电子束

一次性培养皿 （电子束灭菌）产品参数及型号：编号型号直径×高（mm）数量RMB(含税)3-1491-01ND90-15φ90×151箱（10张/袋×50袋）398.003-1491-51优惠装φ90×151套（10箱）3,980.00携带方便，采用叠放时不易横向滑动的结构等，已进行电子束灭菌。特点：● 外围四周有加强棱，叠放起来不易倒塌。 ● 透明度好，便于菌落观察。 ● 采用可防止盖子与主体吸附的构造，不影响通气性。 ● 底面有4分割点，便于对菌落的观察。规格：● 材质：PS（聚苯乙烯） ● 已进行电子束灭菌

特点：• 用于高灵敏度电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm • 化学放大胶，高灵敏度• 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例： 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm• 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料 • 对紫外光、电子束不敏感，无需黄光室 5090.02，适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等； 5091.02，适于酚醛树脂基电子束光刻胶，如AR-N 7520导电性：[注]导电胶电阻测量实验结果：胶层越薄，电阻越大，导电性降低。 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

通过电子束照射，对活体组织（DNA、细胞等）进行损伤无需使用气体、药品等，因此不必担心残留比γ射线灭菌更节省设施空间（在实验室也可设置专门的照射室）

特点：• 用于高分辨电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)、i-line(365 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~365nm• 高分辨率(30nm)，高对比度 • 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨率电子束曝光、单层/多层lift-off工艺、 石墨烯/碳纳米管转移、绝缘保护层等 • 感光波段：e-beam、deep UV(248nm)• 高分辨率( 10nm)，高对比度 • 多种分子量：50K、200K、 600K、 950K• 多种溶剂：苯甲醚、乳酸乙酯、氯苯• 多种固含量实现了多种涂胶厚度• 可定制特殊用PMMA胶950K PMMA参考涂胶厚度：（其他型号的涂胶厚度，请联系销售人员）应用实例：双层PMMA lift-off工艺PMMA Bilayer(950K/600K) - - AR-P 679.03 / AR-P 669.04欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于三维电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm • 化学放大胶，高灵敏度，低对比度( 1)• 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨率电子束曝光、单层/多层lift-off工艺等• 感光波段：e-beam、deep UV(248nm)• 高分辨率( 10nm)，高灵敏度(PMMA灵敏度的3~4倍)旋涂曲线： 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨率电子束曝光等• 感光波段：e-beam• 高分辨率( 10 nm)， 高对比度(14)• 高深宽比，高工艺稳定性 • 优异的耐干法刻蚀能力• 采用不同的显影液(AR 600-546/ 548/ 549)，可实现 不同程度的灵敏度• 可实现Lift-off工艺，操作简单• 溶剂为苯甲醚(安全溶剂) 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶（1%-17% PMMA、SML系列电子束曝光阻剂），PMMA是常用的普通正阻剂；SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。高档的SML正阻剂特点：无需邻近效应校正，低加速电压下也能使用，可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件，特别适合科研应用；有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型号（数字表示光刻胶涂布厚度）。[资料]PMMA (Polymethyl – Methacrylate；聚甲基丙烯酸甲酯；positive tone, polymer chain scission type for Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography) is a widely used, versatile resist that is used for many imaging (and non-imaging) micro-electronic applications as well as a protective coating for wafer thinning, a bonding adhesive and as a sacrificial layer, but is commonly used as a high resolution positive resist for direct write with e-beam. EM Resist Ltd specialises in electron beam lithography resists and applications. We develop and manufacture electron beam resists in a purpose built clean-room facility to ensure maximum quality and performance.Our products and expertise are the result of many years research by experienced physicists and material scientists in both academia and industry. EM Resist products are provided in a clean room compatible box, if you need Material Safety Data Sheets, Process Information, Example design files and other useful information, please contact with our Chinese Distributor(www.tansi.com.cn).PMMA Product Options. First,select which solvent(Anisole or Chlorobenzene) best suits your application. Second,select which solid percentage(1%-17%, 20nm-3500nm) of thickness required.Third,choose a volume to suit your usage needs.

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

功能概述：用于透射电镜、扫描电镜、聚焦离子束、电子束光刻机、电子束焊接机、电子束3D打印、电子束蒸镀等领域；主要性能：真空范围：≤2.7 x 10∧-7Pa，温度范围：1750～1850K，针尖曲率半径：0.4~0.9um

大和电子科技株式会社成立于1967年，是一家电子显微镜灯丝制造商。 公司成立53年来，一直努力稳定供应灯丝，随着电子显微镜的发展，我们不断追求灯丝制造技术和精度的极限。我们使用电子显微镜专用等级的钨丝，在真空中进行退火处理，以消除灯丝的残余应力。 因此，在电子显微镜下使用时，漂移较少，裂纹的产生也得到抑制，从而获得更稳定的电子束。此外，我们还将自行研发的点焊机与定制的夹具相结合，进行精确焊接。 之后，使用定心夹具在确认中心精度的同时进行定心，因此无需在安装时进行繁杂的定心作业。用途：用于扫描电子显微镜和透射电子显微镜的电子枪种类：热电子发射型灯丝材质：● 灯丝：W、Ta、Re、Th-W、其它● 灯丝焊接柱：Kovar、Ta、Mo、其它● 陶瓷底座：AlO2、MgO?SiO2焊接：灯丝和焊接柱的焊接：电阻点焊灯丝和陶瓷座：玻璃密封，钎焊特征：● 使用电镜专用等级的灯丝● 点焊机为自主研发设备，专用于灯丝焊接。与定制的夹具结合使用，进行精确焊接 可实现从线径φ0.02的极细丝到线径φ0.5左右的极粗丝的焊接● 灯丝（多晶）的尖端可加工成发夹型、点型、尖锐型、线圈型等形状● 真空退火处理（安装设备后释放稳定的电子束）● 无需在安装设备时进行繁琐的定心工作（可提供定心灯丝套件）● 使用各种测量仪器进行产品检验合格后发货除上述灯丝外，还生产场发射发射器、质谱仪用灯丝、气相沉积用灯丝、各种加热器等。如您想了解更多关于产品的报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

特点：• 用于LIGA、X射线掩膜板加工等• 感光波段：e-beam、X-ray、synchrotron• 基于PMMA的厚胶• 涂胶厚度从几微米到上百微米，覆盖能力好旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

放大倍数校准标样MRS-4: 应用 EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm? 光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦 化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。 粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

放大倍数校准标样MRS-4: 应用 EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm? 光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦 化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。 粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

应用? EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

应用? EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

特点：• 用于增强光刻胶和衬底的黏附性• 用于紫外光刻胶、电子束光刻胶、特殊功能用光刻胶等• 采用旋涂的方式进行涂覆，操作简单• 涂覆厚度：15nm@ 4000rpm• 和传统的HMDS相比，毒性更小，使用更安全，更经济实惠• new版本与旧版AR 300-80相比,烘烤温度降低 （60℃ 热板 2min）

Spurr低粘稠度包埋树脂套装具有优良的渗透性能，尤其对于植物、矿物及其它坚硬的生物样品。Spurr树脂包埋树脂套装使用简单，配制方便快速，包埋剂硬度可通过改变DER736的配比进行调节。树脂包埋块外观好，易于切片，在电子束下超薄切片亦具有很好的硬度。套装内包含：450毫升NSA225毫升ERL 4221225毫升DER 73625毫升DMAE产品编号描述单位14300EMS Spurr低粘稠度包埋树脂套

Spurr低粘稠度包埋树脂套装"Spurr" Low Viscosity KitsSpurr低粘稠度包埋树脂套装具有优良的渗透性能，尤其对于植物、矿物及其它坚硬的生物样品。Spurr树脂包埋树脂套装使用简单，配制方便快速，包埋剂硬度可通过改变DER736的配比进行调节。树脂包埋块外观好，易于切片，在电子束下超薄切片亦具有很好的硬度。产品编号描述单位18300-4221Spurr低粘稠度包埋树脂套装套内含：ERL 4221 (替代ERL 4206)， 225ml (18306-4221) DER® 736， 250g (18310)NSA， 450g (18301)DMAE， 25g (18315)

Spurr低粘稠度包埋树脂套装"Spurr" Low Viscosity KitsSpurr低粘稠度包埋树脂套装具有优良的渗透性能，尤其对于植物、矿物及其它坚硬的生物样品。Spurr树脂包埋树脂套装使用简单，配制方便快速，包埋剂硬度可通过改变DER736的配比进行调节。树脂包埋块外观好，易于切片，在电子束下超薄切片亦具有很好的硬度。产品编号描述单位18300-4221Spurr低粘稠度包埋树脂套装套内含：ERL 4221 (替代ERL 4206)， 225ml (18306-4221) DER® 736， 250g (18310)NSA， 450g (18301)DMAE， 25g (18315)

应用:M - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦 化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。 粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

应用:M - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦 化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。 粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

Araldite 502包埋树脂套装Araldite 502 Embedding KitsAraldite 502包埋树脂套装使用BDMA或DMP-30作促进剂，其效果是一样有效的。BDMA粘度更低，渗透到组织、有孔和粗糙材料的速度更快。Araldite 502较Eponate树脂电子束稳定性更好。使用时，BDMA浓度为3%，而DMP-30则为1.5－2%。Araldite包埋树脂套装可单独使用或与其它环氧树脂混用。60°C下的固化时间时为16至24小时，如使用PELCO BioWave® 微波系统，则缩短至2至3小时。产品编号描述单位18052Araldite 502包埋树脂套装，950ml (含BDMA)套内含：Araldite 502，450ml (18060)、DDSA， 450g (18022)、BDMA， 25g (18241)。产品编号描述单位18050Araldite 502包埋树脂套装，950ml (含DMP-30)套内含：Araldite 502，450ml (18060)、DDSA， 450g (18022)、DMP-30， 25g (18042) 。

Araldite 502包埋树脂套装Araldite 502 Embedding KitsAraldite 502包埋树脂套装使用BDMA或DMP-30作促进剂，其效果是一样有效的。BDMA粘度更低，渗透到组织、有孔和粗糙材料的速度更快。Araldite 502较Eponate树脂电子束稳定性更好。使用时，BDMA浓度为3%，而DMP-30则为1.5－2%。Araldite包埋树脂套装可单独使用或与其它环氧树脂混用。60°C下的固化时间时为16至24小时，如使用PELCO BioWave® 微波系统，则缩短至2至3小时。产品编号描述单位18052Araldite 502包埋树脂套装，950ml (含BDMA)套内含：Araldite 502，450ml (18060)、DDSA， 450g (18022)、BDMA， 25g (18241)。产品编号描述单位18050Araldite 502包埋树脂套装，950ml (含DMP-30)套内含：Araldite 502，450ml (18060)、DDSA， 450g (18022)、DMP-30， 25g (18042) 。

这款激光分束镜是欧洲进口的高损伤阈值激光分光镜,英文名是wavelength separator，它能够把不同的激光波长分开，或者把倍频激光的不同波长分开。激光分束镜,激光分光镜采用了离子束溅射技术（Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜，这些镀膜技术非常成熟。激光分束镜,激光分光镜,wavelength separator由孚光精仪进口提供，孚光精仪是中国领先的进口光学器件服务商！激光分束镜,激光分光镜,wavelength separator技术参数 基片尺寸公差：+0/-0.1mm 基片波前畸变：基片表面质量：20/10 SD 40/20SD(曲面） 镀膜粘附性和耐久性：Per MIL-C-675A 净孔径： 90% 镀膜反射率：R99% @ 0o Rave99% @ 45o 激光损伤阈值:3-5J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm The measured transmission curve for wavelength separator coating code (R99,5% @ 1064nm T95% @ 532 nm)镜 激光分束镜,激光分光镜,,wavelength separator询问服务：请阁下根据如下格式选择和填写您需要的镜片和镀膜参数，然后复制后直接通过Email发送给我们，您会收到及时的报价回复。

多孔氮化硅TEM载网以高纯单晶硅为基底，超薄氮化硅(10-50nm)为支撑膜，可实现原子级分辨率。具有耐电子束辐照，电子束穿透率高，成像背景均匀和噪音小等优点。载网不含碳元素，避免积碳，尤其适合球差原子分辨表征。可以非常方便在不同分析仪器间转移分析，如TEM， AFM，XRD，EXAFS，Raman等。

这款背散射电子探测器是欧洲进口的全球领先的BSE探测器，它采用全球最佳的闪烁体晶体探测器和光电倍增管,精密真空机械以及高精度电路，以卓越的性能满足背散射电子探测应用。背散射电子探测器特点采用YAG:Ce单晶闪烁体采用闪烁体和光电倍增管，提供极佳的图像质量全球最佳的超低能量镀膜技术，灵敏度可到0.5Kev 优异的信噪比无限的探测器寿命电动可回缩高精密导臂波纹管密封高真空系统完全用户订制化的SEM连接系统背散射电子探测器性能YAG:Ce闪烁体探测器提供最佳效率和最小余光afterglow, decay time 衰减时间为75ns @30光子/Kev YAG:Ce闪烁探测器外径15mm , 内孔6mm, 4mm, 2mm 或1.2mm任选，它限制视场大小。灵敏度高达1pA电子束

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC)，封装(Packaging)，微机电系统(MEMS)，光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics)，平板显示器(LED,LCD,OLED)，太阳能光伏(Solar PV)等领域。 德国ALLRESIST公司是从事光刻用电子化学品研发、生产和销售的专业公司，有丰富的经验和悠久的传统。可以为您提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶，电子束光刻胶（抗蚀剂）以及相关工艺中所需要的配套试剂。 北京汇德信科技有限公司作为德国ALLRESIST的国内独家代理经销商，为国内用户提供高品质的光刻胶以及配套服务。 产品类型： 1.紫外光刻胶（Photoresist） 各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。 各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。 各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。 2. 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist） 电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物， LIGA用胶等。 电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。 3. 特殊工艺用胶（Special manufacture/experimental sample） 电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。 4. 配套试剂（Process chemicals） 显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。 产品特点1. 光刻胶种类齐全，可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含：各种厚度的紫外光刻胶（正胶或负胶），lift-off工艺用胶，LIGA用胶，图形反转胶，化学放大胶，耐刻蚀保护胶，聚酰亚胺胶，全息曝光用胶，电子束光刻胶（包含PMMA胶、电子束负胶、三维曝光用胶（灰度曝光用胶）、混合曝光用胶等）2. 光刻胶包装规格灵活多样，适合各种规模的生产、科研需求。 包装规格包含：250毫升、1升、2.5升等常规包装，还提供试验用小包装，如30毫升、100毫升等。3. 交货时间短。我们每个月20号左右都会向德国厂商下订单，产品将于第二个月中旬到货，您可以根据实际情况，合理安排采购时间。具体的订购情况，请联系我们的销售人员。 4. 可以提供高水准的技术咨询服务，具有为客户开发、定制特殊复杂工艺用光刻产品的能力5. 储存条件：密闭储存在容器中并置于避光、干燥阴凉、通风良好之处。储存在适当的温度下。详情请联系我们的销售人员。 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514