涉案金额

日立高新技术科学公司于2019年3月起，在中国开始销售利用光干涉原理进行非接触式无损伤三维表面形态测量的纳米尺度3D光学干涉测量系统“VS1800”，该产品搭配有支持多目的表面测量国际标准“ISO 25178*1参数对比工具”，通过简单而准确的样品测量支持客户的分析业务，与此同时，凭借不断创新积累的三维测量性能，实现高精度、高分辨率的表面性状的测量。 在半导体、汽车、食品、医药品等产业领域的材料研究和开发方面，为了提高产品的性能与功能，对产品表面的粗糙度、凸凹不平、翘曲等表面形状的评估变得尤其重要。以往，表面形态的测量方法，一般是采用触针式粗糙度测量仪等进行二维测量（线＋高差），但近年来，伴随着材料的薄膜化和微细构造化的加速，需要获取更多的信息，因此，采用扫描型白光干涉显微镜*2和激光显微镜*3等进行三维测量（面＋高差）便得到了灵活应用。 此外，2010年制定了有关三维表面形态评估的国际标准ISO 25178，确立了评估方法，在这种背景下，实施三维测量的企业和研究机构等日益增多。因此，需要我们急切实现有关表面形态测量上的测量与分析的简单化以及应对多种样品的测量问题。 此次发售的“VS1800”产品， 搭配了符合ISO 25178标准的分析工具 “ISO 25178参数对比工具”。在ISO 25178标准中规定了评估表面性状的32个项目的参数，但在对比样品时，选择最适合评估的参数很难，成为分析业务的难题。“ISO 25178参数对比工具”，通过按差异程度大小顺序自动对测量的参数值进行依次排序，可轻松选出最适合对比样品的参数，从而支持客户的分析业务。 此外，“VS1800” 产品，通过光干涉方法*4除了可实现大视野测量、0.01nm的垂直方向分辨率*5、高重现性外，亦通过日立高新技术科学自主研发的技术，继承了多层膜的无损伤测量等传统产品的高测量性能。此外，该产品还可搭配“大倾斜角测量选配 ”*6功能，通过捕捉大倾斜角斜面的微弱的干涉条纹变化，实现传统的光干涉方式无法实现的大倾斜角斜面测量，从而应对多种多样的样品表面性状的三维测量。 日立高新技术集团拥有可实现极微细样品的高分辨率测量的原子力显微镜、扫描电子显微镜直至大视野、高精度测量可能的“VS1800”等产品阵容，提供表面分析解决方案，从而满足客户的广泛需求。*1 ISO 25178：规定表面形态评估方法的国际标准。*2扫描型白色干涉显微镜：利用光干涉原理进行非接触式、无损伤的表面形态测量的测量设备。*3激光显微镜：将激光作为光源进行表面形态测量的测量设备。 *4光干涉方法：是利用两列或两列以上的光波相互叠加而出现光明暗（干涉条纹）现象（干涉）的检查方法。*5 0.01 nm的垂直方向分辨率为Phase模式时的性能。*6“大倾斜角测量选配”为选择项目。 【主要特点】(1)高测量性能?垂直方向分辨率：利用光干涉方法，通过独自的算法，实现0.01 nm*的垂直方向分辨率?重现性：利用干涉条纹测量凸凹的高度，通过将来自Z驱动机构的影响最小化，实现0.1 %以下的重现性?测量速度：由于不需要样品的前处理，只要将样品放置在样品台上即可完成测量准备。通过光干涉方法最 快5秒钟即可完成测量?测量视野：以从干涉条纹获取的信息为基础进行凸凹高度的测量，由此可实现广范围（One-shot最 大6.4 mm×6.4 mm）测量与高垂直方向分辨率的两者兼顾。此外，通过连接多个数据的图像，可进一步实现广范围的分析?无损伤测量：通过日立高新技术科学自主研发的技术，对玻璃和薄膜等透明多层结构样品进行测量时，无需对样品进行加工切割成截面，即可在无损伤的情况下，完成多层结构样品的各层厚度或异物混入状况的确认以及缺陷分析等 　* Phase模式时 (2) 易于使用的操作界面采用直观易懂的操作界面，能够轻而易举地进行图像分析处理前后的图像对比，从而支持分析时的最合适图像处理选择。此外，可简单地列出处理与分析的内容、创建独自的分析参数、重复使用分析参数等，并且还可批量处理数据，由此实现统一管理多个样品和分析结果，减轻繁琐复杂的后处理。 (3) ISO 25178参数对比工具 在对比多个样品时，通过将ISO 25178标准中规定的32项参数值按差异的大小顺序重新排列，从而在样品对比时能够轻松选取最适参数，支持客户的分析业务。 (4) 硬件升级按每一台XY样品台的驱动方式，设计了3个类型的产品，即基础模式的手动型Type 1、电动型Type 2、Type 3。从Type 1到Type 2、Type 3，均可根据不同的用途进行升级。

v产品简介 FD-F痕量物质取证系统采用新型分光检测、拉曼光谱检测和免疫层析技术，集成气体监测、辐射监测、指纹采集、身份证、RFID电子标签识别技术等多功能痕量物质即时检测装备，具备移动勘验，现场物证保存、试剂管控、身份证指纹取证技术等。痕量物质取证系统适用于现场快速筛查确证以及检测分析工作。痕量物质取证系统为食药环侦监管单位量身定制，用于食品、药品、环境样品中有毒有害物质的现场快速筛查，为打击食品、药品、环境犯罪提供可靠的痕量物质取证技术手段。 v产品优势 1.多功能检测技术：采用最先进的识别技术，完美融合拉曼光谱检测、新型分光检测、胶体金检测、气体监测、辐射监测、指纹采集、身份证、RFID电子标签识别技术等多功能痕量物质即时检测装备。2.专业性设计：覆盖食品、保健品、水质、空气、土壤、生物等超过100项检测指标。 3.生动的现场教学：配备教学视频、文字资料；流程化检测，简单易用。4.即时即地检验：一体式高度集成，可以手提携带至现场，实现现场采样、即刻分析。 5.完备的办案认证：集成指纹模块、身份证模块、电子签名功能，全程留痕。 6.灵活的现场办案：检测数据与报告现场生成，随时随地打印签章等业务功能。7.数据安全：采用分组对称算法保证数据和信息的机密性，存储、传输安全可靠。8.自动预警：现场危险气体及环境潜在的放射性环境进行快速筛查检测，提供自动预警功能。9.检测全流程管理：业务管理系统与检测设备自动关联，数据实时采集与分析、检测标准化、流程化。 10.案件化管理：可实现从线索建档任务构建勘查实施 数据案件化的勘查业务全过程管控。 11.流程化操作：从现场勘验、实验检测到文书生成的全流程管理，全程采用视频图文的智能化实验指引系统，让实验过程专业又简单。12.智能化管理：为勘查业务过程提供数据分类应用、过程文书自动生成、业务装备与涉案样品智能管理等智能化办案办公支撑。v技术优势v性能优势v性能特点v产品配置

产品简介FD-F -Pro痕量物质取证装备采用新型分光检测、拉曼光谱检测和免疫层析技术，集成气体监测、辐射监测、指纹采集、身份证、RFID电子标签识别技术等，多种检测技术互补，并具备移动勘验，现场物证保存、试剂管控、身份证指纹取证技术等。痕量物质取证装备适用于现场快速筛查确证以及检测分析工作，应用于食药环侦现场勘查等多场景使用需求。痕量物质取证装备能够实现现场采样、即刻分析、全程留痕、证据固化，有效提升公安机关食药环侦办案效能。技术优势性能特点1) 功能全面：采用最先进的识别技术，完美融合拉曼光谱检测、新型分光检测、胶体金检测、气体监测、辐射监测、指纹采集、身份证、RFID电子标签识别技术等多功能痕量物质即时检测装备。2) 检测范围：覆盖食品、保健品、水质、空气、土壤、生物等超过100多项检测指标。 3) 操作简单：配备教学视频、文字资料；流程化检测，简单易用；一体式高度集成，可以手提携带至现场，实现现场采样、即刻分析。 4) 自动预警：现场危险气体及环境潜在的放射性环境进行快速筛查检测，提供自动预警功能。5) 检测全流程管理：业务管理系统与检测设备自动关联，数据实时采集与分析、检测标准化、流程化。 6) 案件化管理：可实现从线索建档任务构建勘查实施 数据案件化的勘查业务全过程管控。 7) 流程化操作：从现场勘验、实验检测到文书生成的全流程管理，全程采用视频图文的智能化实验指引系统，让实验过程专业又简单。8) 智能化管理：为勘查业务过程提供数据分类应用、过程文书自动生成、业务装备与涉案样品智能管理等智能化办案办公支撑。性能优势

一,热扩散膨胀纤芯光纤定制加工一,热扩散膨胀纤芯光纤定制加工NIR-TEC-30-9-SA TEC（Thermally-diffused Expanded Core Fiber）光纤技术热膨胀光纤末端的模场直径。这可用于商业SI-SMF。模场直径在光纤末端增加一倍或三倍，改变折射率分布，减小数值孔径。轴向和间隙位移公差越大，耦合损耗越小。包层直径的较小变化可以插入金属箍并安装连接器(如右图)。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 热扩散膨胀纤芯光纤定制加工,热扩散膨胀纤芯光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 高控制精度● 低插入损耗产品应用● 硅光子集成技术● 光波导耦合● 光学设备制造● 测试工具二,NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工二,NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工NIR-SPF-S-SM-2 SPF系列边抛光纤/D型光纤(Side Polished Fiber)依赖我司全光纤加工技术，筱晓光子目前能够提供D形侧边抛磨光纤的加工定制服务.5年独te的边抛工艺技术，致使我们能够为客户精确地提供大批量的定制服务。客户只需要提供给我么他们需要抛磨的光纤类型，抛磨长度，抛磨深度。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工,NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 空气中低插入损耗● 支持多种适应光纤定制：● 不同的边抛深度● 裸露纤芯长度产品应用● 侧抛光光纤通过平行表面创建可定义长度和深度的衬底，● 以引导对渐逝场的访问，具有几乎零损耗。● 通过叠加结构的结构和折射率来指导波导特性。● 通过动态修改的结构尺寸，折射率或吸收，实现随时间变化的操纵的传播。● 光纤元件与光纤传感应用。技术参数工作波长nm430-2000nm空气中插入损耗dB＜0.1dB1.5折射率处衰减值dB45 (Typ. 60)边抛长度mm17光纤类型SMF-28E连接头类型FC/APC OR FC/PC备注： 1.所有的测试结果并不包含接头2 .更好的参数或者其他需求我们可以接受定制具有不同抛光深度的覆盖折射率的衰减响应 - 理论线和数据点。产品结构三,微纳光纤定制加工三,微纳光纤定制加工微纳光纤是一种直径接近或小于传输光波长的波导，由物理拉伸方法制得，具有表面光滑、直径均匀性好、机械性能高、强光场约束、强倏逝场、表面场增强效应及反常波导色散等特性，在光通信、激光、传感检测、非线性光学、量子光学等领域具有重要的应用前景。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 微纳光纤定制加工,微纳光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 高控制精度● 低插入损耗产品应用● 硅光子集成技术● 光波导耦合● 光学设备制造● 测试工具技术参数规格参数单位数值工作波长nm430-2000nm锥形光纤腰椎直径nm400锥形光纤腰椎宽度mm2锥形区域长度mm35 (Typ. 40)附加损耗dB≤0.1dB包层直径um125光纤类型SMF-28E/PM1550连接头类型FC/APC OR FC/PC备注：1.所有的测试结果并不包含接头 2 .更好的参数或者其他需求我们可以接受定制四,光纤端面带通滤波镀膜服务四,光纤端面带通滤波镀膜服务筱晓光子最新研发在光纤头上提供多种涂层，包括全/部分反射膜、长通、短通、带通，以及抗反射设计。应该理解的是，干扰涂层的性能取决于入射角（AOI），纤维呈现AOI到涂层尖端的分布。此外，我们的涂层尖端其硬度足以连接到其他光纤，从而使过滤器浸入玻璃过滤器配置中。所选光纤的数值孔径（NA）以及光纤在应用中的连接方式将影响滤波器性能，因此，我们要求客户填写以下清单，以帮助我们实现相关的镀膜定制服务。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 光纤端面带通滤波镀膜服务,光纤端面带通滤波镀膜服务产品特点● 可以设计和制造● 快速成型的大量库存● 大批量生产● 波长可选产品应用● 激光耦合● 光纤激光器● 光纤拉曼探针● 基于纤维的流式细胞术● 激光眼科手术● 光纤干涉仪技术参数镀膜曲线虽然多模光纤中的角分布必须考虑涂层处的AOI分布，但单模光纤和多模光纤都可以涂覆。涂层可以设计为在与另一根光纤或空气耦合时工作。我们可以提供广泛的滤波器设计，如抗反射、带通、短通、长通和部分反射器。镀膜短可以是接头、裸纤、锥形或透镜光纤都可以。滤波膜特征1● (circle one) LP SP BP Reflector (full or partial)● 起始波长 ___±___● 截止波长 ___±___● %T (peak) ________● 衰减波长范围 _________● Attenuation OD ___________● %R (peak) ______ ±_______● %R 波长范围 _________________光纤特征2● 数值孔径 (NA) ______● 纤芯直径 ______________● 包层直径 ______________● 光纤长度________________● 光纤材料(玻璃、塑料、硫系化合物) 工作波长下的单模或多模（圆形）● 模式填充程度（如果知道）______● 套管最大工作温度 ______● 其他 (保偏光纤,微结构光纤 etc)光纤端面特征3● 第一端连接器（FC、SC、LC、SMA、None）● 第二端连接器（FC、SC、LC、SMA、None）● 如果没有连接器（切割、透镜、裸光纤）● 哪一端需要涂层____________Fiber Configuration4在空气中工作的涂层尖端涂层尖端连接到未涂层尖端需要镀膜的数量_______________光纤供应商________________举例说明：BP-0760-037Specifications:CWL: 760 ±7 nmHW: 37 ±7 nmTmin: 60 %Blocking: 1200 nm Measured values:CWL = 759.88 nm...OKHW = 38.5 nm...OKCuton 5 % = 732.43 nmCutoff 5 % = 788.55 nm Spectrogon:HP1 = 740.63 nmHP2 = 779.12 nmTpeak = 93.14 %...OKTavg = 90.46 %Slope 1 = 1.55 %Slope 2 = 1.7 %注意事项：1. 陡峭的光谱边缘和严格的阻塞规范导致设计具有高物理厚度。我们发现光纤的尖端可以支撑高达6微米的材料。厚涂层可能会分层和/或导致芯-包层泄漏。建议客户使用建议过滤器的厚度。2. 高NA的多模光纤导致高AOI。高AOI会导致任何干扰滤波器蓝移。观测到的光谱性能将是每个角度性能的加权平均值。这些光谱位移可以建模和测量在AOI实验室。3. 筱晓在监测沉积过程中纤维尖端的反射率。这就需要监控光纤的未涂层端必须用连接器（最hao是FC/PC）端接。如果连接端不适用于给定的应用，我们将在客户光纤附近放置一根额外的光纤，用于监控。4. 如果一个单模尖端被涂覆并连接到另一个单模尖端，会出现接近零的蓝移。光纤的数量一次沉积允许的长度取决于光纤配置（连接、切割、捆绑等）。五,MFD模场直径匹配光纤定制加工五,MFD模场直径匹配光纤定制加工NIR-MFD-04-9-SA MFD模场直径匹配光纤(Mode Field Diameter Fiber)依赖我司全光纤加工技术，筱晓光子目前能够提供MFD模场直径匹配光纤加工定制服务.耦合不同模场直径的光纤必然导致模场直径不匹配造成损耗。然而，我们的热扩散技术可以将耦合造成的损失降到最低。这可用于商用SIS-MF。熔接端重新涂上保护套或覆盖保护套。该技术可应用于某一类型的保偏光纤，单模光纤，以及多模光纤。我们可以提供各种类型的模场直径匹配光纤定制加工，以满足您的需求：短的，长的，有接头的，也有特殊的光纤以及连接头的，请随时与我们销售联系。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 MFD模场直径匹配光纤定制加工,MFD模场直径匹配光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 高控制精度● 低插入损耗产品应用● 硅光子集成技术● 光波导耦合● 光学设备制造● 测试工具技术参数规格参数单位数值工作波长nm430-2000nm附加损耗dB＜0.2dB消光比dB20 (Typ. 22)边抛长度mm17光纤类型SMF-28E/PM1550连接头类型FC/APC OR FC/PC备注：1.所有的测试结果并不包含接头 2 .更好的参数或者其他需求我们可以接受定制产品结构六,干涉型单模微纳光纤传感器六,干涉型单模微纳光纤传感器微纳光纤传感器具有体积小巧、结构灵活、强瞬逝场等特点，基于周围液体折射率的测量， 能够实现对微弱生化成分变化的检测。已报道的微纳光纤折射率传感器包括光栅型、谐振型等。我们通过结构设计与优化，实现了几种干涉型微纳光纤折射率传感器，具有折射率灵敏度高、温度灵敏度低，制作成本低等优点，干涉型微纳光纤传感器方面的研究进展，包括高双折射微纳光纤环形传感器、级联长周期光栅传感器及基于单锥结构的微纳光纤干涉型传感器。通过对干涉仪几何结构的设计与优化，实现了 104 nm/RIU 量级的折射率感测灵敏度，为研制成本低廉、高灵敏度的光学生物化学传感器提供了可选方案。图 1 ：基于高双折射微纳光纤环镜结构的传感器原理图及实物图。 图2：基于级联微纳光纤长周期光栅的干涉型传感器原理图及实物图。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 干涉型单模微纳光纤传感器,干涉型单模微纳光纤传感器产品特点● 很强的干涉特性● 亚波长结构● 单模多模可选产品应用● 微纳光纤● 微纳光纤传感器● 干涉型传感器技术参数规格参数单位数值工作波长nm1270-2000nm双锥形光纤腰椎直径nm800锥形光纤腰椎宽度mm2锥形区域长度mm15 (Typ. 20)附加损耗dB≤7dB包层直径um125光纤类型SMF-28E/PM1550连接头类型FC/APC OR FC/PC备注：1. 所有的测试结果并不包含接头 2. 更好的参数或者其他需求我们可以接受定制测试光谱400nm1um

仪器简介：ESPI（Eletronic Speckle Pattern Interferometry）电子散斑干涉技术是以激光散斑作为被测物场变化信息的载体，利用被测物体在受到激光照射后产生干涉散斑场的相关条纹来检测双光束波前后之间的相位变化。电子散斑干涉技术（ESPI）是一种非接触式全场实时测量技术，可完成位移、应变、表面缺陷和裂纹等多种测试，其具有通用性强、测量精度高、测量简便等优点。Dantec Q-300 ESPI是丹迪公司研发生产的一款用于试件高灵敏度的三维位移、变形和应变分析的光学仪器。技术参数：测量维度：一维、二维、三维测量区域：最大可达200mm×300mm测量精度：位移（0.03—0.1μm可调），应变（0.005%—100%）主要特点：高速、精度高、无接触、方便使用

仪器简介：ESPI（Eletronic Speckle Pattern Interferometry）电子散斑干涉技术是以激光散斑作为被测物场变化信息的载体，利用被测物体在受到激光照射后产生干涉散斑场的相关条纹来检测双光束波前后之间的相位变化。电子散斑干涉技术（ESPI）是一种非接触式全场实时测量技术，可完成位移、应变、表面缺陷和裂纹等多种测试，其具有通用性强、测量精度高、测量简便等优点。Dantec Q-300 TCT ESPI是丹迪公司研发生产的一款用于试件热膨胀效应的高灵敏度的三维位移、变形和应变分析的光学仪器。技术参数：测量维度：一维、二维、三维测量区域：0.7mm×1mm—40mm×50mm测量精度：位移（0.01—0.1μm可调），应变（0.005%—100%）加热装置：最高300℃，加热功率200W，加热速度30℃/min主要特点：精度高、无接触、方便使用

仪器简介：本实验装置主要面向大专院校教学使用。本实验是用激光光束直接照射到测试表面，再用CCD采其变形前后表面散斑颗粒干涉形成的条纹，以测定其离面位移的新型，先进的测试技术。本实验装置可以使学生了解其原理和测量的方法。 仪器特点：自己调节光路，可提高动手能力； 采用了最新处理光学信息的CCD测量技术 计算机处理图象，软件操作简便 可利用软件画出测试表面受力变形后的三维立体图。 成套性：CCD摄像头、氦氖激光器、图象采集卡、图象处理软件、精密调节杆、光学零件、被测样品。技术参数：本实验装置主要面向大专院校教学使用。本实验是用激光光束直接照射到测试表面，再用CCD采其变形前后表面散斑颗粒干涉形成的条纹，以测定其离面位移的新型，先进的测试技术。本实验装置可以使学生了解其原理和测量的方法。 仪器特点：自己调节光路，可提高动手能力； 采用了最新处理光学信息的CCD测量技术 计算机处理图象，软件操作简便 可利用软件画出测试表面受力变形后的三维立体图。 成套性：CCD摄像头、氦氖激光器、图象采集卡、图象处理软件、精密调节杆、光学零件、被测样品。主要特点：本实验装置主要面向大专院校教学使用。本实验是用激光光束直接照射到测试表面，再用CCD采其变形前后表面散斑颗粒干涉形成的条纹，以测定其离面位移的新型，先进的测试技术。本实验装置可以使学生了解其原理和测量的方法。 仪器特点：自己调节光路，可提高动手能力； 采用了最新处理光学信息的CCD测量技术 计算机处理图象，软件操作简便 可利用软件画出测试表面受力变形后的三维立体图。 成套性：CCD摄像头、氦氖激光器、图象采集卡、图象处理软件、精密调节杆、光学零件、被测样品。

普林斯顿仪器（PI）领先的成像产品，包括：CCD相机，高速增强型ICCD，电子增益型EMCCD，高速增益emICCD，X射线相机，铟镓砷相机。我们致力于为您提供独特创新的方案，解决你棘手挑战性的问题。我们坚持技术创新来为科研工作者提供高性能的成像技术，包括SOPHIA，ProEM，PI-MAX4，NIRvana等突破性的产品。 eXcelon & EMCCD 去干涉与电子增益技术专利设计，突破性的CCD与EMCCD技术普林斯度仪器研发专利，突破性的eXcelon技术可以极大提高背照式CCD，EMCCD的宽谱响应敏感度。 除此之外，还能减少近红外波段的干涉现象，极大程度上抑制普遍困扰背照式芯片的干涉条纹 (750 to 1100 nm)。• 宽谱响应能力提升• 减少干涉现象，超强的条纹抑制能力• eXcelon CCD 技术： 可用于 PIXIS 和 PyLoN 系列• eXcelon3 EMCCD 技术：可用于 ProEM 系列 产品综述新一代的eXcelon技术!eXcelon3 是专为增强EMCCD性能而开发的技术。虽然传统的背照式EMCCD具备单光子探测的能力，但是在紫外波段的量子效率太低，近红外波段又收到干涉条纹的影响。现在eXcelon3技术可以一并解决这两个问题，使得下一代的EMCCD成为UV-NIR宽谱应用的优秀相机。 eXcelon3芯片最高可达95%（650nm）的量子效率，在特定的紫外和近红外波段可以提升1.1倍至2.5倍量子效率。除此之外，还可以将干涉条纹的峰值减弱至10%以下。 这类新的芯片还可以添加普林斯顿仪器的紫外增强镀膜 （Unichrome UV coating）来提升低于350nm波段的响应能力。 eXcelon3技术适用于普林斯顿仪器的ProEM系列，深度制冷的EMCCD。从512X512, 1024X1024, 到 1600X200，1600X400 不同的芯片格式。全新的eXcelon3技术应用于许多不同的应用领域：从生命科学到物理实验，例如 波什-爱因斯坦凝聚态，天文观察，活细胞成像，扫描共聚焦显微镜，单分子光谱等等。 产品应用Astronomical ImagingAstronomical imaging can be broadly divided into two categories: (1) steady-state imaging, in which long exposures are required to capture ultra-low-light-level objects, and (2) time-resolved photometry, in which integration times range from milliseconds to a few seconds. Bose-Einstein CondensateBose-Einstein condensate (BEC) can be regarded as matter made from matter waves. It is formed when a gas composed of a certain kind of particles, referred to as “bosonic” particles, is cooled very close to absolute zero.

700 – 1650nm 传统镀膜带通干涉滤光片 备有UV、可见和IR中心波长可供选择备有10 – 80nm带宽适合用于生物医学应用和仪器集成备有193-399nm、400-699nm，以及700-1650nm的CWL选项可供选择通用规格涂层:Traditional Coated 表面质量:80-50入射角 (°):0构造 :Mounted in Black Anodized Ring传统镀膜带通干涉滤光片用于选择性地透射范围狭窄的波长，同时阻断所有其他的波长，是各种生物医学和定量化学应用的理想选择。带通干涉滤光片广泛应用于各种仪器，其中包括临床化学、环境实验、色彩学、元件和激光谱线分离、火焰光度法、荧光和免疫测定。此外，还可使用带通干涉滤光片从弧形灯或气体放电灯散谱线中选择离散光谱线，以及从Ar、Kr、Nd:YAG及其他激光中隔离特定光谱线。它们经常与激光二极管模块和LED结合使用。传统镀膜滤光片传统镀膜滤光片由三个部分制造而成，其中之一决定其中心波长（CWL）、带宽（FWHM），以及透射率曲线的形状，其他两个步骤则控制滤光片的阻断范围。传统镀膜带通干涉滤光片经由在玻璃基片上反复一层层地真空沉淀部分反射的薄介电化合物层制造而成。由破坏性干扰引起的波长折射只限于中心波长的15%内，因此，将需要添加额外的玻璃或金属截止以降低带外透射。金属截止，如银层，能反射和吸收滤光片通带外的辐射，并取消从X射线到长波红外（LWIR）的较高级别通带。金属截止的阻断能力由能够吸收UV或长波长辐射的特制染料和颜色透射玻璃的增广。薄片沉淀完成后，这三个部分将会经过刻划、层压、切割和安装。Edmund 传统镀膜带通干涉滤光片#3198

Zygo激光干涉仪红外干涉仪适用于高精度红外成像应用的测量方法光学成像的应用广泛，种类繁多。在系统的设计波长下进行测试对开发、最终对准和鉴定至关重要。用于航空航天和国防的夜视、红外和热成像系统、光刻子系统、遥感望远镜和外来材料鉴定对波长有不同的要求，而它们都受益于在红外干涉仪系统在设计波长下的测试。ZYGO长期以来被公认为是世界上干涉测试仪器的先行者，已经设计和制造了许多特殊装备的干涉仪系统，包括NIR、SWIR、MWIR和LWIR波长的系统。ZYGO还设计和制造了一系列用于这些波长的参考光学器件（透射球面镜和透射平面镜）。主要特点工作波长范围广：NIR：1.053μm&1.064μmSWIR：1.55μmMWIR：3.39μmLWIR10.6μm基于工作波长的QFAS十字快速对准视图简化了红外测试系统和组件的设置。ZYGO独有的QPSI™ 采集技术，可在振动较常见的环境中实现可靠的测量，NIR、SWIR和MWIR型号均配有这种技术。可选的DynaPhase™ 瞬时数据采集技术，对振动不敏感，可在最恶劣的环境中进行测量。

产品名称：microworks X射线干涉仪Talint EDU产品型号：Talint EDU产品介绍Talint EDU是X射线Talbot Lau干涉仪的一种巧妙简化形式，包括所有必要的硬件，以正确设置和微调干涉仪，并应用相位步进程序，以获得三种成像模式：吸收、相位对比度和暗场对比度。硬件的设计使得，在按照我们的说明组装（预装）套件后，莫尔条纹将很容易在您的探测器上看到。莫尔条纹图案的进一步微调可以通过使用G1和G2支架中的微米螺钉使光栅绕光轴进行角旋转，以直接的方式进行。性能特点l 由基板定义，基板是M6的试验板，间距为25mml 光栅是使用X射线LIGA技术制造的，该技术确保了高精度和高的高宽比（纵横比）l 通过定位销固定；对称设置l 两个光栅都可以通过调节测微螺钉绕光轴旋转l 包含控制器技术参数产地：德国长度：60厘米宽度：15厘米高度：20厘米光栅开放区域G0：15毫米G1：70毫米G2：70毫米干涉仪的微调：仅调整G1和G2绕光轴的旋转角度样品放置：简单的旋转台，可在光轴内外摆动样品相位步进：闭环压电级。30nm分辨率边缘能见度：通常15%G0和G2的占空比：0.55G0和G2的基板：400µ m石墨G1占空比：0.5G1基板：200µ m硅

法布里珀罗干涉仪 FPI 法布里珀罗干涉仪（Fabry-Perot Interferometer，FPI 100）是一款共聚焦扫描 FPI，它自带光电探测器单元，设计用于测量和控制连续波激光器的模场分布。其主要特点有： 激光模式分析简单方便可选八种反射镜用于波长范围 300 到 3000 纳米自由光谱范围 1GHz 或 4GHz标准反射镜反射率 99.8%，对应 finesse 大于 400可选配光纤耦合器套件 – 方便使用 FC/APC 光纤接头进行耦合光电二极管更换套件 – 可见光/近红外/红外，通过内置聚焦透镜自动对准用户规定 finesse 值扫描选项 – 集成光电二极管放大器的独立扫描发生器 miniScan 杭州谱镭光电技术有限公司(HangzhouSPL Photonics Co.,Ltd)是一家专业的光电类科研仪器代理商，致力于服务国内科研院所、高等院校实验室、企业研发部门等。我们代理的产品涉及光电子、激光、光通讯、物理、化学、材料、环保、食品、农业和生物等领域，可广泛应用于教学、科研及产品开发。 我们主要代理的产品有：微型光纤光谱仪、中红外光谱仪、积分球及系统、光谱仪附件、飞秒/皮秒光纤激光器、KHz皮秒固体激光器、超窄线宽光纤激光器、超连续宽带激光器、He-Ne激光器、激光器附件及激光测量仪器、光学元器件、精密机械位移调整架、光纤、光学仪器、光源和太赫兹元器件、高性能大口径瞬态（脉冲）激光波前畸变检测干涉仪（用于流场、波前等分析）、高性能光滑表面缺陷分析仪、大口径近红外平行光管、Semrock公司的高品质生物用滤波片以及Meos公司的光学教学仪器等。 拉曼激光器，量子级联激光器，微型光谱仪，光机械，Oceanoptics，Thorlabs 。。。热线电话： / 传真：网址： /邮箱：

仪器简介： ML10 Gold 高性能激光干涉仪是机床、三坐标测量机及其它定位装置精度校准 用的高性能仪器。由于采用了独特的专利设计及最新的光电子技术，使ML10 Gold 激光干涉仪比市场上其它型号的激光干涉仪具有更高的性能和更先进的任选功能。 ML10 Gold 激光干涉仪提供有进行机器位置、几何精度测量的全套光学器件。 ML10 Gold 激光测量系统所有功能都设计与Laser 10 软件配合使用。除了测 量和分析诊断功能外，此软件包的标准配置还包括动态测量、旋转轴测量、双轴测 量和电子水平仪及千分表程序接口模块。 该激光干涉仪系统由激光头ML10 Gold、环境监测补偿器EC10，计算机接口卡 PC10* 或PCM20* 及高精度的光学器件组成。全部器件放在一个配小车的提箱内， 一人便可携带全部系统赴异地进行机器精度检定，大大改善了激光干涉仪的便携 性。 该激光干涉仪系统通过接口与IBM 兼容的PC 机（包括笔记本计算机）连接， 在灵活、直观的软件控制下进行自动测量，既节省了测量时间，又避免了人为误 差，并能按国际上通行的标准进行数据分析处理，如ISO230-2、JIS-B6330、 VDI3441、VDI2617、ASME B89等并适用中国国家标准GB17421-2000等，以便于按 不同标准进行机床精度的评定和比较。 技术参数： 1.线性测量分辨率: 0.001&mu m 2.线性测量范围： 40m（或任选80m） 3.线性测量精度: ± 0.7ppm 4.最高测量速度： 60m/min 5.长期稳频精度： ± 0.05ppm 主要特点： ML10 Gold是全球最畅销的用于长度计量的激光干涉仪,其最大的优点是所有测量功能均采用激光干涉原理,性能稳定,使用可靠,功能扩展性强,价格适中.

红外干涉仪 完美融合创新设计及尖端技术，M-Wave 339干涉仪是艺术级LUPI(不等光程激光干涉仪)，操作于3.39um/10.6um波长(或其他指定波长)，是用于测试中波红外成像组件/系统和光材料均匀性的理想仪器。 规格参数精确度 (未标定) 精确度 (已标定) 重复性基础设备孔径 扩束器孔径相机分辨率变焦镜头 采集模式 激光类型 波长*输出功率≥束偏振 0.01 λ RMS 波前误差 @ 3.39μm 0.004 λ RMS 波前误差 @ 3.39μm 0.001λ RMS 波前误差 @ 3.39μm 25.4mm 直径101.6mm 直径640 x 512 像素1X to 6X相移HeNe3.39 μm、10.6um2 mW线性 包装尺寸系统光轴高度激光安全等级 重量 分析软件 744mm x 407mm x 275mm115mmCDRH IIIb激光产品3B类60 lbs (主机) ESDI Intelliwave LE-2 or Apre Reveal控制装置手动参考光倾斜电动激光功率衰减器电动6x连续变焦电动聚焦WFOV调整模式 / NFOV测量模式单一出厂设置参考臂反射器 (98%)配件/可选扩束镜 (75mm, 100mm, 150mm, 200mm)90度伸缩肘管电动控制项目的遥控器5轴镜片/窗口夹具高度调节器自动聚焦测量设备

1. 产品概述用于SENTECH Instruments等离子系统的SENTECH SLI激光干涉仪端点监测器与聚焦的相干激光束一起工作。激光束穿过等离子系统的顶部视口，并被样品反射。反射光照射到检测器上并测量强度。2. 主要功能与优势用于蚀刻和沉积工艺的自动激光终点检测使用SENTECH SLI激光干涉仪进行原位测量特别适用于监测透明层的终点检测、透明层界面的终点检测以及蚀刻不透明薄膜和在界面上停留的终点检测。多层模式顺序端点配方多终点配方包括 EPD 的多个条件，这些条件按顺序执行，从而可以在多层蚀刻过程中根据单个薄膜特性更改等离子体工艺参数。与SENTECH操作软件SIA集成的终点检测SENTECH SLI激光干涉仪可以与SENTECH操作软件SIA集成，用于特定的终点检测配方，通过使用简单的行业标准命令行直接参数化终点监测。3. 灵活性和模块化SENTECH SLI 激光干涉仪原位光学计量终点监测仪可与整个系列的 SENTECH 等离子蚀刻和沉积处理系统一起使用，它与穿过等离子系统顶部视口的聚焦相干激光束一起工作，然后被样品反射以准确测量强度。单独的照明 （LED） 和 CCD 摄像头用于观察样品和调整激光光斑。整个终点监视器由自动 x y 载物台移动，允许使用 SENTECH SIA 操作软件系统轻松进行点调整。使用 SENTECH SLI 激光干涉仪进行自动原位测量非常适合在蚀刻或生长透明层或层状结构时监测层厚度。

干涉仪ZMI™ 系列–位移测量干涉仪ZYGO的标准干涉仪配置支持多种类型的测量方案。大多数干涉仪可以支持直通或直角测量方向，并且可以在真空中工作。线性干涉仪该装置会测量回射器目标，用于跟踪主要在一个线性维度上移动或围绕一个固定点旋转的物体。ZYGO提供标准和紧凑尺寸的线性干涉仪，以满足不同的空间限制要求。例如：十字刻线台、龙门系统、转向镜平面镜干涉仪该装置会测量平面镜目标，用于跟踪在多个线性维度上移动且旋转次数有限的物体。ZYGO的平面镜干涉仪具有高稳定性，可减少热误差。例如：晶圆台、堆叠工作台系统波长补偿器该装置会测量折射率的变化，用于补偿其他测量轴。ZYGO的紧凑型波长补偿器提供了高精度的折射率变化反馈，可在环境条件下实现最佳的位移测量性能。配件通过将光束从激光器传输到干涉仪，并最终传输到测量电子装置，完善测量系统。ZYGO提供各种标准的转折镜、分光镜、光纤耦合器和光纤电缆，方便您灵活配置测量系统。定制干涉仪设计ZYGO专业生产用于OEM应用的定制多轴干涉仪。定制设计允许在空间有限的应用中进行合并光束传输。它还减少了对准系统所需的时间，可在生产过程中实现更快的集成。

双频激光干涉仪是在单频激光干涉仪的基础上发展而来的一种外差式干涉仪。传统单频激光干涉仪采用单频技术，容易受到外界环境干扰，微小的空气湍流都会引起直流电平变化从而影响测量结果，这是单频干涉仪的一个根本弱点。在测试环境恶劣或测量距离较长时，这一缺点十分突出，而双频激光干涉测量仪正好克服了这一缺点。双频干涉仪使用双频激光，其干涉信号是一个频率约为1.5-8 M H z的交流信号，当可动棱镜移动时，双频干涉仪的干涉信号只是使原有的交流信号频率增加或减少了△f，结果依然是一个交流信号。这个交流信号频率的改变取决于可动棱镜位置的变化，不受直流光平和电平变化的影响，因此抗干扰能力强，适合在各种环境条件下开展检测作业。 双频激光干涉测量仪采用外差技术，对环境干扰不敏感，先天具有抗干扰性好，工作稳定的特点，适合在车间生产环境中使用。镭测科技推出的LH3000双频激光干涉仪，基于清华大学精密测试技术及仪器国家重点实验室多年研发的核心技术，拥有自主知识产权，技术指标达到或优于国外产品同等水平。LH3000双频激光干涉仪通过与不同的光学组件结合，可实现对线性、角度、直线度、垂直度、平行度、平面度等几何量的检测，是高精度线性位移测量、数控机床校准、三坐标机校准、光学平台校准的高效率量测工具。 系统组成： LH3000双频激光头及附件 LC-2000环境补偿单元 Leice Measure测量软件、Leice Analysis 分析软件 线性位移测量镜组（选配：角度、直线度、垂直度、平面度测量镜组等） 光学调整附件 三脚架及其他测量附件产品优势： 采用双频激光，测量精度高 紧凑设计，适合外出服务携带 抗干扰能力强，大型机床长距离检测时也能保证稳定精准 自动环境补偿，不同温度、湿度、压力环境中也能精确检测 符合测校国家标准的测量分析软件 自动生成测量数据报表和误差校正补偿文件。 典型频差7±0.5MHz，测速高达2m/s。（欲了解更多单频与双频干涉仪的性能特点和差异，请阅览本网站解决方案栏目中的：双频激光干涉仪）

扫描法布里－珀罗干涉仪 特性分析连续光激光器光谱自由光谱范围1.5和10GHz精细常数高于150控制器可选Thorlabs的扫描法布里-珀罗(FP)干涉仪 经常用于检查连续激光器的光谱特性的精细结构。这些干涉仪的精细常数高于150，自由光谱范围(FSRs) 为1.5或10 GHz。共焦FP腔起到非常窄的带通滤光片的作用。通过用压电换能器调节FP腔的长度，可以调谐腔的透射波长，其中压电换能器由SA201控制器或具有相同功能的发生器驱动。透射光的强度用光电二极管测量，信号由SA201中的跨阻抗放大器（或等价的放大器）进行放大，然后通过示波器或数据采集卡进行显示或记录。准直FP干涉仪腔体的共焦设计使其对入射光的对准相对不太敏感。因此，通过将干涉仪安装在标准的可调镜座上（详细信息请参阅对准指南标签），FP干涉仪的光轴与入射光束的对准具有足够的精度。1) 控制器（BNC）至压电元件（粘贴上）电缆，FP干涉仪的不可移部分2) 光电二极管（SMA）至控制器（BNC）电缆，包含于FP干涉仪中3) 放大光电二极管输出（BNC）至示波器电缆，不包含4) 控制器触发输出（BNC）至示波器电缆，不包含5) 可选连接线，允许用户监测用于驱动压电换能器的信号SA201控制器产生重复扫描腔长所需的锯齿波或三角波电压，扫描长度为&lambda /4（或更多）以扫过干涉仪的一个自由频谱区（FSR）。SA201控制器也具有跨阻抗放大器，可用来放大FP干涉仪中光电二极管探测器的输出。强度信息用来测量共焦FP腔的透射光的强度。控制器也为示波器提供了触发信号，触发信号可以方便地在扫描开始或中途简便触发示波器。通过分开一个FSR来测量两个相同光谱特征的间隔时间，可以对示波器的时间轴进行精确校准（详细信息见法布里&mdash 珀罗教程标签中的图4及图5）。理论反射镜反射率及反射镜精细度表格文件包含了绘制上图所用的数据。扫描法布里－珀罗干涉仪：1.5GHz自由频谱区Zoom Item #SA200Free-Spectral Range (FSR)1.5 GHzFinesse200 (250 typ)Resolution7.5 MHzMax. Beam Diameter*600 µ mCavity Length50 mmMirror SubstrateUV Fused Silica***FP腔体的入射孔径比最大光束直径大。但如果光束直径超过此规格，仪器的分辨率将会降低。**SA200-18B的反射镜基底为红外级熔融石英（Infrasil)新型Ｂ系列具有扩展的工作波长范围共焦法布里－珀罗设计超稳定无热化因钢腔体扫描电压（5伏/FSR＠633纳米）Ø 2英寸安装法兰推荐安装座： KS2 或KC2扫描法布里－珀罗干涉仪：10GHz自由频谱区Zoom Item #SA210Free-Spectral Range (FSR)10 GHzFinesse150 (180 typ)Resolution67 MHzMax. Beam Diameter150 µ mCavity Length7.5 mmMirror SubstrateUV Fused Silica***FP腔体的入射孔径比最大光束直径大。但如果光束直径超过此规格，仪器的分辨率将会降低。**SA210-18B的反射镜基底为红外级熔融石英（Infrasil）。扫描法布里－珀罗干涉仪控制箱Zoom Photo Amplifier SpecificationsGain Steps0, 10, 20 dBTransimpedance Gain (Hi-Z)10, 100, or 1000 kV/ATransimpedance Gain (50 O)5, 50, or 500 kV/AOutput Voltage (Hi-Z)0 - 10 V (Min Range)Output Voltage (50 O)0 - 5 V (Min Range)Bandwidth250 kHzNoise (RMS)0.1 mV @ 10 kV/A0.2 mV @ 100 KV/A1.5 mV @ 1 MV/ATTL触发输出上升沿触发开始扫描下降沿触发中间点扫描扫描电压可调节直流偏置（扫描中点处的中央信号）扫描时间可调节（0.01－10秒）三角或锯齿形扫描电压互阻式增益放大器光电二极管输出可选择输入：交流100,115或230伏SA201专门设计通过产生高稳定性，低噪声的电压斜坡信号来控制Thorlabs公司的法布里－珀罗干涉仪。该斜坡信号用来扫描干涉仪腔体的两块反射镜的空间间隔。控制器有100,115或230V可选择的交流输入，提供了斜坡电压及扫描时间的调整，使用户可以选择扫描范围及速度，并提供偏压控制使示波器上的光谱向右或向左移动。Ramp SpecificationsWaveformSawtooth or TriangleOutput Voltage Range1 - 45 V (offset + amplitude)Offset Adj. Range0 - 15 VDCAmplitude Adj. Range1 - 30 VRisetime Adj. Range1X Sweep Exp. 0.01 - 0.1 s100X Sweep Exp. 1 - 10 sSweep Expansion1X, 2X, 5X, 10X, 20X, 50X, 100XSweep Scale Error± 0.5%Output Noise1 mVRMS (~6.6 mVPP)TriggerRamp Start or Midpoint输出触发器允许用户在斜坡波形的起始阶段或中间对示波器进行外触发。从中间点触发示波器的功能使得对线型进行放大更加方便；只需将感兴趣的光谱成分移至显示屏的中央并且增加范围的时基。不需要应用偏置将信号重新移至中间；增加的范围对感兴趣的点进行了扩充。控制器的另一个方便的特性是增加斜坡信号长度的校准过的放大能力，可放大1倍，2倍，5倍，10倍，20倍，50倍与100倍，这样就可以实现极宽范围的扫描时间。输出的TTL电平触发允许用户在斜坡信号的起始点或中间点对示波器进行外触发。SA201也含有用来监测腔体透射率的高精度光电探测器放大电路。放大器提供了可调节的互阻抗增益：10千，100千与1兆伏／安，用来驱动高阻抗负载，例如示波器。应用控制器的输出同步信号，可以用示波器来显示输入激光的光谱。探测器电路包括了消隐电路，用来消除光电二极管对锯齿波下降沿的响应。

对涉火、涉爆案（事）件现场常见的磁性、非磁性的微小金属物证进行快速筛选，综合筛选的检出率达90%以上。极大地缓解了涉火、、涉爆现场大量金属物证及干扰物对人工筛选工作的难度和强度，对涉火、涉爆现场关键物证快速发现提取具有重要的实战价值。产品优势【一键操作】：操作简单，有色金属和非金属物质自动分离【小尺寸设计】：涡电流分选机成功小型化，便于现场使用【自动化设备】：分选过程高效全自动，无需人员监控【高效提取】：分选准确率超过95%，大大缩短工作时间【分选范围广】：分选粒径范围大，1-6nm的铜（铝）微珠和分段物均可分选

光纤法布里-珀罗干涉仪光纤法布里-珀罗干涉仪系列产品基于具有平滑、均匀间隔传输峰的固定干涉仪设计。FFP 的设计简洁优雅的关键在于其无透镜全光纤结构。没有准直光学器件或透镜，消除了其他法布里-珀罗元件技术的缺陷，包括未对准、环境敏感性和外来模式。FFP 波器遵循 Airy 函数。工程师可以将其设计到 OEM 系统中，因为他们知道它将提供非常接近理论数学模型的结果。FFP-I由一个无透镜的平面FabryPerot干涉仪和一个位于两个高反射多层反射镜之间的单模光纤波导组成。FFP-I是直接用光纤制造的，所以不需要对齐或模式匹配。自由光谱范围(FSR)可以完全按照客户的规格制造，TEC包可用于热稳定性和中心带通频率的小调整。FFP-TF 和 FFP-TF2 是多功能可调谐滤波器，由全光纤 Fabry-Perot 超腔组成，采用坚固、快速调谐的 Tecordia 合格封装。Luna Innovations 的光纤法布里-珀罗 (FFP) 可调谐滤波器在坚固的封装中实现了高精细度并保持低损耗。FFP-TF2 设计提供改进的标准具校准，以实现稳定的长期、高可靠性和符合 Telcordia 标准的性能。几种标准的低成本配置可随时用于快速交付。定制的高性能多频段配置也可用于特殊应用。 光纤法布里-珀罗干涉仪的主要特征：频谱切片源国际电联过滤器校准波长参考激光稳定波分复用仿真全光纤平台高分辨率和低损耗设计超腔精巧抗振动和抗冲击光纤法布里-珀罗干涉仪FFP-I参数： 光纤法布里-珀罗干涉仪FFP-TF2参数： picoWave是Micron Optics的多波长基准，可实现picometer精度的实时波长校准。结合均匀的频率间距FFP-I，光纤布拉格的波长标记光栅，内置热稳定性TEC, picoWave是理想的校准波长参考。FFP-I和FBG可以配置在串联或并联。 光纤法布里-珀罗干涉仪的应用：光学性能监控光谱分析可调谐光噪声滤波超DWDM的可调信道下降可调的来源光学传感关于昊量光电：昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致力于引进国外创新性的光电技术与可靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知名光电产品制造商建立了紧密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及前沿的细分市场比如为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前沿科研与工业领域提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务，助力中国智造与中国创造! 为客户提供适合的产品和提供完善的服务是我们始终秉承的理念！您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询，我们将竭诚为您服务。

Data-Pixel-干涉仪-DAISI-V3产品型号：DAISI-V3产品介绍：用于测量单光纤连接器端面几何形状的干涉仪，配备 “无外部移动部件”机械设计。该装置结合了 x400 显微镜和干涉仪，以便在很短的时间内控制抛光后的连接器。借助 Blink 软件，操作员可以以简单的方式生成定制控制报告。DAISI-V3 完全兼容行业测量标准。性能特点：PC和APC连接器、套圈和裸光纤的测量真相移干涉仪非接触测量智能自动对焦，仅在需要时对焦用于自动Apex校准的受控参考镜坚固的电机驱动自动法兰锁定机构轻松快速地从PC切换到APC，无需更换光纤支架符合干涉仪测量的行业标准直观的BLINK软件，具有数据库连接兼容台式电脑、笔记本电脑、平板电脑参数：产地：法国视野（mm）：0.7 x 0.5扫描模式：红光和蓝光半径（mm）：3至平面顶点偏移（µ m）：0至500光纤高度（nm）：±160光纤切割角度（度）：0到12测量速度（秒）：1放大倍数：X 400输出：USB 3.0和USB 2.0电源：外部12V尺寸高x宽x长（mm）：133 x 171 x 244重量（kg）：8.6

白光干涉仪是一种精密测量仪器，能对物体表面的粗糙度/光洁度/洁净度、轮廓、微观三维形貌、PV值、台阶、高度、平面度、盲孔等进行高精度测量。白光干涉仪的测量精度很高，精度可以达到亚纳米级别。以大量程、高精度的高速压电陶瓷单元驱动的白光干涉仪精度高达0.03nm，扫描速度高达400μm/s。它应用的行业很广泛，可应用于新能源、半导体、精密加工、精密光学、航空航天、3C产品、材料、液晶等领域。

白光干涉仪是一种精密测量仪器，能对物体表面的粗糙度/光洁度/洁净度、轮廓、微观三维形貌、PV值、台阶、高度、平面度、盲孔等进行高精度测量。白光干涉仪的测量精度很高，精度可以达到亚纳米级别。以大量程、高精度的高速压电陶瓷单元驱动的白光干涉仪，精度高达0.03nm，扫描速度高达400μm/s。它应用的行业很广泛，可应用于新能源、半导体、精密加工、精密光学、航空航天、3C产品、材料、液晶等领域。

白光干涉仪是一种精密测量仪器，能对物体表面的粗糙度/光洁度/洁净度、轮廓、微观三维形貌、PV值、台阶、高度、平面度、盲孔等进行高精度测量。白光干涉仪的测量精度很高，精度可以达到亚纳米级别。以大量程、高精度的高速压电陶瓷单元驱动的白光干涉仪精度高达0.03nm，扫描速度高达400μm/s。它应用的行业很广泛，可应用于新能源、半导体、精密加工、精密光学、航空航天、3C产品、材料、液晶等领域。

白光干涉仪是一种精密测量仪器，能对物体表面的粗糙度/光洁度/洁净度、轮廓、微观三维形貌、PV值、台阶、高度、平面度、盲孔等进行高精度测量。白光干涉仪的测量精度很高，精度可以达到亚纳米级别。以大量程、高精度的高速压电陶瓷单元驱动的白光干涉仪精度高达0.03nm，扫描速度高达400μm/s。它应用的行业很广泛，可应用于新能源、半导体、精密加工、精密光学、航空航天、3C产品、材料、液晶等领域。

OCT共路干涉仪特性低插入损耗平坦的波长响应带有源抗混叠滤波器的集成平衡信号探测用于660纳米对准光束输入紧凑型设计；带电源INT-COM-1300干涉仪可用于扫频源系统内部，用于共路OCT应用。它集成了光纤耦合网络，与外部共路干涉仪探头一起使用。这种耦合器为实现平坦波长响应，以及非常低的偏振相关耦合损耗进行了优化。集成的高增益平衡探测器包括了有源抗混叠滤波器，将数字条纹信号中的混频产生降至最小，从而提高成像质量。Item #INT-COM-1300Optical Wavelength Range1250 - 1350 nmFiber TypeCorning SMF28eFiber PortFC/APCInsertion Loss: 1300 nm IN to Probe* Insertion Loss: 1300n m IN to VOA IN* Insertion Loss: 660 nm IN to Probe Port* ElectricalDetector Material/TypeInGaAsDetector Wavelength Range800 - 1700 nmMaximum Responsivity (Typical)1.0 A/WOutput Bandwidth (3 dB)DC - 15 MHzTransimpedance Gain51 kV/ADC-Offset ± 5 mVSaturation Power**70 uW @ 1300 nmMaximum Input Power (Damage Threshold)**20 mWOutput Impedance50 Ω Optical ConnectorsFC/APCElectric Outport PortSMAPower Supply± 12 V, 200 mAGeneralSize 120 mm x 80 mm x 21 mm(4.42" x 3.15" x 0.827")*) 在中心波长测量，包含接头损耗**) 耦合进探头或者VOA输出端口 下面的图1给出了INT-COM-1300内部光学网络和一个基本的OCT应用装置的原理图。图1：INT-COM-1300原理图 INT-COM-1300的内部光纤网络是为扫频傅里叶域OCT系统设计的，该系统中干涉仪的参考臂和样品臂信号都沿着共路配置传播。这两个臂的反射光合束产生干涉条纹，被集成的平衡探测器中的一个通道探测到。探测器的第二个通道可能被用来补偿干涉信号中的直流成分，并用一个外部可变光学衰减器（VOA）来控制到达探测器第二个通道的光通量。95/5光纤耦合器用于把输入光分为两部分，其中95%的光束被传输到一个环行器内，然后通过WDM耦合器。WDM耦合器把入射的1300纳米光和瞄准激光合在一起，方便对准。光从WDM耦合器的探测端口出射，用于样品观察。从样品反射回来的光再次经过WDM耦合器，然后通过环行器，被平衡探测器的一个通道探测到。来自入射光分光的5%光通过一个斜率补偿耦合器传输到VOA IN端口。这个额外的耦合器用于补偿波长相关耦合比。这两个耦合器的设计使VOA IN信号几乎不依赖OCT激光器的波长，能实现宽带直流偏置补偿。这在下面的波长响应曲线中给出。图2是从1300纳米输入到探测端口测量的INT-COM-1300耦合率，而图3是从输入端口到VAO端口输入端测量的耦合率。图2：从输入耦合到探测端口的波长响应图3：从输入耦合进VAO输入端口的波长响应

直接激光干涉图形（DLIP）加工器一．直接激光干涉图形加工技术 在传统加工中，很少有技术能够大面积产生微纳米结构。相比于激光干涉光刻技术（LIL）的复杂步骤以及约束条件，DLIP激光加工 器可以利用脉冲激光简便地、高速地在大范围区域形成周期性几何形状从而直接烧蚀材料表面。 二．直接激光干涉图形加工器技术应用方向 在航空航天方面，为了防止飞行过程中空气动力表面结冰，目前一般会使用大量的化学产品进行加热，仅德国一年在这一领域的投入就高达10亿欧元。 同时，利用DLIP加工器对机翼材料进行的干涉图形加工，也已被证实可以大量减少冰的形成和诱导冰的脱落，使热功率降低60%-80%。 这项技术目前已被运用于飞机除冰、生物医药、高新电子产品等不同工业领域，为疏水表面、微沟槽、网格结构等不同周期性表面结构的生产提供助力。 该项技术的应用前景包括但不限于 1.改善连接器件的电子传导能力、热传导能力 2.改善材料表面疏水结构，提高自清洁能力 3.改善医疗植入物与植入表面的粘附结合度 4.制造各类表面抗菌纹理 5.增加材料表面抗反射性能 6.各类涂料工程项目 三．直接激光干涉图形加工器产品概述 DLIP加工器可以根据使用的激光束数量和它们的几何排列，利用两个或多个激光束交叉处的干涉现象在材料表面产生不同的周期性几何形状。例如，双光束设置会产生线状干涉图案，而三光束则会产生点状干涉图案。同时，DLIP加工器可以利用配套软件自动控制两束激光之间的拦截角度，从而产生不同的空间周期。 本产品适用于脉冲宽度低至1ps的超快激光 加工，并且与众多厂商的超短脉冲激光器 进行了兼容性测试，具有非常高的兼容性。四．直接激光干涉图形加工器产品特点 1.不与材料直接接触，非接触式加工模式 2.对于材料表面以及几何形状有着高适用性 3.加工过程中具有高加工速度(理想情况可达 3 m² /min) 4.加工过程中精确的激光沉积能量控制 5.非化学反应加工模式，无需额外净室空间 6.一体式紧凑设计，便于安装五．直接激光干涉图形加工器基本参数 固定型加工器 扫描型加工器 更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学 、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站www.auniontech.com了解更多的产品信息，或直接来电咨询4006-888-532。

应用领域 工业计量检测，光学加工车间检测，各种工业生产及加工现场检测包括：通讯、航空航天、汽车制造和消费电子等。 动态环境下，测量各种光滑表面面形，包括光学平面玻璃、窗口玻璃、金属平面、陶瓷平面，凸凹球面等。帮助光学车间和其它工业加工现场，控制和提高各种元件的光滑表面精度和表面质量。 产品综述 通用组合水平式检测干涉仪（数字化动态分析系列）是一种使用动态分析方法的斐索型激光干涉仪。该干涉仪具备良好的抗振性能，可以在有空气扰动，轻微振动的环境下检测。这使得该干涉仪在传统相移技术无法进行测试的环境中，仍能提供精密可靠的计量检测，这种具有可模块化组合和低成本等特点的无损检检测干涉仪是工业加工现场检测需求的新方向。 性能参数◆材质均匀性◆超精密平面/球面面形测量◆光学系统装调和校准◆光学组件透射波前测量◆光学均匀性测量◆平行度测量◆角锥角度测量 ◎◎我们会倾听您的需求，支持特殊需求定制我们的客户群体：苏州计量院,上海计量院,福建计量院,上海光机所,石家庄13所,上海现代先进超精密制造中心有限公司UPEC,长春理工,上海理工等。

GEMINI-2D 干涉仪NIREOS的GEMINI-2D将您的瞬态吸收光谱仪转变为最先进的二维电子光谱仪。GEMINI-2D是一款结构紧凑、超稳定的干涉仪，可产生两束极其稳定、相位锁定、平行的飞秒激光脉冲。特点：吸收线形状的泵浦-探针（准直）几何构型。高光通量：1厘米透明孔径，不用任何光栅或输入/输出狭缝。支持各种超快放大器和光参量放大器（OPA 或 NOPA)作为输入，波长范围覆盖紫外到近红外。扫描范围和光谱分辨率自由选择，用户可以先进行快速测量，初步了解光谱特点，然后延长数据采集时间，提高信噪比和光谱分辨率。坚固耐用，工厂装配和校准后可轻松集成到任何现有的泵浦探测设备中。得益于独特的common-path几何结构设计专利，它对振动不敏感，工作非常稳定。它能够保证脉冲延迟的可控性和重复性，精度优于1阿秒。结构紧凑：尺寸仅为18 cm x 18 cm。应用：二维电子光谱（2DES）参数：版本SL光谱范围400 nm – 2300 nm (标准版)400 nm – 2300 nm (标准版)250nm – 3500nm (极宽版)250nm – 3500nm (极宽版)对称版最长时延@λ=600nm-400 fs - +400 fs-1050 fs - +1050 fs非对称版最长时延@λ=600nm-100 fs - +700 fs-100 fs - +2 ps延时稳定性≤1阿秒≤1阿秒工作模式步进扫描（用户可通过软件选择每次延迟的停留时间）步进扫描（用户可通过软件选择每次延迟的停留时间）尺寸长宽高：180mm x 180mm x 90mm长宽高：180mm x 180mm x 90mm重量2 kg2 kg二维电子光谱（2DES）是一种超快激光光谱技术，可以探测样品的电子、能量和空间分布 在选定的探测波长和固定的时间T2下，振荡瞬态信号是两个泵浦脉冲之间相对延迟T1的函数。Oscillating transient signal as a function of the relative delay T1 between the two pump pulses at a selected probe wavelengh and at a fixed population time T2.根据每个探针波长的T1函数进行傅里叶变换，就可以获得与探测波长和激发波长函数相关的二维谱图。A Forurier Transform ad a funcion of T1 for each probe wavelength allows one to retrieve the 2D maps ad a function of detection and exitation wavelengths.在三个不同布居时间T2(15 fs、45 fs和4000 fs)下，对Rhodospirillum Rubrum 样品的光收集（LH1）复合体测量得到的二维电子能谱测量的二维图。Bidimensional maps of 2D Electronic Spectroscopy measurements obtained on a Light Harvesting (LH1) complexo f a sample of Rhodospirillum Rubrum for three diferente populations time T2 (15 fs, 45 fs, 4000 fs).

仪器简介：双光束干涉仪是通过分束镜得到两束光程和强度都接近而且夹角易于调节的光束，在光束的重叠区将产生干涉条纹，用于物理/光学专业教学的演示仪器。技术参数：氦氖激光器：1.5mW 平台底板：500mm×350mm开设实验： 1、马赫-泽德干涉实验并观察干涉仪的稳定性，了解全息光栅的制作方法 2、萨格奈特干涉实验并观察干涉仪的灵敏度 3、迈克尔逊干涉实验，估计激光器的相干长度，观察非定域干涉条纹及条纹反衬度随光程差的变化主要特点：采用铝质底板，利用便携式实验箱，摆放方便，节省空间。学生可自己动手调节光路，使学生了解各种干涉仪的原理和应用。