高真空硅脂无色

超白玻璃B270广泛应用于数码投影仪，真空镀膜基板，触摸屏，镀膜监控玻璃，光学元件等领域。超白玻璃B270，具有对日晒高稳定性。此外还具有高度稳定的热性能和化学性能及火抛光的表面。南通振华光电有限公司20年专注生产、研制、加工各种不同规格牌号的有色光学玻璃和无色光学玻璃等各种光学元件。有色玻璃：紫外滤光片、透紫外线玻璃、金黄色光学玻璃、橙色光学玻璃、红色滤光片、红外光学玻璃、红外透射可见吸收玻璃、紫外透射可见吸收玻璃、选择吸收型紫色光学玻璃、青蓝色玻璃、绿色玻璃、隔热玻璃（GRB1、GRB3、KG5）、选择吸收型波长标定玻璃、降色温玻璃、升色温玻璃、中性灰色玻璃、UV滤色镜、带通滤光片（宽带、窄带）。无色玻璃：超白玻璃B270、光学石英玻璃（远紫外石英玻璃JGS1、紫外石英玻璃JGS2、红外石英玻璃JGS3）、微晶玻璃、防辐射玻璃（ZF1、ZF2、ZF3、ZF4、ZF5、ZF6、ZF7)、耐辐射玻璃（k509耐辐射玻璃、k507耐辐射玻璃）、k9光学玻璃、微孔阵列玻璃、高硼硅玻璃、高铝硅玻璃、高硼硅浮法玻璃、乳白玻璃、异型镜片、偏振片。根据不同行业需求定制，可根据图纸定制各种款式。

产品名称：DVR 2 真空规型号：DVR 2详细资料：DVR 2是款全电子的、用途广泛的真空规，测量范围从大气压到1mbar。DVR 2具有内置的氧化铝陶瓷材质的真空传感器，其有优异的耐腐蚀性及超长的稳定性。它的一个独特优势是其只需电池供电，无需外接电缆。它的操作简单，将数字/模拟真空读数方式结合在一起，可分别进行准确的读数和快速的趋势判断，使得该设备非常灵活。 性能特点：高电磁兼容性：接近检测极限时干扰电子发射率低，在工业环境中仍具有非常高的抗电磁干扰能力大屏幕的模拟/数字真空显示：快速趋势判断，精准读数压力单位可自行设定（mbar, hPa, Torr）数字重校氧化铝陶瓷薄膜电容传感器具有优异的耐化学腐蚀性，准确性高，超长稳定技术参数：测量范围：1080 &ndash 1 mbar测量原理：陶瓷隔膜（氧化铝），电容式，不依赖气体种类，绝对压力尺寸（长x宽x高）：115 x 115 x 66 mm重量：0.375 Kg货号：682902 产品名称：DCP 3000+VSK 3000 真空规型号：DCP 3000+VSK 3000详细资料：DCP 3000是一款杰出的粗、中真空规。通过一个旋钮的切换，带背光的大屏幕可以显示所有真空规测量的读数。VSK 3000真空传感器为陶瓷薄膜规，测量范围自常压至0.1mbar。作为一款绝对压力测量传感器，它与气体种类无关，非常耐腐蚀，测量精度非常出色且可以长期稳定工作。DCP 3000可同时连接多达8个真空传感器，现场使用灵活自如。与外部元件的通讯是通过VACUU· BUSTM 数字总线系统模块实现的。它具有完全自动配置、统一的插头连接和长达30米电缆延长线等优点。除此之外，DCP 3000亦可测量相对压力（使用VSK 3000真空传感器作为参比），也具备数据记录器功能，可容纳32000个数据值。 性能特点：最多可同时连接4个VSK 3000规头（常压到0.1mbar）和4个VSP 3000规头（常压到10-3 mbar）VSK 3000氧化铝陶瓷薄膜电容真空传感器具有优异的耐化学腐蚀性，可提供不依赖于气体类型的绝压测量出色的测量精确性，温度恒定，运转长期可靠坚固耐用，防水溅射真空传感器，可用于非常苛刻的操作环境相对压力测试选件（VSK 3000）和数据记录功能（最多达32,000个数值，通过RS 232C读出技术参数：测量范围：1080 &ndash 0.1 mbar测量原理：陶瓷隔膜（氧化铝），电容式，不依赖气体种类，绝对压力尺寸（长x宽x高）：144 x 124 x 114 mm重量：0.44 Kg货号：683170 产品名称：DCP 3000+VSP 3000 真空规型号：DCP 3000+VSP 3000详细资料：DCP 3000是一款杰出的真空规，拥有带背光的大显示屏幕。全新的VSP 3000真空传感器基于热导（皮拉尼）原理，测量范围从常压到10-3 mbar。与被抽介质接触的部分采用抗化学腐蚀塑料和氧化铝陶瓷。与常规皮拉尼传感器的脆弱的螺旋缠绕长金属灯丝相比，它具有更好的耐腐蚀性和强度。DCP 3000可同时连接多达8个真空传感器，现场使用灵活自如。与外部元件的通讯是通过VACUU· BUSTM数字总线系统模块实现的。它完全自动配置、统一的插头连接和支持长达30米的信号传输距离。 性能特点：最多可同时连接4个VSK 3000规头（常压到0.1mbar）和4个VSP 3000规头（常压到10-3 mbar）全新的VSP 3000真空传感器非常耐用，其材质为塑料和陶瓷，具有非常好的耐化学腐蚀性、防水溅能力，可用于各种苛刻的操作环境测量范围宽，从常压到中真空（10-3 mbar）坚固耐用，防水溅射真空传感器，可用于非常苛刻的操作环境技术参数：测量范围：1x 103 &ndash 1x 10-3mbar测量原理：热阻规（皮拉尼规），抗化学腐蚀的塑料/陶瓷尺寸（长x宽x高）：144 x 124 x 114 mm重量：0.44 Kg货号：683190 产品名称：CVC 3000 真空控制器型号：CVC 3000详细资料：CVC 3000通过控制真空泵、真空阀、制冷剂阀和各种附件来实现真空过程调控。图形化操作界面，文本菜单一目了然（14种语言可选），飞轮式操作钮使操控非常便捷。某些版本的控制器的陶瓷薄膜真空传感器和放气阀已经内置其中（也可外部连接）。该陶瓷真空传感器具有非常好的耐化学性，测量精度高，不受气体类型影响。配VARIO泵使用时，只需按一下键，就可实现全自动的蒸发控制。可以方便的编辑或储存十个可设参数的编程过程（最多可设十个，每步的压力可通过设置放气、抽气和自动蒸发等功能来实现控制）。采用VACUU· BUSTM控制接口，外置的阀、液面传感器及真空规（VSK 3000和VSP 3000）等附件可很容易的被连接到CVC 3000上，且都可以进行自动识别。同时，CVC 3000可以用一个参比传感器（VSK 3000）进行相对压力测量。 性能特点：全过程中自动调节真空度，过程稳定性高，操作过程无需过多干预（与VARIO泵搭配使用时）根据需求控制真空度、冷凝水或放气阀采用可旋转的飞轮按钮，操作直观，菜单清晰，内置放气阀用RS 232C串行接口交互通信（PC）采用VACUU· BUSTM系统的自我识别功能，可用于：VARIO泵，阀（真空、放气、制冷剂）、传感器（真空、液面探测），PeltronicTM冷凝器技术参数：测量范围：1080 &ndash 0.1 mbar测量原理：陶瓷隔膜（氧化铝），电容式，不依赖气体种类，绝对压力尺寸（长x宽x高）：144 x 124 x 114 mm重量：0.44 Kg货号：683160

*无色透明USP Ⅲ型钠钙玻璃*广口设计更利于大颗粒样品储存*储存物质不会残留在内壁上*适用于固体采样以及环境方面应用*带盖或不带盖两种可选技术参数订货号容积mL直径x 高mm盖规格盖材质盖垫包装W2169196055×4853-400--144W2169036055×4853-400白色聚丙烯聚乙烯24W2169086055×4853-400白色聚丙烯PTFE 涂层的发泡乙烯24W2169146055×4853-400白色聚丙烯聚乙烯144W21692012560×6858-400--24W21690412560×6858-400白色聚丙烯聚乙烯24W21690912560×6858-400白色聚丙烯PTFE 涂层的发泡乙烯24W21691312560×6858-400黑酚醛树脂橡胶24W21691512560×6858-400白色聚丙烯聚乙烯24W21692125073×8870-400--24W21690525073×8870-400白色聚丙烯聚乙烯12W21691025073×8870-400白色聚丙烯PTFE 涂层的发泡乙烯12W21691625073×8870-400白色聚丙烯聚乙烯24W21692250091×9589-400--12W21690650091×9589-400白色聚丙烯聚乙烯12W21691150091×9589-400白色聚丙烯PTFE 涂层的发泡乙烯12W21691750091×9589-400白色聚丙烯聚乙烯12W216923100095×17089-400--12W216907100095×17089-400白色聚丙烯聚乙烯12W216912100095×17089-400白色聚丙烯PTFE 涂层的发泡乙烯12W216918100095×17089-400白色聚丙烯聚乙烯12直边罐备用盖订货号规格/ 描述个/ 包个/ 箱白色聚丙烯盖/PTFE 涂层的发泡乙烯盖垫23924153-400727223924258-400727223924470-400244823924689-4002448订货号规格/ 描述个/ 包个/ 箱白色聚丙烯盖/ 带聚乙烯盖垫23921753-400727223921858-400727223922070-400244823922289-4002448

TE 91 高真空螺旋轨道SOT/四球摩擦试验机设备介绍TE 91 高真空SOT（螺旋轨道）/四球摩擦试验机由欧洲宇航中心设计，PLINT研制成功。该设备符合ASTM F2661，ASTM D2266, ASTM G99等方法，拥有NASA及英国国家物理实验室(NPL)等客户多年的使用经验。TE 91 高真空螺旋轨道SOT/四球摩擦试验机主要由真空系统、主轴及驱动系统、液压施力系统、摩擦副、电气控制箱等部分组成，真空度高达10-6Pa，同时转速可达4000rpm/min,加载高达2000N。TE 91 高真空螺旋轨道SOT/四球摩擦试验机是一个带测试腔的台架试验机。测试轴由一个电机驱动，它是标准的旋转馈入装置，向下进入真空箱，并带有安装旋转的测试件的夹具。一个带有反馈编码器的伺服电机能够提供调节比为100:1的变速。TE 91 高真空SOT（螺旋轨道）/四球摩擦试验机主要是以螺旋轨道SOT，滑动四球及销盘，线性往复等摩擦的形式，在极高的点接触压力条件下评定润滑剂在真空环境下的承载能力。该机还可以做润滑剂的长时抗磨损试验，测定摩擦系数。符合的标准TE 91 高真空螺旋轨道SOT/四球摩擦试验机标准合ASTM F2661，装备适当的夹具 可以符合ASTM G99 、ASTM D2266、ASTM D3702等标准方法。 ASTM F 2661 轨道螺旋球 ASTM G 99 销/球盘ASTM D 2266 滑动四球 ASTM D 3702 推力垫圈 技术参数变速电机转速 40 - 4000 rpm负载压力20 - 2000 N压力1 个大气压到 1.0 x 10 -5Pa工况、空气惰性气体或者真空电穿通密封件 1 Kvolts, 15 Ampere温度传感器温度可达200摄氏度 压力可达10-5pa

WHEATON 标准安瓿瓶常用于包装认证标准，硼硅玻璃符合USP Ⅰ型以及ASTM Ⅰ型标准，A 类要求背景低。技术参数订货号 规格（mL） 直径× 高度（mm） 包装数量 176759717×9525/ 箱1767622028×10025/ 箱WHEATON 无色透明带刻痕安瓿瓶带刻痕易打开，硼硅玻璃符合USP Ⅰ型以及ASTM Ⅰ型标准，A 类要求，顶封口或拉颈部拉伸封口。技术参数订货号规格（mL） 直径× 高度（mm） 包装数量 176772 110.5×67144/ 箱176776212×75144/ 箱176779516.5×84144/ 箱1767801019×107144/ 箱1767822022.5×130144/ 箱WHEATON 棕色带刻痕安瓿瓶带刻痕，硼硅玻璃符合USP Ⅰ型以及ASTM Ⅰ型标准，A 类要求，颈部可拉伸或顶部密封。技术参数 订货号规格（mL） 直径× 高度（mm） 包装数量 176792 110.5×67144/ 箱176796212×75144/ 箱176799516.5×84144/ 箱

高温三层玻璃反应釜厂家技术1、由于玻璃反应釜采用的材料（GG17高硼硅玻璃)是拥有优良物料和化学性能。在变频调速的搅拌过程运转中会比较平稳，即使力矩大也不会产生火花。2、另外，组件采用四氟密封，在市场同类产品中可保持较好的真空度（一般在-0.095mpa左右），保持在工作状态下的高精度密封。而且还有磨屑收集槽。3、合金钢机械密封，聚四氟乙烯连接口，保持在工作状态下的高精度密封。4、Pt100传感器探头，测温精度高，误差小，有效提高工作效率5、聚四氟乙烯放料阀，可活动接口，出料彻底快捷。6、玻璃反应釜夹层的制冷或加热溶液在反应完毕后，能彻底排积，不积液7、整体不锈钢立柱移动式框架结构，五口反应釜盖，具回流、加液、测温等全套玻璃。8、强扭力，无噪声。采用的日本技术交流齿轮减速电机9、玻璃反应釜的双聚四氟乙烯搅拌桨，适用于低至高黏度液体的搅拌与混合。高温三层玻璃反应釜厂家简介： 实验室真空保温三层玻璃反应釜是常用的生化仪器，广泛地被现代精细化工，生物制药，科研实验等行业所选用，可在恒速，恒力，恒温的条件下做浓缩，蒸馏，回馏，分离，提纯反应，是教学，实验，中试，生产的理想仪器设备。产品可与循环水真空泵、隔膜真空泵、低温循环泵、循环冷却器、高温恒温循环器、低温冷却液循环泵、密闭制冷加热循环装置（又名：高低温循环装置）等配套组成系统装置。工作原理： 玻璃反应器内胆放反应物料，密闭状态下，常压或负压进行搅拌反应，其夹层可连通介质（冷冻液、加热水或加热油）做循环加热或冷却。双层玻璃反应器（电机采用全防爆电机，电器采用防爆电器箱、柜及本安化防爆处理）从而极大满足了现代生物、化学、制药等实验生产车间的防爆要求，达到Q/HA01—2005标准。 公司以科技创新，服务社会为宗旨，积极研究开发新产品，奉献于教育和科学，经过长期的研究开发和不断的技术积累，为化学、化工、生物、制药、高分子工程、电池、电子、钢铁、石油、机械、新材料等领域的科学研究和工业应用提供了精良装置

一、操作便捷性：抽气口及气路连接口采用KF式快速连接结构。简化安装过程，只需用卡箍便可完成连接，方便操作 二、控制智能化1、采用数显真空计，配合热电偶规管采集数据。测量精度高、稳定性好、抗干扰能力强、真空度显示采用科学计数法，数字显示，使用方便直观。2、该系统采用分子泵系高压强耐冲击，与专用的控制电源配套使用，提高了使用的可靠性，尤其当炉管密封系统与在使用过程中的大气相通，导致系统会自动停止工作，待炉管密封系统恢复正常仍可使用。 三、结构实用性：1、内置双级旋片式机械真空泵，有效地提高了抽气效率。2、本身作为真空控制系统的同时，也可作为活动平台使用，方便放置电炉及其它设备。 四、周边扩展性：1、该真空控制系统可与公司生产的真空/气氛管式电炉及真空/气氛箱式电炉。2、该真空控制系统可与公司生产的气体流量控制系统组合使用。3、该系统可作为真空获得设备独立使用。产品用途：该系列产品应用在我公司生产的真空/气氛管式电炉及真空/气氛箱式电炉等设备上。是对炉管及箱体抽取真空、真空测量与自动控制为一体的真空控制系统总成。设备为用户提供了具有真空度可控的实验环境。

乙炔在线分析仪碳氢化合物色谱仪可对空分设备中痕量乙炔进行分析，监测易爆组分的含量变化情况，从而提供空分设备主冷凝器安全运行的重要参考数据。同样可作为石油化工、钢铁和气体工业等检测碳氢化合物过程控制仪表。1. 它可连续监测待测气体的样品。2. 可以自动定时、采样、分析，分离分析效果好，数据可靠的全自动分析仪器。3. 可实现自动和手动进样的自由切换，以便得到更为可信的数据。4. 仪器操作简单，进样、取样时间可任意设定。 5. 测量对象：主冷液氧中、储槽液氧中、空气中痕量烃含量。6. 如果客户需求监测数据可通过4~20MA可上传至空分主控室操作界面；

短程分子蒸馏仪AY-SP2L高硼硅玻璃材质产品介绍：短程分子蒸馏是一种短距离运行的蒸馏技术。它是一种基于负压下液体混合物中沸点差异来分离混合物的方法。 当待净化的样品混合物被加热时，蒸气挥发上升进入立式冷凝器，随之被水冷却。 该技术用于在高温下不稳定的化合物，因为它可以保证较低的沸点。其优点是加热温度可以比标准压力下的液体沸点低得多（负压状态下），并且蒸馏物在冷凝之前仅有很短的距离。同时短程蒸馏后残留的化合物的量较少。产品特征：1. 四氟螺口温度计接头 （带氟橡胶垫圈）2. 向下放料口3. 真空夹套蒸气通道4. 多套分流瓶蒸馏头5. 高质量耐用3.3高硼硅玻璃制作6. 加热套外加磁力搅拌功能7. 冷阱保护真空泵不受到蒸汽的污染和破坏8. 配备真空泵和加热&制冷设备 产品参数：型号AY-SP2LAY-SP5LAY-SP10LAY-SP20L材料硼硅酸盐玻璃 3.3加热温度300℃工作压力大约 5 Pa蒸馏烧瓶体积 (L)251020接口2 x 24/40 接口34/45接口,24/40 接口24/40 接口, 2 x 34/45 接口24/40 接口,2 x 34/45 接口接收瓶体积 (mL)2 x 500mL2 x 1000mL2 x 2000mL4 x 2000mL接口24/40 接口24/40接口24/40接口24/40 接口冷阱干冰体积 (L)1L1L1L2 x 1L加热套加热功率(w)650110021003000搅拌速度 (rpm)50-180050-180050-180050-1800电机功率(w)40404040真空泵泵送率(CFM)10101015低温循环槽冷却温度 -10℃ ~ 95℃ -10℃ ~ 95℃ -10℃ ~ 95℃ -10℃ ~ 95℃通用电压220V 50/60Hz

一、操作便捷性：抽气口及气路连接口采用KF式快速连接结构。简化安装过程，只需用卡箍便可完成连接，方便操作 二、控制智能化1、采用数显真空计，配合热电偶规管采集数据。测量精度高、稳定性好、抗干扰能力强、真空度显示采用科学计数法，数字显示，使用方便直观。2、该系统采用扩散泵系高压强耐冲击，与专用的控制电源配套使用，提高了使用的可靠性，尤其当炉管密封系统与在使用过程中的大气相通，导致系统会自动停止工作，待炉管密封系统恢复正常仍可使用。 三、结构实用性：1、内置双极旋片式机械真空泵，有效地提高了抽气效率。2、本身作为真空控制系统的同时，也可作为活动平台使用，方便放置电炉及其它设备。 四、周边扩展性：1、该真空控制系统可与公司生产的真空/气氛管式电炉及真空/气氛箱式电炉。2、该真空控制系统可与公司生产的气体流量控制系统组合使用。3、该系统可作为真空获得设备独立使用。产品用途：该系列产品应用在我公司生产的真空/气氛管式电炉及真空/气氛箱式电炉等设备上。是对炉管及箱体抽取真空、真空测量与自动控制为一体的真空控制系统总成。设备为用户提供了具有真空度可控的实验环境。

FEP容量瓶 一、规格10、25、50、100、250、500、1000ml ★ FEP容量瓶与四氟的相比透明度较好，是实验室定容的得力产品，塑料容量瓶因地区差异定容刻度线会有所影响，所以最终以使用方重新定容为准！二、产品特性：1、耐高低温：使用温度可达-200~+205℃；2、 容量瓶又叫量瓶，它是用来配制一定体积、一定物质的量浓度溶液的一件精密计量仪器, 容量瓶属量入式量器；3、很低的溶出和析出，是存储标准物质、强腐蚀性、昂贵高纯试剂的器皿；4、非凡的化学耐受性，几乎可耐受所有的化学溶剂（王水，氢氟酸等）；5、广泛用于电子化学品，半导体分析测试行业；6、外观透明无色，在所有塑料中折射率低；

硅钼棒从形状上有U型硅钼棒，U型直角硅钼棒（L型硅钼棒），I型（直型）硅钼棒，新工艺热弯直角硅钼棒、冷弯直角硅钼棒，压弯硅钼棒，异型硅钼棒（圆形，w型，螺旋形，多弯型等），环保节能，安装更换方便，耐温高，在1400-1700的电炉中使用广泛，管式炉，箱式炉，气氛炉，推板窑，隧道窑，升降炉，马弗炉等 在氧化气氛下，更能发挥硅钼棒耐高温的性能，硅钼棒也能在氢气，氮气，惰性气体中使用。氢气的露点越低 (即水分含量越低），硅钼棒的允许使用温度越低。硫、氟、氯和碱对元件有害，酸类对元件发生反应，应避免接触。U型硅钼棒是各高温电炉常用的二硅化钼加热棒，我司1700型，1800型半成品充足，订做加工快，产品发热均匀，质量稳定，行业经验丰富，提供技术服务，欢迎咨询

1、激光溅射沉积（PLD）l脉冲激光沉积是一非平衡物理过程，其方法新颖，工艺简单，制备薄膜组分偏析少、纯度高，薄膜与衬底结合力强，薄膜生长速度快，是一种先进的薄膜制备方法。l脉冲激光沉积装置主要包括两大部分：激光系统和工作系统。经常采用的激光器有准分子(Excimer)激光器、脉冲 YAG 激光器、脉冲二氧化碳激光器等。PLD工作系统，主要包括真空室、靶材衬底放置系统、抽真空系统、供气系统、控制系统等组件，并用红外测温仪对衬底温度进行实时监控。工作系统的几个主要部分：l 真空室及抽真空系统 ：真空反应室由一级抽真空的机械泵（低真空的抽取）和二级抽真空分子泵（高真空的抽取）连接，本底极限真空可达到 6.6×10-5Pa。l靶材衬底放置系统 ：该系统有四个靶托，可以同时放置 4 块靶材，靶材在自转和公转电机的带动下能同时进行自转和公转。自转是为了使激光束更均匀的溅射到靶材表面，公转的目的是为了更换不同的靶材，避免靶材之间的交叉污染。可以对衬底进行旋转并通过加热装置给衬底加热，在对衬底进行加热时最高温度可以达到 800℃（加热时尽量使加热温度变化在 100℃左右）。靶材与基片之间的距离可以在 3～10cm范围内进行调节。 l冷却循环系统 ：该系统用于分子泵的水循环冷却。 l供气系统 ：该系统既可以提供环境保护气体，使样品和真空室避免受到空气污染；还可以提供制备薄膜需要的反应气体。 l控制系统 ：控制系统主要有真空度、衬底加热温度、分子泵机械泵总电源几个控制面板。控制系统主要用来设置沉积室的背景气压、工作压强、靶材与衬底的转动速率、衬底的加热温度、反射镜的转动速率等。比 较 常 用 的 薄 膜 材 料 制 备 技 术 主 要 有 物 理 气 相 沉 积 (Physical vapor Deposition，PVD)、化学气相沉积(Chemical vapor Deposition， CVD)和溶胶—凝胶法等，而真空蒸发、离子镀和溅射镀膜都属于物理气相沉积，PLD 技术也是一种 PVD 技术，但是 PLD 技术相对简单并且有很多优点：(1) 可沉积制备与靶材一致的多组分复合物薄膜材料，可以保证镀膜前后材料化学计量比的稳定。 (2) 沉积速率高，薄膜生长快，可在一小时生长 1μm 左右的薄膜。(3) 薄膜生长方向性强，能实现定向区域沉积。 (4)溅射沉积过程中可以引入多种气体以改善薄膜质量。(5)可以同时安装多个靶制备多层膜或多元化合物异质结。(6) 靶材容易制备，等离子能量高可降低薄膜生长需要的衬底温度。由于聚焦激光的超高温度因此几乎可以产生任何高熔点材料的薄膜，同时较低温度下生长结晶取向一致的薄膜材料。(7) 高真空环境可制成高纯薄膜；等离子体输运和蒸发空间较小，不会对真空室造成很大的污染。(8) PLD 几乎可以制备所有材料，对激光光源透明的材料除外。 2、真空转移腔体 l真空度10-9mbar3、快速升温降温系统l升温：一分钟内室温升到800℃ l降温：室温降到77k（或10k，定制）

*无色透明Ⅲ型钠钙玻璃*瓶空间Z大可用化*通用产品，小体积到大体积的储存*带盖子或不带盖两种可选技术参数订货号容积mL直径x 高mm盖规格盖材质盖垫包装W21693412552×8448-400--24W21692412552×8448-400白色聚丙烯聚乙烯24W21692912552×8448-400白色聚丙烯PTFE 涂层的发泡乙烯24W21693525063×11058-400--24W21692525063×11058-400白色聚丙烯聚乙烯24W21693025063×11058-400白色聚丙烯PTFE 涂层的发泡乙烯24W21693650079×13363-400--24W21692650079×13363-400白色聚丙烯聚乙烯24W21693150079×13363-400白色聚丙烯PTFE 涂层的发泡乙烯24W2169372000122×21383-400--6W2169272000122×21383-400白色聚丙烯聚乙烯6W2169322000122×21383-400白色聚丙烯PTFE 涂层的发泡乙烯6W2169384000157×25689-400--4W2169284000157×25689-400白色聚丙烯聚乙烯4W2169334000157×25689-400白色聚丙烯PTFE 涂层的发泡乙烯4标准广口瓶备用盖订货号规格/ 描述 个/ 包 个/ 箱 白色聚丙烯盖，PTFE 涂层的发泡乙烯盖垫239240 48-400727223924258-400727223924363-400244823924583-400244823924689-4002448订货号 规格/ 描述 个/ 包 个/ 箱 白色聚丙烯盖，带聚乙烯盖垫23921648-400727223921858-400727223921963-400244823922183-400244823922289-4002448

VACUUBRAND防爆真空规，防爆真空控制器 DVR3DVR 3DVR 3是符合ATEX认证的全电子真空规，用于具有潜在爆炸性环境（ATEX分类2）。 DVR 3具有内置的氧化铝陶瓷材质的真空传感器，有优异的耐腐蚀性及超长的稳定性。它的一个独特优势是其只需电池供电，无需外接电缆。它操作简便，将数字/模拟真空读数方式结合在一起，可分别进行准确的读数和快速的趋势判断，使得该设备非常灵活。性能特性大屏幕的模拟/数字真空显示BVE 9V独立供电电源，符合ATEX认证，无汞和镉由于其可自动关机和可变的采样速度，延长了电池的寿命可靠性高，接近检测极限时干扰电子发射率低，在工业环境中仍具有非常高的抗电磁干扰能力氧化铝陶瓷薄膜电容传感器具有优异的耐化学腐蚀性，准确性高，超长稳定产品名称电池供电耐化学腐蚀性测量范围下限（mbar）DVR 3√√1VACUUBRAND其他型号真空规，真空控制器：型号量程 mbar重量 Kg说明DVR21080~10.375使用9V锂电池DCP30001080~1*10-30.44含有VSP3000耐腐蚀陶瓷探头CVC3000 Pkg1080~10.44含有VV-B 6C电磁阀门DVR31080~10.43 ATEX防爆型，II2G Eex ia IIC T4 上海骊葆科学仪器有限公司是多家实验室及工业仪器领域欧美著名厂家中国地区代理商，主要品牌有：德国LAUDA加热制冷恒温循环器，德国DIEHM反应釜，瑞士pc-laborsystem行星搅拌器/定制化分散混合装置，德国BOLA/SICCO聚四氟配件管件/干燥箱， 英国COWIE PTFE搅拌、测温容器等配件， 德国HITEC ZANG全自动反应装置等，HAMILTON进样针、微量注射器；另有各种类型进口高低温水浴/油浴等多种顶尖欧美产品. 详细信息请登录我司网站查询：来电垂询：

高真空退火炉 产品介绍 目前高温退火炉加热大都为管式炉或马弗炉，原理为加热丝或硅碳棒对炉体加热，加热与降温速度慢，效率低下，也无法实现温度的高精度测量，加热区域也存在不均匀的现象，华测仪器通过多年研究开发了一种可实现高精度，高反射率的抛物面与高质量的加热源相配置，在高速加热高速冷却时，具有良好的温度分布。可实现宽域均热区，高速加热、高速冷却，用石英管保护加热式样，无气氛污染。可在高真空，高出纯度气体中加热。设备可组成均热高速加热炉，温度斜率炉，阶段加热炉。 它提高了加热试验能力.同电阻炉和其他炉相比，红外线反射退火炉节省了升温时间和保持时间及自然冷却到室温所需时间，再试验中也可改写设定温度值。从各方面讲，都节省时间并提高实验速度。 同高频炉相比，不需特殊的安装条件及对加热试样的要求。同电阻炉一样安装简单，有冷却系统安全可靠。以提高试验人员的工作效率，实现温度控制操作！ 设备优势 高速加热与冷却方式 高能量的红外灯和镀金反射方式允许高速加热到高温。同时炉体可配置水冷系统，增设气体冷却装置，可实现快速冷却。 温度高精度控制 过红外镀金聚焦炉和温度控制器的组合使用，可以控制样品的温度。此外，冷却速度和保持在任何温度下可提供高精度。 不同环境下的加热与冷却 加热/冷却可用真空、气氛环境、低温（高纯度惰性气体静态或流动），操作简单，使用石英玻璃制成。红外线可传送到加热/冷却室。 反射炉温度控制装置 高速升温时，配套的快速反应的高真空退火炉控制装置，本控制装置采用可编程温度控制器。高性能设计，响应速度快。 可选配 进口干泵：抽速≥120L/min，极限真空度≤4pa，噪音小于52db； 进口全量程真空规：刀口法兰接口，真空测量范围5X10-7Pa到1atm 为了高速加热、设备采用PID温度控制，同时采用移相触发技术保证试验温度。 根据设备上的温度控制器输入参数，您也可以简单输入温度程序设定和外部信号。另外还可以在电脑上显示热中的温度数据。 自适应热电偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型 可设定32个程序、256个步骤的程序。 30A、60A、120A内置了SCR电路，所以范围很广。 设备配置 序号 项目 数量 品牌 备注 1 炉体 1 华测 温度至1200℃ 2 加热源 1 GE 3 温度控制器 1 华测 4 电热偶 1 omega 5 温控表 1 欧姆龙 6 稳压电源 1 华测 可定制 7 制冷水机 1 同飞 制冷功率 8 分子泵 1 莱宝 CF法兰，抽速≥40L/s，极限真空度优于-0.8Mpa； 更多应用 1.电子材料 半导体用硅化合化的PRA（加热后急速冷却） 热源薄膜形成激活离子注入后硅化物的形成 2.陶瓷与无机材料 陶瓷基板退火炉 玻璃基板退火炉。 陶瓷张力、挠曲试验退火炉。 3.钢铁和金属材料 薄钢板加热过程的数值模拟。 炉焊接模拟 高真空热处理（1000℃以下） 大气气体熔化过程 压力下耐火钢和合金的热循环试验炉 4.复合材料 耐热性评价炉 无机复合材料热循环试验炉 5.其它 高温拉伸压缩试验炉。 分段分区控制炉 温度梯度炉 炉气分析 超导陶瓷退火炉

泉州海德能水处理设备有限公司打造水处理行业一站式现货采购平台生产批发：反渗透膜、纳滤膜、超滤膜、膜壳、滤芯、滤壳、树脂、活性炭、玻璃钢罐、阀头、过滤器、阻垢剂、有机玻璃柱、泵、压力表、流量计等所有水处理配件等； 石英砂分为普通石英砂，精致石英砂，高纯石英砂，酸洗石英砂， 石英粉。 石英砂常用规格有：1-2mm、2-4mm、4-8mm、8-16mm、16-32mm、10-20目、20-40目、40-80目、100-120目、200目、325目。 石英砂是一种非金属矿物质，是一种坚硬、耐磨、化学性能稳定的硅酸盐矿物，其主要矿物成分是SiO2，石英砂的颜色为乳白色、或无色半透明状，硬度7，石英砂是重要的工业矿物原料石英砂应用范围 适用于生活饮用水过滤和其它水质净化处理。更加适合干石油、化工、矿山、冶金、热电、造纸、印染、制革、食品等生产用水的前期处理和循环水处理，以及污水的回收利用。 石英砂滤料是采用天然石英矿床,经过机械破碎、滚动水洗压碾、水洗、分筛、烘干、二次分筛、除磁等工序加工而成.石英砂滤料起到过滤作用,就像水经过砂石渗透到地下一样,将水中的那些悬浮的物阻拦下来,主要针对那些细微的悬浮物. 石英砂滤料具有无杂质、抗压耐磨、机械强度高、化学性能稳定、截污能力强、效益高、使用周期长等特点,适用于单层、双层过滤池、过滤器、离子交换器，污水、纯净水处理、高纯水的处理等净水行业,是目前水处理行业使用广泛、用量大的净水材料。*本产品为不含运税报价，下单前请与客服沟通好具体运费事项联系方式泉州海德能水处理设备有限公司电话： 地址：泉州市鲤城区常泰街道新塘工业区（新园路130号）

1200度滑轨炉 配高真空系统 三路质量流量计本套1200℃快速退火炉核心为一套滑道炉，实现加热及退火的功能，进气端配有高精度三路质量流量计，用以精确控制管内气氛；同时设备配有涡轮分子泵组，能够快速达到高真空环境，最大程度的排除空气气氛对实验的干扰。滑道炉由1200℃标准单温区管式炉和高精度滑轨组成。管式炉采用电阻丝加热，配合多晶纤维炉膛，升温、保温性能优秀。滑轨滑台配合紧密，滑动顺滑，易于操作。同时管式炉在操作上采用全彩液晶触控屏进行操作，具有简单直观，易于上手的特点，能够简化实验操作进而节约试验时间技术参数：项目明细供电电压AC220V，50Hz最大功率4KW加热温区单温区 440mm工作温度≤1200℃控温精度±1℃控温方式AI-PID 30段工艺曲线，可存储多条炉管材质高纯石英炉管尺寸φ80mm I.D x 1000mm L密封方式不锈钢真空法兰真空测量机械式压力表工作气体氢气、氮气、氩气、氧气等非腐蚀性气体

圣斯特 FS410V高固体含量高粘度强吸力真空抽滤装置简介：FS410V是一款专业设计用于粘稠样品、颗粒物或悬浮物含量较高的样品过滤用的过滤系统。不同于普通抽滤产品，该型号采用串联式吸气结构大幅度提升抽滤泵真空度，有效增强了对滤液的吸力；搭配直径90mm的大尺寸过滤膜，可以有效解决小尺寸滤膜容易被固体覆盖，造成滤液无法有效通过滤膜甚至被堵塞，从而形成的滤速太慢问题。圣斯特 FS410V高固体含量高粘度强吸力真空抽滤装置特点：1.全新改进、专业设计用于普通抽滤装置滤速过慢、或过滤不动的液体，不仅从功率角度进行改善，而是包括提高抽滤泵真空度产生更大内外压差显著增加对滤液的吸力、扩大4倍以上有效过滤面积防止固体覆盖滤膜、改良滤膜垫片结构提升滤液通过速率等，多维度全方面解决对粘稠、固体颗粒物悬浮物较多样品难过滤的问题。2.配置的R410实验室无油真空抽滤泵的真空度可达0.099MPa，较高的真空度能够形成更大的内外压差，显著提升对尚未通过滤膜的滤液吸力。3.过滤瓶组可以搭配直径90mm的超大尺寸过滤膜，同时搭配全孔隙下液的滤膜垫片，使得有效过滤面积高达40.6平方厘米，是普通过滤瓶的4倍以上（以直径47或50mm滤膜为例，有效过滤面积为9.6平方厘米）。较小的有效过滤面积容易发生固形物太多而造成滤膜被覆盖住，进而对滤液的通过形成较大阻力，产生滤速慢或堵塞的问题，较大的有效过滤面积不易被堵塞，下液速率也更高。4.抽滤泵主机采用无油设计，不需要添加泵油或者加入水源，只需要插电就可以运转工作。任何地点只需要有电源就可以使用，免去维护保养的麻烦，也不必担心会产生泵油挥发产生油雾污染的烦扰。5.过滤瓶组和抽滤泵主机之间配有防倒吸的阻水保护器，可以做到阻挡倒吸的滤液，对主机部分做到完全的保护。6.抽滤泵配置了真空表和调节阀，便于使用人员观察仪器的工作状态，并根据实际需求来调节合适的吸力和过滤速率。圣斯特 FS410V高固体含量高粘度强吸力真空抽滤装置应用范围：适合于粘稠度较高，颗粒物、悬浮物和固体含量较多的液体，或是单次滤液量较多的工况，以及各类可能出现滤膜堵塞抽滤不动、滤速过慢或者是抽滤时间过长的过滤实验使用。 圣斯特 FS410V高固体含量高粘度强吸力真空抽滤装置技术参数：品名：高固体含量高粘度真空抽滤装置品牌：圣斯特Sciencetool型号：FS410V●配置：包含了R410强吸力无油抽滤泵（含真空表、调节阀、缓冲杯）、1000ml玻璃过滤杯、滤膜基座、耐腐蚀涂层不锈钢滤膜垫片、PTFE密封圈、2000ml玻璃集液瓶、铝制夹具、防倒吸阻水保护器和连接软管。真空度：750mmHg=0.099MPa抽速：20L/min适配滤膜直径：90mm有效过滤面积：40.6平方厘米真空度显示：表针式真空计吸力和抽速调节方式：无级调节滤膜基座材质：硼硅玻璃滤杯材质：硼硅玻璃滤杯容量：1000ml滤膜垫片材质：PTFE涂层不锈钢密封圈材质：PTFE聚四氟乙烯集液瓶材质：硼硅玻璃集液瓶容量：2000ml固定夹具材质：阳极铝合金防倒吸保护方式：PTFE疏水性阻水过滤器电压：220V/50Hz噪音：50dB外形尺寸：29.8×14.2×17.2cm保修期：3年

产品简介：该型规管是典型的反磁控管式结构，由于没有热灯丝，不怕暴露大气。采用高真空可拆卸密封电极结构，清洗维修简便，密封性能可靠。具有辅助激发装置，启动迅速测量稳定。精密对称的正交电磁场配置，保证规管具有较高的测量精度和较好的重复性。特别适用于高真空、超高真空的测量。 真空规种类ZJ-14真空规生产厂家成都睿宝技术指标技术参数1、测量范围： 1×101 ～ 1×10-7 Pa。2、工作电压： 3/3.3KF3、最大工作电流： 0.7mA4、阴阳极材料： 无磁不锈钢5、绝缘子材料： 95陶瓷6、真空连接形式及烘烤温度： KF40快卸法兰 80℃ CF35超高法兰 450℃

简介 PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子，就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应；借助射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜；具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点；1200℃高真空PECVD系统通过滑动炉体来实现快速的升降温，配置不同的真空系统来达到理想的真空度；同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。 主要应用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备，生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。同时上海煜志良好的售后服务体系，使得该产品的整体评价远超同行业标准。主要技术参数炉体结构整机采用SUS304不锈钢材质，流线型外观，断热式结构；日本技术真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能好；炉子底部装有一对滑轨，移动平稳；炉子可以手动从一端滑向另一端，实现快速的加热和冷却；炉盖可开启，可以实时观察加热的物料尺寸重量1730*660*1130mm；净重：210kg电源电压：AC220V 50/60Hz；功率：4KW炉管高纯石英管，高温下化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小； 尺寸：Φ60*1300mm法兰及支撑SUS304不锈钢快速法兰，通过用高温“O”型圈紧密密封可获得高真空；一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷；可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑；包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合加热系统加热元件采用康泰尔发热丝，表面负荷高、经久耐用；加热区长度：300mm恒温区长度：150mm； 工作温度：≤1150℃； 最高温度：1200℃；升温速率：10℃/min温控系统日本富士温控仪表，64段控温程序，可分步、分段混气系统三路质量流量计：数字显示、气体流量自动控制；内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀；管路采用不锈钢管，接口为Φ6卡套；每路气体进气管路配有不锈钢针阀；通过控制面板上的旋钮来调节气体流量流量规格：0~1000sccm（可选）； 流量精度：±1.5%高真空系统采用双级旋片真空泵+分子泵，极限真空可达4.0*10^-4Pa； 复合真空计，配置电阻规+电离规抽速：110L/S； 冷却：风冷； 电源:AC220V 50/60Hz射频电源系统输出功率:0-300W；功率稳定度：±0.1%；射频电源频率:13.56MHz 稳定性±0.005%；最大反向功率:120W；射频电源电子输出端口:UHF； 冷却:风冷； 电源:AC187-253V 50/60Hz可选配件各种刚玉、石英坩埚，石英管，计算机控制软件保修卡整机一年保修（相关耗材除外）可根据客户要求定制！

全自动知识产品没有热损伤，效率更高，颗粒度更细，更适合高分辨电镜镀金仪应用领域1、高分辨扫描电镜样品制备（实际放大倍数≥100K）2、电极制备-可制备各种金属电极、ITO电极高真空磁控离子溅射仪(镀金仪)配置与技术参数名称&型号高真空磁控离子溅射仪GVC-2000T真空系统涡轮分子泵（进口 ）：德国莱宝90i （单磁悬浮分子泵，抽速为90L/s）旋片式真空泵：浙江飞越VRD-4 （抽速为 1 .1L/s）真空测量全量程复合真空规（进口）：1.0E5Pa-1E-4Pa系统极限真空≤5E-3Pa溅射电源磁控溅射电源,最大功率150W可用靶材所有金属靶材，ITO靶材溅射电压300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化溅射电流0-200mA连续可调,步长5mA溅射时间0-9999s, 连续可调步长1s操作界面7英寸TFT彩色液晶触摸屏,分辨率800×480操作方式一键操作抽气节拍＜15分钟控制方式只需设定溅射电流和时间即可，全自动控制具备预溅射挡板（预溅射时间可设定),全自动控制保护功能软硬件互锁、防止误操作，具备电流、真空保护等样品台直径φ125mm，可自转，可自动手动控制，转速4-40rpm可调真空室高硅硼玻璃，规格尺寸约φ200×130mm电源供电220V 50Hz 最大功率800W尺寸&重量重量 424（长) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （净重)冷却方式内部风冷选配样品台选择、膜厚控制、温度监测等镀膜样品示例： 靶材-银 靶材-钨 靶材-铬 靶材-镍 靶材-钒 靶材-锡 靶材-铜 靶材-钽 靶材-贴 靶材-钛 靶材-铅 靶材-钼 靶材-铝 靶材-铂 靶材-金 靶材-锆 靶材-铒 靶材-ITO

KT-150CF桌面分子泵郑科探 分子泵工作原理标准复合分子泵机组是一台清洁的高真空获得设备。此设备是根据真空知识原理，利用机械泵、涡轮分子泵组合成的真空获得系统，具有启动时间快、真空度高、操作方便等特点。广泛应用于表面分析、加速器技术、等离子体技术、电真空器件制造及真空的各个领域。设备的具体组成主要包括真空测量系统、真空室、阀门及真空管路、电器控制系统等 郑科探 分子泵工作原理技术参数：控制方式手动人机界面控制前级泵接口KF25（客户根据真空环境洁净度要求自行安装前级泵）分子泵FF-100/150 51000转/分分子泵抽气速率140L/S分子泵启动时间≤2min空载极限压强≤1X10-4Pa真空测量方式冷阴极标准规管真空测量范围1E﹢2到1E-5 Pa真空测量精度1E-4到1E-5 Pa ±40%的读数 1E﹢2到1E-4 Pa ±20%的读数 重复性：　±5%抽气接口KF25阀门类型KF25手动挡板阀系统电源AC220V系统功率≤750W环境温度5~32℃冷却方式强制风冷却湿度≤80%RH 外形尺寸250 X360 X 300mm （宽-深-高）重量25KG随机配件：KF25高真空挡板阀X1个 KF25卡箍X3个 kf25-1米不锈钢波纹管x1根 说明书X1本 电源线x1根 冷阴极真空计X1个

产品优势： 可制备各种金属、 单质、 无机非金属薄膜 不破真空情况下， 可实现多层复合膜制备 一键操作， 全自动控制， 智能化程度高 一致性、 重复性好 内置多重靶材工作参数， 无需摸索镀膜工艺 体积小， 结构紧凑， 非常节约空间 产品参数：外形尺寸（主机）424(L)×345(D)×420(H)输入电源220V/50Hz 1000W溅射靶头 1直流磁控溅射可用靶材金属靶材溅射靶头 2射频磁控溅射可用靶材无机非金属靶材真空系统涡轮分子泵+旋片式真空泵抽速90L/s + 1.1L/s真空测量复合式真空规量程范围1E-3 ~ 1E5Pa真空室φ 200×130mm 高硼硅玻璃抽气节拍10 分钟（≤5E-3Pa）样品台尺寸φ 90mm样品台切换自动控制溅射靶材尺寸φ 57mm（厚度 0.1-2mm）工作真空0.1-2Pa操作界面7 英寸 TFT 触摸式液晶屏操作语言中文（可选其它语言）冷水机小型台式制冷机冷水机功率180W预溅射挡板标配全自动控制预溅射挡板 膜厚仪（选配）可实时显示镀膜厚度，并通过设定来控制镀膜过程，测量精度 0.01nm，设定精度 0.1nm，单次设定范围 1-999nm温控组件（选配）样品台加热模块 300℃/500℃旋转组件（选配）倾斜旋转、行星旋转等小车（选配）将主机、射频电源、冷水机等组装在一起，整体性好安装环境220V/10A 三孔插座一个、纯度 4N 及以上的高纯氩气（出口压力 0.12MPa）

产品简介：该规管是典型的B-A式结构，采用贵金属氧化物阴极，具有抗氧化，耐瞬时大气冲击的特点，性能稳定，寿命长，适用于高真空、超高真空的该规管是典型的三极管式结构，采用贵金属氧化物阴极，具有抗氧化，耐瞬时大气冲击的特点，性能稳定，寿命长，适用于中、高真空测量。 真空规种类ZJ-27真空规生产厂家成都睿宝技术指标技术参数：1、测量范围： 4×101 ～ 1×10-5 Pa。2、X射线极限： 小于1×10-6 Pa3、规管灵敏度： 0.15±15%Pa-14、工作参数：加速极对地电位：225V阴极对地电位：25V收集极对地电位：0V发射电流：100uA(1×101 ～ 1×10-1 Pa) 1mA(1×10-1 ～ 1×10-5 Pa)5、在101 ～ 100 Pa，2×10-5 Pa ～ 1×10-5 Pa范围只作参考测量。 6、真空连接形式及烘烤温度： Φ15.5±0.5玻璃 80℃ Φ15.5±0.1金属 80℃ KF10快卸法兰 80℃ KF16快卸法兰 80℃ KF25快卸法兰 80℃ KF40快卸法兰 80℃ CF16超高法兰 450℃ CF25超高法兰 450℃ CF35超高法兰 450℃

HSY-2502硅脂锥入度试验器产品介绍 本仪器是根据中国化工行业标准HG/T2502-1993《5201硅脂》所规定的要求设计制造的,是一款测试智能型仪器，适用于二甲基硅油经气相法二氧化硅稠化而成的硅脂。同时也适合检测各种导热膏，散热膏、导热硅胶，散热硅胶、导热硅脂、散热硅脂，导热泥，灌封胶，绝缘膏等。相关仪器推荐：HSY-0983E锥入度测定仪一、主要功能特点1、采用数字显示器显示锥入度值，直观醒目。 2、锥入时控装置共有6档，控时精度高。 3、具有升降架电动粗调、细调功能，调节方便，对锥准确。4、锥杆组件质量精准，严格符合标准，方便快捷检定。 5、一机可多用，也可以选配选择标准针、试样皿、温度计和砝码等不同的配置，可以适合国标GB/T 4509-1998、GB/T 4509-2010和公路JTG E20-2011中T0604-2011标准的测量。本仪器最大的特点是：先进的机械设计，升降调节方便；高精度的锥入度数字测试表，测量结果可靠。二、主要技术参数1、测量范围： (0～700）锥入度；2、锥入时控装置：可分别选择5秒、8秒、10秒、12秒、30秒、60秒，时间误差小于±0.1秒；3、分辨率：0.01㎜； 4、锥入精度：±1锥入度； 5、标配全锥体质量:102.5±0.05g，全锥体牵引锥杆质量:47.5±0.05g；可选配1/2锥体质量：22.5±0.05g，全锥体牵引锥杆质量：15±0.025g；可选配1/4锥体及牵引锥杆质量：9.38±0.025g；（出货前请客户指定具体配置哪些锥体，便于厂家调试） 6、升降支架： 粗调、细调双重升降调节机构,便于锥尖对准试样平面； 7、工作电源： AC(220±10%)V，50Hz，功耗不大于300W。 8、外形尺寸： 280mm×350mm×700mm（长×宽×高）。 9、其它： 配有冷光源和放大镜，方便使用和操作。

产品简介：该规管是典型的B-A式结构，采用贵金属氧化物阴极，具有抗氧化，耐瞬时大气冲击的特点，性能稳定，寿命长，适用于高真空、超高真空的测量。 真空规种类ZJ-12真空规生产厂家成都睿宝技术指标主要参数：1、测量范围： 1×10-1 ～ 1×10-8 Pa。2、工作参数：加速极对地电位：200V阴极对地电位：50V收集极对地电位：0V发射电流： 400uA(1×10-1 ～ 1×10-3Pa) 4mA(1×10-3 ～ 1×10-8 Pa)规管常数：0.15±15%Pa-1 除气方式：电子轰击＜30W 烘烤温度：＜400℃3、在5×10-8 Pa ～ 1×10-8 Pa范围只作参考测量。6、真空连接形式及烘烤温度： CF35超高法兰 450℃

HSY-2502E硅脂自动锥入度测定仪本仪器是根据中国化工行业标准HG/T2502-1993《5201硅脂》所规定的要求设计制造的,是一款测试智能型仪器，适用于二甲基硅油经气相法二氧化硅稠化而成的硅脂。同时也适合检测各种导热膏，散热膏、导热硅胶，散热硅胶、导热硅脂、散热硅脂，导热泥，灌封胶，绝缘膏等。相关仪器推荐：HSY-2502D硅脂自动锥入度测定仪一、主要功能特点1、仪器主要由机箱支架、触摸显示器、丝杠升降系统、恒温控制系统、锥连杆组件、位移测量系统等部分组成。2、采用电脑控制技术，自动完成锥入度的测试，实验完毕自动显示测试结果。3、采用触摸屏人机界面，显示直观，内容丰富，操作方便。4、自动升降结构，升降平稳、定位准确。采用旋钮编码器开关和升降按钮开关，通过步进电机驱动丝杠滑块，实现快速升降的点动高精度调节。5、本仪器内部集成恒温水浴，具有制冷和加热的恒温控制功能，采用半导体制冷技术和PID控制算法，控温精度可达±0.1℃，符合国家标准中对温度要求；6、设计的冷光源对锥照明技术，使对锥方便、准确。锥杆组件机构高精度，快拆卸，严格符合国标规范要求。7、系统可存储200组数据，可在触摸屏上直接查看，也可以通过U盘数据转存导出。同时系统自带485接口（MODBUS协议），可实现数据的实时联网。8、自行研制的计算机控制软件，可实现与计算机的通讯，通过锥入度的测试。9、可根据用户需要选配1/2锥体，1/4锥体、专用保存箱、台式微型打印机等。二、主要技术参数1、测量范围：0～650锥入度；2、恒温水浴：A.测温范围 0.00～50.00℃；B.控温范围低温：比环境温度低20℃ 高温：50.00℃；C.显示分辨率：0.01℃；D.温控精度：≤±0.1℃；3、时间控制：A.时间显示与控制:0-60秒（任意设定）；B.显示分辨率:0.1秒；C.控时精度≤±0.1 S；4、位移采用高精度激光位移传感器，分体式结构，锥杆下落时无摩擦力；A.量程范围：0-65mm；B.显示分辨率：0.01mm（0.1锥入度）；C.相对位移精度：≤±0.1mm；5、存储数据存储数据：200组；6、标准锥（全锥）锥体总质量：102.5g±0.05g，锥杆质量为47.5 g±0.05g，符合GB269标准的要求；也可以选配1/2锥体、1/4锥体等。7、外形尺寸：390mm×310mm×575mm（长×宽×高）；8、工作电源：220±10%VAC/50Hz；9、整机功率：最大350W；10、整机净重：12.5Kg；

产品简介：该规管是典型的三极盒式结构，采用贵金属氧化物阴极，具有抗氧化，耐瞬时大气冲击的特点，性能稳定，寿命长，适用于中、高真空测量。 真空规种类ZJ-10B真空规生产厂家成都睿宝技术指标技术参数：1、测量范围： 6.5×101 ～ 1×10-4 Pa。2、X射线极限： 3×10-4 Pa3、规管灵敏度： 0.015±15%Pa-14、工作参数：加速极对地电位：165V阴极对地电位：50V收集极对地电位：0V发射电流： 50uA(1×102 ～ 1×10-2 Pa) 500uA (1×10-2 ～ 1×10-4Pa)5、在102 ～6× 101 Pa，3×10-4 Pa ～ 1×10-4 Pa范围只作参考测量。 6、真空连接形式及烘烤温度： Φ15.5±0.5玻璃 80℃ Φ15.5±0.1金属 80℃ KF10快卸法兰 80℃ KF16快卸法兰 80℃ KF25快卸法兰 80℃ KF40快卸法兰 80℃ CF16超高法兰 450℃ CF25超高法兰 450℃ CF35超高法兰 450℃

产品型号：ei-501 本设备是用于在半导体或特种材料基板上进行金属、ITO等材料蒸镀的批处理式高真空蒸发镀膜设备。可通过触摸屏进行集中操作控制，自动完成从真空排气至镀膜的所有过程。适用于半导体、LED、电力电子等行业芯片的科研及小批量生产。 ※产品优点 ※产品用途◆占地面积小 ◆Power device ◆易操作&易管理 ◆LED，LD行业◆高生产量 ◆研究开发◆设备构造简洁，便于安装维护 ◆电力电子行业 ※产品特征 ◆可以搭载多种蒸发源(EB，RH、EB+RH等) ◆可以搭载多种夹具，对应不同工艺(lift-off, planetary,satellite 等). ◆可以搭载多种基板 基板尺寸从2寸到6寸，基板材料为硅，玻璃 ◆等可以通过LCD 触摸屏进行操作 ◆PC控制系统以及各种功能(工艺参数，记录数据，维护保养) ※内部结构 ※产品配置