那莫西地那非标准品

Thermo Scientific Spinnaker机械臂 --配备整合式条形码成像系统的微孔板移动器 独特的可视化能力Thermo Scientific™ Spinnaker™ 机械臂是具备整合式视觉辅助校准和条形码读取能力的唯一SCARA 型（平面关节型机械臂）实验室自动化机械臂。此机械臂可及时发现导致样本和循环时间丢失的问题，防止它们成为严重问题。配合 Thermo Scientific Momentum™ 4.0 工作流和计划软件使用时，可提供前所未有的整合式解决方案，显著简化自动化科学流程的设计、设置和执行。 简单、快速设置利用其内建可视化系统和专业校准夹具（所有Spinnaker 移动器标配），快速和轻松地校准位置。也可配备可视化系统，并执行地点验证程序，以便在运行前检查所有嵌套位置，并自动纠正较小的位置差异（位置修复）。Spinnaker的整合式摄像头还可作为条形码读取器，用于自动确认样本 ID 并执行机械臂样本跟踪。 特点变身——可组成圆周式或轨道式自动化平台圆周式特点：设计紧凑，所占空间少。通过专门的支架，多个外周仪器可以叠放。轨道式特点：通过轨道极大的拓展了外周设备整合的空间，可以放置更多的设备，组成复杂的实验流程。圆周与轨道自由切换。 红外扫描——机械臂内建成像功能(市场唯一)手臂抓板的同时即时扫描条码，一气呵成，既缩短了处理时间，又避免错误的发生。 智能定位——实景辅助定位技术(市场首创)通过手臂内建的成像功能，结合专门设计的智能定位工具(SMART Jig)，一键扫描，自动完成机械臂定位，无需设置复杂的位置参数。更有智能定位校正(Healing)功能，在开始流程之前，自动对外周设备的位置进行校准，确保实验的万无一失。 聪明的大脑——简单易用而用功能强大的Momentum4.0软件功能强大的时间调度管理功能，自动计算优化的任务分配，统一调度多设备协同工作，实现平台的最高效率运行。 稳定的流程，稳定的实验结果，解放工作人员的双手及大脑，符合 FDA 21 CFR Part 11 标准规定，确保了自动化操作的可记录性、有效性和可靠性。

在科研中，很多用户需要用到光栅或点阵这些周期性的结构。有时用户不需要研究微纳米加工工艺，这样如果能花费低廉的价格买到这些成品将十分方便，只要接着从事后续的工作就可以了；有的用户自已拥有微纳米加工设备及经验，但纳米量级的尺寸要采用电子束曝光的方法来进行光刻，若有效面积超过1平方厘米，占机时间会很长，并需要调整电子束光刻及干法刻蚀工艺来优化成品。 鉴于此，我们向用户提供光栅及点阵的纳米结构成品。衬底材料为硅单晶，可广泛应用于各类科学研究。 产品类型： 标准模板一 ○ 光栅纳米结构模板 (线条+间距)○ 二维纳米模板（矩形或六边形）标准模板二 ○ 光栅结构○ 柱状点阵模板○ 孔阵模板2x2cm2模板四英寸模板六英寸模板标准模板一 我们可提供纳米级微结构，衬底材料为硅单晶，广泛应用于科学研究。批量生产，质量有保证，且性价比高。 产品精度： 线宽/深度：±15%周期精度：优于0.5%衬底宽度和高度误差：± 0.2 mm衬底厚度：0.675 ± 0.050 mm 具体规格如下表所示： 光栅纳米结构模板 (线条+间距) Linear Nanostamps (line+space) 序号周期沟槽深度占空比 ①线宽 ②样片尺寸③1139 nm50 nm50%69.5 nm12.5×12.5×0.7 mm2139 nm50 nm50%69.5 nm25×25×0.7 mm ⑤3278 nm④110 nm50%139 nm12.5×12.5×0.7 mm4416.6 nm110 nm50%208 nm12.5×12.5×0.7 mm5500 nmmultiple ⑥44%220 nm8×8.3×0.7 mm6500 nmmultiple ⑥60%300 nm8×8.3×0.7 mm7555.5 nm110 nm50%278 nm20×9×0.7 mm8555.5 nm140 nm50%278 nm20×9×0.7 mm9555.5 nm110 nm29%158 nm20×9×0.7 mm10555.5 nm140 nm29%158 nm20×9×0.7 mm11600 nmmultiple ⑥43%260 nm8×8.3×0.7 mm12600 nmmultiple ⑥55%330 nm8×8.3×0.7 mm13606 nm190 nm50%303 nm29×12×0.7 mm14606 nm④190 nm50%303 nm29×12×0.7 mm15606 nm190 nm50%303 nm29×24.2×0.7 mm ⑤16675 nm170 nm32%218 nm24×10×0.7 mm17675 nm170 nm32%218 nm24×30.4×0.7 mm ⑤18700 nmmultiple ⑥47%330 nm8×8.3×0.7 mm19700 nmmultiple ⑥55%375 nm8×8.3×0.7 mm20833.3 nm200 nm50%416 nm12.5×12.5×0.7 mm21833.3 nm200 nm50%416 nm25×25×0.7 mm ⑤ ①占空比表示线宽和周期的比率。③第二个尺寸相当于沟槽的长度。④scientific" grade offered at a discount. It has at least 80% of usable area. Up to 80/100 scratch/dig/particles and irregular substrate shape may present.⑤可定做更大尺寸⑥深度可做成150, 250 和 350 nm。 二维纳米模板（矩形或六边形）2D nanostamps (rectangular and hexagonal lattice) 序号周期晶格类型沟槽深度特征宽度衬底尺寸1500 nmrect postmultiple ①135 nm8×8.3×0.7 mm2500 nmrect postmultiple ①210 nm8×8.3×0.7mm3600 nmrect postmultiple ①195 nm8×8.3×0.7mm4600 nmrect postmultiple ①275 nm8×8.3×0.7mm5700 nmrect postmultiple ①260 nm8×8.3×0.7mm6700 nmrect postmultiple ①350 nm8×8.3×0.7mm7500 nmhex postmultiple ①165 nm8×8.3×0.7mm8600 nmhex postmultiple ①165 nm8×8.3×0.7mm9600 nmhex postmultiple ①240 nm8×8.3×0.7mm10700 nmhex postmultiple ①220 nm8×8.3×0.7mm11700 nmhex postmultiple ①290 nm8×8.3×0.7mm12600 nmhex holemultiple ①180 nm8×8.3×0.7mm13700 nmhex holemultiple ①200 nm8×8.3×0.7mm14700 nmhex holemultiple ①290 nm8×8.3×0.7mm ①深度可做成150, 250 和 350 nm rect post:hex post：hex hole：标准模板二 我们可提供纳米级微结构，衬底材料为硅单晶，广泛应用于科学研究。批量生产，质量有保证，且性价比高。产品精度：直径±10%线宽±10%高度/深度±15%产品说明：硅片厚度：0.5mm（特殊情况另标注）模板尺寸：产品规格+/-0.2mm缺陷面积：1% 具体规格如下表所示： 光栅结构（周期，线宽，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 10Line gratingPeriod: 70 nmWidth: 25 nmor 35 nmHeight: 32nmor 40 nmArea: 4x 0.5 x 1.2 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 2Line gratingPeriod: 300 nmWidth: 170 nmHeight: 210 nmArea: 30 x 30 mm2Substrate: Si 30 x 30 mm2Pattern 23Line arryPeriod: 150 nmWidth: 75 nmHeight: 116 nmArea:25 x25 mm2Substrate:Si 30 x 30 mm2 柱状点阵模板（周期，柱直径，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 1Square pillar arrayPeriod: 300 nmDiameter: 145 nmHeight: 170 nmArea: 14 x 14 mm2Substrate: Si 14 x 14 mm2Pattern 6High-resolution pillar arrayPeriod: 35 nmand 42 nmDiameter: 15 - 20 nmHeight: 25nmArea: each period 25x25 um2Substrate: Si 12.5 x 12.5 mm2Pattern 3Hexagonal pillar arrayPeriod: 600 nmDiameter: 300 nmHeight: 310 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 15Hexagonal pillar arrayPeriod: 750 nmDiameter: 325 nmHeight: 260 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 7Hexagonal pillar arrayPeriod: 1000 nmDiameter: 400 nmHeight: 280 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 26 x 26 mm2Pattern 17Hexagonal pillar arrayPeriod: 1010 nmDiameter: 470 nmHeight: 750 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (0.7mm) 25 x 25 mm2Pattern 20Hexagonal pillar arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1800 nmHeight: 1200 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2 孔阵模板（周期，孔直径，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 11Square hole arrayPeriod: 90 nmDiameter: 45 nmHeight: 50 nmArea: 4x 0.6 x 0.6 mm2Chip size: 15 x 15 mm2Pattern 13Square hole arrayPeriod: 300 nmDiameter: 150 nmHeight: 300 nmArea: 4 x 4 mm2Chip size: 15 x 15 mm2Substrate: Quartz (2.3 mm thick)Pattern 24Square hole arrayPeriod: 350 nmDiameter: 225 nmHeight: 300 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 4Hexagonal hole arrayPeriod: 600 nmDiameter: 300 nmHeight: 50 nm, 450 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 5Hexagonal hole arrayPeriod: 600 nmDiameter: 400 nmHeight: 680 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 14Hole array on Rhombic latticePeriod:* x=610nm, y=425nmDiameter: 150 nmHeight: 300 nmArea: 20 x 20 mm2Chip size: Si 24 x 24 mm2* center-to-center distance in x and yPattern 16Hexagonal hole arrayPeriod: 750 nmDiameter: 380 nmHeight: 420 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 18Hexagonal hole arrayPeriod: 1010 nmDiameter: 490 nmHeight: 470 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (1mm) 25 x 25 mm2Pattern 19Hexagonal hole arrayPeriod: 1500 nmDiameter: 780 nmHeight: 550 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (1mm) 25 x 25 mm2Pattern 21Hexagonal hole arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1500 nmHeight: 850 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 22Hexagonal hole arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1200 nmHeight: 1500 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm22x2cm2标准纳米压印模板 我们提供电子束光刻方法制备的硅模板，衬底尺寸为20x20mm2。图形分辨率高，有效区域为5x5mm2。批量生产，质量有保证，且性价比高。产品精度： 标准高度：100nm直径： ±10%线宽： ±10%缺陷面积： 1% 具体规格如下表所示： 孔阵（矩形孔阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P100s_h_5w5100nm5x5mm250nm/ 100nm2P150s_h_5w5150nm5x5mm260nm/ 100nm3P200s_h_5w5200nm5x5mm270nm/ 100nm 孔阵（六边形孔阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P200h_h_5w5200nm5x5mm280nm/ 100nm2P300h_h_5w5300nm5x5mm2125nm/ 100nm3P400h_h_5w5400nm5x5mm2150nm/ 100nm 柱状点阵（矩形柱状点阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P100s_p_5w5100nm5x5mm250nm/ 100nm2P150s_p_5w5150nm5x5mm260nm/ 100nm3P200s_p_5w5200nm5x5mm280nm/ 100nm 柱状点阵（六边形柱状点阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P200h_p_5w5200nm5x5mm270nm/ 100nm2P300h_p_5w5300nm5x5mm2110nm/ 100nm3P400h_p_5w5400nm5x5mm2120nm/ 100nm 大面积四英寸模板我们提供四英寸硅或石英模板，可用于压印工艺。批量生产制作，质量有保证且性价比高。 产品精度: 高度/深度：±15%直径：±10%线宽：±10%缺陷面积：1% 具体规格如下表所示： Holes on Hexagonal Lattice（六边形孔阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image1P520h_h_20w20520 nm260nm20x20 mm2450 nm/200 nm2P600h_h_46w46600 nm300nm46x46 mm2450 nm/200 nm3P600h_h_100d600 nm300nm4-inch450 nm/200 nm4P750h_h_51w51750 nm350nm51x51 mm2450 nm/200 nm5P780h_h_20w20780 nm350nm20x20 mm2450 nm/200 nm6P1000h_h_20w201000 nm400nm20x20 mm2600 nm/300 nm7P1000h_h_51w511000 nm300nm~500nm51x51 mm2600 nm/300 nm8P1500h_h_20w201500 nm400nm~650nm20x20 mm2600 nm/300 nm9P1500h_h_51w511500 nm400nm~650nm51x51 mm2600 nm/300 nm10P3000h_h_100d3000 nm600nm~1400nm4-inch1000 nm/400 nm Holes on Square Lattice（矩形孔阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image11P350s_h_20w20350 nm250nm20x20 mm2300 nm/150 nm12P350s_h_100d350 nm250nm100dia300 nm/150 nm Pillars on Hexagonal Lattice（六边形柱状） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image13P600h_p_46w46600 nm300nm46x46 mm2450 nm/200 nm14P600h_p_100d600 nm300nm4-inch450 nm/200 nm15P750h_p_51w51750 nm350nm51x51 mm2450 nm/200 nm16P780h_p_20w20780 nm350nm20x20 mm2450 nm/200 nm17P1000h_p_20w201000 nm400nm20x20 mm2600 nm/300 nm18P1000h_p_51w511000 nm300nm~500nm51x51 mm2600 nm/300 nm19P1500h_p_20w201500 nm400nm~650nm20x20 mm2600 nm/300 nm20P1500h_p_51w511500 nm400nm~650nm51x51 mm2600 nm/300 nm21P3000h_p_100d3000 nm600nm~1400nm4-inch1000 nm/400 nm Pillars on Square Lattice（矩形柱状点阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image22P150s_p_30w30150 nm75nm30x30 mm275 nm/ —23P250s_p_30w30250 nm110nm30x30 mm2200 nm/100 nm24P300s_p_30w30300 nm130nm30x30 mm2200 nm/100 nm25P400s_p_30w31400nm250nm30x30 mm3200 nm/100 nm26P500s_p_30w30500 nm250nm30x30 mm2450 nm/200 nm Linear Gratings（光栅结构） Part NoProductPeriodWidthAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image27P150L_p_30w30150nm70nm30x30 mm275 nm/ —28P250L_p_30w30250nm110nm30x30 mm2200 nm/100 nm29P300L_p_30w30300nm130nm30x30 mm2200 nm/100 nm30P400L_p_30w30400nm200nm30x30 mm2200 nm/100 nm31P500L_p_30w30500nm250nm30x30 mm2450 nm/200 nm Multi-pattern（复合结构） Part NoProductDescriptionDiameterPeriodAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)32MHSL_400-800Linear, hexagonal, square array combination，Periods: 400-800nmpitch dependentho, les/lineseach period，7.5mm x 7.5mm400 nm/150 nm33MP250L300Multi-period linear grating combination 1， Periods: 250nm, 275nm, 300nmLinewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300lineseach period，7mm x 7mm200 nm/100 nm34MP300L600Multi-period linear grating combination 2，Periods: 300nm, 400nm, 500nm, 600nmLinewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300lineseach period，10mm x 10mm300 nm/150 nm

DNA合成仪是一种设计用于合成结构上类似DNA或RNA的寡核苷酸的自动化仪器。其应用广泛，涉及生命科学实验、生物技术、生物医药、基因治疗等多个领域。以下是关于DNA合成仪应用的详细介绍：1. 实验室研究： - DNA合成仪在生物实验室中发挥着重要作用，特别是在基因合成、基因诊断、试剂盒制备等方面。 - 它可用于合成特定的DNA片段，为研究人员提供实验所需的材料，推动生命科学研究的深入。2. 生物医药与基因治疗： - DNA合成仪在生物医药和基因治疗领域的应用日益广泛。 - 随着生物医药和基因治疗行业的发展，对于DNA合成仪的需求也在不断增长。 - 例如，DNA合成仪可用于制备生物医药原料药，以及进行基因编辑、基因修复等基因治疗相关研究。3. 工业生产： - 工业型DNA合成仪合成通量较大，适用于大型生物实验室和商业机构。 - 它可进行规模化量产，满足生物医药行业对DNA合成的大规模需求。4. 市场需求与增长： - 随着我国生命科学技术研究的不断深入和生物医药、基因治疗等行业规模的扩大，市场对DNA合成仪的需求不断增长。 - 据统计，2011-2020年，我国DNA合成仪市场规模年均复合增长率为12.4%，呈现快速上升态势。 - 预计未来，随着基因治疗和生物医药行业的快速发展，我国DNA合成仪市场需求将继续保持快速增长态势。5. 技术特点： - DNA合成仪采用固相合成法，通过自动化操作将核苷酸逐个添加到寡核苷酸链上。 - 它使用磷酸酰胺法等方法进行DNA合成，具有高效、准确、可靠的特点。 - 一些先进的DNA合成仪还具有更多试剂选择、更高合成自由度、自动优化带修饰的化学合成步骤等特性，适用于更多非标准碱基和分子修饰的合成需求。综上所述，DNA合成仪在生命科学实验、生物技术、生物医药、基因治疗等领域具有广泛的应用前景和市场需求。随着技术的不断进步和行业的快速发展，DNA合成仪将在更多领域发挥重要作用。

新型Dx Oligo48合成仪Biolytic Lab Performance的Dx Oligo 48一直是业界应用广发的中通量DNA/RNA引物合成仪，Dx Oligo48可配置42种试剂瓶位( 4个单体，6个标准合成试剂和32个特殊单体)，将大幅度提高仪器的使用自由度。25年来，Dx Oligo合成仪被世界各地实验室广泛应用。 我们的许多客户专注于各种病毒，疾病的诊断和治疗等应用，其中DNA和RNA是关键部分。 这些应用包括基因合成，基因诊断，试剂盒， PCR / RT-PCR，siRNA，RNAi，miRNA，CRISPR Cas9，DNA / RNA测序，涉及进化史，法医学，免疫疗法，诊断和治疗研究，用于高通量筛选，修饰引物，混合主链，LNA以及在用DNA引物进行RT-LAMP扩增后目视检测病毒RNA（例如COVID-19）。全新的Dx Oligo 48的特殊单体瓶位可以达到32个，可单次合成长度更长，更复杂的序列。全新的Dx Oligo 48适用于DNA, RNA, LNA,2-'Omethyl RNA等各种其他引物合成。产品特点 1) 一台全新的转盘式DNA/RNA合成仪，全新的造型，全新的布局以及全新的控制体系2) 独立抽废系统，可实现同一合成轮次中4个Bank分别独立运行一个程序3) 全新的侧面排废顶针设计，实现多等级压力的正压抽废功能4) 更小的合成腔体空间，让抽废更可控，更省气5) 全新的气动系统，实现自动化开合上盖以及夹紧盖板6) 基于Win10系统的全新操作软件，可实现灵活的个性化操作与设置7) 可有效实现DNA、RNA同时合成或者多达32种修饰同时合成8) 更灵活多样的软件功能设置，让您灵活设置不同抽废强度以及不同抽废时长9) 更人性化合理化的细节设计，让您更安全高效的完成生产10)按需求对应分配气体，专气专用从而实现成本利用高效化全密闭合成舱室： Dx Oligo 48设计了全密度的合成仓室，合成过程全程惰性气压保护，不受外界环境干扰，大大提高合成效率。 更多试剂选择及更灵活的合成设计： 全新的Dx Oligo 48给需要更多试剂选择和更高合成自由度的用户提供可能性。全新的Dx Oligo 48现在可以自动优化带有的修饰的化学合成步骤，从而可以包含更多非标准碱基和分子修饰。该仪器可适用于许多开发和筛选新型诊断和治疗工具的生物制药用户， 因为该行业主要在非标准基础上工作。订制配置： Dx Oligo合成仪为用户提供多种配置。我们旨在提供适合您独特需求的产品。可根据您的实验需求提供高度可定制的试剂配置。您可以按照自己的方式配置仪器，可配置多至42种试剂瓶位( 4个单体，6个标准合成试剂和32个特殊单体)。我们很高兴与您合作，为您量身配置并安装仪器，以满足您的特定要求。直观的软件：Oligo 48已经安装了全新的高自由度软件。 借助我们新特制的Biolytic控制板，操作员可以使用直观的用户界面来重新设定试剂。我们允许用户根据碱基不同使用多种辅助试剂类型，不同碱基之间可以自由切换不同辅助试剂。我们还根据客户反馈，将不同碱基的氧化和盖帽顺序做到了自由切换。我们的软件做到了前所未有的自由度，可以满足您的一切工艺需求和研发需要，做到高度的自动化和自由度。 安全与加密 全新的Biolytic控制板提供了安全性和加密功能，可保持内部通信并增加系统稳定运行时间。 主要参数&bull 单次合成通量：1 – 48柱&bull 单柱合成规模：5 nmol 至 5 umol*&bull 合成类型：DNA，RNA，LNA，2'-修饰RNA， DNA和RNA混合链等&bull 气流控制：多级别正压&bull 特殊试剂输送系统：标准6个，可升级至 32 个&bull 标准单体输送系统：10（A、C、T、G、6 种标准试剂）&bull 试剂喷嘴数：标准辅助试剂2个，清洗试剂4 个&bull 工作尺寸（长 X 宽 X 高）：27.25" x 22.50" x 34.69" （基本配置的近似测量值）&bull 紧凑尺寸（长 X 宽 X 高）：27.25" x 22.50" x 25.69" （基本配置的近似测量值）&bull 气体输入：1） 瓶压 2） 吹扫/排空和气动&bull 供气压力： 90-120 PSI&bull 用户控制：配备全新 Windows 操作系统的专业控制软件&bull 电压：100-240 VAC, 50-60 Hz, 1,000 VA

新型Dr.Oligo 48合成仪Biolytic Lab Performance的Dr. Oligo 48一直是业界应用广发的中通量DNA/RNA引物合成仪，Dr.Oligo48可配置42种试剂瓶位( 4个单体，6个标准合成试剂和32个特殊单体)，将大幅度提高仪器的使用自由度。25年来，Dr. Oligo合成仪被世界各地实验室广泛应用。 我们的许多客户专注于各种病毒，疾病的诊断和治疗等应用，其中DNA和RNA是关键部分。 这些应用包括基因合成，基因诊断，试剂盒， PCR / RT-PCR，siRNA，RNAi，miRNA，CRISPR Cas9，DNA / RNA测序，涉及进化史，法医学，免疫疗法，诊断和治疗研究，用于高通量筛选，修饰引物，混合主链，LNA以及在用DNA引物进行RT-LAMP扩增后目视检测病毒RNA（例如COVID-19）。全新的Dr. Oligo 48的特殊单体瓶位可以达到32个，可单次合成长度更长，更复杂的序列。全新的Dr. Oligo 48适用于DNA, RNA, LNA,2-'Omethyl RNA等各种其他引物合成。产品特点 1) 一台全新的转盘式DNA/RNA合成仪，全新的造型，全新的布局以及全新的控制体系2) 独立抽废系统，可实现同一合成轮次中4个Bank分别独立运行一个程序3) 全新的侧面排废顶针设计，实现多等级压力的正压抽废功能4) 更小的合成腔体空间，让抽废更可控，更省气5) 全新的气动系统，实现自动化开合上盖以及夹紧盖板6) 基于Win10系统的全新操作软件，可实现灵活的个性化操作与设置7) 可有效实现DNA、RNA同时合成或者多达32种修饰同时合成8) 更灵活多样的软件功能设置，让您灵活设置不同抽废强度以及不同抽废时长9) 更人性化合理化的细节设计，让您更安全高效的完成生产10)按需求对应分配气体，专气专用从而实现成本利用高效化全密闭合成舱室： Dr. Oligo 48设计了全密度的合成仓室，合成过程全程惰性气压保护，不受外界环境干扰，大大提高合成效率。 更多试剂选择及更灵活的合成设计： 全新的Dr. Oligo 48给需要更多试剂选择和更高合成自由度的用户提供可能性。全新的Dr. Oligo 48现在可以自动优化带有的修饰的化学合成步骤，从而可以包含更多非标准碱基和分子修饰。该仪器可适用于许多开发和筛选新型诊断和治疗工具的生物制药用户， 因为该行业主要在非标准基础上工作。订制配置： Dr. Oligo合成仪为用户提供多种配置。我们旨在提供适合您独特需求的产品。可根据您的实验需求提供高度可定制的试剂配置。您可以按照自己的方式配置仪器，可配置多至42种试剂瓶位( 4个单体，6个标准合成试剂和32个特殊单体)。我们很高兴与您合作，为您量身配置并安装仪器，以满足您的特定要求。直观的软件：Oligo 48已经安装了全新的高自由度软件。 借助我们新特制的Biolytic控制板，操作员可以使用直观的用户界面来重新设定试剂。我们允许用户根据碱基不同使用多种辅助试剂类型，不同碱基之间可以自由切换不同辅助试剂。我们还根据客户反馈，将不同碱基的氧化和盖帽顺序做到了自由切换。我们的软件做到了前所未有的自由度，可以满足您的一切工艺需求和研发需要，做到高度的自动化和自由度。 安全与加密 全新的Biolytic控制板提供了安全性和加密功能，可保持内部通信并增加系统稳定运行时间。 主要参数单次合成通量：1 – 48柱单柱合成规模：5 nmol 至 5 umol*合成类型：DNA，RNA，LNA，2'-修饰RNA， DNA和RNA混合链等气流控制：多级别正压特殊试剂输送系统：标准6个，可升级至 32 个标准单体输送系统：10（A、C、T、G、6 种标准试剂）试剂喷嘴数：标准辅助试剂2个，清洗试剂4 个工作尺寸（长 X 宽 X 高）：27.25" x 22.50" x 34.69" （基本配置的近似测量值）紧凑尺寸（长 X 宽 X 高）：27.25" x 22.50" x 25.69" （基本配置的近似测量值）气体输入：1） 瓶压 2） 吹扫/排空和气动供气压力： 90-120 PSI用户控制：配备全新 Windows 操作系统的专业控制软件电压：100-240 VAC, 50-60 Hz, 1,000 VA如您对相关仪器内容感兴趣，可通过仪器信息网和我们取得联系

NAS1638等级油中颗粒标准物质产品简介：颗粒计数器计量属于新兴的边缘计量学科，由于颗粒计数器测试技术不断与各种高新技术的融合，颗粒计数器测试技术已趋向成熟，为了保证颗粒计数器测量仪器量值准确可靠，应按期计量进行量值溯源，众多国家普遍采用标准物质构成颗粒计数器的量值传递模式，其中油相颗粒标准物质应用zui为广泛，我国基本采用油相颗粒标准物质实施颗粒计数器量值的传递。通过油相颗粒标准物质建立不间断的比较链与zui高颗粒计数器计量标准建立起统一的量值关系。物质组成：颗粒计数器计量油相标准物质是一种以固体颗粒为材质、洁净油液为载体配制的标准颗粒悬浮液，它性能稳定，具有量值准确的定值和测量不确定度，可溯源至美国国家标准与技术研究院（NIST）。国内外颗粒计数器计量油相标准物质的基本组成一样，由基础载液和标准粉尘组成。标准粉尘：标准粉尘按照颗粒形状不同，分为规则形和不规则形两种。规则形的标准粉尘：通常由相同或近似相同粒径的颗粒组成，一般称为单分散球形颗粒，通常采用折光系数约为1.59的聚苯乙烯或交联聚苯乙烯单分散球形颗粒粉作为规则形颗粒标准粉尘，该粉尘通过化学方法采用气溶胶颗粒发生器制备而成，颗粒的圆直径为颗粒的尺寸，粒径范围为1μm —150μm。不规则形标准粉尘：通常采用收集某区域特定的自然粉尘，经过特殊工艺加工分级，由多种不同粒径的颗粒混合而成，其化学成分和粒径分布与实际颗粒计数器领域检测固体污染度杂质的主要的化学成分和粒径分布*。通常将不规则形标准粉尘分为ISO ACFTD（Air Cleaner Fine Test Dust）和ISO MTD（Medium Test Dust）两种，分别以颗粒zui长弦和颗粒投影等效圆面积的直径定义这两类标准粉尘颗粒尺寸。ISO ACFTD：是空气滤清器精细试验粉尘的英文缩写，由美国通用汽车公司的AC火花塞分批生产。ISO ACFTD通过收集美国亚利桑那州特定区域内的沙漠沙，经球磨后分级而成，粒径范围为1μm —100μm，采用罗勒分析器或激光衍射技术来测定每批的平均体积颗粒尺寸分布。目前，ISO ACFTD粉尘已经停止生产，逐渐退出颗粒计数器计量领域。ISO MTD：是ISO中级试验粉尘的英文缩写，由美国粉末技术公司进行生产。ISO MTD也是通过收集美国亚利桑那州特定区域内的沙漠沙，只不过是采用干式喷磨法加工生产而成，其平均体积颗粒尺寸分布是采用库尔特多尺寸分析器的电极区分技术进行测定的，为了与ISO ACFTD区别其粒径采用μm（c）表示，粒径范围为1μm— 50μm（c）。ISO MTD已经在颗粒计数器计量领域中替代ISO ACFTD。NAS1638等级油中颗粒标准物质产品应用：颗粒计数器计量油相标准物质可用于仪器校准、评价测量方法和给物质赋值等领域，目前主要应用于液体自动颗粒计数器计量。液体自动颗粒计数器在使用过程中，由于电子电路的漂移、老化，光学元件的位移、磨损等，电气参数与光学参数是处于不断变化之中的。因此，为了保证测试结果准确可靠，每隔六个月至一年，必须对其进行校准，周期不得超过一年。国内外根据液体自动颗粒计数器的主要性能参数，制定其计量项目一般为七个：尺寸校准、阈值噪声水平、取样体积误差、体积测量变动系数、重合误差极限、流速极限和分辨力，颗粒计数器计量油相标准物质主要应用于尺寸校准和分辨力这两个项目。产品规格：油中颗粒标准物质主要用于油液颗粒计数器分析仪（液体自动颗粒计数器、液体污染度检测仪）的检定、计量、校准，还可用于新测试方法的评价与检验、仪器质量和性能核查和量值比对、人员培训考核等。特定污染度等级标准样品：可以按客户要求制备特定污染度等级的标准样品，如：NAS 1638 00级~12级 250ml、500ml、1000mlISO 4406 0/0/0级~28/28/28级 250ml、500ml、1000mlGJB 420B 000级~12级 250ml、500ml、1000mlDL/T 1096 5微米标准粒子 250ml、500ml、1000mlSAE 4059F 00级~12级或000级~12级 250ml、500ml、1000ml规格1：油中颗粒标准物质 ISO 4402校准方法要求 NAS 1638标准名称：ISO ACFTD浓度：5mg/L体积：9盎司粒径：1~100μm包装：出口纸箱规格2：油基MTD颗粒标准物质 ISO 11171校准方法要求 ISO 4406标准名称：ISO MTD浓度：2.8mg/L体积：9盎司粒径：4~78μm（c）包装：出口纸箱具体详情请电询普洛帝中国服务中心！ 普洛帝、Puluody、普勒、Pull、PLDMC为Puluody公司注册的商标！ 有关技术阐述、参数、服务为普洛帝拥有，普洛帝保留对经销商、用户的知情权！

绿螳非接触式自动移液系统MantisMANTIS(绿螳)是一台可编程，纳升微量移液，低死腔残留，非接触式自动分液设备；它可以稳定的分液各种液体，包括一些特殊物质，例如细胞、蛋白、酶、引物、底物甚至液态微珠。 主要特性 低死腔量 – 移液工作中管路的死腔液量会造成试剂的巨大浪费。Mantis可以缩小死腔量到6微升。 洁净 – 液体通路可以重复使用，也可以一次性使用。 可靠 – 非接触微隔膜技术，主动排液方法移液，杜绝了阻塞的风险。 灵活 – Mantis可以移液标准24孔、96、384、1536孔板，也可以轻松快速地定义客户自创的非标准孔板。 化学兼容性 – Mantis可以选配全氟橡胶的管路和芯片，移液DMSO以及其它各种强腐蚀性的液体。应用广泛，部分应用如下：&bull 试验设计/试剂开发 &bull NGS文库制备 &bull PCR/qPCR &bull 细胞分液 &bull 免疫分析 &bull 微珠应用 前沿的分液技术Mantis(绿螳)的核心技术微流控芯片，内建一组微阀和微隔膜协同工作，可准确分配一系列不同体积的液体(0.1μL到2ml) 。这组微阀中包含两组体积的隔膜，分别是100 nL和500 nL 或者1 μL和5 μL) ，每个隔膜皆可以以每秒10次的速率进行分液。MANTIS(绿螳)芯片和微隔膜技节约试剂用量为减少死腔容积，避免珍贵试剂的浪费，试剂可通过专用疏水管路直接连接到芯片接口。更可通过使用移液枪头直接插在芯片上进一步减小死体积到只有6 μL。因此Mantis(绿螳)是用来分配珍贵的试剂的理想配置。直接使用移液枪头进行分液可缩减液体死体积(死腔容积)到6 μL直观且易用的软件MANTIS (绿螳)软件提供直观且”用户友好”的交互界面，在几分钟内就可以设计出复杂的分液流程和计划。软件可以配合微软的Excel表格输入输出试验设计计划，且数据跟JMP工作流兼容。软件可轻松实现梯度分液、回填分液和浓度均一化等功能。MANTIS软件标准配置可设计6种分液试剂系统集合能力 Mantis (绿螳)可以轻松的与机械手臂抓取孔板的设备进行整合，可以通过API接口设计全程自动移液过程。定制各种配置满足个性化需求多芯片切换 (MCC) Mantis(绿螳)配置MCC配件可以自动分配多达6种试剂，制备复杂的孔板和试验流程。持续流量分液 选用持续流量配置，Mantis可以以连续液体流分配从5μL到2ml的液量，*适用于深孔板。用户可以采用标准的50毫升Falcon溶液瓶，或者250毫升的Nalgene溶液瓶作为持续流量配件的液体源。RFID功能和RFID芯片 配置RFID功能的主机，射频身份识别(RFID)芯片可自动跟踪该芯片的所有使用数据，包括微隔膜的运程和分液历史工作记录。RFID芯片会提醒用户是否有试剂放置于错误的机体位置上。下面列表中的所有芯片皆可选配RFID功能。高通量芯片切换器(LC3) Mantis升级到LC3可大量扩展设备同时操作的试剂种类。通过LC3的转盘式试剂托架，Mantis可以自动选取并分液的试剂可以达到24种。如果选配第二个LC3装置，试剂种类可扩展到48种。使用LC3配件可以自动分液高达48种试剂微流控芯片选项 Formulatrix提供各种功能的分液芯片，不同流量和流速以及抗腐蚀级别。所有芯片都采用认证 的分子生物级别的材料制造，满足生物材料兼容性和抗腐蚀性。自动清洗MANTIS（绿螳）内置了双清洗管路。移液工作完成后，可以使用两种不同清洁剂轻松的完成试剂管路和芯片的自动清洗。

钠表标准液181140美国奥立龙Orion微钠表2111LL/微钠表2111EL配件：钠表测量电极210048钠表参比电极210058扩散管211194参比电极填充液211172参比电极填充液150072钠表标准液181140钠表试剂211190钠表试剂211191钠表试剂应用包211192钠表校正套件181148钠表校正套件211148电极活化液181113温度补偿探头2100TP温度电极电缆2001XT钠表移液枪207524-001移液枪头207525-001钠电极电缆线21003M流量面板组件2111FP入口阀门组件2111NV旁路针阀组件2111BV压力调节阀组件2111RG流量计组件2111FM校准切换阀组件2111SV限流管组件2111RT试剂瓶接头组件2111RBA入口管组件2111NT电极线缆2111EC空气泵组件2111PA右侧空气阀2111RVA左侧空气阀2111LVA空气过滤器2111AF止逆阀组件2111VC不锈钢板2111BP主板2111EP电源模块组件2111PS保险丝2111FK115保险丝2111FK230测量池组件2111FC流通池盖组件2111CA2111LL钠表O型圈套件2111LLOK流通池感应管2111ST过滤器181170电极套件2111EK钠表维护套件2111MK钠表服务套件2111LLSK取样器18GRAB聚丙烯瓶18GBTL取样器备件管18GTBK蒸汽凝结器180300动态校正器15DC20

HI98713哈纳HANNA便携式浊度测定仪（ISO7027标准）HI98713哈纳HANNA便携式浊度测定仪（ISO7027标准）由上海晖望工贸有限公司销售。产品概述：测量范围：0.00 to 9.99 、10.0 to 99.9 、100 to 1000 FNU多量程，自动量程转换、高、低量程高精度测定，USB-RS232双数据接口、200组数据存储 数据管理符合ISO7027标准，手动校准，浊度标准校准点：≤ 0.1、15、100、750 FNUGLP管理功能，查询设置、校准、时间等信息，技术参数：测量模式普通测量、连续测量、平均测量测量范围选择自动识别选择测量范围0.00 to 9.99 FNU 、10.0 to 99.9 FNU 、100 to 1000 FNU解析度0.01 FNU（≤9.99 FNU） 、0.1FNU（≤99.9 FNU）、1FNU（≤1000 FNU）测量精度读数±1% ± 0.02 FNU @ 25°C/77°F重复性读数的±1%或0.02 FNU，取较大者*低检出限0.02 FNU光学系统定制接收器暨光源系统测量方法散射浊度测定法（90°&180°），符合ISO7027浊度测量标准校准模式手动校准，内置4点标准校准点 lt 0.1、15、100、750FNU【推荐HI98713-11】其他技术指标数据管理USB 数据接口，200 组测量数据存储器显示模式40 x 70 mmLCD显示屏（64 x 128像素），具有背景灯功能电源模式4×1.5VAA电池；15分钟不做如何操作，将自动关机使用环境0 to 50°C（32 to 122°F），RH max 95%，无冷凝尺寸重量主机尺寸：224 x 87 x 77 mm (8.8 x 3.4 x 3.0”)主机重量：512 g (18 oz.)

HI98703意大利HANNA哈纳多量程浊度计EPA标准测定仪测量范围：0.00 to 9.99 、10.0 to 99.9 、100 to 1000 NTU手动校准，浊度标准校准点 lt 0.1、15、100、750NTU符合USEPA标准和Standard Method 2130B方法多量程，自动量程转换、高、低量程高精度测定，GLP管理功能，查询设置、校准、时间等信息，USB-RS232双数据接口、200组数据存储 数据管理。适用于饮用水，地面，地表，废物和海水样品浊度测量，特别适用于0 to 40 NTU的低范围样品的理想选择。HI98703意大利HANNA哈纳多量程浊度计EPA标准测定仪技术参数：测量模式普通测量、连续测量、平均测量测量范围选择自动识别选择测量范围0.00 to 9.99NTU、10.0 to 99.9NTU、100 to 1000 NTU解析度0.01 NTU、0.1NTU、1NTU测量精度@25oC/77oF读数±2%或0.02 NTU重复性读数±1％+0.02 NTU，取较大者*低检出限0.02 NTU光学系统定制专用接收器暨光源系统测量方法浊度测定法（90°）或散射浊度测定法（90°&180°），符合USEPA方法108.1和标准2130B 校准模式手动校准，内置4点标准校准点 lt 0.1、15、100、750 和 2000 NTU【推荐HI98703-11】其他技术指标数据管理USB 数据接口，200 组测量数据存储器显示模式40 x 70 mmLCD显示屏（64 x 128像素），具有背景灯功能电源模式4×1.5VAA电池；15分钟不做如何操作，将自动关机使用环境0 to 50°C（32 to 122°F），RH max 95%，无冷凝尺寸重量主机尺寸：224 x 87 x 77 mm (8.8 x 3.4 x 3.0”)主机重量：512 g (18 oz.)

HI84529哈纳HANNA哈纳乳制品总酸度滴定pH/mV测定仪可滴定酸【低量程】：0.01 to 0.20 ％la、0.4 to 8.9 °SH、1.0 to 20.0 °D、1.1 to 22.2 °Th 【高量程】：0.1 to 2.0 ％la、4.4 to 88.9 °SH、10 to 200 °D、11.1 to 222.2 °Th酸度测量范围： -2.0 to 16.0 pH、-2.00 to 16.00 pH【氧化还原】：±2000.0 mV 温度测量范围：-20.0 to 120.0°C、-4.0 to 248.0°F、253.2 to 393.2 K.测试乳制品中可滴定的酸度水平而设计，基于酸碱滴定法，将活塞式加药泵滴定和磁力搅拌器组合；直观显示界面，滴定曲线，图表显示滴定结果（° SH、° Th、° D、% l.a.不同滴定单位选择），随屏操作步骤提示，动态滴定终点判定， 避免手动滴定所产生的人为和系统误差，确保测量数据的准确性和重复性。HI84529哈纳HANNA哈纳乳制品行业总酸度滴定pH/mV测定仪技术参数：可滴定酸技术指标测量范围【低量程】0.01 to 0.20 ％la、0.4 to 8.9 °SH、1.0 to 20.0 °D、1.1 to 22.2 °Th【高量程】0.1 to 2.0 ％la、4.4 to 88.9 °SH、10 to 200 °D、11.1 to 222.2 °Th解析度【低量程】0.01％Ia、0.1 °SH、0.1°D、0.1°Th【高量程】0.1％Ia、0.1°SH、1°D、0.1°Th精度@25oC/77oF【低量程】±0.01％la、【高量程】±0.1％la样品量【LR20】20mL 或 20g、【LR50】50mL 或 50g、【HR20】20mL 或 20g滴定方法酸碱滴定自动滴定终点终点滴定，可调节【pH 8.0 to 8.7，增量为0.1】泵技术指标搅拌速度：800【低范围】/ 1000【高范围】；泵转速：10mL/分钟酸度pH技术指标测量范围-2.0 to 16.0 pH、-2.00 to 16.00 pH解析度/精度0.1 pH、0.01 pH 25oC/77oF±0.01pH校准模式多达三点自动识别校准，内置4个酸度标准点【4.01、6.00、8.30、10.01 pH】温度补偿手动或自动氧化还原ORP技术指标测量范围-2000.0 to 2000.0 mV解析度/精度0.1 mV 25oC/77oF±1.0mV温度技术指标测量范围-20.0 to 120.0°C、-4.0 to 248.0°F、253.2 to 393.2 K.解析度/精度0.1℃ 0.1°F 0.1K 25oC/77oF±0.4℃ ±0.8°F ±0.4 K.其他技术指标配置电极FC260B 定制奶类专用酸度pH半电池电极HI5315 定制专用ISE半电池的参比电极HI7662-M定制专用不锈钢温度探头数据管理多达400个数据存储【200个滴定数据存储，200个 pH / mV数据存储】电源模式AC230V/12VDC 电源适配器【HI710006】适用环境0 to 50°C（32 to 122°F） max RH95％【无冷凝】尺寸重量主机尺寸： 235 x 200 x 150 mm (9.2 x 7.9 x 5.9”)；主机重量：1.9 kg (67.0 oz.)

HI93414意大利HANNA哈纳余氯总氯浊度计测定仪EPA标准浊度范围：0.00 to 9.99 、10.0 to 99.9 、100 to 1000 NTU余氯-总氯范围：0.00 to 5.00 mg/L（ppm）手动校准，浊度标准校准点 lt 0.1、15、100、750NTU、氯标定点：1.0 mg/L(ppm)浊度标准及方法：USEPA标准和Standard Method 2130B方法，余氯-总氯标准及方法：参照 USEPA method 330.5 和Standard Method 4500-Cl G.DPD法多量程，自动量程转换、高、低量程高精度测定，GLP管理功能，查询设置、校准、时间等信息，USB-RS232双数据接口、200组数据存储HI93414意大利HANNA哈纳余氯总氯浊度计测定仪EPA标准技术参数：测量模式普通测量、连续测量、平均测量测量范围选择自动识别选择测量范围0.00 to 9.99NTU、10.0 to 99.9NTU、100 to 1000 NTU解析度0.01 NTU、0.1NTU、1NTU测量精度@25oC/77oF读数±2%或0.02 NTU重复性读数±1％+0.02 NTU，取较大者*低检出限0.02 NTU光学系统定制专用接收器暨光源系统测量方法浊度测定法（90°）或散射浊度测定法（90°&180°），符合USEPA方法108.1和标准2130B 校准模式手动校准，内置4点标准校准点 lt 0.1、15、100、750 和 2000 NTU【推荐HI88703-11】余氯【游离氯】-总氯技术指标测量范围0.00 to 5.00 mg / L（ppm）解析度0.01 mg/L( ≤ 3.50 mg/L )；0.10 mg/L ( 3.50 mg/L) 测量精度±0.02 mg / L @ 1.00 mg / L.光学系统窄带干涉滤光片，硅光电池，钨灯@ 525 nm测量方法参照 USEPA method 330.5 和Standard Method 4500-Cl G.DPD法校准模式手动校准，余氯和总氯标准校准点：1.00 mg / L（ppm）【推荐HI93414-11】其他技术指标数据管理USB 数据接口，200 组测量数据存储器显示模式40 x 70 mmLCD显示屏（64 x 128像素），具有背景灯功能电源模式4×1.5VAA电池；15分钟不做如何操作，将自动关机使用环境0 to 50°C（32 to 122°F），RH max 95%，无冷凝尺寸重量主机尺寸：224 x 87 x 77 mm (8.8 x 3.4 x 3.0”)主机重量：512 g (18 oz.)

桌面纳米压印机，易于复制微米和纳米级结构。纳米压印（热和紫外线）直径高达210mm圆形模板，带紫外线150 * 150mm方片模板，采用热处理工艺热压印操作简单直观用途广泛即插即用专为研发而设计 CNI v3.0 PV是用于纳米压印和热压印的小型桌面工具，可完成微米和纳米结构从模板复制到基质。CNI v3.0 PV纳米压印机可以执行热压印以及紫外压印，CNI纳米压印机是纳米复制的完美起点，同时也支持成熟和高级的开发工作，纳米压印机操作简单，坚固耐用，便于非标准流程和新实验。 易于安装 即插即用（不到20分钟的时间内就可运行工作）优势 凭借其热压印和紫外压印的功能，如果需要，在真空中，CNI v3.0 PV纳米压印机在其产品中是独一无二的，并支持许多不同的技术和工艺。使用方便 无需查看使用手册，每个人都能使用；紧凑尺寸 26*30*14cm(120mm腔室的尺寸)； 42*44*14cm(210mm腔室的尺寸)；安装 CNI结构紧凑，无需固定安装；高质量压印 能够将小于40nm的结构复制到大于100μm的结构；多功能 可使用任何尺寸的印章和模板，直径最大210mm(8英寸)圆形的模板；技术支持 提供个性化支持，专注于您的加工需求； 特征：桌面大小的纳米压印工具 热压印温度高达250℃ 紫外纳米压印，365nm曝光(or 405nm–自定义选项)压印压力从0.3到11bar 在真空压印1mbar 印章和基材尺寸：直径可达210mm 印章和基材没有固定的样式坚固且易于使用手动装卸印章和模板自动程控软件操作界面简单可记录所有步骤和流程 CNI V3.0支持许多不同的技术：热纳米压印UV纳米压印热压印微米结构压印聚合物粘合 举例：纳米结构压印微结构压印硅片上纳米间距的光栅压印在软性的基材上压印（如III-V材料，InP）印章生产高纵横比结构的热压印聚合物热压印热聚合物粘合 要求：现场安装的技术要求压缩干燥空气或氮气压力6-11bar，外径6mm连接器，流量至少应该1/2标准L/min；在10mm外径连接器中，真空度优于0.1mbar（如果有真空选项）；功率：110-240V (50-60HZ， 大于200W)；环境应安装在干净、无尘和无颗粒的环境，以达到最佳效果；工作温度范围10-35℃；工作湿度范围30-70%；其他增压器：如果你的实验室不能提供高于6 bar的压缩空气压力，NILT可以提供一个增压器，可以将3-5 bar加到6-10 bar；真空泵选项：NILT建议使用Edwards nXDS6i干式涡旋真空泵。任何其他相似或更好规格的泵也可正常工作； 规格：压力：0.3-11bar温度：高达200℃，精度+/-1℃，可选高温模块，适用于250℃紫外线曝光:在120mm腔室中，波长为365mm或405 nm的紫外线LED灯，光功率为12 W，在210 mm腔室中为~100mW/cm2或~165mW/cm2的光功率为57W真空：可将腔室抽真空至低于1mbar的压力腔室尺寸：- 直径120毫米，高度20毫米(最大可扩展到45毫米) - 直径为210毫米，高度最大为20毫米(无法扩展)自动复制过程：手动装载印章和基材 通过CNI软件控制，整个复制过程完全自动化软件：全程控制和灵活性 除了装载和卸载之外的所有东西都由软件处理CNI定制： 可根据您的需求定制在线视频说明：在线安装视频和操作提示可选项： 增压器可将实验室压缩空气供应从3-5bar提升至6-10bar，由NLT人员进行培训和/或安装

HI88713哈纳HANNA台式浊度测定仪（ISO7027标准）HI88713哈纳HANNA台式浊度测定仪（ISO7027标准）由上海晖望工贸有限公司销售。产品概述：测量范围：0.00to 1000 FNU；10.0 to 4000 FAU；0.00 to 4000 NTU；0.00 to 980EBC自动量程转换，线性浊度、非线性浊度测定、啤酒浊度测定，符合ISO7027标准，CAL CHECK校验校准功能GLP管理功能，查询设置、校准、时间等信息，手动校准，内置标准校准点 lt 0.1、15、100、750FNU和2000NTUUSB数据接口、200组数据存储 数据管理技术参数：测量模式普通测量、连续测量、平均测量FNU浊度技术指标测量范围0.00 to 9.99 、10.0 to 40.0 、100 to 1000 FNU解析度0.01 FNU、0.1 FNU、1 FNU测量精度读数 ±2％（忽略杂散光误差）FAU浊度技术指标测量范围10.0 to 99.9 FAU、100 to 4000 FAU解析度0.1 FAU、1 FAU测量精度读数 ±10％非线性浊度技术指标测量范围0.00 to 9.99NTU、10.0 to 99.9NTU、100 to 1000NTU0.00 to 9.99EBC、10.0 to 99.9EBC、100 to 245 EBC解析度0.01 NTU、0.1 NTU、1NTU；0.01 EBC、0.1 EBC、1EBC测量精度读数±2%或0.02 NTU(0.01 EBC) ，取较大者线性浊度技术指标测量范围0.00 to 9.99NTU、10.0 to 99.9NTU、100 to 4000 NTU0.00 to 9.99EBC、10.0 to 99.9EBC、100 to 980 EBC解析度0.01 NTU、0.1 NTU、1NTU；0.01 EBC、0.1 EBC、1EBC测量精度读数±2%（≤1000 NTU，忽略杂散光误差）读数±5% gt 1000 NTU）浊度其他指标测量范围选择自动识别选择重复性读数的±1%或杂散光误差，取较大者*低检出限0.1 NTU（ 0.05 EBC）光学系统定制接收器暨光源系统测量方法散射浊度测定法（90°&180°），符合ISO7027浊度测量标准校准模式手动校准，内置4点标准校准点 lt 0.1、15、100、750FNU和2000 NTU【推荐HI88713-11】其他技术指标数据管理USB 数据接口，200 组测量数据存储器显示模式40 x 70 mmLCD显示屏（64 x 128像素），具有背景灯功能电源模式230V/50Hz，20W ；15分钟不做如何操作，将自动关机使用环境0 to 50°C（32 to 122°F），RH max 95%，无冷凝尺寸重量主机尺寸：230 x 200 x 145 mm (9.0 x 7.9 x 5.7”)主机重量：2.5 kg (88 oz.)

纳升级微孔板分液器 高通量移液工作站[系统简介]Mantis是一款基于微流控芯片的纳升级别微量移液，低死体积，非接触式自动分液设备；它可以稳定的分液各种液体，包括一些高黏度液体，例如细胞、蛋白、酶、引物、底物甚至液态微珠。1、产品特点清洁度高分液管路可以清洗重复或一次性使用，避免交叉污染；低死腔量管路体积小，移液工作中管路的死腔液量会造成试剂的巨大浪费。Mantis可以缩小死腔量到6微升。灵活性好使用附带的支架可以分配6 / 24种不同液体，不同液体间可自动切换，支持标准24孔、96、384、1536孔板、客户自创的非标准孔板。安全可靠非接触微隔膜技术，主动排液方法移液，杜绝了阻塞的风险。化学试剂兼容性强除普通硅胶芯片外，可以用perfluoroelastomer芯片来分配大多数有强腐蚀性的化学试剂。2、微流控芯片特点Mantis的微流控芯片采用了磁铁吸附的方式固定于载架上，芯片非常易于取放；整套管路和芯片价格合理；可以一次性使用和重复清洗；带有芯片的载架可手动更换，也可自动更换。3、功能强大的软件 Mantis提供的软件功能强大，界面直观，使用方便。使用可视的微孔盘位置显示需要分配的试剂和体积。可实现梯度分液、回填分液等自动计算功能。可以从TXT格式的文件导入分液设计，也可以使用Excel直接设计和导入分液内容。[系统图片][技术优势]Mantis(绿螳)的核心技术微流控芯片，内建一组微阀和微隔膜协同工作，可准确分配一系列不同体积的液体(0.1μL到2ml) 。这组微阀中包含两组体积的隔膜，分别是100nL和500nL 或者1μL和5μL，每个隔膜皆可以以每秒10次的速率进行分液。[系统规格]配置类型常规配置：Mantis的常规配置使用4＋2的方式，即左边配置4个芯片架和4个试剂架，右边配置2个芯片架和2个试剂架， 能够连续分配6种不同的试剂；升级配置：Mantis可选配转盘试管架，可以放置24种试剂，能够联系分配24种不同的液体，快速。芯片参数Formulatrix提供各种功能的分液芯片，不同流量和流速以及抗腐蚀级别。所有芯片都采用认证的分子生物级别的材料制造，满足生物材料兼容性和抗腐蚀性。RFID功能和RFID芯片配置RFID功能的主机，射频身份识别(RFID)芯片可自动跟踪该芯片的所有使用数据，包括微隔膜的运程和分液历史工作记录。RFID芯片会提醒用户是否有试剂放置于错误的机体位置上。下面列表中的所有芯片皆可选配RFID功能。自动清洗MANTIS(绿螳)内置了双清洗管路。移液工作完成后，可以使用两种不同清洁剂轻松的完成试剂管路和芯片的自动清洗。规格参数尺寸：W162mm × D220mm × H111mm重量：约4.5Kg[应用领域]试剂开发PCR/qPCR制备蛋白质/酶制剂/高盐液体/试剂精密分配分装免疫分析NGS文库制备微珠应用细胞分配分液

禾工科仪 AKF-V6阿莫西林颗粒专用容量法卡尔费休水分测定仪检测生物医药行业水分含量包括不限于以下样品：原料与辅料、医用胶、手术缝合线、冻干粉、体外诊断试剂、医药用溶剂、成品药、眼药水等样品；PLA、PGA、PVA、蛋白类冻干、血清类冻干等、钆布醇、依替菲宁、甲苯、乙腈、三氯甲烷、冰乙酸、六水合氯化镁、聚维酮K30、乳糖、淀粉、软胶囊壳、硬胶囊壳、阿莫西林颗粒、布洛芬胶囊、钙片、酒石酸氢胆碱、软胶囊、５０２／５０４、地夸磷索 等等生物医药行业样品水分测定禾工科仪 AKF-V6阿莫西林颗粒专用容量法卡尔费休水分测定仪产品简介AKF-V6卡尔费休水分测定仪是禾工科学仪器出品的全新一代全自动容量法卡尔费休水分测定仪。仪器在备受客户认可的AKF系列卡尔费休水分仪的基础上，汇总各行业客户反馈，集HOGON工程师多年应用技术积累经历了全新升级。合理紧凑的结构，清新简洁的UI界面设计，全新架构的控制算法与终点识别技术，仪器性能全面提升，高精度、宽量程，可以替代同类进口产品。快速准确！智能控制，智能终点识别，适应各种类型样品的快速准确测定！操作简单！“一键滴定”自定义，非专业人员也能轻松完成检测工作！安全稳定！试剂监测，故障自检，密封防漏，保证人员与环境的安全!溯源追踪！三级用户权限，全面审计追踪，遵循各类实验室数据管理规范！禾工科仪 AKF-V6阿莫西林颗粒专用容量法卡尔费休水分测定仪产品特点：1、7寸彩色触摸屏操作面板，中英文双语种操作界面；多种测试参数实时显示，滴定结果自动计算、滴定曲线实时显示2、全封闭滴定系统，耐腐蚀，更加安全稳定3、HOGON高精度滴定计量技术（精度高，故障率低）4、全自动滴定分析，自动吸液、排液、自动清洗，自动分析、自动计算，大幅降低人工测定误差5、智能滴定、通过“一键检测”自动测定、非专业人员也可轻松完成检测工作6、多种终点识别模式，配合禾工专业的行业应用服务能力，选配卡式加热顶空进样器、加热搅拌装置、微量反应杯以应对复杂特殊样品的分析；可广泛应用于气体、液体、固体、易溶样品、难溶样品、不溶性样品的痕量、微量、常量含水率样品测定7、检测参数数据、样品测量结果自动计算存储，实时查询显示1000条详细检测数据；可扩展存储更多检测结果8、手动操作功能表可供用户手动吸液、注液、回液、排废液、计量管清洗、定量馈液、电极去钝化等功能9、三级权限管理，具备全面审计追踪溯源功能，支持中文，英文和数字输入,符合多种标准及药典的GLP规范要求禾工科仪 AKF-V6阿莫西林颗粒专用容量法卡尔费休水分测定仪技术参数：

HI93124哈纳HANNA便携式啤酒浊度测定仪MEBAK标准测量范围：0.00 to 10.00 、10 to 250 EBC自动量程转换，EBC欧洲啤酒浊度单位，散射浊度测定法，符合MEBAK（中欧啤酒协会）标准，CAL CHECK校验校准功能GLP管理功能，查询设置、校准、时间等信息，手动校准，内置标准校准点：0、2.5、125 EBCRS232数据接口、199组数据存储、自动存储*校准数据和查询校准时间和校准结果，*数据管理HI93124意大利HANNA哈纳便携式啤酒浊度测定仪MEBAK标准技术参数：HI93124测量范围0.00 to 10.00 EBC、10 to 250 EBC解析度0.01 (0.00 to 10.00 EBC)、1 (10 to 250 EBC)精度@25°C/77°F读数±3%±0.20 EBC (0.00 to 10.00 EBC)，读数±5%±1 BEC (其他)测量方法散射浊度测定法，符合MEBAK（中欧啤酒协会）标准校准模式手动三点校准，内置三个标准点：0、2.5、125EBC光学系统定制专用接收器暨光源系统GLP功能自动存储*校准数据和查询校准时间和校准结果数据管理RS232数据接口，199 组测量数据存储电源模式4×1.5VAA电池；5分钟不做如何操作，将自动关机使用环境0 to 50°C（32 to 122°F），RH max 95%，无冷凝 尺寸重量主机尺寸：220 x 82 x 66 mm (8.7 x 3.2 x 2.6'')，主机重量：510 g (1.1 lb.)

纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应，并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能，使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。 目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟，它的应用也随之扩大。在其应用过程中，较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高，在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子，使颗粒粒径变大，从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性，提出了一些有效的方法。 根据我司为多家客户定制方案，建议采用的方案为：在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料；然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理！经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计，相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）；2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）；3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）；4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）；5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）。纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件： PTC 热保护、降噪型均质机材质：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车均质机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍均质机选配容器：本设备适合于种不同大小的容器.IKN管线式研磨分散机的技术参数：研磨分散机流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机

HI93703-11哈纳HANNA浊度测定仪（ISO7027标准）HI93703-11哈纳HANNA浊度测定仪（ISO7027标准）由上海晖望工贸有限公司销售。产品概述：测量范围：0.00 to 50.00 、50 to 1000 FTU自动量程转换，FTU为福尔马肼浊度单位，散射浊度测定法，符合ISO7027标准，CAL CHECK校验校准功能GLP管理功能，查询设置、校准、时间等信息，手动校准，内置标准校准点：0、10、500 FTURS232数据接口、199组数据存储 数据管理【HI93703-11】技术参数：HI93703-11HI93703测量范围0.00 to 1000 FTU0.00 to 1000 FTU解析度0.01 (0.00 to 50.00 FTU)、1 (50 to 1000 FTU)0.01 (0.00 to 50.00 FTU)、1 (50 to 1000 FTU)精度@25°C/77°F读数±5%或者±0.5 FTU ，以较大为准读数±5%或者±0.5 FTU ，以较大为准测量方法散射浊度测定法，符合ISO7027浊度测量标准散射浊度测定法，符合ISO7027浊度测量标准校准模式手动三点校准，内置三个标准点：0、10、500FTU手动三点校准，内置三个标准点：0、10、500FTU光学系统定制接收器暨光源系统定制接收器暨光源系统GLP功能自动存储*校准数据和查询校准时间和校准结果－－－－－－数据管理RS232数据接口，199 组测量数据存储－－－－－－电源模式4×1.5VAA电池；5分钟不做如何操作，将自动关机4×1.5VAA电池；5分钟不做如何操作，将自动关机使用环境0 to 50°C（32 to 122°F），RH max 95%，无冷凝0 to 50°C（32 to 122°F），RH max 95%，无冷凝尺寸重量主机尺寸：220 x 82 x 66 mm (8.7 x 3.2 x 2.6'')主机重量：510 g (1.1 lb.)主机尺寸：220 x 82 x 66 mm (8.7 x 3.2 x 2.6'')主机重量：510 g (1.1 lb.)

ASTM D3420-95塑料薄膜耐摆锤式冲击的标准应用范围 适用于塑料薄膜、薄片、复合膜、铝箔、纸张等材料抗摆锤冲击性能的精确测定。 主要特点 1．电子式测量 2．工业 TFT 屏，触摸屏操作 3．零导航深度的扁平化界面 UI，操作更加方便快捷 4．真彩色液晶直接显示试验结果 5．试样气动夹紧 6．摆锤气动锁紧、释放 7．内置最大值、最小值、平均值、标准差数据统计分析功能 8．内置历史数据查询功能 9．配置微型打印机，可自动打印试验数据 10．配置标准通信接口 11．可支持 DSM 实验室数据管理系统，实现数据统一管理。 技术指标 冲击能量： 1J，2J，3J，5J（可选） 分 辨 率： 0.001J 冲头尺寸： Ф25.4mm，Ф19mm，Ф12.7mm试样夹口直径： Ф89mm，Ф60mm 试样尺寸： 100 mm x 100 mm 或 Ф100mm 气源压力：0.3MPa ~1.5MPa（气源用户自备） 气源接口：Ф6mm 聚氨酯管 主机尺寸：492mm（L）×383mm（B）× 752mm（H） 电 源： AC 220V 50Hz 净 重： 44kg 执行标准 GB 8809、ASTM D3420、NF T54-116 产品配置 标准配置：主机、1J 基本摆体、容量 2J 砝码一个、容量 3J 砝码一个、Ф25.4mm 标准冲头一个、Ф19mm 标准冲头一个、Ф89mm 标准试验夹板一对（含 O 形圈）、Ф60mm 标准试验夹板一对（含 O 形圈）、微型打印机 选 购 件：容量 5J 砝码、专业软件、通信电缆、非标准冲头、O 形圈

TIDAS全自动涂料研磨细度测量分析仪　　TIDAS全自动涂料研磨细度分析仪可以实现基于Hegran细度板测量原理的全自动样品细度测量及分析。基于本仪器的细度测量客观准确，可以完全剔除人为操作造成的误差，确保测量结果的可重复性，一致性和可靠性。综述　　TIDAS全自动涂料研磨细度分析仪在1997年问世，并且实现量化生产，具有客观准确地测量涂料溶剂中颗粒分散细度的能力。其提供的图像分析结果可用于保证产品生产过程中的质量稳定性或达到提高产品质量的目标。　　本系统基于Hegman细度板测量原理实现全自动测量，避免了常规人工方法依赖操作人员经验造成的人工误差。TIDAS全自动涂料研磨细度分析仪系统工作过程如下：　　1.涂料样品首先被自动涂覆在细度板上 　　2.随后一个高分辨率的摄像头被用于捕捉图像 　　3.系统最后会自动生成样品颗粒分布的直方图，并根据一定的算法生成样品等级结果。TIDAS全自动涂料研磨细度分析仪优点　　全自动处理　　不论操作人员经验多少以及操作人员在世界上什么地方进行操作，对于同一样品.每TIDAS全自动涂料研磨细度分析仪提供同样的客观的测量结果。 　灵活多用途　　标准的细度板如0-15，0-25，0-50，l00um，250um均适用TIDAS全自动涂料研磨细度分析仪，其它规格也可应客户需求进行定制。 　独创及可定制处理算法　　TIDAS全自动涂料研磨细度分析仪独创数据处理算法可以自动区分目标颗粒，微小气泡和气泡聚集区。Labman也可以提供定制化算法为客户后续处理直方图数据提供解决方案。TIDAS全自动涂料研磨细度分析仪特征　　一USB接口可以和计算机进行数据交互　　一兼容Windows 7，8和10系统　　一输出数据可以自动存储建档　　一原始图像和处理后的图像分别自动储存　　一独创及可定制化算法　　一建档数据可以和样品库链接　　一高度的可验证性，鲁棒性和可靠性　　一快速，单次测量时间15秒，分析时间1秒　　一产品寿命可长达12年全自动涂覆技术　　样品全自动涂覆到细度板纸上可以增加测量的连续性。针对那些对样品涂覆和分析操作之间时间间隔短，可重复性要求高的样品测量十分适用。本仪器适合您的实验室吗?　　在您购买之前，我们会提供系列仪器出借方案供您验证实验，确保您的每一分钱投资都物有所值。或者，您也可以将样品邮寄到我们公司，我们提供免费检测验证服务，我们会回复您完整的书面检测结果报告，以确保贵公司产品适用TIDAS系统。

飞纳台式扫描电子显微镜标准版 Pure 智能、高效、经济 放大倍数：175,000 分辨率：优于10nm电子枪：1500小时CeB6灯丝抽真空时间：10秒样品移动方式：自动马达样品台样品定位方式：光学和低倍电子双重导航样品导电性要求：无需喷金，直接观测绝缘体环境扫描选件（ESEM）：温控样品台，可直接观测液体可升级为Phenom Pro 专业版Phenom(飞纳) Pure（飞纳台式扫描电镜 标准版） 一款性能和价格介于光学显微镜和传统大电镜之间的经济型台式扫描电镜，可用于测量亚微米尺寸的样品。Phenom Pure 适用于传统大电镜待测样品的快速筛选，也适合于光学显微镜的分辨率无法满足需求的客户。表面细节丰富的高分辨率照片Phenom(飞纳) Pure 为您提供高信噪比、表面细节丰富的优质图像：分辨率优于 10 nm，大景深；传统电镜往往通过提高加速电压来产生更高的信号，同时由于穿透深度较深，导致表面细节缺失。低加速电压 电子穿透深度浅，避免样品被破坏，展现更多表面细节；探测背散射电子，展现清晰形貌结构的同时，提供丰富的成份信息；5kV 低加速电压下，电子反应区位于样品表面，配合高亮 CeB6 灯丝，既保证了分辨率，又得到样品表面的信息 CeB6 灯丝在样品表面单位面积内激发的信号约是钨灯丝的 10 倍，适合于低加速电压观测 表面形貌和成分信息同时展现背散射电子的产率、出射角度与样品成份及表面形貌相关。Phenom（飞纳）采用 4 分割半导体背散射电子探测器，为您提供两种成像模式，模式之间可迅速切换；成份模式：同时给出样品表面形貌与成份信息，不同元素可由其灰度对比度的不同加以分辨 形貌模式：去除成份信息，样品表面凹凸起伏等微观结构更加明晰，适用于表面粗糙度和缺陷分析成份模式 4分割背散射电子探测器扇区所得的信号相叠加形貌模式 4分割背散射电子探测器扇区所得的信号相抵消成份模式图像包含样品成份与形貌信息形貌模式图像仅突出样品表面形貌特征专利样品杯，30秒快速成像 Phenom（飞纳）专利样品杯、低真空设计、专利的真空封锁技术，装入样品后30秒内即可得到高质量图像，耗时仅为传统电镜的1/10左右。 直接观看绝缘体，无需喷金Phenom（飞纳）采用低真空技术，出射电子与空气分子碰撞产生正离子，正离子与样品表面累积的电子中和，有效抑制荷电效应的产生，直接观测各种不导电样品（如下图所示）。利用降低荷电效应样品杯，更可将开始荷电的放大倍数提高8倍左右，而且不会影响灯丝寿命，下图头发示例： 操作简便，全程导航 &bull 自动/手动聚焦Phenom（飞纳）操作界面。通过点击右侧图标可以轻松完成图像缩放、聚焦、亮度对比度调节、旋转等操作。界面右侧显示光学导航和低倍SEM导航窗口，方便用户在不同样品、不同区域间进行切换。&bull 自动/手动亮度&bull 自动/手动对比度&bull 自动灯丝居中调节&bull 自动马达样品台&bull 光学/电子样品导航 光学导航，所有带观测样品尽在视野之中，高倍下准确切换样品，只需点击感兴趣样品，即可自动移动到屏幕中央低倍SEM照片导航，导航窗口中的彩色矩形框指示了住观测窗口的观测区域，点击感兴趣的区域，自动移动到样品中央 环境适应性高，完全防震Phenom（飞纳）可以放置在几乎所有的室内环境当中，无需超净间。采用灯丝、探测器、样品台相对一体化的设计，震动不会引起三者间的相对运动，使Phenom成像不受震动影响，可放置在较高楼层。 互联网远程检测Phenom（飞纳）拥有远程检测功能，通过网络，专业工程师可随时为您远程检测系统、答疑解难，为您提供全方位的保护，让您的Phenom随时处于最佳工作状态。 适用于不同领域的样品杯选件

飞纳台式扫描电镜 Phenom 标准金相样品杯的主体设计与标准样品杯相同，但金相样品杯是专门用来装载镶嵌样品的。是冶金类样品和样品杯插件的首选方案。金相杯可以选配两种插件，从而更快速制备样品。独特的样品杯理念 包埋、切割和抛光是显微成像中制备平整样品的一种常用技术。 通常这种样品要包埋在树脂中，并且有几种标准的尺寸。 使用 Phenom XL 电镜上的标准样品杯，通常支持拓展三种金 相样品插件。这意味着该样品杯可以容纳大多数尺寸的镶嵌样 品。 金相样品插件具备众多独特优点。样品固定方法简单直接，所有 样品具有相同工作距离，批量能谱分析非常方便。 在做能谱定量分析时，镶嵌样品的表面要尽可能水平。然而，样 品底面却往往是十分粗糙。若没有这些插件，装载这种样品时， 上表面不在同一水平面上，这势必会影响能谱定量结果。 利用这些插件，样品底面不会接触到样品杯表面。在插件内部， 镶嵌样品的上表面可以精确的固定在同一高度的平面上，可以同 时获得高分辨图像和能谱结果。 金相样品插件有三种型号，能装载 25 mm (1英寸)，32 mm (1.25英寸) 和 40 mm (1.5英寸) 标准尺寸样品。含有内六角扳 手用于样品固定。最大样品尺寸：直径 32 mm；高 30 mm 金相样品杯金相试样 放样

FT 3000 系列德莫西亚疲劳测试仪产品介绍该设备可同时用于材料曲挠测试机裂纹扩展测试以及拉伸疲劳测试。设备符合ISO 132，6943，ASTM D 430-B，D 813，DIN 53 522 -1/2/3 测试要求。设备可以长期连续不断的测试使用，用于橡胶企业生产过程质量控制以及其他如配方研发使用。配备高精度线型马达（非传统偏心轮结构）和可选CCD 系统，该设备易于操作而且更适用于客户测试需求。同时采用德国Binder 公司特制的控温箱，使温度控制更精确稳定。德莫西亚挠曲模具(5腔)

腾氏Tuttnauer台式实验室灭菌器装载量从28升到160升，从前门进行装载。EL型号采用了更先进的微电脑控制器，腔体采用316L不锈钢或者316钛钢合金制作，更加确保腔体在实验室液体灭菌条件下的抗腐蚀性和超长的使用寿命。客户可选择内置灭菌记录打印机（非标准配置）。台式机型号-技术参数 型号腔体尺寸φ×D(mm)腔体容量（Liter）外形尺寸W×H×D（mm）2840EL280×40028530×440×6303840EL380×40052720×540×7653850EL380×50065720×540×7653870EL380×69085720×540×9405050EL500×500110860×740×8905075EL500×750160860×740×1120实验室灭菌器的控制系统采用腾氏TM(Tuttnauer)的新式32位程序控制器并配合彩色显示屏特征 灭菌质控功能(F0 control) 压力控制器PID（Proportional Integral Differential，比例微积分控制作用) 内置储存200个灭菌循环的数据 双温度探头PT-100 可选配连接6个温度探头和4个压力探头 可创建30个使用者登录码并配置不同的用户级别 输入/输出测试，允许技术人员对系统组件进行分别测试和监控 灭菌温度范围：105°C到137°C 选配功能：消毒/恒温温度范围：40°C到105°C 选配功能：外置记录仪，可用于灭菌过程参数的交叉对比和校验 空气过滤器过期更换提醒 彩色显示器腾氏TM(Tuttnauer)的新型彩色显示屏专为高温、高压、高湿度的工作环境而设计。用户界面（UI）为以下灭菌器需求而重新设计： 彩色显示，明显的色彩对比度，容易辨识的文字色彩 用色彩标注灭菌过程的不同阶段 简易操作，一键操作 操作信息一键进入 多语言选择 屏幕显示灭菌历史数据 图形显示腔内温度和压力，以及温度压力变化趋势 预制程序 预真空和后真空干燥控制（选配特定组件） 10个固定的灭菌程序 20个客户定制的灭菌程序 2个测试程序（B&D测试和泄漏测试） 自动清洗程序可用于管路清洗 材料压力测试（耐温或者耐压测试）（需定制），可用于测试多种材料，可采用多次重复的灭菌循环或者高温高压保持时间 依据用户需求，可开启和关闭预制的固定程序 P.PC.R (远程电脑报告)用于生成灭菌报告的电脑软件（选配）生成的图形报告包括一下部分： 图表显示的灭菌循环参数 数字显示的灭菌循环参数 打印机输出的报告的复印件 可测量参数值列表 设定值列表 可输出为PDF文件格式（选配）软件可以在如下两个模式中运行在线模式可以通过局域网连接管理8台灭菌器。这些灭菌器可以在同时被电脑监测并显示数据报告和图形。灭菌历史记录自动下载并储存在电脑中。离线模式数据通过USB接口转存到USB记录设备中。这些数据可以在电脑中通过灭菌报告管理系统打开并浏览。 安全腔门的安全性实验室灭菌器设计了机械式和数字化的安全锁定装置。 一个重要安全装置防止腔门在腔内有压力的时候被打开 腔门没有完全锁闭的时候蒸汽不能进入腔体 腔门开启或者门锁没有完全锁闭的情况下，灭菌程序不能启动 灭菌液体没有降到程序设定的温度以下时，门锁不能解锁。 灭菌腔内压力不等于工作环境的压力时，门锁不能解锁。 安全阀：腔体直接连接了安全阀 - 如果腔内压力大于设计的压力上限，安全阀将开始排汽降压。 内置蒸汽发生器的安全性：水位探测器监控蒸汽发生器内部的水位，其中的加热器在安全范围内工作。

NAR-1T LIQUID 标准阿贝折光仪（仅液体）【产品介绍】阿贝折射仪紧跟用户使用需求，数显设计无须目测读数，能够连接打印机和电脑，将实验数据打印或者电脑保存。适用于测量液体样品的折射率和 Birx 值。【技术参数】型号NAR-1T LIQUID货号1211测量范围折射率（nD） 1.3000 至 1.7000Birx 0.0 至 95.0%分辨率折射率（nD） 0.001，Birx 0.5%测量精度折射率（nD） ±0.0002，Birx ±0.1%平均分散值—测量温度5 至 40°C温度精度环境温度±0.2°C5 至 40°C电源AC 100 至 240V，50/60Hz功率5VA尺寸和重量13x18x23cm，1.8kg（主机）10x11x7cm，0.5kg（温度显示部件）

落球冲击试验机标准LQ-II是检测仪器，用于对塑料、建材、陶瓷、涂料等试验样片施加瞬间冲击力，试验测得材料的破坏程度及冲击能量。还可以对同种材料、同种规格的试样进行冲击对比试验以鉴定材料质量的优劣程度。是对塑料、建材、陶瓷等试验样片，施加瞬间冲击力，求取破坏该材料所需要的冲击能量的仪器。同时，使用该仪器还可以对同种材料、同种规格的试样进行冲击对比试验以鉴定材料质量的优劣。 落球冲击试验机标准LQ-II参数：★电源：220V ★钢球重量50g、100g、112g、150g、198g、200g、225g、300g、357g、500g、533g、800g、1000g、1042g、2280g选择或指定 ★板材试样尺寸：150mm×100mm 厚度：≤17mm 管材试样尺寸：R≤30mm 非标准试样自由冲击时尺寸：宽≤100mm 厚度≤70mm ★ 冲击能量上下限： ★大冲击能量：EA大=19.6J ★小冲击能量：EA小=0.15J ★试样受冲击的方式： 装夹：放在冲击台的夹具上夹紧不装夹：放在冲击台上或V型铁上 ★外型尺寸： 主机：2700mm×450mm×360mm 电控箱：180mm×380mm×360mm 主机：30kg 电控箱：6kg点击搜索：漆膜冲击器

飞纳台式扫描电镜 Phenom 标准样品杯高分辨率样品杯，每台飞纳电镜的标准配置。可以获得最好的成像结果，适用于固定在钉型样品台上的常规样品。最大样品尺寸：直径 25 mm；高 30 mm 标准样品杯样品台 放样复纳科学仪器（上海）有限公司为您提供9台电镜附件及外设，包括飞纳台式扫描电镜 Phenom X 断面观测插件，飞纳台式电镜 Phenom 自动倾斜/旋转样品杯，飞纳台式扫描电镜 Phenom 超大样品台， 不管是电镜附件及外设原理、参数，还是电镜附件及外设价格、型号都可咨询，售前、售后均可联系我们。

产品性能：第六代飞纳台式扫描电镜高性价比标准版 Pure 是一款使用高亮度 CeB6 灯丝的高分辨台式扫描电镜。放大倍数 175,000 倍，用于观察亚微米样品的微观结构。Pure 具有全自动操作、15 秒快速抽真空、不喷金观看绝缘体、2-3 年更换灯丝等特点，适用于传统大电镜待测样品的快速筛选，也适合于光学显微镜的分辨率无法满足需求的客户。Phenom Pure 经济型标准版产品参数电子显微镜：175,000 倍探测器：高灵敏度四分割背散射电子探测器灯丝材料：1,500 小时 CeB6 灯丝分辨率：优于 10 nm放置环境：采用专业防震设计，可摆放于普通实验室或办公室、厂房加速电压：5kV 和 15kV抽真空时间：小于 15 秒复纳科学仪器 (上海) 有限公司 (Phenom Scientific)，负责荷兰飞纳台式扫描电镜在中国市场的推广和销售，提供专业的技术支持和测试服务，飞纳中国拥有最专业的服务团队，提供最优化的解决方案；飞纳中国提出飞纳学校 （Phenom University）的概念，为用户提供从扫描电镜基础理论到 Level 5 应用工程师的进阶培训，在上海、北京、广州设立了测试中心和售后服务中心，目前飞纳在中国已经拥有接近 1000 名用户。

仪器简介：iCinac属于Cinac的第四代乳品发酵监控仪，Cinac是为满足法国大型乳品企业的要求，公司同法国农业科学研究院合作于上世纪90年代研发的乳品发酵监控系统。目前，iCinac是唯独可以监控乳品酸化行为的产品系统，可以同时观测一个或者多个样品的pH、温度和氧化还原电位变化，监控的目的是： ◆ 测试并确定所研究的接种物的酸化行为特征； ◆ 评估预测接种物对酸形成的影响； ◆ 确定接种物及其补偿特性等。iCinac延续了Cinac的名称以及用途，而其他的特性完全进行了更新！此仪器是市场一款设计制造完全满足新的ISO26323标准技术规范的产品（ISO26323：通过连续测定pH值监测乳品酸化行为的技术规范。），对于大量复杂食品研制过程中接种物的加入、测试、控制很有用处，同时也可以用于过程及质量的控制。当然，仪器一定可以用于乳品企业和任何需要连续或多通道监控PH数值的企业。独特的酸发酵分析仪 ◆ 多达96条的同步数据观测，配置任意，高度灵活性； ◆ 新一代数字式传感器； ◆ 一体式触摸屏主机，专用软件，交互性强。多参数数字式传感器 ◆ iCinac装备的是新结合ISM技术的数字式传感器，可以将mV的电信号转化为数字信号； ◆ 具有在一个通道上同时测定一个样品的pH值、温度以及化学电位的特点； ◆ 不仅仅是监测容量提升了3倍，而且在测定pH的同时采集了温度和电位数值实现了自我补偿，优化了酸化监控操作。 完全模块化与灵活化 ◆ 多达96条观测数据 系统可包含16通道或32通道，或者使用复合传感器进行完整的96条容量观测，除了观测pH，温度和氧化还原电位外，其他的参数包括电导率或溶解氧也可以分析。 ◆ 多达32条控制输出 控制输出完全模块化，完整的32通道可以按照需要进行配置：数字信号输出或2种类型的模拟信号输出，例如：4-20 mA或0-10 VDC。可以配置8个数字信号通道和8个模拟信号通道，以后也可以经常发生变化。由于每个通道独立控制，所以无需考虑到使用的通道数和时间，可以对每个通道进行单独操作。仪器可以根据需求配置、使用频率和校准 的有效性执行多个参数任务。 ◆ 过程仿真 通过设计热量循环，使用者可以重塑或仿真操控条件下（温度、pH）过程的变化，通过比对谱图和描述元得出接种物引进的潜在影响因子。新款软件，界面友好iCinac的另一个重要革新是PC系统与仪器部分整合在一块，这样就允许使用者通过一个大的简易操作的触摸屏来操控仪器分析单元。软件也经过了重新构思设计，界面友好直观，无经验的操作者或技术人员也能很方便的操作。软件与Windows的兼容，可以自动运行操作： ◆ 温度补偿 ◆ 点追踪 （温度，PH，时间等） ◆ 开启水浴加热 ◆ 计算所有特征点 ◆ 实时保存数据 ◆ 绘制各种类型的曲线 ◆ 追踪pH校准 ◆ 创建及管理数据库（均值曲线，标准偏差等）附件及选配 ◆ 输出模块：所有输出模块可选并与iCinac匹配，多达32个通道可选，数字信号输出，模拟信号输出为4-20 mA和 0-10 VDC； ◆ 多参数数字式电极：这些数字式电极结合了ISM技术，可以在一个通道上同时读取3条数据，包括pH值，温度和氧化还原电位； ◆ 其他传感器：其他电极或传感器包括用于测试电导率，溶解氧的； ◆ 清洗溶液和缓冲液：用于每次分析测试之前可以降低电极更换频率的电极清洗及校准的一整套溶液； ◆ 水浴装置：根据实验室配置，各种类型的水浴装置都可以。【国内客户】 丹尼斯克（北京）菌种有限公司吉林省农业科学院石家庄君乐宝乳业有限公司科汉森(北京)贸易有限公司通用磨坊（中国）投资有限公司娃哈哈研究院生物工程研究所丹尼斯克（中国）投资有限公司 杜邦营养与健康上海中心辽宁辉山乳业集团有限公司哈尔滨工业大学食品学院帝斯曼（中国）有限公司光明乳业研究院中粮营养健康研究院有限公司丹尼斯克（中国）投资有限公司内蒙古伊利实业集团股份有限公司金山分公司丹尼斯克（中国）投资有限公司杭州娃哈哈集团制盖启力公司 菌种车间广西一品鲜 / 丹宝利 / 乐斯福内蒙古蒙牛乳业（集团）股份有限公司南昌大学食品学院新希望乳业股份有限公司绿雪生物工程（深圳）有限公司中国海洋大学食品科学于工程学院河北一然生物科技有限公司北京工商大学