戊二醛电镜专用

布鲁克Hysitron PI 85L是SEM专用的多用途、高灵敏度热学、电学和力学的测试系统，利用SEM的高分辨率，可以直接观测整个材料动态变化的过程。传统纳米压痕仪通过光学显微镜或原位扫描只能观察到压痕前及压痕后的形貌变化，中间过程无法观察到，载荷位移曲线上的一些突变我们无法解释，甚至单从曲线分析会导致错误的解释。PI 85L安装于电镜，可以精确施加载荷，检测位移，在电镜下做压痕、拉伸、弯曲、压缩、加热、电学和划痕测试，可以借助电镜的高分辨率，观测并记录整个材料测试过程，观测材料在力下发生的动态变化，如金属蠕变、相变、断裂起始等。PI 85L采用Hysitron专利技术三板电容传感器，具备载荷和位移同时监测和驱动的独特功能。具备业界领先的精度，重复性和低背景噪音等优点。PI 85L拥有多种特色测试功能模块可供选择，如动态力学测试、MEMS加热、拉伸测试、电学测试、纳米划痕等功能模块。

布鲁克Hysitron PI 88是布鲁克公司生产的新一代原位纳米力学测试系统，其最大特点是系统设计高度模块化，后期可在已有系统上自行配置并拓展其他功能。该系统通过视频接口将材料的力学数据（载荷-位移曲线）与相应SEM视频之间实现时间同步，允许研究者在整个测试过程中极其精确地定位压头并对变形过程成像。解决了传统纳米压痕方法，只能通过光学显微镜或原位扫描成像观察压痕前后的形貌变化，因无法监测中间过程，而最终对载荷-位移曲线上的一些突变无法给出解释甚至错误解释的问题。PI 88安装于SEM，可以精确施加载荷，检测位移，在电镜下进行压痕、压缩、弯曲、划痕、拉伸和疲劳等力学性能测试；此外，通过升级电学、加热模块，还可研究材料在力、电、热等多场耦合条件下结构与性能的关系。

国仪量子钨灯丝扫描电镜SEM2000钨灯丝扫描电镜SEM2000是一款基础款的多功能分析性钨灯丝扫描电镜。20kV分辨率可以做到3.9nm，支持升级30kV电压，可观察亚微级尺度样品的微观结构信息。拥有比台式电镜更大的移动范围，适用于快速筛选待测样品，更多的扩展接口，可搭载BSED、EDS等附件，使应用领域更广。产品特点简洁的操作界面纯中文的操作界面功能设计简单易操作。符合国人使用习惯，即使是新手用户，简单了解后也能快速上手。完善的自动化功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散，均可一键调节，提高工作效率。丰富的测量工具长度、面积、圆度、角度等测量功能强大的照片管理和预览、编辑功能。丰富的扩展性高灵敏度背散射探测器 多通道成像探测器设计精巧，灵敏度高，采用4分割设计，无需倾斜样品，可获得不同方向的阴影像以及成分分布图像。 二次电子成像和背散射电子成像对比 背散射电子成像模式下，荷电效应明显减弱，并且可以获得样品表面更多的成分信息。能谱金属夹杂物能谱面扫分析结果。电子背散射衍射钨灯丝电镜束流大，完全满足高分辨EBSD的测试需求，能够对金属、陶瓷、矿物等多晶材料进行晶体取向标定以及晶粒度大小等分析。该图为Ni金属标样的EBSD反极图，能够识别晶粒大小和取向，判断晶界和孪晶，对材料组织结构进行精确判断。应用案例产品参数

Prisma E SEM-环境扫描钨灯丝电镜【产品描述】Prisma E SEM是一款高度灵活的扫描电子显微镜 (SEM)，在各种条件下都能有出色的全能性能。基于其低真空和环境真空 (ESEM)模式，它完全具备分析不导电、含气、含水或其它非常规测试的样品。Prisma E SEM的高度灵活性、便捷使用性以及对样品的宽泛适用性，是多用户实验室的理想选择。 【特点与应用】☆方便快捷地加载多种样品和重样品；☆基于Thermo ScientificTM Nav-CamTM相机和蒙太奇导航功能简化样品导航；☆便捷性的用户指南和撤消功能；☆先进的扫描模式和电子束减速确保卓越的图像质量；☆Thermo ScientificTM ColorSEMTM技术下进行直观的元素分析；☆专用真空模式，具备强大的样品兼容性；☆独特的环境扫描模式能够在材料的自然状态下成像；☆可集成冷/热台进行易于控制的动态实验；☆广泛选择的探测器和附件，包括扫描透射电 (STEM)、阴极发光、图像拼接等【技术参数】发射源：钨灯丝（高性能电子光学镜筒，双阳极热发射电子枪）分辨率：☆高真空成像3.0 nm@ 30 kV（SE）；8.0 nm@ 3 kV（SE）☆高真空下减速模式7.0 nm@ 3 kV（BD+DBS）☆低真空成像3.0 nm@ 30 kV（SE）；4.0 nm@ 3 kV（BSE）；10 nm@ 3 kV（SE）☆环境扫描模式成像3.0 nm@ 30 kV（SE）放大倍数：5 ~ 1,000,000×（宝丽来相纸放大）加速电压范围：200 V ~ 30 kV 探针电流范围：最高可达到2 μA，连续可调低真空范围：高达130 Pa；ESEM真空范围：高达2600 Pa（H2O）/4000 Pa（N2）；X-Ray工作距离：10 mm，EDS检出角35°样品室：从左至右为340 mm宽的大存储空间，样品室可拓展接口数量12个，含能谱仪接口3个（其中2个处于180°对角位置）样品台：五轴优中心全自动马达驱动X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm,T=-15o~90o,R=360o （连续旋转）多用途SEM样品安装载物台，可同时放置 18 个标准样品座（φ12 mm）最大样品高度不低于200 mm最大样品承重 5 kg探测器系统：☆高真空二次电子探测器ETD☆样品室内IR红外相机CCD☆低真空二次电子探测器LVD☆气体二次电子探测器GSED（环境真空）控制系统：☆操作系统：Windows 10☆图像显示：24寸LCD显示器，最高显示分辨率1920×1200☆支持用户自定义的GUI，可同时实时显示四幅图像☆软件支持Undo和Redo功能

扫描电镜专用原位AFM探测系统 AFSEM™ —使AFM和SEM合二为一奥地利GETec公司发布的扫描电镜专用原位AFM探测系统——AFSEM是一款紧凑型，适用于真空环境的AFM产品，能够轻松地结合两种强大的分析技术—AFM和SEM为一体，扩展SEM样品成像和分析能力。AFSEM技术与SEM技术的结合，使得人们对微观和纳米新探索新发现成为可能。SEM结合AFM解决方案：* 扫描电子显微镜中进行AFM原位分析* 使用SCL的自感悬臂技术的纳米探针* 无需激光和探测器，适用于任何样品表面* 与大多数SEM兼容而不妨碍正常的操作* AFM和SEM协同并行分析扫描电子显微镜中进行原位AFM分析扫描电镜专用原位AFM探测系统实现了AFM和SEM的功能性互补，让SEM可以同时实现样品的高分辨率成像，真实的三维形貌，的高度，距离测量，甚至是材料的导电性能。做到这一点只需要将AFSEM悬臂探针的位置移动到SEM下需要观察的样品位置进行探测。优化的AFSEM工作流程(几乎没有减少SEM的扫描时间)确保了高效率。提供的强大控制软件则允许进行优化和直观的测量、系统处理和数据分析。将AFSEM集成到一个Zeiss Leo 982扫描电子显微镜中(左)，对样品表面进行扫描成像(右)，对样品表面进行扫描。当在AFM和SEM成像之间交替时，不需要转移样品或打破真空。使用AFSEM，一切都可以进行内联！SEM-AFM协同分析对于产品或材料分析，通常需要用多种技术分析一个样品或者同一个器件，并寻找参数之间的相关性。如果样品需要使用SEM和AFM这两种的成像技术，就意味着我们需要找到感兴趣的区域并定位它，再拿到另一个设备中寻找这个感兴趣的区域，才能实现对同样的区域进行分析。有什么能比直接把AFM放在SEM里面来的简单呢？对无支撑石墨烯和石墨烯相关材料进行扫描电镜和AFM原位分析。在低电压扫描电子显微镜下，我们可以对一个悬空的石墨烯薄片的样品进行成像，以确定层数和厚度(a)。然后，利用AFM(b+c)实现更高的分辨率和更好的对比度。扫描电镜图像(A)、放大的图像(B)和相关的AFM成像(C)，测量结果来自FEI Quanta 600 FEG ESEM。AFSEM可与大多数SEM兼容AFSEM适用于大多数SEM或双光束(SEM/FIB)系统。可以直接安装在系统腔室的仓门上，同时样品台保持不变。此外，AFSEM采用一种自感应悬臂探针，无需激光与传感器。AFSEM在电镜中，夹持探针的悬臂梁只需要靴与样品之间4.5毫米的空间。因此，AFSEM可以与各种标准的SEM兼容，GETec公司能够处理任何兼容SEM系统真空腔内的安装。也正是这种优雅小巧的设计使得扫描电子显微镜能够配合AFM技术实现的亚纳米的形貌探测。成功的AFSEM集成的例子(可参见集成SEM列表)AFSEM与SEM分析技术紧密配合由于AFSEM小巧的设计维护了SEM功能的完整性，可以实现与其他标准的扫描电镜分析技术相结合同时使用，如常规FIB、FEBID和EDX，以及SEM中可搭配的拉伸机，应力测试，机械手等等AFSEM应用案例举例AFSEM与Deben 200N拉伸试验台可以同时集成在Philips XL40 SEM实现试样拉伸形变过程的原位观察和形貌探测。这是一个创新的实验解决方案，用来研究拉力作用下金属试样的拉伸形变和颈缩过程中，样品表面形貌和粗糙度的变化。此外AFSEM™ 和Hysitron PI85硬度测试台结合，一同安装在蔡司Leo 982 SEM中，电镜下我们可以实时观察金属表面在硬度计压头的压力下，表面形变，滑移过程。其形变，滑移的形貌变化可以由AFM完成。从AFM的角度来看，自感应悬臂探针可以实现多种探测模式，包括静态成像、动态成像、相对比、力谱、力调制和导电模式AFM。例如，在飞利浦XL40仪器中，利用扫描电镜成像、EDX的化学分析、AFM的3D形貌和电导分析。AFSEM采用的自感应探针（self-sensing cantilevers）奥地利SCL-Sensor.Tech公司主要生产硅基压阻式自感应探针，避免了常规AFM需要光路进行探测的模式，拓宽AFM在纳米探测、力测量和其他场合的应用。自检测悬臂配备全压阻电桥直接测量悬臂信号电，从而消除常规原子力显微镜光学信号探测对仪器空间的要求。两个可变电阻分别位于微悬臂和芯片上。整个结构连接到一个小的PCB板上，可实现快速和高重复性的探针交换。感应到的信号通过一个前置放大电路读出和放大。这使得与各种仪器，如SEM，TEM和许多其他测量系统，可以轻松无缝地集成。自感应探针具有各种谐振频率和弹簧常数。我们可为您提供PRS（压阻传感）悬臂探针和PRSA（压阻传感与主动）悬臂探针。Self-Sensing Cantilevers with Silicon TipSelf-Sensing Cantilever without Tip (Tipless)Self-Sensing Cantilevers with SCD TipSilicon tip radius: 15nmCantilever length: 70-300 μm Frequencies: 30-1300 kHz Stiffness: 1-400 N/m Applications: AFM,nanoprobing,force measurement, ...Tip: tipless Cantilever length : 100-450 μm Frequency: 14-550 kHz Stiffness: 0.5-170 N/m Applications: torque magnetometry (e.g. in a PPMS), gas/media properties, force measurement, experimental tip mounting,...SCD-tip radius: 10 nm Cantilever length: 100-450 μm Frequency: 14-550 kHz Stiffness: 0.5-170 N/m Applications: AFM, nanoindentation, ...

高真空的扫描电镜，聚焦离子束FIB系统，由于样品，操作，油污，FIB的气体注入系统带来的碳氢污染物会累积在样品室表面，以及探测器包括EDX窗口，进而影响系统分辨率，清晰度，真空度以及稳定性。Evactron等离子清洗机适用于任何扫描电镜以及XPS等其他任何真空腔体，她可以很好的解决这些困扰电镜使用者的污染问题.

Diener电镜专用等离子清洗机用途： 主要用于除去透射电镜样品及样品杆上的污染，防止碳沉积以降低图像分辨率及对样品微区分析造成误判。还可以利用该仪器清洗各类光阑等电子显微镜配件。特别适用于场发射扫描电镜和场发射透射电镜。用这种低能高频等离子体清洗样品表面，不会改变样品元素成份和表面结构特征。主要技术参数：1. 可对多孔碳膜进行高效且无破坏的清洗，提高样品在低电压下的成像能力，在化学微量分析时提高其精度2. 无油真空系统：泵体部分由多级隔膜泵和超净音分子泵组成，在保证真空度的同时，可在两分钟之内达到抽真空和放气过程，整个清洗过程在4分钟内可以完成3. 可清洗标准透射电镜样品杆4. 可清洗多孔碳膜5. 清洗时间：普通污染样品小于2分钟，重度污染样品小于10分钟 6. 重现性：可以自动记录下同类产品清洗的条件，下次清同类产品时可以样条件进行技术规格：控制方式手动控制发生器40KHz,0~100W腔体材质高硼硅玻璃腔体尺寸Dia.90*L280mm气路单路???清清时间旋钮式计时器0~99hour压力控制范围0~2mbar外型尺寸W345*D420*H211mm???电源电压单相AC230V，16A真空泵排气速度4m3/hour,极限真空度0.5Pa选配????发生器2.45GHz和13.56MHz腔体材质石英玻璃气路双路计时器数字式计时器减压阀配专用气路接口钢瓶10L

产品描述技术参数1.分辨率:　二次电子:　　高真空模式 3.0nm @ 30kV, 8nm @ 3kV　　高真空减速模式 7nm @ 3kV (可选项)　　低真空模式 3.0nm @ 30kV, 10nm @ 3kV　　环境真空模式 3.0nm @ 30kV　背散射电子 4.0nm @ 30kV2.样品室压力*高达2600Pa3.加速电压200V ～ 30kV，连续调节4.样品台移动范围　Quanta 250: X=Y=50mm　Quanta 450: X=Y=100mm　Quanta 650: X=Y=150mm主要特点1.FEI ESEM(环境扫描电镜)技术, 可在高真空、低真空和环境真空条件下对各种样品进行观察和分析。2.所有真空条件下的二次电子、背散射电子观察和微观分析。3.先进的系统结构平台，全数字化系统。4.可同时安装能谱仪、波谱仪和EBSP系统。5.可安装低温冷台、加热台、拉伸台等进行样品的原位、动态观察和分析

Diener电镜专用等离子清洗机用途： 主要用于除去透射电镜样品及样品杆上的污染，防止碳沉积以降低图像分辨率及对样品微区分析造成误判。还可以利用该仪器清洗各类光阑等电子显微镜配件。特别适用于场发射扫描电镜和场发射透射电镜。用这种低能高频等离子体清洗样品表面，不会改变样品元素成份和表面结构特征。主要技术参数：1. 可对多孔碳膜进行高效且无破坏的清洗，提高样品在低电压下的成像能力，在化学微量分析时提高其精度2. 无油真空系统：泵体部分由多级隔膜泵和超净音分子泵组成，在保证真空度的同时，可在两分钟之内达到抽真空和放气过程，整个清洗过程在4分钟内可以完成3. 可清洗标准透射电镜样品杆4. 可清洗多孔碳膜5. 清洗时间：普通污染样品小于2分钟，重度污染样品小于10分钟 6. 重现性：可以自动记录下同类产品清洗的条件，下次清同类产品时可以样条件进行技术规格：控制方式手动控制发生器40KHz,0~100W腔体材质高硼硅玻璃腔体尺寸Dia.90*L280mm气路单路清清时间旋钮式计时器0~99hour压力控制范围0~2mbar外型尺寸W345*D420*H211mm电源电压单相AC230V，16A真空泵排气速度4m3/hour,极限真空度0.5Pa选配发生器2.45GHz和13.56MHz腔体材质石英玻璃气路双路计时器数字式计时器减压阀配专用气路接口钢瓶10L

热场发射电子源大束国产电子源型号921 5736可替代进口FEI电子源4035 272 7572 NG场发射灯丝（Helios专用） 921 5736 RBLD,NGSEM HOTSWAP MOD大束科技自主研发的场发射灯丝适用于Helios400，Helios400S，Helios600，Helios600i等机型。电子显微镜通过发射电子与样品相互作用成像，用来“照射”样品的可靠电子源是电镜最重要的部分之一。电子显微镜对电子束的要求非常高。目前只有两种电子源满足要求：热电子发射源和场发射电子源。目前商用的，热电子发射源用的是钨灯丝（较少见）或六硼化镧（ ）晶体（较常见）；场发射电子源用的是很细的针状钨丝（具体分为肖特基发射源和冷场发射源）。大束科技成立于2018年，是一家以自主技术驱动的电子显微镜核心配件研发制造商及配套服务商。 目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。大束科技致力于成为电子显微镜行业上游配件的研发制造供应商；未来将在满足本土市场的同时，进军国际高端电子显微镜市场。

产品介绍：TESCAN VEGA 第四代钨灯丝扫描电子显微镜，采用全新的 Essence&trade 电镜操控软件系统，将扫描形貌图像与元素实时分析集成于同一个扫描窗口中。这种组合大大简化了样品表面形貌的采集及所含元素的数据分析工作，使得全新的第四代 VEGA SEM 成为质量控制、故障分析和研究实验室中常规材料等检测提供更gao效的分析的解决方案。TESCAN VEGA 采用创新的电子光学设计，确保在需要时即时、无缝地选择成像或分析条件，无需对任何电子光学镜筒内的元件进行机械对中。可以配置真空缓冲节能单元，使用后可显著缩短机械泵的运行时间，从而达到节能、环保的要求。主要特点:完全集成的 TESCAN Essence&trade EDS 分析平台，在 Essence&trade 电镜操控软件的单一窗口中即可实现 SEM 成像和元素成分分析。TESCAN 采用独特的无机械光阑设计，采用实时电子束追踪（In Flight Beam Tracing&trade ）的ZG技术，可帮助用户快速获得电镜合适的成像及分析条件。独特的大视野光路（Wide Field Optics&trade ）设计，zui低至2倍的放大倍数，无需额外的光学导航摄像头即可轻松、精确地实现 SEM 导航。直观、模块化的 Essence&trade 软件设计，不同经验等级的用户均可轻松操作。在样品台及装置的样品运动过程中，Essence&trade 3D 防碰撞模块可以直观的显示安装样品室内的探测器及样品台的位置信息，提供安全性的保护。SingleVac&trade 模式作为标准配置，为观测不导电样品和电子束敏感的样品提供便利的分析利器。 可选配的真空缓冲节能单元可显著缩短机械泵的运行时间，提供环保、高经济效益的电子显微镜。模块化分析平台，可选配集成最多种类的探测器和附件（如阴极荧光探测器，水冷背散射电子探测器或拉曼光谱仪等）。大视野设计，实现低倍精确导航利用大视野光路(Wide Field Optics&trade )技术，用户可通过扫描窗口实时观察样品，直接实现感兴趣位置的精确导航。大视野光路技术取代了传统的CCD导航相机，提供无与伦比的大景深，同时也提供样品实际形貌的图像，实现更直观、先进的样品导航过程。在 SEM 观测窗口中，最小2倍的放大倍率保证了大视野无畸变的图像实时观测，可连续放大感兴趣的区域，无需光学导航相机。实时的SEM窗口同样可与预倾斜样品台（如 EBSD 预倾台）配合使用，对于需要倾斜分析的样品，支持扫描倾斜校正，从而实现更精确的导航。自动操作通过一次点击就可以进行自动灯丝加热和电子枪对中。众多的自动程序减少了用户的操作时间，并提供了操作的自动导航与自动化分析。通过内置脚本语言（Python）用户可以进入软件大多数功能，包括电镜控制、样品台导航、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户也可以自定义软件的自动操作。全新的 EssenceTM 电镜控制软件用户界面有各种语言版本。集成的 Essence&trade EDS 能谱软件，轻松快捷地实现从成像切换到元素分析，通过软件一键即可实现所有设置参数的更改。具备快速搜索功能、命令撤消及参数预设等多种功能，帮助用户gao效、快捷地完成分析工作。允许用户设定符合其自身体验水平或特定应用的工作流程。Essence&trade 防碰撞模型软件能够直观的模拟出样品室内情况，有效避免碰撞的发生。内置的自动系统检查。通过局域网或互联网可实现电镜远程诊断。模块化软件体系结构。标准的软件模块包括了：光电联用、测量工具、图像处理、对象区域等。选配软件包括了：颗粒度分析、三维表面重构等。软件：测量软件, 公差测量软件图像处理预设参数直方图及LUTSharkSEM&trade 基础版 (远程控制)3D 防碰撞模型软件对象区域光电联用 定时关机CORAL&trade （用于生命科学的电镜模块）自动拼图软件样品观察TESCAN Flow&trade (离线处理软件)

布鲁克Hysitron PI 85L是SEM专用的多用途、高灵敏度热学、电学和力学的测试系统，利用SEM的高分辨率，可以直接观测整个材料动态变化的过程。传统纳米压痕仪通过光学显微镜或原位扫描只能观察到压痕前及压痕后的形貌变化，中间过程无法观察到，载荷位移曲线上的一些突变我们无法解释，甚至单从曲线分析会导致错误的解释。PI 85L安装于电镜，可以精确施加载荷，检测位移，在电镜下做压痕、拉伸、弯曲、压缩、加热、电学和划痕测试，可以借助电镜的高分辨率，观测并记录整个材料测试过程，观测材料在力下发生的动态变化，如金属蠕变、相变、断裂起始等。PI 85L采用Hysitron专利技术三板电容传感器，具备载荷和位移同时监测和驱动的独特功能。具备业界领先的精度，重复性和低背景噪音等优点。PI 85L拥有多种特色测试功能模块可供选择，如动态力学测试、MEMS加热、拉伸测试、电学测试、纳米划痕等功能模块。布鲁克Hysitron PI 85L是SEM专用的多用途、高灵敏度热学、电学和力学的测试系统，利用SEM的高分辨率，可以直接观测整个材料动态变化的过程。传统纳米压痕仪通过光学显微镜或原位扫描只能观察到压痕前及压痕后的形貌变化，中间过程无法观察到，载荷位移曲线上的一些突变我们无法解释，甚至单从曲线分析会导致错误的解释。PI 85L安装于电镜，可以精确施加载荷，检测位移，在电镜下做压痕、拉伸、弯曲、压缩、加热、电学和划痕测试，可以借助电镜的高分辨率，观测并记录整个材料测试过程，观测材料在力下发生的动态变化，如金属蠕变、相变、断裂起始等。PI 85L采用Hysitron专利技术三板电容传感器，具备载荷和位移同时监测和驱动的独特功能。具备业界领先的精度，重复性和低背景噪音等优点。PI 85L拥有多种特色测试功能模块可供选择，如动态力学测试、MEMS加热、拉伸测试、电学测试、纳米划痕等功能模块。布鲁克Hysitron PI 95是TEM专用的多用途、高灵敏度热学、电学和力学的测试系统，在TEM上检测时，直接观察检测过程，使用侧面进样支架，不仅可以实现纳米尺度材料的成像观察，还可以同时进行加热和通电测试，并同步得到材料的力学数据，通过视频接口可以将材料的力学数据（载荷位移曲线）与相应TEM视频之间实现时间同步。该系统为方便研究者瞬间得到特定参数，比如化学复合物的种类，或对材料已经造成的影响，除成像外，选择区域衍射可以检测样品的取向，原位力学检测可以实时观测和验证。适用JEOL、FEI、Hitachi、Zeiss（不适用于UHR极靴）的PI 95可在纳米尺度既可以轻松完成材料的电学测试，也可以同时进行拉伸、压缩、弯曲等力学实验。后续可升级模块有高温台、原位力电性能测试、纳米划痕等。

日本电子扫描电镜JSM-6510A/JSM-6510LA详细介绍日本电子扫描电镜JSM-6510A/JSM-6510LA型与日本电子公司的元素分析仪（EDS），统合于一体。结构紧凑的EDS由显微镜主体系统的电脑控制，操作员只用一只鼠标，就可完成从图像观测到元素分析的整个过程。扫描电镜最基本的功能是对各种固体样品表面进行高分辨形貌观察。大景深图像是扫描电镜观察的特色，应用于生物学、植物学、地质学、冶金学等领域。观察可以是一个样品的表面，也可以是一个切开的面，或是一个断面。冶金学家已兴奋地直接看到原始的或磨损的表面。可以很方便地研究氧化物表面，晶体的生长或腐蚀的缺 陷。它一方面可更直接地检查纸，纺织品，自然的或制备过的木头的细微结构，生物学家可用它研究小的易碎样品的结构。例如：花粉颗粒，硅藻和昆虫。另一方面，它可以拍出与样品表面相应的立体感强的照片。电子束与样品作用区内，还发射与样品物质其他性质有关信号。例如：与样品化学成分分布相关的，背散射电子，特征X射线，俄歇电子，阴极荧光，样品吸收电流等；与样品晶体结构相关的，背散射电子衍射现象的探测；与半导体材料电学性能相关的，二次电子信号、电子束感生电流信号；在观察薄样品时产生的透射电子信号等。目前分别有商品化的探测器和装置可安装在扫描电镜样品分析室，用于探测和定性定量分析样品物质的相关信。操作窗口： 直观的操作界面的设计，简明易懂便于迅速掌握操作。支持多用户：单个用户可以根据常用功能设置相应的图标，营造快捷的操作环境。用户登录时，即可加载已注册过的设定。同时显示两幅图像：画面上并列显示二次电子成像和背散射电子成像这两种实时图像。可同时观察样品的形貌和组成分布。微细结构测量：适合于多种测量功能。可在观察图像上直接进行测量。也可将测量结果贴至SEM图像，保存在文件中。标准的全对中样品台，能收录三维照片3D Sight（选配件），能够进行平面测量和高度测量，实现立体俯视图。 从图像观察到元素分析，配合连贯一条龙分析型扫描电子显微镜配备两台监视 器，一台用于SEM图像观察和另一台用于元素分析（EDS）。一只通用鼠标即可同时控制两台监视 器。大尺寸画面使操作更加简便与舒 适。维护简便：工厂预置中 心灯丝，十分便于更换。因此，可长期保持稳定的高性能。此外，操作界面还能以映像形式显示灯丝维护的步骤说明。可信赖的真空系统：真空系统使用高性能的扩散泵保证了洁净的高真空状态。扩散泵内部无活动部件，体现了操作稳定，维护简便的特色。 日本电子扫描电镜JSM-6510A/ JSM-6510LA型的规格保证分辨率3.0nm（30kV）8.0nm（3kV）15nm（1kV）放大倍数5至300,000x加速电压0.5kV至30kV电子枪工厂预对中灯丝聚光镜变焦聚光镜物镜锥形物镜样品台全对中样品台X-Y80mm-40mmZ5mm至48mm旋转360°倾斜－10°至＋90°排气系统（高真空模式）DPx1，RPx1排气系统（低真空模式）DPx1，RPx2日本电子最 大的亮点——方便的导航系统

FEI Quanta 系列包括六款可变压力和环境扫描电子显微镜 (ESEM&trade )。所有这些产品均可满足工业工艺控制实验室、材料科学实验室和生命科学实验室的多种样本和成像要求。Quanta 系列扫描电子显微镜属于多功能、高性能仪器，并具有高真空、低真空和 ESEM 三种模式，能够处理的样本类型之多堪称 SEM 系统之最。所有 Quanta SEM 系统均可配备分析系统，比如能量色散谱仪、X 射线波长色散谱仪以及电子背散射衍射系统。此外，场发射电子枪 (FEG) 系统含有一个用于明场和暗场样本成像的 S/TEM 检测器。SEM 系统中的另一个可变配置是电动工作台的尺寸（分 50mm、100mm 和 150mm 三种）以及电动 Z 轴行程的大小（分别为 25mm、60mm 和 65mm）。Quanta 650 和 650 FEG 都设计了大标本室，能够分析和浏览大型标本。Quanta 的材料科学应用随着 Quanta 50 系列的推出，现在的 Quanta SEM 系列更为灵活。对于材料科学来说，这些全新仪器可满足对众多类型材料进行研究以及表征结构和成分的需求。FEI Quanta&trade 50 系列十分灵活，功能多样，能够应对当今众多研究领域的挑战。观测任意样本并获得所有数据 - 表面和成分图像可与配件结合起来，确定材料属性和元素成分。Quanta 旨在增加您实验室的可发表成果。Quanta 标准环境 SEM (ESEM) 功能可以提供额外的能力，用于处理您之前认为电子显微技术无法处理的样品和应用，同时协助预测长期的材料性能。 对水化物样品成像。 潮湿或热循环期间的结晶或相变。 悬浮或自组装过程中的粒子。 金属腐蚀。 拉伸试验（根据需要加热或冷却）。 Quanta 自身的多功能性使之非常适合用于材料科学。它善于执行传统高分辨率 SEM 成像/分析，在动态原位 实验方面同样游刃有余。Quanta 可以让您研究自然状态下的广泛样品，从而获得最准确的结构和组成信息： 氧化/腐蚀样品 陶瓷材料、复合材料、塑料 薄膜和涂层 软材料：聚合物、药物、凝胶 颗粒物、多孔材料、纤维合作、共赢！美国热电：直读光谱仪ARL8860、XRF、XRD ICP、电镜、电子能谱仪德国徕卡：金相显微镜、体视显微镜、电镜制样设备英斯特朗：疲劳试验机、万能试验机； 摆锤冲击试验机、落锤冲击试验机东京精密：圆度仪、轮廓仪、粗糙度仪、三坐标美国法如：激光跟踪仪、关节臂及扫描 日本奥林巴斯手持光谱仪 德国帕马斯颗粒计数器租赁检测：便携式三坐标、激光跟踪仪、3D扫描仪为客户提供专业的检测服务，帮客户挖掘新的赢利空间！上海澳信检测技术有限公司青岛澳信仪器有限公司青岛澳信质量技术服务有限公司联系地址：青岛市城阳区山河路702号上海地址：上海浦东新区川沙路1098号新美测（青岛）测试科技有限公司提供测试服务：静态力学测试主要包括拉伸、压缩、弯曲、剪切等；动态疲劳测试主要包括：拉拉疲劳、拉压疲劳、压压疲劳、裂纹扩展速率等

TESCAN AMBER X 是完美结合了分析型等离子 FIB 和超高分辨（UHR）扫描电镜的综合分析平台，能够很好的应对传统的 Ga 离子 FIB-SEM 难以完成的困难挑战。TESCAN AMBER X 配置了氙（Xe）等离子 FIB 镜筒和 BrightBeam™ 电子镜筒，能够同时提供高效率、大面积样品刻蚀，以及无漏磁超高分辨成像，适用于各类传统或新型材料的二维成像以及大尺度的 3D 结构表征。拥有 AMBER X 不仅能够满足您现阶段对材料探索的需求，也为您将来的研究工作做好充分的准备。AMBER X 等离子 FIB 不但能轻松应对常规的样品研磨和抛光工作，而且能快速制备出宽度可达1 毫米的截面。氙等离子束对样品的损伤最小，且不会导致注入引起的污染和非晶化。氙是一种惰性元素，所以可以实现对铝等材料进行无污染的样品制备和加工，不用担心传统镓离子 FIB 加工时由于镓离子污染或注入可能导致的微观结构和/或机械性能改变。镜筒内 SE 和 BSE 探测器经过优化，可以在 FIB-SEM 重合点位置获得高质量的图像。TESCAN AMBER X 更有利于安装各类附件的几何设计为样品的综合分析提供了前所未有的潜力，而且还能够进行多模态的 FIB-SEM 层析成像。TESCAN Essence™ 是一款支持用户可根据需求自定义界面的模块化软件。因此，TESCAN AMBER X 可以轻松的从一个多用户、多用途的工作平台转变为用于高效率、大面积 FIB 样品加工的专用工具。主要特点：● 高效率、大面积样品刻蚀，最大宽度可达1毫米的截面。 ● 无镓离子污染的样品加工。 ● 无漏磁的场发射扫描电镜，实现超高分辨成像和显微分析。● 镜筒内二次电子和镜筒内背散射电子探测器。 ● 束斑优化，可确保高效率、多模态 FIB-SEM 断层扫描的效果。● 超大的视野范围，便于样品导航。 ● 可轻松操作的模块化电镜控制软件 Essence™ 。

FEI Quanta 200环境扫描电子显微镜主要用于生物样品、材料样品表面精细形貌和结构的观察和分析。图像具有高分辨率和高放大倍数，富于立体感，可真实、生动地显示样品的三维结构。广泛应用于生命科学、医学、材料学等诸多学科。在环境保护和环境监测中，扫描电镜也发挥了不可替代的作用。扫描电镜图像生动、真实地显示了在污水处理中，颗粒污泥、絮状污泥和各种载体上生物膜的生长情况，为深入研究微生物在污水处理、环境保护中的作用、机理和效果提供了有力依据。1. 广泛应用于各种导电材料、绝缘材料、生物材料及含水材料等固体材料的形貌观察；2. 非导电样品不需要表面导电处理，可直接在低真空和环境真空模式下进行成像；3. 多种样品台可提供多种选择；4. 配置冷台，可低温观察样品；5. 真空可控，可在特定真空下观察样品形貌。1. 分辨率：3.5nm （高真空模式，30kv）；2. 3.5nm (低真空模式，30kv）；3. 3.5nm (ESEM环境真空模式， 30kv）；、4. 15 nm (低真空模式，3kv）；5. 放大倍数: 50-50,000x；6. zui大象素: 3584 x 3094。1. 无机物纳米材料等样品的结构信息；2. 不导电样品低真空模式下观察； 3. 含水样品在环境扫描模式下观察；4. 动植物微生物等样品干燥、镀金处理后表面形貌观察。

丰富的电镜配件及耗材库存：公司仓储中心储备了大量的电子显微镜配件和耗材，满足不同需求。多品牌多型号的二手电镜：提供多种品牌和型号的二手电子显微镜，供客户选择购买或租用。价格优惠与灵活互通：配件价格具有竞争力，同时提供租赁服务，确保客户可以根据自己的需求灵活选择。本地化仓库及充足备货：拥有本地化的仓库，确保配件和耗材的供应充足，快速响应客户需求。终身技术服务：提供终身的技术服务支持，确保客户在使用过程中得到持续的帮助。国产配件研发生产能力：公司具备国产电子显微镜配件的研发和生产能力，能够提供质量可靠的配件。专业技术团队服务保障：拥有专业的技术团队，为客户提供专业的服务保障，确保客户使用无忧。

1. 悠久的电子显微镜研究及生产历史ZEISS公司具有悠久的电镜研究、生产历史，在世界上一直处于地位。当今的ZEISS公司纳米技术系统分部（The Nano Technology Systems Division of Carl Zeiss SMT）由德国本部电镜生产基地和英国剑桥厂及其他配件厂组成。积扫描电镜领域及透射电镜领域多年的研发经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个一：一台静电式 TEM (1949)一台商用 SEM (1965)一台全数字 SEM (1985)一台带有成像滤波器的 TEM (1992)一台可变压力 FE-SEM (2001)一台具有Koehler照明的 200kV FE EFTEM (2003)一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的EFTEM (2003) ZEISS电镜技术经历了Cambridge、OPTON、LEICA、LEO等发展阶段，现已具有钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等生产能力的厂家。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。2. 先进的仪器结构设计ZEISS扫描电镜采用通用的镜体设计，可配备各种不同的附件，适应各种分析的需要。并具有灵活的可升级性，可按照用户研究工作发展的需要进行升级。各种类型的扫描电镜均有高真空、低真空（或超低真空）型号，以满足不同样品检测的需要。3. 卓越的技术性能高分辨率 ： 目前，钨灯丝扫描电镜的分辨率达到3nm，能够满足失效分析、材料研究等方面的需要。大样品室： ZEISS扫描电镜具有世界上大的样品室，样品室内部尺寸为Φ365mm×275mm，全对中的样品台，可放置的大样品尺寸为Φ250mm×145mm，样品台大承载重量为5kg，方便各种大样品的分析。高效无污染真空系统： ZEISS各种型号的扫描电镜均采用了涡轮分子泵抽真空，其抽真空速度快、无污染、免维护是其大的优势。还可提供无油的真空系统。自动化操作： 新型的扫描电镜全部采用当前先进的计算机集成自动化控制，采用Windows视窗操作系统、图形用户控制界面，全部操作可用键盘和鼠标完成。样品台坐标轴全部马达驱动，软件功能强大，操作非常简单和方便。五轴马达自动控制全对中样品台：X:125mm Y:125mm Z:50mm T: 0～+90度 R:360度。高稳定性、可靠性： ZEISS扫描电镜具有很高的稳定性，镜筒、电路板等均采用了水冷，保证了其工作的稳定与可靠。做工的精湛，工艺的考究，也为世界之首。4. 全面的成像解决方案ZEISS的钨灯丝扫描电镜可以提供高真空、低真空和超低真空工作模式，对任何材料都没有局限性，满足金属、陶瓷、地矿、化工、半导体、生命科学等所有研究领域需要。其超大样品室预留足够端口，可搭配能谱、波谱、背散射电子衍射、阴极荧光等，样品台可装加热台、冷却台和拉伸台以满足各种研究需要。其大束流和优异的束流稳定度支持各种大束流和长时间的分析。扫描电镜的强大功能已使其成为研究所以及工厂的微观失效分析的一个基本工具，为失效分析提供真实确切的证据，提高相应领域的分析水平。广泛应用于航空航天、交通、材料、冶金、地矿、半导体、生命科学等方面。5. 低真空的应用在失效分析中，除了金属样品外，还有很多非金属样品，这些样品导电性很差。要分析这些非导电样品，样品的充电是不可避免的。由于电子束打到样品上使样品带电，其产生的电场影响了二次电子的产生和接收，使图像上呈现一片片亮的或暗的区域，无法进行正常观察。要对这些非导电样品进行分析，就必须排除样品充电的影响。其方法之一就是将样品上的电荷中和掉。ZEISS扫描电镜所采取的措施是：使样品室处于低真空状态，样品表面所产生的二次电子与样品室中的气体分子相碰撞，使气体电离，这些气体离子附着于样品表面，将样品上所带的电荷中和掉。使用专用的探测器，接收二次电子与气体分子相碰撞时产生的光子，这些光子也就代表了二次电子信号，使成像不受样品导电性的影响，在分析这些样品时能够得到理想的成像。对于一些含水、含油的样品，可以采用更低的真空度，使水分在该压力、温度下不至于挥发，这样便可观察到真实的生物样品形貌。6. 具有多种观察模式，分辨率模式、景深模式、分析模式、视场模式、鱼眼模式。

ZEISS公司具有悠久的电镜研究、生产历史，在世界上一直处于地位。当今的ZEISS公司纳米技术系统分部（The Nano Technology Systems Division of Carl Zeiss SMT）由德国本部电镜生产基地和英国剑桥厂及其他配件厂组成。积扫描电镜领域及透射电镜领域多年的研发经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个一：一台静电式 TEM (1949)一台商用 SEM (1965)一台全数字 SEM (1985)一台带有成像滤波器的 TEM (1992)一台可变压力 FE-SEM (2001)一台具有Koehler照明的 200kV FE EFTEM (2003)一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的EFTEM (2003) ZEISS电镜技术经历了Cambridge、OPTON、LEICA、LEO等发展阶段，现已具有钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等生产能力的厂家。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。2. 先进的仪器结构设计ZEISS扫描电镜采用通用的镜体设计，可配备各种不同的附件，适应各种分析的需要。并具有灵活的可升级性，可按照用户研究工作发展的需要进行升级。各种类型的扫描电镜均有高真空、低真空（或超低真空）型号，以满足不同样品检测的需要。3. 卓越的技术性能高分辨率 ： 目前，钨灯丝扫描电镜的分辨率达到3nm，能够满足失效分析、材料研究等方面的需要。大样品室： ZEISS扫描电镜具有世界上大的样品室，样品室内部尺寸为Φ365mm×275mm，全对中的样品台，可放置的大样品尺寸为Φ250mm×145mm，样品台大承载重量为5kg，方便各种大样品的分析。高效无污染真空系统： ZEISS各种型号的扫描电镜均采用了涡轮分子泵抽真空，其抽真空速度快、无污染、免维护是其大的优势。还可提供无油的真空系统。自动化操作： 新型的扫描电镜全部采用当前先进的计算机集成自动化控制，采用Windows视窗操作系统、图形用户控制界面，全部操作可用键盘和鼠标完成。样品台坐标轴全部马达驱动，软件功能强大，操作非常简单和方便。五轴马达自动控制全对中样品台：X:125mm Y:125mm Z:50mm T: 0～+90度 R:360度。高稳定性、可靠性： ZEISS扫描电镜具有很高的稳定性，镜筒、电路板等均采用了水冷，保证了其工作的稳定与可靠。做工的精湛，工艺的考究，也为世界之首。4. 全面的成像解决方案ZEISS的钨灯丝扫描电镜可以提供高真空、低真空和超低真空工作模式，对任何材料都没有局限性，满足金属、陶瓷、地矿、化工、半导体、生命科学等所有研究领域需要。其超大样品室预留足够端口，可搭配能谱、波谱、背散射电子衍射、阴极荧光等，样品台可装加热台、冷却台和拉伸台以满足各种研究需要。其大束流和优异的束流稳定度支持各种大束流和长时间的分析。扫描电镜的强大功能已使其成为研究所以及工厂的微观失效分析的一个基本工具，为失效分析提供真实确切的证据，提高相应领域的分析水平。广泛应用于航空航天、交通、材料、冶金、地矿、半导体、生命科学等方面。5. 低真空的应用在失效分析中，除了金属样品外，还有很多非金属样品，这些样品导电性很差。要分析这些非导电样品，样品的充电是不可避免的。由于电子束打到样品上使样品带电，其产生的电场影响了二次电子的产生和接收，使图像上呈现一片片亮的或暗的区域，无法进行正常观察。要对这些非导电样品进行分析，就必须排除样品充电的影响。其方法之一就是将样品上的电荷中和掉。ZEISS扫描电镜所采取的措施是：使样品室处于低真空状态，样品表面所产生的二次电子与样品室中的气体分子相碰撞，使气体电离，这些气体离子附着于样品表面，将样品上所带的电荷中和掉。使用专用的探测器，接收二次电子与气体分子相碰撞时产生的光子，这些光子也就代表了二次电子信号，使成像不受样品导电性的影响，在分析这些样品时能够得到理想的成像。对于一些含水、含油的样品，可以采用更低的真空度，使水分在该压力、温度下不至于挥发，这样便可观察到真实的生物样品形貌。6. 具有多种观察模式，分辨率模式、景深模式、分析模式、视场模式、鱼眼模式。

聚焦离子束（Xe）扫描电镜 FERA 世界第yi个完全集成式Xe等离子源聚焦离子束扫描电子显微镜----FERA3，提供了超高离子束束流（zui高束流为2μA），其溅射速度比Ga离子源高50多倍。对于目前浪费时间或不可能进行的需要刻蚀的材料，FERA3型仪器是一个不错的选择。 新一代的聚焦离子束扫描电子显微镜为用户提供了zui新的技术优势，例如：改进的高性能电子设备使图像采集得速度更快，带有静态和动态图像扭曲补偿技术的超高速扫描系统，内置的编程软件等。 FERA3的设计适应各种各样的SEM应用与当今研究和产业的需求，其高分辨率、高电流和强大的软件使TESCAN FIB-SEM成为优xiu的分析工具。现代电子光路 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics™ ）设计提供了许多工作与显示模式，体现了TESCAN特有可优化电子束光阑的中间镜设计 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™ ），可模拟和优化电子束 全自动的电子光路设置与合轴 成像速度快 使用3维电子束技术可获取实时立体图像 三维导航高性能离子光路 高性能的等离子i-FIB设备使切片和材料的刻蚀既快又精que维修简单现在保持电镜处在优xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作电镜除了可以自动化设置外，还可进行聚焦、调节对比度/亮度等自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜控制、样品台控制、图像采集、处理与分析等。通过脚本语言用户还可以自定义自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 用户界面友好的操作系统基于Windows™ 平台，多用户和多语言操作界面 同时的FIB/SEM成像，易于操作 实时图像支持多窗口模式，可自定义实时图像参数 图像处理，报告生成，在线与离线图像处理 项目管理软件 内置的自动诊断（自检） TCP/IP远程控制，网络操作与远程进入/诊断 免费升级软件FERA3 GMFERA3 GM是一款由计算机完全控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 (GIS)，可在高真空和低真空模式下工作，其具有突出的光学性能、清晰的数字化图像、成熟和用户界面友好的SEM/FIB/GIS操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简单的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。FERA3 XMFERA3 XM是一款由计算机全控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 (GIS)，可在高真空和低真空模式下工作，其具有突出的光学性能、清晰的数字化图像、成熟和用户界面友好的SEM/FIB/GIS操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。

聚焦离子束（Xe）扫描电镜 FERA 世界第yi个完全集成式Xe等离子源聚焦离子束扫描电子显微镜----FERA3，提供了超高离子束束流（zui高束流为2μA），其溅射速度比Ga离子源高50多倍。对于目前浪费时间或不可能进行的需要刻蚀的材料，FERA3型仪器是一个不错的选择。 新一代的聚焦离子束扫描电子显微镜为用户提供了zui新的技术优势，例如：改进的高性能电子设备使图像采集得速度更快，带有静态和动态图像扭曲补偿技术的超高速扫描系统，内置的编程软件等。 FERA3的设计适应各种各样的SEM应用与当今研究和产业的需求，其高分辨率、高电流和强大的软件使TESCAN FIB-SEM成为优xiu的分析工具。现代电子光路 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics™ ）设计提供了许多工作与显示模式，体现了TESCAN特有可优化电子束光阑的中间镜设计 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™ ），可模拟和优化电子束 全自动的电子光路设置与合轴 成像速度快 使用3维电子束技术可获取实时立体图像 三维导航高性能离子光路 高性能的等离子i-FIB设备使切片和材料的刻蚀既快又精que维修简单现在保持电镜处在优xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作电镜除了可以自动化设置外，还可进行聚焦、调节对比度/亮度等自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜控制、样品台控制、图像采集、处理与分析等。通过脚本语言用户还可以自定义自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 用户界面友好的操作系统基于Windows™ 平台，多用户和多语言操作界面 同时的FIB/SEM成像，易于操作 实时图像支持多窗口模式，可自定义实时图像参数 图像处理，报告生成，在线与离线图像处理 项目管理软件 内置的自动诊断（自检） TCP/IP远程控制，网络操作与远程进入/诊断 免费升级软件FERA3 GMFERA3 GM是一款由计算机完全控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 (GIS)，可在高真空和低真空模式下工作，其具有突出的光学性能、清晰的数字化图像、成熟和用户界面友好的SEM/FIB/GIS操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简单的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。FERA3 XMFERA3 XM是一款由计算机全控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 (GIS)，可在高真空和低真空模式下工作，其具有突出的光学性能、清晰的数字化图像、成熟和用户界面友好的SEM/FIB/GIS操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。

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我司现有一台二手飞纳电镜Phenom ProX出售，价格可谈，欢迎垂询第五代飞纳电镜能谱一体机 Phenom ProX 是新一代的集成化成像分析系统，分辨率提升 20%，进一步增加应用范围，更加适用于对电子束敏感的样品。借助该系统，既可观察样品的表面形貌，又可分析其元素组分。研究样品时，得到样品的形貌信息只是解决了一半问题。获得样品的元素组分信息往往也是非常必要的。借助全面集成、特殊设计的能谱探测器，飞纳电镜能谱一体机 Phenom ProX 可以完善解决上述所有问题。能谱仪是一种基于样品被电子束激发而产生 X 射线的分析仪器。Phenom 的能谱仪无论软件、硬件都是完全集成设计在飞纳电镜能谱一体机 Phenom ProX 系统中。Element Identification (EID) 软件可以使用户实现多点分析，检测样品的元素组分。此外，该软件还可以扩展到元素分析线面扫（mapping）功能。分步操作界面可以帮助用户更方便地收集、导出分析数据。光学放大20 - 135 X电子光学放大80 - 150,000 X分辨率优于 8 nm数字放大Max. 12 X光学导航相机彩色加速电压5 kV - 15 kV 连续可调真空模式高分辨率模式降低荷电效应模式探测器背散射电子探测器二次电子探测器 (选配)

扫描电镜主要技术参数分辨率二次电子（SE）成像高真空模式：30kV时 1.2nm；1kV时 3.0nm低真空模式：30kV时 1.5nm；3kV时 3.0nmESEMTM环境真空模式：30kV时 1.5nm背散射电子（BSE）成像 30kV时 2.5nm放大倍数高真空模式：12×～1，000，000×低真空模式：12×～1，000，000×加速电压 200V～30Kv样品室内径 379mm 能谱（EDS）主要技术参数能量分辨率（20000CPS）：Mn-Ka≥129eV,C-Ka≥65eV,F-Ka≥70eV，1000CPS～40000CPS时，Mn-Ka谱峰漂移≤1eV，空间分辩达到纳米量级；元素分析范围：Be4～U92；输出最大计数率≥100，000CPS，输入最大计数率≥300，000CPS EBSD主要技术参数EBSD探头EBSD花样分辨率：640×480，信噪比≥65Db，芯片积分时间：80微秒～15分钟最大标定速度≥400帧/秒（准确率优于99%），束流≤2nA仍可以高速采集；在高、低真空和可变真空条件下都可以高速采集。 数据采集系统可对所有对称性（从三斜到立方的所有7个晶系）的晶体材料的EBSD进行自动标定，空间分辨率≤0.05μm EBSD花样自动采集和标定的准确度≥99%，标定速度≥400幅/秒 使用一个软件平台同步采集EBSD和能谱数据，进行花样标定与相鉴定。 EBSD软件EBSD面扫描数据分析，包括取向图、极图与反极图、ODF图等，功能包括：花样质量、相界晶界、晶粒尺寸、欧拉角、共格界面等；具有晶界特征（相界、晶界旋转角、轴角对、共格界面等），离散绘图（极图、反极图、ODF和MDF图、欧拉空间图、强度绘图（花样质量、晶粒尺寸、相和晶体取向）织构分析（计算和绘图）等分析软件。

设备简介：AZtecFeature是一种自动颗粒物分析系统，专门针对适用性和高速输出进行了优化。它结合了Ultim Max硅漂移探测器的高效性、灵敏性和Aztec优异的分析性能和简便操作，创造了先进的全自动颗粒物分析平台。快速且强大准确操作简单设备概述：快速且强大发挥新一代大面积Ultim Max SDD的潜力 - 在计数率低时实现高灵敏度，在计数率高时提供实现高效率选择满足预算和测试需求的探测器最多可装配4个探测器，以提供尽可能高的效率和灵敏度，并消除粗糙样品上的颗粒阴影AZtec具有64位处理器，真正具有多任务处理能力一个样品上至多可表征200,000个颗粒实时检测，形貌和元素分析在线或离线采集颗粒元素和相分析采集数据同时进行分析和输出报告准确AZtecFeature采用Tru-Q技术，无需用户干预即可提供自动的元素识别和定量分析，使其成为理想的自动数据采集系统改善的和峰修正可确保即使在高计数率下也能进行准确的定量分析操作简单即使对于新样品，也可以在几秒钟内获得结果——无需费力的设置程序自动获得形貌和成分信息，并且易于匹配到颗粒分类中完整的系统设置可以存储于用户账户中，并在以后调用AZtecFeature在不同的专业领域有不同的应用：1． 刑侦领域：AZtecGSR枪击残留物分析AZtecGSR能在SEM中快速而准确地进行枪击残留物分析：它为 ASTM E1588 - 10e1 提供了可重复的枪击残留物分析结果。AZtecGSR结合了通过引导流程实现的易用性和使用Ultim Max探测器和 Tru-Q 算法实现的高精度。2．钢铁产业：AZtecSteel钢铁夹杂物分析AZtecSteel是一种自动化的钢铁夹杂物分析软件包，利用扫描电子显微镜(SEM)中的能谱分析(EDS)，专用于钢铁夹杂物的分析和分类，使SEM中的钢铁夹杂物分析变得更有效、更准确。它检测、测量并分析夹杂物，将数据结果按照公布的标准方法进行处理，并包含绘制复杂三元相图的功能。3．矿物分析：AZtecMineral矿物分析软件AZtecMineral是功能强大的自动化矿物解离分析解决方案。它利用多功能的扫描电镜进行矿物表征，并且为金属回收以及矿物产率的表征提供重要数据。同时，它是进行岩石表征的重要工具，可以代替耗时的光学显微镜分析。AZtecMineral可配备单个或多至四个牛津仪器大面积SDD能谱仪(Ultim Max)，效率更高，在快速采集的同时进行准确矿物分类，以及其他多种功能分析。4．增材制造：AZtecAM增材制造分析AZtecAM是一个功能强大、自动化程度高的检测系统，专门用于分析增材制造（3D打印）中使用的金属原材料粉末。它在AZtecFeature平台的基础上优化了颗粒分析流程，以实现金属粉末的快速准确表征。AZtecAM自动检测和识别原材料粉末中杂质颗粒、记录粉末颗粒形貌特征，也可深入研究单个颗粒，提供从形貌到成分、单个到统计的所有信息，是确保完善的增材制造工艺和高品质产品的理想工具。5．制造业清洁度分析：AZtecClean清洁度分析AZtecClean是一个功能强大的自动化清洁度分析系统，专门用于制造业的清洁度控制。它利用AZtecFeature平台，自动实现对颗粒物的分析统计，快速表征制造工艺过程的杂质颗粒，控制清洁度。在汽车制造及供应链品质控制，航空制造业，发动机制造，锂电池原材料纯净度控制等领域有很强的应用，帮助提高制造工艺和品质。

Quantifoil率先将用于电子显微镜的支持膜商业化，这种膜具有预定义的孔尺寸、形状和排列，使用非常方便。由于TEM载网的材料和设计多种多样，支持膜需要兼容高性功能和灵活性，以满足不同冷冻电镜的研究需求。此外，我们的产品组合在不断增加，新用于金属载网的UltrAuFoil® 多孔金属膜就是其中之一，这种支持膜可减少电子束引起的运动，以便研究员获得更高质量和更有挑战性的蛋白结构。

二手日立S-4300场发射电镜设计具有以下特点：1） 高亮度光源肖特基场发射扫描电子显微镜2） 高探针电流3） 长、短程电子束稳定4） 高分辨率S－4300SE可以与多种附件相结合，如阴J发光（CL），背反射电子衍射图形（EBSP），X－射线能谱（EDX），电子描画(EB)。技术指标二次电子成像分辨率：1.5nm(30kV), 5.0nm(1kV)20x～5,000,000x电子光学:电子枪:ZrO/W 肖特基发射电子源 (内置阳J加热)加速电压:0.5～30 kV (0.1kV/步)透镜系统:2级电磁透镜物镜光阑:4孔光阑，真空外选择和调校,加热自清理薄光阑板.象散校正:电磁象散校正器扫描线圈:2级电磁系统肖特基场发射扫描电子显微镜样品台:(1)标准台X:0～25 mmY:0～25 mmZ:5～ 30 mm 倾斜: -5～+45°(优中心)旋转:360°(连续)样品尺寸:直径120mm (Z大)(2)大样品台X:0～100 mm Y:0～50mmZ:5～35 mm 倾斜: -5～+60°(优中心)旋转:360°(连续)样品尺寸:直径160mm (Z大)(3)大的优中心样品台X:0～100mm Y:0～50 mm Z:5～35 mm倾斜: -5～+75°(优中心) 旋转:360°(连续)样品尺寸:直径160mm (Z大)肖特基场发射扫描电子显微镜图像显示系统:CRT显示语言:100 mmdia. × 17mm HPC操作系统 :(150 mmdia. × 6 mm H 可选)二手日立S-4300场发射电镜操作:显示器:英语（日语）自动调整功能:PC/AT兼容, Windows NT图像过程: 17 或 21 英寸彩色CRT图像储存:自动聚焦,自动象散校正,自动亮度、对比度调节,自动启动,自动摄像图像编辑:文件格式:SEM数据管理软件自动数据显示:640 x 480,1,280 x 960,2,560 x 1,920pixels 具有多种搜索功能的图像数据库.电子图像移动：BMP (TIFF, JPEG)真空系统:加速电压,放大微米标尺,微米值,胶卷号,工作距离,日期,时间,摄像放大倍率,检测器.离子泵:±30 μm (WD = 30 mm)前级泵:气动阀全自动控制涡管泵:~10-7 Pa (电子枪), ~10-4 Pa (样品室)

SymmetryS2是搭载于扫描电镜（SEM）/聚焦离子束扫描电镜（FIB-SEM）的电子背散射衍射仪(EBSD探测器)，基于始创的CMOS技术。它是一款拥有出色的性能、易用性以及一系列创新设计的特点的EBSD。可用于金属、合金、陶瓷、地质、半导体、电池样品的结构、物相、晶粒、取向等分析。 Symmetry S2采用专门定制的CMOS传感器，拥有独特而强大速度、灵敏度和衍射花样细节等特点。Symmetry S2与AZtec软件相结合，为各种材料和测量提供出色的性能。Symmetry S2的分析速度超过4500pps，是市场上任何基于CCD的EBSD探测器的两倍以上，而这是在没有高束流或过多像素合并的条件下实现的。这意味着，即使在具有挑战性的实际样品上，如多相轻金属合金或变形钢，也能实现高速分析。 仅用12 nA束流就能保证标定速度超过4500 pps 在高速下具有156x88像素图像分辨率–比快速CCD探测器的像素高出16倍以上 全分辨率（1244x1024）模式——高分辨率(HR)-EBSD应变分析的理想选择 低失真光学元件, 确保角度精度优于0.05° 优化荧光屏的高灵敏度, 确保低剂量和低电子束能量下的高质量花样——实现更大的空间分辨率 即使在高速下也能实现无缝集成EDS 软件控制倾斜接口并自动校准——无论样品尺寸大小，都能实现准确的定位和标定 波纹管SEM接口，保持显微镜真空完整性 接近传感器——在可能发生的碰撞发生前提前感知,并自动将探测器移动到安全位置 简单直观的探测器设置，确保每次都能获得良好的效果五个集成的前散射探测器（FSD）, 提供彩色通道衬度图像和原子序数衬度图像

钨灯丝扫描电镜 VEGA VEGA系列的设计适合各种SEM应用及当今研究和工业的需求。经过10多年的不断发展，TESCAN已经成功开发、研制和制造了VEGA的第三代产品。新一代的VEGA给用户带了zui新的技术优势，包括改进的高性能电子设备使成像速度更快，包含了静态和动态图像扭曲补偿技术的超快扫描系统，内置的编程软件等，使VEGA系列产品保持着非常高的性价比。LaB6发射源TESCAN能提供介于肖特基与钨灯丝性能之间的LaB6（六硼化镧）作为电子发射源。LaB6的优势包括：稳定的电子发射源（与场发射电子源相比），在阴极较低温度下可获取比较高的束流（与钨灯丝电子源相比）。这就意味着在整个范围的加速电压和很长的使用寿命中，LaB6可以保持很高的亮度和分辨率。基于其非常高的发射电流，LaB6是需要大电子束流应用领域的正确选择。现代电子光路 独特的四透镜大视野光路设计提供各种各样的工作与显示模式 以电磁的方式改变物镜光阑——中间镜的作用如同"光阑转换器" 透镜与线圈的优质材料使成象率达到20ns/像素，并减少了动态扭曲效应 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™ ），可模拟和优化电子束 镜筒设计提供了全自动电子光路设置，镜筒不含机械对中结构 3维电子束技术提供了实时立体图像检修方便只要很短的停机检查后就能保持电镜长时间处于zui佳状态。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作通过一次点击就可以进行自动灯丝加热和电子枪对中。众多的自动程序减少了用户的操作时间，并提供了操作的自动导航与自动化分析。通过内置脚本语言（Python）用户可以进入软件大多数功能，包括电镜控制、样品台导航、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户也可以自定义软件的自动操作。用户界面友好的软件 用户界面有各种语言版本 多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快 图像文件管理与报告生成 内置的自动系统检查 通过局域网或互联网可实现电镜远程诊断 模块化软件体系结构 标准的软件模块包括了：测量工具、图像处理、对象区域等 选配软件包括了：颗粒度分析、三维表面重构等VEGA3 GMVEGA3 GM是一款由计算机控制，可在高低真空模式下工作的全自动钨灯丝(选配LaB6)扫描电子显微镜，具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟的操作软件，用户界面友好等特征。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作方式和完整的图像采集功能，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。VEGA3 XMVEGA3 XM是一款由计算机控制，可在高低真空模式下工作的全自动钨灯丝扫描电子显微镜，具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟的操作软件，用户界面友好等特征。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作方式和完整的图像采集功能，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。VEGA3 LMVEGA3 LM是一款由计算机控制，可在高真空和低真空模式下工作全自动化钨灯丝扫描电子显微镜，具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟的操作软件，用户界面友好等特征。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作方式和完整的图像采集功能，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。

电镜制样设备Gentle Mill 离子精修仪--用于制备高质量 TEM/FIB 样品的离子束工作站Technoorg Gentle Mill 离子精修仪产品专为最终抛光、精修和改善 FIB 处理后的样品而设计。 Gentle Mill 型号非常适合要求样品无加工痕迹、表面几乎没有任何损坏的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用户。 同时，Gentle Mill 还适用于快速减薄凹坑或超薄平面 ( 25 μm) 以及机械抛光样品。 产品特色：快速、可靠地精修和处理 TEM 和 FIB 样品带有预编程的设置，可进行自动化操作可应用于工业环境中直接匹配日立 FIB-STEM/TEM 系统 3D 样品台性能参数低能离子枪（固定型）离子能量：100 - 2000 eV，连续可调离子电流密度：最大 10 mA/cm2离子束流：7 - 80 μA，连续可调离子束直径：750 - 1200 μm (FWHM)电控优化的工作气流在 2000 eV 离子能量和 30° 入射角下，c-Si 的研磨速率为 28 μm/h样品台切削角度：0° - 40°，每 0.1° 连续可调 可进行计算机控制的平面内样品旋转和摆动（从 ±10° 到±120°，每 10° 连续可调）可适用的 TEM 样品的厚度范围 (30 -200 μm)样品处理用于快速样品交换的真空锁系统全机械、无胶装载专为 XTEM 样品设计的钛夹和封装技术 真空系统Pfeiffer 真空系统配备无油隔膜和涡轮分子泵，配备紧凑的全范围 Pirani/Penning 真空计供气系统99.999% 纯氩气，绝对压力为 1.3 - 1.7 bar带有电子出口压力监测功能的惰性气体专用压力调节器工作气体流量高精准控制成像系统用于全视觉控制和切削监控/终止的 CMOS 相机图像高分辨率彩色 CMOS 相机50 - 400 倍放大范围的手动变焦视频镜头电脑控制内置工业级计算机简单便捷的图形界面和图像分析模块通过鼠标点击或拖动轻松控制所有重要参数高度自动化的操作机制，最大限度地减少人工干预支持预编程或手动调节切削和抛光次数自动终止：图像分析模块支持的切削过程的光学终止（ 通过检测薄区穿孔或监测表面形貌）电源要求100 - 120 V/3.0 A/60 Hz 或 220 - 240 V/1.5 A/50 Hz ‒ 单相应用案例 01. Gentle Mill 对在各种 FIB 制备的样品进行低能量 Ar+ 氩离子研磨显着降低了受损的非晶表面层的厚度。可以实现对 65 nm 节点半导体器件进行原子级结构分析。02. Si 中的晶面[110]。 使用 Gentle Mill 在 200 eV 离子能量和 3°入射角下通过 Ar+ 氩离子研磨对样品进行减薄。图片由劳伦斯伯克利实验室国家电子显微镜中心提供。03. GaSb/InAs 超晶格。 使用 Gentle Mill 制备样品：在 2000 eV 下减薄直至穿孔，然后在 1000 eV 下修整，最后在 300 eV 下精修。 图片由 Technion（以色列）提供。电镜制样设备Gentle Mill 离子精修仪