三甲基硅烷基乙炔

三甲基氯硅烷工艺装置主要由溶解釜、加料釜、反应釜、接收罐、碱液釜和渣浆釜等组成。 其主要仪表及管阀件均采用高性能产品，装置非标采用耐腐蚀材质。PLC 系统采集确保操作人员安全。 装置的整体水平要求自动化程度高，数据精确度及重复性好，安全可靠 并能长周期稳定运行

我公司为国内生产异辛烷产品服务商年销售异辛烷产品超过五千吨我们将为您提供优质的商品和满意的服务！2,2,4-三甲基戊烷，是一种有机化合物，化学式为C8H18，主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。理化性质熔点：-107.4º C沸点：98-99º C密度：0.691（20℃）闪点：4.5℃（OC）折射率：1.391（20℃）饱和蒸气压：5.1kPa（20º C）临界压力：2.57MPa引燃温度：417º C爆炸上限（V/V）：6.0%爆炸下限（V/V）：1.1%外观：无色透明液体溶解性：不溶于水，混溶于庚烷、丙酮，溶于乙醚、苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二硫化碳、四氯化碳等用途主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。储存方法储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜超过37℃，保持容器密封。应与氧化剂分开存放，切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。山东强森化工有限公司，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。公司是集研究、生产、加工、销售为一体的制品企业，工厂占地面积大，公司具有较强的自助研发能力，拥有多项国家发明专利超强的品质保障，专业生产，多年行业经验，出厂严格把关，公司与中国石化、齐鲁石化、东岳集团、内蒙远兴集团、兖矿集团、海力集团、金岭集团丶华鲁恒升、万华集团等大型上市公司建立了长期稳固的合作关系，能够为客户提供优质的产品和服务，在行业中树立了良好的商业信誉，赢得了国内外众多客户的信赖与支持。 公司发扬“诚信、专业、团结、拼搏”的企业精神，秉承“以信为本，以诚待人，以稳求实，优质服务”的经营理念，愿与各界朋友及客户精诚合作，共创辉煌。

T-BD5-PID2290 –TVOC在线管道式有机气体检测仪 原理： PID电离势10.6eV 的所有有机化合物探测 在线管道式有机气体检测仪应用：环境督察、环境指标 VOC、VOCs or TVOC医院垃圾、医疗废弃物、工业恶臭味检测、污染源/排放口监测含磷毒剂,战剂探测、炸药、推进剂等探测、刺激性化学物质探测人类动物呼吸及排泄气体检测、农药、杀虫剂等探测、实验室烟雾探测泄露探测、毒气探测、气体安全探测、残余气体探测、毒榀等危险品探测制冷剂、灭火剂、绝缘介质挥发物检测、可燃气检测工作环境达标、有机毒气探测、劳动安全检测在线管道式有机气体检测仪用途： 各种气体泄露探测空气背景单一的多种有机物单气浓度测试个别无机物气体浓度测试TVOC分析主要探测气体：异 丁 烯: 5ppb~50/1000ppm；100ppb~500/6000ppm；甲 苯: 10ppb~100/2000ppm；200ppb~1000/12000ppm；其他气体： 乙醛，丙酮，氨，苯，丁二烯，柴油，乙醇，乙烯，汽油，己烷，喷气机燃料(JP8)，煤油，甲基乙基酮，萘，苯乙烯，甲苯，松节油，氯乙烯，二甲苯等。在线管道式有机气体检测仪技术参数：灵 敏 度: 100 ppb(异丁烯)线性范围: 0~300 ppm重复精度: ±5%相对零点漂移: 50%(可调零消除) 蕞大零点漂移预热时间: 5 min温度范围: -40~40°C(本安)；40~60°C(非本安)湿度范围: 0~95%,非结露响应时间： T90：3secs在线管道式有机气体检测仪检测气体： 氢气氨气氧气氟气丁硫醇溴气氢化锗酯酸乙烯酯乙炔乙醇乙烯丙烯磷酰氯丁胺异丙胺1-3-丁二烯二甲胺三甲胺二乙胺乙硫醇乙硼烷甲醇异丙醇二甲基硫醚砷化硼硫化氢氰化氢溴化氢氯化氢氯气磷化氢二甲基乙胺乙烯基氯一氧化氮一氧化碳二氯硅烷二氧化氯乙醛二氧化硫环氧乙烷异丙硫醇三氯化硼三氯化磷三氯硅烷三甲硼烷甲醛四氯化锡四氯化钛一甲胺四氯化硅四氢噻吩过氧化氢n-丙基硫醇硅烷二氧化氮亚硫酰二氯五氯化锑环氧丙烷甲硫醇吗啉三乙胺氢化硒甲苯二甲苯乙基丙烯酸酯1-氯-2.3-环氧丙烷甲基丙烯酸甲酯二乙胺基乙醇

北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统CPT2610-AA-NOX氮氧化物监测报警器采用进口高精度电化学传感器,具有高响应度,重复性,高精确度和操作简便等优点,符合国家相关标准要求。先进的气体检测技术,加之多路双显示声光报警功能, 可满足用户对氮氧化物气体排放实时监控的需求,同时为环境治理政策的制定提供有力的数据支持及预警等服务。北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统配置参数：1、1个NO检测探头，电化学式测量原理，测量范围0 ' 300ppm精度土1.5%F.S.响应时间30s输出4-20mA, 24VDC供电IP65防护，带墙装支架 2、1个NO2检测探头，电化学式测量原理，测量范围0~30ppm, 精度士1.5%F.s响应时间30s,输出4-20mA, 24VDC供电，IP65防护，带墙装支架: 3、1台2通道控制器,用于连接上述2个检测探头信号，为检测探头提供24VDC电源，带现场显示屏幕，输入:两路4-20mA， 输出:4-20mA两路超限继电器报警1路故障继电器报警，供电电源220VAC, IP65防护，带墙装支架，带2根5m与探头连接的电缆。4、XS3.5-2 双路双显示报警，报警器有数字显示和声光报警功能,也可以驱动其他报警 氮氧化物监测报警系统应用：矿井，煤井，输气燃气、能源、石油、化工、冶金甲烷，乙烷，天然气，设备泄露监测食品冷藏氨气、佛里昂泄露，臭氧，过氧化氢；PCBs，油脂，纸浆和造纸厂变压器等存在易燃、易爆、毒性气体的危险场所海运，空运，车辆物流安全，钻井，输油，炼油厂，石化厂和化工厂、发电厂含磷毒剂，战剂探测，炸药，推进剂等探测石油石化、化工厂、冶炼厂、钢铁厂、煤炭厂、热电厂、自来水厂、医药车间、烟草公司、大气环境监测、科研院校、楼宇建设、消防报警、污水处理、工业过程化控制、锅炉房、垃圾处理厂、地下隧道、输油管道、加气站、地下管网检修、室内空气质量检测、食品加工、杀菌消毒、冷冻仓库、农药化肥、杀虫剂生产等。北斗星在线式NOX氮氧化物监测系统技术参数：采样方式： 自然扩散式环境湿度： ≤95%RH相对湿度（无冷凝）防爆等级： 防爆等级EXdⅡCT6，防护等级IP65 电源电压： DC12V、24V，220V AC可选模拟输出： 4~2mA /0~20mA、0~2.5V可选仪器重量： 300~500g安装方式： 壁挂式安装或螺纹安装安装螺纹： T型变送器带G1”连接口使用电缆： 四线制/三线制，0.2mm2以上铜线屏蔽电缆环境温度： CPT2610/20：-20~50℃；CPT2312/2410：-30~70℃；GD2290/4100：-10~45℃电流输出蕞大负载： RL=(Vs-2.7V)/0.020mA其他可检测气体： 氢气氨气氧气氟气丁硫醇溴气氢化锗酯酸乙烯酯乙炔乙醇乙烯丙烯磷酰氯丁胺异丙胺1-3-丁二烯二甲胺三甲胺二乙胺乙硫醇乙硼烷甲醇异丙醇二甲基硫醚砷化硼硫化氢氰化氢溴化氢氯化氢氯气磷化氢二甲基乙胺乙烯基氯一氧化氮一氧化碳二氯硅烷二氧化氯乙醛二氧化硫环氧乙烷异丙硫醇三氯化硼三氯化磷三氯硅烷三甲硼烷甲醛四氯化锡四氯化钛一甲胺四氯化硅四氢噻吩过氧化氢n-丙基硫醇硅烷二氧化氮亚硫酰二氯五氯化锑环氧丙烷甲硫醇吗啉三乙胺氢化硒甲苯二甲苯

DFM，即丹麦国家计量院，成立于1985年，为各行各业提供了国家标准、计量服务和技术。一、Stabiλaser 1542ɛ 乙炔稳频窄线宽激光器Stabiλaser 1542ε（epsilon 版） 是第二代乙炔稳定激光器，是一款基于乙炔稳频的光纤激光器，其具有窄线宽、长期稳定性优异和精度高等特点。其设计维持了光纤激光器的线宽，并通过乙炔的分子跃迁实现了长期稳定性，这使得激光器能长时间无故障运行。Stabiλaser 1542ε 乙炔稳频窄线宽激光器的核心是一台紧凑的、超低噪声的光纤激光器，其稳定性在于乙炔13C2H2P（16） （v1+ v3） λ = 1542.3837 nm 处的跃迁，对应于频率 f = c/λ = 194 369 569 384 kHz。此激光器符合 CIPM 的频率标准，可以作为不确定性为 5kHz 的首选标准，其独特的光学设计和控制软件能确保激光器稳定运行，并输出高光束质量的激光。Stabiλaser 1542ε 可安装在标准的 19 英寸机架上，并配有内置控制 PC，因此可轻松集成到现有系统中。在 Stabiλaser 1542ε 的设计和测试过程中，鲁棒性和信号完整性一直是特别关注的重点。因此，这款高性能激光源无需用户参与，即可实现连续无故障运行。图形用户界面强调简单易用。只需显示必要信息，Stabiλaser 1542ε 即可投入运行并监控各个关键参数。产品特点：线宽窄长期稳定性优异精度高面板设计已更新尺寸和重量均已减小采用 U3 机箱，可直接安装在 19 英寸机架中集成控制电脑锁定 TTL 已移至后面应用领域：光梳参考源双光梳光谱学激光冷却长度计量量子信息通讯应用光学腔的参考源 产品参数：波长1542.3837nm（真空）线宽300Hz（短时间）稳定性≤3×10-13（ADEV≥1s）长期精度≤2×10-12漂移每年功率（锁定）10mW供电100 – 240VAC, 50或60Hz尺寸13.3cm×48.3cm×49.6cm Stabiλaser 1542ε 的典型 Allan 偏差（ADEV）图 两台 Stabiλaser 1542ε 设备之间的测量节拍音，一小时的平均值应用实例：安装实例:二、Stabiλaser 771 乙炔稳频窄线宽激光器 Stabiλaser 771 乙炔稳频窄线宽激光器是一款DFM新推出的稳频激光器，它是基于现有的Stabiλaser 771 激光器，将其倍频而成。此激光器确保了激光在771nm的优异的短时间的线宽以及长期稳定性。Stabiλaser 771 乙炔稳频窄线宽激光器的输出功率为1mW（771nm，锁定）和100mW（1542nm，未锁定）。 Stabiλaser 771 乙炔稳频窄线宽激光器是为了针对需要激光波长在可见波段的基于干涉方法的长度计量应用而研发的。在长度计量应用中，771nm 波长对校准的要求相对较低，此外，目前波长计可以在红外光谱以外的波长范围得到前所未有的高精度的校准。 产品参数：波长771.19217360 nm（真空）线宽600Hz（短时间）稳定性≤3×10-13（ADEV≥1s）长期精度≤2×10-12 漂移每年功率（771nm，锁定）1mW

MIRA 乙炔分析仪—亚ppb级、中红外激光、超便携产品介绍MIRA 乙炔分析仪使用创新的多通道吸收室与固态中红外激光技术相结合，检测室无反射镜，坚固和小巧，在60ml 的小空间里取得15m 的光程，同时测量乙炔和H2O，可达到3ppb/s级别的精度，使用独特的专有微分方法，可以消除温度引起的漂移，可实现亚ppb级别灵敏度，在几秒钟内实现亚ppb 水平的无与伦比的特异性和灵敏度。使用乙炔独特的中红外“指纹”能够快速、定量地检测乙炔浓度水平，从而大大减少与其他方法相关的劳动时间和消耗品。系统拥有2路可编辑的采样路径，可设定其中一路作为周期性调零（校准），或者差分同步测量，系统内部如同常驻了零点气体校正，实现了高效消除仪器漂移的影响，使得设备的精确度从亚ppb级提升至ppt级。分析仪可选配GPS，以输出.kml 格式的位置和浓度数据文件，可以很方便地在 Google Earth 中查看。作为一种基于中红外吸收的测量方法，MIRA 乙炔分析仪在宽动态范围内实现了高精度和线性度，是一款真正意义上的便携式、高精度乙炔分析仪，可实现实验室质量的测量。低成本，超紧凑，布放方式灵活，可便携、车载、机载、机架式安装。工作原理MIRA 乙炔分析仪采用中红外波段，乙炔在中红外的吸收是近红外的数千倍，从而显著提高了系统的测量精度和灵敏度。检测室无反射镜，坚固和小巧，在极小的体积 (60cc) 内实现了 15m 的吸收路径长度，从而实现了超高灵敏度、快速响应时间和低功耗。产品选型MIRA 乙炔分析仪共有4种型号可选，但其核心测量室都是一样的。MIRA pico 乙炔分析仪MIRA pico 乙炔分析仪为基础款，可移动式、车载测量，极低的功耗（15W），电池续航5-6h，亦可12-15V DC: 2A或110-220V AC: 0.5A供电 MIRA Ultra便携式&机架式乙炔分析仪MIRA Ultra系列乙炔分析仪相比于pico系列的不同为，Ultra系列升级为带有温控的（恒温42℃）检测室，具有毫开尔文级稳定性，以实现高灵敏度和超低漂移并避免样品冷凝，在许多情况下显著降低或完全消除校准要求。 图 Ultra便携式 图 Ultra机架式MIRA Strato机载式乙炔分析仪MIRA Strato机载式乙炔分析仪，带电池重量仅为 2kg，内置GPS传感器，旨在在不牺牲性能的情况下打造更轻的气体分析仪。可搭载于无人机上用于乙炔监测，可使用电池供电（续航90min）或无人机供电。通信通常通过 RS-232 端口实现，该端口可以以高达 10Hz 的数据速率进行传输。产品特征&bull ppb级灵敏度和精确度，1s响应速率，1min预热即用&bull 同时高精度测量H2O&bull 1Hz测量频率&bull 内置自动零点校准，免维护传感器&bull 30秒生成ppb级乙炔气体浓度报告&bull 优秀的线性响应，覆盖ppb到 ppm的浓度量级&bull 媲美DNPH-HPLC精度，无需样品制备和耗材&bull 免维护传感器，耐用型滤光片&bull 数据通讯WIFI、RS-232、USB&bull 同步检测水汽背景，获取摩尔分数（干燥），无需干燥样气和数据修正。&bull 轻便小巧，野外应用可选配GPS组件，获取乙炔 “卫星图”&bull 超低功耗，内置锂电池可持续工作6小时，内置采样泵产品应用&bull 燃烧研究&bull 大气环境研究&bull 天然气泄露示踪&bull 自然调查&bull 机动车排放监测技术参数 测量方法中红外激光吸收光谱技术 灵敏度 3ppb/s漂移 (σ)Pico： 1%的读数（全温度范围）Ultra：0.1%读数（全温度范围）Strato：1-2%读数 温度/湿度10 ~ 40°C/10 to 95% RH (无冷凝) 浓度范围ppb-ppm可配置 尺寸（W*D*H）Pico： 11.5” x 8” x 3.75” Ultra便携：15” x 12” x 7”Ultra机架：17” x 11” x 5-3/8”Strato：7.5” x 7.5” x 3.5” 重量Pico： 2.75kg Ultra便携：6.5kgUltra机架：9kgStrato：2kg 功耗Pico： 15W Ultra便携：25WUltra机架：25WStrato：17W 电源 直流电：12 ~ 15V，1.5A；交流电：110 ~ 220V，0.2A 数据通讯 WiFi, USB, RS232, 模拟输出 (可选) 内存 32GB（可扩展） 数据更新速率 1 or 2 Hz，最高10Hz

乙炔气体检测报警仪是一种可充电型连续检测气体浓度，适用于防爆场所要求的本质安全型设备，采用LCD显示，可直观显示出现场气体浓度，操作方便，待机时间长。产品特点:上传计算机功能6000条报警记录查询功能采用先进技术的超低功耗微控元件超高亮LCD显示、中文显示超小的亚洲人体工学设计高度防水设计传感器故障自检、自动校准功能、减少测量误差提供可更换的直插式模块传感器两级三重报警(声、光、振动)声光报警可清晰辨认壳体采用塑胶精铸而成防滑、防水、防尘、防爆手感好、小巧、便于携带技数参数:测量气体：乙炔报 警 点：见附表显示精度：±3% F.S响应时间：20s指示方式：LCD显示实时浓度报警指示：发光二极管、声音、振动检测方式：自然扩散工作环境：温度-20℃～70℃ 湿度95%RH 无结露工作电压：3.7v 1700ma可充锂电工作时间：有毒连续300小时防护等级：IP65防爆标志：EX ib IIB T3 GB重 量：约132g(含电池含附件)外观尺寸：(100×58×30)mm

防爆乙炔气体泄漏报警解决方案乙炔气体报警器，是一款固定式的乙炔浓度检测仪器，可方便有效的检测乙炔气体泄漏等安全问题。主要由气体探测器和气体报警控制器共同组成，可以一对多。安装防爆乙炔气体探测器现场，通过核心部件传感器对乙炔的现场浓度进行实时感应；控制器放于值班室或休息室，需要人员实时监控探测器探测的浓度值，一旦浓度超标发出报警提醒，能及时发现，及时处理。乙炔气体说明（O53l--586l5O66）：乙炔，分子式C2H2，俗称风煤和电石气。是一种可燃气体，在空气中爆炸极限2.3%-72.3%（vol）。在液态和固态下或在气态和一定压力下有猛烈爆炸的危险，受热、震动、电火花等因素都可以引发爆炸。 乙炔气体报警器技术指标说明：检测气体：乙炔检测原理：催化燃烧式检测范围：0-100%LEL响应时间：T9030s供电电源：DC36V±15%/24V功率：1W信号输出：M-BUS信号/4-20mA信号输入安装线缆：RVS2×2.5mm2/RVV3×1.5mm2准 确 度：±5%FS防护等级：IP65防爆等级：Exd II CT6 Gb工作温度：-40℃～70℃湿度范围：10%RH～95%RH压力范围：86Kpa～106Kpa存储温度：-25℃～55℃材料：铸铝防爆链接螺纹：G3/4″内螺纹 产品售后服务:1、我公司生产的产品，质保期为自出厂之日起一年（人为因素和不可抗拒力除外）2、一般情况下传感器的使用寿命为：催化燃烧式传感器为2年，电化学式传感器为1年。传感器的实际使用寿命与工作环境有直接的关系，使用环境不同，传感器的寿命会发生变化。3、为确保产品性能的可靠性，我们建议用户，在使用期限，应定期对产品进行维护和校准。

乙炔报警器，乙炔检测仪的技术参数:1.检测气体：乙炔2.测量范围：0-1000ppm/0-100ppm/0-100%LEL3.采样方式：扩散式4.检测原理：电化学式/半导体式/催化燃烧式5.传感器寿命：三年6.检测误差：±5%F．S7.响应时间：＜30s8.零点漂移：3 PPm/LEL9.跨度漂移：10 PPm/LEL10.长期漂移：＜ 2%信号/月11.报警点投置：可自行设置12.恢复时间：＜　 30s13.工作电压：DC　24V14.功 耗：≤　 1.5W15.模拟输出：DC4～20mＡ标准信号输出16.传输距离：1200m17.大气压力：86～106KPa18.保存温度：－20～40℃19.工作温度：－40～85℃20.工作湿度：＜ 90%R．H21.重 量：约2.2（1.2）Kg22.防爆标志：EX d II CT623.出线孔连接螺纹G3/4”（ G1/2”）螺纹24.安装方式：固定支架、管装、墙壁装当然这里介绍的比较少，如需要更加详细专业技术指标要求，请联系我们。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

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在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

Multi-2025多功能烷基汞分析仪一、仪器概述●Multi-2025多功能烷基汞分析仪采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法原理,可用于样品中痕量烷基汞的精确测定 同时,本仪器具有常规原子荧光光谱仪的所有功能,完全符合相关国家标准检测要求。●Multi-2025多功能烷基汞分析仪可兼容各种型号的吹扫捕集样品浓缩仪,不但为客户提供更多选择,同时也允许客户使用实验室原有的吹扫捕集样品浓缩仪,降低采购成本。二、烷基汞分析仪部分●与商品化吹扫捕集样品浓缩仪兼容。●选用改性OV-3填料的色谱柱,相对与毛细柱使用更简便,分离稳定、寿命更长。●热裂解模块最高可达1050度。三、原子荧光光谱仪部分采用●采用3D打印的反应模块集中了氢化反应器、气液分离器等部件的功能于一体。模块内无需管路连接,大大减小样品流路死体积,降低污染。●选用对“Hg”等元素无吸附的特殊材质,采用3D打印技术一次成型,相对于传统部件,故障率大大降低。可用于砷、汞、铅、硒、锑、铋、镉等共12种元素检测。四、图形化软件●软件可动态显示仪器联机、预热,管路冲洗等状态。●具有耗材寿命统计监测功能,方便了解泵管、元素灯等耗材使用情况。●报告格式支持WORD、EXCEL、PDF等多种格式输出。五、检测数据才是仪器设备性能优劣的有效证明六、应用领域●满足《HJ977-2018水质烷基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》要求。●满足《HJ1269-2022土壤和沉积物甲基汞和乙基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》要求。●满足《HJ1268-2022水质甲基汞和乙基汞的测定液相色谱-原子荧光法》●环境、给排水、农产品、地质冶金、化妆品、中药材、土壤饲料、血液等样品中的As、Hg、Se、Sb等十二种元素总量检测。●SNT 5517-2023 出口水产品及其制品中甲基汞的测定 全自动甲基汞分析仪法七、核心特点●专注痕量“汞”分析!多项技术在降低汞污染、提高仪器稳定性方面发挥重要作用。●成熟的吹扫捕集技术+成熟的原子荧光光谱仪技术=稳定的分析结果。●一机多用,让客户投资实现保值、增值!

北斗星仪器有毒气体报警器，气体探测器，气体传感器CPT2000系列测试的气体主要有：氢化物、丙烯氰、砷烷、硼烷、甲烷、丙烷、有机气体、可燃气、溴气、乙炔、甲醇、乙醇、甲醛、环氧乙烷、氯乙烯、三氯乙烯、氯甲酸乙酯、氯气、二氧化氯、一氧化碳、光气、二氧化碳、氟、锗烷、氢气、氘气、溴化氢、氢氰酸、氯化氢、氟化氢、氟化物、H2O、硫化氢、三氟化氮、氨、含磷毒剂、甲氨、二甲、氨、三甲氨、过氧化氢、肼、二氧化氮、氧化氮、氮氧化物、氧、溴氧、过氧乙酸、磷化氢/磷烷、二氯化二硅、四氯化硅、硅烷、灭火剂,制冷剂,碳氟化合物、碳氯化合物、碳溴化合物, 氟氯碳化物、二氧化硫、四氢噻吩、乙醛、三氯化砷、三氟化砷/五氟化砷、六氟化钨、六氟化钨、三氟化硼、三氯化硼、三溴化硼、甲硫醇、硫醇、硫醚、芥子气、丁硫醇、三氟化氯、三氟化氯、四氯硅锗、十氟化二硫、二氯化二硫、甲酸、锡化氢、碘、异丁醇、甲醇、二氯化磷、五氯化磷、磷酰氯、四氯化硅、锑化(三)氢、氟化硫磺、硫酰氟、六氟化硫、噻吩、四溴化锡、四氯化锡、四氯化钛、四氟化锡、三氯硅烷、三氯三(二氮陆圜)、三氟三(二氮陆圜)、溴甲烷、二硫化碳、二甲基硫醚、二甲基二硫、甲基黄酰氯等。具体测试参数指标请咨询北斗星仪器工程师。气体报警系统常识安静实验室环境：　选择智能变送器蜂鸣器报警即可无机械噪音车间：10米以内：变送器电压信号 ? 100 dB 声光报警器10-1000米: 变送器电流信号 ? 100 dB 声光报警器注意: 易燃易爆气体环境,必须选择符合等级的防爆器件、供电和安装系统重型机械，室外：10-1000米: 变送器电流信号 ? 100 dB 声报警器防爆/防尘/防水 Safety规 格防爆等级易燃易爆安全粉尘安全易燃易爆飘尘安全CPT2610AAIntrinsically Safe,T6Class I,Group A,B,C,DClass II, D1Class III,D1CPT2620AAIntrinsically Safe,T6CPT2620AExIntrinsically Safe,T6CPT2620AWEEx d IIC T3变送器性能 Specifications： l CPT2000型, 专业变送器电路。三/四线制。l 电流信号输出:0-2.5V,0/4-20mA，电流输出Z大负载RL=(Vs-2.7V)/0.020mA。l 2610/2620耗电约50mA*5V，为本安型，可直接用于1，2，3 Class。专门定制，方可用于“0”区。防爆区域使用，注意防爆安全要求以及相应的供电、接线、作业等规范。l 2310/2410类耗电功率 650mA*5V，只有定制隔爆型,方可用于1,2,3类防爆场所。 l 电路测试精度0.05%FS。l 测试种类和准确度由所配探头决定。一般探头理论精度1.5%。由于飘逸，污染，成分干扰等因素实际正常使用相对准确度只能可达到1.5-10%左右。l 外接电源DC 12-24V, 功率:1.40 W, 基本测试功耗100mW。l 工作温度: 一般直接测试 0-50 ℃ (由具体探头之性能决定)。l 压力: 一般直接测试 0-0.7kgf/cm2 (由具体探头之性能决定)。仪器维护:l 保持变送器表面干净,不能有明显的污垢吸着于表面。建议根据现场情况制定定期检查和清理计划；l 变送器每年标定或校准1次，2610系列1-2年定期更换探头；2310/2410系列5-10年更换一次。具体维护周期依所选探头确定。选型常识：l 本系列变送器不是都可以达到分析仪的水平 2610有线性输出,但是普遍受干扰气体影响,只有特定背景气体中,才能达到定量测试要求 l 2310系列只能作为报警器使用,信号输出与浓度的平方根成比例 要求定量时必须选择BD5智能型产品或配套我所其他显示报警器。l 车间报警器布置:1) 巨毒气体或其它危险气体每隔1.5-3米空间距离布置一个变送器；不是非常危险的气体，可以隔7-10米布置；重点保障泄露源附近按规定布置。2) 空气流动性较好的情况下可以适当减少布点，注意将变送器布置在有代表性的气流区域---下风口。3) 装有风扇等临时启动排风装置：基本按空间概念布置；4) 常通风的车间: 一般出风口附近2米左右处安装一个探测器，如果有死角，也应该合理布置探头；另外潜在泄露点下风位置合理布置探头。5) 探头安装高度：相对与空气，特别轻的气体，例如氢气，应该将变送器装在较高的位置；比重比空气重的气体， 则装在泄露点以下位置。一般毒性气体探头装在人头高度（1.3-1.8米空间高度）。l 室外罐区等布置：首先考虑地方各季节的风向特点，确保下风位置有探头；其次考虑具有可能泄露点布置探测，探头仍应装在相对的下风口方位。室外安装高度，一般应该与可能的泄露点位置平行。但是比重轻的气体探头仍应考虑偏上方安装，重的气体则在下方安装。常年风力较大的地方，主要与泄露点平行安装。l 易燃易爆车间，尽量不要采用变送器直接报警，而是通过安装在仪表室的控制器连接报警系统，这样工厂安装容易达到具体工业安全标准要求。0区报警系统应特别订货。

MERX全自动烷基汞分析系统，全球烷基汞用户的选择，满足美国EPA标准及《水质烷基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》（HJ977-2018），为双标准制定和验证使用仪器；模块化设计，可升级为烷基汞/总汞二位一体分析系统，检出限可达0.002ng/L，重复性好，结果准确可靠。 在汞循环中，汞是以多种形态存在的，汞的毒性取决于化学形态，汞基本上有3种形态:元素汞、无机汞、有机汞(以甲基汞为主)，它们的中毒症状和暴露途径各不相同。现代研究已经证明，不同形态汞的毒性差别很大，如甲基汞的毒性是无机汞的100 倍以上，而且甲基汞具有亲脂性，更容易和生物体结合，穿过细胞膜和血脑屏而造成毒害。因此，测定元素特定的化学形态的含量，测定有机汞而不仅仅是总汞，对于解释它们的生物化学行为和评价对环境的潜在危害是很有必要的。 采用气液分离器、多通道吹扫和Tenax捕集技术，将液体中的烷基汞（甲基汞，乙基汞）进行吹扫并通过捕集阱富集，然后对捕集阱进行快速加热，烷基汞（甲基汞，乙基汞）被解析随载气进入气相色谱进行分离和高温裂解还原，最后通过冷原子荧光检测器，检测烷基汞的含量；符合并被美国EPA 1630分析方法推荐。 技术指标： ● 多功能自动进样器 -双进样模式。 -高通量：高达72个样品位。 -全封闭型进样。 ● 烷基汞吸附及吹扫模块 -平行三通道Tenax 捕集阱交替捕集，其中一个捕集阱在热脱附，另一个捕集阱在吸附，另一个捕集阱在干燥，准备吸附下一个样品。 -快速弹道红外线加热系统。 ● 气相色谱分离热裂解模块 -气相色谱方法内置已优化，保证良好的分辨效果。精确的控温系统保证分析的优异重复性 ，柱温可编程，提供方法开发的灵活性。 -高温热裂解模块 ：高达900多度的裂解温度将不同形态汞分解还原为蒸汽汞。 ● 冷原子荧光检测器 -在美国EPA标准方法1630及1631中被引用，在全世界领先的研究实验室内被使用 。 -触摸控制屏上可轻松调节设置，通过高清晰LCD显示信号和设定。

在线式乙炔检测报警器 MIC-600-C2H2-A应用于现场乙炔气体浓度24小时连续在线监测及温湿度的测量，现场显示浓度和超标声光报警，远程数据传输。采用2.5寸高清彩屏实时显示浓度，根据不同的检测气体选用当前行业内最好品牌的电化学、红外、催化燃烧、热导、PID光离子原理的气体传感器、瑞士高精度电容式数字温湿度传感器，MIC-600先进的电路设计、成熟的内核算法处理，取得了多项软件著作专利和外观专利，从而诞生了目前行业内领先的新一代多功能型固定在线式复合气体检测报警仪。MIC-600可以检测管道中或受限空间、大气环境中的气体浓度也可以检测气体泄漏，还可以检测高浓度单一气体的纯度。坚固耐用的防爆外壳和氟碳漆表面处理工艺适用于各种危险场所和强酸强碱的腐蚀性环境，耐磨损，10年内不褪色和掉漆。　　MIC-600在线式乙炔检测报警器特点：　　●本安电路设计，防爆认证，二级防雷、防静电，防雷和防静电能力超过国家标准，抗高强度脉冲浪涌电流冲击。高可靠性和稳定性。防反接设计，任意形式的反接都不会损坏仪器　　●符合EMI、EMC标准，通过国标测试及CMC计量器具许可认证。　　执行标准：GB15322.1-2003　　GB 3836.1—2010 《爆炸性气体环境用电气设备 通用要求》　　GB 3836.2—2010 《爆炸性气体环境用电气设备 隔爆型“d”》　　GB 3836.4—2010 《爆炸性气体环境用电气设备 本质安全型“i”》　　●标准总线RS485(RTU)和4～20mA标准信号同时输出，3组继电器开关量输出，现场声光报警。可选频率输出 200-1000Hz 、Hart协议信号、1～5V输出、无线传输(2～5公里或不限距离)。可以有线或无线远程实时监控，将数据上传到手机或通过局域网、互联网传输到环保局、其他监控中心、监控设备、监控电脑，通过免费上位机软件或气体报警控制器实时监控现场的浓度。　　●兼容各种二次表、数据采集模块、PLC、DCS系统，可直接驱动电磁阀、风机、报警器等设备，也可以通过驱动中间继电器来驱动大功率设备。选配MIC2000控制器可以同时监控1000台检测仪。　　●大容量数据存储功能，可以记录实时浓度值、温湿度、或只记录报警值及时间。支持本机存储或SD卡存储，本机存储标配容量为10万条记录，需更大容量订货时要注明。SD卡存储的容量可订制。通过免费上位机软件进行数据导出和分析，支持在本机上查看数据或删除数据，可设置在容量不够的时候自动覆盖数据或不覆盖数据，自动停止记录功能。　　●标配红外遥控器，可以实现在危险场合免开盖操作，比如：修改报警点、浓度校准、零点校准、消音、恢复出厂、进入菜单、查看记录、4mA输出、20mA输出(校准其他采集设备需用这个功能)。　　●中英文界面可选择，默认中文界面，支持气体浓度单位自由切换，常规气体不需要输入分子量，特殊气体输入分子量就自动计算并切换，单位可选：PPM、mg/m3、Vol%、LEL%、PPHM、ppb、mg/L　　●2.5寸高清彩屏(LCM)显示实时浓度、时间、温度、湿度、存储状态等信息，可同时检测1-～6种气体浓度和温湿度，菜单界面采用高清仿真图标来显示各个菜单的功能名称，简明中文或英文操作提示。　　●三种显示模式可切换：同时显示多种气体浓度、大字体循环显示单通道气体浓度、实时曲线，各通道之间自动或手动循环可切换，可设置是否显示最大值、最小值、气体名称，可查看历史记录曲线图。　　●自动跟踪零点防止漂移，温度补偿、多级校准，能同时符合国标和各个地区的地方、省级计量局标准　　●数据恢复功能、浓度校准误操作自动识别并阻止，可以避免由于操作不当引起的不良。　　●可记录校准日志、维修日志、故障解决对策，传感器寿命到期提醒，下次浓度校准时间提醒功能　　深圳市逸云天电子有限公司成立于2006年初，是集设计、研发、生产、销售于一体的技术企业。可提供粉尘检测仪、有毒有害、易燃易爆气体检测报警仪、气体分析仪、气体在线监测预处理系统、TVOC在线监测系统、差分紫外光谱气体分析仪、气体分析仪、环保安监气体监测云平台等产品。逸云天已通过ISO9001质量管理体系认证、IS014001环境管理体系认证、CCEP中国环保产品认证 并取得相应产品防爆合格证、CPA型式批准证书、CMC计量许可证、外观证书、软件著作权登记证书等。

MS500便携式乙炔气体检测仪用于快速检测乙炔气体浓度、温湿度测量并超标报警的场合。MS500手持式五合一气体检测仪采用2.5寸高清彩屏实时显示浓度，选用当前行业内著名品牌的气体传感器，主要检测原理有：电化学、红外、催化燃烧、热导、PID光离子。MS500先进的电路设计、成熟的内核算法处理，取得了多项软件著作专利和外观专利。MS500可以检测管道中或受限空间、大气环境中的气体浓度，也可以检测各种气体泄漏和各种背景气体为氮气或氧气的高浓度单一气体纯度，检测种类超过500多种。　　MS500便携式乙炔气体检测仪特点：　　● 防水、防尘、防爆、防震，本安电路设计，抗静电，抗电磁干扰，通过国标测试和CMC计量器具生产许可认证　　●防护级别IP66，可防雨淋与水溅。内置水汽、粉尘过滤器，防止因水汽和粉尘损坏传感器和仪器，可用于高湿度高粉尘环境　　●内置泵吸式测量，集成水汽、粉尘过滤器，可选配专业配件用于高温、高湿、高粉尘环境，响应迅速 特殊路设计，采样距高大于10米。　　●2.5寸高清彩屏显示实时浓度、报警、时间、温度、湿度、存储、通信、打印、电量、充电状态等信息，菜单界面采用高清仿真图标显示各个菜单的功能名称　　●大容量数据存储功能，支持10万条数据存储容量，更大容量可订制。支持实时存储、定时存储，或只存报警浓度数据和时间、支持本机查看数据，也可通过USB或RS232接口将数据上传到电脑，用上位机软件分析数据和存储、打印。　　●蓝牙通信接口(选配)、USB接口、RS232接口，可选配外置微型无线蓝牙　　打印机，打印：公司名称、气体名称、日期时间、环境温湿度、浓度数据、检测结果(是否合格)　　●USB充电接口，可用电脑或充电宝充电，兼容手机充电器，过充、过放、过压、短路、过热保护，5级精准电量显示，支持USB热插拔，检测仪在充电时可正常工作　　●采用6000mAH大容量可充电高分子聚合物电池，可长时间连续工作　　●声光报警、振动报警、视觉报警、欠压报警、故障报警，报警时多方位立体显示报警状态。　　●报警值可设，报警方式可选低报警、高报警、区间报警、加权平均值报警　　●高精度温湿度测量(选配)，同时对传感器进行温度补偿，仪器使用温度范围-40～70度，可检测800度的气体，更高温度的气体检测可订制(选配高温采样降温过滤手柄或高温高湿预处理系统)　　●可以同时检测1～5种气体，单位自由切换，常规气体不需要输入分子量，特殊气体需要输入分子量就自动计算并切换，单位可选：PPM、mg/m3、Vol%、LEL%、PPHM、ppb、mg/L　　●三种显示模式可切换：同时显示四种气体浓度、大字体循环显示单通道气体的浓度、实时曲线，各通道之间自动循环或手动循环可切换，可设置是否显示最大值、最小值、气体名称，可查看历史记录曲线图。　　●中英文界面可选择，默认中文界面，简明中文或英文操作提示，各个年龄阶段的使用者都可以轻松操作　　●数据恢复功能，可以选择性恢复或全部恢复，免去误操作引起的后顾之忧　　●零点自动跟踪，长期使用不受零点漂移影响。　　●目标点多级校准，保证测量的线性度和精度，能同时符合国家标准和地方计量局标准。　　●浓度校准误操作自动识别并阻止，能避免人为因素造成的不良。　　●可以实时检测或定时检测(针对被测气体的量比较小的情况)，不检测时可以把泵关闭以延长开机时间。　　●可记录校准日志、维修日志、故障解决对策，传感器寿命到期提醒，下次浓度校准时间提醒功能　　MS500便携式乙炔气体检测仪技术参数：　　检测气体：乙炔C2H2 ，选配：同时检测1～5种气体浓度和温湿度测量，视传感器和现场环境而定　　检测范围：0～100ppm、1000、2000、10000、20000ppm、100%LEL、100%Vol可选，其他量程可订制　　分 辨 率：0.01ppm或0.001ppm(0～10 ppm) 0.01ppm(0～100 ppm)，0.1ppm(0～1000 ppm)，1ppm(0～1000 ppm以上)，0.1%LEL(0～100%LEL)、0.01%Vol或0.001%Vol(0～99.999%Vol)　　检测原理：电化学、红外、热导、PID光离子、催化燃烧，根据气体类型、量程、现场环境和用户需求而定　　传感器寿命：电化学原理2～3年，氧气2年或6年，红外5～10年，催化燃烧3年、热导5年，PID2年　　检测方式：内置泵吸式，流量500毫升/分钟　　显示方式：2.5寸320X240高清彩屏显示,8按键操作　　检测精度：≤±2%(F.S)(更高精度可定制)　　线 性 度：≤±2%　　重 复 性：≤±2%　　报警方式：声光报警、振动报警、视觉报警、声光+振动+视觉报警、关闭报警　　响应时间：T90≤20秒　　恢复时间：≤30秒　　工作电源：DC3.7V　　使用环境：温度-40℃~+70℃ 相对湿度≤0-99%RH(内置过滤器可在高湿度或高粉尘环境使用)　　样气温度：-40℃~+70℃ ，选配高温采样降温过滤手柄或高温高湿度预处理系统可检测 800℃ 的烟气浓度　　温度测量：-40℃~+70℃(选配) 精度0.5℃　　湿度测量：0-100%RH(选配) 精度3%RH　　电池容量：3.7VDC，6000mAH大容量可充电高分子聚合物电池 ,带过充、过放、过压、过热、短路保护功能　　数据存储：标配10万条数据容量，更大容量可订制，支持本机查看、或数据导出，免费上位机通讯软件。存储功能默认为关闭状态，可设置为开启状态，存储时间间隔任意设置　　通讯接口：USB(充电与通讯)、RS232、蓝牙通讯，自动识别　　打 印 机：选配，外置微型无线蓝牙热敏打印机　　界面语言：中文或英文可设置，默认中文界面　　防爆类型：本质安全型　　防爆标志：Exia II CT4　　防护等级：IP66，防雨淋与水溅、防尘　　外型尺寸：195×77×46mm(L×W×H)　　重 量：350g　　标准附件：说明书、合格证、保修卡、USB充电器(含数据线)、高档铝合金仪器箱、光盘(上位机通讯软件)、鳄鱼夹、湿度粉尘过滤器1个　　选配附件：0.9 m 可伸缩采样手柄(标准为1米)、温湿度测量功能、高温采样降温过滤手柄、高温高湿预处理系统、湿度粉尘过滤器多个、挂绳、外置微型无线蓝牙打印机　　应用场合：石油、化工、医药、环保、烟气分析、空气治理等所有需要检测气体浓度的场合

近些年来, 随着对空分设备安全生产的进一步研究, 逐渐达成了一个新的共识: 严格控制液氧中乙炔的含量, 防止空分设备因微量乙炔的冷却积累而发生爆炸事故是空分装置安全生产的保证。目前国内乙烯厂都已建立了空分安全监测系统, 有一部分已采用了较为的气相色谱法( 富集法) 检测液氧中的微量乙炔, 但也有一部分还是采用化学比色法检测 这些方法不但操作复杂， 耗时长， 而且影响工作效率和质量底下。 可爆物质主要有：乙炔和其他碳氢化合物，以及随加工空气带入塔内的润滑油及润滑油的轻馏份。在上诉危险物质中，乙炔是行成爆炸的主要根源。因此必须加强化验分析，定期进行液氮、液空中乙炔、碳氢化合物及油含量的监控。其中，特别注意乙炔含量的控制。 为保证空分设备安全运转、工业空气分离设备主冷液氧中乙炔及碳氢化合物控制指标规定的警戒值是：乙炔0.1ppm，总烃100ppm.不难看出，一般的气相色谱仪不可能直接进样测定0.1ppm乙炔。我们为满足上诉分析需要对色谱仪进行了改装，实现了一次进样，完成对甲烷、乙烷、乙烯、乙炔、丙烷、异丁烷等组分的全分析。 汇谱分析提供的气相色谱仪及气相色谱分析方法能有效快捷的检测液氧中乙炔含量等，该分析方法符合（国家及行业标准）数据安全可靠，操作简单详细仪器配置及气相色谱仪分析液氧中乙炔含量的分析方法色谱分析方法请登录我公司网站进行免费查询下载。或致电我公司技术部质询电话 免费提供分析方法，方法开发。仪器配置： 1、GC-2010气相色谱仪+FID检测器+毛细柱进样系统 2、大口径PLOT毛细管色谱柱：50m×0.53mm×0.25um 3、BF-300E氢气发生器 4、BF-2L空气发生器 5、氮气钢瓶 6、色谱数据处理 7、电脑打印机 气相色谱仪分析液氧中乙炔含量的分析方法适合用户：炼厂，石油化工，质检，商检部门等 公司主营业务： 1、帮您建立色谱分析室、色谱气路整套改造、色谱分析方法，培训色谱操作人员。 2、帮您建立整套实验室规划与成套仪器项目。 3、专业销售，维修各类进口、国产气相色谱仪、高效液相色谱仪、气体发生器等分析仪器。（安捷伦系列，岛津系列，沃特斯，热电等） 4、免费提供各种分析仪器应用、维修等技术咨询服务 5、收购与销售二手进口气相色谱仪、液相色谱仪、光谱仪 6、长期/短期租赁各种色谱仪，让您更大减少成本。 7、常年优惠供应)色谱耗材色谱柱气化垫等。 GC-2010气相色谱仪主要性能及技术指标一、主要性能特点： 1、中文大屏幕 LCD 显示器，显示内容丰富直观，设定参数及其方便。 2、采用了微机自动点火装置。 3、采用了稳定可靠的数字调零，避免了电位器调零引起的基线不稳定现象。 4、具有八阶程序升温功能。 5、具有变频功能的智能后开门自动降温系统， 降温速度快， 实现了真正意义上的近室温操作。 6、柱室采用独有的跟踪升温方式 避免了柱室的快速升温造成检测器的污染. 7、三气路结构，可同时装三根色谱柱、同时安装 FID、TCD两种检测器， 并可方便地扩充 ECD 、 FPD 、 NPD 三种检测器，以及扩装气体进样器和转化炉等外控设备。 8、同时配备两个填充柱汽化室和一个独立毛细管专用系统，具有性能优良的毛细管分流 /不分流进样器及尾吹系统，可方便地安装小口径毛细柱、大口径毛细柱和各种填充柱。 9、该机可十分容易地由单 FID 放大器扩充为双 FID 放大器，两个放大器的参数可分别控制，真正实现了一机多用。 10、具有掉电保护功能，可自动记忆设定参数。具有抗电源突变干扰功能和秒表计时功能． 11、具有超温保护功能，温度超过所设上限自动断电并报警。任一路温度超过设定温度，均会自停止加热；并有中文提示故障原因及报警提示． 12、具有断气/漏气保护及中文提示功能，可限度地保护 TCD钨丝和色谱柱不受损害。 13、具有故障自我诊断功能，随时显示中文故障原因,及报警提示.二、温度控制技术指标： 控温范围：室温 +5℃-400℃ 控温对象：柱箱、检测器、热导池、进样器 控温精度：在 200℃以内为±0.1℃；在200℃以上为±0.2℃ 程序升温：八阶线性程升 程升速率：0.1-40℃/分钟 增量0.1℃

简介： 北京鸿信的全自动烷基汞分析仪HXAM-51(II)是采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法的原理，故又名吹扫捕集-气相色谱-冷原子荧光分析仪；用于测定烷基汞（甲基汞，乙基汞）的分析仪器，具有分析速度快，数据准确可靠，检出限低的优点,完全符合：《水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法 》（HJ 977-2018）《土壤和沉积物 甲基汞和乙基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》(HJ 1269-2022)《生活饮用水标准检验方法 金属指标 》（GB/T 5750.6-2023 ）《出口水产品及其制品中甲基汞的测定 全自动甲基汞分析仪法》（SN/T5517—2023）等相同原理的分析标准，非常适合批量样品的全自动分析。仪器特点一体化成型的设计：将捕集模块、气相模块及冷原子荧光检测器并排集成于一体，设计在同一个平台内，避免了分块式和叠加式设计造成的管路过长和稳定性不一致，保证整个系统的同一稳定性，抗干扰性更强，分析更准确。自动进样器：采用原位吹扫捕集或异位吹扫进样方式，全自动化进样，最大可达108个样品位数，进样量可达45mL，完全符合HJ 977-2018,HJ 1269-2022,GB 5750.6等标准进样要求。吹扫捕集模块：采用原位吹扫或异位吹扫进样方式的，吹扫管体积大于60mL，充分吹扫无残留，无交叉污染，采用多通道捕集管，有水汽隔离装置，具备吸附，反吹干燥，脱附，活化等功能，防止水蒸气影响，连续进行多个样品的分析，分析时间短，过程连续不浪费时间。采用螺旋辐射快速加热脱附，无残留不拖尾，峰型好。高清显示控制屏：采用7英寸高清平板电脑，集成高精密电子传感器，实时显示控制的流量及温度，提供更加智能和直观的工作模式。智能远程控制*：可选升级采用远程控制，不受距离限制远程查看仪器运行状态和远程操作工作站控制仪器运行。高级进样模式*：可选升级采用原位/异位一体进样器,仅需软件选择切换即可实现原位/异位吹扫进样方式。可选升级系统全自动总汞分析系统*:多级分析捕集，极大改善了峰型，获得更高灵敏度；超痕量的检出限和极宽的线性范围。技术性能1.检出限：甲基汞检出限：0.002ng/L，乙基汞检出限：0.002ng/L；2.重复性：≤5%(0.1ng/L烷基汞（甲基汞，乙基汞）)，≤3%(1ng/L烷基汞（甲基汞，乙基汞）)；3.稳定性：≤3%（以1ng/L烷基汞（甲基汞，乙基汞）样品为例，6个40mL样品一次性加入衍生试剂，先分析3个样品，隔3个小时后再分析另外3个样品，数据重复性≤3%）；4.线性相关系数：＞0.999；5.回收率：甲基汞75%~120%，乙基汞70%~120%；6.吹扫捕集模式：原位吹扫或异位吹扫。

产品型号： HMDS-6090 HMDS真空烘箱 产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：850*700*1400载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。 图片： 外壳冷轧板烤漆

产品型号： HS40 产品特点：1、机外壳采用冷轧板烤漆处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：615*615*900载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。外壳冷轧板烤漆

乙炔氢化催化剂评价装置

iAFS-100全自动烷基汞分析系统烷基汞是一类毒性强并具有强致癌性的有机汞类化合物，广泛存在于大气环境、水环境及土壤环境中。由于此类化合物具有亲脂性、生物积累效应和生物放大效应，其毒性是无机汞的几百倍。烷基汞以甲基汞和乙基汞为代表，其中甲基汞的毒性最强，在环境中任何形式的汞均可在一定条件下转化为甲基汞。iAFS-100全自动烷基汞分析系统通过蒸馏处理，吹扫捕集/气相色谱原子荧光法测量样品中的痕量甲基汞、乙基汞等烷基汞的含量。仪器可以实现完全的自动化操作测量结果准确，检出限低，测量范围宽，是烷基汞测量的最佳仪器。XYZ三维自动进样系统采用全自动XYZ三维机械臂进样器进样，精确定位采用钝化不锈钢双层取样针，具有隔垫穿刺功能，无样品吸附高通量：标配72位。提供36位、72位或108位等多种规格自动进样器可选 吹扫捕集装置吹扫方式：异位和原位吹扫双模式可选，标配异位吹扫方式采用Tenax捕集阱捕集目标样品，专用的捕集阱填料及加热冷却技术保证优秀的吸附/解析效率环绕式加热器脉冲加热，反向解析样品，升温速度快，峰形好高温裂解管柱：可加热至750℃以上，保证不同形态的汞迅速分解还原为蒸汽汞系统标配尾气吸收装置，汞蒸气不会排放在空气中，绿色环保 CVAFS检测器采用低压汞灯作为光源，脉冲恒流驱动方式，光强输出稳定，低噪音采用不分光比例双光束检测方式，光源信号及荧光信号同时，差分运算测量样品，以保证最佳的稳定性和灵敏度甲基汞的线性范围：0~25ng/L；乙基汞的线性范围：0~25ng/L甲基汞的检出限：优于0.003ng/L；乙基汞的检出限：优于0.003ng/L控制软件及数据系统Windows中文易操作界面，可实现编辑序列、自动分析数据、导入标准曲线等操作可以直接通过控制软件对仪器参数进行修改及控制，简单便捷具有最小二乘法和响应因子法两种数据处理方式

产品优势方法原理采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光谱法，完全符合《HJ977-2018 水质 烷基汞的测定》和美国EPA1630标准.分析过程自动化，避免操作者多次接触有毒试剂，解放人力.该仪器操作简便，样品需求量小，分析时间短，实验数据准确.仪器带有尾气处理装置，对环境友好.仪器通过CPA计量认证.可用干地下水、地表水、生活污水、工业废水、固废浸出液、十壤、生物样品中烷基汞的检测.全中文操作界面，易干操作，实验报告可直接打印，也可导出Excel.标准曲线计算方式采用标准曲线法和相应因子法两种。样品位数最大支持96位，进样针采用PEEK材质，在分析全过程中不与金属材质接触，降低引入污染的可能性。采用原位吹扫，直接在样品瓶内进行吹扫，无需进行额外的液体转移，减少管路污染，吹扫装置与进样器采用一体化设计。独有的光源调节模块，基线漂移1% 线性范围可达4个数量级 汞灯寿命可达5000小时。全自动烷基汞分析仪尺寸:1200mm*500mm*500mm重量:75 kg功率:220VAC，50Hz，5A吹扫气体:高纯氮气 (≥ 99.999%)载气: 高纯氩气 (≥ 99.999%)进样器容量:四盘24x40mL(总96位)PC 接口:RS232 接口环境要求:带通风装置的实验室仪器运行环境温度:10°℃~25°℃仪器运行环境湿度20%~80%烷基汞分析仪与《水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》HJ77-2018标准对比指标HJ 977-2018全自动烷基汞分析仪MMA 721 适用范围甲基汞、乙基汞检出限均为0.02ng/L甲基汞、乙基汞均优于0.01ng/L3 方法原理PT-GC-CVAFSPT-GC-CVAFS6.2 吹扫装置原位或异位吹扫原位吹扫7.2 试样准备8.3 试验测定45mL进样量25mL(EPA1630) / 45mL两种配置8.2 校准方法标准曲线法软件支持 标准曲线法和响应因子法（EPA1630）10.1 精密度甲基汞1.1%~6%，乙基汞0.9%~10%甲基汞、乙基汞均1%~5%11.2 校准系数相关系数≥0.996相关系数≥0.99811.4 基体加标甲基汞75%~120%乙基汞70%~120%甲基汞80%~120%乙基汞80%~120% 蒸馏仪(选配)加热范围:常温至150.0℃，加热精度:+1.0 ℃，过热自动断电等功能，确保烷基汞可被完全蒸馏 冷凝模块可以实现自动降温及控温功能，水浴温度≤5°℃ 不使用冰水混合物，完全接收蒸馏后的烷基汞 样品的加热及接收孔位多达12个，满足用户对于样品量的需求 样品管、盖及管路材质均为特氟龙材质，杜绝污染。

1.实现了在实验室气相色谱平台搭建的烷基汞测量体系，实现了通用仪器专用化的设计思路，在可以测量烷基汞的同时，也可以进行其他气相色谱法的应用检测。2.小型化光路设计，经过复杂的光学设计，使得整体的荧光检测器可以集成在手掌大小，并且在体积缩小的同时，提高了仪器对于汞的灵敏度响应。MAS-100型烷基汞分析仪，满足HJ977-2018《水质 烷基汞的检测 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》国家环境保护标准，适用于样品的批量分析。 水溶液中甲基汞、乙基汞与衍生化试剂四丙基硼化钠反应，并生成具有一定挥发性的甲基丙基汞和乙基丙基汞，经氩气吹扫、Tenax管捕集后，使用气相色谱-冷原子荧光检测器测定。通用仪器专用化在加装AFD的同时，还可以加装其他检测器（FID、ECD、TCD、FPD），满足使用者对于其他应用的分析。主动尾气捕集系统经过检测器的汞蒸气最后会经过金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集。使用毛细色谱柱高效分离更高的柱效，更快的分离速度，使甲基汞、乙基汞的灵敏度更高。产品创新点详解：（1）丰富实验室气相色谱仪应用场景。基于通用仪器专用化的设计思路，在FID、FPD、ECD、TCD和TSD等传统气相色谱检测器的基础上，开发了具有专利技术的小型冷原子荧光检测（AFD），可直接搭载在实验室气相色谱仪上，实现气相色谱仪和原子荧光光谱联用分析，进一步丰富了实验室气相色谱仪的应用场景。（2）对提高汞检测行业的仪器利用率提出了新的方案。各实验室除了烷基汞检测外还有其他检测项目需求，该仪器在实验室气相色谱平台上实现除烷基汞分析外，还可以进行挥发性有机物、挥发性卤代烃、有机磷、有机氯等多气相色谱应用拓展。（3）AFD小型化集成设计。AFD采用小型化集成设计思路，整个检测器只有商用冷原子荧光光谱仪的1/30左右，包括基座、高温裂解模块、荧光池及主动捕集系统。一体化的基座设计，不仅满足毛细色谱柱与高温裂解模块的连接，又避免了高温对于色谱柱的性能影响。高温裂解模块采用纳米隔热层设计，满足内部950℃高温裂解的同时，实现了与外部良好隔热。荧光池采用多级光学陷阱实现特殊的杂散光消除技术，最终实现高灵敏度检测。（4）保护环境及分析者健康。采取主动泵抽式捕集系统，经过检测器的汞蒸气在泵抽吸过程中由金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集，从而保护环境与仪器使用者。（5）引入毛细色谱柱分析，更高的柱效、更快的分离。基于实验室气相色谱仪平台的优势，使用毛细色谱柱进行烷基汞分析，可在4分钟以内实现甲基汞与乙基汞分离，提高仪器使用效率。

ZSMA全自动烷基汞分析系统，通过蒸馏处理、吹扫捕集/气相色谱-原子荧光法，测量样品中的痕量甲基汞、乙基汞等烷基汞的含量。仪器可以实现完全的自动化操作，测量结果准确，检出限低，测量范围宽，适用于烷基汞的自动快速精确测量。 烷基汞作为具有较强神经毒性的环境污染物，可以通过大气、水体、土壤等方式进入到人类的食物链中，从而逐步富集进入人体，对人体健康造成严重危害。对生产和生活环境的有效监控可以更好的保障人们的健康安全。仪器原理：采用吹扫捕集技术，将样品中的烷基汞富集到Tenax管后，迅速加热解析，样品通过气相色谱分离，之后高温裂解实现原子化，通过原子荧光检测器进行检测。进样、吹扫、捕集、解析、气相分离及分析过程全部密闭的环境下自动进行，避免污染环境，保护实验人员。ZSMA100全自动烷基汞分析系统设计完全符合：生态环境部方法《HJ977-2018水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱冷原子荧光光谱法》和《HJ 1269-2022 土壤和沉积物 甲基汞和乙基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》满足美国环保署方法EPA 1630标准要求。仪器的特点： 钝化双层不锈钢取样针，无吸附，不易弯折 样品和吹扫气从吹扫管底部进入吹扫管，吹扫效率高 具有异位吹扫和原位吹扫双模式，用户可自由切换 改性Tenax捕集阱，解析温度软件可调 液体传感器，避免水汽对捕集管的影响 气相色谱分离不同形态的汞，可使用毛细管或填充柱 采用升温更快的弹簧式环绕加热反向解析技术，峰形更好 原子化裂解温度850℃以上，保证各种形态的汞彻底分解 采用不分光比例双光束，以保证优秀的重复性和灵敏度 软件中文操作界面，可满足国际国内标准要求 具有MFC流量计精确控制流速，可以获得更好的重现性 自动进样器具有36，72，120等多种位数可选 进样瓶多种体积可选，可升级进样器自动恒温系统 仪器具有检出限低，配置高，性能稳定 仪器可使用氩气吹扫，提高检测器灵敏度降低检出限