包覆位于金纳米

微纳米气泡曝气技术是指将微纳米气泡发生技术应用于水处理中曝气，是近年来发展的一种高效环保水处理技术。相较于普通大气泡，微纳米气泡具有独特的物理化学特性，如比表面积大、表面带电荷、水体中存在时间长、气液传质率高、界面点位高、能自发产生自由基等。在水处理中常应用于悬浮物的吸附去除、难降解有机污染物的氧化分解、向水体复氧促进生物活性以及减少底泥内源污染等方面微纳米曝气技术在黑臭河道治理中改善水质的作用包括：（1）污水中悬浮物的吸附去除，由于微纳米气泡表面带电荷且ζ电位高，对污水中的油类以及悬浮物就有优越的吸附效果，对于COD、氨氮及TP也具有较好的去除效果，从而减少水中有机质，使水体透明度明显提高，改善水色。（2）促进生物净化功能，向污染的缺氧水域中进行微纳米气泡曝气时，随着气泡内溶解氧的消耗不断向水中补充活性氧，可增强水中好氧微生物、浮游生物以及水生动物的生物活性，加速其对水体及底泥中污染物的生物降解过程，实现水质净化目的。（3）难降解有机污染物的强化分解，微纳米气泡破裂时能释放出的大量的羟基自由基，具有氧化性，可分解很多有机污染物，为了促使微气泡在水中能够产生更多的羟基自由基，常采用其它强氧化手段进行协同作用，如紫外线、纯氧以及臭氧等强氧化手段，以更好地发挥对废水中有机污染物的氧化分解作用。（4）减少底泥内源污染，微纳米气泡曝气使得河湖底质表层含氧量增加，好氧微生物代谢活动趋强，有效抑制湖底厌氧菌的有机质分解过程，减少水底氮、磷营养盐的释放量，阻断内源污染。

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

微纳米气泡发生器产品介绍 微纳米气泡发生装置是上海如净环保科技有限公司自主研发生产的前沿高科技产品，该装置融合了当今国内外微纳米气泡发生装置技术和制造工艺，历经了多年实践检验及工程应用，弥补国内纳米至微米级气泡发生装置的空白，实现了从实验室走向工业化推广应用的突破。微纳米气泡发生器工作原理 上海如净微纳米气泡发生装置，其原理是使气体与液体高度相溶混合，如净微纳米气泡采用动态高速剪切装置，将气液混合物内的气泡切碎，由于这些构件的强大剪切力，可以将气泡切碎至几十纳米到几微米，最终形成乳白色微纳米气泡，这种方式可以兼顾气液混合与微气泡发生，具有气液过程强化的特征。 微纳米气泡发生器由气液混合装置，加压装置、释放装置、控制系统，四大部分组成，其中需要连接配套管路，主要包括进气管路、进水管路、出水管路。当气体从进气管路进入加压装置后，与液体充分混合，经过气液剪切高压混合等处理，生成直径50μm以下的微米气泡，最终通过释放装置产生的物理原理释放出20-180nm以下的微纳米级气泡。◆性能参数 微纳米气泡发生装置产生气泡平均粒径在100纳米（nm）—10微米（μm）之间，气泡含率84%—90%，气泡平均上升速度4 mm/s—8 mm/s。◆产品特点 （1）实现气、液两相高度混合并达到饱和。 （2）可以接入不同的气体（如：空气、纯氧、臭氧、氮气）等气源来满足不同的需要。 （3）解决传统曝气设备气泡大、上升速度快、停留时间短、容易汇聚、对水体扰动大、饱和溶氧状态时间长的问题。 （4）解决传统设备体积大、效率低、成本高的问题。 （5）解决传统设备达到易堵塞、噪音大、耗能高的问题。 （6）超微纳米气泡体积小，比表面积远大于普通气泡，明显能提高水体的溶氧量。气泡带负电荷；自我收缩爆破，有氧化性和杀菌作用。

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

132 3531 3002【产品分类】纳米隔热材料 - 纳米隔热板纳米隔热板系列：纳米隔热板SYGW-950纳米隔热板 SYGW-1050纳米隔热板 SYGW-1100使用温度：950℃~1100℃根据使用要求，具体规格可按客户要求加工。 【产品描述】纳米隔热板采用导热系数极低的轻质、无机纳米SiO2和陶瓷纤维作为原材料，以反射率较高的铝箔为底层材料，采用单层复合结构经过连续涂布符合压制烘烤工艺形成，其导热系数比静止的空气还要小，保温性能比传统保温材料要好4～6倍左右，是迄今为止性能好的保温隔热材料。纳米隔热板具有超低导热系数，与使用传统隔热保温材料相比能极大的节约能源，以管径为150mm。温度为600度的管道为例，在使用厚度仅为传统矿物棉三分之一厚度时，每米管道每年节约1400度电，总长为1000米的管道每年节约能源约140万度电 【产品特性及功能】? 耐高温性——长期使用温度400～1000度左右；? 导热系数——低于常规绝热材料2～10倍，800度时仅为0.052w/m.k；? 耐用程度——可做绝热体层，使用寿命5～10年以上；? 安全环保——纯无极材料组合，良好的热稳定性，无任何有害物质释放；? 经济分析——价格低于国外同类产品的50%，比常规材料节能10～30% 【主要技术性指标】 产品名称纳米隔热板检验标准产品代码SYGW-950/1050/1100熔点≥1200℃使用温度950℃-1100℃密度(±10%)230kg/m3GB/T17911-2006比热容（400℃）0.8KJ/kg.kYB/T4130-2005抗压强度（压缩10%）0.3MPaGB/T 13480-1992线收缩率（800℃）2.0%GB/T17U911-2006导热系数（w/m.k）70℃0.019YB/T4130-2005200℃0.021400℃0.024600℃0.031800℃0.040 (注：以上数据是根据通用的测试方法而获得的有代表性的平均值，并随正常生产情况的波动而变化，这些数据是作为一项技术服务的内容而提供的，有时可能有所调整，所以，他们不应视作产品指标。) 【应用领域】冶金：钢包、铁水包、中间包、转炉机械：工业炉、电炉、炉门、炉盖；汽车：发动机隔热罩、催化排气管；石化：裂解炉、转化炉、加热炉；电力：锅炉、汽轮机、管道；建材：陶瓷炉、回转炉。济南盛阳高温材料有限公司致力于砖窑、隧道窑、砖瓦窑炉、退火炉、锻造炉、罩式炉、熔铝炉、烧结炉、炭化炉、回火炉、加热炉、钢包（盖）隔热衬、热镀锌退火炉、环形炉、多种类型的热处理炉、玻璃退火炉、玻璃熔炉、高温试验炉、辊道窑、梭式窑、推板窑、特种陶瓷烧成窑炉、裂解炉、转化炉、制氢炉、常减压炉、焦化炉等设备陶瓷纤维模块保温安装砌筑。专业的工业窑炉衬里设计及产品研发中心，能够为客户提供技术先进、经济合理的工业窑炉衬里节能解决方案和管道保温结构设计；专业的施工队伍可以为客户提供各种复杂工况条件下的施工服务。曾先后承担过宝钢、济钢、莱钢、山铝等大型钢铁、冶金公司各种炉型的施工工作，在冶金、钢铁炉某些特异型部位及关键部位炉衬的处理上积累了丰富的实践经验。

概述： 钢包、铁水包主要是炼钢厂或铸造厂在进行转炉/电炉冶炼前，接钢水和进行浇筑作业的设备；鱼类罐车是一种大型铁水运输设备，可以储存铁水，并具有优良的保温作用。鱼雷罐车内铁水的保温时间可以达到30小时，远优于一般铁水车长保温时间4小时。尤其应用纳米隔热板后，保温时间延长更明显。 应用： 炼钢工段钢水包、铁水包、中间包背衬可用纳米隔热板绝热保温材料，热面用刚玉质耐火浇注料。钢铁水包和中间包采用纳米隔热板作为背衬材料，能起到降低出钢温度减少能耗；减少钢水温度波动，提高钢水均匀性，提高钢铁的品质；增加钢、铁水容量；提高工作层使用寿命，延长包龄；降低外壳温度，减少热量损失的显著效果。 常用规格：600*400*7mm600*400*10mm600*400*15mm600*400*20mm5、应用领域：冶金：钢包、铁水包、中间包、转炉、鱼雷罐机械：工业炉、电炉、炉门、炉盖汽车：发动机隔热罩、催化排气管石化：裂解炉、转化炉、加热炉电力：锅炉、汽轮机、管道建材：陶瓷炉、回转炉6、使用效果：（1）降低隔热层厚度（2）由于能大幅减少热层厚度，所以可使隔热装置小型化，增加装置的容积减少蓄热（3）减少隔热层的蓄热量，大幅度缩短炉窑的升温时间，因此不仅节能，金石纳米微孔隔热材料能取得提高生产力和易于进行温控的效果。（4）减少散热量（5）由于使用较薄的纳米微孔隔热材料就可以达到隔热效果，所以能减少散热表面积，大幅减少热损失。因此可以降低炉窑的表面温度，改善作业环境。（6）温度均匀化（7）减少热损失的效果，能够使温度实现均匀化，其结果可以使窑炉的金属溶液，玻璃溶液，热处理产品温度更加均匀，提高产品品质。

NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK）校园里，是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司，公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系，并享有共同的超净设备和研发技术成果，公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发，并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案，包括： * LED纳米压印解决方案：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap （PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体，激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析，血液分析，细胞生长

Obducat公司成立于1989年，总部位于瑞典隆德，旋涂分公司位于德国拉多尔夫采尔。2000年，Obducat成为全球首家将纳米压印技术商业化的公司，拥有NIL安装基地。公司拥有SPT软压、STU紫外及热同时压印和IPS(TM)中间聚合物模版等技术。作为全球优质的纳米压印设备提供商，不断为全球的公司和科研院校提供可行、低成本、高效益的纳米压印生产及科研的全套解决方案。在发展和生产下一代的电子消费产品如：相机CMOS传感器、各种硬盘、存储介质、高亮度LED、平板显示器和下一代蓝光光盘等方面推波助澜。纳米压印技术NIL(NanoImprint Lithography technology）类似于古代的印章，是一项图形转移和复制技术。1995年，普林斯顿大学纳米结构实验室Stephen Y.Chou教授通过机械力在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制了模版上的纳米图案，其加工分辨率只与模版图案尺寸有关，而不受光刻最短曝光波长的物理限制，由此引出纳米压印技术。纳米压印示意图纳米压印流程图 传统光刻技术是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。NIL技术却可以不使用电子和光子，直接利用物理机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。目前NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。鉴于其技术优势，NIL可应用于微电子器件、信息存储器件、微反应器、微/纳机电系统、传感器、微/纳流控器件、生物医用界面、光学及光子学材料等众多领域。 纳米压印技术的应用领域The EITRE Nano Imprint Lithography (NIL) Systems offer a manual and affordable lithography solution, allowing pattern replication in the micro- and nanometer range. The embedded SoftPress technology ensures excellent residual layer thickness control across the entire imprint area, enabling an accurate pattern transfer.FULL AREA IMPRINT SOFTPRESS TECHNOLOGY USER-FRIENDLY INTERFACE MULTIPLE IMPRINT PROCESS CAPABILITY WIDE RANGE OF CONFIGURATION POSSIBILITIESSUB-20NM RESIDUAL LAYER THICKNESS

EVG720紫外纳米压印机一、设备原理：EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大150mm大面积压印：最大150mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级u SECS/GEM II: 可选。公司简介：EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界领先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。

NanoScan SMPS纳米颗粒粒径谱仪 - 3910型产品详情TSI 3910 型NanoScan SMPS 打开纳米颗粒粒径常规测量的大门。此粒径谱仪将TSI 公司的SMPSTM 粒径谱仪集成在约一个篮球大小的便携箱内。容易使用，重量轻，电池供电等优点使NanoScanSMPS 让研究人员多点采集纳米颗粒粒径分布数据成为可能。由TSI 核心技术中衍生而来，NanoScan SMPS 是一个创新的，低成本的实时纳米粒径测量的有效解决方案。新型的 3914 将纳米颗粒粒径谱仪和 光学颗粒物粒径谱仪 整合在一起， 可以实现经济、便携、实时的测量 10 纳米到 10微米大小的粒子 。特点下降到 10 纳米的粒度分布两种测量模式： SCAN - 实时粒径分布 SINGLE-单个粒径浓度监测 1 分钟粒径分布 1 秒钟单个粒径数据 简单，独立操作内置的数据记录小巧便携的~ 6 小时的电池寿命，热插拔，充电电池浓度高达 1000000 粒 / 立方厘米NanoScan Manager 管理软件包无放射性材料多仪器管理软件使用光粒度仪模型 3910优势实时纳米尺寸的测量理想的应用需求的可移植性 道路工作场所调查领域的研究点源识别允许用户从多个站点收集更多的数据开辟了同步的时间和空间测量的可能性提供了新的研究机遇进入纳米微粒的发射 / 曝光测量和纳米技术易于学生和工人操作简化数据分析和数据报告里是否有管理软件应用 一般的应用研究室内 / 室外空气质量调查纳米 / 纳米颗粒的应用燃烧和排放的研究移动研究 健康影响 / 吸入毒理学 职业卫生 / 工作场所暴露监测 点源识别 包含项目 Nanoscan SMPS 纳米粒度仪Nanoscan 经理软件光盘Nanoscan 配件包关于TSI公司TSI公司研究、确定和解决各种测量问题，为全球市场服务。作为精密仪器设计和生产的行业领导者，TSI与世界各地的科研机构和客户合作，确立与气溶胶科学、气流、健康和安全、室内空气质量、流体力学及生物危害检测有关的测量标准。TSI总部位于美国，在欧洲和亚洲设有代表处，在其服务的全球各个市场建立了机构。每天，我们专业的员工都在把科研成果转化成现实。

纳米颗粒跟踪分析仪 ZetaView公司简介德国ParticleMetrix公司德国 Matric公司一直致力于研发和生产颗粒表征的仪器，其总部和销售及技术支持中心位于德国的梅尔布施；生产和研发中心位于德国的慕尼黑。自公司成立以来，PMX一直致力于生命科学方面仪器的研究，终于在2006年研发出纳米颗粒跟踪分析仪ZetaView，其主要应用于细胞外囊泡，蛋白质聚集以及纳米气泡等的大小、浓度以及Zeta电位测量。仪器简介：Zetaview所具备的单一颗粒跟踪技术，结合经典微电泳技术和布朗运动成为现代的分析手段。自动校准和自动聚焦功能，让用户眼见为实，更加直观人性化。通过子体积的扫描，来自于数以千计的颗粒的zeta电位和粒径柱状图的结果就可以计算出来。此外，颗粒浓度也可以通过视频计数分析得到。平移扩散常数可通过直接观测待测颗粒的布朗运动计算得到。通过测试电泳迁移率，可以得到zeta电位。纳米粒子跟踪分析（NTA）和动态光散射（DLS）所有的光散射仪器，包括粒子跟踪技术，都存在一个问题：当颗粒大小低于100nm时，灵敏度会迅速的降低。动态光散射技术的检测限是0.5nm，对于纳米颗粒跟踪分析，其检测限是10nm。通常，DLS和NTA的主要区别就在于浓度范围。对于DLS，当样品浓度太低时，zetaview可以非常圆满的完成检测任务。相反，对于高浓度的样品，DLS方法会非常的适合。测量范围测量范围依赖于样品和仪器。对于金样品，颗粒跟踪技术的检测下限为10nm；相应的，如果样品的散射能力较弱，则检测下限会变得更大。假如样品稳定，不会沉淀或漂浮，zeta电位测量的粒径上限为50微米，对于粒径测量为3微米。源于视频分析的颗粒计数颗粒浓度可通过视频分析得到，并归一化处理，散射体积对粒径。可检测的最小浓度为/cm3，大为/cm3。对于200nm的颗粒，大体积浓度为1000ppm。准确度和精度Zeta电位：准确度5mv，精度4mv，重现性5mv；粒度测试（对于100纳米的标准乳胶颗粒）：准确度6nm，精度4nm，重现性4nm；浓度测试（100纳米的颗粒，浓度10Mio粒子/ml）：准确度0.8 Mio/ml，精度0.5Mio/ml，重现性1Mio/ml；只要相机设置正确，样品处理适当，则以上所有的数据均有效。方法Zetaview激光散射显微镜对于低于1微米衍射极限100倍的纳米粒子是非常敏感的。技术优势&bull 功能一体化：可一次性完成样品的粒径、浓度、Zeta电位和荧光测试；&bull 扫描式NTA：无需额外配件，即可自动在样品池内的11个检测位置依次完成测试，并自动评估样品和数据质量；&bull 全新的固定式样品池模块设计，插入式样品池设计，无需拆卸，易清洗。&bull 直观的软件：红绿信号指示可以帮用户直接判断当前浓度的样品是否可以测试。&bull 快速测试：1min即可分析1000个左右的样品颗粒。&bull 自动校准&自动聚焦：光学部件可通过仪器软件实现自动校准与优化，节省了用户的实验准备时间，完全避免了可能产生的用户主观偏差。&bull 荧光分析：仪器配备了超灵敏的CMOS相机和更多的荧光滤光片，具有更高的荧光检测灵敏度，进一步增强了仪器的荧光检测与分析能力。&bull 仪器的防震动设计提高了视频图像的稳定性。多荧光NTA（F-NTA）Particle Metrix提供从单激光到多激光的一系列PMX-X30设备，新增加了12位的荧光检测通道，各设备均可实现不同激光波长之间、散射光模式与荧光模式之间的一键切换。PMX-X30系列设备的固定式样品池模块设计，既进一步增强了仪器的稳定性和测试的可靠性，又进一步简化了仪器清洗过程，提高了测试效主要应用生物纳米颗粒：&bull 细胞外囊泡&bull 外泌体&bull 脂质体&胶束&bull 蛋白质聚集体&bull 病毒&类病毒颗粒（VLPs）&bull 药物载体&bull 荧光标记的纳米颗粒低浓度样品：&bull 纳米气泡&bull 纳米金属&bull 微量样品&bull 量子点技术参数

金属纳米颗粒制备 金纳米材料具有众多易于调控的特性，比如局域表面等离子共振、表面增强拉曼、光致发光、易于表面修饰和生物相容性好。这使得金纳米材料广泛应用于我们生活的多个方面。合成金纳米颗粒常用的制备方法有很多，其中，直接FSP火焰喷雾燃烧法生长法应用广泛。金属纳米颗粒制备采用火焰喷雾热解工艺，受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。纳米颗粒制备仪主要特点：1产品纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，高表面活性，松装密度低，气相法制备，克服了市场上湿化学法制备的颗粒硬团聚、难分散、纯度低等缺点；2表面存在大量的不饱和残键及不同键合状态的羟基，因表面欠氧而偏离了稳定的硅氧结构，所以具有高反应活性，粉体松装密度比较小，容易分散使用；3纳米颗粒晶相稳定、硬度高、尺寸稳定性好，可应用于各种塑料、橡胶、陶瓷产品的补强增韧，特别是提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和高分子材料产品的耐磨性能尤为。由于颗粒也是性能优异的远红外发射材料，作为远红外发射和保温材料被应用于化纤产品和高压钠灯中。4公司可以进行针对性的表面处理包裹，使得纳米粉体可以稳定地分散在溶剂体系中，形成透明状或半透明状溶胶，应用在涂料、玻璃表面、电子封装等

产品描述iNano采用InForce 50驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试。 InForce 50的50mN力荷载和50μm位移范围使得该系统适合各种测试。 InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。 iNano是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 该系统可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 50驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体和封装行业聚合物和塑料MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆聚合物制造复合材料电池和储能应用硬度和模量测量 (Oliver-Pharr)机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iNano纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iNano的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iNano纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iNano纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iNano纳米压痕仪可轻松测量薄膜、涂层和少量材料。 该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 该仪器的力荷载和位移测量动态范围很大，因而可以实现从软聚合物到金属材料的精确和可重复测试。 模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损以及高温测试。 iNano提供了一整套测试扩展选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D/4D属性映射和远程视频选项。

纳米压印设备之热压印：EVG510HE 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的好的公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其zhuan li的极其优异的对准技术和好的的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG510HE是一款半自动的热压印设备，用于硬模压印和纳米印刷。该热压印系统配备了一个通用的热压腔室，具备高真空和高接触压力能力，可以处理用于热压印的所有聚合物材料。EVG510HE可以实现长宽比的热压印和多重脱模工艺，为客户提供高质量的图形转移和纳米级分辨率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。二、 主要特点u 用于聚合物衬底和旋涂树脂的热压印；u 自动化热压印程序；u EVGzhuan li的单独对准技术用于压印和印刷前对准；u 全程软件控制工艺流程的运行；

科研用CNI v4.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型；&bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光；&bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准；&bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

纳米隔热板是好的高温隔热材料,有板状的和异型的。该产品应用比较广泛,有加热炉、试验炉、黑匣子、电梯防火门、电陶炉发热盘、船舶、机械、铸造、冶金等热工设备。还能应用在制冷设备里，保冷效果相当明显。纳米隔热板产品介绍：1、产品描述：纳米隔热板采用导热系数极低的轻质、无机纳米SiO2和陶瓷纤维作为原材料，以反射率较高的铝箔为底层材料，采用单层复合结构经过连续涂布符合压制烘烤工艺形成，其导热系数比静止的空气还要小，保温性能比传统保温材料要好4～6倍左右，是性能良好的保温隔热材料。纳米隔热板具有超低导热系数，与使用传统隔热保温材料相比能极大的节约能源，以管径为150mm。温度为600度的管道为例，在使用厚度仅为传统矿物棉三分之一厚度时，每米管道每年节约1400度电，总长为1000米的管道每年节约能源约140万度电。2、特性及功能：耐高温性-长期使用温度400～1000度左右导热系数-低于常规绝热材料2～10倍，800度时仅为0.040w/m.k耐用程度-可做绝热体层，使用寿命5～10年以上安全环保-纯无极材料组合，良好的热稳定性，无任何有害物质释放经济分析-价格低于国外同类产品的50%，比常规材料节能10～30%。纳米板产品优势：1、高效节能相同保温效果下，采用纳米保温材料厚度仅为陶瓷纤维类材料的1/3，增大容积率. 采用相同厚度的情况下，外壁温度降低50℃.外壁温度每降低1℃，相当于每年每平方节电110℃，节煤15KG，节气12立方 （100平米的设备，降低50℃，每年将节电55万度，节气6万立方，节煤75吨）节能效果和经济效益明显。2、防火不燃纳米隔热材料是以无机材料为原料，是A级不燃，完全防火的材料。即使超过其使用温度极限，也不会燃烧。3、超低导热率纳米级颗粒和气孔，确保产品的超低导热率。4、施工性能好金石纳米硬板可随意切割，柔性板可弯曲，施工性能好。施工注意点：切割部位好用铝箔胶带密封，避免漏粉，影响效果。

Calorsito可以帮助您检测各种类型的 纳米颗粒，使测量样品的广泛光谱成为 可能。我们的设备允许您检测金属纳米 粒子(如Au、Ag、Cu)、碳基材料(如碳 纳米管)和选定的金属氧化物(如二氧化 钛)。它主要是运用光加热粒子和用红外线成像分析热，锁定增强信号。它具有简单快捷的操作性,更能产生高质量的测量, 同时还具备成本效益。产品用途 测试分析碳基材料（石墨烯，碳纳米管） 测试分析金属粒子（氧化铁，金，银，铜） 对于液体（如批次重现性，浓度）进行测量分析 对于固体（薄膜均匀性，膜厚，薄膜浓度，粒子吸收，生物组织纳米粒子）进行测量分析 细胞和组织切片中纳米材料的测量 碳纳米材料薄膜均匀性评估 光照射下粒子的热发展比较与测量 合成或修饰后的粒子比较 颗粒在复合材料中的分布产品特点 7个不同的波长（400,460,525,660,730,840,950）nm 固体和液体均可测试 无需制备 操作简单 无标记 无损检测 快速检测（1样本/分钟） 分析区域大(直径2CM)

产品描述iMicro采用InForce 1000驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试，并可选择添加InForce 50驱动器来测试较软的材料。InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。iMicro是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 1000驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头可选的InForce 50驱动器提供最 大50mN的法向力来测量软性材料，并提供可选的Gemini 2D力荷载传感器用于双轴动态测量。独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架高刚度龙门架，集成隔振功能带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量定量刮擦和磨损测试样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体行业PVD / CVD硬涂层（DLC，TiN）MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆复合材料电池和储能汽车和航空航天应用硬度和模量测量（Oliver Pharr）机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iMicro纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iMicro的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iMicro纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iMicro纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。定量划痕和磨损测试iMicro可以对各种材料进行刮擦和磨损测试。 涂层和薄膜会经过化学机械抛光（CMP）和引线键合等多道工艺，考验薄膜的强度及其与基板的粘合性。 重要的是这些材料在这些工艺中抵制塑性变形，并且保持原样而不会基板起泡。 理想地，介电材料应具有高硬度和弹性模量，因为这些参数有助于确定材料在制造工艺下会如何反应。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iMicro纳米压痕仪可轻松测量硬涂层，薄膜和少量材料。该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 可互换的驱动器能够提供大动态范围的力荷载和位移，使研究人员能够对软聚合物到硬质金属和陶瓷等材料做出精确及可重复的测试。模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损测试以及高温测试。 iMicro拥有一整套测试扩展的选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D / 4D性质分布，以及Gemini 2D力荷载传感器，可以提供摩擦和其他双轴测量。

微流控纳米药物脂质纳米颗粒LNPs仪碰撞喷射混合器碰撞喷射混合器IJM纳米药物制造LNPsLipid nanoparticles (LNPs) Impingement Jets Mixing Small Scale德国/KNAUER基于 mRNA 新冠病毒疫苗的研发，脂质纳米颗粒（LNPs）已经被证实是用来递送 RNA 药物、疫苗的有效载药方式。LNPs 封装包裹易降解活性成分，模拟低密度脂蛋白 (LDLs)，由内源性途径摄取。LNPs 对 pH 值敏感，其设计目的是将其有效载荷释放到细胞质中。这将是接种疫苗历史上首次大规模使用核酸脂质纳米颗粒。新的医学发展使药物及其活性成分日益复杂，并带来了新的挑战。例如，寡核苷酸很容易在人体内降解。zui新研究表明 LNPs 可以形成一个用来保护活性成分（如：RNA、mRNA、siRNA 或基于 DNA 的 API）的稳定环境。像核酸类药物和向靶细胞运送途径的优化是当下非常热门的研究领域。总部位于德国柏林的高科技实验室仪器制造商 KNAUER，主要以液相色谱系统、SMB、连续流层析闻名。通过结合在高压加料和实验室系统工程方面的丰富经验，成功开发生产制药脂质纳米颗粒的合成设备 —— LNPs 制药生产装置。详情介绍KNAUER 的喷射混合技术在小规模和大规模的疫苗脂质纳米颗粒生产中表现出优异的性能。可为研发用户提供小型桌面设备，并为制药行业提供完整的 LNPs 装置。LNPs 生产系统，也称为 IJM 设备（冲击喷射混合）经过设计和优化，满足客户性能要求及法规要求。并成功在洁净间（C 级）内进行了安装及验收。该系统预留了所有必须的接口，用于集成到客户自己的 PLC（可编程逻辑控制器）系统中。不同型号的技术参数：Pilot Scale UnitSmall Production Scale Unit(Customized) Large Production Scale Units*Number of impingement jets mixers12up to 8Number of pumps48up to 16Number of flow meters48up to 16Number of valves12—Process connection inlet**1/2" Tri-clamp (4 inlets)3/8" and 1/4" barbed fitting (6 inlets)Sanitary Clamp Connector (2 inlets)Process connection outlet**1/2" Tri-clamp (1 outlet)1/4" barbed fitting (2 outlets)Sanitary Clamp Connector (1 outlet)Volumetric flow rateup to 1 l/minup to 2 l/mindepending on configurationVolumetric flow rateup to 60 l/hup to 120 l/hdepending on configurationMaximum operating pressure***100 bar100 bar50?70 barLiquid temperature range4?60 °C (39.2?140 °F)4?60 °C (39.2?140 °F)4?60 °C (39.2?140 °F)Wetted materialsstainless steel, PEEK, titanium, FFKM, PTFE (GFP 55), aluminum oxide, ruby, sapphire, EPDMstainless steel, PEEK, titanium, FFKM, PTFE (GFP 55), aluminum oxide, ruby, sapphirestainless steel, PEEK, titanium, FFKM, PTFE (GFP 55), aluminum oxide, ruby, sapphire, EPDMSoftwareCDS, 21 CFR part 11compliantCDS, 21 CFR part 11compliantnot included, necessary interfaces for the integration into PLCInterfacespump: LAN, RS-232, pin header connectors flow meter: RS-232 + FLOW-BUS™ valve drive: LANpump: LAN, RS-232, pin header connectors flow meter: RS-232 + FLOW-BUS™ valve drive: LANpump: LAN, RS-232, pin header connectors flow meter: RS-232 + industrial interfacesPower supplypump: 100–240 V, 50–60 Hz flow meter: +15… 24 V DC, valve drive: 24 V DCpump: 100–240 V, 50–60 Hz flow meter: +15… 24 V DC, valve drive: 24 V DCpump: 100–240 V, 50–60 Hz flow meter: +15… 24 V DCPower consumption (per device)pump: maximum 320 W flow meter: 3 W valve drive: 65 Wpump: maximum 320 W flow meter: 3 W valve drive: 65 Wpump: maximum 320 W flow meter: 3 WAmbient conditionstemperature range: 4–40 °C 39.2?104 °F below 90 %humidity (non-condensing)temperature range: 4–40 °C 39.2?104 °F below 90 %humidity (non-condensing)temperature range: 4–40 °C 39.2?104 °F below 90 % humidity (non-condensing)Dimensions (W x H x D)900 x 915 x 700 mm1000 x 1290 x 700 mmdepending on configurationNet weight (approx.)150 kg250 kgdepending on configurationAPI-predilution and quenchingYesYesdepending on configurationGMP-ready documentationYesYesYesFactory acceptance testYesYesYesSite acceptance testYesYesYesPurchase order lead timeabout 3 monthsabout 3 monthsminimum 5 months, depending on customer requirements深圳市富彻尔生物科技有限公司地址：深圳市龙岗区横岗街道深华街1号林展财富大厦315室，广东省客服：销售：手机：邮箱：官网：

科研用CNI v4.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型； &bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光； &bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准； &bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

微纳米气泡曝气技术是指将微纳米气泡发生技术应用于水处理中曝气，是近年来发展的一种高效环保水处理技术。相较于普通大气泡，微纳米气泡具有独特的物理化学特性，如比表面积大、表面带电荷、水体中存在时间长、气液传质率高、界面点位高、能自发产生自由基等。在水处理中常应用于悬浮物的吸附去除、难降解有机污染物的氧化分解、向水体复氧促进生物活性以及减少底泥内源污染等方面微纳米曝气技术在黑臭河道治理中改善水质的作用包括：（1）污水中悬浮物的吸附去除，由于微纳米气泡表面带电荷且ζ电位高，对污水中的油类以及悬浮物就有优越的吸附效果，对于COD、氨氮及TP也具有较好的去除效果，从而减少水中有机质，使水体透明度明显提高，改善水色。（2）促进生物净化功能，向污染的缺氧水域中进行微纳米气泡曝气时，随着气泡内溶解氧的消耗不断向水中补充活性氧，可增强水中好氧微生物、浮游生物以及水生动物的生物活性，加速其对水体及底泥中污染物的生物降解过程，实现水质净化目的。（3）难降解有机污染物的强化分解，微纳米气泡破裂时能释放出的大量的羟基自由基，具有氧化性，可分解很多有机污染物，为了促使微气泡在水中能够产生更多的羟基自由基，常采用其它强氧化手段进行协同作用，如紫外线、纯氧以及臭氧等强氧化手段，以更好地发挥对废水中有机污染物的氧化分解作用。（4）减少底泥内源污染，微纳米气泡曝气使得河湖底质表层含氧量增加，好氧微生物代谢活动趋强，有效抑制湖底厌氧菌的有机质分解过程，减少水底氮、磷营养盐的释放量，阻断内源污染。

产品详情瑞士Swisslitho 3D纳米结构高速直写机NanoFrazor-源自IBM最新研发成果 NanoFrazor纳米3D结构直写机的问世，源于发明STM和AFM的IBM苏黎世研发中心，是其在纳米加工技术的最新研究成果。NanoFrazor纳米3D结构直写机第一次将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。 NanoFrazor采用尖端直径为5nm的探针，通过静电力精确控制实现直写3D高精度直写，并通过悬臂一侧的热传感器实现实时的形貌探测。相对于其他制备技术如电子束曝光/光刻技术(EBL), 聚焦离子束刻蚀(FIB)有以下特点： ■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 10nm, Z: 1nm) 高速直写 20 mm/s 与EBL媲美 ■ 无需显影，实时观察直写效果 形貌感知灵敏度0.1nm 样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 5nm ■ 无临近效应 高分辨，高密度纳米结构 ■ 无电子/离子损伤 高性能二维材料器件 ■ 区域热加工和化学反应 多元化纳米结构改性 ■ 大样品台 100mm X 100mm 新产品发布：NEW！！ NanoFrazor Scholar --小面积直写 ■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 30nm, Z: 1nm) 高速直写 10 mm/s ■ 无需显影，实时观察直写效果 形貌感知灵敏度0.1nm 样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 10 nm ■ 无临近效应 高分辨，高密度纳米结构 ■ 无电子/离子损伤 高性能二维材料器件 ■ 区域热加工和化学反应 多元化纳米结构改性 ■ 小样品台 30mm X 30mm 该技术自问世以来已经多次刷新了世界上最小3D立体结构的尺寸，创造了世界上最小的马特洪峰模型，最小立体世界地图，最小刊物封面等世界记录。 独特的直写与反馈流程 。PPA(聚苯二醛) 直写胶涂敷在样品表面。。背热式直写探针，微区电阻式加热针尖。与针尖接近的PPA受热瞬间分解，周围部分由于PPA热导率低而不受影响。。热针震动模式直写，直写时探针加热，每次下针幅度受静电力控制，垂直精度 1 nm，从而写出3D图形。。冷针接触模式扫描，回程扫描时探针冷却，由侧壁的热感应器探测样品高度变化(精度0.1nm), 获得样品形貌。反馈数据修正下一行直写。 独有的直写针尖设计 普通的AFM针尖无法满足上述NanoFrazor直写流程的需求，因此NanoFrazor所用针尖是由IBM专门研发设计的。该针尖具有两个电阻加热区域，针尖上方的加热区域可以加热到1000oC。 第二处加热区域作为热导率传感器位于侧臂处，其能感知针尖与样品距离的变化，精度高达0.1 nm。因此在每行直写进程结束后的回扫结构时，并不是通过针尖 起伏反馈形貌信息，而是通过热导率传感器感应形貌变化，从而实现了比AFM快1000余倍的扫描速度，同避免了针尖的快速磨损消耗。 NanoFrazor技术特点 其他功能● 纳米颗粒有序定位排列● 纳米局部化学反应诱导● 表面化学图案、结构生成纳米颗粒有序定位排列 氧化石墨烯的定位还原

金纳米粒子 直径10nm, 用于EM/cryo EM系统测试及校准 Gold Nanohelices - Chirality Tomography Markers The Gold Nanohelices (L,R) are chiral nanoscale markers especially suited for 3D Tomography / Electron Microscopy (EM) / CryoEM. Our chiral markers show pure chirality (L or R), which can easily be detected with EM due to the high contrast and the precise arrangement of the gold nanoparticles.The Gold Nanohelices (L,R) are fabricated with the DNA origami technique where gold nanoparticles (10nm) are arranged into nanoscale helices (helical pitch 57 nm length 110 nm diameter 34 nm).In Solution: The Nanohelices are delivered in buffer (keep at 4°C): 1x TAE, 11mM MgCl2. The sample size is ~30μl which is enough for the preparation of more than 10 TEM grids.Also available as mounted version: The samples are shipped ready to use on a TEM grid.参考文献Anton Kuzyk, Robert Schreiber, Zhiyuan Fan, Günther Pardatscher, Eva-Maria Roller, Alexander H?gele, Friedrich C Simmel, Alexander O Govorov, and Tim Liedl (2012): DNA-based self-assembly of chiral plasmonic nanostructures with tailored optical response. - Nature, 483, 311 - 314.Ariane Briegel, Martin Pilhofer, David N Mastronarde, and Grant J Jensen (2013): The challenge of determining handedness in electron tomography and the use of DNA origami gold nanoparticle helices as molecular standards. - J Struct Biol, 183(1), 95 - 98.缓冲液TEM网格粒径10 nm10 nm包装30μl1x TEM Grid

科研产品，不能用于临床Apogee超灵敏纳米流式细胞仪能检测小至80nm小颗粒的流式细胞仪微生物、细胞外囊泡、外泌体、大病毒、纳米颗粒、动物细胞、人类细胞等市面上大部分流式细胞仪主要针对细胞而设计，散射光的检测极限通常是500nm附近，检测500nm以下的生物颗粒通常依靠荧光探针，可是有时不能完全依靠荧光标记来区分不同细胞。这是多方面的原因决定的，如非特异性结合，细胞碎片的存在，结块的抗体或者荧光染料的摄取低下等，因此只有结合散射光才能得到理想的结果。；然而很多生物颗粒如细胞外囊泡，直径一般在300nm以下，比细胞小得多，产生的散射光信号非常微弱，故难以被传统流式细胞仪检测到。Apogee Flow Systems的超灵敏纳米流式细胞仪具有非常好的散射光和荧光灵敏度和分辨率，可检测从细胞到小至80nm的小颗粒，为亚微米生物颗（100nm-1000nm）粒检测带来了新希望！80nm灵敏度/10nm分辨率 在亚微米生物颗粒检测领域中独领风骚拥有80nm散射光灵敏度非常适合微生物，细胞外囊泡，纳米颗粒&大型病毒检测同样适用于常规流式应用，不仅限于微小颗粒细胞微粒（Microparticles）和外泌体（Exosomes）2个或3个光散射角度范围带来前所未有的灵敏度微泡可用于第二代诊断 基于血液的癌症诊断检测 血管生物学和血栓形成研究 治疗药物给药血小板A50-Micro的高灵敏度非常适合血小板应用：血小板反应性血小板聚集循环活化血小板血小板微颗粒钙流细菌污染微生物/病毒（如：巨细胞病毒）各种样品中细菌的快速检测细胞周期分析和遗传学细胞活性荧光蛋白病毒学动物/人类细胞常规流式分析：细胞凋亡/活力、线粒体膜电位分析、植物倍体分析、DNA含量分析等

纳米颗粒制备仪 桌面式喷雾燃烧合成纳米颗粒材料火焰喷雾热解(FSP)是一种多功能经济高效的纳米颗粒生产工艺。它依赖于含金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000度的温度燃烧。产品纳米颗粒在几毫秒内形成在过滤器上以干粉的形式收集。 火焰喷雾热解工艺受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。主要特点：实验室规格火焰喷雾反应器低脉动注射可精确输送液体前体用于输送工艺前体的质量流量控制器:火焰检测器集成微处理器、电子板。用于过程控制，通信通过rs232玻璃纤维过滤器：干式旋式真空。用于产品粉末的收集压力及温度计以监察过滤器的状态。

产品描述“纳米颗粒的出现。对人体健康造成了负面影响。流行病学和毒理学研究仍然主要是基于粒子总质量，或者使用如“距主干道距离”这样模糊的替代概念来描述个人 暴露于尘埃中的程度。然而，颗粒浓度对健康的影响是众所周知的。我们认为，这种矛盾出现的原因是市场上缺乏足够的传感器。然而，有了手持 版本的粒径分类器——德图DiSCmini后，上述的鸿沟已得到弥补。德图DiSCmini能测量粒子数量和平均直径，并且分辨率达到1s（1Hz）。同 时捕捉粒子浓度和尺寸的功能允许测量其他类型的参数，例如粒子表面（肺沉积表面积，LDSA）。仪器拥有最长8小时的电池供电；记录数据能存储在内存卡 上，通过USB线，还能传输数据至电脑。德图DiSCmini在含有毒空气污染物，如柴油烟尘，焊接烟尘，或工业纳米材料等颗粒负载的工作空间中，对监测个人暴露情况特别有效。德 图DiSCmini基于气溶胶的电气充电原理。在电晕放电产生的正的空气离子与气溶胶混合。，之后在两个阶段通过静电计检测到带点粒子。第一检测阶段是钢 网格的桩 小颗粒会首先通过扩散上沉积下来。第二阶段是高效率的颗粒过滤器捕捉所有剩余颗粒。平均粒径可以通过分析在整个过程中测得的两组电流而获得。总 电流决定颗粒数的测算结果。德图DiSCmini检测每立方厘米内10至500纳米直径的颗粒，而模态值应低于位于200纳米。每立方厘米粒子浓度介于约 1' 000至1' 000' 000。测量的精度取决于粒径分布和个数浓度的形状，并与CPC参考值有10-15％的误差。该器件应当每年维修和校准一次。与 其他仪器不同的是，德图DiSCmini不需要任何工作液体和放射源辅助，因此，它可以在任何位置长时间操作并且无需液体再填充。典型的应用包括监测颗粒 状态作业（柴油烟尘，焊接烟尘，工业纳米材料）或弱势群体（哮喘，慢性阻塞性肺病患者）的人员暴露情况。大面积、网络式调查环境空气正在成为可能。德图 DiSCmini的小尺寸使得仪器特别适合需要个人随身携带的测量活动。1赫兹的高测量频率允许仪器监视迅速变化的气溶胶。追踪或定义粒子产生的来源时， 该功能尤其值得称赞。该设备为快捷获知粒子浓度和平均直径的场合而设计“。产品包含手持式纳米颗粒计数器 testo DiSCMini，包括：铝制运输箱，携带包，SD卡及读卡器，采样入口延展装置，充电器（可以支持仪表长时间运行），根据国别不同的电源线和标定文件。技术数据技术参数工作湿度 90 %RH, non-condensing重量700 g尺寸180 x 90 x 42.5 mm操作温度+10 ~ +30 °C电池使用时间Typically 8 hours with a fully charged battery, depending on ambient temperature电源Mains unit, 100-120 Volt or 200-240 Volt, 50/60 Hz for charging the batteriesOperating air pressure800 ~ 1100 mbar absolute±20 mbar (Delta p max. on the air inlet)Nano ParticleParticle size10 ~ 300 nm (Modal value)10 ~ 700 nm (absolute)Particle concentration1000 ~ 1000000 Particle/cm3 (typical values)The evaluated particle concentration depends on the particle size distribution and the mean measurement time.Accuracy±30 % typical for size and number±100 Particle/cm3 absolute in number

纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应，并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能，使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。 目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟，它的应用也随之扩大。在其应用过程中，较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高，在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子，使颗粒粒径变大，从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性，提出了一些有效的方法。 根据我司为多家客户定制方案，建议采用的方案为：在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料；然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理！经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计，相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）；2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）；3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）；4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）；5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）。纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件： PTC 热保护、降噪型均质机材质：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车均质机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍均质机选配容器：本设备适合于种不同大小的容器.IKN管线式研磨分散机的技术参数：研磨分散机流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机

基于改装SEM纳米图形电子束曝光机NPGS V9.2仪器简介：在过去的几年中，半导体器件和IC生产等微电子技术已发展到深亚微米阶段及纳米阶段。为了 追求晶片更高的运算速度与更高的效能，三十多年 来，半导体产业遵循著摩尔定律 （Moore’s Law）：每十八个月单一晶片上电晶体的数量倍增，持续地朝微小化努力 。为继续摩尔定律 ，在此期间，与微电子领域相关的微/纳加工技术得到了飞速发展，科学家提出各种解决方案如：图形曝光（光刻）技术、材料刻蚀技术、薄膜生成技术等。其中，图形曝光技术（微影术）是微电子制造技术发展的主要推动者，正是由于曝光图形的分辨率和套刻精度的不断提高，促使集成电路集成度不断提高和制备成本持续降低。 电子束曝光系统（electron beam lithography, EBL）是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近，美国JC Nabity Lithography Systems公司成功研发了基于改造商品SEM、STEM或FIB的电子束曝光装置（Nanometer Pattern Generation System纳米图形发生系统，简称NPGS，又称电子束微影系统）。电子束曝光技术具有可直接刻画精细图案的优点，且高能电子束的波长短（ 1 nm），可避免绕射效应的困扰，是实验室制作微小纳米电子元件非常好的选择。相对于购买昂贵的专用电子束曝光机台，以既有的SEM等为基础，外加电子束控制系统，透过电脑介面控制电子显微镜中电子束之矢量扫描，以进行 直接刻画图案，在造价方面可大幅节省 ，且兼具原SEM 的观测功能，在功能与价格方面均具有优势。由于其具有高分辨率以及低成本等特点，在北美研究机构中，JC Nabity的NPGS是非常热销的配套于扫描电镜的电子束微影曝光系统，而且它的应用在世界各地越来越广泛。 NPGS的技术目标是提供一个功能强大的多样化简易操作系统，结合使用市面上已有的扫描电镜、扫描透射电镜或聚焦离子束装置，用来实现艺术级的电子束或离子束平版印刷技术。NPGS能成功满足这个目的，得到了当前众多用户的强烈推荐和一致肯定。 应用简述 基于改装SEM纳米图形电子束曝光机NPGS V9.2能够制备出具有高深宽比的微细结构纳米线条，从而为微电子领域如高精度掩模制作、微机电器件制造、新型IC研发等相关的微/纳加工技术提供了新的方法。NPGS系统作为制作纳米尺度的微小结构与电子元件的技术平台，以此为基础可与各种制程技术与应用结合。应用范围和领域取决于客户的现有资源，例如： NPGS电子束曝光系统可与等离子应用技术做非常有效的整合，进行 各项等离子制程应用的开发研究，简述如下： (一) 半导体元件制程 等离子制程已广泛应用于当前半导体元件制程，可视为电子束微影曝光技术的下游工程。例如： (1) 等离子刻蚀（plasma etching） (2) 等离子气相薄膜沉积（plasma-enhanced chemical vapor deposition, PECVD） (3) 溅镀（sputtering） (二) 微机电元件制程（Semiconductor Processing） 微机电元件在制程上与传统半导体元件制作有其差异性。就等离子相关制程而言，深刻蚀（deep etching）是主要的应用，其目标往往是完成深宽比达到102 等级的深沟刻蚀或晶圆穿透刻蚀。而为达成高深宽比，深刻蚀采用二种气体等离子交替的过程。刻蚀完成后可轻易 以氧等离子去除侧壁覆盖之高分子。在微机电元件制作上，深刻蚀可与电子束微影曝光技术密切 结合。电子束微影曝光技术在图案设计上之自由度 十分符合复杂多变化的微机电元件构图。一旦完成图案定义，将转由深刻蚀技术将图案转移到晶圆基板。技术参数：型号：NPGS V9.2最细线宽（μm）：根据SEM 最小束斑（μm）：根据SEM 扫描场：可调 加速电压：根据SEM，一般为0-40kV 速度：5MHzA. 硬件： 微影控制介面卡：NPGS PCIe-516A High Speed Lithography Board，high resolution (0.25%) 控制电脑：DELL或类似品牌主流配置电脑工作站皮可安培计：KEITHLEY 6485 Picoammeter B. 软件： 微影控制软件 NPGS V9.2 for Windows10图案设计软件 QCAD for Windows主要特点：技术描述： 为满足纳米级电子束曝光要求，JC Nabity出品的NPGS系统设计了一个纳米图形发生器和数模转换电路，并采用PC机控制。PC机通过图形发生器和数模转换电路去驱动SEM等仪器的扫描线圈，从而使电子束偏转并控制束闸的通断。通过NPGS可以对标准样片进行图像采集以及扫描场的校正。配合精密定位的工件台，还可以实现曝光场的拼接和套刻。利用配套软件也可以新建或导入多种通用格式的曝光图形。 (一) 电子源（Electron Source） 曝照所需电子束是由既有的SEM、STEM或FIB产生的电子束（离子束）提供。 (二) 电子束扫描控制（Beam Scanning Control） 电子射出后，受数千乃至数万伏特之加速电压驱动沿显微镜中轴向下移动，并受中轴周围磁透镜（magnetic lens）作用形成聚焦电子束而对样本表面进行 扫描与图案刻画。扫描方式可分为循序扫描（raster scan）与矢量扫描（vector scan）。 循序扫描是控制电子束在既定的扫描范围内进行 逐点逐行 的扫描，扫描的点距与行 距由程式控制，而当扫描到有微影图案的区域时，电子束开启进行 曝光，而当扫描到无图案区域时，电子束被阻断；矢量扫描则是直接将电子束移动到扫描范围内有图案的区域后开启电子束进行 曝光，所需时间较少。 扫描过程中，电子束的开启与阻断是由电子束阻断器（beam blanker）所控制。电子束阻断器通常安装在磁透镜组上方，其功效为产生一大偏转磁场使电子束完全偏离中轴而无法到达样本。 (三) 阻剂（光阻） 阻剂（resist）是转移电子束曝照图案的媒介。阻剂通常是以薄膜形式均匀覆盖于基材表面。高能电子束的照射会改变阻剂材料 的特性，再经过显影（development）后，曝照（负阻剂）或未曝照（正阻剂）的区域将会留 在基材表面，显出所设计的微影图案，而后续的制程将可进一步将此图案转移到阻剂以下的基材中。 PMMA（poly-methyl methacrylate）是电子束微影中非常常用的正阻剂，是由单体甲基丙烯酸甲酯（methyl methacrylate, MMA）经聚合反应而成。用在电子阻剂的PMMA 通常分子量在数万至数十万之间，受电子束照射的区域PMMA 分子量将变成数百至数千，在显影时低分子量与高分子量PMMA 溶解度 的对比非常大。 负阻剂方面，多半由聚合物的单体构成。在电子束曝照的过程中会产生聚合反应形成长链或交叉链结（crosslinking）聚合物，所产生的聚合物较不 易 被显影液溶解因而在显影后会留 在基板表面形成微影图案。目前常用的负阻剂为化学倍增式阻剂（chemically amplified resist），经电子束曝照后产生氢离子催化链结反应，具有高解析度 、高感度 ，且抗蚀刻性高。 (四) 基本工序 电子束微影曝光技术的基本工序与光微影曝光技术相似，从上阻、曝照到显影，各步骤的参数（如温度 、时间等等）均有赖于使用者视需要进行 校对与调整。

Nano Indenter G200系统是一种准确，灵活，使用方便的纳米级机械测试仪器。 G200测量杨氏模量和硬度，包括从纳米到毫米的六个数量级的形变测量。 该系统还可以测量聚合物，凝胶和生物组织的复数模量以及薄金属膜的蠕变响应（应变率灵敏度）。 模块化选项可适用于各种应用：频率特定测试，定量划痕和磨损测试，多功能成像，高温纳米压痕测试，扩展负载容量高达10N和自定义测试。产品描述Nano Indenter G200系统专为各种材料的表征和开发过程中进行纳米级测量而设计。该系统是一个完全可升级，可扩展且经过生产验证的平台，全自动硬度测量可应用于质量控制和实验室环境。Nano Indenter G200系统是一种准确，灵活，使用方便的纳米级机械测试仪器。G200测量杨氏模量和硬度，包括从纳米到毫米的六个数量级的形变测量。该系统还可以测量聚合物，凝胶和生物组织的复数模量以及薄金属膜的蠕变响应（应变率灵敏度）。模块化选项可适用于各种应用：连续刚度测试、定量划痕及摩擦磨损测试、扫描探针成像、高温纳米压痕测试、以及高达10N的高载荷能力和自编程软件。主要功能● 电磁力作动器可实现高动态范围下力和位移的测量● 用于划痕成像，高温纳米压痕测量和动态测试的模块化选件● 用于快速测试设置的直观界面；只需点击几下鼠标即可更改测试参数● 实时实验控制，简便的测试协议开发和精确的热漂移补偿● 屡获殊荣的高速“快速测试”选项，可用于测量硬度和模量● 多功能成像功能，测量扫描，进行简化的测试方法开发，以快速获得结果● 轻松地确定压头面积函数和载荷框架刚度主要应用● 高速硬度和模量测量材料的力学性能表征在新材料的研究和开发中具有重要意义。Nano Indenter G200能够以高达每个数据点1s的速率测量硬度和模量。对这些力学性能的快速评估能让半导体和薄膜制造商将先进技术应用于生产线的质量控制和保证。● 界面附着力测量薄膜与基底的剥离通常是由于沉积过程中的内应力导致的储存弹性能量引起的。界面附着力测量对于帮助用户了解薄膜失效模式而言至关重要。Nano Indenter G200系统能够通过划痕模式获得膜层开裂的初始载荷，测量黏附特性以及多层薄膜的残余应力性能。● 断裂韧性测量断裂韧性指在平面应变条件下应力强度因子发生突然性失效的临界值。低断裂韧性值意味着样品预先存在缺陷。使用刚度成像法可轻松通过纳米压痕仪获得断裂韧性。（刚度成像测量需要连续刚度测量，DCM以及NanoVision选件。）● 粘弹性测量聚合物是结构异常复杂的材料，其力学性能易受化学特性、加工工艺和热力学过程的影响。具体而言，力学性能由母链的类型和长度、支化、交联、应变、温度和频率等因素决定，而他们通常是相互关联的。应在相关环境中对聚合物样本进行力学测试，为聚合物设计参数决策提供有用的数据信息。纳米压痕测试所需样本尺寸小，制作简单，更容易进行这种特定环境的测量。将圆柱形平压头压入被测材料，按照设定频率震动，G200纳米力学测试系统还可用于测量聚合物样品的复合模量和粘弹性性能。● 扫描成像扫描探针显微镜（3D成像）为测量设计应用的断裂韧性，G200纳米压痕系统提供了两种扫描探针显微成像法来表征压痕的裂纹长度。断裂韧性指含有裂缝的缺陷材料防止断裂扩展的能力。G200纳米压痕系统的压电样品台（NanoVision选项）具有超高精度定位能力，可提供高达1nm步长的分辨率，最大扫描尺寸为100µ m x 100µ m,Survey Scanning软件选项将X/Y运动系统与NanoSuite软件相结合，可提供500µ m x 500µ m的最大扫描尺寸。 NanoVision样品台和Survey Scanning选项都需要对样品的精确区域进行纳米压痕测试和断裂韧性计算。● 耐磨损和耐刮擦Nano Indenter G200系统可以对各种材料进行划痕和摩擦磨损测试。涂层和薄膜会受到很多工艺的影响，它们能检验这些薄膜的强度和对衬底的附着力，例如化学机械抛光 (CMP) 和引线键合。在工艺流程中，这些材料能够抵抗塑性形变并保持完整而不在衬底上起泡是非常重要的。电介质材料通常需要高硬度和弹性模量来支持制造工艺。● 高温纳米压痕高温下的纳米压痕可以精确测量出材料在塑性转变之前、塑性转变时和塑性转变之后的纳米力学响应。了解材料行为，例如变形机制和相变，可以预测材料会在何时失效并改善热机械加工过程中的控制。在主要力学测试法中改变温度是测量在纳米尺度上不易测试的材料之塑性转变的其中一种方法。适用行业● 大学，研究实验室和研究所● 半导体和电子工业制造业● 轮胎行业● 涂层和涂料行业● 生物医药行业● 医疗器械● 更多应用：请联系我们探讨您的需求选配件Windows 10 升级Windows 10升级延长了现有纳米压痕仪G200系统的使用寿命和可维护性 ，并增加了新的特性和功能。 高性能硬件与NanoSuite 7.0控制软件相结合以保持现有数据和测试方法，同时继续与您当前的选件和许可证兼容。 此次升级还包括分析数据报告软件（Analyst）和TeamViewer远程支持软件，使KLA支持工程师能够快速排除故障并解决问题，无论系统位于何处。 XP作动器G200纳米力学测试系统由线性度最好的电磁力传感器，以确保精确测量。传感器的独特设计避免了横向移位的影响。 标准XP压痕组元的加载能力为500mN，位移分辨率0.01nm（10pm），最大压痕深度500μm。动态接触模块II（DCM II）压痕组元DCM II将最大载荷扩展到30mN，并以0.2pm的位移分辨率提供70μm的压头行程。 压头更换设计用于快速拆卸和轻松安装各种特定应用的压头。 使用DCM II选项，研究人员不仅可以研究材料表面最初的几个纳米压痕，还可以研究接触之前时期的力学行为。连续刚度测量（CSM）连续刚度测量（CSM）技术与XP和DCM II压痕头兼容，满足必须考虑动态效应的应用要求，如应变速率和频率。 CSM选件包括ProbeDMA&trade 聚合物方法包和AccuFilm&trade 薄膜方法包。 ProbeDMA&trade 聚合物方法包提供了一种分离载荷-位移历史的同相位和异相位分量的方法。 相位分离能够精准确定初始表面接触的位置，并连续测量作为深度或频率函数的接触刚度，无需卸载循环。 AccuFilm&trade 薄膜方法包可以测量与衬底无关的材料属性。Express Test快速测试选件是进行高精度纳米力学测试的一种新颖、快速的方法。 作为全球R&D科技研发奖的获得者，快速测试选件可实现每秒完成一个压痕，这意味着在100秒内可以在100个不同的位置执行100次压痕。 快速测试选件与所有纳米压痕仪G200 DCM II和XP作动器及所有样品台兼容。 功能多样、易于操作的快速测试方法非常适合涉及金属、玻璃、陶瓷、结构聚合物、薄膜和低介电材料的应用。 用于薄膜测量的快速测试方法中包括一种薄膜模型，该模型可自动计算衬底对测量的影响，从而快速、准确地测量出杨氏模量。激光加热压头和样品台与标准XP作动器兼容，G200纳米力学测试系统的激光加热压头和样品台选件使用高功率二极管激光器分别将压头和样品加热到相同的温度。 优点包括能够在精确控制的温度或在高度动态的温度条件下测量各种纳米力学性能。 为确保数据准确，该系统通过使用加热压头和激光作为加热源（非电阻加热）将与加热相关的漂移降至最低。 G200还为用户提供了使用各种气体净化样品的选件，以避免污染和氧化。横向力测量（LFM）横向力测量（LFM）选件为划痕测试、磨损测试和微机电系统（MEMS）探测提供三维定量分析。 该选件允许X和Y方向的剪切力测量。 摩擦学研究大大受益于LFM选件，用于确定划痕长度上的临界载荷和摩擦系数。高载荷高载荷选件用于标准XP作动器，将 G200纳米力学测试系统的负载能力扩展至10N，可对陶瓷、块状金属和复合材料进行完整的力学性能表征。 高载荷选件旨在避免在小载荷时牺牲仪器的载荷和位移分辨率，并在需要额外力的时候在测试协议中完美接合。NanoVisionNanoVision选件配备了用于高分辨3D成像法和能精确定位的闭环纳米定位样品台。 NanoVision允许用户以纳米级精度定位压痕测试的位置，并表征多相/复合材料的不同物相的力学性能。 NanoVision用户还可以通过检查残余压痕形貌来量化材料响应现象，如突起高度、变形体积和断裂韧性等。Survey ScanningSurvey Scanning选件利用G200纳米力学测试系统的精确、可重复的X/Y运动可提供500μm×500μm的最大扫描尺寸。 NanoVision样品台和Survey Scanning选项可配合使用，实现纳米压痕测试的精确定位，这对于确定样品断裂韧性尤其有用。NanoSuite 软件版本所有Nano Indenter G200系统均由标准的NanoSuite Professional软件驱动。 NanoSuite Professional版本为用户提供了预先编写的测试方法，包括符合ISO 14577的方法和从薄膜材料样品去除基底效应的方法。 NanoSuite Explorer版本使研究人员能够使用简单的协议编写自己的NanoSuite方法。 通过NanoSuite Professional和NanoSuite Explorer软件提供的模拟模式，用户可以离线编写测试方法、处理和分析数据。相关产品

产品信息 作为粒度仪的专业生产厂商，岛津公司新推出了划时代的单一纳米颗粒测定仪器IG-1000，并在美国伊利诺斯州芝加哥市的迈考密展览中心召开的Pictton 2009（3月8日至3月13日）展会众多产品中脱颖而出，获得&ldquo 撰稿人奖&rdquo 铜奖。 与以往粒度测定仪器原理不同，IG方法（Induced Grating method）是岛津公司开发的独一无二的纳米粒径测定技术。IG-1000采用介电电泳原理，介电电泳ON时,形成部分的高(低)粒子浓度；介电电泳OFF时, 粒子扩散恢复为原始状态；由介电电泳力使粒子构成衍射光栅，扩散后的浓度降低导致衍射光强度降低，从衍射光强度的时间变化可以得到粒子的扩散系数，进而得到粒子的粒径。 IG-1000相关参数如下：光源：半导体激光（波长785nm）测定原理：诱导衍射光栅法测量范围：0.5～200nm测定体积：250~300uL测定时间：总计30秒 与目前采用散射光的动态光散射仪器（DLS）方法相比较, 优势明显。测定范围最低到0.5nm，在单一纳米颗粒领域可以获得十分良好的信噪比(S/N)，灵敏度也非常高，如图一。 图一 C60(OH)n的测定结果 大阪大学　小久保先生提供 即便样品中含有少量的粗大粒子时对测定也没有影响，分布广的样品可以得到正确的结果，克服了以往DLS产品耐污染性差的缺点。如图二所示。图二 粒径为50nm的粒子的测定结果，样品中含有1%的1um的粒子 IG-1000不使用散射光，因此不受物理参数的限制，不要求输入折射率因子(refractive index)作为测量条件。 列入将来JIS计划的分布范围10倍的氧化硅粒子样品，在IG-1000上能够给出很好的测定效果，中间粒径是76nm，与SEM的结果非常一致；而该样品如果使用DLS测定，中间粒径测定结果为100～150nm。该结果如图三所示，已在2008年十月份的日本粉体工学会，与同志社大学的森先生共同发表。图三 分布范围10倍的氧化硅粒子测定结果 IG-1000的方便可靠之处还在于，可利用原始数据（衍射光强度对时间的变化）来进行测定结果的可靠性验证，如图四。图四 不同尺度粒子的衍射光强度与时间的关系 岛津公司粒度测定装置种类齐全，单一纳米粒径的新产品IG-1000可以与岛津其他多种型号的激光粒度仪联合使用，实现了从纳米到微米范围的可靠测定。