微纳流控

DSR300系列微纳器件光谱响应度测试系统是一款专用于低微材料光电测试的系统。其功能全面，提供多种重要参数测试。系统集成高精度光谱扫描，光电流扫描以及光响应速率测试。40μm探测光斑，实现百微米级探测器的*对光谱祥响应度测量。超高稳定性光源支持长时间的连续测试，丰富的光源选择以及多层光学光路设计可扩展多路光源，例如超连续白光激光器，皮秒脉冲激光器，半导体激光器，卤素灯，氙灯等，满足不同探测器测试功能的要求。是微纳器件研究的优选。 功能：? 光谱响应度? 外量子效率? 单色光/变功率IV；? 不同辐照度IT曲线（分辨率200ms）? 不同偏压下的IT曲线? LBIC，Mapping? 线性度测试? 响应速率测试 微纳器件光谱响应度测试系统主要技术参数显微镜头标配：10倍超长工作距离物镜，工作距离大于17mmNA值：0.42光谱范围：350-800nm选配：1，50倍超长工作距离消色差物镜，工作距离大于17mmNA值：0.42光谱范围：480-1800nm 2，15倍紫外物镜，工作距离大于8.5mmNA值：0.32光谱范围：250-700nm 3，50倍超长工作距离紫外物镜，工作距离大于12mmNA值：0.42光谱范围：240-500nm 4，40倍反射式长工作距离工作距离大于7.8mmNA值：0.5光谱范围：200nm-20um光斑中心空心光源选配光源1、半导体激光器波长：405nm，532nm，633nm，808nm，980nm可选不稳定性：＜1% 2、皮秒脉冲激光器波长：375nm，405nm，488nm，785nm，976nm可选脉宽：100ps频率：1-20M Hz 3、氙灯光源光谱范围：250nm-1800nm不稳定性：＜1% 4、超连续白光激光光源光谱范围：400-2400nm频率：0.01MHz-200MHz脉宽：100ps光谱仪焦距：300mm；相对孔径：f/3.9；光学结构：C-T；光谱仪分辨率：0.1nm；倒线色散：2.7nm；波长准确度：±0.2nm波长重复性：±0.1nm扫描步距：0.005nm狭缝规格：圆孔抽拉式固定狭缝，孔径：0.2mm,0.5mm,1mm,1.5mm,2mm,2.5mm,3mm；三光栅塔台；光栅配置：1-120-300、1-060-500、1-030-1250，光栅尺寸：68×68mm6档自动滤光片轮，光谱范围200-2000nm；内置电动机械快门，软件控制快门开关；杂散光抑制比：10-5探针台配置4个探针座，配20/10微米针尖探针2米三同轴电缆，漏电流小于1pA。真空吸附样品台。探针座：ＸＹＺ方向12ｍｍ调节行程，0.75uｍ调节分辨率，0-30°调节探针角度。LBIC MaappingXY方向行程50mm，分辨率5um。数釆v 锁相放大器斩波频率：20Hz~1KHz；频率6位显示，2.4英寸屏，320×240液晶显示；电压输入模式：单端输入或差分输入；电压、电流两种输入模式； 满量程灵敏度：1nV至1V；电流输入增益：106或108V/A；动态储备：＞100dB；时间常数范围：10μs至3ks； v keithley2612B量程：100nA/1A最小信号：1nA本地噪音：100pa分辨率：100fa通道数：2 v keithley2636B量程：1nA/1A最小信号：10pA本地噪音：1pa分辨率：10fa通道数：2制冷样品台温度范围：-196℃-600℃，（-196℃需要选择专用冷却系统）全程温度精度/温度性：0.1℃/＜0.01℃光孔直径：2.4mm样品区域面积：直径22mm两个样品探针，1个LEMO接头（可增加至1探针）工作距离：4.5-12.5mm气密样品腔室，可充入保护性气体独立温度控制响应速率测试示波器型号：MDO32模拟带宽100MHz采样率5GS/s记录长度10M时间范围：uS-S，需要配合调制激光器使用时间范围：10nS-S,需要配合皮秒脉冲激光器使用 三维可调高稳定探针台结构，方便样品位置调节。内置三路半导体激光器或者两路光纤激光器，外置一路激光光路。可以引入可调单色光源，进行全光谱范围的光谱响应度测试。测试功能曲线：40um光斑@550nm@50倍物镜200um光纤 70um光斑@550nm@50倍物镜400um光纤5um光斑@375nm皮秒激光器@40倍物镜 紫外增强氙灯和EQ99光源的单色光能量曲线，使用40倍反射式物镜，300mm焦距光谱仪，光谱仪使用1200刻线300nm闪耀光栅，光斑直径大小80um。

微流控制备仪 MPE-P1Microfluidic Preparation Equipment: MPE-P1微流控制备仪描述：MPE-P1微流控制备仪，是中试型制备系统，可用于脂质纳米颗粒LNP、聚合物纳米颗粒、脂质体Liposome、微乳Emulsion等微纳米制剂中试规模制备工艺开发， 助力核酸药物、小分子药物DDS系统的产业化研究。设备采用集成式触屏操作，系 统配置批次记录、数据导出等功能，便捷高效。MPE-P1中试型微流控制备仪，支持 高浓度和高流速下LNP、Liposome等微粒的制备，结果稳定，重现性高，可为生产 放大提供详实、可靠、全面的工艺数据。功能应用：化学药品脂质体（Liposome）制备，如多柔比星脂质体、伊立替康脂质体等； 生物类脂质纳米颗粒颗粒（LNP）制备，如mRNA脂质体、siRNA-LNP等； 聚合物纳米颗粒/微球等制备，如PLGA微球、PEG-PLGA纳米颗粒等； 乳剂（Emulsion）的制备，如疫苗佐剂、脂肪乳制剂等； 有机/无机纳米粒，如金纳米等； 其他相关微纳米制剂。微流控芯片：微流控芯片是基于应用工艺的定制型特殊流道结构部件，其通道结构和尺寸均与项 目工艺需求相结合，属定制型结构件。具体来说可实现以下四种功能：① 两相的混合、乳化；② 微粒形成后的孵育；③ 微粒形成后的粒径控制；④ 二次混合或乳化。技术参数：

MagnebotiX磁控微纳操纵/表征系统产品介绍磁控微纳操纵/表征系统是基于磁场控制的微纳操作系统，通过五自由度磁场发生器，结合磁控算法及软件，可实现对磁性操控介质（如微小磁珠、磁 性无缆探针）运动轨迹和力学控制，在显微医学、纳米技术 基础和应用研究领域有着广泛应用。产品特性●　可实现5自由度的磁场控制●　可在微米到毫米级大小范围的物体上同时施加力和力矩●　超大球形工作空间，直径可达130毫米●　可与主流显微镜品牌和型号高度兼容应用案例生物力学 可实现在单细胞水平进行多种非接触操作方案。 巨噬细胞开始与磁性靶体相互作用 用磁珠探测微小组织 医学微操作 采用 OctoMag型磁控系统可以操纵磁性微探针，对小动物进行体内微创靶向给药。 磁性操纵微型机器人 靶向给药 微纳机器人研究 用于各种磁控微机器人 操作及其控制方案的研 究和二次开发。 磁共振微型机器人 螺旋形微型机器 磁控微机器人进行微装配操作 软件控制界面l 开环控制模式（遥杆控制）l 闭环控制模式l 自动化操控l 软件二次开发工具包l 实时显微成像显示规格参数产品型号MFG-100系统OctoMag系统工作空间直径10mm130mm磁场强度40mT50mT磁场梯度2T/m2T/m磁场频率2000Hz at 2mT10Hz外形尺寸250x275x110mm560x560x550mm系统重量4.5Kg40Kg

MagnebotiX磁控微纳操纵/表征系统 产品介绍MagnebotiX磁控微纳操纵/表征系统是基于磁场控制的微纳操作系统，通过五自由度磁场发生器，结合 磁控算法及软件，可实现对磁性操控介质（如微小磁珠、磁 性无缆探针）运动轨迹和力学控制，在显微医学、纳米技术 基础和应用研究领域有着广泛应用。产品特性●　可实现5自由度的磁场控制●　可在微米到毫米级大小范围的物体上同时施加力和力矩●　超大球形工作空间，直径可达130毫米●　可与主流显微镜品牌和型号高度兼容应用案例生物力学 可实现在单细胞水平进行多种非接触操作方案。 巨噬细胞开始与磁性靶体相互作用 用磁珠探测微小组织医学微操作 采用 OctoMag型磁控系统可以操纵磁性微探针，对小动物进行体内微创靶向给药。 磁性操纵微型机器人 靶向给药 微纳机器人研究 用于各种磁控微机器人 操作及其控制方案的研 究和二次开发。 磁共振微型机器人 螺旋形微型机器 磁控微机器人进行微装配操作软件控制界面l 开环控制模式（遥杆控制）l 闭环控制模式l 自动化操控l 软件二次开发工具包l 实时显微成像显示 规格参数产品型号MFG-100系统OctoMag系统工作空间直径10mm130mm磁场强度≦40mT50mT磁场梯度2T/m2T/m磁场频率2000Hz at 2mT10Hz外形尺寸250x275x110mm560x560x550mm系统重量4.5Kg40Kg

微纳3D打印解决方案提供商PTM-2/PTM/7/PTM-10型号PT-10PTM-7PTM-2光学精度10um7um2um打印尺寸（X/Y轴）(尺寸可加大)单幅尺寸:40*24mm单幅尺寸:28*16mm单幅尺寸: 8*4.8mm打印高度 Z(尺寸可加大)50mm25mm25mm波长405nm DLP405nm DLP405nm DLP投影功率密度≤15w/c㎡≤15w/c㎡≤50w/c㎡Z-轴分辨率10um5um5um供电要求220V AC 50HZ220V AC 50HZ220V AC 50HZ整机外尺寸940*940*1840mm微纳3D打印机的产品应用领域:精密电子器件：5G消费电子、娱乐、手机、汽车电子,视听、数码电子产品、服务机器人、无人机、半导体加工/制造、PCB、集成电路科研领域：安防/国防、航空/航天、传感及测试测量、智能传感器、科研院所研究等微流控：医疗保健、生物和医疗领域；环境分析及食品和农业研究微机械：先进制造、光学材料及元件、摄像头及模组精密医疗器械：医疗、生物医疗、美容、健康微纳3D打印解决方案提供商深圳市不死鸟科技有限公司联系人：平生

CERES微纳金属3D打印系统CERES微纳金属3D打印系统是利用中空AFM探针配合微流控制技术在准原子力显微镜平台上将带有金属离子的液体分配到针尖附近，再利用电化学方法将金属离子还原成金属像素体，通过位移台和针尖在空间方向的移动获得目标3D结构，我们称之为μAM(Additive Manufacturing)技术(源自于FluidFM技术)。 FluidFM 微3D 打印机特点：直接打印亚微米3D金属结构可在现有结构上准确打印3D结构电化学沉积金属和合金材料打印90°悬臂结构无需支撑结构飞升/秒剂量精度，多种液体3D打印速度高达4 μm/s室温打印高纯度金属无须后处理应用领域微纳3D打印直接打印复杂3D金属结构，结构精度可达亚微米级纳米光刻通过准确控制剂量和扫描速度获得复杂纳米尺度结构表面修饰可将超精细结构直接打印在目标区域，达到对材料表面修饰的目的 材料种类可打印Cu、Ag、Cu、Pt。另有30多种金属材料备选除了3D打印功能外，这套系统还可以帮助我们实现纳米光刻、在已有结构上打印其他结构、表面修饰、飞升量级溶液局部分配、纳米颗粒（＜200nm）表面分散、实现电接枝技术等…… 两年来，我们利用CERES（微纳金属3D打印系统）为前沿科技领域提供了新的解决方案 --- 基础物理研究、微纳米加工、 MEMS、仿生、表面等离子激元、微纳结构机械性能研究、太赫兹芯片、微电路修复、微散热结构、生物学、微米高频天线、微针…… 如果您有好的应用，但却受现有的加工技术局限，欢迎您与我们沟通讨论！

nanoArch S130微纳3D打印机由深圳市摩方材料科技有限公司自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。PμSL技术使用高精度紫外光刻投影系统，将需打印模型分层投影至树脂液面，快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势，被认为是目前最具有前景的微尺度加工技术之一。 基本参数光源：UV-LED(405nm)打印材料：硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等光学精度：2μm打印层厚：5-20μm打印尺寸：①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（单投影模式）②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重复阵列模式）文件格式：STL设备功率：3000W系统外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)重量：450kg电气要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW 应用领域：可广泛应用于力学超材料、生物医疗、微机械结构、微流控、三维复杂仿生结构等领域 企业简介：摩方材料是一家专注于高精密微纳3D打印系统及材料的高新技术企业，其业务涵盖高精密3D打印设备的研发及生产、高精密3D打印定制化产品服务、高精密3D打印原材料的研发及生产、高精密3D打印工艺设计开发及相关技术服务，拥有较为完整的高精密微纳3D打印产业生态链。作为微纳3D打印的先行者和领导者，在三维复杂结构微加工领域，摩方团队拥有超过二十年的科研及工程实践经验。nanoArch S130微纳3D打印机信息由深圳摩方材料科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于nanoArch S130微纳3D打印机报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。注：对于医疗器械类产品，请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

微纳米气泡发生器产品介绍 微纳米气泡发生装置是上海如净环保科技有限公司自主研发生产的前沿高科技产品，该装置融合了当今国内外微纳米气泡发生装置技术和制造工艺，历经了多年实践检验及工程应用，弥补国内纳米至微米级气泡发生装置的空白，实现了从实验室走向工业化推广应用的突破。微纳米气泡发生器工作原理 上海如净微纳米气泡发生装置，其原理是使气体与液体高度相溶混合，如净微纳米气泡采用动态高速剪切装置，将气液混合物内的气泡切碎，由于这些构件的强大剪切力，可以将气泡切碎至几十纳米到几微米，最终形成乳白色微纳米气泡，这种方式可以兼顾气液混合与微气泡发生，具有气液过程强化的特征。 微纳米气泡发生器由气液混合装置，加压装置、释放装置、控制系统，四大部分组成，其中需要连接配套管路，主要包括进气管路、进水管路、出水管路。当气体从进气管路进入加压装置后，与液体充分混合，经过气液剪切高压混合等处理，生成直径50μm以下的微米气泡，最终通过释放装置产生的物理原理释放出20-180nm以下的微纳米级气泡。◆性能参数 微纳米气泡发生装置产生气泡平均粒径在100纳米（nm）—10微米（μm）之间，气泡含率84%—90%，气泡平均上升速度4 mm/s—8 mm/s。◆产品特点 （1）实现气、液两相高度混合并达到饱和。 （2）可以接入不同的气体（如：空气、纯氧、臭氧、氮气）等气源来满足不同的需要。 （3）解决传统曝气设备气泡大、上升速度快、停留时间短、容易汇聚、对水体扰动大、饱和溶氧状态时间长的问题。 （4）解决传统设备体积大、效率低、成本高的问题。 （5）解决传统设备达到易堵塞、噪音大、耗能高的问题。 （6）超微纳米气泡体积小，比表面积远大于普通气泡，明显能提高水体的溶氧量。气泡带负电荷；自我收缩爆破，有氧化性和杀菌作用。

微流控微米纳米颗粒制备系统（PLGA）图片简介此微流控PLGA制备系统，采用乙酸乙酯作为溶剂，可制备出直径在15-50μm之间的PLGA微粒，微粒直径可控，且所制备微粒具有出色的单分散性(CV 2%)，此外，此系统基于液滴微流控技术，可保证PLGA微粒的连续制备，且不受长期实验的影响。系统组成包含：2个压力泵FLOW EZ，3个储液池，2个3/2阀，2个流量传感器，1个Raydrop液滴生成器，1个微滴数字高速显微镜。 功能图解微流控PLGA制备系统示意图：通过两个Flow EZ压力泵作为流体驱动，将试剂泵入Raydrop微滴发生器，以生成包含有PLGA的微滴，并在数字显微镜下观察，然后通过一个两向切换阀，分别完成废液和PLGA微滴的收集。不同尺寸不同速率的微滴（含PLGA）的生成：固化后的PLGA微粒单分散性好，CV 2%。PLGA微粒直径可控。对使用2%浓度（W/V）PLGA试剂所制备的微滴和PLGA微粒直径做分析，得到以下两图：分别使用2%浓度、5%浓度和10%浓度（W/V）的PLGA试剂制备PLGA微粒，所制备的微滴尺寸及固化后的PLGA微粒尺寸见下图。 应用系统制药业医学工程材料现代化工业More… 规格参数系统可定制，具体参数需结合搭配确定，参阅附件以查看更多内容。

随着全球市场对于全息印刷如防伪安全及其他光学显示应用的需求增长，为了替代现有落后繁琐的全息印刷工艺， Stensborg发明了Holoprint，世界上首创在线的全息印刷生产工艺。Stensborg公司服务于全欧洲压印客户超过20年，提供全息原版片和压印模板包括防伪安全用途以及其他数量庞大的光学应用。Stensborg公司专利的Holoprint压印技术，应用于桌面型的UNI A6 DT设备，以及客户定制化的设备，在印刷工艺中集成了纳米压印工艺，因此用户可以进行高分辨3D微纳米结构快速制备比如全息复制到预涂布好的材料上而不需要使用预加工好的箔片。我们这项独特的前沿纳米压印技术优势在于： • 全欧洲知名的R2P专利压印技术• 可快速复制超清晰均匀的微纳结构• 适用于几乎任何表面–柔性或固体、透明或不透明• 优异的光学固化引擎和易于操作的独特设计• 适用于20纳米至100微米的特征尺寸• 全系列优化的压印及模板制作材料• 超过30000次超长寿命聚合物印刷模板 R2P纳米压印系统又名桌面式微纳米结构复制机，可以说是"The most cost-effective holographic printing technology available today 现阶段最有效的全息印刷技术工艺". 印刷电子技术受限于线宽精度的要求无法实现复杂微米及亚微米结构，而使用高精度R2R/R2P纳米压印技术可获得小到亚微米甚至几十纳米结构，这样可以很好的应用于对于结构有高精度要求的应用领域，如显示如裸眼3D,全息成像，AR眼睛等，太阳能领域，光照领域，及其他如微流控和防伪标签等,在工艺上节省时间成本的基础上，更好的开拓了微纳米结构产业化的新机遇。典型应用包括：光学验证防伪的衍射结构，衍射光学元件，增强光伏器件光电转换率的微纳米结构，增强LEDs光电性能的微纳米结构，光波管，光导纤维，微流控器件，超亲水或超疏水功能层表面，促进或阻止细胞生长的表面结构，等离子体超材料结构，生物化学微阵列，光固化树脂材料性能测试验证，用于NIL蚀刻掩膜版图案制作。 应用领域：应用实例：SEM微纳结构照片：

微纳力学、机械性能测试，微纳操纵系统瑞士FemtoTools微纳力学性质测试及操纵系统。FemtoTools是一家专业制造微纳机械测试及操纵的瑞士高科技企业。其产品可以在光学显微镜、探针台或者电镜环境下，结合其独有的微纳力学传感探针或微纳力学传感钳夹对于样品进行力学性质测试或微纳尺度的操纵。可以做微力学（5nN-10mN）测量，并且可以得到5nm分辨率的位移反馈。可以拾取操纵0-100μm的物体，还能测得频率（1Hz-8KHz)的频率测试。对于样品以及实验过程，可以做到全程、不同角度可视化（可选配0-180°可旋转显微镜，分辨率达3μm，并有高倍率CDD）。FemtoTools的研发团队依托于瑞士联邦理工学院-机器人与智能系统研究所（ETH-IRIS）Bradley Nelson教授课题组，其产品及技术推出至今已经获得包括，瑞士技术创新大奖（ Swiss Technology Award），国际机器人与自动化大会颁发的学术贡献奖（ICRA）等诸多奖项。

魔技纳米MJ-Works适用多种材料的超快激光微纳加工中心超快激光微纳加工中心，不仅拥有纳米级3D加工能力，还配备了双波长飞秒激光输出，可加工更广泛的材料。可对玻璃、光纤、晶体内部和表面进行改性或刻蚀，也可对金属、合金、陶瓷等硬质材料进行微米级精度的处理，包括打孔、表面结构处理、选择性激光消融、改性等多种功能。MJ-Works同样拥有高精度、超高速度的特点，并且可进行大幅面加工、全自动操控、长时稳定性、简单直观的软件操作以及适配多种材料的特点，适用于微纳光学、生物医学、半导体、光通信等行业的微纳加工领域。 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

美国K-T公司是全球微纳米力学测试设备技术的开创者，全球第一台纳米力学测试系统于上世纪80年代初在公司前身诞生，多种测量方法和物理模型来自该公司。经过近40年不断努力和改进，该公司微纳米力学测试不仅实现了静态到动态的测试，同时实现了与光学、电学等设备连用的原位材料力学、微结构学甚至成份学的多手段原位测试功能。当前国标已经引入该公司专利的CSM连续刚度技术，在该领域具有很高的权威性。K-T在连续刚度（CSM）、高分辨、扫描成像、快速测试方面拥有独特技术。K-T是该领域著名跨国公司，中国设有地区总部，拥有最专业的技术支持和售后服务人员。更多信息，请联系我们以探讨您的需求。

微纳米气泡曝气技术是指将微纳米气泡发生技术应用于水处理中曝气，是近年来发展的一种高效环保水处理技术。相较于普通大气泡，微纳米气泡具有独特的物理化学特性，如比表面积大、表面带电荷、水体中存在时间长、气液传质率高、界面点位高、能自发产生自由基等。在水处理中常应用于悬浮物的吸附去除、难降解有机污染物的氧化分解、向水体复氧促进生物活性以及减少底泥内源污染等方面微纳米曝气技术在黑臭河道治理中改善水质的作用包括：（1）污水中悬浮物的吸附去除，由于微纳米气泡表面带电荷且ζ电位高，对污水中的油类以及悬浮物就有优越的吸附效果，对于COD、氨氮及TP也具有较好的去除效果，从而减少水中有机质，使水体透明度明显提高，改善水色。（2）促进生物净化功能，向污染的缺氧水域中进行微纳米气泡曝气时，随着气泡内溶解氧的消耗不断向水中补充活性氧，可增强水中好氧微生物、浮游生物以及水生动物的生物活性，加速其对水体及底泥中污染物的生物降解过程，实现水质净化目的。（3）难降解有机污染物的强化分解，微纳米气泡破裂时能释放出的大量的羟基自由基，具有氧化性，可分解很多有机污染物，为了促使微气泡在水中能够产生更多的羟基自由基，常采用其它强氧化手段进行协同作用，如紫外线、纯氧以及臭氧等强氧化手段，以更好地发挥对废水中有机污染物的氧化分解作用。（4）减少底泥内源污染，微纳米气泡曝气使得河湖底质表层含氧量增加，好氧微生物代谢活动趋强，有效抑制湖底厌氧菌的有机质分解过程，减少水底氮、磷营养盐的释放量，阻断内源污染。

德国Nanoscribe公司2018年底全新推出的双光子微纳3D打印系统 - Photonic Professional GT2 (PPGT2)为2014年该公司在美国旧金山举行的的西部光电展上赢得 Prism Award（俗称为光学领域奥斯卡奖的棱镜奖）的Photonic Professional GT (PPGT)的升级版本。相对于PPGT，该升级系统为样品加工部件增强了防护设施，使得该系统在非理想的环境光和震动条件下都能够稳定操作。此外，拥有更简便操作的新系统真正实现了CAD模型的快速成像，所见即所得。PPGT2系统在保持并优化了基于双光子聚合技术的超高精度3D打印的同时，使得所能加工的样品高度和体积也得到了大大的提高 - 160nm最低打印线宽/100*100mm2最大打印面积/8mm最大打印高度，大大拓宽了原设备的应用领域。作为德国全进口的3D打印设备，Nanoscribe双光子微纳打印机PPGT2在保持并优化了基于双光子聚合技术的超高精度3D打印的同时，也从系统本身以及用户界面等各个方面进行了面向客户需求的重新设计。作为全球zui高精度的微纳3D打印系统，该系统的高度自动化，高度易用性的特点使得多个高精尖领域的微纳米精度的3D加工可以轻松的实现，拓展了人类精密加工的应用范围。技术参数产地：德国全进口技术：逐层双光子光固化三维最小横向特征尺寸：160nm横向分辨率：400nm最佳纵向分辨率：1000nm层厚：0.3-5.0μm普通样品最高打印高度：8mm专用于科学研究和快速成型，可应用于：微流道微机械生物医学工程微机电系统机械超材料光学超材料和表面等离子元微光学等更多有待开发的微纳米结构纳糯三维科技（上海）有限公司作为德国Nanoscribe独资子公司扩大了亚太地区业务范围，同时也加强了售后服务支持。

SD-650MH高真空磁控溅射镀膜机博远微纳VPI镀膜设备优点：体积小，抽真空时间快，可做靶材种类多。特点：1、高真空磁控溅射仪要求稳定，安全可靠，操作简单便捷。适用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。2、 高真空磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转样品台、工作气路、抽气系统、真空测量及电控系统等部分组成。3、★高真空磁控溅射仪长610mm×宽420mm×高220mm（注：含腔体总高490mm） 可放于桌面，小巧不占空间。抽真空速度快，10分钟可进入工作状态。真空腔体采用直径260mm×高270mm的金属真空腔体，真空腔体上有多个备用标准接口，方便老师想进行其他实验研究接入设备，后期可直接配备射频溅射系统，方便老师后续想镀半导体等材料。4、前级机械泵抽速为 4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器 ，后级抗冲击涡轮分子泵采用抽速为300L/s。真空测量采用复合真空计监测真空，极限真空度: 5×10-5Pa。 5、★直流恒流电源输入电压为220V，输出电压为0-600v，输出电流为0-1.6A ，沉积速率为0-200nm/min。电控带锁系统，防止无关人士误操作。溅射定时保护装置，防止溅射时间过长引起的样品损坏。溅射磁控头直径为50mm。配备一块厚度不小于0.2mm厚的金靶，方便产品到货直接使用。基体温度较低，在不耐温材料上可以完成镀膜。6、 样品台采用旋转式样品台。直径尺寸可选，最大不能超过φ150mm。7、采用自循环冷却水机冷却靶头，保证靶头寿命。8、 真空腔室采用金属腔体，具备良好气密性，防止漏气，确保高真空度。尺寸直径260mm×高270mm（外尺寸 ），容积≥9300ml。适用更多样品。9、 样品台直径200mm，支持水平旋转、20度倾斜球形旋转。可放置≥12个标准SEM样品座。适用更多形状的样品，保证镀膜的均匀性。10、 溅射管头为双靶，配水冷。可支持磁控溅射、离子溅射，可溅射强磁性材料。11、 标配铜靶、铬靶各一块。直径50mm×3mm。其它可溅射靶材包括铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等12、 靶材均匀度直径50mm内，金属类膜厚均匀度可达±1%13、 可配直流恒流电源、射频电源（含匹配一体机）输入电压：220V输出电压：0-600v可调输出电流：0-1.6A可调14、 配置VPI液晶控制面板，可智能控制系统操作。操作简单，人机界面良好。15、 极限真空度5×10-5Pa，真空抽速300L/s。16、 标配自循环冷却水机一台。17、 气路可以通过电磁流量阀与手动阀联动控制。实现自动补气。18、可放置于桌面，减少占地空间。19、膜厚仪监控范围0～6000纳米。可监控速率0.001纳米/秒。与触摸屏程序操作相结合，可联动控制，监测膜厚。 原理： 溅射镀膜的原理是稀薄气体在异常辉光放电产生的等离子体在电场的作用下，对阴极靶材表面进行轰击，把靶材表面的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有一定的动能，沿一定的方向射向基体表面，在基体表面形成镀层。溅射时产生的快电子在正交的电磁场中作近似摆线运动，增加了电子行程，提高了气体的离化率，同时高能量粒子与气体碰撞后失去能量，基体温度较低，在不耐温材料上可以完成镀膜。SD-650MH高真空磁控溅射镀膜机博远微纳VPI镀膜设备指标品牌：北京博远微纳科技有限公司 型号：SD-650MH 仪器主机尺寸:长610mm×宽420mm×高220mm（注：含腔体总高490mm） 工作腔室尺寸：金属腔体：直径260mm×高270mm（外尺寸 ） 直径210mm×高270mm（内尺寸） 靶材尺寸： 直径50mm×厚3mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 靶材料：标配一块直径50mm×0.3mm的铜靶（可溅射弱磁性金属膜） 靶枪冷却方式：水冷 真空系统： 抗冲击涡轮分子泵，抽速为 300L/s 前级机械泵： 抽速为 4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器 真空测量：采用复合真空计监测真空 极限真空度: 5×10-5Pa（10分钟可到5×10-4Pa） 电源：直流恒流电源： 输入电压：220V 输出电压：0-600v可调 输出电流（沉积电流）：0-1.6A可调 载样台： 旋转台等 工作气体： Ar等惰性气体） 气路：气路可以通过电磁流量阀与手动阀联动控制。实现自动补气。 沉积速率： 0-200nm 水冷： 自循环冷却水机 电源电压： 220V 50Hz 启动功率 ： 3KW 保修 ： 贰年 用途特点： 高真空磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、样品台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。高真空溅射可用于金属等新型薄膜材料的制备，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。

超快激光微纳加工平台：LS-LAB— 高集成度、高灵活性、简单易用的微纳加工平台 LS-LAB：像其他高端的微纳加工设备一样，LS-Lab这台小型实验室设备，搭配LASEA的光束管理模块，可以实现高精度激光微纳加工。配备纳米定位平台和安全管理柜，LS-Lab是OEM模块和现成的激光微纳加工设备之间的连接。 设计用于切割、钻孔(零锥角)、纹理、打标、雕刻或薄膜移除等应用，LS-Lab是对所选光学配置预先安装并校准的系统，可以紧挨着激光器放在光绪桌上。无需其他任何额外装置即可完成微加工应用。不但是集成的微纳加工设备，LS-Lab更具灵活性。即使搭配您自己选择的激光器，LS-Lab也可保证快速实现高品质微加工应用。LS-Lab是Class 4级别激光系统，因此需要防护眼镜及其他适当的防护装置，以确保安全。LS-Lab配备安全开关和传感器指示灯，以显示实际是开还是关，因此可以很容易的集成到Class 1级别的环境。主要特点：- 尺寸小(600×600mm)- 10个高品质光束转折器- 平台分辨率500nm- 平台行程160×160×300mm- 安全控制器- 易于集成- 可搭配LASEA光束管理模块： 主要规格可点击图片放大* 另有订制方案，可根据客户需求提供高性价比方案。 聚擘国际贸易 (上海) 有限公司聚 嵘 科 技 股 份 有 限 公 司聚擘国际贸易 (上海) 有限公司／聚嵘科技股份有限公司，专业从事半导体封装及测试、LED封装测试、太阳能、SMT、飞秒/皮秒/纳秒激光等定制设备/子系统的开发、销售及售后服务。公司总部位于上海，在深圳、北京、西安设有办事处。公司在台北市设有专业的飞秒精密微纳加工实验室 — FemtoFocus，合作伙伴有法国Amplitude公司 、 比利时NextScan Technology公司 、 法国ALPhANOV光学与激光技术中心、比利时LASEA公司、法国NOVAE公司、德国Pulsar Photonics公司。实验室拥有专业的前沿激光微纳加工应用开发及技术支持团队，提供超短脉冲 (小于500fs) 和极短脉冲 (小于100fs) 激光技术相关测试及高速加工 (多光点、转镜) 等高度可扩充的高弹性集成方案。 聚擘国际贸易 (上海) 有限公司聚嵘科技股份有限公司| 电子 | 半导体 | 飞秒激光 | 微加工 | 科研 |

T150 UTM微纳拉伸试验机T150 UTM 微纳拉伸试验机可以测量对应变速率敏感的材料的时变响应。它采用电磁作动器产生拉力（样品上的载荷），并采用高精度的电容传感器测量位移，从而在大范围的应变下确保高灵敏度。T150 UTM还可提供动态测量模式，用以研究生物材料的拉伸/压缩特性，该模式在拉伸/压缩过程中的每个状态均可实现样品刚度等的精确测量。产品描述T150 UTM 微纳拉伸试验机使用电磁力作动器为加载单元，可在很大的样品应变范围内保持高灵敏度。连续动态分析 (CDA) 选项可在测试过程中实时对样品刚度进行直接、精确的测量，从而连续测定样品在每个应变状态下的力学性能。CDA还支持测定样品不同频率下的复模量（储存模量、损耗模量等）。T150 UTM 微纳拉伸试验机的应用包括：测定软质纤维和生物材料的屈服强度，纤维和生物材料的动态研究，以及聚合物的拉伸和压缩测试 产品特色电磁力作动器，在很大的样品应变范围内保持高灵敏度动态测量模式，测量样品力学性能随应变状态的变化灵活、可升级、可配置的仪器系统，适配各种应用易于进行测试协议开发，用于实时测试控制符合 ASTM 标准 产品应用单根聚合物、金属、复合材料或陶瓷超细纤维电纺聚合物纳米纤维聚合物薄膜生物材料（例如蜘蛛丝、软组织支架）纺织品MEMS：微机电系统 适用行业大学、科研实验室和研究所MEMS：微机电系统纤维和纺织品聚合物薄膜生物医学医疗器械更多内容：请联系我们并告知我们您的需求主要应用单根聚合物、金属或陶瓷超细纤维纤维的拉伸强度和弹性模量是其在大多数应用中的重要参数。但是传统的材料试验机难以准确测量单根超细纤维的力学性能，因为测试此类样品所需的力很小。T150 UTM 微纳拉伸试验机能够准确测量很小的载荷变化，且适配样品很大的应变范围。其同时配备载荷分辨率极佳的作动器和位移分辨率极佳的移动机构，因此可以准确测量微纳米纤维的准静态应力-应变行为。电纺纳米纤维静电纺丝制备的纤维直径从几百纳米到几微米不等。T150 UTM 的独特设计能够同时满足对极低载荷和极小位移的精确测量，从而实现超细纤维的拉伸性能表征。聚合物薄膜/MEMS聚合物薄膜是通用的包装材料，且其现在越来越多地用于生物科学和半导体封装。T150 UTM 可用于测量聚合物薄膜的临界断裂能。蜘蛛丝在力学和材料测试领域，生物材料的纳米级表征仍颇具难度。此类研究的一个例子是蜘蛛丝的力学性能表征。蜘蛛丝具有惊人的强度重量比，因此受到从医疗到军事等许多领域的关注。蜘蛛丝相关研究面临诸多挑战，其中包括：蛛丝纤维的直径小且难于测量，样品难以收集和夹持，难以在较大应变范围内获得准确的准静态测试结果，难以测量样品的各类动态特性。T150 UTM 完全适用于测量小直径单根纤维的强度，其中即包括蜘蛛丝纤维。纺织品T150 UTM 针对极细纤维的拉伸变形行为测试进行了专门设计。基于高分辨率的载荷与位移作动器，T150 UTM的连续动态分析（CDA）专利技术模块能够在拉伸试验过程中，连续测量材料的储存模量和损耗模量。CDA模块能够表征材料变形过程中内部固有结构的变化，这对于聚合物材料尤其重要。

NS系列中图微纳米测量接触式台阶仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具有亚埃级分辨率，13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差，使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能NS系列中图微纳米测量接触式台阶仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。NS系列中图微纳米测量接触式台阶仪单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。 典型应用台阶仪在太阳能光伏行业的应用台阶仪利用光学干涉原理，通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，NS200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；部分技术指标型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时（测量1μm台阶高度，1δ）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

微纳光学元器件外协加工|衍射光学元件|衍射光栅|超透镜|微透镜阵列 微纳光学元件是指面形精度可达亚微米级,表面粗糙度可达纳米级的自由光学曲面及微结构光学元件。由于其具有体积小、重量轻、设计灵活、易阵列化和可批量复制等优点,使其可完成传统光学元件无法实现的新功能,并可构成许多新型的光学系统。目前微光学元件阵列己经成功地应用于现代光学的各个领域,在军事上以及航空航天方面均具有非常重要的应用前景,因而微纳光学元件的制备也成为了表面微加工领域重要的热点研究方向。　　实验室平台拥有设备等共计200余台，其中主要设备（40余台）包括：　　图形化设备　　电子束曝光、激光直写、台式接触式光刻机、桌面式光刻机等　　薄膜沉积设备　　ICP-PECVD、LPCVD、磁控溅射、电子束蒸发镀膜、PE-ALD、DLC薄膜沉积等、电镀 （Au、Ag、Cu、Ni、Sn等）　　刻蚀设备　　ICP—RIE、RIE、IBE、DRIE深硅刻蚀、XeF2表硅刻蚀机、HF气相刻蚀等干法刻蚀设备和满足体硅、介质膜、金属氧化物、金属等的湿法刻蚀设备以及相配套的二氧化碳超临界释放设备　　表征和测试设备　　AFM、台阶仪、Raman光谱、SEM、FIB、共聚焦显微镜、白光干涉仪、红外热成像仪、FEMTO—TOOLS微纳力学测试仪、超高速相机、3D多普勒激光测振仪、DC／RF探针台（60GHZ）、网络分析仪（60GHz）、半导体分析仪、阻抗分析仪以及高精度电学原表等　　器件后道封装设备　　晶圆减薄、CMP抛光、晶圆键合、贴片机、划片机、打线机、固晶机、激光焊接机等团队自主研发的加工设备，封测设备。　　平台技术能力　　工艺整合及平台能力　　—导电DLC膜层（超滑副，导电超硬膜层等）　　—AIN／PZT薄膜工艺（压电驱动材料）　　—大尺寸高定向碳材料生长和器件加工工艺　　—键合：阳键合、玻璃焊料键合、共晶键合（AIGe）、扩散键合工艺　　—气氛或真空封装、Reseal　　—研磨减薄和原子抛光工艺　　—硅基全湿法微纳加工工艺—柔性衬底微纳器件加工　　制造与封测能力　　—硅通孔（TSV）玻璃通孔（TGV）　　—压力／气体／红外／湿度传感器　　—微流控芯片加工和相关测试　　一超滑射频／惯性器件加工能力　　—Die的全封装能力应用类别设备名称设备型号工艺参数镀膜低压力化学气相沉积(LPCVD)HORIS L6471-1可沉积SIN，TEOS，poly等薄膜 1-50片/炉热氧化炉管热氧化退火快速退火炉RTPAnnealsys AS-One 150高温度到1500℃, 升温速率大200℃/sFIB加工聚焦离子束 FIBThermo Fisher Scios 2 HiVacTEM样品制备SEM形貌观测场发射环境扫描电镜ESEMThermo Fisher Quattro SSEM能谱分析电子束蒸发镀膜-金属电子束蒸发FU-20PEB-950蒸镀金属薄膜、可做lift-off工艺镀膜、8寸基片向下兼容电子束蒸发镀膜-介质电子束蒸发FU-12PEB蒸镀介质薄膜一炉可镀10片四寸基片磁控溅射镀膜-金属磁控溅射系统FSE-BSLS-RD-6inch溅射金属薄膜、6寸基片原子层沉积等离子体增强原子层沉积系统ICPALD-S200当以Al2O3为主DLC镀膜类金刚石薄膜化学沉积系统CNT-DLC-CL200干法刻蚀干法刻蚀机北方华创硅Bosch和超低温刻蚀、SiO2与石英深刻蚀，8英以下IBE刻蚀离子束刻蚀系统(IBE)AE4三维结构材料刻蚀，刻蚀陡直度优于85度，刻蚀精度10nm等离子体去胶微波等离子体去胶机Alpha Plasma紫外光刻紫外光刻机SUSS MA6BA6GEN4对准精度：±0.5um，分辨率600nm电镀电镀机WPS-200MT镀Cu、镀Au、镀镍/镍合金临界干燥超临界点干燥仪Automegasamdri-915B划片切割机划片机Disco D323晶圆键合晶圆键合机SUSS MicroTec SB6Gen2阳键合AFM测试高分辨原子力显微镜Oxford Cypher ES原子力显微镜Park Systems NX20电子束光刻电子束光刻机Elionix ELS-F125G8不含匀胶等费用，材料费根据用胶类型另计　　我们提供快速MEMS器件 / 微纳米结构加工设计服务, 欢迎留言咨询。咨询电话：

微纳米气泡发生器产品介绍 微纳米气泡发生装置是上海如净环保科技有限公司自主研发生产的前沿高科技产品，该装置融合了当今国内外微纳米气泡发生装置技术和制造工艺，历经了多年实践检验及工程应用，弥补国内纳米至微米级气泡发生装置的空白，实现了从实验室走向工业化推广应用的突破。微纳米气泡发生器工作原理 上海如净微纳米气泡发生装置，其原理是使气体与液体高度相溶混合，如净微纳米气泡采用动态高速剪切装置，将气液混合物内的气泡切碎，由于这些构件的强大剪切力，可以将气泡切碎至几十纳米到几微米，最终形成乳白色微纳米气泡，这种方式可以兼顾气液混合与微气泡发生，具有气液过程强化的特征。 微纳米气泡发生器由气液混合装置，加压装置、释放装置、控制系统，四大部分组成，其中需要连接配套管路，主要包括进气管路、进水管路、出水管路。当气体从进气管路进入加压装置后，与液体充分混合，经过气液剪切高压混合等处理，生成直径50μm以下的微米气泡，最终通过释放装置产生的物理原理释放出20-180nm以下的微纳米级气泡。◆性能参数 微纳米气泡发生装置产生气泡平均粒径在100纳米（nm）—10微米（μm）之间，气泡含率84%—90%，气泡平均上升速度4 mm/s—8 mm/s。◆产品特点 （1）实现气、液两相高度混合并达到饱和。 （2）可以接入不同的气体（如：空气、纯氧、臭氧、氮气）等气源来满足不同的需要。 （3）解决传统曝气设备气泡大、上升速度快、停留时间短、容易汇聚、对水体扰动大、饱和溶氧状态时间长的问题。 （4）解决传统设备体积大、效率低、成本高的问题。 （5）解决传统设备达到易堵塞、噪音大、耗能高的问题。 （6）超微纳米气泡体积小，比表面积远大于普通气泡，明显能提高水体的溶氧量。气泡带负电荷；自我收缩爆破，有氧化性和杀菌作用。

中图仪器SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪基于白光干涉原理，以3D非接触方式，对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等参数。广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。产品功能(1)SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。针对完成样品超光滑凹面弧形扫描所需同时满足的高精度、大扫描范围的需求，中图仪器SuperView W1的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。 性能特色1、高精度、高重复性1）采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，保证测量精度高；2）隔振系统，能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动噪声，保障仪器在大部分的生产车间环境中能稳定使用，获得高测量重复性；2、环境噪声检测功能具备的环境噪声检测模块能够定量评估出外界环境对仪器扫描轴的震动干扰，在设备调试、日常监测、故障排查中能够提供定量的环境噪声数据作为支撑。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。4、双重防撞保护措施在初级的软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，最大限度的保护仪器，降低人为操作风险。5、双通道气浮隔振系统既可以接入客户现场的稳定气源也可以接入标配静音空压机，在无外接气源的条件下也可稳定工作。 部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜（10×物镜，光学ZOOM 0.5×）XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

Workshop of Photonics公司从2003年开始就专注于飞秒激光微纳加工工艺研发, 凭借着创新技术及先进可靠工艺. 主流型号为FemtoLAB实验级飞秒激光微纳米加工系统, FemtoFAB产业级飞秒激光微纳米加工系统, MPP-Cube秒双光子/多光子三维聚合微纳米加工系统.飞秒激光器由于激光脉冲很短, 拥有很好的激光功率密度, 其加工效果超过纳秒和皮秒激光. 光束所到之处能够瞬间将材料消融气化, 由于激光脉冲短, 激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中, 所以对加工区域周围影响微乎其微, 是一种冷态加工技术.WOP系统采用高品质的飞秒激光器, 同步高精密光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间,时间和能量上提供全方位高精度控制, 从而提供高难度的加工能力, 亚微米精度的分辨率和重复性, 以及很高的微加工速度 .

谐波法微纳材料热物性测量仪器（3Ω热物性测试仪）姓名：田工(Allen)电话：（微信同号）邮箱：传统测试方法无法满足新型微纳尺度材料热物性的精确测量要求。谐波法微纳材料热物性测量系统可以实现几乎所有类型微纳材料的热物性测量，包括：单根纤维、纳米薄膜、纳米线阵列、功能流体、纳米粉体、纳米界面等。谐波法微纳材料热物性测量仪器（3Ω热物性测试仪）产品特点利用导热绝缘薄膜封装纳米金属带技术，增加传感器的重复利用性，采用四线法进行测量，消除导线自身热阻带来的测量影响。系统测量误差 8.9 %。单个纤维热物性测量各项异性 热物性测量-65℃ - 200 ℃ 外场选项多种材料测试兼容谐波法微纳材料热物性测量仪器（3Ω热物性测试仪）可以实现多种材料的热导率、热扩散率、吸热系数、接触热阻的现场测试已提供服务单位• 航天某研究所-碳纤维热导率测量• 北京某大学-碳纳米管纤维热导率测量• 华南某大学-碲化铋纤维热导率测量• 山东某能源研究所-碳纤维热导率测量• 北京某高新技术有限公司-涂层材料热导率测量• 中科院某所-苝/六氟磷酸盐晶体纤维热导率测量• 中山某大学• 英国某大学

公司研发生产的ZYWNP通用型微纳米气泡发生系统是一种采用纳微米气液界面技术、通过机械分散与压力溶气相结合的原理、能在瞬时大量制造直经在微米以下的超微气泡的设备。该设备可以广泛应用于土壤修复、河道治理、种植业、养殖业、纳米材料、油田等领域。 按照国际标准化组织(ISO)的定义，微泡(Fine Bubble)就是液体中直径小于100微米的气泡，其中直径小于1微米的又称为超微气泡(Ultrafine Bubble)。近几年，微泡的很多优异功能被发现，如比表面积大、停留时间长、界面zeta电位高等。除了其本身的性质外，由这些性质产生的效果也很独特，如自身增压溶解、产生自由基、强化传质效率等，因此微泡技术在环境保护、农业、胶片制作、医学诊断与治疗、浮选、污水处理、采油及冶金工业等诸多领域中得到很好的应用和迅速发展。 微泡发生装置是微泡技术得以应用和发展的基础，但目前微泡发生装置的研发和生产仍是该领域的薄弱环节。早期的微泡发生器主要是将大气泡用各种材料如微孔介质分割成微小气泡，随后研究出了基于其它原理的发泡器，如电解式微泡发生器利用电解水产生气泡的原理生成微泡。随着流体动力学的发展，逐渐出现了以相关流体特性为基础的微泡发生器，如旋流型微泡发生器、自吸式微泡发生器等。上述现有的微泡发生器不仅容易产生污染公害，而且发生的微泡直径多在10~60微米以上，大大降低了微泡在诸多领域中的优异功能，严重制约了微泡技术的发现。 针对现有技术的缺陷， ZYWNP通用型微纳米气泡发生系统，主要特点如下： 1、采用陈邦林教授纳微米气液界面技术，通过机械分散与压力溶气相结合的原理，瞬时大量制造直经小于1微米的超微气泡； 2、用物理方式产生气泡，全部过程无污染排放、不产生公害； 3、上述设备应用于水性体系时，纳微米气液分散水体中的纳微米气泡密度约为10的7次方～10的9次方个/mL，水体中气泡直径为50～600nm，气泡直径分布的峰值区域为150nm±30nm，纳微米气液界面zeta电位为-30～-40mV以上； 4、上述纳微米气液分散混合水体内溶存有溶解态及分散态氧，混合水体中总氧含量比混合前增加30%以上。表1 ZYWNP通用型微纳米气泡发生系统型号及规格型号电源（V）功率（KW）平均流量（m3/h）ZYWNP-2-0.372200.3751.0ZYWNP-2-0.752200.751.4ZYWNP-3-0.753800.751.4ZYWNP-3-1.53801.53ZYWNP-3-2.23802.255.7

美国K-T公司于2018年4月收购原安捷伦纳米测量部，其是全球微纳米力学（压痕/划痕/成像）测试设备的开创者，全球首台纳米力学测试系统于上世纪80年代初诞生于此，多种测量方法和物理模型都来自该公司。经过30多年不断努力和改进，目前该公司微纳米力学测试不仅实现了静态测试，同时实现了高水平的动态纳米压痕测试和原位纳米压痕测试，当前中国纳米压痕测试国家标准已包含了该公司的连续刚度（CSM）测试专利技术，在该领域具有很高的权威性。K-T公司纳米测量部在连续刚度测试（CSM）、高分辨率、扫描成像、快速测试方面拥有独有技术。K-T是该领域知名的跨国公司，中国设有地区总部，拥有高水平的专业技术支持和售后服务人员，国内用户得到很好的售后服务和支持。标准载荷500mN 标准位移精度优于0.02nm.

美国K-T公司是全球微纳米力学测试设备技术的开创者，全球第一台纳米力学测试系统于上世纪80年代初在公司前身诞生，多种测量方法和物理模型来自该公司。经过近40年不断努力和改进，该公司微纳米力学测试不仅实现了静态到动态的测试，同时实现了与光学、电学等设备连用的原位材料力学、微结构学甚至成份学的多手段原位测试功能。当前国标已经引入该公司专利的CSM连续刚度技术，在该领域具有很高的权威性。K-T在连续刚度（CSM）、高分辨、扫描成像、快速测试方面拥有独特技术。K-T是该领域著名跨国公司，中国设有地区总部，拥有最专业的技术支持和售后服务人员。更多信息，请联系我们以探讨您的需求。

飞秒激光微纳加工综合系统-Laser NanofactoryFemtika公司设计并生产的飞秒激光微纳加工综合系统-Laser Nanofactory是一款集增材与减材制造于一体的综合微纳加工系统。与传统的微纳3D打印设备相比，Laser Nanofactory不仅可用于光子学聚合物微纳结构的加工，还可以用于石英，陶瓷，玻璃和金属等材料从毫米到微米尺度的精确加工。设备加工速度可高达50mm/s，加工精度优于100nm，还可实现不同加工工艺间的无缝切换。得益于Femtika先进的飞秒激光技术，Laser Nanofactory在进行微纳加工时所产生的热效应小，加工出的结构边缘锐利，因此特别适合微纳结构的加工。应用领域微纳光学、微流控、微纳机电器件（M/NEMS）、纳米技术、 生物医药、通讯技术、传感器件、材料表面改性......飞秒激光微纳加工综合系统-Laser Nanofactory技术参数飞秒激光波长1028 nm ± 5 nm和514 nm ± 5 nm脉冲持续时间290 fs - 10 ps脉冲能量65 μJ最大平均功率4 W重复率60 - 1000 kHz冷却方式气冷定位平台XY方向移动范围160 mm x 160 mmZ方向移动范围60mmXYZ正交性3 arc sec分辨率1 nm (XY), 2 nm (Z)最高速度350 mm/s (YX), 200 mm/s (Z)飞秒激光微纳加工综合系统-Laser Nanofactory应用实例多光子聚合物3D结构选择性刻蚀结果展示在样品上进行激光烧蚀对器件中的不同材料采用不同加工技术（无缝切换）用户单位发表文章[1] A. Butkut&edot , G. Merkininkait&edot , T. Jurk&scaron as, J. Stan&ccaron ikas, T. Baravykas, R. Vargalis, T. Ti&ccaron kūnas, J. Bachmann, S. &Scaron akirzanovas, V. Sirutkaitis, and L. 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Jonu&scaron auskas, “Hybrid additive subtractive femtosecond 3D manufacturing of nanofilter based microfluidic separator”, Applied Physics A (2021).[6] D. Gonzalez-Hernandez, S. Varapnickas, G. Merkininkait&edot , A. &Ccaron iburys, D. Gailevi&ccaron ius, S. &Scaron akirzanovas, S. Juodkazis, and M. Malinauskas,”Laser 3D Printing of Inorganic Free‑ Form Micro-Optics”, Photonics 2021,8, 577, (2021).[7] D. Andriukaitis, A. Butkut&edot , T. Baravykas, R. Vargalis, J. Stan&ccaron ikas, T. Ti&ccaron kūnas, V. Sirutkaitis, and L. Jonu&scaron auskas, “Femtosecond Fabrication of 3D Free-Form Functional Glass Microdevices: Burst-Mode Ablation and Selective Etching Solutions”, 2021 Conference on Lasers and Electro-Optics Europe & European Quantum Electronics Conference, (2021).[8] A. Butkut&edot , T. Baravykas, J. Stan&ccaron ikas, T. Ti&ccaron kūnas, R. Vargalis, D. Paipulas, V. Sirutkaitis, and L. Janu&scaron auskas, “Optimization of selective laser etching (SLE) for glass micromechanical structure fabrication”, Optical Express 23487, Vol. 29, No. 15, 19.07.2021, (2021).[9] A. Maru&scaron ka, T. Drevinskas, M. Stankevi&ccaron ius, K. Bimbirait&edot -Survilien&edot , V. Ka&scaron konien&edot , L. Jonu&scaron auskas, R. Gadonas, S. Nilsson, and O. Korny&scaron ova, “Single-chip based contactless conductivity detection system for multi-channel separations”, Anal. Methods, 2021,13,141–146, (2021).[10] L. Bakhchova, L. Jonu&scaron auskas, D. Andrijec, M. Kurachkina, T. Baravykas, A. Eremin, and U. Steinmann,“Femtosecond Laser-Based Integration of Nano-Membranes into Organ-on-a-Chip Systems”, Materials 2020, 13, 3076 (2020).[11] T. Ti&ccaron kūnas, D. Paipulas, and V. Purlys, “Dynamic voxel size tuning for direct laser writing,” Opt. Mater. Express 10, 1432-1439 (2020).[12] T. Ti&ccaron kūnas, D. Paipulas, and V. Purlys, “4Pi multiphoton polymerization”, Appl. Phys. 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中图仪器NS系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器。主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。工作过程测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。结构主要组成部分1、测量系统（1）单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。（2）线性可变差动电容传感器（LVDC），具有亚埃级分辨率，13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差，使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。（3）传感器设计使得在单一平台上即可实现超微力和正常力测量。测力恒定可调，以适应硬质或软质材料表面。超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的精准接触式测量。2、工件台（1）精密的XY平台结合360°连续旋转电动旋转台，可以对样品的位置以及角度进行调节，三维位置均可以调节，利于样品调整。（2）超高直线度导轨，有效避免运动中的细微抖动，提高扫描精度，真是反映工件微小形貌。 3、成像系统500万像素高分辨率彩色摄像机，即时进行高精度定位测量。可以将探针的形貌图像传输到控制电脑上，使得测量更加直观。4、软件系统测量软件包含多个模块。5、减震系统防止微小震动对测量结果的影响，使实验数据更加准确。NS系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数； 3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能NS系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器 1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。典型应用在太阳能光伏行业的应用台阶仪通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，NS200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；

公司研发生产的ZYWNP系列微纳米气泡发生器，采用我公司纳微米气液界面技术、通过机械分散与压力溶气相结合的原理、能在瞬时大量制造直经在微米以下的超微气泡的设备。该设备可以广泛应用于土壤修复、河道治理、种植业、养殖业、纳米材料、油田等领域。 按照国际标准化组织(ISO)的定义，微泡(Fine Bubble)就是液体中直径小于100微米的气泡，其中直径小于1微米的又称为超微气泡(Ultrafine Bubble)。近几年，微泡的很多优异功能被发现，如比表面积大、停留时间长、界面zeta电位高等。除了其本身的性质外，由这些性质产生的效果也很独特，如自身增压溶解、产生自由基、强化传质效率等，因此微泡技术在环境保护、农业、胶片制作、医学诊断与治疗、浮选、污水处理、采油及冶金工业等诸多领域中得到很好的应用和迅速发展。 微泡发生装置是微泡技术得以应用和发展的基础，但目前微泡发生装置的研发和生产仍是该领域的薄弱环节。早期的微泡发生器主要是将大气泡用各种材料如微孔介质分割成微小气泡，随后研究出了基于其它原理的发泡器，如电解式微泡发生器利用电解水产生气泡的原理生成微泡。随着流体动力学的发展，逐渐出现了以相关流体特性为基础的微泡发生器，如旋流型微泡发生器、自吸式微泡发生器等。上述现有的微泡发生器不仅容易产生污染公害，而且发生的微泡直径多在10~60微米以上，大大降低了微泡在诸多领域中的优异功能，严重制约了微泡技术的发现。 针对现有技术的缺陷， JZYWNP系列微纳米气泡发生器，主要特点如下： 1、采用纳微米气液界面技术，通过机械分散与压力溶气相结合的原理，瞬时大量制造直经小于1微米的超微气泡； 2、用物理方式产生气泡，全部过程无污染排放、不产生公害； 3、上述设备应用于水性体系时，纳微米气液分散水体中的纳微米气泡密度约为10的7次方～10的9次方个/mL，水体中气泡直径为50～600nm，气泡直径分布的峰值区域为150nm±30nm，纳微米气液界面zeta电位为-30～-40mV以上； 4、上述纳微米气液分散混合水体内溶存有溶解态及分散态氧，混合水体中总氧含量比混合前增加30%以上。型号电源（V）功率（KW）平均流量（m3/h）ZYWNP-L-S01M2200.250.2ZYWNP-2-0.752200.751.4ZYWNP-3-0.753800.751.4ZYWNP-3-1.53801.53ZYWNP-3-2.23802.255.7