纳米器件

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介TNI LF-2000是兼容SEM/FIB的自动化纳米操作系统，也是能够在SEM/FIB下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。产品特性 兼容主流电镜，不影响电镜功能 具有大行程、亚纳米分辨率运动定位性能 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数系统概况系统尺寸127x127x33mm3*机械手数量1-4操作手（宏动）驱动原理粘滑驱动运动范围XY轴：10mm Z轴：5mm速度3mm/s最小步长100nm操作手（微动）驱动原理无摩擦柔性铰链运动范围XYZ轴：20μm速度45μm/s开环运动分辨率0.5nm闭环运动分辨率1nm定位漂移率0.35nm/min软件功能**点击-移动鼠标在电脑屏幕上从A移动到B自适应放大倍数定位器移动速度根据SEM放大自动调整操作手位置保存/加载用户自定义的“保存/加载”操作手坐标3D虚拟显示实时三维显示操作手的位置和运动自动校准操作手闭环传感器自动校准运动轴的自动对准所有操作手运动轴自动对准SEM图像轴*系统尺寸可根据需要减小到50x50x17mm3**可根据选定SEM/FIB的型号而定应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。实例照片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，实例照片展示的是用球端AFM悬臂探针对硅纳米线簇进行纳米压痕，以及对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。实例照片展示的是纳米线FET传感器的构造。纳米电子器件电学测量LifeForce纳米操作机是市面上能够自动探测电子结构（范围从亚微米，亚100nm及亚20nm）。只需要通过计算机点击鼠标，将探针定位到目标位置。极低得定位漂移，保证数据采集得可靠性。 主要软件功能①　位置反馈：提供每个操作手XYZ精确得位置反馈，1纳米运动定位分辨率。②　保存/加载坐标：保存和加载多个操作手得坐标。③　自动校准：限度地提高定位性能，并将操作手运动轴对准扫描电子显微镜图像轴。④　3D虚拟显示：实时3D虚拟空间显示操作手（粉红色方块）和样品（绿色平面）得位置。⑤　点击-移动：通过在屏幕上鼠标点击控制操作手运动。⑥　多操作手联动：连接多个操作手得运动，具有纳米级精度。⑦　图片-视频录制：保存操作过程中的高清图片和视频。

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

魔技纳米PROME-Uni基于多光⼦ 聚合原理的超⾼ 速度一体化纳米级三维加⼯ 设备自研专利技术，大幅提高加工效率，突破多光子聚合速度限制，适应不同尺度的精密加工需求；拥有多项稳定系统，可长时无需维护，稳定工作；采用模块化的光机电设计，拥有极高的灵活性和可扩展性；为科研和工业领域提供全新的3D加工技术解决方案，适用于微光学器件、微流控芯片、微机械、超材料、微纳传感器件光子芯片集成等领域 主要特点： 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

产品描述iNano采用InForce 50驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试。 InForce 50的50mN力荷载和50μm位移范围使得该系统适合各种测试。 InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。 iNano是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 该系统可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 50驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体和封装行业聚合物和塑料MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆聚合物制造复合材料电池和储能应用硬度和模量测量 (Oliver-Pharr)机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iNano纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iNano的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iNano纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iNano纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iNano纳米压痕仪可轻松测量薄膜、涂层和少量材料。 该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 该仪器的力荷载和位移测量动态范围很大，因而可以实现从软聚合物到金属材料的精确和可重复测试。 模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损以及高温测试。 iNano提供了一整套测试扩展选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D/4D属性映射和远程视频选项。

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

产品描述iMicro采用InForce 1000驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试，并可选择添加InForce 50驱动器来测试较软的材料。InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。iMicro是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 1000驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头可选的InForce 50驱动器提供最 大50mN的法向力来测量软性材料，并提供可选的Gemini 2D力荷载传感器用于双轴动态测量。独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架高刚度龙门架，集成隔振功能带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量定量刮擦和磨损测试样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体行业PVD / CVD硬涂层（DLC，TiN）MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆复合材料电池和储能汽车和航空航天应用硬度和模量测量（Oliver Pharr）机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iMicro纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iMicro的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iMicro纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iMicro纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。定量划痕和磨损测试iMicro可以对各种材料进行刮擦和磨损测试。 涂层和薄膜会经过化学机械抛光（CMP）和引线键合等多道工艺，考验薄膜的强度及其与基板的粘合性。 重要的是这些材料在这些工艺中抵制塑性变形，并且保持原样而不会基板起泡。 理想地，介电材料应具有高硬度和弹性模量，因为这些参数有助于确定材料在制造工艺下会如何反应。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iMicro纳米压痕仪可轻松测量硬涂层，薄膜和少量材料。该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 可互换的驱动器能够提供大动态范围的力荷载和位移，使研究人员能够对软聚合物到硬质金属和陶瓷等材料做出精确及可重复的测试。模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损测试以及高温测试。 iMicro拥有一整套测试扩展的选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D / 4D性质分布，以及Gemini 2D力荷载传感器，可以提供摩擦和其他双轴测量。

基于 SEM 的纳米探针台 用于直观、原位、低电流电性能测量。 在扫描电镜的真空腔室中,在纳米尺度对样品进行观察和表征分析。Imina Technologies公司的纳米探针台 是一套独特的解决方案，特别适合在纳米尺度对电子器件和先进材料进行微纳操纵和表征。这套方案内含四个业界著。名的易用、多功能压电陶瓷驱动微型机器人miBotTM。miBot微机器人可以在毫米级样品上独立定位，定位精度高达纳米级。该方案是为低电流电性能测量量身定做 的，漏电流低达100fA/V。对纳米结构 进行电性能表征时要经由具有超高信噪 比的屏蔽电缆外接第三方半信号发生/分析器。

FT-NMT04纳米力学测试系统是一种多功能的原位SEM/FIB纳米压痕仪，能够在微米和纳米尺度上准确量化材料的力学行为。 FT-NMT04原位纳米压痕仪针对金属、陶瓷、薄膜以及超材料和MEMS等微观结构的机械测试进行了优化。此外，通过使用各种附件，FT-NMT04的功能可以扩展到各个研究领域的各种要求。 典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。此外，在压缩测试期间进行连续刚度测量，可以在微梁断裂测试期间量化裂纹扩展和断裂韧性。由于 FT-NMT04 分别具有 500 pN 和 50 pm 的无可比拟的低本底噪声，因此可实现具有无可比拟的可重复性的浅纳米压痕，以及纳米压痕与 EBSD 成像的前所未有的相关性。

魔技纳米MJ-Works-Fiber专为光纤应用设计的纳米级三维激光直写设备MJ-Works-Fiber是一款专为光纤传感与光通信应用而生的超高精度加工而设计的高性能3D激光直写设备，配有超清成像及纳米级定位对准系统，可实现在光纤纤芯或光芯片表面及内部进行纳米级3D加工。配备有专门的卷对卷光纤自动输送装置，并配有应力监测，纤芯自动识别、定位及对准，实现高通量精准快速生产。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。【企业简介】魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

魔技纳米DLW-Bio专为生物应用设计的加工检测一体纳米级三维激光直写设备DLW-Bio具备纳米级高精度3D加工能力，满足复杂生物结构的微纳制造需求，同时可兼有生物荧光显微功能。设备配备多种生物样品台，可根据具体需求灵活配置和定制，适应不同生物医学样品和微流控芯片等打印要求。该设备还特别配备多种生物相容性打印材料，包括无生物毒性且具备亚微米特征和高纵横比的光敏聚酯、水凝胶，均符合ISO-10993-5/USP87标准，可在生物医学领域安全应用。用户可以根据研究需要选择适合的材料，实现定制化的生物医学样品打印。从组织工程到微流控芯片，从药物递送系统到个性化医疗，DLW-RD-Bio为多样化的生物医学应用提供强大的材料支持。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍] 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

基于 SEM 的纳米探针台 用于直观、原位、低电流电性能测量。 在扫描电镜的真空腔室中,在纳米尺度对样品进行观察和表征分析。Imina Technologies公司的纳米探针台 是一套独特的解决方案，特别适合在纳米尺度对电子器件和先进材料进行微纳操纵和表征。这套方案内含四个业界著。名的易用、多功能压电陶瓷驱动微型机器人miBotTM。miBot微机器人可以在毫米级样品上独立定位，定位精度高达纳米级。该方案是为低电流电性能测量量身定做 的，漏电流低达100fA/V。对纳米结构 进行电性能表征时要经由具有超高信噪 比的屏蔽电缆外接第三方半信号发生/分析器。

NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK）校园里，是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司，公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系，并享有共同的超净设备和研发技术成果，公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发，并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案，包括： * LED纳米压印解决方案：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap （PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体，激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析，血液分析，细胞生长

HOLITH界面光刻技术----“纳米压印友好伴侣” HOLITH界面光刻装置使用两束干涉激光在光界面上形成周 期性光栅和点/孔图案。 HOLITH纳米成像系统具有新型力 学，光学和电学设计，可在200nm-2μm的周期性范围内于4 英寸晶片上做出纳米结构图案，图案最小形貌可低50nm。 最先进的HOLITH专利技术可使用户仅通过简单的鼠标点击操 作便能作出100nm以下尺寸的高品质高均一性线性光栅和 2D/3D图像。在HOLITH界面光刻装置中无需使用遮罩和模 具。 优势： 无遮罩过程：低成本、多功能、可伸缩 计算机系程序自动化光学结构和排列控制 简单操作，无需光学培训 相比遮罩定位器系统成本更低 200nm范围内具有高分辨率 最低特征尺寸小于50nm 无需遮罩及模具 可以制作大面积2D/3D纳米压印模具（4/6英寸） 可以操作不平整晶片 周期精度：+-2.5% All-fiber-optic setup replacing free- space optical components Special optical fiber delivers light from laser Fiber-optic beam splitter splits the laser beam into two coherent beams Output port of the fiber performs spatial filtering Close-loop feedback control stabilizing interference pattern 低成本、不受环境因素干扰，使自动化成为可能：自由改变入射角度调整模式周期。 Holith 纳米图案化结构 应用：能源 太阳能电池抗反射结构 太阳能电池光子操纵 LEDs灯管中的光提取 图案化蓝宝石基板(PSS) 光学器件 1-D和2-D光栅光谱 大范围等离子体结构 光子晶体 超颖表面 高对比度光栅过滤器和反射器 亚波长和衍射光学器件计量光栅结构化的颜色材 料 超疏水/亲水表面 诱导自组装 表面增强拉曼荧光 生物医学传感器纳米装配纳米压印磨具装配先进纳米装配过程开发

品牌：久滨型号：JB-N9名称：纳米粒度仪 一、产品概述： JB-N9是我公司推出的基于动态光散射原理的纳米粒度仪。它采用高速数字相关器和专业的高性能光电倍增管作为核心器件，具有快速、高分辨率、重复及准确等特点，是纳米颗粒粒度测定产品。　　控制系统原理图如下：光子相关纳米粒度仪基本原理图二、原理： 本仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，根据颗粒在液体中的布朗运动的速度测定颗粒大小。小颗粒布朗运动速度快，大颗粒布朗运动速度慢，激光照射这些颗粒，不同大小的颗粒将使散射光发生快慢不同的涨落起伏。光子相关光谱法就根据特定方向的光子涨落起伏分析其颗粒大小。因此本仪器具有原理先进、精度极高的特点，从而保证了测试结果的真实性和有效性；是纳米激颗粒粒度测定的仪器。　　此款纳米粒度仪已经达到国外纳米粒度仪的测试水平！三、主要技术参数：规格型号JB-N9执行标准GB/T 29022-2012/ISO 22412：2008测试范围1-10000nm(与样品有关)浓度范围0.1mg/L-100mg/L准确度误差1%（国家标准样品平均粒径）重复性误差1%（国家标准样品平均粒径）激光λ=532nm，LD泵浦激光器（独有带温控保护）探测器HAMAMATSU光电倍增管（PMT），使用单模保偏光纤散射角90°数字相关器ASIC研制的高速光子相关器样品池10mm*10mm , 4ml（带温控保护）数据处理拟合累积分析法和改进正规化算法，可给出平均粒径及粒度分布曲线软件功能一键式测量，自动优化测量参数，轻松生成测试报表输出项目平均粒径、多分散系数、粒度分布曲线、粒度分布表等温度范围8-45℃（温度精确到0.1℃）测试速度1Min/次（不含样品分散时间）仪器体积390mm×255mm×240mm电源AC100～260V, 50/60Hz, *大功率80W使用环境温度：15～40℃，湿度20～70%。无冷凝

纳米力学测试仪 iNano灵活易用的力学测试可广泛用于各种材料和应用iNano专为压痕、硬度、划痕测试和多元化纳米级测试等纳米级力学测试设计。iNano能够测试包括软质高聚物到硬质涂层和薄膜等在内的各种材料。模块化系统选项可以完成各种不同应用：特定频率测试、定量划痕和磨损测试、集成探针成像、高温测试和自定义方法编程等。除了能够推进高校科研之外，iNano还可以为以下材料和行业进行纳米压痕测试和抗蠕变性测量：生产质量控制金属和合金医药器械涂料和油漆半导体高聚物与塑料MEMS/纳米级器件电池和储能材料陶瓷与玻璃主要功能高度模块化设计, 既具有最为宽泛的测试功能，又可提供高通量的自动化测试功能，并配有统计数据分析包，适用于纳米力学性能测量、扫描探针显微成像、高温测量和IV电压电流特性测试实时高效的实验控制，简单易用的测试流程开发和测试参数设置标准的InForce 50电磁驱动器集成高速控制器电子设备完成告诉数据采集高达100kHz，捕获材料瞬间的响应，例如锯齿流变和断裂现象。仪器使用工业界最短的时间常数20μs，精准捕捉材料瞬间的真实响应集成了噪音隔离功能的高刚度框架，可确保对各种材料进行准确测量数码变焦的高分辨光学显微镜，精确定位样本纳米压痕专家在线讲授专业纳米压痕课程，以及移动应用程序能够提供测试方法的实时更新功能与选项概览KLA 核心技术iNano 采用电磁驱动转换器提供动力，电磁驱动加载模块技术因其众多的优势被广泛的应用在KLA的压痕设备中,轻松实现载荷和位移的宽动态范围的控制,提供纳米级的力学测试功能, 实现高精度观察与定位测试样本,以及样品高度的简易调节。在其标准配置中，iNano采用了InForce 50驱动器，并提供模块化控制器以便用户按需要增加功能。iNano设备提供扫描探针成像功能、划痕及磨损测试功能、高温纳米力学测试功能、连续刚度测试(CSM) 和高速3D及4D力学图谱等模块化升级选件。该系统兼容ISO14577国际标准。iNano 采用高阶的InView&trade 测试控制和数据采集软件,包含用于简化测试设置的带屏幕控制的InviewRunTest，可在测试期间或之后进行数据分析的 InView ReviewData，和生成各种综合性测试报告的 InFocus 软件。连续刚度测量（CSM）压入循环期间测量刚度和其他材料特性KLA的连续刚度测量技术能够轻松评估材料在应变速率或蠕变效应影响下的动态力学性能。CSM技术在压入过程中保持探针以纳米级的振幅持续振动，从而获得硬度、模量等力学性能随深度、载荷、时间或频率的变化而变化的特性。该选项提供学术界与工业界最常用的恒应变速率测试方法，用以测量随深度或载荷变化的硬度和模量。CSM还可用于其他高级测量选项，其中包括用于存储和损耗模量测量的ProbeDMA&trade 方法以及AccuFilm&trade 消除基底效应的薄测量等。连续刚度测量技术在InQuest控制器和InView软件中集成，可以方便使用并保证数据的可靠性。 使用 CSM 选项测量随压入深度而变化的弹性模量AccuFilm&trade 薄膜方法通过校正衬底对测量的影响对超薄膜进行表征基于连续刚度测量技术(CSM)并结合Hay-Crawford模型的新一代AccuFilm&trade 薄膜测试选件可测量附着于衬底的膜层材料，使用AccuFilm超薄膜方法是基于KLA科学家发明的的新一代超薄膜的测试技术，实验设置操作简单，对于软衬底上的硬质膜以及硬衬底上的软质膜，AccuFilm都可以校正衬底在膜测量中所带来的影响。使用 AccuFiLm 薄膜法，基底影响模量和纯薄膜模量作为归一化压痕深度的函数NanoBlitz 3D 快速力学性能分布快速定量地测量表面力学性能分布测量粗糙表面和/或异质材料通过增加观察次数给出具有统计意义的结果NanoBlitz 3D 采用新一代快速纳米压痕测试技术，实现每个压痕测试时间小于1秒。单次试验最大压痕个数为100000（300X300矩阵），可在用户指定的恒定加载力下，提供材料弹性模量，硬度和接触刚度的三维图谱。快速且大量的测试点极大的提高了统计的准确性，同时可以直接对不同相或不同特性区域进行力学均值、分布和面积占比的统计。NanoBlitz 3D功能为用户提供数据可视化和强大的统计数据分析处理功能。使用 NanoBlitz 3D 选项绘制 WC-CO 复合材料的硬度分布图和统计直方图NanoBlitz4D 力学性能断层扫描基于连续刚度测量(CSM) 技术的力学性能断层扫描NanoBlitz 4D力学谱图利用InForce 50或InForce 1000驱动器和Berkovich压头为低E/H值和高模量( 3GPa) 材料生成纳米力学性质的4D图。NanoBlitz4D以每个压痕5秒的速度完成多达10,000个压痕（30×30阵列），并为阵列中的每个压痕测量随深度而变化的杨氏模量(E)、硬度(H)和刚度(S)数值。NanoBlitz 4D采用恒应变速率方法，为用户提供数据可视化和强大的统计数据分析处理功能。使用 NanoBlitz 4D 选项针对多层薄膜绘制两个不同压入深度的弹性和塑性分布图ProbeDMA&trade 高聚物测试聚合物测试包中配置了圆底平头探针、粘弹性测试标样和粘弹特性的测试方法，该测试选件基于连续刚度测量技术，可在不同频率条件下对材料进行高效可靠测量，得到储存模量和损耗模量与频率的变化关系。该测量技术对纳米量级的聚合物及聚合物薄膜的力学表征至关重要，优于传统DMA测试设备。使用圆底平头探针测试一系列标准高聚物样品的储能模量划痕和磨损测试方法压头通过样品表面时对其施加恒定或渐增的载荷iNano系统可以对多种材料进行划痕和磨损测试。在涂层和薄膜经过化学机械抛光(CMP) 和引线键合等的多种工艺处理的时候，其强度及其对基材的附着力会备受考验。在加工工艺中，材料是否能抵抗塑性变形并保持完整而不从衬底上起泡非常重要。理想情况下，介电材料具有高硬度和高弹性模量，因为这些参数有助于了解材料在制造工艺中的性能变化。划痕测试的定量分析300°C 样品加热允许将样品放入一个腔室中，以便在测试期间对其均匀加热300°C 的样品加热选项允许将样品放置在一个腔室内进行均匀加热，同时接受测试。iNano 样品加热选项用于表征高温下的机械性能。国际标准化的纳米压痕测试iNano包括预先内置的ISO 14577测试方法，可根据ISO 14577 标准测量材料硬度。该测试方法可以自动测量并输出杨氏模量、仪表硬度、维氏硬度和归一化压痕功。按照 ISO14577 标准在一系列标准样品上所测得的硬度值iNano 的其他升级选项远程视频观看 : 远程视频选项包括已安装的网络摄像头，便于在测试之前和期间查看样品。两个观察角度分布为样品设置视图和原位测试视图，可分别观察样品和纳米压头。DataBurst 模式 : DataBurst 模式在高达 100kHz 的速度下触发超级数据采集，捕获材料瞬间响应，例如锯齿流变和断裂现象；允许在真正的步进荷载下测量高应变率材料的力学性能；仪器使用工业界最短的时间常数，帮助客户精准捕捉材料瞬间的真实响应。InView 开放式软件编写平台 : InView 采用开放式软件编写平台，以帮助客户在测试过程中实现加载，测量和计算的全方位控制。用于设计新颖或复杂的实验。开放式软件编写平台给予客户极大的灵活性：帮助客户轻易采集原始测试数据到和最终分析结果的全面使用；客户可以完全浏览，编辑计算公式，自定义参数，实现个性化试验设计；用户可以自由设计和改变试验参数和试验过程，为探索新的试验测试提供可能。TrueTestI-V 电学测试 : True Test I-V 选项允许用户向样品施加特定电压并测量压头的电流，以表征纳米力学测量过程中电学特性的局部变化。带有模块化机架的主动振动隔离:在 iNano 的内置被动隔振的基础上增加主动隔振，为超薄薄膜上高难度的纳米力学测量提供了强大的稳定性和精确度。主动隔振系统减少了所有六个自由度的振动，无需进行调整。生物软材料测试选项台 : 生物材料测试方法利用核心技术连续刚度测试 CSM 表征模量在 1kPa 左右的生物软材料 包含一个平底压头和测量软材料储存损耗模量的测试方法。压头探针和校准样品 : InForce 50、InForce 1000 和 Gemini 驱动器的可互换压头包括 Berkovich、立体角、维氏，以及平底和球体压头。

EVG720紫外纳米压印机一、设备原理：EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大150mm大面积压印：最大150mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级u SECS/GEM II: 可选。公司简介：EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界领先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。

TERA Fab M系列是商业化的PPL聚合物笔纳米制造工具, 此技术也叫DPN(Dip Pen Nanolithography)蘸笔纳米加工系统或浸蘸笔纳米加工刻蚀技术(美国NanoInk公司)，是基于无悬臂扫描探针打印技术, 无需掩膜板即可在超过平方厘米的区域内, 使用多种材料和衬底上进行优于100nm高分辨图形化沉积打印 使用同一设备可获得纳米, 微米以及宏观尺度的特征尺寸, 自定义软件允许生成感兴趣的图形 可应用于纳米粒子合成、蛋白阵列、单细胞排布、纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域 更多详细资料请联系TERA中国区官方授权商：溢鑫科创。典型的应用包括：*研究单个细胞*使用DNA、蛋白质、肽或碳水化合物阵列*微流控或微纳电子功能器件的制备*图案化水凝胶*高定域光化学*合成和发现用于催化、光子学或治疗学应用的新纳米材料*其他高密集高分辨的微纳米器件制造

iMicro纳米压痕仪iMicro纳米压痕仪可轻松测量硬质涂层、薄膜和小尺寸材料等。其准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度测试、划痕和纳米级万能试验等多种纳米力学测试。作动器易于更换，能够提供大范围的动态载荷和位移，对于从软质聚合物到硬质金属/陶瓷等材料，均可以进行准确而可重复的测试。模块化的功能选项可以适配各种应用：材料力学特性图谱、频率相关特性测试、划痕和磨损测试以及高温测试。iMicro提供一整套的扩展功能选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D/4D材料力学性能成像、Gemini 2D作动器用于摩擦学和其它双轴力学测量。 产品描述iMicro 纳米压痕仪标配InForce 1000作动器，用于进行纳米压痕和万能纳米力学试验，并可选配InForce 50作动器用于测试较软的材料。InView 软件包灵活、现代，让用户轻松进行纳米尺度测试。iMicro是一款紧凑型测试平台，其箱体中内置高速InQuest控制器和隔振框架。各种不同的材料和器件均可以进行测试，包括金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等。 产品特色InForce 1000作动器采用电容式位移传感和电磁力驱动，且压头易于更换InForce 50作动器选件，提供最大50mN的法向力，可用于测量较软的材料；Gemini 2D作动器选件，可实现两个方向的动态测量独特的压头校准系统，集成在软件中，可实现快速、准确的压头校准InQuest高速控制器电路，数据采集速率可达100kHz，时间常数最快为20µ sXY运动系统以及易于安装的磁性样品台高刚度框架，且集成隔振功能集成显微镜，数字变焦，可实现精确的压痕定位符合ISO 14577等标准的测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus、InView University在线培训和InView移动应用程序 产品应用硬度和模量测量（基于Oliver-Pharr模型）快速材料力学性能成像ISO 14577 硬度测试聚合物损耗因子、储存模量和损耗模量定量的划痕和磨损测试高温纳米压痕测试 适用行业大学、科研实验室和研究所半导体与封装产业PVD/CVD 硬质涂层（DLC、TiN）MEMS：微机电系统/万能纳米力学试验陶瓷与玻璃金属与合金制药涂层 涂料复合材料电池与储能汽车与航空航天主要应用硬度和模量测量（基于 Oliver-Pharr 模型）力学性能表征在薄膜的制造和工艺控制中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量控制，以及半导体制造中前段和后段的工艺控制。iMicro纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬质涂层的各种材料的硬度和模量。高效地评估材料性能，保证了在生产线上进行有效的质量管控。快速材料力学性能成像对于包括复合材料在内的许多材料而言，不同区域之间的力学性能可能存在很大差异。iMicro的样品台在X轴和Y轴方向上能够分别移动100mm，且其在Z轴方向上能够移动25mm，因此可以测试尺寸大且高度不同的样品。使用NanoBlitz功能选项进行材料表面和断层力学性能成像，可以快速获得各种被测力学性能的彩色分布图。ISO 14577 硬度测试iMicro 纳米压痕仪内置预先编写的 ISO 14577 测试方法，其依据 ISO 14577 标准测量材料硬度。该测试方法可以自动测量并输出杨氏模量、纳米压痕硬度、维氏硬度和归一化压痕功。聚合物损耗因子、储存模量和损耗模量iMicro 纳米压痕仪能够测量超软材料（包括粘弹性聚合物）的损耗因子、储存模量和损耗模量。储存模量、损耗模量和损耗因子是粘弹性聚合物的重要性能，因为作用到此类材料上的能量以弹性能的形式储存或以热量的形式耗散。上述指标即用于衡量材料中的能量储存和耗散情况。定量的划痕和磨损测试iMicro 可以对多种材料进行划痕和磨损测试。涂层和薄膜要经受多种工艺流程，例如化学机械抛光(CMP)和引线键合，这会考验这些薄膜的强度及其与衬底的附着力。对这些材料来说，重要的是在这些流程中抵抗塑性形变，并保持完好而不从衬底上剥离。理想情况下，电介质材料应具有较高的硬度和弹性模量，这将有助于其在经历制造流程时有效抵抗外界影响。高温纳米压痕测试高温纳米压痕对于表征热应力作用下的材料性能至关重要，在定量研究热机械加工过程中的失效机理时更是如此。在不同温度下进行力学测试，不仅可以研究材料受热时的性能变化，还可以量化研究材料的塑性转变，这在纳米尺度上并非易事。

Obducat公司成立于1989年，总部位于瑞典隆德，旋涂分公司位于德国拉多尔夫采尔。2000年，Obducat成为全球首家将纳米压印技术商业化的公司，拥有NIL安装基地。公司拥有SPT软压、STU紫外及热同时压印和IPS(TM)中间聚合物模版等技术。作为全球优质的纳米压印设备提供商，不断为全球的公司和科研院校提供可行、低成本、高效益的纳米压印生产及科研的全套解决方案。在发展和生产下一代的电子消费产品如：相机CMOS传感器、各种硬盘、存储介质、高亮度LED、平板显示器和下一代蓝光光盘等方面推波助澜。纳米压印技术NIL(NanoImprint Lithography technology）类似于古代的印章，是一项图形转移和复制技术。1995年，普林斯顿大学纳米结构实验室Stephen Y.Chou教授通过机械力在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制了模版上的纳米图案，其加工分辨率只与模版图案尺寸有关，而不受光刻最短曝光波长的物理限制，由此引出纳米压印技术。纳米压印示意图纳米压印流程图 传统光刻技术是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。NIL技术却可以不使用电子和光子，直接利用物理机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。目前NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。鉴于其技术优势，NIL可应用于微电子器件、信息存储器件、微反应器、微/纳机电系统、传感器、微/纳流控器件、生物医用界面、光学及光子学材料等众多领域。 纳米压印技术的应用领域The EITRE Nano Imprint Lithography (NIL) Systems offer a manual and affordable lithography solution, allowing pattern replication in the micro- and nanometer range. The embedded SoftPress technology ensures excellent residual layer thickness control across the entire imprint area, enabling an accurate pattern transfer.FULL AREA IMPRINT SOFTPRESS TECHNOLOGY USER-FRIENDLY INTERFACE MULTIPLE IMPRINT PROCESS CAPABILITY WIDE RANGE OF CONFIGURATION POSSIBILITIESSUB-20NM RESIDUAL LAYER THICKNESS

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R2P纳米压印系统又名桌面式微纳米结构复制机，可以说是"The most cost-effective holographic printing technology available today 现阶段最有效的全息印刷技术工艺". 印刷电子技术受限于线宽精度的要求无法实现复杂微米及亚微米结构，而使用高精度R2R/R2P纳米压印技术可获得小到亚微米甚至几十纳米结构，这样可以很好的应用于对于结构有高精度要求的应用领域，如显示如裸眼3D,全息成像，AR眼睛等，太阳能领域，光照领域，及其他如微流控和防伪标签等,在工艺上节省时间成本的基础上，更好的开拓了微纳米结构产业化的新机遇。技术优势在于： • 全欧洲知名的R2P专利压印技术• 可快速复制超清晰均匀的微纳结构• 适用于几乎任何表面–柔性或固体、透明或不透明• 优异的光学固化引擎和易于操作的独特设计• 适用于20纳米至100微米的特征尺寸• 全系列优化的压印及模板制作材料• 超过30000次超长寿命聚合物印刷模板典型应用包括：• 光学验证防伪的衍射结构• 衍射光学元件• 增强光伏器件光电转换率的微纳米结构• 增强LEDs光电性能的微纳米结构• 光波导• 光导纤维• 微流控器件• 超亲水或超疏水功能层表面• 促进或阻止细胞生长的表面结构• 等离子体超材料结构• 生物化学微阵列• 光固化树脂材料性能测试验证• NIL蚀刻掩膜版图案制作

魔技纳米MJ-Works适用多种材料的超快激光微纳加工中心超快激光微纳加工中心，不仅拥有纳米级3D加工能力，还配备了双波长飞秒激光输出，可加工更广泛的材料。可对玻璃、光纤、晶体内部和表面进行改性或刻蚀，也可对金属、合金、陶瓷等硬质材料进行微米级精度的处理，包括打孔、表面结构处理、选择性激光消融、改性等多种功能。MJ-Works同样拥有高精度、超高速度的特点，并且可进行大幅面加工、全自动操控、长时稳定性、简单直观的软件操作以及适配多种材料的特点，适用于微纳光学、生物医学、半导体、光通信等行业的微纳加工领域。 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

3D纳米结构高速直写机 — —纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案 NanoFrazor光刻技术，衍生于IBM Research研发的热扫描探针光刻技术——快速、地控制纳米针的移动及温度，利用热针实现对热敏抗刻蚀剂的快速刻写，从而为纳米制造提供了许多新颖的、特的可能性。NanoFrazor Explore以高的速度、精度和可靠性运行，在目前所有扫描探针光刻技术中属于速度快、应用广泛的一种。NanoFrazor Explore配备了先进的硬件和软件，以合适的方式控制可加热的NanoFrazor悬臂梁，以便进行书写和成像，实现基于闭环光刻技术的各种高精度图案化工艺。2019年，Explore增配了激光直写模块，有效加快了特征线宽在微米或亚微米水平的图形的加工速度，成为纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案。由此，在针对同一抗刻蚀层的图案化工艺中，实现了纳米刻写与微米刻写的无缝衔接。从而可以根据不同的图案特征线宽，采用不同精度的刻写技术，兼顾精度与速度。 主要特点：★ 利用加热针直接刻写图案，分辨率优于15 nm；★ 利用激光热挥发实现图案化，分辨率优于1 μm；★ 高速直写 10 mm/s★ 高速原位AFM轮廓成像；★ 样品尺寸100×100 mm2；★ 闭环光刻；★ 灰度曝光，分辨率及精度达到2 nm；★ 利用原位AFM实现的对准，从而实现无掩膜套刻及写场拼接；★ 的隔音及隔振性能；★ 无需洁净间，亦无特殊的实验室环境要求闭环光刻NanoFrazor光刻系统是基于热扫描探针光刻技术，其核心部件是一种可加热的、非常锐的针，利用此针可以直接进行复杂纳米结构的刻写并且同时探测刻写所得结构的形貌。加热的针通过热作用，直接挥发局部的抗刻蚀剂，从而实现对各类高分辨纳米结构的制备。此外，NanoFrazor的光刻技术能够与各类标准的图形转移方案（如lift-off、刻蚀）兼容，从而实现各类材料的图形化制备。“闭环光刻”技术确保图形化工艺的高度纳米光刻与微米光刻兼顾的图形化工艺方案自2019年开始，NanoFrazor Explore增配了激光直写模块，由此在保障纳米分辨率图案刻写精度的同时，大大提升了NanoFrazor Explore对微米分辨率图形的刻写速度。激光刻写基于激光的热作用，以亚微米精度，快速、直接地挥发抗刻蚀剂，从而实现大面积的图案化工艺（例如微纳结构的引线或焊点图形制备）。热探针直写对于纳米结构或纳米器件关键部分的高精度、高分辨率刻写。刻写所得结构的测量、观测、对准由于抗刻蚀剂直接挥发，无须湿法显影操作即可实现抗刻蚀剂的图案化。在图案化过程中，同一根探针能够原位、高速的对图案化抗刻蚀剂进行AFM成像和测试。微米尺度及纳米尺度的哈佛大学校徽，对PPA刻蚀剂的刻蚀深度为30 nm，图像由NanoFrazor Explore的探针进行AFM成像获得。(Courtesy of Harvard CNS)3D灰度纳米光刻★ 可在针扫描的每个位置对图案化工艺的深度进行设定（即每个像素点的灰度值）★ 闭环光刻技术能够实现很高的灰度刻写精度（经论证，对大于16个灰阶的结构进行图案化工艺，灰度刻写的误差小于1纳米）用于TEM的电子光学系统的三维相盘，由PPA中的微结构转移至SiN薄膜获得(Courtesy of EPFL and KIT)刻写在PPA中的多全息图的局部（图片由Explore的探针在刻写同时进行AFM成像获得）；小图展示的是转移至Si中的全息图局部的SEM图像（Courtesy of Sun Yat-Sen University）无掩膜套刻与拼接★ 通过原位AFM功能实现高精度的无掩膜套刻及拼接（经论证，精度优于10 nm）；★ 埋在抗刻蚀剂PPA下的图案结构（如纳米片、纳米线等）可用作“天然的”对准标记写场的自动关联拼接；由金的lift-off工艺获得的）反射全息图包含1×108个像素点，每个写场为边长50 μm的正方形，写场间的拼接由AFM相关技术实现利用无掩膜光刻在单根纳米线上制备金属电：（a）由Explore的AFM成像功能探测到的纳米线轮廓及位置信息（绿线标出）与拟制备的电结构布局图（粉色区域）；（b）lift-off工艺后获得的带有金属电的单根纳米线的SEM图像高分辨率★ 锐的针，为了高分辨率的实现（经论证，在PPA抗刻蚀剂中能够实现的半节距优于10纳米）★ 无须针对临近效应的修正由PPA抗刻蚀剂转移至硅基衬底的鳍型结构和沟槽结构(Courtesy of IBM Research and imec) 其他特性能★ 低损伤：制备过程中没有引入带电粒子束流，基于敏感材料的微纳器件能够获得更好器件特性★ 纳米尺度的材料转换：多种材料的直接热诱导修饰（相变、化学反应… … ）新型号：NanoFrazor Scholar — 小面积直写■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 高可达20nm, Z: 3nm) 高速直写 0.5 mm/s■ 无需显影，实时观察直写效果 形貌感知灵敏度0.1nm 样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 50 nm ■ 无临近效应 高分辨，高密度纳米结构 ■ 无电子/离子损伤 高性能二维材料器件■ 区域热加工和化学反应 多元化纳米结构改性■ 小样品台 30mm X 30mm应用案例三维光子分子（3D PHOTONIC MOLECULES）(Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)单电子器件Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018基于二维原子晶体的器件(Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)基于准一维纳米材料的纳米器件(Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)基于布朗马达的纳米器件，可用于纳米颗粒分类(Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018) 国内外客户已发表的文献● Wolf (JVST B 2015) Sub20nm Liftoff and Si Etch and InAs nanowire contacts● Garcia (Nat Nano 2014) Advanced scanning probe lithography● Rawlings (IEEE Nano 2014) Nanometer accurate markerless pattern overlay using thermal Scanning Probe Lithography● Holzner (SPIE EMLC 2013) Thermal Probe Nanolithography● Cheong (Nanoletters 2013) Thermal Probe Maskless Lithography for 27.5 nm Half-Pitch Si Technology● Fei Ding (PhysRevB 2013) Vertical microcavities with high Q and strong lateral mode confinement● Carrol (Langmuir 2013) Fabricating Nanoscale Chemical Gradients with ThermoChemical NanoLithography● Paul (Nanotechnology 2012) Field stitching in thermal probe lithography by means of surface roughness correlation● Kim (Advance Mat 2011) Direct Fabrication of Arbitrary-Shaped Ferroelectric Nanostructures on Plastic, Glass, and Silicon Substrates● Holzner (APL 2011) High density multi-level recording for archival data preservation● Holzner (Nanoletters 2011) Directed placement of gold nanorods using a removable template● Paul (Nanotechnology 2011) Rapid turnaround scanning probe nanolithography● Wang (Adv Funct Mat 2010) Thermochemical Nanolithography of Multifunctional Nanotemplates for Assembling Nano-Objects● Wei and King (Science 2010)Nanoscale Tunable Reduction of Graphene Oxide for Graphene Electronics● Pires (Science 2010) Nanoscale 3DPatterning of Molecular Resists by Scanning Probes● Knoll (Adv Materials 2010) Probe-Based 3-D Nanolithography Using SAD Polymers● Fenwick (Nat Nano 2009) Thermochemical nanopatterning of organic semiconductors● Lee (Nanoletters 2009) Maskless Nanoscale Writing of Nanoparticle-Polymer Composites and Nanoparticle Assemblies using Thermal Nanoprobes● Nelson (APL 2006) Direct deposition of continuous metal nanostructures by thermal dip-pe

纳米压印技术解决了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，具有分辨率高、低成本、高产率的特点。自1995年提出以来，纳米压印已经经过了14年的发展，演变出了多种压印技术，广泛应用于半导体制造、mems、生物芯片、生物医学等领域。NIL压印机的基本思想是通过模版，将图形转移到相应的衬底上，转移的媒介通常是一层很薄的聚合物膜，通过热压或者辐照等方法使其结构硬化从而保留下转移的图形。整个过程包括压印和图形转移两个过程。根据压印方法的不同，NIL主要可分为热塑（Hot embossing）、紫外固化UV和微接触（Micro contact printing， uCP）三种光刻技术。 二、 功能l 主要功能纳米压印机的主要功能是将图形转移到相应的衬底上，转移的媒介通常是一层很薄的聚合物膜，通过热压或者辐照等方法使其结构硬化从而保留下转移的图形。压印技术主要分为以下两种：热压：首先在衬底上涂上一层薄层热塑形高分子材料（如PMMA）。升温并达到此热塑性材料的玻璃化温度Tg（Glass transistion temperature）之上。热塑性材料在高弹态下，将具有纳米尺度的模具压在上面，并施加适当的压力，热塑性材料会填充模具中的空腔，模压过程结束后，温度降低使热塑性材料固化，从而得到与模具的重合的图形。随后移去模具，并进行各相异性刻蚀去除残留的聚合物。接下来进行图形转移。图形转移可以采用刻蚀或者剥离的方法。刻蚀技术以热塑性材料为掩膜，对其下面的衬底进行各向异性刻蚀，从而得到相应的图形。剥离工艺先在表面镀一层金属，然后用有机溶剂溶解掉聚合物，随之热塑性材料上的金属也将被剥离，从而在衬底上有金属作为掩膜，随后再进行刻蚀得到图形。紫外压印：为了改善热压印中热变形的缺点，特克萨斯大学的C. G. willson和S. v. Sreenivasan开发出步进-闪光压印（Step- Flash Imprint Lithography），这种工艺中采用对紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（软模），光阻胶采用低粘度，光固化的单体溶液。先将低粘度的单体溶液滴在要压印的衬底上，结合微电子工艺，薄膜的淀积可以采用旋胶覆盖的方法，用很低的压力将模版压到晶圆上，使液态分散开并填充模版中的空腔。透过模具的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。后刻蚀残留层和进行图形转移，得到高深宽比的结构。后的脱模和图形转移过程同热压工艺类似。 技术特点★主机包含：真空系统，温度控制系统，压力控制系统，水冷系统，PLC 控 制系统，软件操作界面，紫外光源，单面电磁加热系统 设备压印尺寸：4 英寸。 设备可以实现热压印、紫外曝光压印 ★大压力：8bar（空压机），20bar（外接超净室气源） 温度范围：从室温到 250 摄氏度。 紫外光源类型：高压汞灯：功率：400W，主波长：365nm。 ★设备真空度：10 帕。 ★设备随机可以根据科研需求提供全系列的纳米压印胶，包括： 热压胶、紫外光固化胶 深刻蚀型压印胶、举离型（Lift-Off）压印胶 快速模板制作材料、各类模板防沾剂、衬底增粘剂等 ★随设备随机可以根据科研需求提供定制纳米压印模板，包括：周期 400nm的 4英寸点阵模板镍模板 SFP & Hybrid Mold软模板 支持 20nm 分辨率及曲面压印，并提供文献工艺支持， ★支持自动脱模，电磁加热功能 国内外大于 10 个客户 ★工艺包括： 纳米压印胶旋涂工艺支持 纳米压印模板防粘工艺支持，避免脱模粘胶影响 纳米压印机参数调节 软模板工艺，包括 PDMS 模板、SFP 以及 Hybrid Mold 工艺 ICP 刻蚀工艺 柔性聚合物衬底压印工艺，Nickel Template 金属镍模板热压 PET、PMMA 等 举离（Lift-off）工艺支持，加工金属结构 纳米压印表征技术 更新压印工艺研发指导，文献支持 技术能力该设备的发明人2001年至 2003 年，在纳米压印技术发明人、 美国普林斯顿大学 StephenY.Chou 教授的纳米结构实验室作为研究助理进行了为期 3 年的研究工作，发展了紫外光固化纳米压印工艺与材料，对纳米压印技术的发展做出了重要的贡献。2004 年加入材料科学与工程系后继续围绕纳米微加工技术与纳米压印技术开展研究工作，研发了数种新型纳米压印材料，发展了新型高分子压印模板，提出了曲面纳 米压印技术；利用 863 课题“紫外光固化和热压两用纳米压印设备的研制与应用”项目的支持，研制成功具有紫外光固化和热压功能两用纳米压印设备，现已成为产品，并被南京大学、北京航空航天大学、国防科技大学、黑龙江大学、中科院深圳研究院等多家高校和科研机构所采用，形成了具有自主知识产权的纳米压印核心技术，，技术水准与当前国际该领域先进水平同步。纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和光子的前提下，直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由于这种机械作用，使得纳米压印技术不再受到光子衍射和电子散射的限制，可大面积地制备纳米级图形。同时，由于这项技术所用的设备简单，制备时间短，压印模板可以重复使用，所以应用该技术制备纳米图形所需的成本也较低。目前典型的三类纳米压印技术分别是：热压印，紫外固化压印，微接触印刷。分别适用在其各自的领域：热压印技术：光电、光学器件；微型机电系统领域。紫外固化压印技术：纳米光电器件、纳米电子器件的生产；NEMS和MEMS加工；半导体集成电路的制造。微接触印刷技术：生物芯片和微流体器件的生产；生物传感器（抗体光栅）；微机械元件的生产。加工工艺来分，主要包含五大部分：压印，刻蚀，镀膜，检测&表征与其他。所涉及的仪器设备主要包括：纳米压印机，感应耦合等离子体刻蚀机，电子束蒸发镀膜机，原子力显微镜&扫描电镜，以及超声波清洗机&真空干燥箱等。 Sandwiched Flexible Polymer-SFP & Hybrid Mold软模板压印技术尽可能消除灰尘颗粒对于纳米压印结果产生的影响 在不规则表面或者曲面进行纳米压印（下图为单模光纤进行的纳米压印） Nickel Template金属镍模板热压技术直接对于聚合物衬底（PMMA、PET等材料上）直接热压，免去了刻蚀环节。 先进的电镀工艺支持加工微纳米尺度镍模板 600nm周期镍模板镍模板寿命长，适合高温高压连续压印。

非线性纳米光波导OCTave Photonics提供了封装的非线性纳米光波导，用于产生脉冲激光器的超连续介质。这些非线性纳米光波导可实现即插即用的低脉冲能量以及产生宽频带超连续光谱。超连续谱的产生允许将窄带宽的脉冲激光器扩大到先前带宽的许多倍。宽带宽对于许多应用至关重要，包括光谱学和频率梳的自参考。纳米光子波导具有比非线性光纤低得多的脉冲能量的超连续谱，并提供对输出光谱形状的控制。非线性纳米光波导的特征：保偏光纤准直自由空间输出密封主动温度稳定多瓦级功率处理非线性纳米光波导的参数：规格SC-1560-780SC-Custom输入脉冲波长~1560 nm~1000 to 2000 nm输入脉冲能量150 pJ100 pJ输出光谱范围~750 to 2000 nmCustomizable色散波峰值780 nm可定制，600至2500nm输入PM1550 fiberPM Fiber输入连接器FC/APCFC/APC，FC/PC输出PM780 fiber光纤或自由光输出输出连接器FC/APC光纤或透镜尺寸50x25x12 mm可定制平均功率2 Watts4Watts操作温度-20 to 60 ℃0 to 40 ℃非线性纳米光波导的组合产品及应用：（1）激光频率梳的f-2f自参考COSMO主要特征：输入波长：~1560 nm输入脉冲能量：200 pJ输入：PM1550光纤输出：SMA连接器尺寸：~40x25x15 毫米CEO 信噪比：35 dB COSMO通过光纤连接器(FC/APC或类似的连接器)连接激光器，并提供可连接到梳状稳定电子器件的电输出。脉冲必须在COSMO盒的入口被压缩，因此必须使用适当长度的光纤和/或色散补偿光纤。此外，对输入脉冲能量的控制可以优化fCEO信号的信噪比。COSMO产品参数：规格COSMO输入脉冲波长~1560nm输入脉冲能量200 pJ输入PM 1550 Fiber输入连接器FC/APC输出接线盒尺寸40x25x15 mm大平均功率3Watts操作温度0 to 40 ℃CEO峰值的信噪比35 dB（2）电光频率梳 Octave Photonics的EO梳是高度可定制的，取决于所需的输出。在完整形式中，基础EO梳与放大器、色散补偿器相结合，提供1 ps脉冲，然后通过光学滤波腔产生低噪声脉冲序列。然后这些脉冲进入脉冲压缩器，在那里它们的持续时间减少到100秒。从而，在纳米光子波导中产生的超连续谱产生了一个跨越倍频的谱，该谱用于EO梳的f-2f自参考和稳定载波-包络偏移频率。Octave Photonics还可以帮助集成EO梳与应用程序。电光频率梳的特征：具有均匀分布的光学频率的光谱。大带宽上的光谱相干性。5 到 30 GHz 之间的重复率光输出功率高达 5 瓦脉冲持续时间短至 20 fs电光频率梳的参数：型号基础款扩充款重复频率5-30 GHz5-30 GHz中心波长1550nm1550nm输出功率5Watts5Watts脉冲时间0.8-1.5ps20fs尺寸0.65×0.3×0.2m2×1×0.5m(上图)EO基础梳的频谱，可见10 GHz梳齿。(右)绿色和蓝色的线显示了在纳米光子波导中展宽后的EO梳状谱其他应用：非线性集成光子学、光学原子钟、探测系外行星关于昊量光电昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致力于引进国外创新性的光电技术与可靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知名光电产品制造商建立了紧密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及前沿的细分市场比如为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前沿科研与工业领域提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务，助力中国智造与中国创造! 为客户提供适合的产品和提供完善的服务是我们始终秉承的理念！您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询，我们将竭诚为您服务。

此微纳米力学原位测试系统可以对各种微纳米薄膜、涂层材料或块体材料微纳米尺度上进行压痕、划痕、摩擦磨损和原位扫描探针成像测试功能，通过软件直接实现连续更换不同实验模式，具有高分辨率，高控制精度，高稳定性的特点。设备可直接测试出器件及各种微纳米薄膜、涂层材料或块体材料微纳米尺度上在不同温度下的硬度、表面粗糙度、薄膜厚度、杨氏模量、基底效应、断裂韧性、附着性能、抗磨损能力、储能模量、损耗模量及损耗因子等。设备可直接观测器件及各种纳米薄膜涂层材料在微/纳米尺度上的失效、断裂、蠕变、摩擦磨损等各种力学行为的发生，结合上述工作对材料的制备工艺和服役性能进行评价。应用领域涵盖了聚合物、复合材料、金属、陶瓷、MEMS、生物材料等几乎所有的材料领域。美国KLA-Tencor公司是全球微纳米力学(压痕)测试设备的开创者，全球第一台纳米力学测试系统于上世纪80年代初在此诞生，多种测量方法和物理模型都是来自该公司。经过近40年不断地努力和改进，目前该公司微纳米力学测试不仅实现了静态纳米压痕测试，同时实现了高水平的动态纳米压痕测试和原位纳米压痕测试，当前中华人民共和国纳米压痕测试标准GB/T 22458—2008和GB/T 25898-2010均包括了KLA-Tencor 的连续刚度测量专利技术，在该领域具有很高的权威性，KLA-Tencor在连续刚度测试（CSM）、高分辨率、扫描成像、快速测试方面拥有独有技术。KLA-Tencor是该领域知名的跨国公司，中国设立地区总部, 拥有高水平的专业技术支持和售后服务人员，国内用户得到很好的售后服务和技术支持，国内主要高校和中科院下属多个研究机构以及测试中心均采购该微纳米力学测试系统。更多应用，请联系我们探讨您的需求。

l纳米团簇束流沉积系统由纳米团簇源、质量选择器、沉积系统构成。 l可以用于基于纳米粒子的器件加工，可在结构、化学组分、封装等不同环节上对纳米结构单元进行操纵。l可用于纳米粒子膜的大规模工业化制备。l工艺过程高效、快速和低成本。v创新的镀膜、沉积设备 v新型的纳米颗粒制备设备 纳米粒子源通过气相聚集过程及差分束流系统形成纳米团簇束流，由质量选择器进行筛选，然后在高真空下以声速（低能）或被加速（高能）沉积于基底上。1、纳米团簇束流沉积系统——纳米团簇源l纳米粒子的平均直径：0.5～35nm（1 ～ 106个）可调。 l纳米粒子的尺寸分布（FWHM）：2～5nm。 l可选用多靶套件。 l可选用粒子弯头，实现多种团簇沉积或取样。 l相比传统磁控溅射系统，节约大约50%氩气。 l靶材可以是金属（包括碱金属、贵金属和特高熔点金属，例如：锇、钨）、非金属（常温常压下固态非金属单质和化合物）、半导体（例如硅、锗）、能在真空存在的固态有机材料等。2、纳米团簇束流沉积系统——质量选择器l基于德国科学家的时间飞行法对小团簇进行原子数级的质量选择，可以从“白”束流中分选出pA-nA流量的单原子数组分束流，质量选择精度为0.5 ～2%。 l1-200单原子可控。l尺寸选择精度：亚纳米级。 l通量：1010/s ～ 1011/s(1-10nA)。l选择后束流原子数在1 ～10000之间，选择精度优于20，可达200。3、纳米团簇束流沉积系统——沉积系统l纳米薄膜沉积速度可监控，并在0.05 ～2nm/s连续可调。 l标准纳米束流直径：0.5 ～25mm可调，可选配样品X-Y扫描器，制备150×150mm以上样品。 l可实现加速动能为1 ～40keV的荷能纳米粒子沉积。 l系统背景真空度可达10-9Torr。 l控制沉积速度（声速）并配合控温台（选配）实现沉积过程不升温。 l可选配快速降温组件，实现退火，得到一些特殊相。 l可用于制备纳米颗粒。

BOS-NG光相关纳米粒度仪全新BOS-NG是我公司zui新推出的基于动态光散射原理的纳米粒度仪。它采用高速光子相关器和专业的高性能光电倍增管作为核心器件，具有快速、高分辨率、重复及准确等特点，是纳米颗粒粒度测定的shou选产品，新NG进行了全新设计。主要性能特点：先进的测试原理：本仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，根据颗粒在液体中的布朗运动的速度测定颗粒大小，小颗粒布朗运动速度快，大颗粒布朗运动速度慢。当激光束照射在运动的颗粒上时，某一角度（本仪器采用90度）的散射光随时间发生动态变化，变化的快慢与颗粒在液体中的布朗运动的速度有关，采用光子相关光谱法对动态散射光谱进行统计及相关运算分析，并根据Stokes-Einstein方程计算其颗粒大小。高灵敏度与信噪比：采用具有低暗计数、高灵敏度的HAMAMATSU专业级高性能光电倍增管（PMT）作为探测器，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比，从而保证了测试结果的高准确度和高分辨率；超强的运算功能：使用PCS技术测定纳米级颗粒大小，必须能够分辨纳秒级信号起伏。本仪器的核心部件采用专用集成电路ASIC研制的高速光子相关器，具有识别6ns的极高分辨能力和极高的信号处理速度，可快速实时的采集光子数并计算相关运算，为测试准确度奠定基础；稳定的光路系统：采用恒温控制的大功率半导体激光和光纤组合搭建而成的光子相关光谱探测系统，使其不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力和稳定性，保证测试结果重复稳定；高精度温控系统：样品池温控系统和激光器温控系统精度高达±0.1℃，使被测样品和激光器光源在整个测试过程中都处于恒温状态，避免温度变化对测试结果的影响，确保测试准确性和重复性；超强功能的分析软件：分析软件中反演算法采用国际标准推荐的累计量法以及目前比较通用的非负最小二乘法（NNLS）和Contin等多种算法，其测试结果与国际权威的同类产品具有很好的一致性；测试精准并稳定：高性能的硬件和国际标准化的反演算法的完美结合，造就了BOS-NG测试结果的精准与重复，其测试准确度和重复性等指标均高于国际标准要求。全新散热系统：新NG进行了双气流设计，热气流直接排出仪器外壳，倍增管、激光器、相关器等重要部件不再受热气流的影响，测量数据更加准确、更稳定，同时大大延长了这些重要部件的使用寿命。自动感应滑门：新NG加装了比色皿门自动开启、闭合功能，当手靠近仪器时滑门会自动打开方便测试人员拿取比色皿，当手远离仪器时滑门会自动闭合。此款纳米粒度仪已经达到国外纳米粒度仪的测试水平！ BOS-NG光相关纳米粒度仪技术参数及详细配置规格型号BOS-NG执行标准GB/T 29022-2012/ISO 22412：2008测试范围1-10000nm(与样品有关)浓度范围0.1mg/L-100mg/L准确度误差1%（国家标准样品平均粒径）重复性误差1%（国家标准样品平均粒径）激光主激光器：λ=532nm，半导体激光器（温控保护）探测器光电倍增管（PMT）散射角90°样品池10mm*10mm , 4ml（带温控保护）温度范围5-90℃（精度±0.1℃）测试速度1Min/次（不含样品分散时间） 光子相关器 物理通道：512，等效通道：10000，基线通道：8 采样及延迟时间：1us~200us动态可调 最小分辨能力：6ns

研发型Desktop纳米压印光刻设备UniPrinterUniPrinter是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，操作简单、功能强大的台面型纳米压印光刻设备。可实现4英寸以下基底面积上高精度（优于10nm * ）、高深宽比（优于10比1 * ）纳米结构压印，适合用作紫外纳米压印光刻工艺开发，器件原型快速验证，纳米压印材料测试等研发。它沿用天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，在UniPrinter上开发的工艺可以无障碍转移到天仁微纳其它量产设备上进行生产。UniPrinter纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED等应用领域的研发。主要功能● 沿用天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，开发的工艺可以无障碍转移到量产设备上进行生产● 直径100mm以下面积高精度、高深宽比纳米压印● 设备内自动复制柔性复合工作模具● 自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预● 标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强300mW/cm2 ），完美支持各种纳米压印材料● 随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平设备照片相关参数兼容基底尺寸直径≤100mm支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金属等纳米压印技术适合高精度、高深宽比纳米结构压印压印精度优于10纳米*结构深宽比优于10比1*残余层控制可小于10nm*紫外固化光源紫外LED（365nm）面光源，光强300mW/cm2自动压印支持自动脱模支持自动工作模具复制支持上下片方式手动上下片如想了解更多产品信息，可通过仪器信息网和我们取得联系 400-860-5168转6144