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吗多明杂质标准品
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吗多明杂质标准品相关的方案
高分辨液质联用仪LCMS-9030鉴定沙丁胺醇标准品杂质
使用岛津超高效液相色谱-四极杆飞行时间质谱 LCMS-9030 分析,对沙丁胺醇标准品进行一级质谱和二级质谱信息采集,使用LabSolutions Insight Explore软件,综合相关参考文献,共鉴定出3个杂质,为沙丁胺醇标准品进行质量控制提供了依据。同时,结果显示LCMS-9030具有亚ppm的质量数准确度,是未知物分子式预测和结构推导的利器。
ICPE-9820标准加入法测定锂电池电解液中杂质元素含量
本文参考电子行业标准《锂离子电池电解液中金属杂质含量测试方法》修订稿采用电热板消解-标准加入法测定电解液中铝、砷、镉、铬、铜、钙、钾、镍、钠、镁、铁、铅和锌等金属元素含量。实验结果表明,标准曲线线性良好(r>0.9998),方法检出限为0.0017~0.040 mg/kg之间,加标回收率92.5~108%,准确度良好;该方法电热板加热挥发有机溶剂,操作简便快捷,标准加入法测定准确度高,适用于锂电池电解液中杂质元素的测定。
多中心切割二维液相色谱在杂质分析方法开发中的应用
在药物和精细化学品的开发和生产过程中,杂质分析非常重要。本应用表明多中心切割二维液相色谱非常适用于药物和精细化学品杂质分析的方法开发。使用 Agilent 1290 Infinity 二维液相色谱解决方案,经第一维分离后所检测到的每一个峰都被中心切割并转移到具有不同选择性的第二维进行进一步分离。此方法能发现可能存在的共洗脱化合物。此外,通过向样品添加疑似杂质还可确证对杂质的鉴别。
iCAP 7400 DUO在工业氢氟酸中杂质元素的分析
本文采用赛默飞世尔iCAP 7400DUO ICP-OES分析了38.52%工业无水氢氟酸和33.08%工业粗制氢氟酸,分析结果表明除As 和K以外的其他元素可以直接上机或者稀释后测试,2种上机溶液结果偏差不大,而As需要稀释5倍以上才能确保结果的准确性,鉴于iCAP7400 DUO测试的高效、简单、快捷,数据准确、稳定、灵敏,它是分析工业氢氟酸中金属杂质元素的首选分析仪器。
iCAP 7400 DUO在工业氢氟酸中杂质元素的分析
本文采用赛默飞世尔iCAP 7400DUO ICP-OES分析了38.52%工业无水氢氟酸和33.08%工业粗制氢氟酸,分析结果表明除As 和K以外的其他元素可以直接上机或者稀释后测试,2种上机溶液结果偏差不大,而As需要稀释5倍以上才能确保结果的准确性,鉴于iCAP7400 DUO测试的高效、简单、快捷,数据准确、稳定、灵敏,它是分析工业氢氟酸中金属杂质元素的首xuan分析仪器。
岛津仪器检测药品中基因毒性杂质之整体解决方案
对药物杂质水平的控制是药物研发和生产的重要环节,其中基因毒性杂质的控制是当前杂质控制的热点。以缬沙坦为例,2019年2月FDA更新了ARBs中亚硝胺杂质可接受摄入量(AI)临时限值表。2019年1月,国家药典委员会发布《关于缬沙坦国家标准修订稿的公示(第二次)》,给出了NDMA和NDEA的GCMS检测方法和限度值。药品中基因毒性杂质检测在灵敏度、选择性、待测物稳定性、基质复杂性等方面具有特殊性和挑战性。岛津公司三重四极杆型气相色谱质谱联用仪GCMS-TQ8050 NX,其MRM采集模式完美解决药品基质复杂问题,完全满足FDA发布的AI临时限值要求和国家药典委员会发布的限值要求。
杭州科晓:iCAP 7400 DUO在工业氢氟酸中杂质元素的分析
本文采用赛默飞世尔iCAP 7400DUO ICP-OES分析了38.52%工业 无水氢氟酸和33.08%工业粗制氢氟酸,分析结果表明除As 和K以 外的其他元素可以直接上机或者稀释后测试,2种上机溶液结果 偏差不大,而As需要稀释5倍以上才能确保结果的准确性,鉴于 iCAP7400 DUO测试的高效、简单、快捷,数据准确、稳定、灵 敏,它是分析工业氢氟酸中金属杂质元素的首选分析仪器。
GC-MS/MS测定药品中基因毒性杂质3,4-二氯苯胺
世界各国的法规机构如EMA、ICH、FDA等都对基因毒性杂质做了明确的规定和要求。目前基因毒性列表中有1574种致癌物质。药品制备工艺中往往会存在溶剂残留问题。而这些残留的溶剂中有许多是基因毒性杂质。由于药品基质复杂,干扰大,因此采用GC-MS/MS中MRM(多反应监测)方式可以有效排除基质干扰,提高仪器的选择性和灵敏度。能够有效的监控药品中 3,4-二氯苯胺的残留量。
离子阱飞行时间串联质谱定性分析玉米赤霉醇及杂质
本文在研究α‐玉米赤霉醇(α‐zearalanol)标准物质时,采用高效液相色谱/离子阱-飞行时间/串联质谱仪(HPLC‐IT‐TOF MS)对其中杂质进行定性鉴定。高效液相色谱/离子阱-飞行时间/串联质谱仪是将高效液相色谱和离子阱质谱仪(IONS TRAP)以及飞行时间质谱仪(TOF MS)串联起来,使其在准确质量数和灵敏度方面较之其它多级质谱有较大提高,仪器具备高分辨率性能,能够准确提供分子和碎片离子的结构信息。由HPLC‐IT‐TOF MS 得到杂质的多级谱,对碎片裂解规律进行了探索,利用TOF较高的质量准确度,推测了杂质的可能结构,并用标准品对方法进行验证,结果表明,高效液相色谱/离子阱-飞行时间/串联质谱方法对杂质定性分析是很有效的。
使用 Agilent 5110 ICP-OES 对石墨类负极材料中的 18 种杂质元素进行快速测定
本文介绍了一种使用 Agilent 5110 电感耦合等离子体发射光谱仪 (ICP-OES) 分析石墨类负极材料中多种杂质元素的方法,并对该方法进行了系统验证。该方法的加标回收率在 90%–110% 之间,且 2.5 h 稳定性实验结果的相对标准偏差 (RSD) 小于 1.5%,证明该方法具有良好的准确度和稳定性,适用于对多品牌、多批次石墨类负极材料中的杂质元素进行分析。
NexION 300S ICP-MS测定半导体级TMAH中的杂质
四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种广泛用于半导体光刻工艺和液晶显示器(LCD)生产中形成酸性光阻的基本溶剂。由于其在此类高要求应用中的广泛使用,使得对TMAH纯度的检测变得越来越重要。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力,电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)已成为了质量控制不可缺少的分析工具。然而,解决由基体带来的多原子干扰和由于含有碳造成的基体抑制效应是非常重要的。在直接分析有机溶剂时这些问题就显得尤为突出。本应用报告证明了NexION® 300S ICP-MS去除干扰,从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够对TMAH中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。
LCMS-2050同时测定药品中5种芳基磺酸酯类遗传毒性杂质
本文建立了一种使用岛津高效液相色谱质谱联用仪LCMS-2050检测药品中5种芳基磺酸酯遗传毒性杂质含量的新方法。在5~500 μg/L浓度范围内,5种芳基磺酸酯遗传毒性杂质相关系数均大于0.994。在药品中添加三个浓度的混合标准溶液,各组分回收率在110.5~115.3%之间。此方法前处理简单、特异性好、灵敏度高,可为药品中5种芳基磺酸酯遗传毒性杂质含量测定提供参考。
岛津LCMS-8050同时检测遗传毒性杂质NDMA_NDEA和NMBA
本文使用岛津超快速液相色谱串联质谱系统LCMS-8050建立了亚硝胺类遗传毒性杂质NDMA_NDEA和NMBA同时测定方法。NDMA和NDEA采用内标法定量,NMBA采用外标法定量。定量限分别为0.079 ppm、0.0147 ppm、0.0178 ppm,满足限量标准要求。本方法线性范围宽、重复性好、准确度高、前处理简单,适合用于三种亚硝胺类遗传毒性杂质的同时定量检测。
使用 Agilent 5110 ICP-OES 对碳酸锂中的 14 种杂质元素进行快速测定
本文介绍了一种使用 Agilent 5110 电感耦合等离子体发射光谱仪 (ICP-OES) 分析锂原材料碳酸锂中多种杂质元素的方法,并对该方法进行了系统验证。结果显示,该方法的加标回收率均在 94%–104% 之间,且 2.5 h 稳定性实验结果的相对标准偏差 (RSD) 小于 2%,证明该方法具有良好的准确度和稳定性,适用于对多品牌、多批次碳酸锂中的杂质元素进行分析。
准确快速测定高纯氮气中的杂质含量
摘要: 简介了基于中心切割和脱氧法的HE50 型DID 氦离子化放电色谱仪的工作原理和工作条件等参数。武钢氧气公司从实际生产出发, 对色谱仪的气路流程进行了改进, 经过分析试验,建立了一套完整的分析方法。对高纯氮气中杂质含量的测量结果显示, 该分析方法可以满足生产需要, 从而达到准确、快速测量高纯氮气中杂质含量的目的。
NexION 300S ICP-MS测定半导体级硝酸中的杂质
任何金属杂质的存在都将对IC器件的可靠性产生不利影响。在半导体实验室进行其他半导体材料分析时也常常会使用硝酸,因此使用的硝酸需要具有高纯度和高质量。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力,电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)已成为了质量控制不可缺少的分析工具。然而,在传统的等离子体条件下,往往存在氩离子与基质成分结合产生多原子干扰的情况。使用多极和非反应气体的碰撞池已被证明可以有效减少多原子干扰。但是这种方法必须使用动能歧视去除反应产生的副产物,这将会造成灵敏度的下降。NexION 300 ICP-MS配置的通用池技术同时提供了碰撞模式、反应模式和标准模式三种测定模式,因此仪器操作人员可以根据实际测定的要求选择最适合的模式,并能在一个分析方法中进行不同模式的切换。本应用报告证明了NexION 300ICP-MS去除干扰,从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够对HNO3中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。这一实验在一次测定中同时使用标准模式和反应模式可以得到最好的分析结果。
赛默飞推出液相色谱质谱法测定甲磺酸伊马替尼片中杂质F含量的解决方案
按照EP 的方法规定,对甲磺酸伊马替尼片中杂质F 进行了测定,各项分析结果表明该实验完全满足规定要求,可以使用该套设备进行基因毒物杂质F 的分析。
MALDI-8020快速检测寡核苷酸药物的分子量及杂质
MALDI-TOF质谱技术具有前处理简单、分析速度快、分析质量范围宽、图谱简单易解析等优点,本文介绍了应用岛津台式基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱MALDI-8020快速检测寡核苷酸药物的分子量及杂质的案例,该方法除直接测定样品精确分子量外,还可对可能含有的杂质情况进行监测。
赛里安提供用气相色谱法和有效碳数测定单环芳烃中痕量杂质的标准试验方法(ASTM D7504)
SCION(赛里安)提供了通过气相色谱法和有效碳数法测定单环芳烃中微量杂质的解决方案。生产后的产品可能含有杂质。ASTM D7504描述了苯、甲苯、乙苯、对二甲苯、邻二甲苯、间二甲苯和苯乙烯中总非芳香烃、单环芳香烃的测定。这种方法同时可以计算出这些成分的纯度。本应用适用于SCION(赛里安) 4X6和8X00 GC平台。
使用UPC2/MS进行杂质分析
ACQUITY UPC2系统联用MS为杂质分析提供了一个全面的解决方案UPC2/MS可为杂质F工作标准品的稀释剂选择提供指导,并可相应调整工作标准溶液的保质期。另外,通过杂质F的稳定性研究可深入了解药物样品中可能存在的其它潜在杂质。采用UPC2/MS系统增加了药物质量方面的知识储备,可改善实现分析目标的方法学步骤。
X射线荧光光谱法测定硅石中杂质元素
本文利用岛津XRF-1800波长色散X射线荧光光谱仪,采用玻璃熔片制样方法,测定了硅石中主要杂质元素。结果表明,Fe2O3、Al2O3、CaO、K2O、Na2O、MnO、TiO2等主要杂质元素标准曲线线性良好,相关系数r均在0.99以上。平行10次测定各组分RSD在10.0%以下,满足工业硅生产对硅石主要杂质成分的检测要求。
多中心切割二维液相色谱在杂质分析方法开发中的应用——Agilent 1290 Infinity 二维液相色谱解决方案
在药物和精细化学品的开发和生产过程中,杂质分析非常重要。本应用简报表明多中心切割二维液相色谱非常适用于药物和精细化学品杂质分析的方法开发。使用 Agilent 1290 Infinity 二维液相色谱解决方案,经第一维分离后所检测到的每一个峰都被中心切割并转移到具有不同选择性的第二维进行进一步分离。此方法能发现可能存在的共洗脱化合物。此外,通过向样品添加疑似杂质还可确证对杂质的鉴别。
多中心切割二维液相色谱在杂质 分析方法开发中的应用--Agilent 1290 Infinity 二维液相色谱解决方案
在药物和精细化学品的开发和生产过程中,杂质分析非常重要。本应用简报表明多中心切割二维液相色谱非常适用于药物和精细化学品杂质分析的方法开发。使用 Agilent 1290 Infinity 二维液相色谱解决方案,经第一维分离后所检测到的每一个峰都被中心切割并转移到具有不同选择性的第二维进行进一步分离。此方法能发现可能存在的共洗脱化合物。此外,通过向样品添加疑似杂质还可确证对杂质的鉴别。
岛津GCMS&LCMS检测药品中基因毒性杂质(微量环氧氯丙烷、水合肼、硫酸烷基酯类等)整体解决方案
对药物杂质水平的控制是药物研发和生产的重要环节,其中基因毒性杂质的控制是当前杂质控制的热点。以缬沙坦为例,2019年2月FDA更新了ARBs中亚硝胺杂质可接受摄入量(AI)临时限值表。2019年1月,国家药典委员会发布《关于缬沙坦国家标准修订稿的公示(第二次)》,给出了NDMA和NDEA的GCMS检测方法和限度值。药品中基因毒性杂质检测在灵敏度、选择性、待测物稳定性、基质复杂性等方面具有特殊性和挑战性。岛津公司三重四极杆型气相色谱质谱联用仪GCMS-TQ8050 NX,其MRM采集模式完美解决药品基质复杂问题,完全满足FDA发布的AI临时限值要求和国家药典委员会发布的限值要求。
岛津GCMS&LCMS检测药品中基因毒性杂质(磺酸酯类)整体解决方案
对药物杂质水平的控制是药物研发和生产的重要环节,其中基因毒性杂质的控制是当前杂质控制的热点。以缬沙坦为例,2019年2月FDA更新了ARBs中亚硝胺杂质可接受摄入量(AI)临时限值表。2019年1月,国家药典委员会发布《关于缬沙坦国家标准修订稿的公示(第二次)》,给出了NDMA和NDEA的GCMS检测方法和限度值。药品中基因毒性杂质检测在灵敏度、选择性、待测物稳定性、基质复杂性等方面具有特殊性和挑战性。岛津公司三重四极杆型气相色谱质谱联用仪GCMS-TQ8050 NX,其MRM采集模式完美解决药品基质复杂问题,完全满足FDA发布的AI临时限值要求和国家药典委员会发布的限值要求。
岛津LC-MS/MS法测定甲磺酸伊马替尼中杂质F含量
根据FDA颁布的基因毒性杂质限度指导原则,不高于1.5 μ g/Day的毒性阈值水平的杂质摄入量被认为是可接受的风险。参考甲磺酸伊马替尼每日最高800 mg给药剂量,计算出本品中杂质F的含量应在1.875 ng/mg以下。本方法中杂质F的方法检出限为0.093 ng/mg,定量限为0.281 ng/mg;因此,可对甲磺酸伊马替尼中杂质F进行高灵敏、准确测定。
原子发射光谱法测定高纯镍粉中杂质元素含量
高纯镍粉中杂质含量是其质量控制的重点项目之一,本文研究建立了一种快速准确的高纯镍粉中杂质含量分析测试方法。采用王水溶解样品,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定了高纯镍粉中杂质元素Mg、Ca、Fe、Cu 含量。实验确定了以285.213 nm、393.366 nm、259.939 nm、324.752 nm 分别作为Mg、Ca、Fe、Cu 的分析谱线,并对仪器工作条件进行了优化。优化得到最佳仪器工作条件为:射频功率1100 W、雾化气流速0.8 L/min 和观测高度15 mm。实验结果表明:镍基体对待测元素的影响可通过基体匹配的方法克服,各元素的校准曲线线性相关系数均不小于0.999,方法中各元素的检出限为0.0002%~0.0011%。方法应用于镍粉样品中杂质元素含量的测定,结果的相对标准偏差(RSD,n=4)在1.1%~5.7%之间,且测定结果与样品质保书中测定结果相符。
LCMS-9030检测缬沙坦原料药中六种亚硝胺类杂质
本文利用岛津LCMS-9030四极杆飞行时间液质联用系统建立了缬沙坦原料药中六种亚硝胺类遗传毒性杂质NDMA、NMBA、NDEA、NDIPA、NEIPA和NDBA的分析方法。该方法采用外标法定量,六种亚硝胺类杂质线性相关系数均大于0.999;六种亚硝胺类化合物定量限(LOQ)在0.004~0.045 ppm之间;低中高浓度混合标准工作溶液重复性保留时间RSD%为0.05~0.57%,峰面积RSD%为0.70~8.48%;方法回收率在82.6~107.5%之间。方法准确可靠,可用于实际样品的检测。实验结果表明,该方法能快速准确地测定缬沙坦原料药中六种亚硝胺类遗传毒性杂质。
PerkinElmer:NexION 300S ICP-MS测定半导体级硝酸中的杂质Be
任何金属杂质的存在都将对IC器件的可靠性产生不利影响。在半导体实验室进行其他半导体材料分析时也常常会使用硝酸,因此使用的硝酸需要具有高纯度和高质量。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力,电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)已成为了质量控制不可缺少的分析工具。然而,在传统的等离子体条件下,往往存在氩离子与基质成分结合产生多原子干扰的情况。使用多极和非反应气体的碰撞池已被证明可以有效减少多原子干扰。但是这种方法必须使用动能歧视去除反应产生的副产物,这将会造成灵敏度的下降。NexION 300 ICP-MS配置的通用池技术同时提供了碰撞模式、反应模式和标准模式三种测定模式,因此仪器操作人员可以根据实际测定的要求选择最适合的模式,并能在一个分析方法中进行不同模式的切换。本应用报告证明了NexION 300ICP-MS去除干扰,从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够对HNO3中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。这一实验在一次测定中同时使用标准模式和反应模式可以得到最好的分析结果。
PerkinElmer:NexION 300S ICP-MS测定半导体级硝酸中的杂质Na
任何金属杂质的存在都将对IC器件的可靠性产生不利影响。在半导体实验室进行其他半导体材料分析时也常常会使用硝酸,因此使用的硝酸需要具有高纯度和高质量。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力,电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)已成为了质量控制不可缺少的分析工具。然而,在传统的等离子体条件下,往往存在氩离子与基质成分结合产生多原子干扰的情况。使用多极和非反应气体的碰撞池已被证明可以有效减少多原子干扰。但是这种方法必须使用动能歧视去除反应产生的副产物,这将会造成灵敏度的下降。NexION 300 ICP-MS配置的通用池技术同时提供了碰撞模式、反应模式和标准模式三种测定模式,因此仪器操作人员可以根据实际测定的要求选择最适合的模式,并能在一个分析方法中进行不同模式的切换。本应用报告证明了NexION 300ICP-MS去除干扰,从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够对HNO3中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。这一实验在一次测定中同时使用标准模式和反应模式可以得到最好的分析结果。
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