纳米技术

Nanotechnology 纳米技术通过与领先的研究机构和大学专家的合作，TSE系统开发出纳米颗粒发生器和分析仪用于吸入纳米颗粒的研究。仪器改造为用户定义的系统配置----根据需要单独的一起规格。我们的纳米颗粒发生器提供纳米材料的散布，成为可现实暴露的气溶胶。结合CPC和DMA分析方法产生一种高分辨率的纳米粒子分析仪适用于几乎所有类型的研究以及进程监测。&bull 纳米颗粒发生器使用电喷射技术用于体外及体内研究&bull 单锥喷嘴模式用于均匀沉积或多喷嘴模式用于高通量暴露&bull 凝结粒子计数器（CPC）用于超细颗粒下至4.5纳米&bull 微分迁移率分析仪（DMA）用于根据其大小分类粒子&bull 纳米粒子分析仪的工作具有高分辨率和低粒子损失体内纳米颗粒发生器

仪器简介：随着纳米技术、MEMS技术、半导体工业的飞速发展，对纳米级精度的移动定位装置、操纵装置、加工装置等的需求也在快速增长。为了满足这一市场需要，我们推出了一系列纳米定位、微操纵装置。纳米精度定位装置该系列产品设计极为紧凑，可以使样品或探针作直线或旋转移动。而且很多型号可以工作在极端环境条件下，例如极低温、超高真空、强磁场等。这些设备可以提供多种不同尺寸和材料，开辟了一个全新的定位设备的市场，在很多领域开拓了全新的研究方向。●适应各种极端工作环境：低温、超高真空、强磁场●提供多种运动自由度：XYZ直线、旋转、XY扫描、Z扫描、Θ、Φ等等，并且可以任意组合●定位精度高达纳米级● 很高的稳定性，无机械漂移、无回差、无需高压●负载大，可达自重的数倍●部分型号具有两种工作模式，单独一个设备既可以实现粗定位，也可以用于扫描●部分型号可选配多种位置读出设备，实现闭环控制●可根据客户要求定制各种特殊定位装置纳米级操纵装置，适用于SEM, TEM, FIB系统纳米马达拥有原子量级分辨率，运动行程达厘米级，横跨8个数量级，可提升6倍于自身重量的物体，并适应多种工作环境，包括超高真空、磁场、甚至液氮。纳米定位平台●最大承重量为2kg●行程：5~70mm●运动速度： 2 mm/s●运动分辨率：2nm ●定位传感器分辨率：10nm机械手包括微操作机械手、力反馈机械手、XYZ机械手等，可对夹持力进行精确控制，具有分辨率高，行程大，设计灵活等特点。

首屈一指的基于纳米技术的公司之一 公司成立于2013年 Shivamogga，卡纳塔克邦，印度。 我们致力于 纳米技术的视野，旨在增加 生活中的纳米技术。 我们正在进入 纳米材料制造与应用 开发公司，我们在那里制造 石墨烯，各种形式的碳纳米管 和其他金属基纳米颗粒散装 数量。 AD-NANO 技术是一个 制造商和研发代表 公司致力于提供创新 通过引入技术领域的解决方案 纳米技术在里面我们的科学家和工程师团队正在开发与纳米技术相关的各种应用 热衷于在生活中添加纳米技术的纳米技术领域的研发。 我们通过将客户与他们的纳米技术联系起来，弥合了灵感与创新之间的差距。 解决他们的工程和技术问题，以及将技术升级到下一代所需的生活。 我们还生产导电油墨，如碳纳米管导电油墨、石墨烯导电油墨、石墨 导电油墨，广泛用于工业部门和研发计划领域。半导体单壁碳纳米管 技术数据表 95纯度半导体碳含量 ~95% 单壁碳纳米管直径 ~0.6 – 1.2 nm 单个碳纳米管长度 ~400 – 2000 nm 计算分子量 ~3.4x105 – 5.2x106 Amu 颜色 黑色 形态学 纳米管的干燥纤维状粉末捆绑绳索状。半导体单壁碳纳米管 技术数据表 99纯度

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK）校园里，是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司，公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系，并享有共同的超净设备和研发技术成果，公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发，并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案，包括： * LED纳米压印解决方案：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap （PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体，激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析，血液分析，细胞生长

微流控纳米药物制造系统纳米颗粒制造技术，是纳米技术领域的技术前沿，其尺寸依赖特性，使这些材料在许多领域表现出了优势。此项技术已应用于诸多行业，如药物输送、能源和电子等。纳米颗粒合成技术是实现纳米颗粒应用的步骤之一。与传统的批处理合成方法相比，PreciGenome 搭建的纳米颗粒合成系统表现出了极大的优势，其通过微流控技术，在纳米颗粒尺寸均一性和形状控制方面都表现出其优势。有效载体DNA/mRNA/siRNA小分子药物 Small molecule drugs蛋白质和多肽 Proteins and peptides其它有效载体 Other payloads应用领域药物输送核酸脂质纳米颗粒合成聚合物纳米颗粒合成，如PLGA，PLGA-PEG脂质/脂质体合成凝胶颗粒合成Flex-S产量为0.1-1ml的产品已经上市，非常适合昂贵的mRNA。纳米颗粒合成原理脂质试剂：更多产品详情，请联系哲本仪器：

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

DYYB系列超声波纳米材料分散仪或超声波乳化分散器：产品概述：纳米技术的核心内容是如何解决纳米粒子的团聚问题，由于纳米粒子本身极易团聚，要得到单个分散的纳米粒子非常困难，如何使纳米粒子均匀地分散到基体中去是纳米技术的关键技术。我公司系列超声波产品是利用超声波的超声空化作用来分散团聚的颗粒。它是将所需处理的颗粒悬浮液（液态）放入超强声场中，用适当的超声振幅和作用时间加以处理。由于粉体颗粒团聚的固有特征，对于一些在介质中分散得不好的粉体，可加入适量的分散剂使之保持分散稳定状态。该产品最近尤其用于分散纳米材料，有良好效果，正受到各方关注. 超声波乳化以其“空化效应”实现油掺水乳化、水掺油乳化、分散相与连续相的混合匀化，是替代螺旋桨、胶体磨等传统乳化工艺的现代声化学手段。超声乳化的一个重要特点就是可以不用或少用乳化剂使产生极稳定的乳液。超声乳化的明显优点已促使它在食品、造纸、油漆、化工、医药、纺织、燃油热电、燃油中央空调、石油、冶金等许多工业处理中已越来越多地得到应用，其中燃油掺水燃烧在国内就是重新兴起的一个重要项目。技术参数： 型号工作频率(KHz)超声波功率(W)随机变幅杆单次处理量(ml)可选配变幅杆温度控制(选配)DYYB-500F22-305-500Φ60.2-400Φ2、Φ3，Φ8、 Φ10-60-200℃DYYB-1000F22±110-1000Φ100.2-600Φ6、Φ12、Φ15DYYB-1500F20±120-1500Φ2050-1500Φ15、Φ25DYYB-3000F20±1500-3000Φ35或Φ40500-5000

产品介绍：纳米技术的核心内容是如何解决纳米粒子的团聚问题，由于纳米粒子本身极易团聚，要得到单个分散的纳米粒子非常困难，如何使纳米粒子均匀地分散到基体中去是纳米技术的关键技术。我公司系列超声波产品是利用超声波的超声空化作用来分散团聚的颗粒。它是将所需处理的颗粒悬浮液（液态）放入超强声场中，用适当的超声振幅和作用时间加以处理。由于粉体颗粒团聚的固有特征，对于一些在介质中分散得不好的粉体，可加入适量的分散剂使之保持分散稳定状态。该产品最近尤其用于分散纳米材料，有良好效果，正受到各方关注. 超声波乳化以其“空化效应”实现油掺水乳化、水掺油乳化、分散相与连续相的混合匀化，是替代螺旋桨、胶体磨等传统乳化工艺的现代声化学手段。超声乳化的一个重要特点就是可以不用或少用乳化剂使产生极稳定的乳液。超声乳化的明显优点已促使它在食品、造纸、油漆、化工、医药、纺织、燃油热电、燃油中央空调、石油、冶金等许多工业处理中已越来越多地得到应用，其中燃油掺水燃烧在国内就是重新兴起的一个重要项目。 技术参数：型号工作频率(KHz)超声波功率(W)随机变幅杆单次处理量(ml)可选配变幅杆温度控制(选配)DYYB-50022-305-500Φ60.2-400Φ2、Φ3，Φ8、 Φ10-60-200℃DYYB-100022±110-1000Φ100.2-600Φ6、Φ12、Φ15DYYB-150020±120-1500Φ2050-1500Φ15、Φ25DYYB-300020±1500-3000Φ35或Φ40500-5000

仪器简介：从1979年开始，BUCHI公司一直供应小型喷雾干燥仪B-190、B-191和B-290系统，目前已成为实验室规模喷雾干燥仪领域的全球市场领导者。我们在全球的大学、研究所以及各类专业研究机构安装了4000多台喷雾干燥仪。喷雾干燥作为一种柔和、连续和可拓展的干燥过程正日益受到关注，它可快速将液体转化为干燥粉末。纳米喷雾干燥仪B-90具有在亚微米甚至纳米范围生成颗粒粒径的独特能力，可以以高产率处理毫克级样品量，从而使当今的喷雾干燥方法产生了根本性变化。B90尤其适合满足制药、生物技术、材料和纳米技术市场的需求。在这些领域中所呈现的最新应用趋势，重点集中在复杂材料、高价值药品和纳米颗粒等方面。曾经，喷雾干燥常受到颗粒直径、产率和样品量的约束。而今，可获得的最小颗粒直径锐减至300纳米，而产率直线提高至90%，能处理的最小样品量更是达到令人惊叹的毫克级。这一切都归功于集创新技术的喷头、加热系统和静电颗粒收集器。技术参数：1. 加热功率：1400W；温度控制：± 1℃2. 最高入口温度：120℃3. 蒸发能力：最大0.2L/h，有机溶剂更高4. 空气流量：80-160L/min5. 喷雾盖（孔直径）：4μm，5.5μm，7μm6. 平均雾滴直径：8-21μm7. 平均颗粒粒径：300nm-5μm8. 平均停留时间：1-4s9. 尺寸（W× H× D）：58× 110/150× 55cm （低位或高位配置）10. 重量：65/70kg （低位或高位配置）主要特点：1. 全球独创的压电雾化技术2. 适合小量样品（ml，mg）高效喷雾3. 颗粒粒径分布窄4. 高产率的静电颗粒收集器5. 模块化玻璃组件和全可视化喷雾过程6. 安装时间短，清洗方便7. 连接惰性循环系统B-295, 可安全处理有机溶剂8.PC软件实现在线的参数监控和存储， 过程参数记录和输出功能 应用领域： 1.制药2.生物技术3.材料4.纳米技术 纳米喷雾干燥仪的应用实例：1. 采用纳米喷雾干燥技术制备壳聚糖亚微米/纳米颗粒2. 采用纳米喷雾干燥技术生产海藻酸钠亚微米/纳米颗粒3. 纳米喷雾干燥技术在治疗性蛋白领域中的应用 - -乳糖降解酶，酶活性试验4. 纳米喷雾干燥技术在蛋白质制剂领域中的应用 - -单克隆抗体、L-乳酸脱氢酶5. 采用纳米喷雾干燥技术制备粉末吸入剂--呼吸给药6. 纳米喷雾干燥技术在材料化学领域中的应用 --汽车和电子工业用燃料电池 层流加热系统 静电颗粒收集器惰性循环系统B-295

超声波纳米材料分散仪或超声波乳化分散器概述：纳米技术的核心内容是如何解决纳米粒子的团聚问题，由于纳米粒子本身极易团聚，要得到单个分散的纳米粒子非常困难，如何使纳米粒子均匀地分散到基体中去是纳米技术的关键技术。我公司系列超声波产品是利用超声波的超声空化作用来分散团聚的颗粒。它是将所需处理的颗粒悬浮液（液态）放入超强声场中，用适当的超声振幅和作用时间加以处理。由于粉体颗粒团聚的固有特征，对于一些在介质中分散得不好的粉体，可加入适量的分散剂使之保持分散稳定状态。该产品最近尤其用于分散纳米材料，有良好效果，正受到各方关注.应用：超声波乳化以其“空化效应”实现油掺水乳化、水掺油乳化、分散相与连续相的混合匀化，是替代螺旋桨、胶体磨等传统乳化工艺的现代声化学手段。超声乳化的一个重要特点就是可以不用或少用乳化剂使产生极稳定的乳液。超声乳化的明显优点已促使它在食品、造纸、油漆、化工、医药、纺织、燃油热电、燃油中央空调、石油、冶金等许多工业处理中已越来越多地得到应用，其中燃油掺水燃烧在国内就是重新兴起的一个重要项目。技术参数：型号：DYYB-1000C显示方式：7寸触摸屏显示（TFT）输入方式：触摸控制存储数据：20组数据打印功能：有功率及脉宽波形显示：有与电脑联机功能：有用户密码保:有 单次超声时间：0.1-9.9S单次间隙时间：0.1-9.9S总工作时间：1-999M工作模式：间隙或连续频率：20-25KHz 功率：10- 1000W（1%-99%）可调 破碎容量：0.2-700ML(需选配相应的变幅杆)温控范围：室温-90度（可选配低温恒温）报警功能有：温度、时间、过载、空载随机变幅杆：Φ6可选配变幅杆：Φ2、3、8、10、12、15占空比：0.1-99.9%电源： 220V±5%/ 50Hz（可定制110V）电源箱+换能器重量： 18kg电源机箱尺寸及净重：42×28×22（CM） 16kG外主机包装尺寸： 53×30×42CM（长*宽*高）外隔音箱包装尺寸：35×35×52CM（长*宽*高）型号：DYYB-1200C显示方式：7寸触摸屏显示（TFT）输入方式：触摸控制存储数据：20组数据打印功能：有功率及脉宽波形显示：有与电脑联机功能：有用户密码保护：有 单次超声时间：0.1-9.9S单次间隙时间：0.1-9.9S总工作时间：1-999M工作模式：间隙或连续频率：19.5-20.5KHz 功率：20- 1200W（1%-99%）可调 破碎容量：10-1000ML(需选配相应的变幅杆)温控范围：室温-90度（可选配低温恒温）报警功能有：温度、时间、过载、空载随机变幅杆：Φ20可选配变幅杆：Φ10、15、22占空比：0.1-99.9%电源：220V±5%/ 50Hz（可定制110V）电源箱+换能器重量： 18kg电源机箱尺寸及净重：42×28×22（CM） 16kg外主机包装尺寸： 53×30×42CM（长*宽*高）外隔音箱包装尺寸：35×35×52CM（长*宽*高）

NanoScan SMPS纳米颗粒粒径谱仪 - 3910型产品详情TSI 3910 型NanoScan SMPS 打开纳米颗粒粒径常规测量的大门。此粒径谱仪将TSI 公司的SMPSTM 粒径谱仪集成在约一个篮球大小的便携箱内。容易使用，重量轻，电池供电等优点使NanoScanSMPS 让研究人员多点采集纳米颗粒粒径分布数据成为可能。由TSI 核心技术中衍生而来，NanoScan SMPS 是一个创新的，低成本的实时纳米粒径测量的有效解决方案。新型的 3914 将纳米颗粒粒径谱仪和 光学颗粒物粒径谱仪 整合在一起， 可以实现经济、便携、实时的测量 10 纳米到 10微米大小的粒子 。特点下降到 10 纳米的粒度分布两种测量模式： SCAN - 实时粒径分布 SINGLE-单个粒径浓度监测 1 分钟粒径分布 1 秒钟单个粒径数据 简单，独立操作内置的数据记录小巧便携的~ 6 小时的电池寿命，热插拔，充电电池浓度高达 1000000 粒 / 立方厘米NanoScan Manager 管理软件包无放射性材料多仪器管理软件使用光粒度仪模型 3910优势实时纳米尺寸的测量理想的应用需求的可移植性 道路工作场所调查领域的研究点源识别允许用户从多个站点收集更多的数据开辟了同步的时间和空间测量的可能性提供了新的研究机遇进入纳米微粒的发射 / 曝光测量和纳米技术易于学生和工人操作简化数据分析和数据报告里是否有管理软件应用 一般的应用研究室内 / 室外空气质量调查纳米 / 纳米颗粒的应用燃烧和排放的研究移动研究 健康影响 / 吸入毒理学 职业卫生 / 工作场所暴露监测 点源识别 包含项目 Nanoscan SMPS 纳米粒度仪Nanoscan 经理软件光盘Nanoscan 配件包关于TSI公司TSI公司研究、确定和解决各种测量问题，为全球市场服务。作为精密仪器设计和生产的行业领导者，TSI与世界各地的科研机构和客户合作，确立与气溶胶科学、气流、健康和安全、室内空气质量、流体力学及生物危害检测有关的测量标准。TSI总部位于美国，在欧洲和亚洲设有代表处，在其服务的全球各个市场建立了机构。每天，我们专业的员工都在把科研成果转化成现实。

EVG720紫外纳米压印机一、设备原理：EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大150mm大面积压印：最大150mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级u SECS/GEM II: 可选。公司简介：EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界领先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。

德国ParteQ 纳米颗粒合成制备系统ParteQ 公司介绍ParteQ GmbH由其两位管理合伙人Karsten Wegner博士和Martin Seipenbusch博士于2016年夏天创立，目标是成为纳米颗粒和气溶胶技术产品和服务的领先供应商。ParteQ为粉末和气溶胶提供可扩展的合成系统以及颗粒测量技术。在合成领域，重点是纳米颗粒和纳米粉体。这些材料用于纳米技术，多相催化，也用于电池技术和许多其他技术。除了气溶胶技术中的设备工程和测量技术外，我们还以研究服务和根据客户规格合成功能化颗粒材料的形式提供我们在颗粒技术、颗粒工程和纳米技术领域的知识和经验。ParteQ GmbH在功能材料领域的重点在于纳米颗粒和纳米粉末的合成。通过化学气相沉积将微米到毫米大小的颗粒功能化大大扩展了粉末和结构的范围。我们的合成方法包括用于生成氧化物、磷化物和金属纳米颗粒的火焰喷雾热解法，以及用于金属纳米颗粒的电弧和等离子体系统。ParteQ产品介绍ParteQ GmbH 提供一系列用于生成固体纳米颗粒和液滴的系统，包括从雾化和蒸发/冷凝到火焰到热壁合成的各种工艺。利用化学气相沉积法进行粉末功能化是我们另一个重点。对于粉末和气溶胶的表征，我们还提供广泛的颗粒测量技术及系统。关于纳米粉末的收集我们提供专门的过滤系统及过滤测试系统，以分析过滤介质和滤芯的效率。一、纳米颗粒和纳米粉体的合成制备ParteQ 提供基于火焰、热壁和火花技术的纳米颗粒制备合成系统。Parteq GmbH开发可扩展的气相合成系统，用于生成功能化纳米颗粒，用作功能材料的基础。我们的模块化合成平台能够生产多种不同的结构，从单金属颗粒、精确合金金属纳米颗粒到纯氧化物和异核壳结构纳米颗粒。生产规模可客户的需求。1. 火焰喷雾合成：氧化物纳米材料、磷酸盐和金属ParteQ提供火焰喷雾热解（FSP）反应器，用于纳米颗粒合成，从交钥匙实验室规模的FSP系统到具有kg/h规模的中试装置。我们还提供纳米颗粒生产和开发服务。火焰喷雾热解（FSP）是一种多功能且低成本效益的纳米颗粒生产工艺。取决于含有金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000°C的温度下燃烧，纳米颗粒在几毫秒内形成，并在过滤器上以干粉的形式收集。FSP工艺受益于短的工艺链，只需一步即可制备复杂的纳米颗粒制备产品是纳米粉体，FSP通常用于生产高结晶氧化物的纳米粉末，但也用于合成了磷酸盐和纯金属。产品包括单组分和多组分氧化物纳米颗粒以及氧化物载体上的贵金属簇。对于某些组合物，可以制造表面包覆或基质嵌入的纳米颗粒。典型的粒径范围为 10 至 50 nm，具体取决于工艺条件。火焰喷雾热解FSP制备纳米粒的应用包括：w 催化剂w 电池材料w 陶瓷w 颜料w 牙科和生物医学材料w 气体传感器w 聚合物纳米复合材料w 电陶瓷台式纳米颗粒合成系统NPS-20---基于火焰喷雾热解技术的交钥匙系统NPS-20是一种交钥匙台式火焰喷雾热解装置，用于研究和早期产品开发水平的纳米颗粒合成。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料成分和工艺条件的多个参数，以加速纳米材料的开发NPS-20可以放置在实验室工作台上，也可以根据要求与移动机架一起交付。系统都须放置在化学通风柜或类似的封闭和通风区域才能操作。台式纳米颗粒合成系统NPS-20 主要特点w 实验室规模的火焰喷涂反应器w 低脉动注射泵，用于精确进料液体驱动。w 4 个质量流量控制器，用于输送工艺气体：分散氧气、支持火焰甲烷和氧气以及可选的护套气体。w 自动火焰点火系统。w 火焰探测器。w 集成微处理器和电子板，用于过程控制。w 通过 RS 232 控制软件和通信。w 玻璃纤维过滤器和干式旋片真空泵，用于收集产品粉末。w 用于监控过滤器状态的压力和温度表。从实验室到中试规模的纳米颗粒系统系统-基于FSP 的纳米颗粒制备技术实验室规模的FSP反应器以高达50 g / h的速度生产纳米粉末，而且实现了生产能力高达5 kg/h的全自动FSP中试设备。这些装置根据客户的要求量身定制，并作为交钥匙系统交付。通过PLC过程控制，中试工厂配备了24/7全天候运行，允许纳米粉末的小规模工业生产。2. 热壁合成-氧化物和负载金属流动式热壁反应器中纳米颗粒的合成纳米级颗粒的合成可以在火焰反应器中合成，也可以在热壁系统中合成。由于气体成分可自由选择，氧化敏感材料也触手可及。热壁合成纳米材料的原理：所需颗粒材料的前驱体材料被转移到气相中，并在热壁反应器中分解和氧化。高度分散结构形成具有高比表面积。通过选择工艺参数，可以改变表面粗糙度、分形结构和粒径。球形颗粒可以通过在高温下聚结获得。根据所选择的材料，可以合成均匀混合的氧化物纳米颗粒或核壳结构纳米颗粒。3. 火花合成：金属纳米颗粒 DNP 3000火花合成可实现石墨和金属纳米颗粒的无前体合成从石墨、银 （Ag）、金 （Au）、铜 （Cu） 等生成纳米级测试气溶胶。通过冷凝 载气：氮气 或氩气4. 灼热丝纳米粒子发生器-金属纳米粒子用于高浓度下尺寸范围低于 10 nm 的金属颗粒的颗粒发生器GWG产生具有可调粒径分布和浓度的稳定Pt气溶胶，是实验室实验和仪器校准的理想选择。可以使用氮气或氩气进行操作。外壳是真空密封的，由不锈钢制成，带有标准的真空法兰连接器。用于电线电气连接的电极隔离在PTFE中。提供世伟洛克连接器，用于气体和气溶胶管路的 6 或 8 mm 卡套管。具有 0-10 A 和 0-10V 输出的电源，输入 50Hz 240 V 用于加热用于产生颗粒的电线。气溶胶输出是受控于电流变化，电流可以很好地控制粒度分布。二、纳米粉末的功能化-通过通过化学气相沉积（CVD）对颗粒进行功能化用于颗粒功能化的ParteQ工艺基于通过化学气相沉积（CVD）对金属或氧化物进行涂层。该工艺能够对结构特征进行独特的控制，例如支撑颗粒的尺寸和表面纹理以及支撑金属颗粒的尺寸和数量密度或氧化物壳的厚度。我们可以生成各种各样的纳米结构，从简单混合氧化物到核壳结构以及Janus颗粒。我们的流化床反应器可加热至200°C，允许热CVD工艺。它们是真空密封的，因此可以在反应气氛下操作，并用于处理空气或湿度敏感系统。ParteQ提供从实验室规模（例如WSR50）到中试规模（例如WSR160）的完整系统，包括母离子加样和固体处理。三、纳米粒子和气溶胶测量仪器用于表征气溶胶和纳米粉末的仪器我们提供广泛的仪器，用于气溶胶表征、细粉尘监测以及气溶胶的生成测试和过滤器测试。产品包括纳米颗粒测量系统，气溶胶光谱仪，细粉尘的监测，气溶胶监测仪，稀释系统，在线颗粒测量四、纳米颗粒过滤-纳米粉末收集纳米级气溶胶的沉积需要专门的设备，因为与传统的过滤系统相比，有关密封性和效率的规格要求要高得多。 除此之外，ParteQ还提供适用于测试过滤介质和过滤单元的过滤测试台。开发了一种可扩展的过滤系统，用于产品气溶胶的沉积。该系统非常灵活，可适应您的工艺要求。采用真空密封法兰连接可以排除过程中的氧气。电解抛光表面可以改变纳米粉末的处理。手动或自动过滤器再生是可选的，CIP系统的实施也是可选的。过滤器可耐受高达 200°C 的工作温度。ParteQ产品应用领域ParteQ 产品用于材料开发，包括储能，光电化学，燃料电池，和健康领域的药品的缓控释，抗生素表面功能化，电子学和机械工程用于3D 打印材料的开发，以及用于环境，包括纳米颗粒测量系统，细粉尘的监测等。

碳纳米管和石墨烯性能表征系统随着纳米技术的不断发展，碳纳米管和石墨烯的性能越来越受到科研人员的关注。然而，对于碳纳米管和石墨烯性能表征一直是困扰碳纳米管和石墨烯技术研究和应用的主要障碍。目前，碳纳米管和石墨烯测量方法是光谱测量技术。相对其他测量方法，该技术主要有以下的优点： 1、较高灵敏度，即使碳纳米管和石墨烯的含量很低也能测量。2、较高测量精度，对碳纳米管的（n,m）分辨率很高3、对待测样品要求低，可直接分析含较多杂质的样品。4、测量设备相对简单，准备待测样品非常容易。 5、数据处理简单，测量结果无需考虑背景减除。对于碳纳米管和石墨烯的表征，虽然光谱测量技术有很大的优点，但是测量过程还是有些问题，如获取数据速度太慢，测量灵敏度不是很高，手工处理数据非常繁琐且容易出错等等。著名的碳纳米管专家美国莱斯大学的R. Bruce Weisman和Sergei M. Bachilo教授针对这些问题开发了碳纳米管专用的测量系统NS3，使得NS3系统成为碳纳米管和石墨烯专用测量系统，可对碳纳米管和石墨烯进行吸收、荧光和拉曼光谱测量。Nano Spectralyzer (NS3)系统NS3上的测量结果：碳纳米管的近红外发射光谱 应用领域：1. 测量碳纳米管（n,m）分布2. 监测碳纳米管和石墨烯品质的稳定性3. 测量化学反应和物理作用的动态过程主要特点：1. 高度集成化，体积小巧2. 操作简单，使用方便3. 仅需要很少的样品4. 高测量灵敏度和测量速度5. 简单的操作界面，全自动测量和数据分析6. 同时测量样品近红外波长的吸收和发射光谱7. 采用电制冷材料冷却近红外光谱探头，无需使用液氮主要技术指标：荧光光谱测量：可见区发射谱探测范围： 400-900nm近红外发射谱探测范围： 900-1600nm可选近红外发射谱探测范围： -2000nm吸收谱测量：紫外吸收谱探测范围： 210-450nm可见吸收谱探测范围： 400-900nm红外吸收谱探测范围： 900-1600nm可选红外发射谱探测范围： -2000nm 拉曼光谱测量：拉曼光谱探测范围： 150-3000cm-1激发光源波长： 532和/或671nm

室温纳米精度位移台-attoECS 德国attocube公司是上著名的端环境纳米精度位移器制造商，其生产的位移器以稳定而优异的性能，原子定位精度，纳米位移步长和厘米位移范围受到科学家的肯定和赞誉。attoECS系列纳米位移台在提供高精度位移控制的同时，保证了优异而高的稳定性能，适用于室温、大气到超高真空环境中，负载可达几公斤，行程达到50mm，小步长50nm，配备的光学位移传感器可将位移精度控制到10nm，提供多维度位移功能。attoECS位移台应用领域加速器及同步辐射计量测量学半导体空间科学attoECS位移台特点+ 在厘米的行程范围内，达到纳米高精度位移控制+ 高的机械稳定性+ 位移驱动电压45V，无需高压屏蔽+ 10nm位移精度，+/-200nm位移重复性，0.01% 精度+ 特殊材质，兼容各种光学实验环境和超高真空环境+ 快速样品更换装置设备型号ECS系列纳米位移台ECS系列线性位移器采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型单步位移步长为： 50nm。位移范围大为：50mm。位移器尺寸小为：30X30 mm。负载大24Kg。 线性纳米精度位移台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程(mm)载重(N)ECSx303030x30 9.550nm2090ECSx3030/NUMECSx304030x40 9.550nm25120ECSx3040/NUMECSx305030x50 9.550nm30150ECSx3050/NUMECSx306030x60 9.550nm35180ECSx3060/NUMECSx307030x70 9.550nm40210ECSx3070/NUMECSx308030x80 9.550nm50240ECSx3080/NUMECSx505050x50 9.550nm30150ECSx5050/NUMECSxy505050x50 16.450nm25x25150ECSxy5050/NUMECSz505050x50 3230nm88ECSz5050/NUMECR系列旋转台ECR系列旋转台技术参数表ECR系列旋转器采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型步长为： 0.4m°。可360度连续旋转。旋转台尺寸小为：30 mm × 30 mm。负载大2Kg。 高精度旋转台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程 载重(N)ECR3030 30x30 13.50.4m°360度（连续旋转）20ECR3030/NUMECR4040 40x40 14.50.2m°360度（连续旋转）20ECR4040/NUMECR5050hs 50x50 13.50.2m°360度（连续旋转）20ECR5050hs/NUM ECG系列倾角台ECG系列倾角台技术参数表ECG系列倾角台采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型步长为： 0.4m°。倾角范围：10°。倾角台尺寸为：50 mm × 50 mm。负载大1000g。 高精度倾角台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程载重(N)ECGt505050x50 170.1m°10°10ECGt5050/NUMECGp505050x50 170.1m°10°10ECGp5050/NUM应用案例■ attocube纳米位移台在大尺寸昆虫自然色三维高分辨率成像的应用 关键词：高分辨三维成像； 纳米精度位移台； C-SIM高分辨率三维成像技术在生物领域已经有非常多的应用。然而，当研究大型标本时，如厘米大小的昆虫，现有的三维成像工具往往非常耗时。此外，大多数3D成像系统无法得到标本的自然颜色信息。为了突破现有3D成像的局限性，中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术重点实验室姚保利课题组出了一种基于结构照明的方法，能够提供大的视场三维图像方法。采用这种方法，获得了580nm横向分辨率的自然彩色全尺寸昆虫的三维图像和三维形态数据。这种方法提供了一种很有前景的方法，可以用在不同类型的昆虫学研究，包括分类学、进化学、仿生学，发育生物学、功能形态学、古生物学、林业等。实验采用全新设计的彩色结构化照明显微镜（C-SIM），C-SIM中集成了德国attocube 的纳米精度位移台ECS3040（行程为25mm，分辨率1nm，精度50nm），这也是能够得到纳米分辨率的三维全彩图像的关键。 两种中华虎的三维成像结果 参考文献Vol. 27, No. 4 | 18 Feb 2019 | OPTICS EXPRESS 4845用户单位attocube公司产品以其稳定的性能、高的精度和良好的用户体验得到了国内外众多科学家的认可和肯定，在全球范围内有超过了130多位低温强磁场显微镜用户。attocube公司的产品在国内也得到了低温、超导、真空等研究领域著名科学家和研究组的欢迎......国内部分用户北京大学中国科技大学中科院物理所中科院武汉数学物理所中科院上海应用技术物理研究所复旦大学清华大学南京大学中科院半导体所上海同步辐射中心北京理工大学哈尔滨工业大学中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所… … 国外部分用户

TSI NanoScan SMPS纳米颗粒粒径谱仪型号3910 产品应用NanoScan SMPS&trade 适用于多种领域，包括：&blacksquare 一般的应用研究&blacksquare 职业*生/ 工作场所暴露监测&blacksquare 室内/ 室外空气质量研究&blacksquare 纳米技术/ 纳米粒子应用&blacksquare 燃烧/ 排放的研究&blacksquare 移动源研究&blacksquare 健康影响/ 吸入*理学&blacksquare 点源识别 特性和优点可低至 10nm 的粒度分布：&blacksquare 两种测量模式：&blacksquare 扫描：实时的粒径分布&blacksquare 单一粒径技术：单一粒径颗粒浓度监测&blacksquare 1 分钟时间分辨率 粒径分布检测 1 秒分辨率的单一粒径浓度数据&blacksquare 操作简单，单机操作&blacksquare 内置数据存储&blacksquare 小型并且便于携带&blacksquare 约6 小时的电池供电能力，可热插拔的可充电电池&blacksquare 浓度高达 1,000,000 粒子/cm3&blacksquare NanoScan 数据管理软件包&blacksquare 无放射性物质 技术参数测量模式扫描 - 粒度分布单颗粒 - 单一粒径颗粒浓度监测粒径范围10 至 420 纳米粒径通道13测量时间60 秒(45 秒上扫，15 秒回扫), 粒度分布 1 秒, 单一粒径技术模式粒子浓度1,000,000 个/cm3流量0.75lpm ± 20% 进口 0.25lpm ±10% 样品冷凝液分析纯 (99.5% 或更高) 异丙醇注液系统溶液机芯 [~8 小时运作 @ 21°C（70°F）] 可选外置瓶零点计数≤0.01 个/cm3数据存储选项3 ～ 8 天, 内置存储器, 可选 USB 存储驱动器显示彩色触摸屏通信USB预热时间15 分钟真空源内置

公司概况 法国CORDOUAN 技术公司成立于2007年，致力于纳米颗粒复合介质的尺寸表征。经过短短四年时间，CORDOUAN已成为N3（纳米粒子，纳米材料，纳米技术）的全球参考，为纳米颗粒和纳米材料的表面特征提供创新解决案。 CORDOUAN为客户提供的颗粒度，屈光计，电泳，电子显微镜和样品制备仪和器配件解决方案的连贯和广泛的产品组合。法国CORDOUAN仪器广发应用于：合成的聚合物和官能化的金属纳米颗粒、 原油萃取，改善化妆品凝胶的质量的，胶体形式的特殊油墨，生物学研究和细胞分析等的开发。 产品简介 在线纳米粒度分析仪 Vasco Kin是新一代动态光散射纳米粒度分析仪，通过远程光学探头，进行原位非接触测量和反应动力学，用于监测纳米颗粒的合成、团聚或悬浮液稳定性的研究或监测。常用于实时纳米颗粒合成过程监控, 核反应堆内现场测量，与其它粒度特性测量仪器联用(如光谱仪、SAXS等)。 性能参数 ◆ 粒度测量范围 : 0.5nm 到 10μm ◆ 背向动态光散射原理，实时远程非接触测量 ◆ 监测纳米颗粒合成过程；监测整个过程的粒度变化情况，有助于稳定性研究 ◆全自动非接触测量：能穿透玻璃和塑料针管，测定包装物及反应釜中的粒度分布和随时间的变化 ◆ 适用样品浓度：0.1ppm-40%（w/v） ◆ 时间分辨: DLS的分辨率为0.2s，用于动力学监测 ◆ 随时间变化的粒度分布彩色地形图 ◆“时间切片”功能：用户对测试后数据可进行任意时间段内的粒度分析 ◆ 样品前处理：无需样品前处理，直接测试 硬件规格 ◆ 激光源： 高稳定性激光二极管（可选蓝光和绿光） ◆ 探测器： 无伪影雪崩光电二极管（APD） ◆ 计算设备： 内嵌专用电脑 ◆ 数据处理： NanoKin 相关和分析软件 ◆ 典型测量时间：最快200ms。测量时间由样品和测量设置决定 ◆ 操作条件/存储条件：15℃ ~ 40℃ / -10℃ ~ 50℃ – 非冷凝相对湿度 70% ◆ 尺寸/重量：220 x 220 x 64 mm (上半部分) / 2.5 kg 220 x 220 x 48 mm (下半部分) / 2.8 kg 软件特点 在线纳米粒度分析仪 Vasco Kin软件的主要特点： ◆ 三个层级登录配置文件：管理员、专家、操作员 ◆ 运行模式：包括测量、模拟、后分析（导入） ◆ 直观导航（顺序） ◆ 时间切片和动力学模式：独特的技术，允许监测快速动力学和/或准确的再现性测量（时间分辨率高达200毫秒）。 ◆ 可读数据和绘图： ◆ 动态导出数据/绘图（右键单击到剪贴板） ◆ 报告文件格式：.pdf或.rtf（兼容writer软件） ◆ 反转算法： ① CUMULANTS 累积量算法：用于具有单分散趋势的单峰样品 ② PADE-LAPLACE算法（专有）：多峰样品的离散数学方法。 ③ 稀疏贝叶斯学习算法（SBL；专有）：多峰样品的连续分布数学方法。 典型案例 在线纳米粒度分析仪 Vasco Kin监测凝胶粒度随时间的变化 应用领域 ◆ 纳米颗粒的合成和功能研究 ◆ 药物输送系统优化 ◆ 制造过程中的质量控制 ◆ 电泳物理学的基础研究 ◆ 化妆品和工业乳液稳定性研究 ◆ 纳米颗粒制备和合成工艺优化 ◆ 先进的胶体稳定性分析和优化 ◆ 油墨/颜料的分散性和聚合物的表征

公司概况 法国CORDOUAN 技术公司成立于2007年，致力于纳米颗粒复合介质的尺寸表征。经过短短四年时间，CORDOUAN已成为N3（纳米粒子，纳米材料，纳米技术）的全球参考，为纳米颗粒和纳米材料的表面特征提供创新解决案。 CORDOUAN为客户提供的颗粒度，屈光计，电泳，电子显微镜和样品制备仪和器配件解决方案的连贯和广泛的产品组合。法国CORDOUAN仪器广发应用于：合成的聚合物和官能化的金属纳米颗粒、 原油萃取，改善化妆品凝胶的质量的，胶体形式的特殊油墨，生物学研究和细胞分析等的开发。 产品简介 法国Cordouan纳米粒度仪VASCO颗粒粒度分析仪是基于增强型动态光散射（DLS）技术的纳米级悬浮和胶体特性的独特仪器。得益于与法国Institute of Petroleum（IFP）合作开发的技术， VASCOTM是浓缩和不透明悬浮液样品最有效的解决方案。 测试原理 法国Cordouan纳米粒度仪VASCO是基于增强型动态光散射（DLS）技术的纳米级悬浮和胶体特性的独特表征仪器。得益于与法国Instute of Petroleum（IFP）合作开发的专利技术，VASCO 是浓缩和不透明悬浮液样品的高效解决方案。 技术创新 法国Cordouan纳米粒度仪VASCO：独特的纳米颗粒粒度分析仪• 由二氧化硅棱镜制成的嵌入式样品池• 双厚度控制器（DTC）系统，可实现精确的样品厚度控制• 测量原油等深色/浓缩样品，不需要稀释。创新的样品池设计：简单、自动、无耗材操作简单：DTC样品池的设计简化了样品制备，并防止任何过度稀释带来的危害。它与有机溶剂相容，可以测试微量样品。并可以在线测量，实现动力学研究。自动： DTC的简单调整足以将样品层从2mm减小到200μm（超薄层样品的体积）。这种用于降低测量体积的双厚度控制器可以防止由于多次扫描和局部热量导致的问题，并确保可靠地测量黑色介质或高浓度样品。与常规样品池相比，样品无需稀释！ 产品特点 • 带有DTC系统的嵌入式样品池• 粒度范围（直径）：0.5nm-10μm • 样品浓度：0.1ppm-40％w / wt • 专有产品软件NanoQ，专用于颗粒粒度• 在线样品池选项• 改善荧光样品的测量 法国Cordouan纳米粒度仪VASCO提供极宽的样品浓度测试范围，从非常稀的样品或差的对比度到高浓度和不透明的样品。Cordouan技术独特的专利设计，使得范围测量的实际浓度范围达到40％。这使其能够广泛应用于样品不能稀释而需要测试的行业。 产品特点 • 可测量黑色样品和原浓悬浮液，在不透明介质中具有更高的检测效率• 直接测量无法进行后处理的样品• 耐溶剂嵌入式样品池：无消耗品• 用于多模态样品分析的专有算法• 即测样品• 与传统DLS相，样品检测浓度高于传统DLS 20多倍 应用领域 法国Cordouan纳米粒度仪VASCO广泛应用于如下行业：农业化学药品：牛奶、巧克力、咖啡、啤酒、乳胶等药品：悬浮液、粉末、糖浆剂、血管注射剂、微胶囊等化学品：聚合物、分散剂、杀虫剂等环境：自来水、污水、絮凝物和膜过滤等化妆品：香水、膏霜、乳剂等石油化学品：燃料、原油、沥青添加剂等 典型用户 法国Cordouan纳米粒度仪VASCO的典型客户： 售后服务 仪思奇（北京）科技发展有限公司是比利时欧奇奥（Occhio）仪器公司和美国DT公司（美国分散技术公司），法国Cordouan,法国CAD,美国Xigo在中国的总代理，比利时欧奇奥是欧洲一家专业制造图像法粒径粒形分析仪器的公司，拥有强大的硬件设计和颗粒图像统计处理能力，能够在几分钟之内完成数万颗粒的的图像采集，统计处理，为您够快速提供准确的粒径粒形信息,色彩分析，颗粒计数等；美国DT基于前苏联两代胶体化学家雄厚的理论基础和工业，专业开发和生产超声衰减和电声谱仪的公司，以表征原浓体系的粒度分布，Zeta电位、流变性、电导率、孔隙率等，广泛应用于CMP浆料、纳米分散体、陶瓷浆料、电池浆料、水泥、制药乳剂等，并在多孔固体表面电位和孔隙率快速测定方面取得突破。法国CORDOUAN成立于2007年，致力于纳米颗粒复合介质的尺寸表征。CORDOUAN已成为N3（纳米粒子，纳米材料，纳米技术）的全球参考，为纳米粒度分析和纳米材料的表面特征提供创新解决方案。 美国Xigo专业纳米颗粒分析仪器公司，为纳米材料产业提供新的创新的分析工具，为粒子的分散性，浸润性,稳定性提供有效解决方案。自从2007年XIGO NANOTOOLS将粒子分散性稳定性分析仪Acorn Area推进中国市场后，为中国区广大用户所接受，是用户可信赖的分析研究仪器。法国CAD成立1991年专业开发和生产用于胶体和建筑材料(水泥、砂浆、混凝土)领域的理化特性研究实验室(Zeta电位、电导率、流变学、rhe光学器件、机械试验)制造实验室设备。以表征原浓体系的Zeta电位、流变性、表面张力、砂浆流变仪等，广泛应用于CMP浆料、纳米分散体、陶瓷浆料、免疫学、水泥、免疫学、等办事处情况：2个办事处（分别是北京、上海）。售后服务中心：设在北京，上海应用支持中心：在北京，上海设有应用支持中心和应用实验室。负责用户培训及应用支持，做到对用户的问题24小时即时响应。提供多方位多层次的售后服务及应用支持。层次一： 经过多次培训的分布于各办事处的专职销售及市场工程师和产品专家同时负责用户的基本应用问题解答及仪器状态的判断。层次二：设于北京技术服务中心及应用实验室的工程师负责仪器的安装、维修及用户培训，做到对用户的问题24小时即时响应。层次三：公司专家每年访问客户3-5次，帮助用户解决疑难问题。层次四：公司专家求助热线提供每天18小时的全球服务，答疑解惑。1.仪器的安装，调试:仪器到达用户使用现场后，由公司从北京派出工程师进行安装，调试工作。2.仪器的验收:安装调试完毕后，用标准物质或指定样品进行验收。3.应用培训:在仪器安装，验收完成后，由总代对用户人员进行现场培训，使用户能进行独立的上机操作。4.维修服务：1.在仪器调试验收合格后，提供验收合格后一年的整机免费保修服务，终身成本维修。2.在接到用户报修后，2小时内电话响应，48小时内派人到现场。3.在仪器安装现场进行培训，内容包括基本操作、仪器的基本维护及仪器的简单故障维修等。要求经过培训后，至少两名操作人员能够独立操作运行仪器，并满足分析要求为止。4.公司将及时提供仪器软件的免费升级服务。北京应用实验室：北京市昌平区建材城西路87号院新龙大厦A座2010室上海应用实验室：上海市浦东新区周助公路268弄3号楼1209室

ANP系列 低温强磁场纳米精度位移台德国attocube公司是上著名的端环境纳米精度位移器制造商。公司已经为全科学家生产了4000多套位移系统，用户遍及全球著名的研究所和大学。它生产的位移器设计紧凑，体积小，种类包括线性XYZ线性位移器、大角度倾角位移器、360度旋转位移器和扫描器。德国attocube公司的位移器以稳定而优异的性能，原子定位精度，纳米位移步长和厘米位移范围受到科学家的肯定和赞誉。产品广泛应用于普通大气环境和端环境中，包括超高环境(5E-11mbar)、低温环境（10mK）和强磁场中（31Tesla）。 产品特点与技术优势：当步进到制定位置后，施加在压电陶瓷上的电压变为0V，因此不存在由于外加电信号而产生噪音或飘逸问题；驱动定位器所需要的电压一般较低（60V或150V），因此不需要进行高压屏蔽，很多低压中使用的电缆和接口都可以在这里使用；Attocube定位器可以同时作为粗逼近装置和精细扫描头使用，因此大的提高了设备的稳定性和结构的紧凑性。基本参数： 工作温度范围：10mK - 373K 工作磁场环境：0 - 31Tesla 工作环境：大气 - 5E-11mbar 闭环位移控制精度：1nm 负载重量：大可到2Kg 大位移范围：50mm 位移器小尺寸：11X11mm ANP系列线性位移器采用闭环（/RES电阻式反馈与/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型单步位移步长为：室温300K下，50nm；低温4K下，10 nm。位移范围大为：20mm，位移器尺寸小为：11mm。负载大2000g。ANP系列线性位移台技术参数表 线性纳米精度位移台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程(mm)载重(N)ANPz30?11 1250nm@300K 10nm@4K2.50.1ANPx5115x15 9.250nm@300K 10nm@4K30.25ANPx51/RESANPx51/NUM+ANPz5115x15 13.550nm@300K 10nm@4K2.50.5ANPz51/RESANPz51/NUM+ANPz51eXT15x15 1750nm@300K 10nm@4K60.5ANPz51eXT/RESANPx10124x24 1150nm@300K 10nm@4K51ANPx101/RESANPx101/NUM+ANPz10124x24 2050nm@300K 10nm@4K52ANPz101/RESANPz101/NUM+ANPz101eXT1224x24 3250nm@300K 10nm@4K122ANPz101eXT12/RESANPz101eXT12/NUM+ANPz10224x24 2750nm@300K 10nm@4K52ANPz102/RESANPx31130x30 10100nm@300K 20nm@4K620ANPx101/RESANPx32140x41.6 11.5100nm@300K 20nm@4K1520ANPx321/RESANPx321/NUM+ANPx34140x45 11.5100nm@300K 20nm@4K2020国内部分用户名单（排名不分先后）attocube纳米精度位移器以其稳定的性能、高的精度和良好的用户体验得到了国内外众多科学家的认可和肯定，在全球范围内有超过了4000多位用户。attocube公司的产品在国内也得到了低温、超导、真空等研究领域著名科学家和研究组的欢迎......北京大学清华大学中国科技大学南京大学中科院物理所中科院半导体所中科院武汉数学物理所上海同步辐射中心中科院上海应用技术物理研究所北京理工大学复旦大学哈尔滨工业大学中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所……

MINITECH CNC Mini-Mill/3 CNC Mini-Mill/3市场上实惠的航空级铝框架、微铣削加工系统。 Minitech Mini Mill/3使用THK笼式滚珠线性轴承和高精度滚珠螺杆用于所有阶段。这与大型CNC具有的高质量组件相同。 Minitech仅使用优质的组件。我们的产品采用优质的材料制造，和组装技术。我们很自豪能在我们的每一台机器上盖上我们的认可印章，相信您会对结果感到满意。 CNC Mini-Mill/3是微流体、微机电、纳米技术工业、珠宝商、研究实验室和许多其他行业的选择。 数以百计的产品销往全球40多个国家。 CNC Mini Mill/3可作为标准三轴机床提供，带有可选的4轴旋转台或5轴耳轴台。 由美国Minitech制造，机器可以根据您的具体需求进行改装。

ParteQ 公司介绍ParteQ GmbH由其两位管理合伙人Karsten Wegner博士和Martin Seipenbusch博士于2016年夏天创立，目标是成为纳米颗粒和气溶胶技术产品和服务的领先供应商。ParteQ为粉末和气溶胶提供可扩展的合成系统以及颗粒测量技术。在合成领域，重点是纳米颗粒和纳米粉体。这些材料用于纳米技术，多相催化，也用于电池技术和许多其他技术。除了气溶胶技术中的设备工程和测量技术外，我们还以研究服务和根据客户规格合成功能化颗粒材料的形式提供我们在颗粒技术、颗粒工程和纳米技术领域的知识和经验。ParteQ GmbH在功能材料领域的重点在于纳米颗粒和纳米粉末的合成。通过化学气相沉积将微米到毫米大小的颗粒功能化大大扩展了粉末和结构的范围。我们的合成方法包括用于生成氧化物、磷化物和金属纳米颗粒的火焰喷雾热解法，以及用于金属纳米颗粒的电弧和等离子体系统。ParteQ产品介绍ParteQ GmbH 提供一系列用于生成固体纳米颗粒和液滴的系统，包括从雾化和蒸发/冷凝到火焰到热壁合成的各种工艺。利用化学气相沉积法进行粉末功能化是我们另一个重点。对于粉末和气溶胶的表征，我们还提供广泛的颗粒测量技术及系统。关于纳米粉末的收集我们提供专门的过滤系统及过滤测试系统，以分析过滤介质和滤芯的效率。一、纳米颗粒和纳米粉体的合成制备ParteQ 提供基于火焰、热壁和火花技术的纳米颗粒制备合成系统。Parteq GmbH开发可扩展的气相合成系统，用于生成功能化纳米颗粒，用作功能材料的基础。我们的模块化合成平台能够生产多种不同的结构，从单金属颗粒、精确合金金属纳米颗粒到纯氧化物和异核壳结构纳米颗粒。生产规模可客户的需求。1. 火焰喷雾合成：氧化物纳米材料、磷酸盐和金属ParteQ提供火焰喷雾热解（FSP）反应器，用于纳米颗粒合成，从交钥匙实验室规模的FSP系统到具有kg/h规模的中试装置。我们还提供纳米颗粒生产和开发服务。火焰喷雾热解（FSP）是一种多功能且低成本效益的纳米颗粒生产工艺。取决于含有金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000°C的温度下燃烧，纳米颗粒在几毫秒内形成，并在过滤器上以干粉的形式收集。FSP工艺受益于短的工艺链，只需一步即可制备复杂的纳米颗粒制备产品是纳米粉体，FSP通常用于生产高结晶氧化物的纳米粉末，但也用于合成了磷酸盐和纯金属。产品包括单组分和多组分氧化物纳米颗粒以及氧化物载体上的贵金属簇。对于某些组合物，可以制造表面包覆或基质嵌入的纳米颗粒。典型的粒径范围为 10 至 50 nm，具体取决于工艺条件。火焰喷雾热解FSP制备纳米粒的应用包括：w 催化剂w 电池材料w 陶瓷w 颜料w 牙科和生物医学材料w 气体传感器w 聚合物纳米复合材料w 电陶瓷台式纳米颗粒合成系统NPS-20---基于火焰喷雾热解技术的交钥匙系统NPS-20是一种交钥匙台式火焰喷雾热解装置，用于研究和早期产品开发水平的纳米颗粒合成。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料成分和工艺条件的多个参数，以加速纳米材料的开发NPS-20可以放置在实验室工作台上，也可以根据要求与移动机架一起交付。系统都须放置在化学通风柜或类似的封闭和通风区域才能操作。台式纳米颗粒合成系统NPS-20 主要特点w 实验室规模的火焰喷涂反应器w 低脉动注射泵，用于精确进料液体驱动。w 4 个质量流量控制器，用于输送工艺气体：分散氧气、支持火焰甲烷和氧气以及可选的护套气体。w 自动火焰点火系统。w 火焰探测器。w 集成微处理器和电子板，用于过程控制。w 通过 RS 232 控制软件和通信。w 玻璃纤维过滤器和干式旋片真空泵，用于收集产品粉末。w 用于监控过滤器状态的压力和温度表。从实验室到中试规模的纳米颗粒系统系统-基于FSP 的纳米颗粒制备技术实验室规模的FSP反应器以高达50 g / h的速度生产纳米粉末，而且实现了生产能力高达5 kg/h的全自动FSP中试设备。这些装置根据客户的要求量身定制，并作为交钥匙系统交付。通过PLC过程控制，中试工厂配备了24/7全天候运行，允许纳米粉末的小规模工业生产。

奥地利SmartNIL紫外纳米压印：EVG7200一、设备原理：EVG7200紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大200mm大面积压印：最大200mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级SECS/GEM II: 可选。

奥地利SmartNIL紫外纳米压印：EVG7200一、设备原理：EVG7200紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大200mm大面积压印：最大200mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级SECS/GEM II: 可选。

产品介绍LUMiSpoc是一款高端的单颗粒计数仪(纳米级)，类似于流式细胞仪，它以绝佳的分辨率和动态范围测量悬浊液和乳浊液中纳米和微米颗粒的粒度分布和颗粒浓度。 仪器基于单粒子光散射技术SPLS ( Single Particle Light-Scattering)，该技术记录单个纳米和微米颗粒在通过具有特殊光束横截面的激光束时小角度和侧向的散射光。 SPLS Technology技术能够深入了解复杂的纳米和微米微粒系统，从而帮助您优化颗粒和分散体系产品。 LUMiSpoc - 纳米颗粒计数新标准。应用领域分散体包括：CMP浆料，炭黑，颜料，填料，医药乳浊液和悬浊液，标样/参考样，生物细胞，病毒。。。颗粒计数和粒径测定颗粒浓度测定直接测定纳米和微米颗粒的粒径分布纳米材料分级记录团聚和絮凝动力学变化过程确定颗粒尾端分布颗粒污染物检测检测分离膜和过滤介质，确定截留点优势超高分辨率的单峰、多峰和多颗粒分散体系粒度的分布优异的颗粒分级计数效率高（高频数字化、脉冲分析和分级）宽泛的动态范围（可测量40 nm到8µ m的粒径），无需切换范围或改变组件检测时间短易于操作样品量少嵌入式触屏和基于服务器/浏览器的软件通过参考粒子进行单点校

纳米颗粒探测器世界上最小的多尺度纳米颗粒探测器，使用双非接触检测量级，不仅测量肺沉积表面积（LDSA），还测量颗粒数浓度和平均粒径。此外，还计算和显示了超细颗粒（UFP）的表面和质量浓度。该仪器的独有特点是：超细颗粒（UFP）质量是在线显示的，它是通过测量的粒子直径来计算的，而不是通过LDSA的简单乘数来估计的。 与传统的纳米颗粒探测器（如手持式的凝聚核粒子计数器）相比，有7个主要优点是：多个有意义的指标小巧轻便无障碍测量快速启动时间定向独立操作宽颗粒浓度范围电池续航时间长 同时测量并在线显示5个指标：肺沉积表面积（LDSA）、颗粒数、平均粒径、表面积、超细颗粒（UFP）质量（PM0.3）高时间分辨率：1秒肺沉积表面积（LDSA）浓度范围：0-12000平方微米/立方厘米数量浓度范围：0-1,000,000个/立方厘米平均粒径范围：10-300纳米表面积浓度范围：0-50'000平方微米/立方厘米超细颗粒（UFP）质量范围（PM0.3）：0-2500微克/立方米平均准确度：30%尺寸：142x88x34mm重量：450克内置可充电锂离子电池，在新设备中运行时间通常为24小时数据存储在一个μSD卡上（足够存储多年数据的空间！）图形显示具有可调阈值的高浓度警报包括运行在所有主要操作系统上的Java数据分析工具 可定制– 用于特殊用途太阳能电池板供电空气质量监测站额外数据输出串口外接泵可维持24小时/7天，或更高流量、更高时间分辨率 测量原理利用电晕放电，使进入仪器的颗粒物带电，然后测量电流的大小来反映颗粒物的表面积。内部无收集颗粒物的滤膜，仪器可自动进行零点校准。 应用个人暴露监测 – 用于职业安全和卫生的研究：可测量所有的纳米颗粒物，监测工业纳米颗粒物、环境中烟草烟雾、焊接烟雾、交通纳米颗粒物等的暴露工作环境监测 – 可24小时/7天监测实验室内和纳米颗粒物生产设备的纳米颗粒物水平，并可设警报阈值环境监测 – 体积小、轻便、便宜，适用于高空间分辨率的监测。多台设备同时使用，可测量颗粒物的迁移现象和浓度分布。与GPS数据结合可在Google Earth上做出直观图机载测量 – 目前最轻的纳米测量仪，可放在小气球、齐柏林飞船或四轴飞行器上进行空中纳米颗粒物浓度测量

产品概要 TRILOS自带的物联网基因，使其成为了一台可以进行远程操控和数据分析的物联网均质机。原理 微射流高压均质机主要是由分散单元和增压机构组成，分散单元内部通常有“Z”型和“Y”型。在增压机构的作用下，高压状态下的样品在分散单元的狭小缝隙间快速通过。此时流体内压力的急剧下降而形成的超声速流速，流体内的粒子碰撞，空化和湍流，剪切力作用于劈开纳米大小的细微分子使流体的成分以完全的均质的状态存在。微射流工作原理CHAMBER工作原理 由于高压均质腔的内部具有特别设计的几何形状。因此在增压机构的作用下。高压溶液快速的通过均质腔，物料会同时受到高速剪切，高频震荡。以及对流撞击等机械力作用和相应的热效应。由此引发的机械力化学效应可诱导物料大分子的物理、化学及结构性质发生变化。最终达到均质的效果。 高压均质机核心部分是均质阀座、均质阀芯和撞击环三部分组成；而微射流式高压均质机核心部分是分散单元。应用 纳米技术工艺制备纳米材料最有效的生产设备之一，其应用领域非常广泛：- 制药行业中制备脂肪粒、微乳、脂质体、混悬剂和微胶囊等；- 生物工程产品的细胞破碎、胞内外物质的提取和均质；- 食品和饮料工业产品的均质和乳化，提高产品稳定性；- 化妆品、精细化工等行业产品的均质分散；- 导电浆料、电阻浆料的生产和制备。实验室专用型（适合：生物，医药，食品，化工，纳米悬浮液。。。等行业） 设计压力 0-3500bar(350Mpa/50750psi)工作压力 0～3000bar(300MPa/43500psi)工作流量 5L/h最小处理量 30ml最大进料粒径 ≤300um最大进料黏度 ≤2000cp最高工作温度 ≤90℃均质样品温度可控制 ≤4～10℃外观尺寸 650×650×1350（ｍｍ） 10寸工业触控屏PLC自动化智能控制系统，配有数据USB接口,可实时监控曲线图。均质阀组件为100%人造金刚石材质，耐压，耐磨泵体为分体式设计，易拆卸，易清洗具有超高压设计，压力可达3500bar/50750psi高压微射流均质阀设计，采用100%人造金刚石材质阀组件数字式压力显示，精确到1 bar在线排空，内部可达到零残留，不消耗物料物料可在高压下暂停，走空，断料后自动关机。动力端配置大功率电机，保证高压下稳定工作特殊进料阀设计，无需排气，可直接进料物料残留量为零，特别适合原辅料昂贵的产品研发通过欧盟CE机械安全认证

公司概况 法国CORDOUAN 技术公司成立于2007年，致力于纳米颗粒复合介质的尺寸表征。经过短短四年时间，CORDOUAN已成为N3（纳米粒子，纳米材料，纳米技术）的全球参考，为纳米颗粒和纳米材料的表面特征提供创新解决案。 CORDOUAN为客户提供的颗粒度，屈光计，电泳，电子显微镜和样品制备仪和器配件解决方案的连贯和广泛的产品组合。法国CORDOUAN仪器广发应用于：合成的聚合物和官能化的金属纳米颗粒、 原油萃取，改善化妆品凝胶的质量的，胶体形式的特殊油墨，生物学研究和细胞分析等的开发。 产品简介 高分辨纳米粒度和zeta电位分析仪Amerigo 是创新型纳米粒度Zeta电位分析系统，通过远程光学探头，进行原位在线测量和反应动力学，用于监测纳米颗粒的合成、团聚或悬浮液稳定性的研究或监测。动态光散射（DLS）和激光多普勒电泳（LDE） 技术，可提供高分辨率，准确和快速的粒度、ZETA电位测 以及远程原位测量。 工作原理 高分辨纳米粒度和zeta电位分析仪Amerigo是基于增强型动态光散射（DLS）技术的纳米级悬浮和胶体特性的独特表征仪器。Zeta电位部分是基于重新审视的现代版激光多普勒电泳 （LDE）技术，提供独特且无与伦比的测量分辨率。它是CORDOUAN的粒度分析仪VASCO的补充，用于研究胶体溶液的稳定性质。 技术创新 高分辨纳米粒度和zeta电位分析仪Amerigo独特的样品池，双厚度控制系统，可实现精确测量，通过远程光学探头，进行原位非接触测量和反应动力学，用于监测纳米颗粒的合成、团聚或悬浮液稳定性的研究或监测。 ● 二氧化硅棱镜制成的嵌入式样品池 ● 独特的双厚度控制器系统 ● 直接测量原油等深色/浓缩样品，不需要稀释。 性能参数 ● 粒径范围：0.5nm-10μm ● zeta电位范围：±500mV ● 结合Wallis和Vasco Kin的功能，具有高分辨测量能力 ● 非接触远程测量纳米粒度的动力学分析 ● zeta电位的可编程动力学实验（zeta 对 温度/pH/时间） ● 动态时间切片功能，可进行数据后处理 ● 可选高浓度Flex探头 典型案例 应用范围 ◆ 纳米颗粒的合成和功能研究 ◆ 药物输送系统优化 ◆ 制造过程中的质量控制 ◆ 电泳物理学的基础研究 ◆ 化妆品和工业乳液稳定性研究 ◆ 纳米颗粒制备和合成工艺优化 ◆ 先进的胶体稳定性分析和优化 ◆ 油墨/颜料的分散性和聚合物的表征

产品介绍 TRILOS自带的物联网基因，使其成为了一台可以进行远程操控和数据分析的物联网均质机。。每小时60L的处理量完美的解决了用户从实验室测试到中小规模试产的跨越衔接问题。原理 微射流高压均质机主要是由分散单元和增压机构组成，分散单元内部通常有“Z”型和“Y”型。在增压机构的作用下，高压状态下的样品在分散单元的狭小缝隙间快速通过。此时流体内压力的急剧下降而形成的超声速流速，流体内的粒子碰撞，空化和湍流，剪切力作用于劈开纳米大小的细微分子使流体的成分以完全的均质的状态存在。微射流工作原理CHAMBER工作原理 由于高压均质腔的内部具有特别设计的几何形状。因此在增压机构的作用下。高压溶液快速的通过均质腔，物料会同时受到高速剪切，高频震荡。以及对流撞击等机械力作用和相应的热效应。由此引发的机械力化学效应可诱导物料大分子的物理、化学及结构性质发生变化。最终达到均质的效果。 高压均质机核心部分是均质阀座、均质阀芯和撞击环三部分组成；而微射流式高压均质机核心部分是分散单元。应用 纳米技术工艺制备纳米材料较有效的生产设备之一，其应用领域非常广泛：- 制药行业中制备脂肪粒、微乳、脂质体、混悬剂和微胶囊等；- 生物工程产品的细胞破碎、胞内外物质的提取和均质；- 食品和饮料工业产品的均质和乳化，提高产品稳定性；- 化妆品、精细化工等行业产品的均质分散；- 导电浆料、电阻浆料的生产和制备。处理产品碳材料，氧化硅（锆，铝）、等产品过程粘度10000 cPs最大进料颗粒尺寸 500微米最高进料温度 90 °C产量60升/小时在线控温10—90℃以内最小单批处理量5000毫升均质级数一 级工作压力2000bar(200MPa)控制系统PLC触摸屏自动化控制安全阀设计过压保护人生安全压力表卫生型隔膜数字显示压力表主马达11 kW，4级，Class. F, IP55电压及频率380V，50Hz，三相五线制循环电路24V，50Hz级别卫生级柱塞2只机械元件润滑无需内部冷却风扇进出料连接Tri-Clamp快速连接最高清洗温度 90 °C清洗时间30分钟清洗的耗水量60升/小时环境条件环境温度3-40°C，最高湿度90%机械安全整机通过CE机械安全认证知识产权整机拥有实用设计专利外观尺寸L920*W680*H1150（mm）

产品概要 TRILOS自带的物联网基因， TRILOS自带的物联网基因，使其成为了一台可以进行远程操控和数据分析的物联网均质机。每小时30L的处理量完美的解决了用户从实验室测试到中小规模试产的跨越衔接问题。原理 微射流高压均质机主要是由分散单元和增压机构组成，分散单元内部通常有“Z”型和“Y”型。在增压机构的作用下，高压状态下的样品在分散单元的狭小缝隙间快速通过。此时流体内压力的急剧下降而形成的超声速流速，流体内的粒子碰撞，空化和湍流，剪切力作用于劈开纳米大小的细微分子使流体的成分以完全的均质的状态存在。微射流工作原理CHAMBER工作原理 由于高压均质腔的内部具有特别设计的几何形状。因此在增压机构的作用下。高压溶液快速的通过均质腔，物料会同时受到高速剪切，高频震荡。以及对流撞击等机械力作用和相应的热效应。由此引发的机械力化学效应可诱导物料大分子的物理、化学及结构性质发生变化。最终达到均质的效果。 高压均质机核心部分是均质阀座、均质阀芯和撞击环三部分组成；而微射流式高压均质机核心部分是分散单元。应用 纳米技术工艺制备纳米材料较有效的生产设备之一，其应用领域非常广泛：- 制药行业中制备脂肪粒、微乳、脂质体、混悬剂和微胶囊等；- 生物工程产品的细胞破碎、胞内外物质的提取和均质；- 食品和饮料工业产品的均质和乳化，提高产品稳定性；- 化妆品、精细化工等行业产品的均质分散；- 导电浆料、电阻浆料的生产和制备。处理产品碳材料，氧化硅（锆，铝）、等产品过程粘度10000 cPs最大进料颗粒尺寸 500 微米最高进料温度 90 °C产量30 升/小时在线控温10—90℃以内最小单批处理量1000 毫升均质级数一 级工作压力2000bar(200MPa)控制系统PLC 触摸屏自动化控制安全阀设计过压保护人生安全压力表卫生型隔膜数字显示压力表主马达7.5 kW，4 级，Class. F, IP55电压及频率380V，50Hz，三相五线制循环电路24V，50Hz级别卫生级柱塞2 只机械元件润滑无需内部冷却风扇进出料连接Tri-Clamp 快速连接最高清洗温度 90 °C清洗时间30 分钟清洗的耗水量30 升/小时环境条件环境温度 3-40°C，最高湿度 90%机械安全整机通过 CE 机械安全认证知识产权整机拥有实用设计专利外观尺寸L850*W680*H1050（mm）