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  • RAuK系列超高精密电动旋转台说明:RAuK 系列超高精密电动旋转台是卓立汉光在RAK 系列旋转台的基础上,内置了进口圆光栅,实现了360°全闭环的超高精密旋转台,闭环分辨率可达1.8″ (RAuK100) 或1.2″ (RAuK200)。该系列产品已通过多方用户的测试( 如哈工大、北航等),主要应用于需要超高角度定位的应用领域,如:卫星定位跟踪系统、超高精密多维扫描测量、超精密的激光加工等。特点:● 内置进口超高精密圆光栅,提供超高闭环分辨率● 使用精研蜗轮蜗杆传动,实现超高定位性能● 采用进口超高等级交叉滚柱轴环,具有超高运动性能● 标配二相步进电机,稳定、可靠光栅尺接线图接线图接线图:配套产品:TMC全功能运动控制系统MC6003P系列控制器应用案例:选型表:型号RAuK100RAuK2008细分开环分辨率(°)0.00125闭环分辨率(″)1.81.2传动比180:1最大速度(°/s)25重复定位精度(°)﹤0.005径向跳动((μm)﹤15﹤10轴向跳动((μm)﹤15﹤10步进电机(步距角)42(1.8°)57(1.8°)工作电流(A)1.72.4中心负载(Kg)3050
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  • RAuK系列超高精密电控旋转台 RAuK系列超高精密电控旋转台是我公司在RAK系列旋转台的基础上,内置了进口圆光栅,实现了360° 全闭环的超高精密旋转台,闭环分辨率可达1.8&Prime (RAuK100)或1.2&Prime (RAuK200)。该系列产品已通过多方用户的测试(如哈工大、北航等),主要应用于需要超高角度定位的应用领域,如:卫星定位跟踪系统、超高精密多维扫描测量、超精密的激光加工等。 ■ 产品特点:◆内置进口超高精度圆光栅,配合MC600系列控制器,实现了360° 全闭环,闭环分辨率可达1.8&Prime (RAuK100)或1.2&Prime (RAuK200)◆精研蜗轮蜗杆采用耐磨材料并通过特殊工艺处理,可实现超高定位精度和更好的耐用性和精度保持性◆采用高刚性的进口超高等级交叉滚柱轴环,配合我公司特有的精密磨削工艺,能有效保证旋转台的端跳、径跳等各项指标,而且具有较高的负载能力,可用于竖直使用甚至倒置使用◆严格的装配工艺和高于国标要求的检验方法,保证每一台产品,出厂时具有最优性能◆电机接口和圆光栅信号接口分开设计,可以根据要求灵活使用◆具有零位开关(反向旋转时遇零位开关停止),可以方便的进行绝对定位◆使用三相步进电机和伺服电机的该系列产品以及其他规格尺寸的产品,也在规划中,敬请期待!■产品一览表型号RAuK100RAuK2008细分开环分辨率(° )0.001250.00125闭环分辨率(")1.81.2传动比180:1180:1最大速度(Deg./sec.)2525重复定位精度(° )0.0050.005径向跳动(&mu m)1510轴向跳动(&mu m)1510步进电机(步距角)42(1.8° )57(1.8° )工作电流(A)1.72.4中心负载(Kg)3050 ■关联产品◆ 42、57步进电机◆ 专用数据连接线◆ 电控位移台控制箱
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  • DIT-MCU系列大坝安全监测装置主要用于水库自动化监测,水库安全监测,大坝监测及其它水工建筑物、边坡、道路、矿山等工程的安全监测,可以实现变形监测、位移监测、压力监测、渗流监测等功能。  DIT-MCU系列大坝安全监测装置由密封机箱、DAU系列智能数据采集模块、电源模块、防雷模块、通信模块等组成,用于安全监测工程中各种类型监测仪器(传感器)的数据测量、存储和传输,适合于水工建筑物、高边坡、隧道、桥梁、道路等恶劣环境下长期使用。应用于大坝安全监测系统、中小水库自动化监测系统、水工建筑物安全监测系统等。 产品应用  广西凤亭河水库  东方红水库  九坑河水库  西坑水库  黄岗水库  红花水库  当阳三星寺水库  高州水库  锦江水库  四川新店水库  唐山曹妃甸蓄水工程  山西赵家窑水库  深圳三洲田水库主要功能  多模式数据采集功能:根据上位机(组态软件或专用安全监测软件)的命令或外部条件实现不同模式的数据采集控制功能  按中央控制方式进行巡测或点测;  按自动控制方式进行巡测,起始测量时间和测量时间间隔可自由设定;  按特殊自控方式进行巡测,这是在上位机出现故障/通信线路中断或外部供电中断等情况下利用自备电源继续实现定时巡测,并自动存储数据。大容量存储功能:自带256kbytes的存储容量,可配容量高达512MSD存储卡,测量数据将根据存储策略自动存储,存储数据有掉电保护功能,通过通讯接口可以读出存储的历史数据记录;  多种通讯方式  支持RS485、RS232、以太网通信,采用标准MODBUS、MODBUSTCP通信协议,可接入无线通讯模块或电台,可实现基于GPRS/CDMA、超短波方式的数据传输;可实现与一些智能检测仪器的通讯,如静力水准仪等。  对时功能具有实时时钟模块,上位机可通过通讯网络对本装置进行对时,以保证整个安全监测系统时间的统一性。  后备电源功能  可根据实际需要选择此功能。装置内部可配高性能大容量的锂电池作为后备电源,在平常电池处于浮充状态,而在外部供电电源中断的情况下自动投入工作,以保证监测数据不因外部电源中断而出现中断。
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  • EPS-1000探针台 400-860-5168转3241
    品牌:Ecopia;型号:EPS-1000;EPS-1000为韩国Ecopia最高端的手动探针台型号,适合科研及半导体微电子器件的失效分析。 产品规格:- 镀金真空样品吸盘:4", 6", 8" etc;- 样品尺寸:5x5mm ~ 4", 6", 8" etc;- 样品卡盘平整度:10um;- 探针座精度:0.7um;- 样品卡盘旋转(Phi):360度;- 探针台台面快速升降;- 探针锁位设计,防止回针; 可选附件:- 显微镜X/Y移动;- CCD视频镜头;- 加热台;- 黑箱、屏蔽箱;- 防振平台;- 高倍显微镜 (2000X); ... 参考用户:四川大学、哈工大、中国海洋大学、华中师范大学、南京大学、湖北大学、东北电力大学、中科院宁波材料所等.
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  • 产品概述:本款钳工实验室设备根据教学大纲要求与多家工厂共同开发生产,该产品配备的钳工工具通用化,标准化和专用化,可提高学生的操作技术和动手能力。钳工大多是在钳工台上用手工工具操作,对工件进行加工。手工操作的特点是技术性强,加工质量的好坏主要取决于操作人员技术水平的高低,它的工作范围较广,具有便捷性和灵活性的优势且不受设备、场地等条件的限制,因此凡是采用机械加工方法不太适宜或难以进行机械加工的场合,通常由钳工来完成,尤其是机械产品的装配、调试、安装和维修等更需要钳工,所以说钳工不仅是机械制造工厂中应用最广泛的工种之一,因此柯达kd-g05款六角钳工台也是各大院校,技校不可缺少的实训教学器材、教学设备。柯达kd-g05六角钳工台产品介绍: 1.六角工作台标准规格:2400x1200x900mm,单边1200mm;2.台面选用厚度50mm的优质榉木板,四周光滑、无死角; 3.整体承重能力大1000kg; 4.台面下部需配置6个工具柜580x525x850mm每个工具柜配置4个抽屉,从上至下分别为:高100mm的两个,150mm一个200mm一个。每个工具柜配置抽屉锁。柜体的材料厚度为1.5mm冷轧钢,单个抽屉承重应大于50kg内部采用3X3活动分隔; 5.台面上方配6台台虎钳,虎钳尺寸6寸; 柯达kd-g05六角钳工台-工具柜:六角钳工台桌台面下配置6个工具柜:1-工具柜规格:580x525x850mm; 2-抽屉规格:高100mm两个,150mm一个200mm一个,总4屉,工具柜抽屉配 置有单独的抽屉锁和钥匙; 3-柜体材料为1.5mm厚冷轧钢板,单个活动抽屉承重大于50kg,抽屉内部采用3*3活动分隔板; 4-工具柜整体经过静电喷塑处理,防锈耐腐蚀。 柯达KD-g05六角钳工台-电气岛:1-台面中间设置电源气源接口台,配备单相220V,三相380V电源插座和气源接口(各六个)。台面中间配小台面每边边长550mm;2-用途:主要用于安装电气接头、气源接头、开关等电器群。 3-柯达六角钳工桌型号:KD-g055 尺寸:2400Wx2080Dx800H 单边工作台面宽度为:1200mm 钳工:钳工大多是用手工工具并经常在台虎钳上进行手工操作的一个工种。  钳工的主要任务:加工零件:一些采用机械方法不适宜或不能解决的加工,都可由钳工来完成。如:零件加工过程中的划线,精密加工(如,刮削 挫削样板个制作模具等等)以及检验及修配等。  设备装配: 把零件按机械设备的装配技术要求进行组件,部件装配合总装配,并经过调整,检验合试车等,使之成为合格的机械设备。  设备维修:当机械在使用过程中产生故障,出现损坏或长期使用后精度降低,影响使用时,也要通过钳工进行维护合修理。  工具的制造和修理:制造和修理各种工具,卡具,量具,模具和各种专业设备。  钳工各项操作技能:  划线,錾削,锯削,锉削,钻孔,扩孔,锪孔,铰孔,攻螺纹,套螺纹,矫正和弯形,铆接,刮削,研磨,机器装配调试,设备维修,测量和简单的热处理。  钳工的主要工具:  钳工主要是以 锉刀 钻 铰刀 老虎钳 台虎钳 车床 铣床 磨床为主的工具进行装配和维修的技术工人。钳工的种类:  钳工(普通钳工):对零件进行装配,修整,加工的人员。  机修钳工:主要从事各种机械设备的维修修理工作。 工具钳工:主要从事工具,模具,刀具的制造和修理 。可以完成常用工具的认识和使用,锤、锯、锉、凿、划线、装配、调试、安装、维修等教学工具。
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  • 六角工作台对大家来说也许很陌生,但是它确实许多学校钳工实训的理想操作平台,广泛运用于国内外大中专等高等院校,受到很多学院领导、老师以及学员的广泛好评,六工位钳工桌,六个学员可以同时操作,占用场地空间小,便于老师现场指导教学,有效地提高了教学质量,受到教育部门领导的首肯。 六角工作台是我公司根据教学大纲要求及学员实训操作需要开发的,该实验室配备的钳工桌采用钢板结构,铁木结构桌面用铁质钣金亚光密纹喷塑制作,坚固耐用。钳工工具采用通用化,标准化和专业化,可提高学生的操作技术和动手能力。钳工大多是在钳工台上用手工工具操作为主,对工件进行加工。手工操作的特点是要求技术性强,产品加工质量的好坏主要取决于操作者技术水平的高低,它的工作范围较广,具有万能性和灵活性的优势且不受设备、场地等条件限制,因此凡是采用机械加工方法不太适合或难以进行机械加工的场合,通常由钳工来完成,尤其是机械产品的装配、调试、安装、和维修等更需要钳工,所以钳工是机械制造工厂中应用广泛的工种之一。钳工实训设备也是各大院校、技校不可缺少的实训教学设备。标准规格:2400×2080×800mm,也可以根据各校钳工台要求定做。 六角钳工工作台设备特点: 1、使学员认识钳工常用工具的形状和使用情况 2、是学员掌握锉削技能 3、掌握锯削技能 4、掌握钻孔、攻丝技能 5、掌握套丝技能 6、掌握錾削技能 7、掌握角尺加工技能 8、掌握锉配方法 六角工作台拥有六个工位,占地面积小,非常适合钳工学校工厂的钳工实训、钳工操作;标准高度为800mm,单边长1.2米,直径2.4米,适合中国工人的身高和工作效率,六角钳工工作台:又称为钳台,主要分为钳工装配平台,钳工划线平台,钳工检验平台。六角工作台主要是为机械类、电类和非机类等专业学生提供机械基础加工操作实习和训练的重要场所。主要目的是培养学生进行传统机械加工、现代机械加工技术的能力,提高新技术、新方法、新器件的应用水平,加强工程实践能力和创新能力的培养。同时也为各院(系、中心)相关专业的课程设计、毕业设计和学生科技创新活动等提供机械零件的加工、装配和技术支持等。
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  • 开尔文探针系统Kelvin Probe System 产地:英国型号:SKP5050, KP020, UHVKP020 开尔文探针(Kelvin Probe)是一种非接触无损震荡电容装置,用于测量导体材料的功函数(Work Function)或半导体、绝缘表面的表面势(Surface Potential)。材料表面的功函数通常由最上层的1-3层原子或分子决定,所以开尔文探针是一种最灵敏的表面分析技术。 技术规格:SKP5050系统是一款可以被大多数客户所接收的高端扫描开尔文探针系统,它是在SKP基础之上包括了彩色相机/TFT显示器、2毫米和50微米探针、外部数字示波镜等配置,其规格如下:- 探针直径:2毫米,50微米(其他尺寸可选配); - 功函数分辨率 1-3 meV(2毫米针尖),5-10 meV(50微米针尖);- 针尖到样品表面工作距离:~400纳米;- 表面势和样品形貌3维地图;- 探针扫描或样品扫描选配;- 彩色相机、调焦镜头、TFT显示器和专业的光学固定装置;- 参考样品(带相应的扫描开尔文探针系统的形貌);- 备用的针尖放大器; 仪器特点:- 全球第一台商用的完全意义上的开尔文探针系统;- 最高分辨率的功函数和表面势,最好的稳定性和数据重现性;- 非零专利技术(Off-Null) — 信号探测系统在高信号水平下工作,与基于零信号原理(Null-based, LIA)的系统相比,不会收到噪声的影响拥有高灵敏度;- 高度调节专利技术 — 我们的仪器在测量和扫描时可以控制针尖的高度。因为功函数受样品形貌的影响,针尖与样品表面距离的调节意味着数据的高重现性且不会漂移;- 该领域内,拥有最好的信噪比;- 快速响应时间 ——测量速度在0.1-10秒间,远快于其他公司产品;- 功能强的驱动器 ——选用Voice-coil(VC)驱动器,与通常的压电驱动器相比,VC驱动器频率要稳定得多、控制的针尖振幅大得多、支持平行多探针操作、支持不同直径探针操作;- 所有开尔文探针参数的全数字控制; 参考用户:吉林大学,大连理工大学,哈工大,复旦大学,浙江大学,合肥工大,华中科大,湖南大学,华南理工大学,香港科技大学,中科院理化所,中科院纳米中心,中国工程物理研究院等…
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  • 开尔文探针系统Kelvin Probe System 产地:英国型号:SKP5050, KP020, UHVKP020 开尔文探针(Kelvin Probe)是一种非接触无损震荡电容装置,用于测量导体材料的功函数(Work Function)或半导体、绝缘表面的表面势(Surface Potential)。材料表面的功函数通常由最上层的1-3层原子或分子决定,所以开尔文探针是一种最灵敏的表面分析技术。 技术规格:SKP5050系统是一款可以被大多数客户所接收的高端扫描开尔文探针系统,它是在SKP基础之上包括了彩色相机/TFT显示器、2毫米和50微米探针、外部数字示波镜等配置,其规格如下:- 探针直径:2毫米,50微米(其他尺寸可选配); - 功函数分辨率 1-3 meV(2毫米针尖),5-10 meV(50微米针尖);- 针尖到样品表面工作距离:~400纳米;- 表面势和样品形貌3维地图;- 探针扫描或样品扫描选配;- 彩色相机、调焦镜头、TFT显示器和专业的光学固定装置;- 参考样品(带相应的扫描开尔文探针系统的形貌);- 备用的针尖放大器; 仪器特点:- 全球第一台商用的完全意义上的开尔文探针系统;- 最高分辨率的功函数和表面势,最好的稳定性和数据重现性;- 非零专利技术(Off-Null) — 信号探测系统在高信号水平下工作,与基于零信号原理(Null-based, LIA)的系统相比,不会收到噪声的影响拥有高灵敏度;- 高度调节专利技术 — 我们的仪器在测量和扫描时可以控制针尖的高度。因为功函数受样品形貌的影响,针尖与样品表面距离的调节意味着数据的高重现性且不会漂移;- 该领域内,拥有最好的信噪比;- 快速响应时间 ——测量速度在0.1-10秒间,远快于其他公司产品;- 功能强的驱动器 ——选用Voice-coil(VC)驱动器,与通常的压电驱动器相比,VC驱动器频率要稳定得多、控制的针尖振幅大得多、支持平行多探针操作、支持不同直径探针操作;- 所有开尔文探针参数的全数字控制; 参考用户:吉林大学,大连理工大学,哈工大,复旦大学,浙江大学,合肥工大,华中科大,湖南大学,华南理工大学,香港科技大学,中科院理化所,中科院纳米中心,中国工程物理研究院等…
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  • 常规标准六角工作台详细参数专业制造六角工作台/钳工台*尺寸:2400*1200*800,每个工位边长为1200mm,台面采用50mm厚的绿色高分子复合桌面;*台面下部配置六个工具柜600×540×750mm;工具柜配置4个抽屉,抽屉大小一般为:2×100mm,1*150mm,1*200mm,每抽承重80kg,可85%抽出。*柜体采用1.2mm厚优质冷轧板精工制作而成。*台面上一般可配4寸或6寸或8寸大小的6个台虎钳*表面为烤漆处理,颜色一般为绿色或蓝色 柯达kd-g05六角钳工台附件-工具柜: 六角钳工台桌台面下配置6个工具柜:1-工具柜规格:600×540×750mm; 2-抽屉规格:高100mm两个,150mm一个200mm一个,总4屉,工具柜抽屉配 置有单独的抽屉锁和钥匙; 3-柜体材料为1.5mm厚冷轧钢板,单个活动抽屉承重大于50kg,抽屉内部采用3*3活动分隔板; 4-工具柜整体经过静电喷塑处理,防锈耐腐蚀。 产品概述:本款钳工实验室设备根据教学大纲要求与多家工厂共同开发生产,该产品配备的钳工工具通用化,标准化和专用化,可提高学生的操作技术和动手能力。钳工大多是在钳工台上用手工工具操作,对工件进行加工。手工操作的特点是技术性强,加工质量的好坏主要取决于操作人员技术水平的高低,它的工作范围较广,具有便捷性和灵活性的优势且不受设备、场地等条件的限制,因此凡是采用机械加工方法不太适宜或难以进行机械加工的场合,通常由钳工来完成,尤其是机械产品的装配、调试、安装和维修等更需要钳工,所以说钳工不仅是机械制造工厂中应用最广泛的工种之一,因此柯达kd-g05款六角钳工台也是各大院校,技校不可缺少的实训教学器材、教学设备。结构特点:1.工作桌组装简便强度高,可使工作桌承受额定重量,按承重不同分为轻型、中型和重型工作桌;2.配合不同客户使用要求,可选择各种不同材质的工作台桌面;3.底部装有6个四抽工具柜后更能合理地使用空间,有放工具柜及零配件;.选用合适的桌面可直接在工作桌上加装台钳,适合钳工工作;5.工作桌可加装挂板、电器板、灯顶板、滑轮杆、棚板等桌上部件,能够满足各种工位需求。
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  • RAuK系列超高精密电控旋转台 RAuK系列超高精密电控旋转台是我公司在RAK系列旋转台的基础上,内置了进口圆光栅,实现了360° 全闭环的超高精密旋转台,闭环分辨率可达1.8&Prime (RAuK100)或1.2&Prime (RAuK200)。该系列产品已通过多方用户的测试(如哈工大、北航等),主要应用于需要超高角度定位的应用领域,如:卫星定位跟踪系统、超高精密多维扫描测量、超精密的激光加工等。 ■ 产品特点:◆内置进口超高精度圆光栅,配合MC600系列控制器,实现了360° 全闭环,闭环分辨率可达1.8&Prime (RAuK100)或1.2&Prime (RAuK200)◆精研蜗轮蜗杆采用耐磨材料并通过特殊工艺处理,可实现超高定位精度和更好的耐用性和精度保持性◆采用高刚性的进口超高等级交叉滚柱轴环,配合我公司特有的精密磨削工艺,能有效保证旋转台的端跳、径跳等各项指标,而且具有较高的负载能力,可用于竖直使用甚至倒置使用◆严格的装配工艺和高于国标要求的检验方法,保证每一台产品,出厂时具有最优性能◆电机接口和圆光栅信号接口分开设计,可以根据要求灵活使用◆具有零位开关(反向旋转时遇零位开关停止),可以方便的进行绝对定位◆使用三相步进电机和伺服电机的该系列产品以及其他规格尺寸的产品,也在规划中,敬请期待!■产品一览表型号RAuK100RAuK2008细分开环分辨率(° )0.001250.00125闭环分辨率(")1.81.2传动比180:1180:1最大速度(Deg./sec.)2525重复定位精度(° )0.0050.005径向跳动(&mu m)1510轴向跳动(&mu m)1510步进电机(步距角)42(1.8° )57(1.8° )工作电流(A)1.72.4中心负载(Kg)3050 ■关联产品◆ 42、57步进电机◆ 专用数据连接线◆ 电控位移台控制箱
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  • 斯派克 高低温湿热试验箱爱斯佩克ESPEC EL(U)02KA ER(M)02KA高低温湿热试验箱广州斯派克环境仪器有限公司是一家专注环境可靠性试验系统解决方案的国内外先进高新认证企业。我们是哈工大的团队,原爱斯派克的技术核心,参与了日本图纸的翻译和样机的国产化,秉承“规格严格,功夫到家”理念,有环试行业20年技术沉淀,10000+系统解决方案。恒温恒湿试验箱、高低温试验箱、冷热冲击试验箱、快速温变试验箱,恒温恒湿试验室等所有产品均按日本技术工艺流程设计制作,高精度,高可靠,高耐久,产品设计使用寿命超15年,可提供省部级第三方检测报告。 SHIPAC斯派克一直致力于产品研制和生产阶段可靠性与环境试验的研究及技术服务,从产品研发、设计、定型、样品生产到量产质控,提供一站式的可靠性与环境试验系统解决方案,帮助缩短产品的研发和生产周期,提高产品的可靠性、稳定性、环境适应性和安全性。SHIPAC斯派克产品涉及气候环境、机械环境、生物环境、化学环境及其综合环境,为各行各业提供符合IEC、ISO、GB、GJB、EIA、ASTM、IPC、ISTA、JEDEC、SAE,JIS、MIL等国际国内行业标准的各类环境试验系统,并可根据用户的需求定制各类非标准产品和服务。 SHIPAC保留对爱斯佩克ESPEC 高低温湿热试验箱产品的售后维修、保养服务。 SHIPAC保留对爱斯佩克ESPEC EL(U)02KA ER(M)02KA高低温湿热试验箱产品的售后维修、保养服务。新产品系列型号如下: 高低温湿热试验箱,更多相关信息可联系:广州斯派克环境仪器有限公司。热忱欢迎各界朋友前来参观、考察、洽谈业务!
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  • KM950烟气分析仪 400-860-5168转3802
    仪器简介:用于锅炉的燃烧测试和烟气污染排放监测。可同时测量O2和3个污染气体以及烟气温度,环境温度,烟道压力。SO2, CO, NO, NO2 任选1-3个灵活组合。 最新业务内容:提供仪器租赁及技术服务。客户举例:美卓矿机。英国KANE公司原装进口特殊要求:烟气露点,烟气黑度,H2,CH4,Cl2,HC,H2S,帕尔帖cooler,加热的烟气采样管,来电咨询,有更多选择。技术参数:KM950手持式多组分烟道气体分析用于锅炉的燃烧测试和烟气污染排放监测体积小巧,操作简单,同时显示多组分测量结果,中文界面可同时测量O2和3个污染气体以及烟气温度,环境温度,烟道压力传感器 SO2, CO, NO, NO2 任选1-3个灵活组合。例如:KM950SCN,代表KM950主机含O2,SO2,CO,NO传感器。实测NOx=NO+NO2强力内置泵,保证大负压下的正常测量,响应迅速。特殊气路设计最大限度地减少了SO2和NOx的管路吸付,保证了测量精度自动计算CO2,CO/CO2,NOx,过剩空气系数,燃烧效率存储300组测试结果,可通过FIRWORKS软件将数据下载至电脑。软件为选购件红外遥控打印方式,红外打印机为选购件内置充电电池可连续工作8个小时内置燃料表供用户选择燃料典型用户:上海燃气质监站。中国第一座有害垃圾焚烧厂:上海太古升达有限公司,交通大学,同济大学环境科学与工程学院,同济大学机械学院,中山大学工学院,浙江大学玉泉校区,哈工大应用化学系,南京理工大学,中科院等。各大小电厂,国内80%的环境监测站。最新业务内容:提供仪器租赁及技术服务。客户举例:美卓矿机。主要特点:用于锅炉的燃烧测试和烟气污染排放监测。           分辨率      精度        范围烟道温度       0.1℃    ±2.0℃       0-600℃环境温度       0.1℃    ±1.0℃       0-50℃O2         0.1%    ±0.2%       0-21.0%CO         1ppm    ±5%读数       0-10000ppmCO高量程      0.01%   ±5%读数        0-10%SO2        1ppm    ±5%读数       0-5000ppmSO2低量程     1ppm    ±2ppm或±5ppm 0-100ppmNO         1ppm    ±5ppm       0-5000ppmNO低量程      1ppm    ±2ppm或±5ppm 0-100ppmNO2        1ppm    ±5%读数        0-1000ppm压力         0.01mbar±0.5%       0-150mbarCO2        0.1%    ±0.3%读数     0-99.9%NOX=NO+NO2 1ppm    ±5ppm或±%5读数 0-6000ppm净温度        0.1℃    ±2.0℃       0-1100℃过剩空气系数     0.1℃    ±0.2℃       0-2885.0%CO/CO2     0.0001  ±0.0001     0-0.9999燃烧效率       0.1%    ±1.0%读数     0-99.9%内置燃料表 天然气 煤气 轻油 重油 丙烷 丁烷 无烟煤 焦炭 硬煤主机尺寸       220mm×120mm×55mm主机重量       1kg标准探针       长度420mm×直径8mm,3m导管标准配置 主机 过滤器 标准探针KMCP10 充电器 便携包 中英文手册 检测报告
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  • 开尔文探针(Kelvin Probe)是一种非接触无损震荡电容装置,用于测量导体材料的功函数(Work Function)或半导体、绝缘表面的表面势(Surface Potential)。材料表面的功函数通常由最上层的1-3层原子或分子决定,所以开尔文探针是一种最灵敏的表面分析技术。 扫描开尔文探针系统 (SKP):SKP5050系统是一款可以被大多数客户所接收的高端扫描开尔文探针系统,它是在SKP基础之上包括了彩色相机/TFT显示器、2毫米和50微米探针、外部数字示波镜等配置,其规格如下:□ 2毫米,50微米探针;□ 功函数分辨率 1-3 meV(2毫米针尖),5-10 meV(50微米针尖);□ 针尖到样品表面高度可以达到400纳米以内;□ 表面势和样品形貌3维地图;□ 探针扫描或样品扫描选配;□ 彩色相机、调焦镜头、TFT显示器和专业的光学固定装置;□ 参考样品(带相应的扫描开尔文探针系统的形貌);□ 备用的针尖放大器; 仪器特色:□ 全球第一台商用的完全意义上的开尔文探针系统;□ 最高分辨率的功函数和表面势,最好的稳定性和数据重现性;□ 非零专利技术(Off-null,ON) ——ON信号探测系统在高信号水平下工作,与基于零信号原理(null-based,LIA)的系统相比,不会收到噪声的影响拥有高灵敏度;□ 高度调节专利技术 ——我们的仪器在测量和扫描时可以控制针尖的高度。因为功函数受样品形貌的影响,针尖与样品表面距离的调节意味着数据的高重现性且不会漂移;□ 该领域内,拥有最好的信噪比;□ 快速响应时间 ——测量速度在0.1-10秒间,远快于其他公司产品;□ 功能强的驱动器 ——选用Voice-coil(VC)驱动器,与通常的压电驱动器相比,VC驱动器频率要稳定得多、控制的针尖振幅大得多、支持平行多探针操作、支持不同直径探针操作;□ 所有开尔文探针参数的全数字控制;ON 非零探测 Off Null detection HR 高度调节模式 Height Regulation modeSM实际开尔文探针信号监控 Monitoring of the actual Kelvin probe signalUC用户通道,同时测量外部参数 User Channels, simultaneous measurement of external parametersDC电流探测系统去除漂移效应 Current Detection system rejects stray capacity effectsPP平行板震动模式 Ideal, Parallel Plate Oscillation ModeSA信号平均 Signal Averaging (often termed Box-Car Detection)WA功函数平均 Work Function Averaging, Difference and Absolute reportingDC所有探针及探测参数的数字控制 Digital Control of all Probe and Detection ParametersQT针尖快速改变 Quick-change Tip, variable spatial resolutionDE 数据输出 Data Export to Excel, Origin, or 3rd party softwareOC输出通道 Output Channel: TTL switching of external circuitFC法拉第笼(电磁干扰防护罩) Faraday Cage (EMI Shield)RS金-铝参考样品 Gold-Aluminium Reference Sample额外选配项SPV表面光伏电压软硬件包 Surface Photovoltage Software and Hardware PackageRH相对湿度腔 Relative Humidity ChamberAC控制气体进口的环境单元 Ambient Cell for controlled Gas InletEDS外部数据示波镜 External Digital OscilloscopeOPT彩色相机 Color Camera, TFT Screen and Optical MountsST针尖置换 Replacement TipsGCT镀金的针尖替换 Gold Coated Replacement TipsXYZ25.4毫米手动3维控制台 3-axis 25.4 mm Manual Stage应用领域:吸附,电池系统,生物学和生物技术,催化作用,电荷分析,涂层,腐蚀,沉积,偶极层形成,显示技术,教育,光/热散发,费米级扫描,燃料电池,离子化,MEMs,金属,微电子,纳米技术,Oleds,相转变,感光染色,光伏谱学,高分子半导体,焦热电,半导体,传感器,皮肤,太阳能电池,表面污染,表面化学,表面光伏,表面势,表面物理,薄膜,真空研究,功函数工程学; 参考用户:吉林大学、哈工大、大连理工大学、湖南大学、浙江大学、复旦大学、华中科技大学、华南理工大学、合肥工大、中科院纳米中心、中科院理化所、中科院高能所等...
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  • 德国ZOZ公司多年来专注于机械化合金,反应研磨和高能量研磨设备的开发。其独立研发生产的 ZOZ Simoloyer 系列球磨机具有高能量输入、极短的操作时间和极低杂质引入等独到优势,是科研工作者的好帮手。德国 KIT 、美国橡树岭国家实验室、京都大学、首尔大学、哈工大等国内外多家研究机构都在使用该系列高能球磨设备。截至目前,ZOZ公司已经给中国数十家研究机构和企业提供了 Simoloyer 系列高能球磨机,广泛用于氧化物弥散强化合金 (ODS), 储氢材料,金属基复合材料,纳米晶体材料,非晶体材料,片状粉末,磁性材料,轻量化合金,电池、电力材料等的研发和制备。简要特性研磨介质的相对速度高干法(主要)和湿法加工,可扩大规模(简单;从实验室规模到工业规模)碰撞原理 (不仅为剪力和摩擦力)可替换的研磨单元可适配不同的传感器系统在可控的/紧密的环境 (如在氩气、氢气、空气) 和真空下加工在可控的环境 (和真空)下完整地处理粉末材料自动批量和连续加工在可控的环境 (封闭系统)下进行加工流程优势速度加快高达 50/100/1000 倍100%粉末产量(也是一直以来的目标)循环操作 (非连续的加工)加工过程稳定性 / 几乎可无粉尘地处理也可湿法研磨降低人力消耗(自动批量 / 连续加工)产品优势产物品质高,如 C、N、O(甚至 S)元素含量低(加工过程中) 污染程度低,同质性高(其他设备无法生产/加工的) 新材料加工数据记录 (Maltoz ), 品质监控与传统球磨机相比:Simoloyer:研磨舱 (研磨单元) 可清空,紧密 / 封闭的系统缩短 (很多) 的加工时长污染程度低简易的粉末处理 + 惰性气体/真空环境下在惰性气体/真空/空气下可轻易的装/卸载在惰性气体/真空/空气下可轻易的取样传统球磨机:可良好的用以精细研磨、湿法加工,但需要考虑:加工时间长、(由于剪力和摩擦力) 污染程度高、巴西果效应(即体积大的颗粒上升到表 层,体积小的颗粒沉底)、无法在惰性/真空环境下完全处理、通常出料有困难。处理示例: 使用合适的 Simoloyer 设备即可在惰性气体下加工获得粉末 无需将整个研磨舱转移到手套箱中。与行星式球磨机相比:Simoloyer:不仅限用于实验室!不仅限用于精细研磨!不仅限用于硬/脆性材料!真空密封、可扩展、可冷却、高能量转移等行星式球磨机:可良好的用以实验室用途、分析、基础研究,不可扩展规模、中等动能、比较难在可控环境下加工。应用用于机械化合金、高能研磨、反应研磨和纳米结构或纳米晶体材料、片状成型、精细研磨等的高动能加工。H2Tank2Go 氢气储气罐Zentallium 纳米结构&粒度可控高性能锌粉箔涂料:ZN-CP301 - 盐雾试验后的抗腐蚀性ZN-CP301市场上获得的产品
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  • 霍尔效应测试仪主要用于测量半导体材料的载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数、导电类型等重要参数,而这些参数是了解半导体材料电学特性必须预先掌控的,因此霍尔效应测试仪是理解和研究半导体器件和半导体材料电学特性必备的工具。ECOPIA公司的HMS系列霍尔效应测量系统主要由恒电流源、范德堡法则终端转换器、低温(77K)测量系统及磁场强度输入系统组成,拥有研究半导体材料霍尔效应所有的部件和配置,是一套非常成熟的仪器系统。同时HMS系列仪器获得多项霍尔效应测量系统、测量方法的专利,代表了霍尔效应测量的全球品质及合理的产品价格,并为全球客户所认可。该产品2004年7月通过CE认证。产品特点:1、 可靠的精度及重现性恒电流源(1nA~20mA)采用六级电流范围设置,将可以接收的误差降到最低;范德堡法则转换使用非接触装置有效降低仪器噪声;软硬件有针对性的设计,确保每个实验数据均为多次测试的平均值,使仪器拥有非常好的数据重现性。2、 产品小型化及操作简单化小尺寸的磁场强度输入系统使用永磁体和液氮低温测量系统(77K),确保仪器操作非常简单;两种不同尺寸的传统样品板(20*20mm、6*6mm)及带弹簧夹片的样品板(SPCB),使得不同尺寸不同材料的薄膜样品更容易测量,区别于传统样品板的弹簧夹片样品板使得霍尔电极制作更方便且对样品损伤更小。3、 I-V曲线及I-R曲线测量采用图表的方式,测量探针四点(A、B、C、D)间电流-电压及电流-电阻关系,并以此评判样品的欧姆接触好坏、了解样品的基本的电学特性。4、 多样的实验结果实验结果由软件自动计算得到,可同时得到体载流子浓度(Bulk Carrier Concentration)、表面载流子浓度(Sheet Carrier Concentration)、迁移率(Mobility)、电阻率(Resistivity)、霍尔系数(Hall Coefficient)、磁致电阻(Magnetoresistance)、电阻的纵横比率(Vertical/Horizontal ratio of resistance)等等。产品组成:主机(精密恒电流源+范德堡法则终端转换器) / 磁体包(包括样品板) / 软件等。[HMS-3000软件界面一][HMS-3000软件界面二(I-V和I-R曲线测量)] 产品规格:1、 主要仪器参数 输入电流:1nA ~ 20mA;电阻率:10exp(-5) ~ 10exp7 Ω.cm;载流子浓度:10exp7 ~ 10exp21 cm-3;迁移率:1 ~ 10exp7 cm2/Volt.sec;磁场强度:0.37T, 0.55T, 1T, 0.25~1T变场磁体;样品测量板:PCB样品板,SPCB弹簧样品板,晶圆样品板等;样品尺寸:5mmX5mm ~ 20mmX20mm (可选配30mm或2inch大样品板);测量温度:常温,77K液氮浴;2、 软件操作环境 XP / Win7 / Win8 / Win10环境下3、 实验结果体载流子浓度、表面载流子浓度;迁移率 霍尔系数;电阻率,方块电阻;磁致电阻;电阻的纵横比率;4、 仪器尺寸和重量主机尺寸:360×300×105 mm (W×H×D) 磁体Kit尺寸:200×120×110 mm (W×H×D);净重:7.7千克;5、 测量材料Si, SiGe, SiC, ZnO, GaAs, InGaAs, InP, GaN, ITO等所有半导体薄膜(P型和N型);参考用户:HMS-3000霍尔效应仪国内科研用户超过了100台。 清华大学、北京大学、复旦大学、上海交大、中国科大、浙江大学、哈工大、电子科大、西北工大、湖南大学、中南大学、上海大学、中科院物理所、半导体所、长春光机所、兰州化物所、上海技物所、苏州纳米所、华南理工、天合光能...
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  • 多功能磁控溅射仪( 高真空磁控溅射镀膜机)是用磁控溅射的方法,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等;适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜;可镀制磁性材料和非磁性材料。设备关键技术特点秉承设备为工艺实现提供实现手段的理念,我们做了如下设计和工程实现,实际运行效果良好,为用户的专用工艺实现提供了精*准的工艺设备方案。靶材背面和溅射靶表面的结合处理-靶材和靶面直接做到面接触是很难的,如果做不到面接触,接触电阻将增大,导致离化电场的幅值不够(接触电阻增大,接触面的电场分压增大),导致镀膜效果不好;电阻增大导致靶材发热升温,降低镀膜质量。-靶材和靶面接触不良,导致水冷效果不好,降低镀膜质量。-增加一层特殊导电导热的软薄的物质,保证面接触。采用计算机+PLC 两级控制系统角度、距离可调磁控溅射靶头可调角度,以便针对不同尺寸基片的均匀性,做精*准调控。基片和靶材之间的距离可调整,以适应不同靶材的成膜工艺的距离要求。 集成一体化柜式结构一体化柜式结构优点:安全性好(操作者不会触碰到高压部件和旋转部件)占地面积小,尺寸约为:长1100mm×宽780mm(标准办公室门是800mm宽)(传统设备大约为2200mm×1000mm),相同面积的工作场地,可以放两台设备。安全性-电力系统的检测与保护-设置真空检测与报警保护功能-温度检测与报警保护-冷却循环水系统的压力检测和流量-检测与报警保护匀气技术工艺气体采用匀气技术,气场更均匀,镀膜更均匀。基片加热技术采用铠装加热丝,由于通电加热的金属丝不暴露在真空室内,所以高温加热过程中不释放杂质物质,保证薄膜的纯净度。铠装加热丝放入均温器里,保证温常的均匀,然后再对基片加热。真空度更高、抽速更快真空室内外,全部电化学抛光,完全去除表面微观毛刺丛林(在显微镜下可见),没有微观藏污纳垢的地方,腔体内表面积减少一倍以上,镀膜更纯净,真空度更高,抽速更快。高真空磁控溅射仪(磁控溅射镀膜机)设备详情设备结构及性能1、单镀膜室、双镀膜室、单镀膜室+进样室、镀膜室+手套箱2、磁控溅射靶数量及类型:1 ~ 6 靶,圆形平面靶、矩形靶3、靶的安装位置:由下向上、由上向下、斜向、侧向安装3、靶的安装位置:由下向上、由上向下、斜向、侧向安装4、磁控溅射靶:射频、中频、直流脉冲、直流兼容5、基片可旋转、可加热6、通入反应气体,可进行反应溅射镀膜7、操作方式:手动、半自动、全自动7、样品传递采用折叠式超高真空机械手工作条件类型 参数 备注 供电 ~ 380V 三相五线制 功率 根据设备规模配置 冷却水循环根据设备规模配置 水压 1.5 ~ 2.5×105Pa 制冷量 根据扇热量配置 水温 18~25℃ 气动部件供气压力 0.5~0.7MPa 质量流量控制器供气压力 0.05~0.2MPa 工作环境温度 10℃~40℃ 工作湿度 ≤50%设备主要技术指标-基片托架:根据供件大小配置。-基片加热器温度:根据用户供应要求配置,温度可用电脑编程控制,可控可调。-基片架公转速度 :2 ~100 转 / 分钟,可控可调;基片自转速度:2 ~20 转 / 分钟。-基片架可加热、可旋转、可升降。-靶面到基片距离: 30 ~ 140mm 可调。-Φ2 ~Φ4 英寸平面圆形靶 2 ~ 3 支,配气动靶控板,靶可摆头调角度。-镀膜室的极限真空:6X10-5Pa~6X10-6Pa,恢复工作背景真空 7X10-4Pa ,30 分钟左右(新设备充干燥氮气)。-设备总体漏放率:关机 12 小时真空度≤10Pa。关于鹏城半导体鹏城半导体技术(深圳)有限公司(简称:鹏城半导体),由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机,离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积(CVD)系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统(MBE)、激光分子束外延系统(LMBE)|OLED中试设备(G1、G2.5)|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备(PECVD+磁控溅射)团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延(MBE)设备,包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪(反射高能电子衍射仪)、直线型电子枪、膜厚仪(可计量外延生长的分子层数)、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用,至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统,应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备,应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备,可加水平磁场和垂直磁场,自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉,用于GaN和ZnO的外延生长,实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD,用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备,用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备(采用热激发技术和CVD技术)。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备,制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计,开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备,目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备(≥Φ6英寸)。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。
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  • 分子束外延系统MBE 可以在某些衬底上实现外延生长工艺,实现分子自组装、超晶格、量子阱、一维纳米线等。可以进行第二代半导体和第三代半导体的工艺验证和外延片的生长制造。 分子束外延系统MBE在薄膜外延生长时具有超高的真空环境,是在理想的环境下进行薄膜外延生长,它可以排除在薄膜生长时的各种干扰因素,得到理想的高精度薄膜。我公司设计制造的分子束外延薄膜生长实验设备,分实验型和生产型两种 ,配置合理,结构简单,操作方便,技术先进,性能可靠,用途多,实用性强,价格相对较低,可供各大学的实验室及科研机构作为分子束外延方面的教学实验、科学研究及工艺实验之用。生产型MBE可用于小批量外延片的制备。功能特点本项目于2005年在国内率先完成了成套MBE的全国产化研发设计和制造,做到自主可控。自主设计MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、RHEED原位实时在线监控仪、直线型电子枪、高温束源炉、束源炉电源、高温样品台、膜厚仪(可计量外延生长的分子层数)等核心部件。可实现第二代半导体(如砷化镓等)和第三代半导体(如碳化硅和氮化镓)的外延生长。设备组成与主要技术指标设备的组成进样室该室用于样品的进出仓,并配置有多样片储存功能。样品库可放六片基片。预处理室该室用于样品在进入外延室之前进行真空等离子剥离式清洗和真空高温除气,及其他前期工艺处理。还用于对外延后的样片进行后工艺处理,如高温退火等等。外延室超高真空洁净真空室,实现分子束外延工艺。主要技术指标进样室极限真空:5.0×10-5Pa样品装载数量:6片(φ2 英寸~φ4 英寸,带样品载具)预处理室极限真空:5×10-7Pa样品台加热温度:室温~ 850℃±1℃(PID 控制)离子清洗源:Φ60;100 ~ 500eV外延室 项目 参数 极限真空 离子泵 8.0×10-9Pa(冷阱辅助) 样品台加热温度 室温~ 1200℃±1℃(PID 控制) 样品自转速度 2 ~ 20 转 / 每分钟(无级可调) 气态离化源 1~3套(氮) 固态束源炉 3 ~ 8 套(根据用户需求配置) Rheed 1套*工艺室部分部件根据客户需求不同,所配置不同。实验型MBE设备组件超高真空直线型电子枪自主研发直线型电子枪,满足超高真空和束源炉法兰接口及安装尺寸的要求;可用于高温难融材料的加热蒸发。超高真空直线型电子枪高能衍射枪及电源束斑0.6mm,高压25kV。光斑在荧光屏上可衍射图像经CCD 相机采集后由计算机进行图像处理。生产型MBE工艺实现使用鹏城半导体自主研发的分子束外延设备生长的Bi2-xSbxTe3。关于鹏城半导体鹏城半导体技术(深圳)有限公司(鹏城半导体),由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机,离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积(CVD)系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统(MBE)、激光分子束外延系统(LMBE)|OLED中试设备(G1、G2.5)|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备(PECVD+磁控溅射)团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延(MBE)设备,包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪(反射高能电子衍射仪)、直线型电子枪、膜厚仪(可计量外延生长的分子层数)、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用,至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统,应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备,应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备,可加水平磁场和垂直磁场,自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉,用于GaN和ZnO的外延生长,实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD,用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备,用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备(采用热激发技术和CVD技术)。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备,制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计,开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备,目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备(≥Φ6英寸)。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。
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  • 热丝CVD金刚石设备鹏城半导体技术(深圳)有限公司(简称:鹏城半导体)研发设计制造了热丝CVD金刚石设备,分为实验型设备和生产型设备两类。研发设计制造了热丝CVD金刚石设备,分为实验型设备和生产型设备两类。设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片,用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。可用于生产制造防腐耐磨硬质涂层;环保领域污水处理用的金刚石产品。可用于平面工件的金刚石薄膜制备,也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。可用于太阳能薄膜电池的研发与生产。 工件尺寸圆形平面工作的尺寸:最大φ600mm。矩形工作尺寸的宽度1000mm/长度可根据镀膜室的长度确定(如:工件长度1500mm)。配置水冷样品台。可单面镀膜也可双面镀膜。热丝电源功率可达300KW,1KW ~300KW可调(可根据用户工艺需求配置功率范围)设备安全性-电力系统的检测与保护-设置真空检测与报警保护功能-冷却循环水系统压力检测和流量检测与报警保护-设置水压检测与报警保护装置-设置水流检测报警装置设备构成真空室构成双层水冷结构,立式圆形、立式D形、立式矩形、卧式矩形,前后开门,真空尺寸,根据工件尺寸和数量确定。热丝热丝材料:钽丝、或钨丝热丝温度:1800℃~ 2500℃ 可调热丝不塌腰(解决了热丝长时间加热塌腰问题)。样品台可水冷、可加偏压、可旋转、可升降 ,由调速电机控制,可实现自动升降,(热丝与衬底间距在5 ~ 100mm范围内可调),要求升降平稳,上下波动不大于0.1mm。工作气路(CVD)工作气路根据用户工艺要求配置:下面气体配置是某一用户的配置案例。H2(5000sccm,浓度100%)CH4(200sccm,浓度100%)B2H6(50sccm,H2浓度99%)Ar(1000sccm,浓度100%)真空获得及测量系统控制系统及软件关于鹏城半导体鹏城半导体技术(深圳)有限公司(简称:鹏城半导体),由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机,离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积(CVD)系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统(MBE)、激光分子束外延系统(LMBE)|OLED中试设备(G1、G2.5)|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备(PECVD+磁控溅射)团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延(MBE)设备,包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪(反射高能电子衍射仪)、直线型电子枪、膜厚仪(可计量外延生长的分子层数)、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用,至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统,应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备,应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备,可加水平磁场和垂直磁场,自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉,用于GaN和ZnO的外延生长,实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD,用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备,用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备(采用热激发技术和CVD技术)。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备,制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计,开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备,目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备(≥Φ6英寸)。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。
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  • 高真空电阻热蒸发镀膜机(高真空镀膜机)采用电阻热蒸发技术,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验,可根据用户要求专门订制;可用于材料的物理和化学研究;可用于制备金属导电电极;可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室+进样室-单镀膜室+手套箱(可将镀膜室放在手套箱内)-单镀膜室+进样室+手套箱(可将镀膜室放在手套箱内)-多镀膜室+样品传递室+手套箱(组成团簇式结构,样品传递采用真空机械手)设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵(或冷泵)真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构,膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量,可根据用户需要进行配置。可选件:膜厚监控仪,恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件:数量:1~12套(可根据用户要求配装);电阻热蒸发源种类:钽(钨或钼)金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件(配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚)、束源炉热蒸发组件(配石英坩埚或氮化硼坩埚)。高真空电阻热蒸发镀膜机(高真空镀膜机)工作条件(实验室应具备的设备工作条件)供电:4kW,三相五线制~ AC 380V工作环境湿度:10℃~ 40℃工作环境温度:≤50%冷却循环水:0.2m3/h,水温18℃~ 25℃水压:0.15MPa ~ 0.25MPa真空性能极限真空:7×10-5Pa~7×10-6Pa设备总体漏放率:关机12小时,≤10Pa操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机,离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积(CVD)系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统(MBE)、激光分子束外延系统(LMBE)|OLED中试设备(G1、G2.5)|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备(PECVD+磁控溅射)团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延(MBE)设备,包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪(反射高能电子衍射仪)、直线型电子枪、膜厚仪(可计量外延生长的分子层数)、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用,至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统,应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备,应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备,可加水平磁场和垂直磁场,自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉,用于GaN和ZnO的外延生长,实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD,用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备,用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备(采用热激发技术和CVD技术)。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备,制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计,开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备,目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备(≥Φ6英寸)。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。
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  • 高真空电子束蒸发镀膜机(电子束蒸镀机是在高真空条件下,采用电子束轰击材料加热蒸发的方法,在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等;可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜;可镀各种高熔点材料。可用于生产、科学实验及教学,可根据用户要求专门订制。可根据用户使用要求,选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式, 通过PLC 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制, 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等,从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。设备特点设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点,配备 E 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。PID自动控温,具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。可根据用户使用要求,选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式,通过PLC和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制,包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等,从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。真空性能极限真空:7×10-5Pa~7×10-6Pa设备总体漏放率:关机12小时,≤10Pa恢复工作真空时间短,大气至7×10-4Pa≤30分钟;设备构成E 型电子束蒸发枪、电阻热蒸发源组件(可选配)、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵真空机组或低温泵真空机组、旋转基片加热台、工作气路、样品传递机构,膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。可选件:膜厚监控仪,恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置 E 型电子束蒸发系统 1套 功率 6kW~10kW 其它功率(可根据用户要求选配) 坩埚 1~8只 (可根据用户要求选配) 电阻热蒸发源组件 1~4套 (可根据用户要求配装)电阻热蒸发源种类-钽(钨或钼)金属舟热蒸发源组件-石英舟热蒸发源组件-钨极或钨蓝热蒸发源组件-钽炉热蒸发源组件(配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚)-束源炉热蒸发组件(配石英坩埚或氮化硼坩埚)操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术(深圳)有限公司(简称:鹏城半导体),由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机,离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积(CVD)系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统(MBE)、激光分子束外延系统(LMBE)|OLED中试设备(G1、G2.5)|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备(PECVD+磁控溅射)团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延(MBE)设备,包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪(反射高能电子衍射仪)、直线型电子枪、膜厚仪(可计量外延生长的分子层数)、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用,至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统,应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备,应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备,可加水平磁场和垂直磁场,自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉,用于GaN和ZnO的外延生长,实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD,用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备,用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备(采用热激发技术和CVD技术)。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备,制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计,开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备,目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备(≥Φ6英寸)。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。
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  • 等离子体增强化学气相沉积PECVD主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长;采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术,是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。设备用途和功能特点1、该设备是高真空单频或双频等离子增强化学气相沉积PECVD薄膜设备,主要用于制备氮化硅和氧化硅薄膜。2、设备保护功能强,具备真空系统检测与保护、水压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护。3、 配置尾气处理装置。设备安全性设计1、电力系统的检测与保护2、设置真空检测与报警保护功能3、温度检测与报警保护4、冷却循环水系统的压力检测和流量检测与报警保护设备技术指标类型参数样片尺寸≤φ6英寸(或3片2英寸)样片加热台加热温度室温~600℃±0.1℃真空室极限真空≤7×10-5Pa工作背景真空≤8×10-4Pa设备总体漏放率停泵12小时后,真空度≤10Pa样品、电极间距5mm~50mm在线可调工作控制压强10Pa~1500Pa气体控制回路根据工艺要求配置单频电源的频率13.56MHz双频电源的频率13.56MHz/400KHz工作条件类型参数供电三相五线制 AC 380V工作环境温度10℃~40℃气体阀门供气压力0.5MPa~0.7MPa质量流量控制器输入压力0.05MPa~0.2MPa冷却水循环量0.6m3/h 水温18°C~25℃设备总功率7kW设备占地面积2.0m~2.0mPECVD及太阳能薄膜电池设备单室PECVD设备/控制系统五室PECVD设备六室太阳能薄膜电池设备PECVD+磁控溅射关于鹏城半导体 鹏城半导体技术(深圳)有限公司(简称:鹏城半导体),由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机,离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积(CVD)系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统(MBE)、激光分子束外延系统(LMBE)|OLED中试设备(G1、G2.5)|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备(PECVD+磁控溅射)团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延(MBE)设备,包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪(反射高能电子衍射仪)、直线型电子枪、膜厚仪(可计量外延生长的分子层数)、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用,至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统,应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备,应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备,可加水平磁场和垂直磁场,自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉,用于GaN和ZnO的外延生长,实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD,用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备,用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备(采用热激发技术和CVD技术)。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备,制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计,开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备,目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备(≥Φ6英寸)。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。
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  • 化学气相沉积 LPCVD设备是在低压高温的条件下,通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)。可用于科学研究、实践教学、小型器件制造。LPCVD设备结构及特点:1、小型化,方便实验室操作和使用,大幅降低实验成本两种基片尺寸2英寸或4英寸;每次装片1~3片。基片放置方式:配置三种基片托架,竖直、水平卧式、带倾角。基片形状类型:不规则形状的散片、φ2~4英寸标准基片。2、设备为水平管卧式结构由石英管反应室、隔热罩炉体柜、电气控制系统、真空系统、气路系统、温控系统、压力控制系统及气瓶柜等系统组成。反应室由高纯石英制成,耐腐蚀、抗污染、漏率小、适合于高温使用;设备电控部分采用了先进的检测和控制系统,量值准确,性能稳定、可靠。LPCVD设备主要技术指标 类型参数 成膜类型 Si3N4、Poly-Si、SiO2等 最高温度 1200℃ 恒温区长度 根据用户需要配置 恒温区控温精度 ≤±0.5℃ 工作压强范围 13~1330Pa 膜层不均匀性 ≤±5% 基片每次装载数量 标准基片:1~3片 不规则尺寸散片:若干 压力控制 闭环充气式控制 装片方式 手动进出样品生产型LPCVD设备设备功能该设备是在低压高温的条件下,通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)。可提供相关镀膜工艺。设备结构及特点设备为水平管卧式结构,由石英管反应室、隔热罩炉体柜、电气控制系统、真空系统、气路系统、温控系统、压力控制系统及气瓶柜等系统组成。反应室由高纯石英制成,耐腐蚀、抗污染、漏率小、适合于高温使用;设备电控部分采用了先进的检测和控制系统,量值准确,性能稳定、可靠。整个工艺过程由计算机对全部工艺流程进行管理,实现炉温、气体流量、压力、阀门动作、泵的启闭等工艺参数进行监测和自动控制。也可以手动控制。设备主要技术指标 类型参数 成膜类型Si3N4、Poly-Si、SiO2等 最高温度 1200℃ 恒温区长度 根据用户需要配置 恒温区控温精度 ≤±0.5℃ 工作压强范围 13~1330Pa 膜层不均匀性 ≤±5% 基片每次装载数量 100片 设备总功率 16kW 冷却水用量 2m3/h 压力控制 闭环充气式控制 装片方式 悬臂舟自动送样软件控制界面 关于鹏城半导体鹏城半导体技术(深圳)有限公司(简称:鹏城半导体),由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机,离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积(CVD)系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统(MBE)、激光分子束外延系统(LMBE)|OLED中试设备(G1、G2.5)|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备(PECVD+磁控溅射)团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延(MBE)设备,包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪(反射高能电子衍射仪)、直线型电子枪、膜厚仪(可计量外延生长的分子层数)、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用,至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统,应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备,应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备,可加水平磁场和垂直磁场,自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉,用于GaN和ZnO的外延生长,实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD,用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备,用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备(采用热激发技术和CVD技术)。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备,制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计,开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备,目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备(≥Φ6英寸)。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。
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  • DIT-MCU系列大坝安全监测装置主要用于水库自动化监测,水库安全监测,大坝监测及其它水工建筑物、边坡、道路、矿山等工程的安全监测,可以实现变形监测、位移监测、压力监测、渗流监测等功能。  DIT-MCU系列大坝安全监测装置由密封机箱、DAU系列智能数据采集模块、电源模块、防雷模块、通信模块等组成,用于安全监测工程中各种类型监测仪器(传感器)的数据测量、存储和传输,适合于水工建筑物、高边坡、隧道、桥梁、道路等恶劣环境下长期使用。应用于大坝安全监测系统、中小水库自动化监测系统、水工建筑物安全监测系统等。 产品应用  广西凤亭河水库  东方红水库  九坑河水库  西坑水库  黄岗水库  红花水库  当阳三星寺水库  高州水库  锦江水库  四川新店水库  唐山曹妃甸蓄水工程  山西赵家窑水库  深圳三洲田水库主要功能  多模式数据采集功能:根据上位机(组态软件或专用安全监测软件)的命令或外部条件实现不同模式的数据采集控制功能  按中央控制方式进行巡测或点测;  按自动控制方式进行巡测,起始测量时间和测量时间间隔可自由设定;  按特殊自控方式进行巡测,这是在上位机出现故障/通信线路中断或外部供电中断等情况下利用自备电源继续实现定时巡测,并自动存储数据。大容量存储功能:自带256kbytes的存储容量,可配容量高达512MSD存储卡,测量数据将根据存储策略自动存储,存储数据有掉电保护功能,通过通讯接口可以读出存储的历史数据记录;  多种通讯方式  支持RS485、RS232、以太网通信,采用标准MODBUS、MODBUSTCP通信协议,可接入无线通讯模块或电台,可实现基于GPRS/CDMA、超短波方式的数据传输;可实现与一些智能检测仪器的通讯,如静力水准仪等。  对时功能具有实时时钟模块,上位机可通过通讯网络对本装置进行对时,以保证整个安全监测系统时间的统一性。  后备电源功能  可根据实际需要选择此功能。装置内部可配高性能大容量的锂电池作为后备电源,在平常电池处于浮充状态,而在外部供电电源中断的情况下自动投入工作,以保证监测数据不因外部电源中断而出现中断。
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  • 为国内外的教学院校、科研单位的实验实训及科研设备项目,柯达工业设备提供一站式的综合服务平台。主要销售:模具教学设备,模具拆装台,六工位钳工桌,四工位钳工台,六角钳工台,六角钳工桌,钳工实训设备。传统的工程学科教学中,通常做法是各门课程单独传授,学生很少有机会了解各种技术在实际工程中是如何被综合性应用的。学生在学习专业课程时,每门课程虽然都有相应的实验,但这些实验都是各自独立进行的。在很多情况下,实验中所使用的设备和器件很多都是实验室专用的,与工业生产中所使用的实际设备和器件有着较大的差异。机电一体化及自动控制技术是融机械、电气、电子及计算机等技术于一体的综合技术,在这种技术中,不同领域和层次的知识与能力融会在一起。与其他工程领域相比,在自动化生产中所使用的生产设备都是资金密集型的。因此,一方面,一般教学或培训单位是没有经济实力专门为教学购置真实的、昂贵的自动化生产系统的;另一方面,拥有自动化生产系统的企业,因经济原因而不愿将其作为实训设备给学生使用。这样,学校在传授自动化技术时,只能用模型或采用计算机仿真作为一种弥补的手段,但采用模型或计算机仿真的手段,学生无法学到真实生产系统所需的知识。从某种意义上说,这样培养出来的学生是“半成品”,学生走上工作岗位后,面对实际的工业生产设备、器件仍然感到陌生,需要经过较长的工作岗位适应期。 与普通的六角工作台相比,柯达六角工作台具有六边多工位、组装式结构、带工具柜台虎钳等特点。台面中间设置有电源气源接口台,配备单相220V,三相380V电源插座和气源接口(各六个)。台面中间配小台面每边边长550mm;用于连接各类电气、气源接头、开关等电器群。 六角钳工台突破传统钳工桌不同,它配备有台虎钳、锉刀、钻 铰刀、磨床等钳工工具,满足加工零件、模具装配、设备维修等各种钳工作业需要,极大的方便了钳工的作业和生产. 柯达kd-g05六角钳工台-工具柜: 六角钳工台桌台面下配置6个工具柜:1-工具柜规格:580x525x850mm; 2-抽屉规格:高100mm两个,150mm一个200mm一个,总4屉,工具柜抽屉配 置有单独的抽屉锁和钥匙; 3-柜体材料为1.5mm厚冷轧钢板,单个活动抽屉承重大于50kg,抽屉内部采用3*3活动分隔板; 4-工具柜整体经过静电喷塑处理,防锈耐腐蚀。 柯达KD-g05六角钳工台-电气岛: 1-台面中间设置电源气源接口台,配备单相220V,三相380V电源插座和气源接口(各六个)。台面中间配小台面每边边长550mm;2-用途:主要用于安装电气接头、气源接头、开关等电器群。 3-柯达六角钳工桌型号:KD-g055 尺寸:2400Wx2080Dx800H 单边工作台面宽度为:1200mm 柯达KD-g05六角钳工台-台面: 一、Q235(A3)钢板台面;二、原木榉木台面;三、防静电桌面;四、复合板桌面;五、不锈钢包边台面;六、铁板包木板台面工作;1.为了工作台适应不同场合中的使用要求,根据不同的用途加装方 孔挂板、百叶挂间,板、电源插座、脚轮、照明灯、置物 板等,2.也可以根据要求订制特殊规格及样式的工作 台,以满足生产流水线、维修工作台、实验台、加工 操作台、钳工台等工作需要。3.工作台是为工厂的组装、生产、维修、操作等工作而专门设计。4.作为各种作业的操作平台,工作台适合钳工、模具、装配、包装、检测、维修、生产办公等各种生产用途。5.工作台的桌面经特殊处理,具有防腐、抗冲击力强等特性,多种桌面的选择,可配合不同的使用要求工作台配置的抽屉、柜门方便使用者存储等工具:1. 工作台桌面上可以增加不同的组件,如百页、方孔挂板,电源插座、照明灯具、吊具等。2. 配合零件盒及各种不同的挂钩,工作台还可以存放各种常用的零件、工具等,更加合理地使用空模具工作台,榉木工作台,防静电工作台,中型工作台,重型工作台,包面台面,高分子台面,防火板台面加装台钳,工具柜,工艺看板,放置板,日光灯,气管,脚轮等常3. 常用规格:1200*750*800,1500*750*800,1800*750*800,2100*750*800
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  • 滨松光子 滨松医疗 生物毒性检测仪我方为滨松光子便携式 台式水质生物毒性检测仪总代理-李 第三方环境检测公司 方向 BHP9515型便携式水质生物毒性测试仪 发光细菌法BHP9511 饮用水安全检测系统 水质毒性BHP9514台式饮用水安全检测水质生物毒性测试仪 生物发光细菌法毒性检测仪1、适用国标GBT15441-1995水质 急性毒性的测定 发光细菌法2、针对第三方检测公司,通过中国计量院测试报告。中国计量科学研究院医学生物所《ATP荧光微生物检测仪器测试指导书》NIM-ZY-YS-FX-002 ATP荧光检测仪校准模拟微弱光源 配套菌种 青海弧菌 青海弧菌Q67 淡水发光菌种 明亮发光杆菌 费氏弧菌 质保期:12个月 保存条件:-20℃、避光 应用领域 环境监测部门和疾病预防控制中心作为应急监测项目 污染现场快速筛查、监测 对污水处理中的进出水、食品加工用水、地表水、沉淀物毒性的检测 对油污染物毒性、对工业用水中的生物杀减剂的监测 生产制药厂快速检测抗菌素 科研高校进行生物毒性的实验研究工业废水、城市污水及河流等水域的水质综合毒性评价的应用农药残留、重金属和抗生素等毒性评价中 常见的生物毒性检测方法通过鱼类、生物燃料电池、发光细菌、水蚤、藻类等为指示物进行检测。GIROTTI等研究报道,基于费氏弧菌的发光细菌法运用于化学毒性物质的检测,相比较于其他细菌实验法,该方法敏感,检测范围也很宽 原理:发光细菌是一类可以自身发出蓝绿色光的细菌(与萤火虫的发光相类似),且发光强度持续、稳定,如果遇到外界不利因 素(重金属离子等有毒物质),就会很“敏感”地反应,几乎立即影响到它的发光,通常是发光受到抑制,抑制的程度跟 所受到的毒物的浓度及其毒性大小相关。发光受抑制的程度可以很方便地用光电传感器检测出来,从而可以推算样品综合 毒性大小,毒物的毒性可以用EC50表示,即发光细菌发光强度降低50%时毒物的浓度有毒的化学物质、重金属离子、抗生素、化学治疗剂、农药等污染物质影响细菌发光。这类物质抑制细菌发光的途经有两个:一是:直接抑制参与发光反应的酶类活性;二是:抑制细胞内与发光反应有关的代谢过程。因此能够干扰或破坏发光细菌呼吸生长、新陈代谢等生理过程的任何有毒物质都可以根据发光程度的变化来测定。 冻干粉使用原因目前发光细菌毒性检测有3种方法,即发光菌新鲜培养物测定、发光菌冷冻干燥制剂测定及发光菌与海藻混合测定的方法。新鲜培养的发光细菌其培养条件很难限制在同一水平上,这会造成发光细菌对130多种有毒物质的敏感性不一致,导致重复性差且操作麻烦。而发光细菌冷冻干燥制剂可以避免以上问题,将其贮存于冰箱中,使用相对方便应用领域 一、科研高校:生物毒性、生物评价等实验研究,特异性基因工程发光菌,废水、土壤、空气综合毒物污染毒性(协同作用和拮抗作用)化学品、药品等毒性评价与安全性评定、药效评价污染物的基因毒性环境激素毒性、环境毒理学遗传毒性1、 科研 环境处理+污水处理:土壤水源、生活污水处理、农药残留污染、城镇污水、化工污水处理、剧毒处理工艺、环境微生物学、水生生态学,生态毒理学等等方向 结科研果评价:常规评估+生物毒性评估、生物毒性测试和评价 方向:1. 生活污水的生态学处理 2. 新兴环境污染物的生态风险测试评价3. 环境微生物检测方法 4. 生物毒性测试5. 培养具有环境净化功能的微生物测试评价 华东师大、同济、北大、清华、人大、北师大、南开大学、天津理工大学、南京大学、中国环境科学研究院、中科院动物所、中科院理化所、消防研究所、环保部华南环境研究所中国计量学院等等 科学基金项目 科研研究及高校学生 硕士生 博士生 毕业论文设计实验等青海弧菌Q67 查阅中国知网科发现多种期刊中文核心期刊《生态毒理学报》《生物学教学》《绿色科技》《中国司法鉴定》 高校(华东师范大学 同济大学 交通大学 哈工大等)硕士 博士论文 河北科技厅 中国会议 参考如下:2、3种农药对青海弧菌Q67的联合毒性作用特征3、11种农药对淡水发光细菌青海弧菌Q67的毒性研究5、Cu_Zn_Cd_Hg对青海弧菌_Q67菌株_联合毒性作用的研究6、Microtox中药注射剂微毒测_省略_弧菌Q67发光反应条件的比较研究7、苯并噻唑类污染物对青海弧菌Q67毒性效应8、吡啶类离子液体对青海弧菌Q67的混合毒性评估9、测定环境污染物对青海弧菌发光强度抑制的微板发光法研究10、淡水发光菌青海弧菌Q_67对环境激素类物质毒性检测应用研究进展12、低剂量_辐射对青海弧菌Q67的毒性研究15、离子液体与废水对青海弧菌Q67的混合毒性研究16、青海弧菌Q67用于硝基呋喃类药物的急性毒性测试及其冻干保护剂的研究 涉及部分课程《生态学》专业基础课,环境科学与工程专业。《环境微生物学》专业基础课,环境科学与工程专业。《环境生物学》《生态毒理学》 《普通高等院校环境科学与工程类系列规划教材:环境评价》《生态学基础》(环境类专业适用)(高等学校教材) 普通高等学校环境类专业本科生学习。一:环境科学与工程类 二:环境科学专业课 三:环境生物学及实验 主要讲述环境污染物的生物效应,生物监测与生物评价,环境污染的生物净化和生物修复等,如《环境生物学》孔繁翔主编中第二节 生物监测和环境质量评价 一、大气污染生物监测与评价 二、水污染生物监测与评价 第三节 生态环境质量评价 生物监测的 生物学效应有害物理因素、化学品生态风险评价 第三章 污染物的生物效应检测l生物测试及方式一般毒性试验l生物的分子和细胞水平检测l生物致突变、致畸和致癌效应检测微宇宙法一、生物测试的定义?l生物测试(Bioassay):指系统地利用生物的反应测定一种或多种污染物或环境因素单独或联合存在时所导致的影响或危害 急性毒性试验(Acute?Toxicity?Test)l研究化学物质大剂量一次染毒或24小时内多次染毒动物所引起的毒性的试验 其目的是短期内了解该物质的毒性大小和特点,并为进一步开展其他毒性试验提供设计依据 急性毒性试验类型哺乳动物急性毒性试验 水生生物急性毒性试验 蚯蚓急性毒性试验 二、环境监测部门、疾病预防控制中心:水环境污染事故、应急环境监测项目 省检测站: ...市检测站: 县检测站三、工业废水、纳污水体 (城镇农村生活污水、工业工厂废水污水) ----- 四、饮用水、自来水 ----- 五、工农业用水 (渔业,农田灌溉水体、粮食水果蔬菜、农产品、食品、工厂)六、地表水、地下水、海洋、江河、湖泊、等水体水域七、土壤检测 (重金属、油污染、沉积物、固体废弃物、垃圾渗滤)八、食品:农产品、饮料、粮食九、汽油、石油工业、制药、医疗、医药 方向:十、农药残留、兽药残留、饲料毒素十一、重金属、金属离子十二、抗生素(抗菌素) 生物杀减剂(生物制药厂、医疗废水废液)十三、“三致”物质:致癌 致突变 致畸评价十四、污染物的基因毒性十五、环境激素毒性十六、遗传毒性、 涉及论文:地表水、污水[1]Shi J, Frymier P D. Toxicity of metals and organic chemicals evaluated with bioluminescence assays[J]. Chemosphere, 2005, 58: 543-550.(采用发光细菌对水体环境中的金属及多组分金属混合物的检测反应灵敏,目前已被作为环境风险评估的主要工具[2]Stefano G, Elida N F, Maria G F. Monitoring of environmental pollutants by bioluminesent bacteria[J]. Analytica Chimica Acta, 2008, 608: 2-29. (地表水、地下水、自来水、土壤、生活污水等环境中的发光细菌均能表现很好的生物毒性评价作用)[3]李劲,房存金,宋献光,等. 工业废水与河流水体的急性毒性研究[J]. 中国环境监测,2006,22( 1) :81-84.4--王丽莎,胡洪营. 城市污水再生处理工艺中发光细菌毒性变化的初步研究[J]. 安全与环境学报,2006,6( 1) :72-73.李 专,刘 淼,王 霞. 淡水发光菌对工业废水的生物毒性研究[J]. 中国环境监测,2011,27( S1) :38-40. 土壤[20]Giovanni L, Chiara L, Alessandra A N, et al. Ecotoxicological evaluation of industrialport of Venice (Italy) sediment samples after a decontamination treatment[J].Environment Pollution, 2008, 156: 644-650 (采用发光细菌测试方法实时对土壤条件进行监测并正确评价,尤其是对土壤重金属急性毒性效应测定和评价、土壤重金属毒性的协同或拮抗效应的监测[21]Mutairi N A, Bufarsan A, Rukaibi F A. Ecorisk evaluation and treatability potential ofsoils contaminated with petroleum hydrocarbon-based fuels[J]. Chemosphere, 2008, 74:142-148.(利用发光细菌评价油田土壤降解后重金属的毒性研究是生物测试方法直接的应用])曾晓岚,陈 鑫,丁文川. 发光细菌法在垃圾渗滤液生物毒性测定中的应用[J]. 环境科学与技术,2010,33( 12) :378-380农产品、农残、兽残[22]陈俏梅,潘振业.饲料原料中有毒有害物质的综合毒性测定法初探[J].中国实验动物学报,2001,9(4):230-235.[23]吴淑杭.发光细菌法快速检测农产品中主要污染物联合毒性技术研究[D].上海,华东师范大学,2007.(农产品中的污染物对发光细菌的单一毒性和联合毒性,建立了一套农产品主要污染物单一和联合毒性的发光细菌快速检测方法)宋晓青,刘树深,刘海玲,等. 部分除草剂与重金属混合物对发光菌的毒性[J]. 生态毒理学报,2008,3( 3) : 237-243. 重金属1---Ishaque AB,Johnson L,Gerald T,et al. Assessment of individual and combined toxicitiesof four non2essential metals (As,Cd,Hg and Pb) in the Microtox assay[J]. International Journal of Environmental Research and Public Health,2006,3:118-120.研究了 Hg、Pb、Cd 和 As 对发光细菌的单一与复合毒性,4种金属元素混合后,任何2种元素之间的交互作用均为协同作用2---韦东普,马义兵,陈世宝,等. 发光细菌法测定环境中金属毒性的研究进展[J]. 生态学杂志,2008,27( 8) : 1 413-1 421.药物毒性评价药物、抗菌素 医疗制药废水[26]张劲强,梁岩,董元华,等.差向异构对四环素类药物的发光菌毒性研究[J].毒理学杂志,2006,20(5):279-281 (采用发光菌急性毒性测试方法,比较了四环素(TC)、土霉素(OTC)和金霉素(CTC)3 种四环素类药物及其对应差向异构体的急性毒性差异)杜丽娜,杨 帆,穆玉峰. 某制药废水对发光细菌急性毒性的评价研究[J]. 环境科学,2014,35( 1) :286-291 系 统 参 数仪器参数样品管位数:1个探测器部件:滨松公司光电二极管检测时间:5分钟----探测结果范围:0~65535 RLU测试模式ISO模式、基本模式、RLU模式可探测光谱范围:320nm~1000nm数据保存功能:每种模式可1000组预警提示功能:自动提示样品是否超标仪器重量:约0.26kg(含电池)环境温度:5℃~40℃相对湿度:10%~90%(25℃)外形尺寸:长×宽×高:202×78×30(mm)电源:5号干电池试剂有效期12个月可选试剂明亮发光杆菌费氏弧菌青海弧菌Q67 国标GBT15441-1995水质 急性毒性的测定 发光细菌法本标准规定了测定水环境急性毒性的发光细菌法。本标准适用于工业废水、纳污水体及实验室条件下可溶性化学物质的水质急性毒性监测。 HJ 1069-2019水质 急性毒性的测定 斑马鱼卵法 2020年6月30日实施本标准规定了测定地表水、地下水、生活污水和工业废水中急性毒性的斑马鱼卵法GB/T 13267 水质 物质对淡水鱼(斑马鱼)急性毒性测定方法 参考国际标准1. 国际标准ISO11348-3-2007《水质测定-水样对于发光细菌的抑制效应测定》;2. 美国水和土壤中化学和生物污染毒性的标准(ASTM-D-5660-1996(2009));3. 美国环保总局饮用水和废水处理后的毒性测定(WET)标准;4. 加拿大GUIDE50标准;5. 德国国家标准(DIN38412-37-1999 ); 国际标准ISO 11348-3-2007 水质.水样对弧菌类光发射抑制影响的测定(发光细菌试验).第3部:Waterquality-DeterminationoftheinhibitoryeffectofwatersamplesonthelightemissionofVibriofischeri(Luminescentbacteriatest)-Part3:Methodusingfreeze-driedbacteria【原文标准名称】:水质.水样对弧菌类光发射抑制影响的测定(发光细菌试验).第3部分:使用冻干细菌法【标准号】:ISO11348-3-2007【【发布单位】:国际标准化组织(IX-ISO)【起草单位】:ISO/TC147【中文主题词】:细菌纲 细菌培养 生物测定 生物分析和试验 水化学 培养(生物) 真菌目 废水检验 冷冻干燥 抑制作用 解释 光发射 亮度 发光的细菌 测量 样品 抽样方法 污水 标准方法 试验设备 试样 测试 水 水中有机物 水污染 水常规 水质 水试样 水质测试【国际标准分类号】:13_060_70 美国 ASTM D5660-1996(2009) 使用发光海生细菌毒性试验法评定化学污染的水和土壤微生物去毒的标准试验方法Standard Test Method for Assessing the Microbial Detoxification of Chemically Contaminated Water and Soil Using a Toxicity Test with a Luminescent Marine Bacterium德国 DIN 38412-37-1999 德国对水,废水和淤泥的统一检验方法.水有机物试验方法(L组).第37部分:细菌生长水抑制作用测定(发光菌属含磷细菌增长抑制试验)(L37)German standard methods for the examination of water, waste water and sludge - Bio-assays (group L) - Part 37: Determination of the inhibitory effect of water on the growth of bacteria (Photobacterium phosphoreum cell multiplication inhibition test) (L 3
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  • 产品介绍:DZ-DSC100A是南京大展检测仪器一款主要测量熔点和氧化诱导期的差示扫描量热仪,采用全新的炉体设计,上盖示设计,测试样品方便,炉体保温性高,精度高,7寸彩色触摸屏显示,信息全面。测试范围:DZ-DSC100A差示扫描量热仪测材料的特性,如玻璃化转变温度、冷结晶、相转变、熔融、结晶、热稳定性、氧化诱导期、氧化诱导温度、比热容、固化/交联都是DSC的研发领域。应用范围:DZ-DSC100A差示扫描量热仪主要研究金属、塑料、陶瓷等材料的热稳定性、熔点和氧化诱导期等。性能优势:1.全新的炉体结构,更好的解析度和分辨率以及更好的基线稳定性仪器主控芯片。2.数字式气体流量计,控制吹扫气体流量,数据直接记录在数据库中。3.仪器可采用双向控制(主机控制、软件控制),界面友好,操作简便。4.采用Cortex-M3内核ARM控制器,运算处理速度更快,温度控制更稳定。5.采用USB双向通讯,操作更便捷。技术参数:温度范围室温~600℃ DSC量程0~±600mW升温速率0.1~100℃/min温度分辨率0.01℃温度波动±0.01℃温度重复性±0.1℃气体流量0~200ml/minDSC精度0.01mW控温方式全程序自动控制工作电源AC220V/50Hz(或定制)气氛控制仪器自动切换显示方式24bit色,7寸 LCD触摸屏显示数据接口标准USB接口参数标准配有标准物质,带有一键校准功能,用户可自行校正温度和热焓客户案例: 南京理工大学 安徽理工大学 湖南大学 湖南理工大学河南工业大学 华南理工大学 南京工业大学 南京师范大学 西安理工大学 西北大学 太原理工大学 西华师范大学
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  • 产品介绍:DZ-DSC300是南京大展检测仪器推出一款灵敏度较高的差示扫描量热仪,其全新的外形设计,内置炉体设计,保温性高,测量速度快,灵敏度高,同时7寸彩色触摸屏显示,双向控制操作等。测试范围:DZ-DSC300差示扫描量热仪研究材料的热稳定性、玻璃化转变温度、结晶度、熔点、热焓等性质,对于材料的研发和质量控制具有重要意义。应用范围:DZ-DSC300差示扫描量热仪主要应用在材料科学、化学、药物研究、食品工业和能源等领域。性能优势:1.全新的炉体结构,更好的解析度和分辨率以及更好的基线稳定性。2.参数可设置多段升温、恒温、降温。3.仪器可采用双向控制(主机控制、软件控制),界面友好,操作简便。4.采集电路屏蔽抗干扰处理。5.传感器采用热熔技术代替传统的点焊技术,灵敏度更高。技术参数:温度范围室温~600℃温度分辨率0.001℃温度波动±0.01℃升温速率0.1~100℃/min恒温时间程序设定≤24h控温方式升温,恒温,降温(全自动程序控制)DSC量程0~±800mW(可拓展)DSC精度0.001mW工作电源AC220V/50Hz或定制气氛控制气体两路自动切换(仪器自动切换)程序控制可实现六段升温恒温控制,特殊参数可定制气体流量0~200mL/min 气体压力≤0.5MPa显示方式24bit色,7寸 LCD触摸屏显示数据接口标准USB接口参数标准配有标准物质(铟,锡,铅),用户可自行校正温度软件带有温度多点校正功能客户案例: 西南大学 浙江大学 南京理工大学 河海大学 中国石油大学 西安理工大学 太原理工大学 西北大学 山东大学 安徽理工大学 云南大学 南京大学
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  • 一.用途 该款拉力机适用于寻求材料力与形变关系的实验,可对金属,非金属的原材料、加工件、成品进行拉伸、弯曲、剥离、压缩、压陷、附着力、撕裂等多项力学实验及分析。 二:技术指标:1、负荷: 10KN(1000KG)2、测量范围 :试验力的0.4%-1003、分辨率: 1/5000004、精度级别 :1级5、控制系统 :分段无级调速 20~200mm.min(标准)6、测试空间 :测试宽约370mm,有效行程约800mm7、操作方式 液晶触摸屏或专用英文测试软件操作8、安全装置 过载紧急停机、上下行程限定、漏电自动断电、自动断点停机9、测试力准确度 优于示值的±1%(±0.5%)10、变形准确度 优于示值的±1%(±0.5%)11、电源系统 220V 50HZ12、单位选择 g kg n kn lb MPa13、夹具配置 根据用户产品试验需求选定一付14、工作环境 温度RT15℃ 湿度20%-80%15、机台尺寸 800×400×1800mm16、机台重量 约350KG17. 专用中英文测试软件一套.(随时根据客户要求进行改版或升级且不收任何费用)三、配套夹具:四、产品配置 测力传感器进口美国Transcell力传感器机台丝杆台湾ABBA高碳丝杆导向杆韩国太敬导杆制作,表面经高温及硬铬电镀处理,HRC60以上防尘装置台湾抑叠防尘罩,保护丝杆;延长使用寿命控制系统台湾台达马达显示方式触摸屏操作,可连接PC和打印机,能输出曲线图形报告 部分使用我司材料试验机高校案例1、防水型液体创可贴的研厦门大学2、纳米颗粒--聚合物薄膜制备及力电特 性研究江苏大学3、银纳米颗粒- 聚合物柔性应变传感薄 膜制备与压阻传感特性研究江苏大学4、功能性纤维素气凝胶的制备及其在 水净化中的应用研究浙江理工大学5、应用于 3D 打印技术的 ABS/纳米二氧 化钛复合材料制备及力学性能研究衢州职业技术学院6、金属-有机框架复合材料的制备及其 去除水中重金属离子的研究浙江理工大学7、聚酰亚胺基锂电隔膜的制备及性能辽宁石油化工大学8、急冷处理、抽气充氮结合纳米包装对绿茶保鲜品质的影响南京财经大学9、基于神经网络算法的高强镁合金热处理工艺优化保定广播电视大 学10、灵武长枣果实力学特性与采摘机械损伤研究宁夏大学11、用于精馏的中空纤维膜填料的疏水改性及分离传质性能分析浙江工业大学12、聚合物封边砂浆的研制与应用浙江省建筑科学设计研究院有限 公司13、车身反光贴用聚氨酯胶粘剂的研制洛阳石化工程设 计有限公司14、壳聚糖聚醚衍生物的制备及其在 棉织物活性染料无盐染色中的应用青岛大学15、高温电热法制备高致密魔芋海绵武汉大学16、全水发泡聚氨酯硬泡的制备及阻燃性能的研究吉林大学17、Ni、Mn 对低温高韧性球墨铸铁组织和性能的影响郑州大学18、高性能环氧树脂复合材料的制备与性能研究山东科技大学19、镍含量对球墨铸铁组织性能的影响商丘职业技术学院20、H13 热作模具钢 脉冲电流处理及其性能研究海南科技职业学院21、苯丙乳液基水泥复合道面填缝料力学性能研究空军工程大学22、异种材料超声辅助激光点焊机理研究长春理工大学23、微波加热预处理铬铁矿工艺研究昆明理工大学24、振动结构耦合动刚度的间接逆子结构辨识方法西北工业大学25、伪半固态触变成形制备SiCp/Al电子封装材料的组织与性能北京科技大学26、室温固化型 MDI 体系聚氨酯弹性 体力学性能的研究陕西省化工研究院27、提高RTV732硅酮胶剥离强度的试验研究中航飞机股份有限公司28、环氧树脂/二氧化硅复合材料界面强度表征方法国家电子电路基材工程技术研究中心29、微晶纤维素单颗粒定量结构及其对片剂崩解性质的作用上海应用技术大学30、竹材纤维素气凝胶的形成机理及性能研究浙江农林大学31、石墨烯液晶及宏观组装纤维浙江大学32、十二烷二酸改性共聚酯热熔胶的制备及性能表征华东理工大学部分客户认可
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