当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

二氢左炔诺孕

仪器信息网二氢左炔诺孕专题为您提供2024年最新二氢左炔诺孕价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括二氢左炔诺孕参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的二氢左炔诺孕您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合二氢左炔诺孕相关的耗材配件、试剂标物,还有二氢左炔诺孕相关的最新资讯、资料,以及二氢左炔诺孕相关的解决方案。

二氢左炔诺孕相关的耗材

  • 填充柱〖25% 癸二腈 on Chromosorb P NAW〗
    气相色谱填充柱〖25% 癸二腈 on Chromosorb P NAW〗部件号描述规格LDPC20618-09025% 癸二腈 on Chromosorb P NAW 80-100mesh 填充柱1/8"*9m1. 柱管无特殊说明均为进口不锈钢管,有PEEK管、镍管、惰化管等柱管材料可选2. 采用进口优质填料,填装均匀3. 柱长度可依据客户要求订做4. 色谱柱两端的螺母压环等连接件均可选购,请及时沟通,以免无法连接
  • 科德诺思 Florisil 弗罗里硅土 固相萃取柱
    科德诺思(KNORTH)Florisil 弗罗里硅土 固相萃取柱萃取农药多残留农残级Florisil经675℃活化,是一种强极性、高活性的多孔吸附剂,可吸附低极性和中等极性的目标化合物,如含氯、氮和磷的有机农药。在农药多残留检测中,Florisil柱效果好,成本低,为美国EPA 608方法和中国农业部NY/T 761方法采用。特点:l 对大多数农药均有很好的保留l 使用成本低 参数:l 粒径:100 - 200 μm 应用:l 检测食品中的有机氯农药、有机磷农药残留和真菌毒素l 检测环境样品中的内分泌干扰物和农药残留l 分析油脂中脂肪酸l 富集金属离子相关标准: EPA 608 有机氯杀虫剂和多氯联苯的检测 NY/T 761 第二部分 蔬菜和水果中有机氯类、拟除虫菊酯类农药多残留的测定 NY/T 1720-2009 水果、蔬菜中杀铃脲等其中苯甲酰脲类农药残留量的测定 高效液相色谱法 SN/T 0134-2010 进出口食品中杀线威等12种氨基甲酸酯类农药残留量的检测方法 液相色谱-质谱质谱法 HJ 715-2014 水质 多氯联苯的测定 气相色谱-质谱法 HJ 743-2015 土壤和沉积物 多氯联苯的测定 气相色谱-质谱法 GB 23200.1-2016食品安全国家标准除草剂残留量检测方法 第 1 部分:气相色谱-质谱法测定粮谷及油籽中酰胺类除草剂残留量 GB 23200.2-2016 食品安全国家标准除草剂残留量检测方法 第 2 部分:气相色谱-质谱法测定 粮谷及油籽中二苯醚类除草剂残留量l GB 23200.18—2016 食品安全国家标准 蔬菜中非草隆等15种取代脲类除草剂残留量的测定液相色谱法l GB23200.24-2016 食品安全国家标准 粮谷和大豆中 11 种除草剂残留量的测定 气相色谱-质谱法l GB 23200.30-—2016食品安全国家标准 食品中环氟菌胺残留量的测定 气相色谱-质谱法l GB 23200.41—2016食品安全国家标准 食品中噻节因残留量的检测方法l GB 23200.43—2016 食品安全国家标准 粮谷及油籽中二氯喹啉酸残留量的测定 气相色谱法l GB 23200.47—2016 食品安全国家标准 食品中四螨嗪残留量的测定 气相色谱-质谱法l GB 23200.48—2016 食品安全国家标准 食品中野燕枯残留量的测定 气相色谱-质谱法l GB 23200.49—2016 食品安全国家标准 食品中苯醚甲环唑残留量的测定 气相色谱-质谱法l GB 23200.53—2016 食品安全国家标准 食品中氟硅唑残留量的测定 气相色谱-质谱法l GB 23200.65—2016 食品安全国家标准 食品中四氟醚唑残留量的检测方法l GB 23200.66—2016 食品安全国家标准 食品中吡螨胺残留量的测定 气相色谱-质谱法 l GB 23200.76—2016 食品安全国家标准 食品中氟苯虫酰胺残留量的测定 液相色谱-质谱/质谱法l GB 23200.80—2016 食品安全国家标准 肉及肉制品中双硫磷残留量的测定l GB 23200.81—2016 食品安全国家标准 肉及肉制品中西玛津残留量的检测方法l GB 23200.85—2016 食品安全国家标准 乳及乳制品中多种拟除虫菊酯农药残留量的测定 气相色谱-质谱法l GB 23200.88—2016 食品安全国家标准 水产品中多种有机氯农药残留量的检测方法l GB 23200.93—2016 食品安全国家标准 食品中有机磷农药残留量的测定 气相色谱-质谱法l GB 23200.100—2016 食品安全国家标准 蜂王浆中多种菊酯类农药残留量的测定 气相色谱法l GB 23200.101—2016 食品安全国家标准 蜂王浆中多种杀螨剂残留量的测定 气相色谱-质谱法l GB 23200.111—2018 食品安全国家标准 植物源性食品中唑嘧磺草胺残留量的测定 液相色谱-质谱联用法 l GB31660.3-2019食品安全国家标准 水产品中氟乐灵残留量的测定 气相色谱法.pdfl GB31660.9-2019食品安全国家标准 家禽可食性组织中乙氧酰胺苯甲酯残留量的测定 高效液相色谱法l GB 31657.1-2021 食品安全国家标准 蜂蜜和蜂王浆中氟胺氰菊酯残留量的测定 气相色谱法l HJ892-2017 固体废物多环芳烃的测定高效液相色谱法l 2020中国药典 第四部2341通则-中药材中农药残留测定订购信息:货号规格包装规格W350000100mg,1mL100/盒W350001125mg,3mL50/盒W350002200mg,3mL50/盒W350003250mg,3mL50/盒W350004500mg,3mL50/盒W350005250mg,6ml30/盒W350006-400400mg,6ml30/盒W350006500mg,6ml30/盒W3500081g,6ml30/盒W3500091g,12 mL20/盒W3500102g,12 mL20/盒 KSCL009填料,100g1瓶* 科德诺思每批氟罗里硅土用前应做淋洗曲线北京科德诺思(KNORTH)技术有限公司(简称:科德诺思)2020 年在北京成立。公司自主创新研发、生产、销售及技术服务为一体创新型综合服务企业,目前公司拥有三项专利技术。公司研发团队拥有博士后 1 名,博士 2 名,研究生4 名,具有丰富色谱分离技术,实验经验丰富。 公司主要提供:标准物质、标准品、对照品、实验室常规耗材、快检耗材及前处理设备、检测服务、质量控制相关技术服务。 服务对象: 科研机构、农业、市场监管、高校、第三方检测、企业及质谱公司提供优质完善的前处理解决方案。 科德诺思(KNORTH)将不断持续提升产品性能,检测能力、标准物质制备能力及服务能力,为广大分析测试工作者提供前处理整体解决方案。我们期待与更多伙伴合作,实现共赢!
  • TMSI 硅烷化试剂 | 三甲基硅咪唑| 三甲基碘硅烷
    产品特点:N-Trimethylsilylimidazole (TMSI) UN1993, 25 grams三甲基硅咪唑, 三甲基碘硅烷SKU: 140-25 Categories: 硅烷化试剂 ,Tag: TMSI三甲基硅咪唑 用途硅烷化试剂三甲基硅咪唑是硅烷化羟基的最强的硅烷化试剂;能够快速、平顺地与羟基和羧基发生反应。不与胺或酰胺发生反应,所以可以用于制备既含有羟基又含有氨基的化合物的多重衍生物。在存在少量水的情况下可用于硅烷化糖;当需要将糖作为糖浆剂来分析的时候是硅烷化糖的理想选择。能够衍生不被阻碍和被严重阻碍的大多数的甾类羟基。用途 用作抗菌素中间体、特强的硅烷化剂用途 高效硅烷化试剂,特别适合用于醇、酰基咪唑类的合成,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。用途 用于合成各种酰基咪唑的重要中间体,也是合成吡藜酰胺的重要中间体;在胺功能化条件下,保护羟基的硅烷化试剂;强有力的硅烷化试剂、特别针对醇类;酰基咪唑啉的合成用途 甲硅烷基化试剂,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。特点● UN Number: 1993
  • 上海上博玻璃仪真空规(转动式真空规)真空
    搭配信息起:VACUOMETER Meieod一概况及用途:麦氏真空规是目前唯一能同时测量低真空和高真空的绝对真空表,可分为转动式,手提式,座式三种,近年来在实际使用过程中,由于手提式操作不甚方便,目前已被淘汰,转动式适合于低真空范围内的测量,座式适合于高真空范围的测暈,它们是用硼硅玻璃在灯工吹制、配木座及刻度板而成。它适用于电子工业,科研单f立在真实验燥作中作测量真空度的量具用。二造型及原理转动式真空规:它适用于2一1 × 10一3 m m Hg的低真空测量,是由二支内径相同,经过读数显微镜测量过的均匀毛细管,和一块读数刻度板按装在一只能够转动的架子上。座式真空规:它适用于4 × 10 1 × 10。m m Hg的高真空测量,它是由磨口的贮汞瓶和经过读数显微镜测量校验的二支毛细管, 以及刻度板、 三通活塞等组成。 它的刻度板是采取直线定标法, 刻有五种不同真空范围的刻度表, 即闭管的最上端距离封顶的附近标线体积为 1 / 1000ml , 是与刻度表 1 × 10一 5 mmHg 的范围配合, 再顺下延约在闭管的中段也刻有一条标线, 它表示是 1 / 100ml , 是与刻度表 1 × 10一 mmHg的范围配合, 继续下延约在毛细管的 1 / 3处有一条标线, 它表示是 1 / 20m1 , 是与刻刻度表1*10-3mmHg的范围配合,在毛细管的下面有一段较粗的玻管,有一条刻1字的短线,是表示标线至顶端的体积为1ml,是与刻度表1 x 10-2 mmHg相配合,继续向下延,还有一条刻有2字的短线,它是表示至顶端的体积为2ml,是与刻度表上最右边0.1。m H g的范围使用。三通活塞是与机械泵相通,作为排气和抽气用,贮汞瓶内注入500ml纯净水银,仪器上端玻管直接焊接在真空系统上、并用铁架固定。其原理:根据玻义耳一一马略特定律,将一定质量的气体,在温度不变的情况下,压缩到封闭的毛细管内,并与开管相比较。计算出其真空度。三使用方法转动式真空规在使用前要清洗干净,烘干,灌入纯净水银约10毫升左右至贮汞管内,然后用厚壁胶管与真空系统接好,经过排气一段时间,待需测量看表时,把真空活动系统活塞打开少待即将表徐徐旋转至直立状,在旋转时不能过快、待开管水银面达到闭管封顶相平置时,然后观察闭管水银面所指示的真空度,不看时应将表徐徐恢复横卧状,并关闭通真空系统的活塞。座式真空规:把仪器清洗干净,烘干。在贮汞瓶内注入500mI纯净水银,把仪器上端的玻管与真空系统焊接,经过一段时间排气后,可微微打开瓶子的三通活塞,让少量气体流入,瓶内的水银即渐渐升入球内,特别水银面快到达球的中部时,放气速度更要缓慢,否则会造成水银冲碎仪器。当水银面到达“闭管"中某一标线时,,从“开管"的毛细管内液面读出此时系统内真空压力是多少?测定完毕转动活塞,仪器上的水银柱在转动泵抽气下使水银又回至瓶中。搭配信息止
  • 适配于潍柴高压共轨发动机油嘴厂家DLLA142P852共轨093400-8520
    目前中路通公司拥有超过6000个型号的柴油喷射系统(共轨系统)零配件,并且正在不断开拓新产品以满足市场和客户的需求。1. 柴油机三大偶件/燃油系统零部件:泵头、机械油嘴、喷油嘴(P型、PN型、PDN型、S型、SN型等)、柱塞偶件(A型、AD型、P型、PS7100、P8500、PN型等)2. 共轨配件:共轨喷油器,共轨油嘴,阀组件,共轨阀,阀板,电磁阀,共轨控制阀,高压油泵,控制阀,泄压阀,滤芯 ,柴油喷油器,等3. 喷油器总成、共轨喷油器总成、机械喷油器,铅笔式喷油器4. 欧二配件、工程机械配件C7, C9, C10, C11, C13, C15 & C18、挖机配件:输油泵、出油阀、传动轴、滚轮座及修理包等5. 油泵总成:VE泵总成、分配泵、非道路VE泵总成、CB18共轨泵, 共轨高压燃油泵, 柴油试验台,高压共轨设备。中路通是生产柴油机喷射系统化企业,具有二十多年研制生产燃油系统产品的经验与历史。主要生产欧二、欧三标准的燃油喷射系统配件。因为产品技术参数涉及相关因数较多,我们不能全部展示,如有需要,请与在线人员及时交流,以免买到不适用或者错误的配件。退换耽误的时间和造成的损失,会远远超过物品本身的价值。欢迎您来电咨询洽谈业务,我们有充足的配件库存和专门的技术人员竭诚为你提供全方位的服务,欢迎广大客户光临惠顾。我们承诺三包半年,如在三包期内有任何质量问题,请联系我们。TAM-GT-sram@china-lutong.n e t*
  • 单晶硅标样 615-B 单晶硅标样,含样品座B
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为3%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-A 单晶硅标样,含样品座A
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为2%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-F 单晶硅标样,含样品座F
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为7%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-E 单晶硅标样,含样品座E
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为6%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-G 单晶硅标样,含样品座G
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为8%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-C 单晶硅标样,含样品座C
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为4%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-A 单晶硅标样,含样品座A
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为2%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-B 单晶硅标样,含样品座B
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为3%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-F 单晶硅标样,含样品座F
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为7%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-D 单晶硅标样,含样品座D
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为5%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-K 单晶硅标样,含样品座K
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为9%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-G 单晶硅标样,含样品座G
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为8%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-C 单晶硅标样,含样品座C
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为4%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-D 单晶硅标样,含样品座D
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为5%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-K 单晶硅标样,含样品座K
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为9%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-E 单晶硅标样,含样品座E
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为6%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-L 单晶硅标样,含样品座L
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为10%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-M 单晶硅标样,含样品座M
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为11%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-L 单晶硅标样,含样品座L
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为10%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-O 单晶硅标样,含样品座O
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为12%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-O 单晶硅标样,含样品座O
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为12%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-P 单晶硅标样,含样品座P
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为13%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-P 单晶硅标样,含样品座P
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为13%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-M 单晶硅标样,含样品座M
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为11%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • YYW-3(耐氢氟酸型)
    YYW-1型 普通型 YYW-2型 提升量1-10mL内连续可调型 YYW-3型 耐氢氟酸型 友谊丹诺YYW系列原子吸收金属套玻璃高效雾化器喷嘴用于火焰原子吸收分光光度计(主机)的本型雾化器,现已广泛应用于国内外各种型号原子吸收分光光度计,对提高仪器的灵敏度、检出限、稳定性起到决定性的作用。任何型号原子吸收配用本型雾化器后都将达到火焰原子吸收法的最高灵敏度。 一、金属套玻璃高效雾化器喷嘴优点: 1、 兼有玻璃雾化器喷嘴的高性能和金属保护套的坚固性。 2、 灵敏度达到火焰原子吸收法的最高水平,优于国内外未使用本型雾化器各型主机的指标。。 3、 使用特制限流进液管,不易堵塞。 4、 耐酸氢氟酸除外,用户免调,性能长期不变。耐氢氟酸型需提前订购。 5、 灵敏度高:用空气/乙炔火焰测定2ug/ml铜,吸光度最佳可优于0.40A。 6、 稳定性好:相对标准偏差(RSD)小于0.5%。 二、金属套玻璃高效雾化器特点: 由同轴玻璃雾化器的内管吸入被测溶液,外管接压缩空气,喷口上套有可取下的撞击球帽(不同雾化器间不可互换),玻璃雾化器固定在不锈钢保护套内,不锈钢外形与各型号主机雾化器座相适应,内管插接特制等内径聚乙烯限流进液管,或插接不锈钢管&mdash 硅胶管&mdash 聚乙烯限流进液管(不易脱落,硅胶管不耐有机溶剂)。 简单的操作方式 ,配有特制的进液管,灵敏度能达到世界最高水平,耐酸用户操作正确,性能长期不会变.。 三、金属套玻璃高效雾化器喷嘴技术参数 名称 型号 工作压力 空气流量 提升量 玻璃高效雾化器 YYW-1 0.2 Mpa/cm2 2.5-7 L/min 6-7.5 mL/min 可调高效雾化器 YYW-2 0.2 Mpa/cm2 2.5-7 L/min 4-10 mL/min 耐氢氟酸雾化器 YYW-3 0.2 Mpa/cm2 2.5-7 L/min 6-8 mL/min
Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ,All Rights Reserved版权所有,未经书面授权,页面内容不得以任何形式进行复制