氮化物

氧化亚镍 Nickel Oxide catalyst货号参照货号规格包装CN020910.85-1.7mm50克/瓶CN02092E101420.85-1.7mm25克/瓶产品介绍： 用于氮/蛋白质以及难分解氮化物样品氧化催化剂

产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液，抛光后具有较优的粗糙度2、抛光液绿色环保、不含卤素及重金属元素3、抛光液可循环使用，根据工艺要求可添加去离子水稀释可定制化：可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务 包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)

氧化亚镍 Nickel Oxide catalyst货号参照货号规格包装CN020910.85-1.7mm50克/瓶CN02092E101420.85-1.7mm25克/瓶产品介绍： 用于氮/蛋白质以及难分解氮化物样品氧化催化剂

产品信息：快速气体检测管系列检测氟化烃等类时，需要用到热解器及手泵。气体种类型号检测范围（ppm）刻度范围保存期（年）乙腈52**3-180-3氯甲烷51**12-480-351L**1.6-86-3二氯甲烷51L**1-54-3硝基乙烷52**4-240-31-硝基丙烷52**4.2-252-32-硝基丙烷52**3.7-222-3硝基甲烷52**5-300-3二甲二硫醚53**0.3-6-2FC- 1151H**275-6600-351**8-320-351L**0.8-43-3FC- 1251H**325-7800-351**11-440-351L**1.8-97-3FC- 2251H**1000-24000-351**25-1000-351L**2.5-135-3FC-11251H**125-3000-351**7-280-351L**1-54-3FC- 11351H250-6000250-200035110-40010-400351L1-541-203FC- 113a51H**125-4800-351**10-400-351L**0.8-43-3FC- 11451H**475-11400-351**20-800-351L**1.8-97-3FC- 12351**14-560-351L**1.4-28-3FC- 141b51**10-400-351L**1.1-22-3FC- 22551**20-800-3FC- 225Ca + FC- 225Cb 1:151L**1.4-28-3二甲二硫醚53**0.25-10(0.5)-10251H/51/51L/53为双管*:按换算表读数 **:按换算系数读数订货信息：被检物质型号及名称检测范围抽气次数颜色变化保存期限(年)备注乙腈CH3CN52氮化合物(热解管)3-1801白色→黄橙3

氮化硅膜主要用于纳米技术研究；支撑强度高，TEM与原子力电镜都可以使用。氮化硅膜极其稳定可以抵抗温度变化上升至1000摄氏度；但是，疏水性，如果需要亲水，建议用刻蚀法：等离子刻蚀，增加电荷。膜厚：100nm、50nm、30nm；孔：1mm×mm 膜粗糙度2nm。型号名称硅框架厚度（μm）窗口尺寸（mm）膜厚（nm）孔厚包装/个产地21505-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm50110美国21500-10氮化硅膜2000.5 x 0.550110美国21502-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm50110美国21525-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm200110美国21522-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm200110美国21524-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国21528-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国4112SN-BA氮化硅膜2001.0 x 1.0200110SPI4120SN-BA氮化硅膜2000.5 x 0.5200110SPI

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

热解氮化硼坩埚 热解氮化硼（PBN）是特种陶瓷材料，是本公司在特殊设备上用化学气相沉积的工艺制得的。热解氮化硼的沉积过程，宛如“落雪”：氮化硼的六角型小雪片，一片一片的平行地落在石墨基体材料上，达到一定厚度后，最终冷却脱模而制成。 主要特点： ●　产品颜色在牙白至橙棕，无毒、无孔隙、易加工。●　纯度高达99.99％，表面致密，气密性好。●　耐高温，强度随温度升高，2200℃达到最大值。●　耐酸、碱、盐及有机试剂，高温与绝大多数熔融金属、半导体等材料不湿润、不反应。●　抗热震性好，热导性好，热膨胀系数低。●　电阻高，介电强度高，介电常数小，磁损耗角正切低，并具有良好的透微波和红外线性能。●　在力学、热学、电学等等性能上有着明显的各向异性。 产品应用1.半导体单晶及III－V族化合物合成用的坩埚、基座：原位合成GaAs 、InP 、GaP单晶的LEC系列坩埚。分子束外延用的MBE系列坩埚。 VGF、VB法系列坩埚。2.电子束源用的系列坩埚，金属熔炼蒸发坩埚等3.石英坩埚及舟皿等石墨器具上的涂层，MOCVD绝缘板。

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

立方氮化硼锯片中立方结构的氮化硼晶体结构类似金刚石，其硬度略低于金刚石，为HV72000-98000兆帕，应用于高速切削或磨削，可提高产品质量、加工效率，同时缩短加工周期和降低加工成本。主要特点具有优于金刚石的热稳定性和对铁族金属的化学惰性，适于加工既硬又韧的材料，如高速钢、工具钢、模具钢、轴承钢、镍和钴基合金、冷硬铸铁等，且磨削钢材时，大多可获得高的磨削比和加工表面质量。 技术参数Φ101.6mm×Φ12.7mm×0.35mm、Φ127mm×Φ12.7mm×0.60mm、Φ152.4mm×Φ12.7mm×1.0mm、Φ203.2mm×Φ25.4mm×1.3mm

氮化硅膜主要用于纳米技术以及分子生物学的研究。该支持膜具有良好的平整度和疏水性。氮化硅为无定形态，无碳，无杂质；其良好的化学稳定性使图像分辨率和机械强度达到理想的平衡；良好的机械稳定性使同一种薄膜可应用于TEM、SEM、EDX、XPS、AFM等对同一区域的交叉对表征；薄膜和基底耐酸，可满足酸性条件下制备、研究样品；薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗；可应用于1000摄氏度高温环境。产品编号支持膜厚度窗格规格包装（枚/盒）YL-6055200nm0.5×0.5mm10枚/盒 150nm0.5×0.5mm10枚/盒 100nm0.5×0.5mm10枚/盒 200nm0.25×0.25mm 10枚/盒 150nm0.25×0.25mm 10枚/盒 100nm0.25×0.25mm 10枚/盒 150nm0.1×0.1mm10枚/盒 100nm0.1×0.1mm10枚/盒 200nm0.1×0.1mm10枚/盒

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

TEM用亲水性/疏水性氮化硅窗口 有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29技术参数： 亲水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的亲水涂层 疏水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的疏水涂层 表面能：表面表面能 (mJ/m2)标准偏差氮化硅薄膜46.14.3亲水涂层76.12.2疏水图层24.64.4表面粗糙度：表面表面粗糙度 (nm)标准偏差氮化硅薄膜Rq=0.65Ra=0.450.060.02亲水涂层Rq=0.57Ra=0.400.040.03疏水涂层Rq=0.66Ra=0.400.030.05Rq=表面粗糙度 Ra= 平均粗糙度氮化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm200 nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm15 nm3x3，9窗口，窗口100x100μmΦ3mm200μm 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

氮化硼坩埚 有需求请联系021-35359028/29氮化硼又称白色石墨，其结构与石墨相似，属于 片状六方结构，理论密度2.27克/厘米3，硬度为莫氏2。 氮化硼（BN)具有熔点高、导热、绝缘性能良好，抗弯强度高、抗热冲击性能好、耐化学腐蚀。在高温下仍具有相当稳定的高频介电性能。BN最独特的优点是具有优良的机械加工性能可以加工成形态复杂、精度很高的瓷件。因此广泛应用于复合导电陶瓷蒸发舟、高温坩埚、溅射靶材、高温高频和等离子弧的电绝缘体、电子模块散热装置、行波管收集和散热片、晶体管散热片、半导体封装散热基板、高频感应电炉材料以及原子反应堆结构材料、防光电辐射、化学辐射、核辐射材料和雷达传递窗。 氮化硼坩埚是氮化硼粉末经过热压烧结成制品料块后根据客户所需尺寸规格加工而成。用于熔解铝，锌和其他合金冶炼，代替石墨坩埚。其特点如下：1. 化学性能稳定，与被溶解金属基本不反应，提高合金的纯度。2. 抗氧化性能好，比石墨材料高出400-500度，最高可达900度。3. 使用寿命长。 规格尺寸：按客户要求定做！

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

产品特点：Agilent 255 氮化学发光检测器 (NCD)提高性能，使用方便* ppb 级的检测限 * 没有烃的淬灭 * 有机含氮化合物的线性等摩尔响应；还对氨、肼、氢化腈和 NOx 有响应 * 双等离子燃烧室和控制器还提供一个嵌入的硝基胺选项 * 用于 NCD 和 FID 同时操作的适配器订购信息：Agilent 255 氮化学发光检测器 (NCD)说明部件号NCD 双等离子体系统，带干燥泵G6600ANCD 双等离子体系统，带油泵G6601A

多孔氮化硅薄膜窗口特点 ● 相对大的实验区域；● 增加了薄膜的弹性；● 孔的尺寸适合实验要求；● 薄膜边缘有25μm宽度是无孔的； 多孔氮化硅薄膜窗参数： 框架大小：Φ3mm； 框架厚度：200μm；薄膜厚度：50/100nm； 窗口大小：0.5x0.5mm；孔径：2.5μm； 孔间距：4.5μm；孔排列：100x100； 详细资料请咨询：上海昭沅仪器设备有限公司 021-35359028/29 admin@instsun.com

AC20 毛细管柱◇ 100%聚乙二醇20M◇ 强极性◇ 工业标准的WAX 色谱柱◇ 适用于醇类、酯和醛分析◇对应产品：BP20, DB-Wax, HP-20M,HP-Wax, CP-Wax 52CB,Rtx-Wax, Stabilwax,SupelcoWax-10,Carbowax-20M, AT-WAX应用：醇类、游离酸、脂肪酸甲酯FAME、醛类、芳香化合物、香味剂和风味成分、多环芳烃PAHs、溶剂、卤代物、氮化物、硫化物。AC20 (WAX) – 聚乙二醇20M订货信息：内径 (mm)膜厚 (μm)长度 30m长度 60m0.220.250531810531820.320.50531870531881.0053193—0.531.0053196—

AC20毛细管柱--SGE经济型毛细管柱AC20(WAX)?-- 聚乙二醇20M100%聚乙二醇20M强极性工业标准的WAX 色谱柱适用于醇类、酯和醛分析应用：醇类、游离酸、脂肪酸甲酯FAME、醛类、芳香化合物、香味剂和风味成分、多环芳烃PAHs、溶剂、卤代物、氮化物、硫化物。对应其它公司产品：BP20, DB-Wax,HP-20M, HP-Wax,CP-Wax 52CB,Rtx-Wax, Stabilwax,SupelcoWax-10,Carbowax-20M,AT-WAXAC20毛细管柱内径(mm)膜厚(μm)长度30m长度60m0.220.250561810561820.320.250561870561880.321.0056193/0.531.0056196/

WT-88水质理化检测箱 水质理化检测箱/水质污染毒性检测箱 1号盒 1氨氮 80支白帽 2 亚硝酸盐 90支 橙黄帽 3余氯 90黄绿帽 4水样杯 2只 5 PH，硬度试纸 各一 2号盒 6氟化物 50 桔红帽 7硫酸盐 60 桃红帽 8氮化物 60 茶棕色 9 总铁 60 棕褐色 3号盒 10酚类 25支 小直管 11六价铬 35支 绿帽 12 浑浊赌气1套 13 注射器 1套 14 溶剂瓶 (丙酮)1个 4号盒 15 砷检测管 50支 16汞检测管 50支 17 砷汞产气片 各50片 18砷汞 产气 管 1套 19 砷汞 固体酸 100份 20 砷汞 橡皮塞 1个 5号盒 21 铅试剂管 40支 (一道黑) 22镉试剂管 40(一道绿) 23铅镉疏基棉 80份 24 铅镉吸附管 各2 25铅镉洗脱液 各1瓶 6号盒 26硼试剂管 60(二道红) 27氰化物 90(深绿帽) 28 钡试剂管 60(二道黄) 29肉眼可见物 1个 箱内附件 剪刀1把 镊子 1把 尺 1块 卫生毛巾1条 温度计 1个 说明书 1本 注意：丙酮溶剂瓶只放空瓶 丙酮请自备 水质理化检测箱/水质污染毒性检测箱

多孔氮化硅TEM载网以高纯单晶硅为基底，超薄氮化硅(10-50nm)为支撑膜，可实现原子级分辨率。具有耐电子束辐照，电子束穿透率高，成像背景均匀和噪音小等优点。载网不含碳元素，避免积碳，尤其适合球差原子分辨表征。可以非常方便在不同分析仪器间转移分析，如TEM， AFM，XRD，EXAFS，Raman等。

利特斯直读光谱仪配件氮化硼

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。六边形氮化硼Hexagonal Boron Nitride (hBN)

切割片的选择是试样制备取样工序的重要环节，PRESI金刚石和立方氮化硼切割片根据磨料类型、浓度、切割片厚度的不同有40多种类型可供选择。

氮和硫化学发光检测器安捷伦的355 硫化学发光检测器(SCD) 是目前分析硫化合物最灵敏和最具选择性的色谱检测器。安捷伦的255 氮化学发光检测器(NCD) 是氮的专属性检测器，它是对基于NO 和臭氧的化学发光反应生成的含氮化合物产生线性和等摩尔的响应。即使复杂的样品基质也能分析，无干扰。氮化学发光检测器(NCD) 备件说明部件号NCD DP 燃烧头石英管工具包 包括密封垫圈、接头和石英管G6600-60038预防性维护工具包，DP RV5 油泵 包括 4 个臭氧化学捕集阱、4 个油凝聚过滤器元件和 4 个（1 夸脱）盛装合成油的瓶子G6600-67007预防性维护工具包，干活塞泵 包括 4 个臭氧破坏化学捕集阱和 2 个泵的维修工具包G6600-67008备用油凝聚过滤器G6600-80042油雾过滤器，用于 RV5 泵G6600-80043用于油雾过滤器的备用油凝聚过滤器G6600-80044备用气味过滤元件G6600-80045O 形环，内径 1.3614 英寸G6600-80050O 形环，内径 1.301 英寸G6600-80051双等离子体石英管G6600-80063Mobil 1 合成油G6600-85001油，Edwards Ultragrade，用于 RV3 和 RV5 泵G6600-85002备用色谱柱螺帽和密封垫工具包G6600-80018色谱柱螺帽，1/32 英寸G6600-80072密封垫圈，色谱柱，1/32 英寸 x 0.5 mm 熔融石英，Valco0100-2138密封垫圈，色谱柱，1/32 英寸 x 9 mm，聚酰亚胺/石墨0100-2430

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

氮和硫化学发光检测器安捷伦的355 硫化学发光检测器(SCD) 是目前分析硫化合物最灵敏和最具选择性的色谱检测器。安捷伦的255 氮化学发光检测器(NCD) 是氮的专属性检测器，它是对基于NO 和臭氧的化学发光反应生成的含氮化合物产生线性和等摩尔的响应。即使复杂的样品基质也能分析，无干扰。氮化学发光检测器(NCD)备件 说明 部件号 NCD DP 燃烧头石英管工具包 G6600-60038包括密封垫圈、接头和石英管 预防性维护工具包，DP RV5 油泵 G6600-67007包括4 个臭氧化学捕集阱、4 个油凝聚过滤器元件和4 个（1 夸脱）盛装合成油的瓶子预防性维护工具包，干活塞泵 G6600-67008包括4 个臭氧破坏化学捕集阱和2 个泵的维修工具包 备用油凝聚过滤器 G6600-80042油雾过滤器，用于RV5 泵 G6600-80043用于油雾过滤器的备用油凝聚过滤器 G6600-80044备用气味过滤元件 G6600-80045O 形环，内径1.3614 英寸 G6600-80050O 形环，内径1.301 英寸 G6600-80051双等离子体石英管 G6600-80063Mobil 1 合成油 G6600-85001油，Edwards Ultragrade，用于RV3和RV5 泵 G6600-85002备用色谱柱螺帽和密封垫工具包 G6600-80018色谱柱螺帽，1/32 英寸 G6600-80072密封垫圈，色谱柱，1/32 英寸x 0.5 mm 熔融石英，Valco 0100-2138密封垫圈，色谱柱，1/32 英寸x 9 mm，聚酰亚胺/石墨 0100-2430

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

透射电镜（TEM）用氧化硅薄膜窗格 氧化硅与氮化硅薄膜窗格比较： 相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 样本安置面：对多数用户来说，样本应安置在薄膜窗格的&ldquo 覆膜面&rdquo 而非&ldquo 蚀坑面&rdquo 。但我们也知道在一些特殊情况下，蚀坑面也可安置样本。除对样本进行原子力显微镜（AFM）观测外，蚀坑面本质上并非不可用于放置样本。实际上，没有一个显微镜的悬臂可以伸至蚀坑内&ldquo 看清&rdquo 薄膜表面。 产品规格： 氧化硅薄膜窗特点： 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性： 耐高温，1000℃； 良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡； 化学计量比的SiO2：可用于氮气环境下的EDX分析； 氧化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm40nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm20nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm40nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm8nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小70x70μmΦ3mm200μm18nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小60x60μmΦ3mm200μm 40nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小50x50μmΦ3mm200μm 优点： SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 x-射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 应用： 氧化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）： ● 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。 ● 作为耐用（如&ldquo 强力&rdquo ）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行&ldquo 匹配&rdquo 。 ● 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。 ● 聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们推荐使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。 氧化硅薄膜TEM网格操作使用： 如果正确操作，氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反，若用工具直接接触薄膜，则会即刻损坏薄膜。为防损坏，可用尖嘴镊子小心夹取，就像夹取其他TEM网格一样。 使用前清洁： 氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。 如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。 通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

消化管 N. P. N测定管BLOOD DIGESTION TUBE Folin-wu. N、P、N 接受管, BLOOD RECEIVINGTUBE Folin-wu. N: P、 N. 一、概况及用途: 本管采用硼硅玻璃管在灯工吹制，刻度而成，因测定血液,中非蛋白氮有二种方法:一是用纳氏试剂加至50m1进行比色，可用消化管。另一种是用水稀释至25ml,则用接受管。它们适用于医疗卫生部门，对血液中非蛋白氨含量的测定，接受管有时配合微量凯氏蒸馏试验作接受管用。 二、造型及原理: 消化管与接受管,其形状均为一个刻有二条标线的平口试管。消化管刻有35m1及50m1的标线，接受管刻有12.5m1及25m1的标线。其原理:非蛋白血滤液内的氮化物被硫酸消化后，再与过氧化氢作用后所生成的铵盐，与纳氏试剂作用显黄褐色， 再与予先制备的已知浓度的标准铵盐溶液比色，即可测出非蛋白氮的含量。 三、使用方法: 用奥氏吸管吸取5ml血滤液于消化管中，添加特用硫酸( 1: 1) 1m1,再加清洁的玻璃珠二颗以防崩沸，将管夹住架于小火焰上细心加热四、五分钟，使其中水份逐出，继续以小火焰加热至浓烈的白烟充满全管，注意切勿使管中液体喷出，任它冷却约三十秒钟，然后添加30%过氧化氢溶液一滴(须直接滴入液体中)，继续加热二至五分钟如果此时液休仍然有色， 可按照上述操作再加过氧化氢溶液-滴， 将管冷却加水细心稀释至35毫升处 添加纳氏试剂至50m1刻度处混匀,与标准液比色，计算出其非蛋白氮的含量。