醛（HMF）热忱欢迎新老客户致青岛普瑞邦生物工程有限公司索取PriboMIPTM Patulin氯霉素分子印迹固相亲和柱产品详细资料。

1 产品概述: 电子束光刻（E-beam Lithography，简称EBL或EBD）设备，是在电子显微镜基础上发展起来的一种用于微电路研究和制造的曝光技术。它作为半导体微电子制造及纳米科技的关键设备，主要通过高能量电子束与光刻胶的相互作用，实现高精度的曝光和图形制作。电子束光刻设备主要包括电子光学系统、图形发生器系统、真空系统以及高精度运动系统等核心组件。2 设备用途：电子束光刻设备具有广泛的应用领域，主要包括：半导体制造：用于制作光刻掩模版，是半导体芯片制造中不可或缺的一部分。特别是在EUV光刻机掩模版的制作上，目前只能依赖于电子束光刻技术。纳米科学技术研究：由于电子束光刻具有极高的分辨率，它能够制造出微米甚至亚微米级别的精细结构，因此在纳米科技领域有着广泛的应用。集成电路制造：在集成电路的制造过程中，电子束光刻技术用于制作高精度、高密度的芯片结构，提高芯片的性能和可靠性。3 设备特点电子束光刻设备具有以下显著特点：高分辨率：相比于传统光刻技术，电子束光刻技术可以实现更高的分辨率，能够制造出更精细的图案和结构。高精度：电子束光刻设备具有极高的制造精度，能够满足微纳加工领域对精度的严格要求。灵活性：电子束光刻技术可以灵活曝光任意图形，适应不同形状和尺寸的加工需求。高速度：现代电子束光刻设备已经实现了高速、连续的加工过程，大大提高了生产效率。真空环境：设备中的真空系统提供了稳定的真空环境，消除了空气对加工过程的干扰，保证了设备的稳定性和生产效率。 4 技术参数和特点：电子枪ZrO/W热场发射型加速电压50 kV 光束电流1 nA ～ 800 nA小光束直径D 2.8 nm标准写场大小1000 μm□ 小/大写场大小小 100 μm大（选项）3000 μm扫描频率大 400 MHz发射间距小 0.2 nm大试样尺寸8” 晶片 / 12” 晶片大绘图区域200 mm x 200 mm / 300 mm x 300 mm输送机构单自动加载器机器人装载机Softwareelms&bull 束流调整功能&bull 曝光文件功能 &bull 图案数据转换功能&bull 帐户管理功能&bull Python脚本

NanoFrazor Scholar适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域 Thermal Scanning Probe Lithography Toolwith In-situ Imaging and Grayscale Patterning Capabilities适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域原位成像和灰度光刻模块的热探针光刻解决方案NanoFrazor® Scholar特别适合纳米加工研究的学术单位，用于在1D/2D 材料，例如量子点和纳米数组上制作量子器件的纳米结构，其独特的功能使能够应用任何新材料。例如，灰度光子学设备、纳米流道结构或用于细胞生长的仿生基质等进阶应用；通过加热探针对材料进行局部改性，例如化学反应和物理相变。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM 德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

魔技纳米MJ-Works适用多种材料的超快激光微纳加工中心超快激光微纳加工中心，不仅拥有纳米级3D加工能力，还配备了双波长飞秒激光输出，可加工更广泛的材料。可对玻璃、光纤、晶体内部和表面进行改性或刻蚀，也可对金属、合金、陶瓷等硬质材料进行微米级精度的处理，包括打孔、表面结构处理、选择性激光消融、改性等多种功能。MJ-Works同样拥有高精度、超高速度的特点，并且可进行大幅面加工、全自动操控、长时稳定性、简单直观的软件操作以及适配多种材料的特点，适用于微纳光学、生物医学、半导体、光通信等行业的微纳加工领域。 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

【实验箱配件列表】 1. 教学型扫描隧道显微镜，包括：(1)STM扫描头；(2)具有10倍放大镜的屏蔽罩；(3)大理石隔震台；(4)电子控制器；(5)USB线和电源线。 2. 工具盒：扁嘴钳子、剪刀、尖口镊子、样品支架、铂铱丝（Pt-Ir）金属探针等。 3. 软件安装盘。【特点】 ● 一体化精致设计，安装简单，携带方便 ● 操作步骤简单，适于中学或大学教学 ● 在普通实验环境下便可快速获得原子图像 ● 低电压操作，确保实验安全 ● 功能强大的图像处理、数据 分析软件，可观测三维原子图像【应用】 ● 多学科教学：物理、化学、纳米科技等 ● 观测原子、分子等微观粒子，认识纳米尺度下的微观图像 ● 可分区导体和非导体 ● 可拓展：实现纳米操纵和刻蚀，操纵微观粒子【主要技术指标】

产品简介普识纳米SR532科研型成像显微拉曼光谱仪（带制冷台）是一款带制冷型532nm拉曼，制冷最低可到-50℃，可配置显微镜使用，对比常规便携式拉曼光谱，通过智能的化学成像和数据采集方法，通过快速探查整个样品区域，准确找到需要找寻的目标，简便地呈现直观信息并获取高质量的化学成像，加速推进新老用户的科学研究。 PERS-SR320R系列科研型拉曼光谱仪制冷型拉曼是针对科研应用开发的高分辨率实验室分析级拉曼光谱仪，主要适用于高校、科研单位、企业拉曼研发等场景 。不同的性能配置，模块化的定制型设计，方便客户根据需要自由选择和迭代升级。 除满足高性能的常规拉曼分析外，PERS-SR系列配套使用厦门大学研发的超高灵敏度的增强试剂，还可用于痕量甚至超痕量级拉曼增强（SERS）技术的开发和应用研究，拓宽拉曼光谱技术在实验检测中的应用。产品优势532nm制冷型拉曼光谱，可拥有更加优异的信噪比。配合独创壳层隔绝表面增强技术，信号放大至百万倍级别。外观简单，轻松便携： 整机一体化设计，美观、耐用，轻便、小巧，方便携带，适用于实验室，现场等多种场合。宽光谱范围： 光谱范围最高可覆盖至8000cm-1（模块化的光谱范围）。光纤耦合，采样更方便： 灵活的光纤探头可在不同位置进行测量。制冷CCD，信噪比更佳： 高品质制冷CCD，灵敏度高，提供了系统所需的高信噪比。建模简单： 只需按照软件的日式逐步操作即可。PERS-SR530R技术参数探头光纤配置 光谱范围 200cm-1-8000cm-1制冷载物台：可至-30℃波长分辨率 3.4-16cm-1 波长稳定性 0.1nm/℃(标准)激发波长 532±0.5nm，线宽＜0.08nm激光功率稳定性 ≤3% P-P(@2hrs)激光器使用寿命 10000.00hrs 或1年电源电压 100-240VAC@50/60Hz输出功率 0~500mW可调积分时间 4ms-20S工作/储存温度 0-45℃工作/储存湿度 5%-80%