纳米纸

纳米颗粒制备仪 桌面式喷雾燃烧合成纳米颗粒材料火焰喷雾热解(FSP)是一种多功能经济高效的纳米颗粒生产工艺。它依赖于含金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000度的温度燃烧。产品纳米颗粒在几毫秒内形成在过滤器上以干粉的形式收集。 火焰喷雾热解工艺受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。主要特点：实验室规格火焰喷雾反应器低脉动注射可精确输送液体前体用于输送工艺前体的质量流量控制器:火焰检测器集成微处理器、电子板。用于过程控制，通信通过rs232玻璃纤维过滤器：干式旋式真空。用于产品粉末的收集压力及温度计以监察过滤器的状态。

纳米颗粒制备 我司提供专业的纳米颗粒制备仪，可以满足用户不同需求的应用。100克至几批的纳米颗粒批次每年可以用ParteQ的FSP生产系统。这些单元可以连续运行，允许甚至可以生产24/7纳米粉。此外，通过ParteQ获得的结果。实验室规模的系统可以转移到更大的生产单位。例如，纳米材料用ParteQ NPS-20台式机开发系统或类似的实验室反应堆可以是用我们的公斤数量制造连续的FSP工厂。 ParteQ提供三条不同尺寸的线用于纳米粒子生产：建议将S系列用于几百克M系列是最适用于500 g至50 kg的数量。L系列针对想要的客户连续生产纳米粒子每小时几公斤，目标是超过50公斤每年最多。 ParteQ S系列，M系列和L系列为一站式服务包含用于前体和模块的系统气体输送，纳米颗粒生成和产品集合。各个模块可以为顾客量身定制。 S系列：50克/小时S系列基于实验室规模的Flame喷雾热解反应器也是NPS-20台式系统。而NPS-20旨在产品开发，提供每批次纳米克量的S系列可以制造几百克相同的纳米材料。例如，当连续生产约50克/小时，可以将300克纳米颗粒。在一天之内轻松获得。ParteQ FSP S系列：连续纳米粉。实验室规模的合成。最适合生产纳米颗粒的批量可达?500 g。 S系列是完全封闭的独立式系统。移动钻机基于铝大型检修门的型材。所有FSP必需的组件已集成进入钻机：火焰喷雾热解反应器流量控制器，前驱泵，颗粒集尘袋式过滤器，离心风机以及入口和出口安全过滤器。 M系列：500克/小时，如果千克数量的纳米颗粒是需要，中型M系列是系统选择。生产能力从约100克/小时，可达2千克/小时，取决于产品材料和操作条件。该系统由PLC，甚至允许使用24/7纳米粉生产。 实际上，M系列已经是一个很小的过程固定的脚印的工厂大约4 m x 6 m。房间高度应在至少5 m。 L系列：5,000克/小时L系列是真正的纳米粉产品，可以连续运行的工厂，每周7天24小时。操作范围开始大约每小时1公斤，可能会超过5公斤/小时，取决于产品材料和条件。 L系列的设计类似于较小的M系列，但使用的组件更大的尺寸。例如，搅拌250或500 L建议使用前驱箱涵盖一天的原料供应。喜欢M系列，该系统是全自动的并由PLC控制。与M系列一样，所有L系列工厂为客户量身定做。

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

纳米颗粒制备仪 大型实验室喷雾燃烧合成纳米颗粒材料火焰喷雾热解(FSP)是一种多功能经济高效的纳米颗粒生产工艺。它依赖于含金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000度的温度燃烧。产品纳米颗粒在几毫秒内形成在过滤器上以干粉的形式收集。 火焰喷雾热解工艺受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-M是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-M设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。主要特点：实验室规格火焰喷雾反应器低脉动注射可精确输送液体前体用于输送工艺前体的质量流量控制器:火焰检测器集成微处理器、电子板。用于过程控制，通信通过rs232玻璃纤维过滤器：干式旋式真空。用于产品粉末的收集压力及温度计以监察过滤器的状态。

金属纳米颗粒制备 金纳米材料具有众多易于调控的特性，比如局域表面等离子共振、表面增强拉曼、光致发光、易于表面修饰和生物相容性好。这使得金纳米材料广泛应用于我们生活的多个方面。合成金纳米颗粒常用的制备方法有很多，其中，直接FSP火焰喷雾燃烧法生长法应用广泛。金属纳米颗粒制备采用火焰喷雾热解工艺，受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。纳米颗粒制备仪主要特点：1产品纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，高表面活性，松装密度低，气相法制备，克服了市场上湿化学法制备的颗粒硬团聚、难分散、纯度低等缺点；2表面存在大量的不饱和残键及不同键合状态的羟基，因表面欠氧而偏离了稳定的硅氧结构，所以具有高反应活性，粉体松装密度比较小，容易分散使用；3纳米颗粒晶相稳定、硬度高、尺寸稳定性好，可应用于各种塑料、橡胶、陶瓷产品的补强增韧，特别是提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和高分子材料产品的耐磨性能尤为。由于颗粒也是性能优异的远红外发射材料，作为远红外发射和保温材料被应用于化纤产品和高压钠灯中。4公司可以进行针对性的表面处理包裹，使得纳米粉体可以稳定地分散在溶剂体系中，形成透明状或半透明状溶胶，应用在涂料、玻璃表面、电子封装等

微流控纳米药物制造系统纳米颗粒制造技术，是纳米技术领域的技术前沿，其尺寸依赖特性，使这些材料在许多领域表现出了优势。此项技术已应用于诸多行业，如药物输送、能源和电子等。纳米颗粒合成技术是实现纳米颗粒应用的步骤之一。与传统的批处理合成方法相比，PreciGenome 搭建的纳米颗粒合成系统表现出了极大的优势，其通过微流控技术，在纳米颗粒尺寸均一性和形状控制方面都表现出其优势。有效载体DNA/mRNA/siRNA小分子药物 Small molecule drugs蛋白质和多肽 Proteins and peptides其它有效载体 Other payloads应用领域药物输送核酸脂质纳米颗粒合成聚合物纳米颗粒合成，如PLGA，PLGA-PEG脂质/脂质体合成凝胶颗粒合成Flex-S产量为0.1-1ml的产品已经上市，非常适合昂贵的mRNA。纳米颗粒合成原理脂质试剂：更多产品详情，请联系哲本仪器：

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

纳米高压均质机用途：　　可应用于二氧化硅，蜡，环氧，丙烯酸，纤维素，硅酮乳液，润滑剂，TiO2油墨，颜料涂料，CNT，碳，BT ,,石墨烯，氧化铝。乳液，奶油海藻萃取等　　各种技术的剪切率　　剪切率:　　通过供给分散单元和狭窄间隙之间的差动速度引起的。　　速度:　　在分散单元内约有 400~ 500m/s　　碰撞:　　受到碰撞的力量　　速度超过 400 m/s，剪切率达 107s-1，整批混合条件不变，可用和负担得起的可扩展性。　　NLM100: 75?m Z 型和 100?m Z 型　　NH500: 100?m Z 型和　　200?m Z 型, NH4000: 400?m Z 型 (过滤) - 100?m Y 型(multi slots-多槽)　　纳米高压均质机新技术的出现要求先进的材料处理，特别是化学，电子材料。　　样品的供给和排出可以通过柱塞来完成，从左到右依次移动。柱塞的移动导致相互作用使分散单元内压力升高。　　当高压流体样品通过相互作用的分散单元时，其速度突然增加到跨音速流体（马赫数 1）并引起剪切机和空穴作为分散的动力源。　　大工作压力（设计） 1700bar（2000bar)控制系统液压系统驱动大流量480L/H均质腔型号Z /Y型，孔径 100/200/400μm外形尺寸3090L*1000W*2160H电力需求380v，50HZ，37kw重量2000kg　　※ 可以根据客户不同种应用定制合适的搭配　　※ 利用样品与样品之间的湍流和对撞来实现样品的处理，样品污染的风险更小！　　※ 大耐压可达 30000psi，超过目前所有的样品处理设备，可达到更大的剪切力，空穴和湍流的效果！　　※ 金刚石内置层，更加耐磨，适用于更多的颗粒坚硬的样品处理　　苏州纳洛泰仪器有限公司专业销售微射流高压均质机，超高压纳米微射流，纳米粉碎机，纳米高压粉碎机，微射流纳米均质机，脂质体挤出器，超高压灭菌柜，primix高速分散机，微反应乳化机，高压分散器等工业用设备, 成套设备以及研究装备的企业.

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介TNI LF-2000是兼容SEM/FIB的自动化纳米操作系统，也是能够在SEM/FIB下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。产品特性 兼容主流电镜，不影响电镜功能 具有大行程、亚纳米分辨率运动定位性能 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数系统概况系统尺寸127x127x33mm3*机械手数量1-4操作手（宏动）驱动原理粘滑驱动运动范围XY轴：10mm Z轴：5mm速度3mm/s最小步长100nm操作手（微动）驱动原理无摩擦柔性铰链运动范围XYZ轴：20μm速度45μm/s开环运动分辨率0.5nm闭环运动分辨率1nm定位漂移率0.35nm/min软件功能**点击-移动鼠标在电脑屏幕上从A移动到B自适应放大倍数定位器移动速度根据SEM放大自动调整操作手位置保存/加载用户自定义的“保存/加载”操作手坐标3D虚拟显示实时三维显示操作手的位置和运动自动校准操作手闭环传感器自动校准运动轴的自动对准所有操作手运动轴自动对准SEM图像轴*系统尺寸可根据需要减小到50x50x17mm3**可根据选定SEM/FIB的型号而定应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。实例照片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，实例照片展示的是用球端AFM悬臂探针对硅纳米线簇进行纳米压痕，以及对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。实例照片展示的是纳米线FET传感器的构造。纳米电子器件电学测量LifeForce纳米操作机是市面上能够自动探测电子结构（范围从亚微米，亚100nm及亚20nm）。只需要通过计算机点击鼠标，将探针定位到目标位置。极低得定位漂移，保证数据采集得可靠性。 主要软件功能①　位置反馈：提供每个操作手XYZ精确得位置反馈，1纳米运动定位分辨率。②　保存/加载坐标：保存和加载多个操作手得坐标。③　自动校准：限度地提高定位性能，并将操作手运动轴对准扫描电子显微镜图像轴。④　3D虚拟显示：实时3D虚拟空间显示操作手（粉红色方块）和样品（绿色平面）得位置。⑤　点击-移动：通过在屏幕上鼠标点击控制操作手运动。⑥　多操作手联动：连接多个操作手得运动，具有纳米级精度。⑦　图片-视频录制：保存操作过程中的高清图片和视频。

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

微流控纳米药物脂质纳米颗粒LNPs仪碰撞喷射混合器碰撞喷射混合器IJM纳米药物制造LNPsLipid nanoparticles (LNPs) Impingement Jets Mixing Small Scale德国/KNAUER基于 mRNA 新冠病毒疫苗的研发，脂质纳米颗粒（LNPs）已经被证实是用来递送 RNA 药物、疫苗的有效载药方式。LNPs 封装包裹易降解活性成分，模拟低密度脂蛋白 (LDLs)，由内源性途径摄取。LNPs 对 pH 值敏感，其设计目的是将其有效载荷释放到细胞质中。这将是接种疫苗历史上首次大规模使用核酸脂质纳米颗粒。新的医学发展使药物及其活性成分日益复杂，并带来了新的挑战。例如，寡核苷酸很容易在人体内降解。zui新研究表明 LNPs 可以形成一个用来保护活性成分（如：RNA、mRNA、siRNA 或基于 DNA 的 API）的稳定环境。像核酸类药物和向靶细胞运送途径的优化是当下非常热门的研究领域。总部位于德国柏林的高科技实验室仪器制造商 KNAUER，主要以液相色谱系统、SMB、连续流层析闻名。通过结合在高压加料和实验室系统工程方面的丰富经验，成功开发生产制药脂质纳米颗粒的合成设备 —— LNPs 制药生产装置。详情介绍KNAUER 的喷射混合技术在小规模和大规模的疫苗脂质纳米颗粒生产中表现出优异的性能。可为研发用户提供小型桌面设备，并为制药行业提供完整的 LNPs 装置。LNPs 生产系统，也称为 IJM 设备（冲击喷射混合）经过设计和优化，满足客户性能要求及法规要求。并成功在洁净间（C 级）内进行了安装及验收。该系统预留了所有必须的接口，用于集成到客户自己的 PLC（可编程逻辑控制器）系统中。不同型号的技术参数：Pilot Scale UnitSmall Production Scale Unit(Customized) Large Production Scale Units*Number of impingement jets mixers12up to 8Number of pumps48up to 16Number of flow meters48up to 16Number of valves12—Process connection inlet**1/2" Tri-clamp (4 inlets)3/8" and 1/4" barbed fitting (6 inlets)Sanitary Clamp Connector (2 inlets)Process connection outlet**1/2" Tri-clamp (1 outlet)1/4" barbed fitting (2 outlets)Sanitary Clamp Connector (1 outlet)Volumetric flow rateup to 1 l/minup to 2 l/mindepending on configurationVolumetric flow rateup to 60 l/hup to 120 l/hdepending on configurationMaximum operating pressure***100 bar100 bar50?70 barLiquid temperature range4?60 °C (39.2?140 °F)4?60 °C (39.2?140 °F)4?60 °C (39.2?140 °F)Wetted materialsstainless steel, PEEK, titanium, FFKM, PTFE (GFP 55), aluminum oxide, ruby, sapphire, EPDMstainless steel, PEEK, titanium, FFKM, PTFE (GFP 55), aluminum oxide, ruby, sapphirestainless steel, PEEK, titanium, FFKM, PTFE (GFP 55), aluminum oxide, ruby, sapphire, EPDMSoftwareCDS, 21 CFR part 11compliantCDS, 21 CFR part 11compliantnot included, necessary interfaces for the integration into PLCInterfacespump: LAN, RS-232, pin header connectors flow meter: RS-232 + FLOW-BUS™ valve drive: LANpump: LAN, RS-232, pin header connectors flow meter: RS-232 + FLOW-BUS™ valve drive: LANpump: LAN, RS-232, pin header connectors flow meter: RS-232 + industrial interfacesPower supplypump: 100–240 V, 50–60 Hz flow meter: +15… 24 V DC, valve drive: 24 V DCpump: 100–240 V, 50–60 Hz flow meter: +15… 24 V DC, valve drive: 24 V DCpump: 100–240 V, 50–60 Hz flow meter: +15… 24 V DCPower consumption (per device)pump: maximum 320 W flow meter: 3 W valve drive: 65 Wpump: maximum 320 W flow meter: 3 W valve drive: 65 Wpump: maximum 320 W flow meter: 3 WAmbient conditionstemperature range: 4–40 °C 39.2?104 °F below 90 %humidity (non-condensing)temperature range: 4–40 °C 39.2?104 °F below 90 %humidity (non-condensing)temperature range: 4–40 °C 39.2?104 °F below 90 % humidity (non-condensing)Dimensions (W x H x D)900 x 915 x 700 mm1000 x 1290 x 700 mmdepending on configurationNet weight (approx.)150 kg250 kgdepending on configurationAPI-predilution and quenchingYesYesdepending on configurationGMP-ready documentationYesYesYesFactory acceptance testYesYesYesSite acceptance testYesYesYesPurchase order lead timeabout 3 monthsabout 3 monthsminimum 5 months, depending on customer requirements深圳市富彻尔生物科技有限公司地址：深圳市龙岗区横岗街道深华街1号林展财富大厦315室，广东省客服：销售：手机：邮箱：官网：

Linas-M脂质纳米颗粒制造平台 简单介绍Linas-M脂质纳米颗粒制造平台，是用于开发和制造尺寸可控的，功能性脂质纳米粒的原创微流体装置。其他公司的传统混合器设备专注于快速混合，因此，即使在低流速条件下，它们也能产生小颗粒。但是响应于流速变化的颗粒尺寸变化的范围窄。另一方面，ILIP芯片不会在低流速下诱导快速混合，并且作为流速函数的颗粒尺寸变化是渐进的。随着流速的增加，出现局部涡流并加速稀释，即使在混合和稀释性能通常饱和的流速范围内。结果，响应于流速变化的颗粒尺寸变化范围非常宽。制造的纳米颗粒直径可控制在20纳米至150纳米。产品优势l 内置储液罐和高精度注射泵。使用少量试剂，可以获得具有高流量精度和高制造再现性的颗粒原型。l 可以使用具有各种流路形状的微流控芯片（定制是收费的）。入口/出口最多可使用4个端口。l 内置控制计算机无需外部PC。任何人都可以通过触摸屏界面轻松操作。l 微流控芯片可以通过简单地将其放置在舞台上并抬起来设置。这有助于提高再现性，而无需麻烦的管道操作。应用领域（一）大尺寸脂质颗粒的制备虽然其他公司的技术不能，但ILIP可以容易地产生大颗粒（对于典型的脂质组合物大于80nm），这是因为成分的不同混合策略。ILIP采用了一种策略，即在典型的流动条件下，成分不会完全混合，也不会快速混合。因此，脂质进行自组装的液-液界面保持了很长时间，并且可以获得大颗粒（对于典型的脂质组合物200 nm，如果脂质组合物也经过修饰，则500 nm）。（二）小尺寸脂质颗粒的制备在高流量条件下，ILIP中采用的通道结构在流道中产生局部涡流（局部混合）。因此，只有在高流速条件下，才能加速局部稀释，并获得小颗粒。效率如此之高，以至于在流速为其他技术的约1/10的情况下，可以获得比其他技术产生的颗粒更小的颗粒。 产品规格参数脂质纳米颗粒制造平台LiNAS-M的规格参数型号：LM-001电源：AC220V（50/60Hz）尺寸：250（宽）×300（深）×408（高）毫米 （不包括突起）重量：约10公斤配置：① 主机② 透明盖标准配件：说明书、微流控芯片塑料框架注射泵数量：2台注射泵分辨率：0.5μm/ 每次标准注射器/控制范围：注射器A:5.0ml体积：0~5000μl流速：25~10000μl/min注射器B:5.0ml体积：0~5000μl流速：25~10000μl/min（用户可交换/可定制不同容量）兼容注射器：ITO微型注射器MS-UNF500等。管子：外径为1/16“的管子（φ1.6ｍｍ) φ0.5内径，内置/可更换储液器：JMS注射器25ml 2个（用户可更换/可定制不同容量）操作：通过内置触摸面板控制（可使用USB键盘和USB鼠标）适用微流控芯片：LiNAS-M专用微流控芯片LM-iLiNP001等（与专用塑料框架一起使用） 微流控芯片LM-iLiNP001的规格参数型号：LM-ILIP001尺寸：70（宽）x 30（深）x 3（高）毫米（不包括端口）材料：PDMS（聚二甲基硅氧烷）入口/出口：2个入口/ 1个出口。通道结构：ILIP型形状（挡板混合器型结构）备注：建议开启后仅使用一次，以避免灰尘污染导致性能恶化。

科研用polypico UniA6是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型；&bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光； &bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准；&bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

碳纳米管制备设备（碳纳米管制备系统，碳纳米管生长系统），可用于制备碳纳米管，包括垂直方向碳纳米管生长；在Si、石英、陶瓷、各种金属（不锈钢，Ti和Pt等）等多种基底上用廉价的酒精、汽油或者生物燃料等作为碳源生长碳纳米管；系统封闭腔体不但保证必要的真空度，而且还可对基底进行加热。联合日本科学与技术研究所（JST）开发，并且在多个国家注册了该项技术的专利！相关产品：1. 纳米颗粒制备系统；2. ZnO纳米带制备系统；3. 材料碳化研究系统：用于agricultural and forestry waste, papers, recyclable plastics, and so on；4. 碳纳米管生产系统CVD：用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；5. 催化剂薄膜制备系统：可沉积催化剂薄膜在各种材料上，用于高性能碳纳米管的指标；技术参数：碳纳米管生长、制备装置（包括垂直方向碳纳米管生长)；Au, Ag, Cu, Al, Si, Ti, Mg, Zn等纳米颗粒制备；ZnO纳米带制备；处理温度范围：400~800℃实时碳纳米管生长过程中温度监控反应源：含碳气体或者液体酒精主要特点：*价格优惠； *运行成本低； *制备速度快； *支持基底加热； *保证一定的真空度；*成熟的工艺和丰富的经验；*操作便捷； 技术介绍：*装备乙醇喷射单元；无需易燃烃化物气体。*碳纳米管生长只需几分钟，整个操作过程不超过30分钟。*小型化设计、操作简便、低成本、高质量碳纳米管。*在碳纳米管合成过程中，不需要使用还原性气体（氢气）使催化剂还原，因为使用的乙醇碳源本身具有很强的还原性。乙醇的金属还原性使得碳纳米管能够直接在多种合金材料上沉积，比如，NiCu, SUS等等。而不需要预先沉积催化剂薄膜，因为Ni, Fe, or Co等催化性元素在合金中作为催化颗粒独立存在。*透明的玻璃腔室使得研究人员可以直接观察整个沉积过程。该系统满足高校研究所的碳纳米管合成实验的研究工作。

产品描述iNano采用InForce 50驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试。 InForce 50的50mN力荷载和50μm位移范围使得该系统适合各种测试。 InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。 iNano是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 该系统可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 50驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体和封装行业聚合物和塑料MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆聚合物制造复合材料电池和储能应用硬度和模量测量 (Oliver-Pharr)机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iNano纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iNano的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iNano纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iNano纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iNano纳米压痕仪可轻松测量薄膜、涂层和少量材料。 该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 该仪器的力荷载和位移测量动态范围很大，因而可以实现从软聚合物到金属材料的精确和可重复测试。 模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损以及高温测试。 iNano提供了一整套测试扩展选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D/4D属性映射和远程视频选项。

德国ParteQ 纳米颗粒合成制备系统ParteQ 公司介绍ParteQ GmbH由其两位管理合伙人Karsten Wegner博士和Martin Seipenbusch博士于2016年夏天创立，目标是成为纳米颗粒和气溶胶技术产品和服务的领先供应商。ParteQ为粉末和气溶胶提供可扩展的合成系统以及颗粒测量技术。在合成领域，重点是纳米颗粒和纳米粉体。这些材料用于纳米技术，多相催化，也用于电池技术和许多其他技术。除了气溶胶技术中的设备工程和测量技术外，我们还以研究服务和根据客户规格合成功能化颗粒材料的形式提供我们在颗粒技术、颗粒工程和纳米技术领域的知识和经验。ParteQ GmbH在功能材料领域的重点在于纳米颗粒和纳米粉末的合成。通过化学气相沉积将微米到毫米大小的颗粒功能化大大扩展了粉末和结构的范围。我们的合成方法包括用于生成氧化物、磷化物和金属纳米颗粒的火焰喷雾热解法，以及用于金属纳米颗粒的电弧和等离子体系统。ParteQ产品介绍ParteQ GmbH 提供一系列用于生成固体纳米颗粒和液滴的系统，包括从雾化和蒸发/冷凝到火焰到热壁合成的各种工艺。利用化学气相沉积法进行粉末功能化是我们另一个重点。对于粉末和气溶胶的表征，我们还提供广泛的颗粒测量技术及系统。关于纳米粉末的收集我们提供专门的过滤系统及过滤测试系统，以分析过滤介质和滤芯的效率。一、纳米颗粒和纳米粉体的合成制备ParteQ 提供基于火焰、热壁和火花技术的纳米颗粒制备合成系统。Parteq GmbH开发可扩展的气相合成系统，用于生成功能化纳米颗粒，用作功能材料的基础。我们的模块化合成平台能够生产多种不同的结构，从单金属颗粒、精确合金金属纳米颗粒到纯氧化物和异核壳结构纳米颗粒。生产规模可客户的需求。1. 火焰喷雾合成：氧化物纳米材料、磷酸盐和金属ParteQ提供火焰喷雾热解（FSP）反应器，用于纳米颗粒合成，从交钥匙实验室规模的FSP系统到具有kg/h规模的中试装置。我们还提供纳米颗粒生产和开发服务。火焰喷雾热解（FSP）是一种多功能且低成本效益的纳米颗粒生产工艺。取决于含有金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000°C的温度下燃烧，纳米颗粒在几毫秒内形成，并在过滤器上以干粉的形式收集。FSP工艺受益于短的工艺链，只需一步即可制备复杂的纳米颗粒制备产品是纳米粉体，FSP通常用于生产高结晶氧化物的纳米粉末，但也用于合成了磷酸盐和纯金属。产品包括单组分和多组分氧化物纳米颗粒以及氧化物载体上的贵金属簇。对于某些组合物，可以制造表面包覆或基质嵌入的纳米颗粒。典型的粒径范围为 10 至 50 nm，具体取决于工艺条件。火焰喷雾热解FSP制备纳米粒的应用包括：w 催化剂w 电池材料w 陶瓷w 颜料w 牙科和生物医学材料w 气体传感器w 聚合物纳米复合材料w 电陶瓷台式纳米颗粒合成系统NPS-20---基于火焰喷雾热解技术的交钥匙系统NPS-20是一种交钥匙台式火焰喷雾热解装置，用于研究和早期产品开发水平的纳米颗粒合成。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料成分和工艺条件的多个参数，以加速纳米材料的开发NPS-20可以放置在实验室工作台上，也可以根据要求与移动机架一起交付。系统都须放置在化学通风柜或类似的封闭和通风区域才能操作。台式纳米颗粒合成系统NPS-20 主要特点w 实验室规模的火焰喷涂反应器w 低脉动注射泵，用于精确进料液体驱动。w 4 个质量流量控制器，用于输送工艺气体：分散氧气、支持火焰甲烷和氧气以及可选的护套气体。w 自动火焰点火系统。w 火焰探测器。w 集成微处理器和电子板，用于过程控制。w 通过 RS 232 控制软件和通信。w 玻璃纤维过滤器和干式旋片真空泵，用于收集产品粉末。w 用于监控过滤器状态的压力和温度表。从实验室到中试规模的纳米颗粒系统系统-基于FSP 的纳米颗粒制备技术实验室规模的FSP反应器以高达50 g / h的速度生产纳米粉末，而且实现了生产能力高达5 kg/h的全自动FSP中试设备。这些装置根据客户的要求量身定制，并作为交钥匙系统交付。通过PLC过程控制，中试工厂配备了24/7全天候运行，允许纳米粉末的小规模工业生产。2. 热壁合成-氧化物和负载金属流动式热壁反应器中纳米颗粒的合成纳米级颗粒的合成可以在火焰反应器中合成，也可以在热壁系统中合成。由于气体成分可自由选择，氧化敏感材料也触手可及。热壁合成纳米材料的原理：所需颗粒材料的前驱体材料被转移到气相中，并在热壁反应器中分解和氧化。高度分散结构形成具有高比表面积。通过选择工艺参数，可以改变表面粗糙度、分形结构和粒径。球形颗粒可以通过在高温下聚结获得。根据所选择的材料，可以合成均匀混合的氧化物纳米颗粒或核壳结构纳米颗粒。3. 火花合成：金属纳米颗粒 DNP 3000火花合成可实现石墨和金属纳米颗粒的无前体合成从石墨、银 （Ag）、金 （Au）、铜 （Cu） 等生成纳米级测试气溶胶。通过冷凝 载气：氮气 或氩气4. 灼热丝纳米粒子发生器-金属纳米粒子用于高浓度下尺寸范围低于 10 nm 的金属颗粒的颗粒发生器GWG产生具有可调粒径分布和浓度的稳定Pt气溶胶，是实验室实验和仪器校准的理想选择。可以使用氮气或氩气进行操作。外壳是真空密封的，由不锈钢制成，带有标准的真空法兰连接器。用于电线电气连接的电极隔离在PTFE中。提供世伟洛克连接器，用于气体和气溶胶管路的 6 或 8 mm 卡套管。具有 0-10 A 和 0-10V 输出的电源，输入 50Hz 240 V 用于加热用于产生颗粒的电线。气溶胶输出是受控于电流变化，电流可以很好地控制粒度分布。二、纳米粉末的功能化-通过通过化学气相沉积（CVD）对颗粒进行功能化用于颗粒功能化的ParteQ工艺基于通过化学气相沉积（CVD）对金属或氧化物进行涂层。该工艺能够对结构特征进行独特的控制，例如支撑颗粒的尺寸和表面纹理以及支撑金属颗粒的尺寸和数量密度或氧化物壳的厚度。我们可以生成各种各样的纳米结构，从简单混合氧化物到核壳结构以及Janus颗粒。我们的流化床反应器可加热至200°C，允许热CVD工艺。它们是真空密封的，因此可以在反应气氛下操作，并用于处理空气或湿度敏感系统。ParteQ提供从实验室规模（例如WSR50）到中试规模（例如WSR160）的完整系统，包括母离子加样和固体处理。三、纳米粒子和气溶胶测量仪器用于表征气溶胶和纳米粉末的仪器我们提供广泛的仪器，用于气溶胶表征、细粉尘监测以及气溶胶的生成测试和过滤器测试。产品包括纳米颗粒测量系统，气溶胶光谱仪，细粉尘的监测，气溶胶监测仪，稀释系统，在线颗粒测量四、纳米颗粒过滤-纳米粉末收集纳米级气溶胶的沉积需要专门的设备，因为与传统的过滤系统相比，有关密封性和效率的规格要求要高得多。 除此之外，ParteQ还提供适用于测试过滤介质和过滤单元的过滤测试台。开发了一种可扩展的过滤系统，用于产品气溶胶的沉积。该系统非常灵活，可适应您的工艺要求。采用真空密封法兰连接可以排除过程中的氧气。电解抛光表面可以改变纳米粉末的处理。手动或自动过滤器再生是可选的，CIP系统的实施也是可选的。过滤器可耐受高达 200°C 的工作温度。ParteQ产品应用领域ParteQ 产品用于材料开发，包括储能，光电化学，燃料电池，和健康领域的药品的缓控释，抗生素表面功能化，电子学和机械工程用于3D 打印材料的开发，以及用于环境，包括纳米颗粒测量系统，细粉尘的监测等。

一、仪器介绍MT-CNE100碳纳米电极制备仪是一款满足多种碳基电极制备需求的电极制备仪，制备电极的直径范围在20 nm~20 um，电极类型包括碳纳米电极、碳纳米锥电极，以及衍生的金属纳米电极、碳微米电极、碳膜电极等，用于纳微过程原位检测的微纳探针/电极。制备过程便捷且成本较低，制备的碳纳米电极尖端形貌规则、导电能力稳定，且能够长期保存。二、主要参数制备模式竖式、横式RG比低至1.1电极尺寸直径≥20 nm电极类型碳纳米电极、碳纳米锥电极、衍生的金属纳米电极、碳微米电极、碳膜电极等三、仪器构成及使用方法碳纳米电极制备仪整体构成如上图所示，主要由以下部分构成：氩气保护气（1），保护气管固定机构（2），转子流量计（3），XYZ三维手动位移台（4），球阀（5），火焰枪（6），分压阀（7），液化石油气储气罐（8），石英保护气管（9），石英毛细管（10），探针夹持器（11）。碳纳米电极制备仪的具体使用方法：以500 nm碳纳米电极的制备为例。通过超高温拉制仪，将石英毛细管拉伸成尖端直径约500 nm的石英纳米管，石英纳米管与目标制备电极直径尺寸需保持一致。开启液化石油气并调节压强，打开氩气并调节其流量为100 mL/min。在石英纳米管尾部缠封口膜，将尾部插入通有液化石油气的管内，排空石英纳米管中的空气并使其充满液化石油气，将石英纳米管固定在凹槽内，上移石英纳米管使其尖端深入通有氩气的石英保护管内。面向安全空旷的位置打开丁烷火焰枪，待火焰稳定后移动火焰使其对准石英纳米管的尖端，使用火焰枪中外层加热8 s得到500 nm的碳纳米电极。关闭丁烷火焰枪，待制得的碳纳米电极在石英保护管中自然冷却后移出并取下。

科研用CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型； &bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光； &bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准； &bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

联合日本科学与技术研究所（JST）开发，并且在多个国家注册了该项技术的专利！该设备用于制备纳米碳材料，如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备；采用封闭式管式炉，石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm，基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；气源包括氢气、氮气、甲烷、酒精等；MPCVD是一种碳纳米管化学汽相沉积综合系统，具备一个水平石英管式炉,该系统可以大量稳定生产垂直对齐的CNT和各种粉末CNT。成熟稳定的工艺保证了制备质量和数量，也可用于三维形状的CNT制备。乙醇注入装置配备一个滴定法流量控制系统，气体输入端口配备三通道质量流量气体控制器(惰性气体,碳氢化合物气体,氢气)。真空排气系统使得该系统能够在一个广泛的气压下运行，从大气到低压(10 Pa),也可用作为热处理系统，例如：真空炉、大气炉、氮化炉。 相关产品：1. 纳米颗粒制备系统； 2. ZnO纳米带制备系统； 3. 碳纳米管制备系统：用于高质量碳纳米管制备、纳米颗粒或薄膜制备、ZnO纳米带制备等； 4. 碳纳米管生产系统CVD：用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等； 5. 催化剂薄膜制备系统：可沉积催化剂薄膜在各种材料上，用于高性能碳纳米管的指标；技术特点： *成熟的碳纳米材料制备工艺和丰富的经验 *乙醇和碳氢化合物作为碳源 *用于SWCNT 合成 *具备催化剂前体供应功能 *可以合成较长长度 ( ~500 um)垂直对齐的CNT和粉末状的CNT *具备三通道气体质量控制器 *体积小，基座稳定 *高温度：1200度； *价格优惠； *运行成本低；技术参数：基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；

TERA Fab M系列是商业化的PPL聚合物笔纳米制造工具, 此技术也叫DPN(Dip Pen Nanolithography)蘸笔纳米加工系统或浸蘸笔纳米加工刻蚀技术(美国NanoInk公司)，是基于无悬臂扫描探针打印技术, 无需掩膜板即可在超过平方厘米的区域内, 使用多种材料和衬底上进行优于100nm高分辨图形化沉积打印 使用同一设备可获得纳米, 微米以及宏观尺度的特征尺寸, 自定义软件允许生成感兴趣的图形 可应用于纳米粒子合成、蛋白阵列、单细胞排布、纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域 更多详细资料请联系TERA中国区官方授权商：溢鑫科创。典型的应用包括：*研究单个细胞*使用DNA、蛋白质、肽或碳水化合物阵列*微流控或微纳电子功能器件的制备*图案化水凝胶*高定域光化学*合成和发现用于催化、光子学或治疗学应用的新纳米材料*其他高密集高分辨的微纳米器件制造

一、仪器介绍MT-CNE200碳纳米电极制备仪是一款满足多种碳基电极制备需求的电极制备仪，制备电极的直径范围在20 nm~20 um，电极类型包括碳纳米电极、碳纳米锥电极，以及衍生的金属纳米电极、碳微米电极、碳膜电极等，用于纳微过程原位检测的微纳探针/电极。制备过程便捷且成本较低，制备的碳纳米电极尖端形貌规则、导电能力稳定，且能够长期保存。正在更新中...

科研用纳米均质机，小型纳米均质机，实验室纳米均质机，IKN德国医药药企无菌均质机分散机，高校小型均质机，纳米高速均质机，上海高剪切均质机，进口纳米均质机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。 高剪切乳化均质机是一款适用范围广泛的混合搅拌设备，由于它的灵活性、易操作性以及高性价比，市场对于高剪切均质机的需求越来越多。而随着市场需求的上升，许多均质机厂家都争先研发生产出符合市场需求的均质设备。市场需求也推动了国内均质机设备的技术创新，然而面对众多的种类的高剪切乳化均质机设备，如何挑选一款优质的高剪切均质机呢？ 在食品医药行业特别是无菌包装液态产品如牛奶、注射剂的研发过程中需要经过小试、 中试等步骤。在小试过程中又包括样品的配制_(使用加热器)对配好的料液预热-将预热后的料液均质-罐装-杀菌处理，后将样品存放于特定的环境下对其进行包括稳定性在内的多个项目观察与评估。 高剪切均质机运作腔内的转定子层数越多，剪切面越大，效果越好。材料细化度高达0.01μm。实现了集分散、均质、粉碎、融合、溶解、悬浮、输送等为一体的多功能设备。高剪切均质机的应用注意事项：　 高剪切均质机超细粉碎、乳化功能，无论是从理论上，还是实际加工的乳剂和分散体所获得的细度、均匀度的质量上，都是高速搅拌、砂磨、球磨、胶体磨、超声波等均质器械不能比拟的。但是，如果在工艺上应用不正确、不得当，也是无法获得满意结果的，至少不可能获得佳的效果。科研用纳米均质机，小型纳米均质机，实验室纳米均质机，IKN德国医药药企无菌均质机分散机，高校小型均质机，纳米高速均质机，上海高剪切均质机，进口纳米均质机 ERS2000/4中试型均质机：为实验室研发，模拟生产流程，为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同，且均质头的种类及相应线速度也相同，中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整，而将机器型号升过程中的风险降到低。更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。ERS2000/4中试型高剪切均质机技术参数马达1.5KW或2.2KW真空/压力-/2.5bar分散头转速0-14000rpm线速度0-44m/s尺寸（长宽高）450*250*350mm重量约35Kg可配模块EDL/ER/ERS/CM/CMO/PLD/PLC设备的选型要点：1、明确使用设备所需达到的效果和目的2、详细了解并掌握研究物料的性质（包括物理、化学性质）3、根据物料对设备的搅拌机进行选型4、再次确定设备的操作参数及结构设计5、综合考虑设备的成本IKN纳米均质机设备选型及参数：均质机标准流量（H2O）输出转速标准线速度马达功率进出口尺寸型号l/hrpmm/skWERS2000/4300-1,00014000402.2DN25/DN15ERS2000/51,000-1.50010,500407.5DN40/DN32ERS2000/103,0007,3004015DN50/DN50ERS2000/208,0004,9004037DN80/DN65ERS2000/3020,0002,8504075DN150/DN125ERS2000/5040,0002,00040160DN200/DN150注：如果流量超过标准流量的25%并外加泵，请接洽上海依肯 工程师 徐工1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，比须提供准确的参数，以便选型和定制。4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。科研用纳米均质机，小型纳米均质机，实验室纳米均质机，IKN德国医药药企无菌均质机分散机，高校小型均质机，纳米高速均质机，上海高剪切均质机，进口纳米均质机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。

产品信息Micro Materials 产品纳米力学综合性能测试系统NanoTest Xtreme可以实现真空环境下的纳米力学测试！ 为了更加准确、可靠地预测材料的性质，研究学者们对测试条件模拟真实环境程度的要求越来越高。Micro Materials 公司的NanoTest Vantage 产品可以提供最全面的纳米力学测试功能。现在Micro Materials 公司的最新产品NanoTest Xtreme 可以实现真空环境下-40℃至1000℃这一温度范围内的纳米级力学测试， 并且没有氧化和结霜的影响。自1988年以来，我们一直处于纳米力学创新的前沿： ► 第一个商用高温纳米压痕平台 ► 第一台商用纳米冲击测试仪器 ► 第一个商用液体池 ► 第一台用于高真空、高温纳米力学的商用仪器更适合以下极端环境条件的研究：1、 航空发动机部件的高温 2、 用于高速加工的工具涂层 3、 电站蒸汽管的高温4、核反应堆覆层中的辐射效应 5、低温对油气管道焊缝修复的影响 NanoTest Xtreme 特点：a、500 mN加载头在真空下最高测试温度：1000°Cb、30 N加载头在真空下的最高测试温度：800°C c、真空下的最低测试温度：-40°C d、极限真空度：10-7 mbar e、与真空下所有标准纳米测试技术兼容（纳米压痕、纳米划痕、纳米磨损、纳米冲击、纳米微动） f、可选配第二个加载头，最大负载从500mN增加到30 N g、填充功能可在非空气环境中进行测试 h、高分辨率光学显微镜 i、可选配在整个温度范围内均可使用的SPM 成像/纳米定位平台 NanoTest Xtreme 优点：1、 将高温能力扩展到1000°C，超出NanoTest Vantage提供的850°C 2、 将低温能力提高至-40°C，且无样品结霜 3、超低的热漂移归因于与NanoTestVantage相同的仪器设计原理 4、 完整的纳米力学测试(例如压痕、划痕、磨损、摩擦、冲击) 5、能够填充气体以匹配材料操作环境参数指标1、加载框架 高度抛光的铝，用于快速脱气 加载应用：电磁 标准压头最大负载 500 mN 最大负载，可选高负载头 30 N 位移传感器 ：电容式 负载分辩率 3 nN 位移分辨率 0.002 nm 重新定位精度 0.4 µ m 样品处理 ：手动控制，网格压痕，特定位置选择，多个同时安装的样本 热漂移 0.005 nm/s 符合标准 ：符合ISO 14577和ASTM 2546标准 2、高温平台 最高温度 1000 º C 压头尖端加热 ：是 可测试样本区 16 mm x 16 mm 温度控制 ：反馈和恒定功率 温度精度 0.1 º C 3、低温平台 最低温度 -40 º C 4、SPM纳米定位平台 扫描范围 100 µ m x 100 µ m X Y定位精度 2 nm 5、真空 工作模式 ：真空或气体吹扫 真空度 ：极限10-7 (标准10-6 )mbar 6、选件 纳米划痕，纳米磨损，纳米冲击，动态硬度 应用NanoTest&trade Xtreme可以广泛应用于：航空航天、汽车工业、半导体、生物医学、MEMS、高分子、薄膜和涂层，以及太阳能/燃料电池等。

产品描述iMicro采用InForce 1000驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试，并可选择添加InForce 50驱动器来测试较软的材料。InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。iMicro是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 1000驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头可选的InForce 50驱动器提供最 大50mN的法向力来测量软性材料，并提供可选的Gemini 2D力荷载传感器用于双轴动态测量。独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架高刚度龙门架，集成隔振功能带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量定量刮擦和磨损测试样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体行业PVD / CVD硬涂层（DLC，TiN）MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆复合材料电池和储能汽车和航空航天应用硬度和模量测量（Oliver Pharr）机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iMicro纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iMicro的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iMicro纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iMicro纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。定量划痕和磨损测试iMicro可以对各种材料进行刮擦和磨损测试。 涂层和薄膜会经过化学机械抛光（CMP）和引线键合等多道工艺，考验薄膜的强度及其与基板的粘合性。 重要的是这些材料在这些工艺中抵制塑性变形，并且保持原样而不会基板起泡。 理想地，介电材料应具有高硬度和弹性模量，因为这些参数有助于确定材料在制造工艺下会如何反应。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iMicro纳米压痕仪可轻松测量硬涂层，薄膜和少量材料。该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 可互换的驱动器能够提供大动态范围的力荷载和位移，使研究人员能够对软聚合物到硬质金属和陶瓷等材料做出精确及可重复的测试。模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损测试以及高温测试。 iMicro拥有一整套测试扩展的选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D / 4D性质分布，以及Gemini 2D力荷载传感器，可以提供摩擦和其他双轴测量。

产品简介MML公司的纳米力学性能测试系统NanoTest&trade Vantage可以提供新型材料和特种材料开发和优化的大量信息。是世界上最灵活、功能最强大的纳米力学测试系统。它可以为用户提供高精度的纳米压痕测试，同时提供相关的全面综合测试：如纳米划痕和磨损测试、纳米冲击和疲劳测试、以及在高温、液体环境中的测试。这些纳米水平上的测试可以为我们提供材料表面局部的定量信息，数据可靠、测试省时。这些因数使得NanoTest&trade Vantage在世界范围内成为大学、工业实验室和标准机构中很多表征和优化项目的最关键设备。自1988年以来，我们一直走在纳米力学创新的前沿： ► 第一个商用高温纳米压痕平台 ► 第一台商用纳米冲击试验机 ► 第一个商用液体池 ► 第一台用于高真空、高温纳米力学的商用仪器产品优势：► 无与伦比的技术多样性 无纳米压痕，纳米划痕，纳米冲击，纳米微震动磨损，纳米磨损 ► 高精度的多种载荷纳米（至500mN）和微米（至30N） ► 引领市场的环境兼容能力 引高温（至850°C）、低温（至-20°C）、液体和湿度环境 ► 真正测量多 真 样性动态、静态、电气和多种成像模式技术指标1、加载框架 花岗岩复合材料设计专门用于计量应用 2、加载应用 电磁 标准头最大载荷 500 mN 位移传感器 线性电容 负载分辨率 3 nN 位移分辨率 0.002 nm 重复定位精度 0.4 µ m 可测试区域 50 mm x 100 mm 样品处理 手动控制并点击显微镜图像 热漂移 0.005 nm/s 接触力 1 µ N 显微镜– 4个物镜 x5, x10, x20 和 x40 屏幕放大率 x410, x825, x1650, x3300 隔振 负K，机械被动 压头交换时间 1 min 符合标准 完全符合ISO 14577和ASTM 2546 3、划痕模块 最大摩擦力 250 mN 摩擦载荷分辨率 10 µ m 最大划痕距离 10 mm 划痕速度 100 nm/s 至 0.1 mm/s 4、冲击模块 加速距离 高达20 µ m 接触应变率 高达104 s-1 微动磨损模块 轨道长度 ≤20 µ m 频率 ≤20 Hz 最大磨损次数 10 5、SPM纳米定位平台 XY扫描范围 100 µ m x 100 µ m Z扫描范围 20 μm 定位精度 ≤2 nm 闭环线性 99.97% 6、AFM XY扫描范围 110 µ m x 110 µ m Z范围 22 µ m 7、高温选项 温度 850 °C 主动，独立的样品和压头加热 是 压头材料 金刚石，氮化硼，蓝宝石 8、高负载头 最大载荷 30 N 摩擦载荷分辨率 300 μN 应用范围航空航天、汽车工业、半导体、生物医学、MEMS、高分子、薄膜和涂层，以及太阳能/燃料电池等

仪器简介：公司拥有齐全的纳米系列压印胶材料，热压型纳米压印胶、热塑型纳米压印胶、紫外光固化型纳米压印胶、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品，如模板防粘剂、基片增粘剂等。适用于Obducat，Suss，HP，EVG等多种型号的纳米压印设备。技术参数： IPNR-T1000 Thermal plastic nanoimprint resist 热塑型纳米压印胶 IPNR-T2000 Thermal curable nanoimprint resist 热固化型纳米压印胶 IPNR-PC1000 Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型纳米压印胶（自由基引发） IPNR-PC2000 Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化型纳米压印胶（阳离子引发） IPNR-UL1000 Under-layer polymer for lift off process 举离型传递层材料 IPNR-UL2000 Under-layer polymer etching mask process 刻蚀型传递层材料 IPNR-UPM Quick mold fabrication material 快速模板制作材料 IPNR-AP Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘剂 同时还能能够根据不同的模板提供相应的防粘试剂。

美国KLA InSEM HT原位高温纳米力学测试系统，纳米压痕仪

纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应，并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能，使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。 目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟，它的应用也随之扩大。在其应用过程中，较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高，在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子，使颗粒粒径变大，从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性，提出了一些有效的方法。 根据我司为多家客户定制方案，建议采用的方案为：在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料；然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理！经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计，相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）；2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）；3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）；4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）；5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）。纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件： PTC 热保护、降噪型均质机材质：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车均质机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍均质机选配容器：本设备适合于种不同大小的容器.IKN管线式研磨分散机的技术参数：研磨分散机流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机

魔技纳米PROME-Uni基于多光⼦ 聚合原理的超⾼ 速度一体化纳米级三维加⼯ 设备自研专利技术，大幅提高加工效率，突破多光子聚合速度限制，适应不同尺度的精密加工需求；拥有多项稳定系统，可长时无需维护，稳定工作；采用模块化的光机电设计，拥有极高的灵活性和可扩展性；为科研和工业领域提供全新的3D加工技术解决方案，适用于微光学器件、微流控芯片、微机械、超材料、微纳传感器件光子芯片集成等领域 主要特点： 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

魔技纳米MJ-Works-Fiber专为光纤应用设计的纳米级三维激光直写设备MJ-Works-Fiber是一款专为光纤传感与光通信应用而生的超高精度加工而设计的高性能3D激光直写设备，配有超清成像及纳米级定位对准系统，可实现在光纤纤芯或光芯片表面及内部进行纳米级3D加工。配备有专门的卷对卷光纤自动输送装置，并配有应力监测，纤芯自动识别、定位及对准，实现高通量精准快速生产。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。【企业简介】魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。