去甲基羟基唑拉西泮标

申贝科学仪器药品快速检验箱用途：药品快筛检测箱针对于药品安全监管部门对药品、化妆品、保健品等的现场快筛检测其它：对药品、化妆品、保健品等的现场快筛检测药品快速检验箱是与药品快筛试剂盒配合使用，试剂盒随筛查任务的不同可自由组合成单项品种筛查检测箱和多项品种筛查检测箱。便携式检测箱可重复使用，适合各级食药检机构和执法部门现场筛查，满足现代药检“靶向抽样，目标检验”的药检新要求，以提高不合格药品检验的命中率。 功能特点：1、操作简单：无需专用设备，体积小巧、携带方便、利于现场筛查。2、快速检测：每种试剂盒5分钟内完成检测。3、价格适宜：每个样品仅需花几元至十几元人民币。4、专业平台：配有专用操作平台和齐全附件，使用方便。5、自由组配：箱内试剂盒可随筛查任务不同自由组合。6、实用性强：在全国二十多个省市打击健康产品中非法添加化学成分活动中推广应用。 药品快速检验箱可选择的保健食品、化妆品、药品快速检测盒列表 药品、保健食品非法添加快筛试剂盒快筛类别检测成分适用范围补肾壮阳类拉非类补肾壮阳类中成药、抗疲劳类保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加他达拉非、氨基他达拉非等物质。那非类补肾壮阳类中成药、抗疲劳类保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加西地那非、豪莫西地那非、羟基豪莫西地那非、红地那非、那红地那非、艾地那非等物质。减肥类西布曲明减肥类健康产品非法添加盐酸西布曲明成分酚酞减肥类健康产品非法添加酚酞成分。降糖类双胍类降糖类中成药、调节血糖或辅助降血糖保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加盐酸二甲双胍、盐酸苯乙双胍、盐酸丁二胍等成分。噻唑烷酮类降糖类中成药、调节血糖或辅助降血糖保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加罗格列酮、吡格列酮等成分。磺脲类降糖类中成药、调节血糖或辅助降血糖保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加格列本脲、格列美脲、格列齐特、格列吡嗪、格列喹酮、甲苯磺丁脲等成分。降压类二氢吡啶类降压类中成药、保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加硝苯地平、尼群地平、尼莫地平等成分。生物碱类降压类中成药、保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加利血平、盐酸哌唑嗪、厄贝沙坦、阿替洛尔、卡托普利等成分。安神类苯二氮卓类安神镇静类中成药、保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加劳拉西泮、奥沙西泮、地西泮、硝西泮、氯硝西泮、氯氮卓、艾司唑仑、三唑仑、阿普唑仑等成分。褪黑素未标识“含褪黑素”安神类中成药和保健食品中褪黑素成分。巴比妥类安神镇静类中成药、保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加苯巴比妥成分。止咳平喘类磺胺类止咳平喘类中成药和保健食品及其他标识上述功能的健康产品中非法添加磺胺甲噁唑、磺胺异噁唑、磺胺嘧啶、磺胺甲基嘧啶、磺胺二甲基嘧啶、磺胺喹噁啉、磺胺间二甲基嘧啶、磺胺甲氧嘧啶、磺胺对甲氧嘧啶、磺胺间甲氧嘧啶、磺胺邻二甲氧嘧啶、磺胺氯哒嗪、磺胺甲氧哒嗪、磺胺苯酰、磺胺多辛（周效磺胺）等成分。沙丁胺醇止咳平喘类中成药和保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加沙丁胺醇成分。抗风湿类双氯芬酸抗风湿类中成药、保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加双氯芬酸等成分。吡罗昔康抗风湿类中成药和保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加吡罗昔康成分。其它苯妥英钠抗癫痫类保健食品及其他标示上述功能的健康产品非法添加苯妥英钠成分。人血白蛋白真假人血白蛋白的快速筛查。化妆品非法添加快筛试剂盒快筛类别检测成分适用范围祛痘、抑制粉刺类甲硝唑祛痘、抑制粉刺类化妆品非法添加甲硝唑、奥硝唑、替硝唑等成分。林可霉素类祛痘、抑制粉刺类化妆品中非法添加林可霉素、克林霉素、克林霉素磷酸酯等成分。喹诺酮类祛痘、抑制粉刺类化妆品中非法添加氧氟沙星、恩诺沙星、诺氟沙星、环丙沙星、双氟沙星、氟甲喹、达氟沙星、培氟沙星、依诺沙星、洛美沙星、喹噁酸等成分。硝基咪唑类祛痘、抑制粉刺类化妆品非法添加甲硝唑、奥硝唑、替硝唑、洛硝唑、塞克硝唑、羟基甲硝唑、二甲基甲硝等成分。酰胺醇类（氯霉素）祛痘、抑制粉刺类化妆品中非法添加氯霉素成分。磺胺类祛痘、抑制粉刺类化妆品中非法添加磺胺甲噁唑等物质。四环素类祛痘、抗粉刺化妆品和护肤品类产品中非法添加四环素成分。美白祛斑类重金属铅美白类、祛斑类化妆品中重金属铅重金属汞美白类、祛斑类化妆品中重金属汞重金属镉美白类、祛斑类化妆品中重金属镉其它酮康唑去屑洗发类化妆品非法添加酮康唑物质。苯二胺类染发剂类化妆品中非法添加对苯二胺、邻苯二胺、间苯二胺等成分。基本药物快筛试剂盒快筛类别检测成分检测对象解热镇痛、抗炎、抗风湿类对乙酰氨基酚标示含对乙酰氨基酚化学成分的基本药物。布洛芬标示含布洛芬化学成分的基本药物。双氯芬酸标示含双氯芬酸化学成分的基本药物。阿司匹林标示含阿司匹林化学成分的基本药物。吲哚美辛标示含吲哚美辛化学成分的基本药物。平喘类茶碱

1-甲基咪唑产品名称:N-甲基咪唑英文名称:1-methyl-1H-imidazole中文别名:1-甲基-1H-咪唑 1-甲基咪唑 分子式C4H6N2分子量82.10380CAS NO：616-47-71-甲基咪唑外观无色至淡黄色透明液体含量≥99.0%水分≤0.5%用 途：1-甲基咪唑有机合成中间体和树脂固化剂、粘合剂等。包 装：1吨/桶，200kg/桶1-甲基咪唑1-甲基咪唑运输贮存：本品应贮存在通风、干燥的库房内，不得与有毒物品混存，在运输中应轻装轻卸，防止内包装破裂，本品极易吸潮。

2-甲基咪唑英文名称；2-Methylimidazole中文别名：2-甲基甘噁啉 2-甲基-1H-咪唑 2-甲基-1,3-氮杂茂 CAS NO：693-98-1产品性质：本品为白色至类白色结晶性粉末或颗粒，有吸潮性，溶于水、醇中，难溶于苯。有毒，对皮肤、粘膜有刺激性和腐蚀性。外观白色至类白色结晶性粉末或颗粒水份≤0.3%含量≥99.0%(GC)用 途：1、用于生产甲硝唑、二甲硝咪唑等药物中间体 。　2、可用作环氧树脂等固化剂，纤维织品染料的辅助剂。3、也可用在制备泡沫塑料 时的添加剂。包 装：500kg/袋，25kg/桶或袋。运输贮存：本品应贮存于阴凉、通风、干燥库房中，远离火种、热源，防热、防潮、防水、防晒，运输中轻装轻放,以防包装破损,保持密封。

2,4-二羟基苯甲酸广东厂家产品名称：2,4-二羟基苯甲酸CAS：89-86-12,4-二羟基苯甲酸标准：国标含量：99%2,4-二羟基苯甲酸外观：白色粉状2,4-二羟基苯甲酸包装：25KG/复合编织袋 可拆分成份：2,4-二羟基苯甲酸2,4-二羟基苯甲酸理化属性：白色针状结晶。微溶于水，易溶于有机溶剂类别：化工日化2,4-二羟基苯甲酸行业：化工日化领域：农药添加2,4-二羟基苯甲酸下延产品：农药杀菌剂运用：农药杀菌剂加工市场缺货产品热销碳酸锶 定价35肉桂醛 定价32 肉桂酸 定价48氧化铋 定价270胆汁酸 定价60己二酸 定价15油酸乙酯 定价35溶剂红52 定价800甘油缩甲醛 定价35肉桂酸乙酯 定价60叶醇（新和成） 定价540氟虫腈 95% 定价760 戊唑醇 97% 定价160增产胺 98% 定价395溴虫腈 98% 吨位350氯菊酯 95% 吨位160咪唑乙醇 99% 定价3004-硝基咪唑 99% 吨位310二硫氰基甲烷 定价175氟氯氰菊酯 95% 吨位325对羟基肉桂酸 99% 定价190铃兰醛（芬美意） 定价150甘氨酰胺盐酸盐 定价120厂家，现货，价格，广东，便宜，用途，作用，技术，含量，规格，标准，质优价廉，性状，性质，报价，CAS编号，海关HS编码，供应商，生产商，生产企业，市场行情，应用，市场前景，原料

本仪器按《中华人民共和国药典》2020年版四部 通则 0613凝点测定法设计制造，测定药物由液体凝结为固体时候，在短时间内停留不变的最高温度。二丁基羟基甲苯凝固点为约69-70度。仪器硬件方面采用65K真彩5.7寸触屏，热感性微型打印机，高精度温度传感器，从而使仪器的品质实实在在看得见；软件方面采用了流行的硬件看门狗加软件陷井，二阶滤波加去极值平均滤波算法使仪器的抗干扰大幅提升。操作中直观的中文提示使试验变得更加轻松。一、主要技术特点1、规格型号：HSY-0613G2、测试范围：室温～ 90℃3、控温精度：0.1℃4、测试精度：±0.1℃5、温度检测：Pt100 （1/3DIN B级）6、加热方式：不锈钢电热管加热7、显示方式：TFT 65K色 全触摸 5.7寸工业液晶屏显示（曲线/数据）8、报告输出：20列汉字点阵热感打印9、试样搅拌：机械搅拌 双样10、作样单元：双样11、主机功率：≤1000W12、外形尺寸(宽高深)：320 X 500 X 46013、工作电源：AC220V±10% 50HZ 14、工作环境：相对湿度：〈80% 15、温度：0～45℃ 二、主要技术参数及指标1、本仪器成套包含做样和加热控制部分。2、本仪器采用真彩全触摸屏式，操作简单，方便，美观。3、仪器做样部分采用铝板喷塑制作，耐腐蚀，无振动，延长使用寿命。4、浴体采用耐低温双层真空透明杜瓦瓶，透明观察，保温效果优良。5、传感器采用1/3DIN B级 Pt100，感温灵敏，分辨率高,抗干扰性强、测温精度高。6、试样搅拌采用机械搅拌，很好的解决了电磁搅拌高温失效的问题。7、仪器做样采用灯光照明，方便观察，显示直观。8、内置仪器自检程序，方便调试检修。

中文名称1,3-二羟基丙酮英文名称Dihydroxyacetone中文别名二羟基丙酮CAS RN96-26-4EINECS号202-494-5分 子 式C3H6O3分 子 量90.0779用途：医药中间体、化工原料和食品添加剂。1,3-二羟基丙酮作为医药中间体，能合成一些治疗心血管疾病药物；1,3-二羟基丙酮酮可应用于化妆品中，能阻止皮肤的水份的过度蒸发，对皮肤起到保湿和防晒作用，防紫外线辐射我公司关于订购说明：1、质优价廉，量大从优，欢迎您的订购；2、物流信息：快递、汽车物流等；3、其他服务：如您对产品服务及技术指标有特殊要求，请及时通知我方；欢迎新老客户前来洽谈！订购流程：电话询单议价→签订合同→打款订货→安排发货→物流跟踪→货物送达→客户验收（7天产品质量异议期，15天产品数量异议期）→货物验收确认服务宗旨：竭诚提供 产品,售后服务客户满意。我公司产品出厂前均由质检部检验合格方可出货，质量有保证特别说明：1，产品价格会受到季节性波动影响，具体价格请客户来电核实2，产品都是完整包装，需拆分少量时价格会稍微提高3，大货急需的客户还请提前来电，我公司提前给您备货4，收货后请仔细确认完整性无损再签收，按该产品执行标准验收，如有产品不符，我们包退包换

产品名称：橄榄醇化学名 : 3,5-二羟基戊苯 产品别名：5-戊基间苯二酚；5-戊基苯-1,3-二醇；1,3-二羟基-5-戊苯 3,5-二羟基戊基苯 3-二羟基-5-戊苯 5-二羟基戊基苯英文名称：Olivetol英文别名：3,5-dihydroxyamylbenzene 5-Pentyl-1,3-benzenediol 5-Pentylresorcinol；Pentyl-3,5-dihydroxybenzeneCAS：500-66-3分子式：C11H16O2分子量：180.25纯度： 98%外观：棕红色粉末包装：25公斤/桶熔点：46-48℃闪点：110℃用途：保健品原料

广泛用作绝缘、润滑、防震、防尘油、介电液和热载体，以及用作消泡、脱膜、油漆和日用化妆品的添加剂等。 201甲基硅油具有各种优异的特性，因此在工农业生产，国防工业，科学研究及医疗卫生等部门，都得了极其广泛的应用。它广泛用于电气绝缘、脱模、消泡、阻尼、防震、滚压、防尘、防水、高低湿润等方面。 1、在机电工业中的应用：201甲基硅油广泛用在电机、电器、电子仪表上作为耐温、耐电弧电晕、抗蚀、防潮、防尘的绝缘介质、目前还用做变压器、电容器、电视机的扫描变压器的浸渍剂等。在各种精密机械、仪器及仪表中，用作液体防震、阻尼材料。201甲基硅油的消震性能受温度影响小，多用于具有强烈机械震动及环境温度变化大的场合下，使用的仪表如：飞机、汽车的仪表中。用于防震、阻尼、稳定仪表读数，还可作为液体弹簧，且于飞机的着陆装置中。2、在消泡剂中的应用：由于201甲基硅油表面张力小，且不溶于水，动植物油及高沸点矿物油中，化学稳定性好、又无毒，用作消泡剂已广泛用于石油、化工、医疗、制药、食品加工、纺织、印染、造纸等行业中，只要加入10-100PPM的硅油就具有良好的消泡剂作用。3、在脱模剂中的应用：由于201甲基硅油与橡胶、塑料、金属等的不粘性，又用做各种橡胶、塑料制品成型加工的脱模剂，及用于精密铸造中。用它做脱模剂不仅脱模方便，且使制品表面洁净、光滑、纹理清晰。4、在绝缘、防尘、防霉涂层中的应用：在玻璃、陶瓷器表面浸涂一层201甲基硅油，并在250-300℃进行热处理后，可形成一层防水、防霉和绝缘性的薄膜。用之处理绝缘器件，可提高器件的绝缘性能：用之处理光学仪器，能防止镜片、棱镜发霉；用之处理药瓶，能延长药品的保存期，并不使制剂因粘壁而损失；用之处理电影胶片的表面，可起润滑作用，减少磨擦，延长影片寿命。5、在润滑剂中的应用：201甲基硅油适于做橡胶，塑料轴承、齿轮的润滑剂。也可做为在高温下钢材对钢的滚动磨擦，或钢与其它金属磨擦时的润滑剂。6、在添加剂中的应用：201硅油可作许多材料的添加剂，如可作为油漆的增光剂，加少量硅油到油漆中，可使油漆不浮包、不起皱提高漆膜的光亮度，加少量硅油到油墨中，可提高印刷质量，加少量硅油到抛光油中（如汽车上光油），可增加光亮，保护漆膜，并有优良的防水效果。7、在医疗卫生中的应用：201甲基硅油对人体无生毒性，也不被体液分解，故在医疗卫生事业中，也被广泛应用。利用其消泡作用，制成了口服胃肠消胀片，及肺水肿消泡气雾剂等药用。在药膏中加入硅油，可提高药物对皮肤的渗透能力，提高药效。以硅油为基础油的某些膏药剂对烫伤、皮炎、褥疮等都有很好的疗效，利用硅油的抗凝血作用，可用其处理贮血器表面，延长血样贮存时间等。8、在其它方面中的应用：201甲基硅油在其它方面还有许多用途。如：利用其闪点高、无嗅、无色、透明且对人体无毒等特性，在钢铁、玻璃、陶瓷等工业和科研中，作为油浴或恒温器中的热载体。利用其抗切变性能好，可做液压油尤其是航空液压油。用其处理人造丝纺丝头，可消除静电，提高抽丝质量。在化妆品上加入硅油能提高对皮肤的滋润和保护作用等等。

本仪器按《中华人民共和国药典》2020年版四部 通则 0613凝点测定法设计制造，测定药物由液体凝结为固体时候，在短时间内停留不变的最高温度。二丁基羟基甲苯凝固点为约69-70度，测定凝点可以区别或检查药品的纯杂程度。 一、主要技术特点1、型号规格： HSY-0613A2、控温范围： - 20℃～90度3、控温方式： 数显PID温控仪4、控温精度： ±0.1℃5、加热方式： 不锈钢电热管加热6、制冷方式： 进口压缩机制冷7、观察方式： 双层保温杜瓦瓶透明观察8、工作方式： 双孔9、试样搅拌方式：自动机械搅拌10、制冷控制： 进口磁力泵11、加热功率： 800W 12、制冷功率： 500W13、整机功率： 1400W14、工作电源： AC220V±10% 50HZ 15、工作环境： 相对湿度：〈80%二、主要技术参数及指标1、本仪器成套分为两部分，左边部分为冷浴做样部分，右边为加热做样部分。做样系统为左右式的整体结构，仪器下部为电路控制部分，操作简单、方便。2、仪器采用数显PID温控仪控温，控温精度可达±0.1℃，其温度显示直观，读数准确，还可调整因温度传感器老化产生的误差。因控温精度的要求传感器采用Pt100，感温灵敏分辨率高，抗干扰强、控温精度高。3、本仪器的冷浴是采用双层真空保温瓶，能很好的透明观察试样,保温性能良好。4、本仪器搅拌方式采用自动机械搅拌。5、不需循环冷却水，采用风机风冷，接通电源即可制冷。6、仪器采用铜管做成冷室，恒温冷却循环浴,高能效的制冷器也可兼做其它循环冷却用。7、本仪器采用优质钢板成型加工，表面采用静电喷涂工艺、坚固耐用，抗腐蚀性强。8 、本仪器使用和维修均很方便。

国标GBT 32470-2016/GBT 5750.8/GB 5749-2022生活饮用水臭味物质土溴素和2-甲基异莰醇检验方法中使用的美国Supelco顶空固相微萃取装置：SPME顶空固相微萃取装置国标GBT土溴素和2-甲基异莰醇检验方法进口固相微萃取装置气相色谱质谱法检验测土溴素和2-甲基异莰醇国标GBT进口全套配置饮用水臭味物国标GBT 32470-2016/GBT 5750.8/GB 5749-2022生活饮用水臭味物质 土溴素和2-甲基异莰醇检验方法 本标准规定了测定生活饮用水及其水源水中的土溴素(Geosmin)和2-甲基异莰醇(2-methyli-sob-orne-ol,简称2-MIB)的顶空固相微萃取-气相色谱-质谱法。 本标准适用于生活饮用水及其水源水中土溴素和2-甲基异莰醇含量的测定。在生活饮用水中易导致嗅和味的两种常见物质为2-甲基异莰醇(2-MIB)、土溴素(GSM)。原理是利用SPME固相微萃取纤维头(萃取头)吸附样品中的土溴素(Geosmin)和2-甲基异莰醇(2-methyli-sobor-neol,简称2-MIB),顶空富集后用气相色谱-质谱联用仪分离测定水中溴味物质 土溴素和2-甲基异莰醇快速检验 固相微萃取气相色谱质谱法。国标GB中关于土溴素和2-甲基异莰醇检验检测气相色谱质谱法SPME固相微萃取装置全套进口设备生活饮用水溴味物质SPME固相微萃取装置美国merck默克sigma西格玛supelco色谱科进口固相微萃取仪Supelco色谱科手动上样自动气相气质联用包括固相微萃取专用衬管、固相微萃取采样台、固相微萃取手柄、固相微萃取纤维: DVB / CAR / PDMS纤维、进样导管、60mL棕色玻璃瓶、搅拌子等购买价格详细资料介绍参数用途使用方法等；　　※美国merck默克sigma西格玛supelco色谱科进口SPME固相微萃取[整套装置]及选配耗材※:　　序号、货号、名称描述　　①、51094 SPME手柄(手动/自动)　　②、53523 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)　　③、510381 SPME专用采样台用于4ml瓶　　④、513171 SPME专用采样台用于15ml瓶　　⑤、Z262137 SPME专用磁力加热搅拌装置　　⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子　　⑦、52244 SPME专用温度计　　⑧、51328 SPME专用进样导管(岛津不可用)　　⑨、55979 SPME专用专用采样瓶 4ml 　　⑩、55980 SPME专用专用采样瓶 15ml 欢迎来电联系 国标GBT 32470-2016/GBT 5750.8/GB 5749-2022生活饮用水臭味物质土溴素和2-甲基异莰醇检验方法中使用的美国Supelco顶空固相微萃取装置的具体配置清单价格等；

中文名称邻羟基苯乙酸英文名称2-Hydroxyphenylacetic acid中文别名2-羟基苯乙酸CAS RN614-75-5EINECS号210-393-2分 子 式C8H8O3分 子 量152.1399用　　途用作医药合成的重要中间体我公司关于订购说明：1、质优价廉，量大从优，欢迎您的订购；2、物流信息：快递、汽车物流等；3、其他服务：如您对产品服务及技术指标有特殊要求，请及时通知我方；欢迎新老客户前来洽谈！订购流程：电话询单议价→签订合同→打款订货→安排发货→物流跟踪→货物送达→客户验收（7天产品质量异议期，15天产品数量异议期）→货物验收确认服务宗旨：竭诚提供 产品,售后服务客户满意。我公司产品出厂前均由质检部检验合格方可出货，质量有保证特别说明：1，产品价格会受到季节性波动影响，具体价格请客户来电核实2，产品都是完整包装，需拆分少量时价格会稍微提高3，大货急需的客户还请提前来电，我公司提前给您备货4，收货后请仔细确认完整性无损再签收，按该产品执行标准验收，如有产品不符，我们包退包换

?甲基紫法安定性分析仪 应用领域：适合硝化棉的化学安定性的测定、分析；工作原理：按照甲基紫法，将试样置于专用试管中，按规定的温度下加热，测定试样受热分解释放出的气体使甲基紫试纸由紫色转变为橙色所需的时间，或试样连续加热到5小时是否爆燃，以其表示试样的化学安全性；试验方法：依据甲基紫试验法(MIL-STD-286C：120 和134,5℃)，在135°C左右该仪器可确定硝基纤维素和其它硝基化合物的热稳定性； 仪器技术及结构特点：1)重质铝材的加热块，电加热方式；2)24个样品孔，直径20.5 mm(MIL-STD-286C: 19 mm), 深度280 mm ISO绝缘板；3)温度传感器：PT100 探头；4)过温安全防护装置；5)PID温度程序控制器，单独控制箱；6)电源线长度：约2米； 7)数字显示实际温度以及设定温度；8)温度控制精度：±0.1℃；9)温度范围：可调节，60 ~ 140℃；10)试管，24个/套，包括圆柱形试管，带通气孔的软木塞和不锈钢弯钩；11)试管容积：外径20mm (MIL-STD-286C：18 mm)，内径17mm(MIL-STD-286C：15 mm) 长度290 mm；12)甲基紫试纸来检测硝基气体，200个/套；13)电源：230V /50Hz，功率：1500 VA；订购信息：进口甲基紫法安定性分析仪； ?

MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛SPME固相微萃取萃取头(PDMS/DVB 65μm)57310-U/57311MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛57310-U和57331 65μm PS-DVB 手动、自动固相微萃取萃取头，3支/盒SPME固相微萃取萃取头，二甲基硅氧烷/二乙烯基苯(PDMS/DVB)greener alternativedf 65 μm(PDMS/DVB, needle size 24 ga, for use with manual holder名称:SPME固相微萃取萃取头规格:PDMS/DVB 65μm 3支/盒品牌:MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛货号:57310-U/57311※产品详细说明※:一、基本信息产品编号：57310-U/57311品牌：MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛（美国品牌）规格：65μm PDMS/DVB（聚二甲基硅氧烷/二乙烯基苯）数量：通常为3支/盒应用范围：挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物（分子量范围约50-300）二、产品特点高效性：SPME技术集采样、萃取、浓缩、进样于一体，大大提高了分析效率。便携性：SPME固相微萃取头小巧轻便，便于携带，适合现场采集和富集样品。兼容性：能够与气相色谱、气相-质谱、液相色谱、液相-质谱仪等多种分析仪器联用。灵活性：手动或自动两种操作方式可选，满足不同实验需求。三、应用领域环保及水质处理：用于环境水样中污染物的检测。临床药理：药物残留溶剂（VOCs）的检测。案件分析：法庭样品中的毒物分析。制药：药物中残留溶剂的检测。化工：化工产品中挥发性成分的分析。食品与香精香料：食品、香精、香料中香味物质的分析。四、供应商购买信息供应商：多家公司如北京康林科技有限责任公司等提供该产品。五、注意事项在使用前请仔细阅读产品说明书，确保正确安装和使用。萃取头为精密仪器部件，请避免碰撞和损坏。使用过程中应注意安全和稳定性，避免高温、高压等极端条件。存储时应放置于干燥、阴凉处，避免阳光直射和潮湿环境。六、价格信息价格因供应商、促销活动等因素可能有所不同，具体价格请参考各供应商报价。综上所述，SPME固相微萃取头57310-U/57311是一款广泛应用于多个领域的精密分析仪器部件，具有高效、便携、兼容性强等特点。在购买和使用时，请务必注意相关事项以确保其正常工作和安全性。※PDMS/DVB 65μm SPME萃取头固相微萃取纤维头,是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有聚二甲基硅氧/-/烷/二乙烯基/-/苯 (PDMS/DVB) 双层色谱固定相或吸附剂的熔融石英的纤维头,SPME萃取头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品 ※固相微萃取(SPME)整套装置及选配耗材※:序号、货号、名称描述①、57330-U SPME手柄(手动或自动)②、2637505 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)③、57333-U SPME专用采样台用于4ml瓶④、57357-U SPME专用采样台用于15ml瓶⑤、PC-420D SPME专用磁力加热搅拌装置⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子⑦、57332 SPME专用温度计⑧、57356-U SPME专用进样导管(岛津不可用)⑨、27136 SPME专用专用采样瓶 4ml ⑩、27159 SPME专用专用采样瓶 15ml (11)固相微萃取头(SPME萃取头), (具体信息参见SPME萃取头订购信息)※Supelco SPME萃取头(固相微萃取头)订货信息※:订货号产品名称描述产品应用手动式自动式57330-U57331SPME手柄和萃取头连用573185731975um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(MW30-225)用于气体和小分子量化合物57334-U57335-U85um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(高保留)用于气体和小分子量化合物57302573037um PDMS 固相微萃取头,3支 (MW 125-600)用于非极性大分子量化合物573085730930um PDMS 固相微萃取头,3支用于非极性半挥发性化合物57300-U57301100um PDMS固相微萃取头,3支(MW 60-275)用于挥发性物质57310-U5731165um PDMS/DVB固相微萃取头,3支(MW 50-300)用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物57326-U57327-U65um PDMS/DVB固相微萃取头(不含弹簧2cm),3支用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物(MW 50-300)573045730585um,Polyacrylate, 固相微萃取头,3支 (MW 80-300)用于极性半挥发性化合物57328-U57329-U50/30um,DVB/CAR/PDMS,Stableflex固相微萃取头,3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)/5731760um PDMS/DVB 固相微萃取头(用于HPLC),3支用于胺类或极性化合物57348-U/50/30um DVB/Car on PDMS固相微萃取头(2cm),3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)5730657307SPME萃取头套装1用于挥发性和半挥发性物质85umPA,100um PDMS,7umPDMS各一支57320-U57321-USPME萃取头套装2用于水中挥发性或极性有机物75umCAR/PDMS.65umPDMS/DVB,85um PA各一支57323-USPME萃取头套装3用于SPME/HPLC分析60um PDMS/DVB,85um PA,100um PDMS各一支57324-U57325-USPME萃取头套装4用于香味物质分析100um PDMS,65um PDMS/DVB,75um CAR /PDMS各一支※美国MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛固相微萃取萃取头,PDMS/DVB 65μm SPME纤维头 ,部分交联,兰色平头,测挥发性物质、胺类和硝基芳族化合物质,色谱科货号57310-U ※聚二甲基硅氧烷二乙烯基苯 (PDMS/DVB) 固相微萃取萃取头57310-U/57311 SPME fiber assembly Polydimethylsiloxane/Divinylbenzene (PDMS/DVB)df 65μm(partially crosslinked phase, needle size 24 ga, for use with manual holder(Supelco) ※PDMS/DVB 65μm SPME萃取头固相微萃取纤维头,57310-U/57311是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有聚二甲基硅氧烷/二乙烯基苯 (PDMS/DVB) 双层色谱固定相或吸附剂的熔融石英的纤维头,SPME萃取头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品

Lovibond® 德国罗威邦® 水质分析 Lovibond 罗威邦 甲基橙碱度快捷测试套装 Minikit罗威邦 甲基橙碱度快捷测试套装 Minikit 采用片剂计数法快捷测试水样甲基橙碱度，量程为 10-500 mg/l CaCO3。罗威邦 Minikit 快速测试系列适用于现场快速测试，针对不同参数化学特性采用片剂计数法、滴定法、定性判断法、浊度法。可测参数有碱度、酸度、硬度、氯离子、氰尿酸、亚硝酸、正磷酸盐、季铵盐、硫酸盐、亚硫酸盐、硫、丹宁指数等。订购信息量程20-500 mg/l CaCO3，10-250 mg/l CaCO3试剂类型片剂测试方法片剂计数法化学方法甲基橙碱度包装次数根据测试量程不同约 50-100次补充试剂515320BT100片515321BT250片使用方法确定水样：20 - 500 mg/l CaCO3 范围内水样取 50 ml，10 - 250 mg/l CaCO3 范围内水样取 100 ml。添加片剂直到黄色变成红色：向水样中加入一个片剂，摇晃至溶解，观察颜色，再加入一片溶解，直到水样由黄色变成红色。记住片数。计算碱度：50 ml 水样:总碱度 (mg/l CaCO3) = (片剂数 x 40) - 20100 ml 水样:总碱度(mg/l CaCO3) = (片剂数 x 20) - 10冲洗干净容器 标准配置塑料盒片剂试剂装水样的容器必须的附件操作指南

随着空间三坐标测量仪、网络数据库技术与CAD/CAM技术日趋成熟，并得到广泛应用，特别是宽网技术的发展，使得在网络中传输数据的速度得到保证。经过实验研究表明，将三种技术融合为一体，能充分发挥它们各自的优势，能满足较高测量准确度和自动化程度的要求。下面跟随妙机小编一起了解三坐标测量仪系统的发展趋势。　　基于网络数据库技术的三坐标测量仪应用系统是通过网络数据库技术将三坐标测量仪连接到网络上，并作为多层应用系统的一层，允许改变系统的测量方案和数据处理方法，各数据库之间动态更新数据，实现应用系统的在线测量和离线分析。而且通过Internet或Intranet互联，进行数据传输、测量路径和分析方法的更新。它对远程测量和FMS制造系统有着重要的意义。　　综合上三坐标测量仪生产商小编给大家讲的知识，相信大家对这方面的资讯已经非常了解，如有疑惑可以关注我们妙机科技的咨询了解，我们将竭诚为您服务。妙机科技达到高要求生产和测试标准，生产设备齐全先进，目前在国内外占有一定的市场并享有较高的品牌知名度，未来将持续朝更高速、更高精度测量产品方向发展。

EXMC100-A防爆热成像双目枪机EXMC100-A防爆双目枪机，内置自研氧化钒非制冷红外探测器和高清可见光相机，满足全天候24小时安防监控需求。拥有双重防爆认证，机身各部件接合部位密封性能达到IP68防护等级。应用于油气储存、煤矿、危化品生产存储等，可在气体1区/2 区、粉尘21区/22区工作，助力企业安全生产。400×300红外分辨率9.1mm, 13mm,19mm镜头焦距39.5°×30.1°,28.2°×21.3°,19.5°×14.7°视场角≤40mK热灵敏度

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

DMV12/28 是按照甲基紫试验程序测试和评价硝化纤维、硝化甘油和硝化甘醇等的热稳定性。仪器也可用于测试高能炸药的热稳定性。该方法主要利用硝酸酯分解产生的NO2来评价被测物质的稳定性，稳定性通过试纸颜色的变化来确定。测试时间从样品插入加热模块到试纸颜色产生变化。符合标准：STANAG 4178MIL-STD-286CCOS 137602Sample positions12 / 28Hole size (diameter x depth)19 x 285 mm or as requiredTemperature accuracy± 0.1 °CTemperature limit+200 °CSample weightdefined by standard Size (WxDxH) DMV 12 30 x 33 x 49 cmSize (WxDxH) DMV 2835 x 37.5 x 49 cmWeight45 / 70 kgMains supply110 or 230 VPower1000 W

人25羟基维生素D3（25（OH）D3/25 HVD3）ELISA试剂盒用于体外定量检测血清，血浆，细胞培养上清液，组织匀浆,心房水样本等中的人25羟基维生素D3

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甲基紫测试仪产地：德国简介：在135℃时，采用甲基紫测试法，测定硝基纤维素火药和消极化合物的热稳定性（美军标MIL -STD-286C：120和134,5 °C）。仪器包含：? 重铝加热块，电子加热；24孔，20.5 mm ? (MIL -STD-286C: 19 mm)，深度280mm；采用ISO隔离板；温度传感器：PT100；超温安全装置；? 采用单独的控制箱放置可程序化加热控制器（PID）；电源线长，约2m；数字显示预设温度和实际温度值，控制精度：±0.1℃；可调温度范围：60-140℃；? 24个圆柱测试管，带有制动器和不锈钢钩，制动器上有通气孔；测试管尺寸：外直径? 20mm (MIL -STD-286C:18 mm)；内直径17mm (MIL -STD-286C :15 mm)；长度290mm；? 200张甲基紫试纸，用于检测一氧化二氮气体； 电气连接：230V，50-60Hz；功率消耗：1500VA；

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产品用途：　　山东善达仪器有限公司生产的蜂蜜羟甲基糠醛检测仪采用全新安卓智能系统，台式一体化设计，应用于现场检测蜂蜜蔗糖、葡萄糖和果糖、羟甲基糠醛、酸度、农残、淀粉酶、脯氨酸、水分、糖分、灰分含量的蜂蜜快速检测仪，可广泛应用于各类蜂蜜品质的快速定量检测。　　技术指标：　　1、仪器采用台式一体化系统检测技术，将分光光度模块、数字化管理模块、无线通讯模块高度集成于一体，支持检测几十种食品安全检测项目，同时预留升级检测方法。　　2、仪器检测模块标准化、智能化，检测项目可随意自由组合。检测箱体内置多个标准检测单元，检测模块可以调整配置。　　3、显示屏幕：仪器采用10.1英寸液晶触摸屏显，搭配运行安卓智能操作系统，主控芯片采用ARM Cortex-A7，RK3288/4核处理器，主频1.88Ghz，操作方便，性能更强。　　4、检测通道：≥12通道 采用精密旋转比色池设计，使用同芯片同光源校准精度，解决不同光源之间的误差值，更加准确高效。　　5、仪器光源：高精度进口四波长冷光源，每个通道均配置 410、520、590、630nm 波长光源，标配先进的光路切换装置，专利光路切换功能可实现64波长，并且所有检测项目可实现所有通道同时检测。　　6、通讯接口：配备无线通信模块、可选配4G(APN)通讯模块和蓝牙传输，同时具有USB接口，可以多方式实现数据保存及数据传输。　　7、存储方式：支持U盘存储，标准USB接口，免驱动安装。检测结果存储容量20万条以上，可生成Excel表格进行拷贝，并具有登录保护功能。　　8、智能化操作系统：　　8.1、操作系统：仪器可在同一检测界面自动对应相关检测通道，一次性选择1-12个样品名称，无需退出界面，节省操作时间。并可以对每个通道属性和样品信息单独进行编辑，例如送检单位、人员，检测人员等，打印时勾选打印显示。　　8.2、限量规判系统：具有限量查询、添加物质合规判定系统。检测出结果后，系统自动调用系统数据库中相关国标进行比对判定，客观显示结果是否合格。　　8.3、数据监管系统：同步对接监管平台，数据可局域网和互联网数据上传，检测结果可选择直接传至食品安全监管平台。进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计，检测区域食品安全长短期动态，达到食品安全问题预估、预警。　　8.4、打印系统：内置全新打印机，可以打印：项目名称，二维码，抽样信息、检测信息，受检信息、复核信息、抽样日期、检测日期等信息的打印。　　9、供电模式：仪器交直流两用，直流12V供电(标配)，可连接车载电源，亦可选配6ah大容量充电锂电池，电量可实时显示，方便户外流动测试。　　10、仪器具有重新校准、锁定、恢复出厂设置功能。