纳米线材

武汉东隆科技为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Opus One 超导纳米线探测器系统Opus One™ 超导纳米线探测器系统配有定制的紧凑型桌面低温恒温器（预先安装的16/32通道以及低温恒温器中的所有电接线），光学实验室友好型水冷压缩机（低空气循环，低噪声，低热量输出），偏置和高速放大器电子元件以及易于使用的软件控制库。 专有的纳米线材料允许纳米线工作在 2K，降低低温系统的复杂性，并允许系统连续工作3年。Opus One 是基于超导纳米线技术的单光子探测器，在1550 nm的探测效率高达85 %，通过对谐振腔的调节 ， 可以将提供特殊设计、订购和组装。700~1300 nm指定波长的探测效率提高到90%。除此之外，该探测器还拥有极低的暗噪声和超快的时间分辨率， 计数率高达40Mcps。产品特点 工作温度在2.5k即可达到高探测效率支持定制规格支持定制宽波段响应3U 紧凑化设计低噪声水冷压缩机2um以上红外响应定制 产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数 * 可定制更高探测效率850nm 950nm 1310nm 1550nm SDE 90%90% 80%*80%*暗计数率 1Hz 1Hz10Hz100Hz时间抖动 80ps80ps 100ps100ps脉冲幅值 600mV600mV300mV300mV死时间 50ns50ns50ns50ns

武汉东隆科技有限公司为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Quantum Opus 超导纳米线探测器Quantum Opus提供了两个标准的纳米线产品，在950 nm（ 90％）或1550 nm（ 80％）范围内最大化系统检测效率。 我们还可以定制任何所需的客户波长，包括非常广泛的响应设备，保持超过100nm的带宽和中红外设备的效率超过50％。 这些设备也可以单独购买，并集成到制冷温度2.5K的第三方低温系统中。 产品特点 工作温度在2.5k可达到最高探测效率探测效率90%@1550nm计数率40MHz!!无PDE下降暗计数1Hz/10Hz/100Hz3U紧凑化设计单台支持2-32通道扩展产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数

QE85%超导纳米线单光子探测器所属类别： ? 探测器/光子计数器 ? 单光子计数器 产品简介QE85%超导纳米线单光子探测器 高量子效率85%,低暗计数10cps,高计数率20MHz 很新的超高效率超导纳米线单光子探测器，其在600nm-2300nm内达到高量子效率85%，暗计数10cps，同时zui高计数率20MHz，是目前市场上性能良好的超导单光子探测器，此型号超导纳米线单光子探测器可提供zui多8通道同时运行 超导单光子探测器， SSPD，SNSPD超导纳米线单光子探测器，单光子计数器， Superconducting Nanotechnology，红外单光子计数器，高灵敏度单光子计数器 技术指标：l 量子效率: ≥ 80 %l 时间抖动: ≤ 45 ps (20 ps on request)l 暗计数: ≤ 10 cps (0.01 cps on request)l 光谱范围: 0.6 ÷ 2.3 μml 无后脉冲l 光纤耦合l 连续模式 一般参数：l 探测通道数: 1-8l 光纤类型: SMF-28e l 原始输出电压: ≤ 150 mVl 输出信号类型: TTL, ECL, LVDSl 驱动接口: USB, LabVIEW 应用领域：l 光量子计算l 光子相关性测量l 量子密码和QKDl CMOS缺陷分析l α，β粒子探测l TCSPCl 单分子荧光光谱l 弹道成像l 单等离子体检测l 自由空间通信l LIDARl 时间分辨荧光测量l 单量子点荧光光谱l 片上量子光学l 单线态/三线态氧荧光探测l 皮秒集成电路分析l 单电子探测 相关产品 超低暗计数(0.01cps)超导单光子探测器 超高速（500MHz）超导单光子探测器 超快(120MHz)近红外单光子计数OEM模块 符合计数单光子计数系统

多通道超导纳米线单光子探测系统赋同量子生产的SNSPD系统由超导纳米线单光子探测器、低温恒温系统和电子学模块三个部分组成，该系统具有以下特点：●采用小冷量风冷GM制冷机，无需液氦；●7×24小时不间断运行； ●高可靠性，已通过各种应用场合长期证； ●专业高效的技术支持； ●机柜式或桌面式集成。 参数细节探测通道数目：1-32；光学接口：FC/PC；电子学接口：SMA；工作环境：温度4℃-38℃；湿度≤60%；系统漏率：＜1E-10Pam3/s；重量：约100 kg；电源：单相220-230 V，50 Hz；功耗：≤ 1.3 kW；

QE60%超导纳米线单光子 探测器量子效率60%,低暗计数10cps,高计数率70MHz，只要有制冷腔，就能轻松安装 俄罗斯Scontel 蕞新推出的超导纳米线单光子探测器，只要有制冷腔，就能轻松安装,并且价格低廉，但是功能毫不差劲。其在600nm-2300nm内达到量子效率60%，暗计数10cps，同时计数率高达70MHz，是目前市场上性能优良的超导纳米线单光子探测器的。此型号超导纳米线单光子探测器可提供蕞多16通道同时运行，针对不同应用提供匹配的产品，可多通道同时探测及低成本升级，且可以根据您的不同需求我们不仅有如下图中探测性能的设备，还有多模大面积探测器、超低噪声探测器、光子数分辨探测器供您选择。超导纳米线单光子探测器主要特点：&bull 超高性价比，有制冷腔的选择&bull 针对不同应用提供匹配的产品 &bull 可多通道同时探测及低成本升级 &bull 产品安装/培训/升级全程服务超导纳米线单光子探测器技术指标： 根据需求不同我们可提供以下探测性能的搭配也可根据您的参数要求进行定制：高效检测(HED) -高系统效率和时间分辨率、低噪声、中等带宽的蕞佳组合。 超高效检测(U-HED) -改进的HED版本，运行温度更低，因此在所有参数方面具有更好的综合性能。 宽带宽检测（Broadband）-虽系统效率略有下降。但优化的光学腔增加了带宽低噪声检测（Low noise）-应用可变滤波技术将设备的暗计数率降低到每秒10次,探测器的光谱响应窄得多。超导纳米线单光子探测器应用领域：&bull 量子计算 &bull 光子相关性测量&bull 量子密码和QKD&bull cmos 缺陷分析&bull α，β粒子探测&bull tcspc &bull 单分子荧光光谱&bull 弹道成像&bull 单等离子体检测&bull 自由空间通信&bull LIDAR&bull 时间分辨荧光测量&bull 单量子点荧光光谱&bull 量子光学 &bull 单线态/三线态氧荧光探测&bull 皮秒集成电路分析关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉，专为生长各种纳米线而设计，基片最大3″。在法兰的左侧装有一个小加热器，可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进入 CVD 炉进行纳米线的生长。其可滑动的样品架使操作更为简单。 产品型号　生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC380V 50Hz（63A空气开关），必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带?6mm双卡套接头）4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：需要主要特点 1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉。 2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层，可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。 3、带样品支架的右法兰是滑动的，方便样品的快速取放。 4、左侧的小加热器可对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热，不锈钢加热腔外径?30mm、长150mm，最高工作温度600℃。 5、左边法兰（在加热器与CVD炉之间）装有4个1/4"卡套连结的通气管，具有密封和气体通道的作用。 6、PID自整定数字控制器，可以设置30段升降温程序。 7、选配相关软件可用计算机进行控温。 8、已通过CE认证。技术参数 1、额定电压：单相AC 220V 50Hz/60Hz 2、额定功率：3KW（需20A的空气开关） 3、石英管：外管外径?110mm，内径?102mm，长381mm 4、加热区域：CVD炉400mm，加热器150mm， 5、工作温度：CVD炉最高1100℃（2h），连续工作200℃-1000℃，最大升降温速率10℃/min；加热器连续工作0-500℃，最大升降温速率10℃/min 6、控温精度：±1℃ 7、热电偶：K型 8、右法兰：一个3"石英样品支架，与石英挡板、法兰连成一体，设有KF25真空快接口，以及水冷接口（可选配水 冷机，避免O型圈融化） 9、左法兰：有2个独立1/4″口，可单独将任何气体通入炉内，一路1/4"口将预热气体通入CVD炉，一路1/4″口将不加 热的气体通入炉内，并通过炉内的T型结构与加热气体汇合产品规格　尺寸：1200mm×450mm×510mm；重量：100kg可选配件 1、冷水机 2、控温软件

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介TNI LF-2000是兼容SEM/FIB的自动化纳米操作系统，也是能够在SEM/FIB下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。产品特性 兼容主流电镜，不影响电镜功能 具有大行程、亚纳米分辨率运动定位性能 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数系统概况系统尺寸127x127x33mm3*机械手数量1-4操作手（宏动）驱动原理粘滑驱动运动范围XY轴：10mm Z轴：5mm速度3mm/s最小步长100nm操作手（微动）驱动原理无摩擦柔性铰链运动范围XYZ轴：20μm速度45μm/s开环运动分辨率0.5nm闭环运动分辨率1nm定位漂移率0.35nm/min软件功能**点击-移动鼠标在电脑屏幕上从A移动到B自适应放大倍数定位器移动速度根据SEM放大自动调整操作手位置保存/加载用户自定义的“保存/加载”操作手坐标3D虚拟显示实时三维显示操作手的位置和运动自动校准操作手闭环传感器自动校准运动轴的自动对准所有操作手运动轴自动对准SEM图像轴*系统尺寸可根据需要减小到50x50x17mm3**可根据选定SEM/FIB的型号而定应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。实例照片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，实例照片展示的是用球端AFM悬臂探针对硅纳米线簇进行纳米压痕，以及对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。实例照片展示的是纳米线FET传感器的构造。纳米电子器件电学测量LifeForce纳米操作机是市面上能够自动探测电子结构（范围从亚微米，亚100nm及亚20nm）。只需要通过计算机点击鼠标，将探针定位到目标位置。极低得定位漂移，保证数据采集得可靠性。 主要软件功能①　位置反馈：提供每个操作手XYZ精确得位置反馈，1纳米运动定位分辨率。②　保存/加载坐标：保存和加载多个操作手得坐标。③　自动校准：限度地提高定位性能，并将操作手运动轴对准扫描电子显微镜图像轴。④　3D虚拟显示：实时3D虚拟空间显示操作手（粉红色方块）和样品（绿色平面）得位置。⑤　点击-移动：通过在屏幕上鼠标点击控制操作手运动。⑥　多操作手联动：连接多个操作手得运动，具有纳米级精度。⑦　图片-视频录制：保存操作过程中的高清图片和视频。

FT-NMT04纳米力学测试系统是一种多功能的原位SEM/FIB纳米压痕仪，能够在微米和纳米尺度上准确量化材料的力学行为。 FT-NMT04原位纳米压痕仪针对金属、陶瓷、薄膜以及超材料和MEMS等微观结构的机械测试进行了优化。此外，通过使用各种附件，FT-NMT04的功能可以扩展到各个研究领域的各种要求。 典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。此外，在压缩测试期间进行连续刚度测量，可以在微梁断裂测试期间量化裂纹扩展和断裂韧性。由于 FT-NMT04 分别具有 500 pN 和 50 pm 的无可比拟的低本底噪声，因此可实现具有无可比拟的可重复性的浅纳米压痕，以及纳米压痕与 EBSD 成像的前所未有的相关性。

仪器简介：If smallest parts or samples have to be moved or positioned with nanometer precision in the millimetre range, nanopositioning systems with piezo inertial drive are used. Very compact actors with appropriate control units are available for rotational and linear movements. The compatibility to each other allows the assembly of multi-axes combinations for complex movements. All the nanopositioning system have a piezo inertialdrive. With a travel in the millimetre range and steos in the nano meter range or with large adjustment range and steps in the &mu rad range, they are suitable for manifold applications. The basic components of the gonimeter are made of high strength aluminium. Due to a black anodized coating, the surface is protected and reflexion-poor. For the mounting of the nanopositioners, the mounting plate NMP 50is recommend. It is available as a ccessory. In order to operate the nanopositioners,the manual control unit NHS06 has to be used. The complete system is pluggable and ready for connection.技术参数：仪器名称,型号/参数行程最小步长最大步长负载 (N)重复定位精度(双向)倾斜力矩(Mx,My,Mz)(Nm)速度 纳米旋转位移台 NDT 24-30无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.2 max.0.1max.100mrad/s 纳米旋转位移台 NDT 24-30-MSI无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.240&mu radmax.0.1max.300mrad/s 纳米角度位移台 NAGO P 24－8± 3.3 度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米角度位移台 NAGO T 24－8± 4度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－66mm100nm300nmmax.3 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－6－MSI6mm50nm700nmmax.3400 nmmax.0.1 纳米线性位移台 NLV 24-77mm200nm300nmmax.2 max.0.1max.0.3mm/s 纳米线性位移台 NLV 24-7-MSI7mm50nm700nmmax.2400nmmax.0.1max.0.7mm/s 纳米线性位移台 PT 30-54.8mm300nm800nmmax.30 max.0.5max.0.8mm/s 纳米线性位移台 PT 30-5-MSI4.8mm100nm2000nmmax.30400nmmax.0.5max.2mm/s 主要特点：&bull high power density on little space &bull 纳米量级或&mu rad量级可调 &bull 停止是无摆动或振荡 &bull 由高强度的铝制成，黑色阳极氧化 &bull with ceramic guide for high life time Option &bull version for use in cacuum

纳米空间分辨超快光谱和成像系统 “空间和时间的结合”— 纳米分辨和飞秒别的光谱超快光谱技术拥有诸多特色，例如高的时间分辨率，丰富的光与物质的非性相互作用，可以用光子相干地调控物质的量子态，其衍生和嫁接技术带来许多凝聚态物理实验技术的变革等等。然而，受制于激发波长的限制（可见-近红外），超快光谱在空间分辨上受到了一定的制约，在对一些微纳尺寸结构的材料研究中，诸如一维半导体纳米线，二维拓扑材料、纳米相变材料等，无法地进行有效的超快光谱分析。 德国Neaspec公司利用十数年在近场及纳米红外领域的技术积累，开发出了全新的纳米空间分辨超快光谱和成像系统，其pump激发光可兼容可见到近红外的多组激光器，probe探测光可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）波段，实现了在超高空间分辨（20 nm）和超高时间分辨（50 fs）上对被测物质的同时表征。技术原理：设备特点和参数：→ 超高空间分辨和时间分辨同时实现；→ 20-50 nm空间分辨率；→ 根据pump光源时间分辨可达50 fs；→ probe光谱可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）应用领域：→ 二维材料→ 半导体→ 纳米线/纳米颗粒→ 等离激元→ 高分子/生物材料→ 矿物质......应用案例：■ 纳米红外超快光谱分辨率为10nm的InAs纳米线红外成像，并结合时间分辨超快光谱分析载流子衰减层的形成过程参考：M. Eisele et al., Ultrafast multi-terahertz nano-spectroscopy with sub-cycle temporal resolution, Nature Phot. (2014) 8, 841.稳态开关灵敏性：容易发生相变的区域，光诱导散射响应较大参考：M. A. Huber et al., Ultrafast mid-infrared nanoscopy of strained vanadium dioxide nanobeams, Nano Lett. 2016, 16, 1421.参考：G. X. Ni et al., Ultrafast optical switching of infrared plasmon polaritons in high-mobility graphene, Nature Phot. (2016) 10, 244.参考：Mrejen et al., Ultrafast nonlocal collective dynamics of Kane plasmon-polaritons in a narrow- gap semiconductor, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 范德华材料 WSe2 中的超快研究参考：Mrejen et al., Transient exciton-polariton dynamics in WSe2 by ultrafast near-field imaging, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 黑磷中的近红外超快激发黑磷的high-contrast interband性质使其具有半导体性质，在光诱导重组过程中表面激发的电子空隙对（electron-hole pairs）～50fs并在5ps内消失参考：M. A. Huber et al.,Femtosecond photo-switching of interface polaritons in black phosphorus heterostructures, Nat. Nanotechnology. (2016), 5, 9618.■ 多层石墨烯中等离子效应衰减效应参考：M. Wagner et al., Ultrafast and Nanoscale Plasmonic Phenomena in Exfoliated Graphene Revealed by Infrared Pump?Probe Nanoscopy, Nano Lett. 2014, 14, 894.发表文章：neaspec中国用户发表文章超80篇，其中36篇影响因子10。部分文章列表：● M. B. Lundeberg et al., Science 2017 AOP.● F. J. Alfaro-Mozaz et al., Nat. Commun. 2017, 8, 15624.● P. Alonso-Gonzales et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 31.● M. A. Huber et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 207.● P. Li et al., Nano Lett. 2017, 17, 228.● T. Low et al., Nat. Mater. 2017, 16, 182.● D. Basov et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 187.● M. B. Lundberg et al., Nat. Mater. 2017, 16, 204.● D. Basov et al., Science 2016, 354, 1992.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2016, 16, 7842.● A. Y. Nikitin et al., Nat. Photonics 2016, 10, 239.● G. X. Ni et al., Nat. Photonics 2016, 10, 244.● A. Woessner et al., Nat. Commun. 2016, 7, 10783.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 8271.● G. X. Ni et al., Nat. Mater. 2015, 14, 1217.● E. Yoxall et al., Nat. Photonics 2015, 9, 674.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 4973.● M. D. Goldflam et al., Nano Lett. 2015, 15, 4859.● P. Li et al., Nat. Commun. 2015, 5, 7507.● S. Dai et al., Nat. Nanotechnol. 2015, 10, 682.● S. Dai et al., Nat. Commun. 2015, 6, 6963.● A. Woessner et al., Nat. Mater. 2014, 14, 421.● P. Alonso-González et al.,Science 2014, 344, 1369.● S. Dai et al., Science 2014, 343, 1125.● P. Li et al., Nano Lett. 2014, 14, 4400.● A. Y. Nikitin et al., Nano Lett. 2014, 14, 2896.● M. Wagner et al., Nano Lett. 2014, 14, 894.● M. Schnell et al., Nat. Commun. 2013, 5, 3499.● J. Chen et al., Nano Lett. 2013, 13, 6210.● Z. Fei et al., Nat. Nanotechnol. 2012, 8, 821.● J. Chen et al., Nature 2012, 487, 77.● Z. Fei et al., Nature 2012, 487, 82.

3D纳米结构高速直写机 — —纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案 NanoFrazor光刻技术，衍生于IBM Research研发的热扫描探针光刻技术——快速、地控制纳米针的移动及温度，利用热针实现对热敏抗刻蚀剂的快速刻写，从而为纳米制造提供了许多新颖的、特的可能性。NanoFrazor Explore以高的速度、精度和可靠性运行，在目前所有扫描探针光刻技术中属于速度快、应用广泛的一种。NanoFrazor Explore配备了先进的硬件和软件，以合适的方式控制可加热的NanoFrazor悬臂梁，以便进行书写和成像，实现基于闭环光刻技术的各种高精度图案化工艺。2019年，Explore增配了激光直写模块，有效加快了特征线宽在微米或亚微米水平的图形的加工速度，成为纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案。由此，在针对同一抗刻蚀层的图案化工艺中，实现了纳米刻写与微米刻写的无缝衔接。从而可以根据不同的图案特征线宽，采用不同精度的刻写技术，兼顾精度与速度。 主要特点：★ 利用加热针直接刻写图案，分辨率优于15 nm；★ 利用激光热挥发实现图案化，分辨率优于1 μm；★ 高速直写 10 mm/s★ 高速原位AFM轮廓成像；★ 样品尺寸100×100 mm2；★ 闭环光刻；★ 灰度曝光，分辨率及精度达到2 nm；★ 利用原位AFM实现的对准，从而实现无掩膜套刻及写场拼接；★ 的隔音及隔振性能；★ 无需洁净间，亦无特殊的实验室环境要求闭环光刻NanoFrazor光刻系统是基于热扫描探针光刻技术，其核心部件是一种可加热的、非常锐的针，利用此针可以直接进行复杂纳米结构的刻写并且同时探测刻写所得结构的形貌。加热的针通过热作用，直接挥发局部的抗刻蚀剂，从而实现对各类高分辨纳米结构的制备。此外，NanoFrazor的光刻技术能够与各类标准的图形转移方案（如lift-off、刻蚀）兼容，从而实现各类材料的图形化制备。“闭环光刻”技术确保图形化工艺的高度纳米光刻与微米光刻兼顾的图形化工艺方案自2019年开始，NanoFrazor Explore增配了激光直写模块，由此在保障纳米分辨率图案刻写精度的同时，大大提升了NanoFrazor Explore对微米分辨率图形的刻写速度。激光刻写基于激光的热作用，以亚微米精度，快速、直接地挥发抗刻蚀剂，从而实现大面积的图案化工艺（例如微纳结构的引线或焊点图形制备）。热探针直写对于纳米结构或纳米器件关键部分的高精度、高分辨率刻写。刻写所得结构的测量、观测、对准由于抗刻蚀剂直接挥发，无须湿法显影操作即可实现抗刻蚀剂的图案化。在图案化过程中，同一根探针能够原位、高速的对图案化抗刻蚀剂进行AFM成像和测试。微米尺度及纳米尺度的哈佛大学校徽，对PPA刻蚀剂的刻蚀深度为30 nm，图像由NanoFrazor Explore的探针进行AFM成像获得。(Courtesy of Harvard CNS)3D灰度纳米光刻★ 可在针扫描的每个位置对图案化工艺的深度进行设定（即每个像素点的灰度值）★ 闭环光刻技术能够实现很高的灰度刻写精度（经论证，对大于16个灰阶的结构进行图案化工艺，灰度刻写的误差小于1纳米）用于TEM的电子光学系统的三维相盘，由PPA中的微结构转移至SiN薄膜获得(Courtesy of EPFL and KIT)刻写在PPA中的多全息图的局部（图片由Explore的探针在刻写同时进行AFM成像获得）；小图展示的是转移至Si中的全息图局部的SEM图像（Courtesy of Sun Yat-Sen University）无掩膜套刻与拼接★ 通过原位AFM功能实现高精度的无掩膜套刻及拼接（经论证，精度优于10 nm）；★ 埋在抗刻蚀剂PPA下的图案结构（如纳米片、纳米线等）可用作“天然的”对准标记写场的自动关联拼接；由金的lift-off工艺获得的）反射全息图包含1×108个像素点，每个写场为边长50 μm的正方形，写场间的拼接由AFM相关技术实现利用无掩膜光刻在单根纳米线上制备金属电：（a）由Explore的AFM成像功能探测到的纳米线轮廓及位置信息（绿线标出）与拟制备的电结构布局图（粉色区域）；（b）lift-off工艺后获得的带有金属电的单根纳米线的SEM图像高分辨率★ 锐的针，为了高分辨率的实现（经论证，在PPA抗刻蚀剂中能够实现的半节距优于10纳米）★ 无须针对临近效应的修正由PPA抗刻蚀剂转移至硅基衬底的鳍型结构和沟槽结构(Courtesy of IBM Research and imec) 其他特性能★ 低损伤：制备过程中没有引入带电粒子束流，基于敏感材料的微纳器件能够获得更好器件特性★ 纳米尺度的材料转换：多种材料的直接热诱导修饰（相变、化学反应… … ）新型号：NanoFrazor Scholar — 小面积直写■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 高可达20nm, Z: 3nm) 高速直写 0.5 mm/s■ 无需显影，实时观察直写效果 形貌感知灵敏度0.1nm 样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 50 nm ■ 无临近效应 高分辨，高密度纳米结构 ■ 无电子/离子损伤 高性能二维材料器件■ 区域热加工和化学反应 多元化纳米结构改性■ 小样品台 30mm X 30mm应用案例三维光子分子（3D PHOTONIC MOLECULES）(Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)单电子器件Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018基于二维原子晶体的器件(Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)基于准一维纳米材料的纳米器件(Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)基于布朗马达的纳米器件，可用于纳米颗粒分类(Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018) 国内外客户已发表的文献● Wolf (JVST B 2015) Sub20nm Liftoff and Si Etch and InAs nanowire contacts● Garcia (Nat Nano 2014) Advanced scanning probe lithography● Rawlings (IEEE Nano 2014) Nanometer accurate markerless pattern overlay using thermal Scanning Probe Lithography● Holzner (SPIE EMLC 2013) Thermal Probe Nanolithography● Cheong (Nanoletters 2013) Thermal Probe Maskless Lithography for 27.5 nm Half-Pitch Si Technology● Fei Ding (PhysRevB 2013) Vertical microcavities with high Q and strong lateral mode confinement● Carrol (Langmuir 2013) Fabricating Nanoscale Chemical Gradients with ThermoChemical NanoLithography● Paul (Nanotechnology 2012) Field stitching in thermal probe lithography by means of surface roughness correlation● Kim (Advance Mat 2011) Direct Fabrication of Arbitrary-Shaped Ferroelectric Nanostructures on Plastic, Glass, and Silicon Substrates● Holzner (APL 2011) High density multi-level recording for archival data preservation● Holzner (Nanoletters 2011) Directed placement of gold nanorods using a removable template● Paul (Nanotechnology 2011) Rapid turnaround scanning probe nanolithography● Wang (Adv Funct Mat 2010) Thermochemical Nanolithography of Multifunctional Nanotemplates for Assembling Nano-Objects● Wei and King (Science 2010)Nanoscale Tunable Reduction of Graphene Oxide for Graphene Electronics● Pires (Science 2010) Nanoscale 3DPatterning of Molecular Resists by Scanning Probes● Knoll (Adv Materials 2010) Probe-Based 3-D Nanolithography Using SAD Polymers● Fenwick (Nat Nano 2009) Thermochemical nanopatterning of organic semiconductors● Lee (Nanoletters 2009) Maskless Nanoscale Writing of Nanoparticle-Polymer Composites and Nanoparticle Assemblies using Thermal Nanoprobes● Nelson (APL 2006) Direct deposition of continuous metal nanostructures by thermal dip-pe

PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机 方案简介：王中林院士在纳米科学与能源技术领域有着高深的造诣，其所提出的纳米发电机方向，为不少高校材料学院的研究方向之一。但是由于此类材料，多为高阻材料，其对测试的仪器仪表有了更高的要求。6514和6517B以其高达200TΩ的源内阻，以及pA至mA级别的高精度电流量程，成为了纳米发电机电压，电流测试的不二之选。 材料介绍：纳米发电机，是基于规则的氧化锌纳米线，在纳米范围内将机械能转换成电能，是较小的发电机。目前纳米发电机分为三类：压电纳米发电机；摩擦纳米发电机；热释电纳米发电机，一般应用于生物医学，无线通信，无线传感等领域。PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机主要技术参数1.采集软件功能:软件可快速采集电流、电压、电阻、电荷随时间变化曲线,V-T, I-T,R-T,Q-T曲线。软件可设置静电计的量程范围、对静电计进行零点校正、设置静电计NPLC采样速度。可连续可调设置采集卡的采集速度,最大可达50k/s，可设置记录时间,在测试的过程中实时绘制数据曲线，数据自动保存、数据可用Excel、记事本、Origin打开并分析。包含采集卡1个、转接头适配器1个及USB通信电缆1条，RS232通信电缆1条、低噪声3同轴测试电缆1条2.静电计技术参数： 2.1输入阻抗：200TΩ 2.2电压量程：10µ V-200V 2.3电流量程：50pA-20mA2.4电阻量程：10mΩ-200GΩ 2.5电荷量程：20nC-20µ C 3.直线电机技术参数3.1有效行程：360mm 3.2最佳行程：280mm 3.3峰值推力：163N 3.4持续推力：29N3.5持续推力（风冷）：54N 3.6力常数：20.4N/A3.7最大电流@72VDC：8A 3.8最大电流@48VDC：6.3A 3.9最大速度@72VDC：3.2m/s 3.10最大速度@48VDC：2.2m/s3.11配置驱动软件1套3.12光学面包板1套 3.13控电柜1个3.14剪式升降台2个3.15 TENG 直角架与转接板1板 4.测力计技术参数4.1拉压力测量:501bF/800ozF/25kgF/25000gF/250N4.2精度：±0.1%FS4.3分辨率：0.00lbF/0.2ozF/0.005kgF/5gF/0.05N 4.4测量单位：lbF ozF kgF gF N4.5输出：RS232 digiatic USB analogue4.6可存储测量值：1000 个

百及纳米ParcanNano 探针电子束光刻机P-SPL21 简介： 公司以全球首家专利的针尖技术为核心竞争力，技术源自于德国伊尔默瑙工业大学，致力于主动式针尖技术在微纳米结构制备和表征方面的研发，及其相关设备的产业化。 公司研制一套基于扫描针尖低能电子场发射的原理、采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在半导体器件材料表面制造尺寸小于5纳米线宽结构的高性能微纳加工系统。可在大气环境下，高经济效益、快速直写5纳米以下结构和制备纳米级器件。该系统的闭环回路可实现使用同一扫描探针对纳米结构的成像、定位、检测和操纵。 技术特点：。场发射低能电子束。大幅降低电子束背底散射。几乎消除电子束临近效应。光刻5纳米以下单线宽结构。光刻结构间距小于2纳米。接近原子级分辨的套刻精度。线写速度高达 300 μm/s。大气环境下可实现正负光刻。正光刻流程无需显影步骤。无需调制电子束聚光。大范围分步重复工艺。Mix & Match 混合光刻模式。针尖曝光与结构成像实时进行。真空原位观测光刻图案 功能指标

在材料生产检测领域中，纳米材料表征共聚焦显微镜用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量。它基于光学共轭共焦原理，结合精密纵向扫描，以在样品表面进行快速点扫描并逐层获取不同高度处清晰焦点并重建出3D真彩图像。产品功能(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；(2)设备具备自动拼接功能，能够快速实现大区域的拼接缝合测量；(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件，预先设置好配置参数再进行测量，软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能，即可快速实现批量测量功能；(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；VT6000纳米材料表征共聚焦显微镜在陶瓷、金属、半导体、芯片等材料科学及生产检测领域中具有广泛的应用。应用领域 对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：性能特色1、高精度、高重复性1）以转盘共聚焦光学系统为基础，结合高稳定性结构设计和3D重建算法，共同组成测量系统，保证仪器的高测量精度；2）隔震设计能够消减底面振动噪声，仪器在嘈杂的环境中稳定可靠，具有良好的测量重复性。2、一体化操作的测量分析软件1）测量与分析同界面操作，无须切换，测量数据自动统计，实现了快速批量测量的功能；2）可视化窗口，便于用户实时观察扫描过程；3）结合自定义分析模板的自动化测量功能，可自动完成多区域的测量与分析过程；4）几何分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析五大功能模块齐全；5）一键分析、多文件分析，自由组合分析项保存为分析模板，批量样品一键分析，并提供数据分析与统计图表功能； 6）可测依据ISO/ASME/EUR/GBT等标准的多达300余种2D、3D参数。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前工作。4、双重防撞保护措施除软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，保护仪器，降低人为操作风险。VT6000纳米材料表征共聚焦显微镜显微成像主要采用3D捕获的成像技术，使其具有较高的三维图像分辨率。横向分辨率更高，所展示的图像形态细节更清晰更微细，能够提供色彩斑斓的真彩图像便于观察。应用场景1、镭射槽测量晶圆上激光镭射槽的深度：半导体后道制造中，在将晶圆分割成一片片的小芯片前，需要对晶圆进行横纵方向的切割，为确保减少切割引发的崩边损失，会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽，在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。2、光伏在太阳能电池制作工程中，栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力，直接影响着太阳能电池的性能。VT6000可以对栅线进行快速检测。此外，太阳能电池制作过程中，制绒作为关键核心工艺，金字塔结构的质量影像减反射焰光效果，是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力，能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。3、其他部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

SL5纳米材料分散机是DISPERMAT? SL系列的一款精密分散机，它拥有可重复细磨技术的研磨机，使用0.1毫米的磨珠在孔型和循环过程中细磨，其高效率高精度的特征，适用于实验室和试验工厂。　　分散原理：　　SL5纳米材料分散机是封闭式的，在横向磨基的入口和出口管中具有高输出和极低的死体积的水平珠磨机。在分散过程中，该产品是通过横向研磨室，并连续分散。珠磨机可用于传递以及重复循环过程，在分散后，集成的空气压力系统将剩余的磨基压在研磨室，使分散的材料完全回收。　　砂磨机用途广泛：　　1、拥有单次和重复传递程序。　　2、具有循环程序的集成泵搅拌系统。　　3、流动与非流动的产品分散。　　4、高机械功率能够处理难以分散的产品。　　创新可选操控系统：　　C and C-Ex ? technology　　? 显示转速, 扭距, 时间, 材料温度, 输入功率, 以及其他更多参数。　　? 记存所有使用参数　　? 可定义扭距, 转速, 材料温度和输入功率的截止值　　? 数据接口作为文件记录和分析　　? 可新建,编辑和储存十套预设参数　　? AE-EX防爆　　M ? technology　　图形显示：　　速度，扭矩，产品温度，定时器和速度在最大速度的百分比。　　M and M-Ex ? technology　　? 无段调速　　? 数字转速显示　　? 符合ATEX防爆规格　　? 电动升降　　技术参数：　　型号：SL5　　产地：德国　　功率:1.1KW　　转速：0-6000rpm　　研磨室容积：0.05L　　材料体积：0,05 – 0,75L

PolyPico 高精度生物材料纳米材料点样仪：Picospotter 和 Picoprecise（不同型号精度不同），提供现成的以及定制化的解决方案来满足您对高精度、微量体积的点样，沉积，打印的需求，适用的生物材料如：Proteins, Anti-bodies, DNA, Living cells, Reagents, High throughput screening/drug discovery。这套用户友好型的系统创新性的采用了一次性喷头的技术，使其与同类产品相比具有更多的优势性能。Poly-Pico技术设计能够帮您在科研工作或者工业生产中降低生产成本，提高生产效率。主要特征：非接触式、高精量液滴的任意点样一次性喷头，避免样本的交叉感染无需清洗装置高精度点样：对任何体积样本CV优于2%仪器可自动进行校正和检查样本通过喷头进行保存或者点样喷头以及样本可在-20°C进行保存喷头无明显的死体积可配置多个喷头来进行样本的点样可兼容多个尺寸喷头（50, 70和100微米）的卡夹墨盒喷头墨盒可达100ml容量皮升级别可控液滴体积喷点速度可达1000滴/秒很小的死体积可避免样本的浪费应用方向：高密度微阵列数字PCR可实现纳升级/皮升级微量样品的点样生物芯片的制作全自动的试剂供给库高通量的药物筛选对微量液滴进行包被试剂/蛋白/生物材料的点样活细胞的点样单个干细胞打印实现高精度液滴的点样应用案例（更多其他生物材料和纳米材料应用请直接联系我们）：活细胞点样：PolyPico可用于活细胞点样，如仓鼠卵巢细胞（CHO）样本蛋白/抗体微阵列点样DNA扩增纳米材料点样PolyPico还可实现低粘度UV固化胶黏剂精确打印

NMS-1静电纺纳米纤维纱线制备装置是一种采用共轭静电纺丝机械加捻法成纱的装置。通过高压静电纺丝生成的纳米纤维集合在金属漏斗的边缘， 漏斗的旋转对纳米纤维束进行加捻，再将加捻后的纱线进行卷绕收集。该装置转为静电纺丝设计，可独立使用，也可置入现有的静电纺丝设备内使用。对以静电纺纳米纤维纱线为基底的纳米功能性纤维进行二次加工，或者对线材外表面进行纳米纤维铺覆处理，提高其性能以获得满足实际应用的产品。 NMS-1静电纺纳米纤维纱线制备装置的技术特点： 专为静电纺丝设计，耐腐蚀，电场干扰小； 模块化、一体式设计； 可便捷的与静电纺丝其他装置搭配使用； 主体支架 PP聚丙烯材料，绝缘防静电； 车铣加工处理，外表面光洁； 预留了固定孔位； 共轭喷头支架 用于调节喷头与金属漏斗的角度和距离； 专门设计的针头架； 支架可手动三维调节； 收卷器 按设定的速度往复和旋转； 预留足够功率，可长期长时间使用； 连接接地线，保证马达的安全； 线材组件 用于给线材表面连续铺设加捻的纳米纤维； 线材卷筒可快装快拆； 设有线材引导环，使得线材均匀导入金属漏斗的中心孔内； 控制器 可置入我公司各型纺丝设备类使用*； 亦可选购我们提供的专门的控制器；NMS-1静电纺纳米纤维纱线制备装置的技术参数：加捻漏斗 直径（mm） 60*转速范围(rpm) 0-650收卷器 转速范围(rpm) 0.01-10往复行程（mm） Max.50往复速度（mm/s） 0.01-10线材组件 幅宽（mm） 100直径(mm) Max.100其他数据 重量（Kg） 4功率（W） Max.45电源 24VDC工作环境 5-45℃* 请联系我们的工程师，获取接线和程序设置方法* 如需其他尺寸，请联系我们的售前服务工程师

JKFD-6514FENG摩擦纳米发电机测试系统纳米发电机,是基于规则的氧化锌纳米线的纳米发电机,是在纳米范围内将机械能转化成电能,而摩擦发电纳米发电机基于摩擦起电和静电感应的耦合将机械能转换成电能,两者均是世界上Z小的发电机。研究纳米发电机的电学输出特性,开路电压、短路电流、转移电荷、功率密度、对提是高发电机输出功率,转换效率及产品设计的可靠性有着密不可分的关系。JKFD-6514FENG摩擦纳米发电机测试系统配置包含：Keithley静电计6514一台，NI采集卡一块，测试系统及测试线缆。系统要求：1.静电计可以测电阻、电压，电流，电荷这四个参数，且精度高。电流100aA - 20mA；电压10μV - 200V；电阻10mΩ - 200GΩ；电荷10fC - 20μC；带模拟输出，DIGITAL I/O口。2.计算机通讯：支持GPIB和RS232接口。3.提供NI的多通道数据采集卡及数据通讯线。4.可设置调零、量程、采集间隔、运行时间。可随时终止测量。5.数据可显示瞬时测量曲线（IT，VT，RT，CT）和阶段时间测量曲线，数据自动保存为csv格式。6.支持GPIB和RS232控制。

纳米级材料振动分散机JQ-NM10A/B/C 纳米级材料分散机采用三维高频振动技术，产生每分钟上千次的冲击、剪切、研磨，效率比球磨机提高几十倍。通过冲击力和摩擦力结合的方法来减小颗粒尺寸。电磁动力马达产生振动，通过研磨球的冲击振动进行分散纳米材料，纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住，以便达到颗粒完全被分离，此外，由研磨球翻滚运动产生的摩擦也使样品的尺寸进一步减小。 行业应用：适用于实验干样品或悬浮液中固体样品的精细研磨粉碎适用于乳状液或糊状物的均匀化处理适用于纳米材料分散，效果优于普通机械法和超声波法适用于无机矿物材料的表面改性、光饰作用，金属材料的机械合金化技术参数型号JQ-NM10A/B/C订货号JQ001631-0113定时器0—99小时分散珠材质氧化锆/碳化钨/不锈钢振动频率1500次/分主机尺寸Φ600 * 800主机重量140kg研磨罐数量（个）（A）1/（B）3/(C)6显示及控制液晶触摸屏（1~100段程序梯度设定）研磨罐容量50—1000ml　研磨罐材质PTFE、碳化钨、不锈钢、尼龙、玛瑙、氧化锆等显示方式液晶触摸屏(功率曲线、转速、振动平衡提示）电压220V 备注纳米分散时纳米材料的添加溶剂、助剂、分散剂、树脂配比需要用户自行掌握

DYYB系列超声波纳米材料分散仪或超声波乳化分散器：产品概述：纳米技术的核心内容是如何解决纳米粒子的团聚问题，由于纳米粒子本身极易团聚，要得到单个分散的纳米粒子非常困难，如何使纳米粒子均匀地分散到基体中去是纳米技术的关键技术。我公司系列超声波产品是利用超声波的超声空化作用来分散团聚的颗粒。它是将所需处理的颗粒悬浮液（液态）放入超强声场中，用适当的超声振幅和作用时间加以处理。由于粉体颗粒团聚的固有特征，对于一些在介质中分散得不好的粉体，可加入适量的分散剂使之保持分散稳定状态。该产品最近尤其用于分散纳米材料，有良好效果，正受到各方关注. 超声波乳化以其“空化效应”实现油掺水乳化、水掺油乳化、分散相与连续相的混合匀化，是替代螺旋桨、胶体磨等传统乳化工艺的现代声化学手段。超声乳化的一个重要特点就是可以不用或少用乳化剂使产生极稳定的乳液。超声乳化的明显优点已促使它在食品、造纸、油漆、化工、医药、纺织、燃油热电、燃油中央空调、石油、冶金等许多工业处理中已越来越多地得到应用，其中燃油掺水燃烧在国内就是重新兴起的一个重要项目。技术参数： 型号工作频率(KHz)超声波功率(W)随机变幅杆单次处理量(ml)可选配变幅杆温度控制(选配)DYYB-500F22-305-500Φ60.2-400Φ2、Φ3，Φ8、 Φ10-60-200℃DYYB-1000F22±110-1000Φ100.2-600Φ6、Φ12、Φ15DYYB-1500F20±120-1500Φ2050-1500Φ15、Φ25DYYB-3000F20±1500-3000Φ35或Φ40500-5000

纳米材料拉力试验机的主要技术参数1，荷重：5000N2，松下伺服马达及驱动器2，机械系统：单立柱结构、高精密滚珠丝杠；4，导向杆：表面经高温及硬铬电镀处理，HRC60以上；5，防尘装置：抑叠防尘罩，保护丝杆；延长使用寿命；6，显示方式：液晶显示，人机界面/电脑双控，操作方便；7，控制软件：UTM材料试验机专用软件， 中英文显示互换,力量和长度单位可任意切换，向导式菜单操作,测试项目完整,打印报告格式美观,与国际接轨 ，已涵盖GB、ASTM、DIN、JIS、BS… 等测 试标准，亦可自编达到所需； 8，各种控制模式任选: 定位移、定速度、定荷重等；9，夹具: 根据客户要求具体配备纳米材料拉力试验机专用夹具一套；10，机台外壳: 优质55#钢板,静电喷涂,美观大方，长久不褪色；11，多重保护装置: 上下限行程, 紧急刹车开关, 漏电保护装置,断裂停机保护,软体超载保护等；12，整台设备外观大气，造型美观，操作有序，精密度高；13，自动清零：主控计算机接到试验开始指令，测量系统便自动清零；14，自动返车：自动识别试样断裂后，活动横梁自动高速返回初始位置；15，自动存盘：试验数据和测试条件自动存盘，杜绝因突然断电或忘记存盘引起的数据丢失；16，自动变速：试验过程中横梁速度可按预先设定的程序自动变化，也可手动变化；17，结果再现：试验结果可任意存取，可对数据曲线再分析；18，曲线遍历：试验完成后,可用鼠标找出试验曲线逐点的力值和变形数据，求取各种材料的试验参数方便实用；19，结果对比：多个试样特性曲线可用不同颜色迭加、再现、局部放大,实现一组试样的分析比较；20，曲线选择：可根据需要选择应力-应变、力-时间、强度-时间等曲线进行显示和打印；21，单位互换：应力 应变 力 时间 强度等项目可根据需要选择不同单位切换.22，批量试验：对参数相同的试样,一次设定后可顺次完成一批试样的试验；23，试验报告：可按用户要求的格式对试验报告进行编程和打印；24，限位保护：具有程控和机械两级限位保护功能；25，过载保护：当负载超过额定值的 5%时自动停机；26，一机多用：通过配置不同规格的传感器，连接系统和测量软件，实现一机多用。 我公司生产的电子万能材料试验机主要用于对各类材料等进行常规力学性能指标的测试，可根据GB、JIS、ASTM、DIN、ISO等标准自动求取 试验力值、断裂力值、屈服强度、上下屈服强度、抗拉强度、抗压强度、断裂延伸率、拉伸弹性模量、弯曲弹性模量等试验数据。

超声波纳米材料分散仪或超声波乳化分散器概述：纳米技术的核心内容是如何解决纳米粒子的团聚问题，由于纳米粒子本身极易团聚，要得到单个分散的纳米粒子非常困难，如何使纳米粒子均匀地分散到基体中去是纳米技术的关键技术。我公司系列超声波产品是利用超声波的超声空化作用来分散团聚的颗粒。它是将所需处理的颗粒悬浮液（液态）放入超强声场中，用适当的超声振幅和作用时间加以处理。由于粉体颗粒团聚的固有特征，对于一些在介质中分散得不好的粉体，可加入适量的分散剂使之保持分散稳定状态。该产品最近尤其用于分散纳米材料，有良好效果，正受到各方关注.应用：超声波乳化以其“空化效应”实现油掺水乳化、水掺油乳化、分散相与连续相的混合匀化，是替代螺旋桨、胶体磨等传统乳化工艺的现代声化学手段。超声乳化的一个重要特点就是可以不用或少用乳化剂使产生极稳定的乳液。超声乳化的明显优点已促使它在食品、造纸、油漆、化工、医药、纺织、燃油热电、燃油中央空调、石油、冶金等许多工业处理中已越来越多地得到应用，其中燃油掺水燃烧在国内就是重新兴起的一个重要项目。技术参数：型号：DYYB-1000C显示方式：7寸触摸屏显示（TFT）输入方式：触摸控制存储数据：20组数据打印功能：有功率及脉宽波形显示：有与电脑联机功能：有用户密码保:有 单次超声时间：0.1-9.9S单次间隙时间：0.1-9.9S总工作时间：1-999M工作模式：间隙或连续频率：20-25KHz 功率：10- 1000W（1%-99%）可调 破碎容量：0.2-700ML(需选配相应的变幅杆)温控范围：室温-90度（可选配低温恒温）报警功能有：温度、时间、过载、空载随机变幅杆：Φ6可选配变幅杆：Φ2、3、8、10、12、15占空比：0.1-99.9%电源： 220V±5%/ 50Hz（可定制110V）电源箱+换能器重量： 18kg电源机箱尺寸及净重：42×28×22（CM） 16kG外主机包装尺寸： 53×30×42CM（长*宽*高）外隔音箱包装尺寸：35×35×52CM（长*宽*高）型号：DYYB-1200C显示方式：7寸触摸屏显示（TFT）输入方式：触摸控制存储数据：20组数据打印功能：有功率及脉宽波形显示：有与电脑联机功能：有用户密码保护：有 单次超声时间：0.1-9.9S单次间隙时间：0.1-9.9S总工作时间：1-999M工作模式：间隙或连续频率：19.5-20.5KHz 功率：20- 1200W（1%-99%）可调 破碎容量：10-1000ML(需选配相应的变幅杆)温控范围：室温-90度（可选配低温恒温）报警功能有：温度、时间、过载、空载随机变幅杆：Φ20可选配变幅杆：Φ10、15、22占空比：0.1-99.9%电源：220V±5%/ 50Hz（可定制110V）电源箱+换能器重量： 18kg电源机箱尺寸及净重：42×28×22（CM） 16kg外主机包装尺寸： 53×30×42CM（长*宽*高）外隔音箱包装尺寸：35×35×52CM（长*宽*高）

产品介绍：纳米技术的核心内容是如何解决纳米粒子的团聚问题，由于纳米粒子本身极易团聚，要得到单个分散的纳米粒子非常困难，如何使纳米粒子均匀地分散到基体中去是纳米技术的关键技术。我公司系列超声波产品是利用超声波的超声空化作用来分散团聚的颗粒。它是将所需处理的颗粒悬浮液（液态）放入超强声场中，用适当的超声振幅和作用时间加以处理。由于粉体颗粒团聚的固有特征，对于一些在介质中分散得不好的粉体，可加入适量的分散剂使之保持分散稳定状态。该产品最近尤其用于分散纳米材料，有良好效果，正受到各方关注. 超声波乳化以其“空化效应”实现油掺水乳化、水掺油乳化、分散相与连续相的混合匀化，是替代螺旋桨、胶体磨等传统乳化工艺的现代声化学手段。超声乳化的一个重要特点就是可以不用或少用乳化剂使产生极稳定的乳液。超声乳化的明显优点已促使它在食品、造纸、油漆、化工、医药、纺织、燃油热电、燃油中央空调、石油、冶金等许多工业处理中已越来越多地得到应用，其中燃油掺水燃烧在国内就是重新兴起的一个重要项目。 技术参数：型号工作频率(KHz)超声波功率(W)随机变幅杆单次处理量(ml)可选配变幅杆温度控制(选配)DYYB-50022-305-500Φ60.2-400Φ2、Φ3，Φ8、 Φ10-60-200℃DYYB-100022±110-1000Φ100.2-600Φ6、Φ12、Φ15DYYB-150020±120-1500Φ2050-1500Φ15、Φ25DYYB-300020±1500-3000Φ35或Φ40500-5000

FeaturesSingle axis Micro and Nanopositioning25mm coarse motion with optional hi-res encoder30 micron nanopositioningClosed loop controlTypical ApplicationsAFM, NSOM, and other types of scanning probe microscopy (SPM)NanoindentingNanomanipulationProduct DescriptionThe Nano-SPMZ integrates single axis micropositioning and high resolution nanopositioning into a compact unit which is compatible with optical tables and standard mounting accessories. Stepper motor driven coarse positioning over 25mm can produce a minimum step size of 95nm. An optional high resolution linear encoder incorporated into the coarse positioning stage continuously monitors positions down to 20nm. Nanopositioning over 30 microns provides the ultimate positioning resolution of 60 picometers with the stability of the proprietary PicoQ? position feedback sensors. The USB digital interface provides direct PC control of the micropositioner and nanopositioner as well as access to the linear encoder and position sensor inside the nanopositioner.Technical SpecificationsMicropositionerRange of motion25 mmMicoropositioning step size95 nmMaximum speed4 mm/secMotion ProfileMotion 500 stepsAutomatic accel/decel controlMotion ≤ 500 stepsConstant 1 step/msLinear encoder resolution (optional)20 nmBody materialAluminumControllerMicroDrive?Computer interfaceBidirectional USBNanopositionerRange of motion (nanopositioner)30 μmMaximum resolution (nanopositioner)0.06 nmResonant frequency (nanopositioner)4kHz ±20%Resonant frequency (nanopositioner, 100g load)2kHz ±20%Resonant frequency (100g load)2 kHz ±20%Stiffness3.0 N/μm ±20%Recommended max load (horizontal)*1.0 kgRecommended max load (vertical)*0.5 kgBody materialAluminumControllerNano-Drive?Computer interfaceUSB* Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-SPMZ DrawingNano-SPMZ Catalog PagesAFM Video TutorialRelated ProductsAFM Video Tutorial MadPLL?Nano-OP SeriesMicroStage SeriesNano-View? SeriesNano-View?/M SeriesAccessories

超声波纳米材料乳化分散器ZOLLO-6000产品介绍： “左乐”系列超声波材料乳化分散器主要应用于石油、化工过程中的油水或其它物料的乳化、微乳化，也可用于轻工、纳米材料、食品和医药等部门的液体处理。超声波纳米材料乳化分散器ZOLLO-6000主要特点:●聚能式超声波材料乳化分散器是将大功率超声换能器的变幅杆直接浸入反应液体中,使声能直接进入反应体系,而不必通过清洗槽的反应器壁进行传递。其优点是能够将大量的能量直接输送到反应介质,有效的使电能转化为机械能,并且可以通过改变输送到换能器的幅度加以控制超声波能量的大小 ●超声波材料乳化分散器该产品可扩展性强：（1）可【选配】冷却水循环装置：冷却水循环装置和特制双层玻璃反应釜构成冷却水循环系统，实现-5～100℃范围内的任一温度点的精确控温,有效避免温度过高而导致样品组织破坏,与传统冰浴降温相比更加便捷、精确。（2）可【选配】磁力搅拌器：通过搅拌可提高被处理样品的乳化率，处理效果更好。超声波纳米材料乳化分散器ZOLLO-6000技术参数：型号工作频率超声波功率随机变幅杆单次处理量可选配变幅杆温度控制(选配)价格（元）ZOLLO-50022±1KHz10-500WΦ60.2-200mlΦ2、Φ3，Φ10-5～100℃14800ZOLLO-100022±1KHz50-1000WΦ1050-600mlΦ6、Φ15-5～100℃21800ZOLLO-150020±1KHz300-1500WΦ20250-1500mlΦ25-5～100℃26800ZOLLO-600020±1KHz500-6000WΦ25500-5000mlΦ25-5～100℃69800

Imina公司的miBotTM是世界上最紧凑的机器人，具有4个自由度及纳米定位分辨率，专为FIB/SEM电性测量及分析开发。与传统纳米机械手不同，miBotTM是一种自由移动机械手，几乎不受限制，能够在载台表面自由移动。由于采用非固定安装，miBotTM可以定位任意位置同时能够测量各种外形样品。miBotTM采用压电陶瓷驱动，运动范围达厘米级，定位分辨率从微米到纳米不等，步进模式能够快速移动探针指感兴趣区域，而扫描模式能够快速落针。miBotTM具备高刚度手臂使其抗震性好，其无与伦比的稳定性确保了即使在最小的样品上也能长时间保持稳定接触。miBots移动均在本身方向进行，无需传统旋转和平移耦合控制，因而操控非常直观。用户很快可掌握，大大减小损坏样品的风险，用户也更为直观实现各类电学测量分析。功能丰富且容易满足各类样品需求优化的操作设计确保操作简单、测量安全可靠、数据传输快兼容低加速电压和短工作距离分析，同时支持磁性镜筒的高分辨率成像55°倾斜角度下依然能长时间稳定定位和电学接触，满足FIB原位分析厘米级移动范围，高达15μm范围高精度纳米级精细运动控制适配小工作距离适配磁性镜筒平台适配FIB大倾转分析标准纳米钨针光纤机械手配置灵活方便可选配置：1. 变温载台温度范围：-30℃~+150℃，可连续精准控温温度稳定性：0.05℃可折叠散热器满足小腔体SEM安装Peltier半导体制冷无震动 2. EFA电性失效分析专为EBIC、EBAC/RCI和EBIRCh的高效精确缺陷定位设计实时成像，缩短数据传输时间自动路径规划简化操作流程各种故障案例进行高性能分析 3. XYZ子样品台在电镜载台运动外增加样品独立XYZ调节降低探针落针时间及满足批量测量行程范围：5mm（X/Y），330μm（Z）分辨率：2nm（X/Y），7nm（Z） 4. 软件模块化纳米分析工作流程预设分步式流程，降低学习曲线并减少数据处理时间快速设置工作流程，轻松完成落针配备预定义的测量配方管理测量数据库，轻松进行曲线对比及结果导出 5. 大样品载台双层架空设计最大支持2英寸晶圆以及先进封装和横截面样品测试不同高度支架选择满足各种高度样品分析 6. 标准失效分析设备设计可选标准19寸机柜，可容纳各类控制器及标准可参数分析仪标准工具和配件工具箱预装软件工作站及配套显示器应用场景：1. 纳米分析失效分析和可靠性分析集成电路安全评估芯片设计及逆向工程 2. EBAC/RCI分析开路、电阻或短路缺陷定位分析制造和长期问题诊断低电阻梯度分析 3. 半导体器件分析单个晶体管/二极管的I-V曲线测量SRAM位单元特性分析通孔电阻率测量 4. 电性测量MEMS和传感器驱动和分析光电子器件测试：MicroLED、太阳能电池材料表征：纳米线、石墨烯、薄膜、纳米颗粒 5. EBIC分析PN结区可视化及缺陷定位偏压下样品电荷成像分析掺杂可视化及分析 6. 纳米操纵纳米颗粒分离和定位TEM样品制备微纳组装

[产品技术简介] 富士Dimatix专注于压电式喷印技术已经超过20年, 是全球印刷电子业内知名的纳米材料沉积喷墨打印技术供应商, 其DMP系列 (DMP-2831/2850)也成为行业内畅销以及通用性很强的设备，其广泛应用于多个领域，包括新型显示，电子MEMS，太阳能，生物科技，纳米材料及光学等行业。 新型DMP系列除了DMC-11610及11601配置外，新的喷头系统基于Dimatix Samba压电陶瓷喷头技术，无需特殊调节即可获得高均匀度的喷墨质量以及更佳的喷印直线性，且可适合多种材料喷印, 且小到3pl (Samba), 10pl (DMC-11610) 等喷头可供选择, 目标线宽可达到20-50um；设备配置有对位校准CCD相机以及喷头自动旋转以及样品台自动旋转补偿等, 可用来高分辨精确定位以及喷印后量测喷印状况并记录。喷墨系统可于喷印前观察并调整喷印参数，以及独立控制各喷嘴参数及状态，且对各喷嘴墨滴飞行采集及分析。 [技术规格] - 喷印范围: 210 mm x 315 mm (8.27 in x 12.4 in) - 平台重复精度: ± 25 μm (± 0.001 in) - 平台真空吸附固定- 平台可设定加热至60° C - 操作环境15-40度，5%-80%湿度，无需冷却装置 - 可防止手套箱中 应用领域包括： 印刷电子，柔性电子，有机电子，可穿戴设备，微电子无掩模直写，光电器件包括有机TFT，OLED有机显示，QD LED，及其他各种新型显示，各种功能传感器如生物芯片，化学传感器等，碳管石墨烯器件，PCB印刷，太阳能光伏应用，新型材料研发等等

FeaturesCompact tubular designTrue flexure guided motionPosition sensors, closed loop controlUp to 70 μm motionInvar and titanium constructionClosed loop controlTypical ApplicationsSingle axis positioningSurface analysisMetrologyProduct DescriptionThe Nano-P Series are piezo actuated, closed loop, linear translators that incorporate a unique flexure hinge design. The flexure hinge is machined entirely from a single block of high strength titanium using an advanced electrical discharge machining process. This hinge, available for the first time on a tubular nanopositioner, ensures the highest degree of repeatability and load capability. Unlike similar looking products on the market, the Nano-P Series does not have internal Belleville springs. Belleville springs are not frictionless and therefore cannot provide the high degree of repeatability of a true nanopositioner. The guiding mechanism of the Nano-P Series is a true flexure spring - eliminating mechanical friction and stiction. The Nano-P Series is constructed from invar and titanium for the best combination of thermal stability and mechanical strength, making it ideal for the most demanding positioning and metrology applications. The Nano-P Series is available in three standard ranges of motion with integrated position sensors utilizing proprietary PicoQ? technology to provide absolute, repeatable position measurement with picometer accuracy under closed loop control. Custom systems available.Noise Plots - Nano-P15Test Data - Nano-P35The Nano-P35 closed-loop response to a 3nm peak-to-peak square wave input signal, measured with USB digital interface. Notice the ultra-low, sub-nanometer stability of the system over the time scale. Similar products offered by other companies are unable to achieve such low-noise results. The Nano-P uses a true flexure guiding mechanism and low-noise sensors to achieve high-resolution positioning. Technical SpecificationsRange of motion (Nano-P15)15 μmRange of motion (Nano-P35)35 μmRange of motion (Nano-P70)70 μmResolution (15/35/70 μm)0.03/0.07/0.14 nmResonant Frequency2.5 kHz ±20%Recommended max. load*0.2 kgBody MaterialInvar and TitaniumControllerNano-Drive?* Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-P Series DrawingNano-P Series Catalog PagesRelated ProductsNano-MiniNano-OP SeriesNano-Z SeriesNano-MZNano-F SeriesAccessoriesNano-Drive?

Features High speed, direct driveStackable for multi-axis motion30, 50, and 100 μm ranges of motionClosed loop controlTypical Applications InterferometryNanomanipulationHigh speed lens focusingFiber opticsNSOM Product DescriptionLike the Nano-OP Series, the Nano-OPH Series is a versatile group of compact single axis nanopositioners which can be configured to fit into a wide variety of applications. The addition of a 1.3 inch diameter aperture through the stage makes the Nano-OPH especially useful for precise motion in optical experiments. Individual, single axis stages may be combined to form multi-axis systems. The Nano-OPH Series are available with 30, 50, and 100 micron ranges of motion. They can be constructed from aluminum, invar, or titanium and can be customized to suit unique requirements. Internal position sensors utilizing proprietary PicoQ® technology provide absolute, repeatable position measurement with picometer resolution under closed loop control.Technical SpecificationsRange of motion (Nano-OPH30)30 μmRange of motion (Nano-OPH50)50 μmRange of motion (Nano-OPH100)100 μmResolution (30/50/100 μm)0.06/0.1/0.2 nmResonant Frequency3.5 kHz ±20%Resonant Frequency (100g load)1.5 kHz ±20%Stiffness3.0 N/μm ±20%θ roll, θ pitch (typical)≤1 μradθ yaw (typical)≤2 μradRecommended max. load (horizontal)*1.0 kgRecommended max. load (vertical)*0.5 kgBody MaterialAl, Invar or TitaniumControllerNano-Drive® * Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-OPH Series Drawing Nano-OPH Series Catalog PagesRelated ProductsNano-OP SeriesHigh Speed Lens PositionersNano-HLAccessoriesSPM AccessoriesNano-Drive®