纳米分子

美国 Bioforce公司Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统是一种全新的，适应性广泛的超微和纳米级别的液体输送技术。它可以将内含生物分子和其他材料的液体打印到1‐20微米特征尺寸的表面上的指定位置，也可用于超微纳米流体的输送打印。样本体积覆盖范围广，自阿升至毫微微升(10‐18到10‐15ul)的样本量均可完美打印。这项技术的超缩微性更大程度上降低了对样品量的需求。例如, NanoArrayer 纳米阵列可以创建一个诊断生物芯片，使用几个细胞或不到一滴血即可完成至关重要的生物医学分析。Nano eNabler™ 纳米分子点样仪的广泛适用性和广泛的材料兼容性创造了许多新的令人振奋的机会。下表是几种可打印材料及其应用的代表性案例。美国 Bioforce公司Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统具备捕获鼠成纤维细胞粘附到一种蛋白质细胞外基质蛋白质的能力，左下图：由约翰霍普金斯大学医学院Jan Hoh博士拍摄； 中图：Sindex™ 芯片为Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统提供了理想的打印表面。右图：使用 SPT™ (表面图谱打印工具)是纳米分子微矩阵点样系统的“墨盒”，内有样本存放池。 应用领域Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统的特征非常适合那些利用小的空间，当前分析设计要求减少样本量等新的应用领域。常规应用领域包括：v 构建化学和生物传感器,包括 MEMS/NEMS设备；v 用分子在表面形成图案以研究细胞的生长；v 用≤1μl样本进行敏感分析(LCM,单细胞分析)；v 在有限空间打印矩阵，如在微流通道内部进行打印。 可作为打印材料的介质 典型应用抗体和其它蛋白质生物传感器、生物医学设备、分子筛查、细胞生物学、纳米生物学核酸基因芯片,基因组学,生物传感器病毒生物传感器、诊断、纳米器件粘合剂MEMS, 纳米器件胶体粒子电子、纳米器件、材料研发量子点光学仪器、诊断、材料研发蚀刻剂,溶剂,催化剂MEMS, 电子、精密加工 “能限制 Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统的应用的，只有人的想象力！ —Jan Hoh, Ph.D.约翰霍普金斯大学医学院特性和优势Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统独有特征包括:v 打印较小斑点的能力，斑点大小(1到 20微米)。v 在一个50×50毫米活动区域内打印的能力，分辨率20纳米。v 多路转换打印功能。v 直接打印生物分子至纳米粒子材料的能力。v 兼容的打印表面种类广泛。来自用户反馈的，受欢迎的重要优势，包括：Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统可以在几乎所有表面打印或大或小的复杂图谱，因此使他们可以探索更全面的生物学问题。用户可以进行假设驱动性研究,而不受工具的限制。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统的悬臂梁系统采用开放式通道架构,减少了喷墨打印经常遇到的堵塞问题。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统将灵活性、功能尺寸、精度、分辨率、打印速度完美结合，其打印能力远非其它打印技术所能比，使用户可以实现一件设备多种应用。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统相对于微触点打印技术更为灵活，更优越的多路复用打印模式，意味着用户可以花更少的时间等待新的光掩模和PDMS模具，从而将更多的精力用在实验上。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统视频显微扫描技术使设备功能化光学校准变得更加容易，促进更佳的斑点测量。性能对比&差异Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统Micro-contact Printer(微触打印机)Nanopitettes(纳米锥管打印机)AFM Nanolithography原子力显微镜微米刻蚀技术Ink-jet printing喷墨式打印速度+++‐‐+管路不堵塞+++‐+‐可靠性++‐‐++多路复用++‐‐‐+1‐20μm特征+++++‐生物兼容性++++‐+ 技术规格Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统主要规格v 由点和线组成的模式分子，直径1-60微米。v 兼容小分子、生物分子、纳米颗粒和许多反应液。v 同时打印单一化合物或多化合物图案。v 通过FEMTO(射流增强分子转移操作)实现快速沉积(100毫秒/点)。v 宽大高清的工作区(50毫米×50毫米，20纳米分辨率)。v 基于激光的力反馈技术，更大程度减少表面接触力。v 软件界面直观明了。Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统标准规格：v 基于激光的力反馈系统v XY轴镜台运动范围：50x50毫米；v XY轴镜台译码器分辨率：20纳米；v Z轴镜台范围：45毫米；v 湿度控制范围：25-80%相对湿度；v 电动光学显微镜：(100-700倍)，具备通过高清USB相机进行视频采集功能；v 通过高分辨率的 USB 相机捕捉。Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统软件界面集成英特尔酷睿i7处理器，8GB RAM；集成DVD ROM (8x)/CD-RW(24x)；4个USB端口；802.11g无线适配器；Windows 8.1 操作系统；24英寸高清液晶显示器；电源要求，AC240V/50 Hz,2.0A；控制器尺寸：77x65x65cm(长x宽x高)；控制器重量：14kg lbs(31磅)。 Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统标准配置主机、控制器单元、环境控制系统、电动光学系统、带视频采集液晶显示器、操作软件、用户手册、Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统标配一个起始工具包，包括：1）表面图谱打印探针(15个):SPT-S-C10S(5)、SPT-S-C30S(5)、SPT-S-C30R(5)；2）蛋白质斑点缓冲液套装,5支试剂x0.1毫升；3）可重复使用的Gel-Pak 打印探针固定器座垫；4）可重复使用的Gel-Pak样台垫。

纳米孔分子检测仪技术参数一、工作原理及应用领域电解质溶液中的待测分子在电压作用下穿过纳米尺度的孔道时，会引起离子电流的变化，通过记录和解析特征电流信号对待测分子进行识别。纳米孔单分子检测技术具有高灵敏度和高分辨率，可实时检测单分子层面的变化，且无需标记和扩增，在基因组学、蛋白质组学、病原体检测、临床诊断和环境监测等多个领域都展现出巨大的应用潜力。 二、固态纳米孔技术2.1电解质溶液中的待测分子在电压作用下穿过纳米尺度的孔道时，会引起离子电流的变化，通过记录和解析特征电流信号对待测分子进行识别2.2提供1-100 nm孔径可定制、灵敏低噪的具孔氮化硅薄膜2.3 技术优势1）平台型技术，通过定制纳米孔的尺寸，可适用于基因测序、蛋白质分析、病原微生物检测等不同应用场景2）高灵敏度和分辨率，能够检测到单分子水平的变化3）经济耐用，固态纳米孔制备成本低，机械强度高，可反复使用，适用更广泛的溶液环境 三、生物大分子检测仪3.1采用USB3.0接口，不仅实现了稳压供电，还保证了高速实时数据和指令传输。3.2通过工程创新和功能优化，提供了比市面同类产品更强的性能。3.3我们致力于为每一位参与研究的专家学者提供极致的性价比，让纳米孔检测技术变得触手可及3.4更低价、更便捷的检测设备，拓展更丰富的应用场景3.5特征参数 1）数据和指令延迟： 0.1 s2）带宽（可选配）：20 kHz-200 kHz3）施加电压范围：±1000 mV @10mV4）采样频率（可选配）：200 kHz-2 MHz5）噪音水平：相同滤波频率和采样率下低于现有产品 四、配套检测软件采用多语言兼容架构，在确保数据显示准确性和实时性的同时，集成了强大的数字信号处理和多模态大数据分析工具，并支持abf等多种格式文件读取，为用户提供了高效便捷的友好型一站式示波和数据分析平台。4.1 软件特色功能1）过孔、踢孔、堵孔等事件自动识别、批量截图输出2）AI聚类、模式识别、监督式识别等3）事件特征一键提取成Excel导出4）多组数据特征统计对比分析 五、固态纳米孔芯片1）1-100nm孔径可定制的固态纳米孔产品2）孔径可控、稳定耐用、灵敏低噪3）提供基于Axon 200b或自研检测设备的测样和数据分析服务4）TB级吞吐量自有服务器集群，确保数据处理高效稳定 5）多模态算法模型，多组数据集、多维特征一目了然6）高质量物理仿真模型，支持复杂应用场景精准预测7）当疾定制分析，软件需求响应敏捷，满足各类研究需要 六、低丰度蛋白检测1）固态纳米孔技术可以同时对多种蛋白进行检出，检出限低至飞摩级别，检测时间短，设备和单次检测均远低于现有解决方案2）固态纳米孔技术可以对不同病原体核酸进行即时精准检出，设备小型便捷，操作简单，成本低廉3）尺寸极小的固态纳米孔可以提高光刻掩摸的精度，从而制作出更小、更复杂的半导体器件

3D Nanoimaging三维纳米成像（3D Nanoimaging）和单分子跟踪系统（升级Olympus 共焦显微镜）Overview在过去的几年里，人们已经设计了几种方法来使用光学显微镜（STED，PALM，STORM）获得具有纳米分辨率的细胞特征图像。这些方法虽然功能强大，但在检测图像中稀疏的纳米结构时效率很低。同时，它们也不足以探测纳米级三维结构中亚秒级的化学反应动力学，这些结构是不断移动和改变形状的。在纳米成像方法达到超分辨率的情况下，激光束不会像光栅图像那样按照预定的模式扫描样品。相反，激光扫描成像基于反馈算法，在扫描过程中，根据待成像物体的形状连续地调整和确定激光束跟随的路径。该算法将激光光斑移动到离物体表面一定距离的位置，由于激光光斑的位置和离物体表面的距离是已知的参数，所以利用这些参数来重建物体的形状。三维细胞结构可以在几秒钟内分辨率达到20-40纳米，精度为2纳米。How it work? 使用SMT（Single-Molecule Tracking）纳米成像的操作顺序很简单：首先，获取感兴趣区域的共焦图像；然后，用户识别要成像的对象。SMT纳米成像通过开关激活，激光束位于距离物体中心100-200纳米的位置。当激光光斑接近待成像表面时，荧光量增加。然而，荧光强度的增加取决于距离以及荧光团的浓度和它们各自的量子产率。为了将距离效应与浓度效应分开，点的位置被迫垂直于表面振荡。也就是说，荧光强度在振荡过程中发生变化（图1）。Figure 1. 调制跟踪技术示意图。束点围绕物体以圆形轨道运动，其与物体表面的距离以设定的频率周期性地变化；通常，对于每个轨道，振荡次数在8到32之间，取决于物体的大小。这些半径的小振荡被用来计算轨道的调制函数，从中可以确定光斑与表面的距离。 调制函数定义为由于表面的局部荧光而使交替部分与平均部分之比。实际上，调制是PSF的空间导数与强度的比值。调制函数随着离表面距离的函数呈准线性增加，这一特性允许它用于确定沿轨道激光光斑离表面的距离。通过这种方法，计算并重建物体的横向形状。Tracking MethodologyXY-axis using galvo-controlled mirrors Z-axis using piezo-controlled stageMaximum Resolution20 nm ± 2 nmData Acquisition Frequency32 to 256 KHzCircular Orbit Frequency2 KHzDetectorInternal PMT of FV1000/FV1200Detection Electronics ISS Photon Counting UnitComputer3 GHz, 4GB RAM, 200 GB hard drive, 27" monitor (minimum specifications shown)Acquisition and Analysis SoftwareSimFCS by Globals Unlimited 下面是纳米成像单元及其与FV1000共焦显微镜的连接示意图。开关盒允许用户在标准操作模式下操作FV1000，或激活纳米成像系统。在纳米成像操作中，FV1000的振镜通过国际空间站提供的电子设备进行控制。该信号由FV1000的内部探测器收集并转移到ISS光子计数数据采集单元。使用FV1000的振镜在XY平面上跟踪分子，并通过压电控制级在z轴上跟踪分子。仪表控制、数据采集和显示在单独的计算机上完成。右侧部分包括仪器组件（PC、控制电子设备、扫描仪和激光发射器）。示意图的左侧部分包括ISS随升级包提供的组件. 可参看文献： Nanometer-scale Imaging by the Modulation Tracking MethodLanzano, L., Digman, M.A., Fwu, P., Giral, H., Levi, M., Gratton, E.J Biophotonics, 2011, 4(6), 415-24. Measurement of Distance with the Nanoscale Precise Imaging by Rapid Beam Oscillation MethodLanzano, L., Gratton, E.Microsc Res Tech, 2012, 75(9), 1253-64. Real-time Multi-Parameter Spectroscopy and Localization in Three-Dimensional Single-Particle TrackingHellriegel, C., Gratton, E.J R Soc Interface, 2009, 6, Suppl 1:S3-14. Real-time Nanomicroscopy Via Three-Dimensional Single Particle TrackingKatayama, Y., Burkacky, O., Meyer, M., Bráuchle, C., Gratton, E., Lamb, D.C.Chemphyschem, 2009, 10(14), 2458-64. Distance Measurement by Circular Scanning of the Excitation Beam in the Two-Photon MicroscopeKis-Petikova, K., Gratton, E.Microsc Res Tech, 2004, 63(1), 34-49.

德国palas DEMC 2000纳米粒子测量差分电迁移率分类器德国palas DEMC 2000纳米粒子测量差分电迁移率分类器:优点■用户可以在定义的粒度范围内选择任何粒度。■DEMC可以连接到多个计数器以构成SMPS。■连续和快速扫描测量原理■图形显示测量值■直观操作，使用7英寸触摸屏和GUI■集成数据记录仪■低维护■功能可靠■减少您的运营费用x6box" style="word-break: break-all font-family: "Microsoft Yahei", Tahoma, Verdana, Arial text-size-adjust: none margin: 0px padding: 0px color: rgb(51, 51, 51) font-size: 14px white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) "德国palas DEMC 2000纳米粒子测量差分电迁移率分类器:应用领域■冷凝粒子计数器（CPC）的校准■单分散颗粒源■SMPS的系统组件德国palas DEMC 2000纳米粒子测量差分电迁移率分类器:规格参数尺寸通道256（128 /衰减）用户界面触摸屏，800• 480像素，7英寸 (17.78 厘米)数据记录仪存储空间4 GB软件PD分析分类范围（粒度）8 – 1,489 nm调整范围（电压）1 – 10,000 V体积流量（鞘空气）2.5 – 14 升/分钟冲击器3种不同截面的喷嘴安装条件+5 – +40°C（控制单元）

德国palas DEMC 2000纳米粒子测量差分电迁移率分类器Palas® DEMC提供两种版本。具有长分类柱（型号2000）的版本能够分类尺寸范围8-1400 nm的颗粒。DEMC尺寸分类器（符合ISO 15900的规定）根据气溶胶颗粒电迁移率选择气溶胶颗粒并将其引导至出口。此外，它还经常被称为DMA。Palas® DEMC可普遍连接到其他制造商的CPC和气溶胶静电计。已经支持多个计数器（请参见图4）。我们还将根据要求将您的计数器集成到软件中。与多分散颗粒源*结合使用时，DEMC用于获得一定尺寸纳米颗粒的极窄（单分散）粒径分布。DEMC的准确尺寸测定和可靠性能非常重要，尤其是对于校准设置。通过直接在触摸屏上输入尺寸（以nm为单位）或使用箭头按钮来增大或减小尺寸，可以调整尺寸大小。如果将DEMC用作SMPS系统的组件，它可以连续且快速地扫描气溶胶粒径分布。根据用户设置，每十个通道或64个尺寸通道可在短短30秒内执行扫描。用户使用图形用户界面控制DEMC，该图形用户界面提供测量值的线性和对数显示以及集成数据记录器的数据管理功能。软件提供复杂的数据评估（广泛的统计和平均）和导出功能。DEMC通常作为独立设备运行，但也可以使用各种接口（USB、LAN、WLAN、RS-232 / 485）连接到计算机或网络。*有关Palas® 气溶胶发生器的其他信息可在产品数据表中找到，例如DNP 2000、RBG 1000 或AGF 2.0。功能气溶胶在进入DEMC柱之前先进行调节。干燥器（例如硅胶、Nafion）除去颗粒中的水分。使用双极中和剂（例如Kr 85）来确保规定的气溶胶电荷分布。为了去除大于分类器尺寸范围的颗粒，需要在DEMC的入口处使用撞击器。然后，气溶胶通过入口导入DEMC柱。沿外部电极的气溶胶流在此与鞘气流仔细合并。重要的是在此处避免任何湍流，以确保层流。电极的表面在光滑度和尺寸公差方面必须具有极高的质量。鞘气是干燥、无颗粒的载气（通常是空气），其体积大于连续在闭环中循环的气溶胶体积。鞘气与样品空气的体积比定义传递函数，从而定义尺寸分类器的分辨率。通过施加电压，在内外电极之间会产生一个径向对称的电场。内电极在末端带有小缝隙，带正电。通过平衡每个粒子上的电力及其在电场中的空气动力学阻力，带负电的粒子被转移到正电极。具有适当电迁移率的粒子穿过缝隙并离开DEMC。这些具有相同电迁移率的分类颗粒随后可用于下游。如果DEMC被用作SMPS系统的组件，那么电压（从而电场）将会连续变化，并且具有不同迁移率的颗粒将会离开DECMC。这些颗粒通过纳米颗粒计数器，例如凝结粒子计数器（如Palas® UF-CPC）或气溶胶静电计（例如Palas® Charme® ）连续计数。经过了测试和优化的Palas® 软件结合了数据（电压、颗粒数等），以便获取粒径分布。用户界面和软件基于持续的客户反馈，我们设计了良好的用户界面和软件，以实现直观的操作、实时控制并测量数据和参数。此外，该软件提供了具有集成数据记录器、复杂导出功能和网络支持的数据管理。可使用多种可用方法显示和评估测量数据。DEMC软件和固件支持其他制造商使用纳米计数器。德国palas DEMC 2000纳米粒子测量差分电迁移率分类器:优点■用户可以在定义的粒度范围内选择任何粒度。■DEMC可以连接到多个计数器以构成SMPS。■连续和快速扫描测量原理■图形显示测量值■直观操作，使用7英寸触摸屏和GUI■集成数据记录仪■低维护■功能可靠■减少您的运营费用x6box" style="word-break: break-all font-family: "Microsoft Yahei", Tahoma, Verdana, Arial text-size-adjust: none margin: 0px padding: 0px color: rgb(51, 51, 51) font-size: 14px white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) "德国palas DEMC 2000纳米粒子测量差分电迁移率分类器:应用领域■冷凝粒子计数器（CPC）的校准■单分散颗粒源■SMPS的系统组件德国palas DEMC 2000纳米粒子测量差分电迁移率分类器:规格参数尺寸通道256（128 /衰减）用户界面触摸屏，800• 480像素，7英寸 (17.78 厘米)数据记录仪存储空间4 GB软件PD分析分类范围（粒度）8 – 1,489 nm调整范围（电压）1 – 10,000 V体积流量（鞘空气）2.5 – 14 升/分钟冲击器3种不同截面的喷嘴安装条件+5 – +40°C（控制单元）

纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应，并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能，使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。 目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟，它的应用也随之扩大。在其应用过程中，较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高，在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子，使颗粒粒径变大，从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性，提出了一些有效的方法。 根据我司为多家客户定制方案，建议采用的方案为：在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料；然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理！经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计，相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）；2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）；3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）；4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）；5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）。纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件： PTC 热保护、降噪型均质机材质：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车均质机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍均质机选配容器：本设备适合于种不同大小的容器.IKN管线式研磨分散机的技术参数：研磨分散机流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

Monolith X分子互作仪【轻松、快速、精准检测分子间相互作用】产品简介：Monolith 系列分子互作仪，采用创新性的光谱位移技术（Spectral Shift） 和 经 典 的 微 量 热 泳 动 技 术 ( MicroScale Thermophoresis, MST)，轻松检测最具挑战的分子互作。仅需极微量的样品 , 即可在液体环境中快速、精确地定量检测各种类型的分子间相互作用力，且检测浓度范围广、操作简单。技术原理&bull 光谱位移技术：通过荧光发射光谱的蓝移或红移来检测分子间的结合。Monolith X 在等温条件下精确检测 650nm 和 670nm 双波长的发射光，因而能够精确检测到极细微的光谱位移。 &bull 微量热泳动技术：MST技术是通过激光在溶液中产生精确而短暂的温度变化从而检测配体结合引起的荧光强度变化。以配体浓度为横坐标，荧光值为纵坐标作图，从而获得平衡解离常数 Kd 产品优势：&bull 双技术模块：可同时搭载光谱位移（Spectral Shift）和微量热泳动（MST）技术模块，可灵活升级&bull 无需固定样品：可直接在溶液中定量检测&bull 无惧分子量：各种分子互作轻松驾驭，蛋白质、核酸、多肽、小分子、离子、纳米颗粒等&bull 节省样品：最低样品消耗量仅需 10μL，10分钟即可检测1个 Kd &bull 智能优化：实时监测样本质量，并提供优化建议&bull 无液流系统：无堵塞风险，免维护产品优势 - 解决SPR难以应对的分子互作难题：&bull 样品固定会阻碍 Kd 值的测定SPR 中不合适的固定或再生条件会负面干扰配体结合。由于 Monolith 是在可控平衡条件下进行溶液内结合检测，因此可以帮助您测定固有无序蛋白（IDPs）等存在构象动态复杂变化的具有挑战性的样品。&bull 待测分子与芯片基质间的非特异性结合由于 SPR 无法区分待测分子是与固定在芯片上的样品还是芯片基质发生了结合，因此您还需要做进一步检测来识别和排除非特异性结合。而您在使用 Monolith 时无需专门检测此类非特异性结合，因为检测是在溶液内完成的。&bull 强亲和力结合分析难度大使用 SPR 评估强亲和力结合是极为困难的, 其原因是：强亲和力互作的解离速率极慢，而 SPR 需要通过解离速率来计算亲和力，因此您需要等待极长的时间才能准确测得此数据。而 Monolith 是直接检测结合，您完全无需等待。&bull 检测共价结合用 SPR 研究共价结合是非常繁琐的。而 Monolith 是直接在溶液内检测结合，您无需考虑如何再生芯片，这就使共价结合的检测变得非常容易。应用方向： 蛋白质-小分子蛋白质-蛋白质蛋白质-离子蛋白质-核酸蛋白质-多肽蛋白质-脂类蛋白质-糖类蛋白质-纳米颗粒案例精选[ 蛋白质-纳米颗粒: 核酸适配体修饰的纳米颗粒探针 ]纳米颗粒在医学影像、分子诊断、靶向治疗等方面具有广泛应用。 双酚 A（Bisphenol A，BPA）广泛用于制造塑料瓶，食品罐内涂层等，同时它又是一种已知的内分泌干扰素， 威胁胎儿和儿童的健康。研究人员研发出一种纳米颗粒探针，将双酚 A 固定到金纳米颗粒上，可通过竞争 结合的方式定量病患儿童血液中的双酚 A 含量，指导医生的诊断和治疗。应用 MST 技术，研究人员检测 了纳米颗粒探针与双酚 A 核酸适配体之间的相互作用，测定到亲和力为 54 nM；这与游离双酚 A 和相同适 配体的亲和力（10 nM）差异不大。说明固定到金纳米颗粒上没有影响双酚 A 与适配体的结合。 MST 技术不受相互作用分子大小的限制，纳米颗粒，甚至是更大的病毒颗粒与配体的相互作用，都可以应用 MST 技术进行测定。Marks, H. L., Pishko, M. V., Jackson, G. W. & Cote, G. L. Rational design of a bisphenol A aptamer selective surface-enhanced Raman scattering nanoprobe. Analytical chemistry 86, 11614-11619, doi:10.1021/ac502541v (2014). Pant, K. et al. Surface charge and particle size determine the metabolic fate of dendritic polyglycerols. Nanoscale 9, 8723-8739, doi:10.1039/ c7nr01702b (2017).耗材支持: &bull NanoTemper在线商城小程序（微信搜索）&bull NanoTemper官网关于NanoTemper: 德国NanoTemper始创于2008年，总部位于慕尼黑。作为全球知名的科学仪器制造商，历经十余载发展，在全球13个国家设立分支机构。 我们始终致力于为蛋白质分析研究提供更加优质的解决方案。基于专利微量热泳动技术（MST）、微量差示扫描荧光技术（nanoDSF）和光谱位移技术（Spectral Shift）等创新技术，公司先后推出分子相互作用检测仪（Monolith系列）、蛋白稳定性分析仪（Prometheus 系列）、高通量亲和力筛选系统（Dianthus系列）以及新品蛋白质表达和功能快速筛选系统 （ Andromeda X ）。 NanoTemper以优质的产品与服务迅速赢得全球知名药企、生物技术公司、服务公司和科研机构的好评，成为优选合作伙伴。需要更多信息或希望获得个性化解决方案？请随时联系我们~

科研用CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型； &bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光； &bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准； &bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

聚合物纳米粒子生成系统提供用于生产单分散聚合物纳米粒子，例如PLGA、PEG、PVC的解决方案。 Dolomite的模块化纳米颗粒合成系统采用高剪切微混合和流体动力学聚焦微流控方法生产50纳米至500纳米的聚合物颗粒。连续和可控层流允许生产高产量和高质量的聚合物纳米粒子。与传统的批次方法相比，该系统在纳米粒子尺寸分布方面提供了实质性的改进。 聚合物纳米粒子生成系统技术参数： 应用领域: 颗粒生产PLGA、PEGDA、聚苯乙烯等 药物控释/靶向给药-新应用-可生物降解纳米颗粒的生成 诊断试验和分析 油类化学品-提高采收率，阻垢剂 涂料和清漆用粘合剂 放射性废物处理 催化剂 主要优势： 宽的可控粒径范围从50nm到500nmCv值介于20%和30%之间的高度单分散颗粒 精确控制颗粒的尺寸、形状和形态 产量高达每天几克（Telos大型微液滴系统） 批间重复性高，试剂消耗少 模块化系统 各种应用领域都易于放大 无脉动稳定液体混合 高混合效率保证产品收率高 非常耐化学腐蚀 模块化，易于使用，快速放大 主要参数： 宽的可控粒径范围从50nm到500nm Cv值介于20%和30%之间的高度单分散颗粒 样品体积：从0.5毫升到几升 化学耐性：非常高（浸润材料：PEEK,PTFE和玻璃） 压力泵压力范围：0-10bar 流速范围:5nL/min至大于100mL/min(取决于流体性质)聚合物纳米粒子生成频率：标准系统通常高达10MHz，生产系统通常高达1GHz（取决于试剂和粒径）

一.机型称号：纳米粒子颗粒微粒研磨混合机，药物研磨混合机，毫微米研磨混合机，超飞快研磨混合机，水管式研磨混合机，3级研磨混合机，高剪切研磨混合机。二.研磨机：机型19款，处理量50到8*10000KG/小时，旋转1100到1.4*10000转/分钟，线速度23到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW，磨头胶体磨&锥体磨。三.研磨分散机：机型6款，处理量50到6*1000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度23m/秒，电滚功耗2.2到150kW，磨头胶体磨。四.小型分散乳化机：机型30款，处理量0.2克到10KG/小时，旋转50到3*10000转/分钟，线速度3到33m/秒，电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机：机型32款，处理量5到2*10000KG/小时，旋转14到1.4*10000转/分钟，线速度44m/秒，电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机：机型4款，处理量0.2到150克/小时，旋转3500到8*1000转/分钟，线速度3到10m/秒，电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机：机型27款，处理量150到12.5*10000KG/小时，旋转960到1.4*10000转/分钟，线速度10到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW。八.混合机：机型I6款，处理量300到12.5*10000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度20到23m/秒，电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类：胶粘溶胶，巨粒子固态液体悬空液乳剂，不包溶等。十.终级粒径：主腔内有叁组定转子，每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙，加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件：百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处：引荐德国技艺，立发明加工，备有专利。十三.工作方式：有在线式，批次式，内外循环式，水管式，可倒式，若干效用式。十四.机型合成：靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化：CIP冲洗系统，液压升降松盖，包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处：研磨头可调5款模版，6款分散头，20多款工作头。十七.锥磨好处：锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料，提防毁伤腐蚀。十八.机型材料：统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢，主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH（卫生级），无死角。十九.密封好处：博格曼双机械密封，液压平稳系统（可以担当16atm重压），软密封。二十.搅动方式：可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处：机型采选上层同轴三重装搅动器，循环管路，出水阀。二十二.操控箱好处：不但可以操控电滚旋转，摄氏度降温升温（经历电能，热汽，油水循环，可以担当-40到250摄氏度），重压，PH度，粘性。且可以设定不一样效用模版，呈现相称地个个参数，可以线性扩大量产。?.可抉选：参观窗，硅氟酸玻璃参观，电导率计，二层绝缘保护，稳定夹，作业台，底盘，图案解析多功用显微硬度仪（测量界线1—4千维氏硬度），管路式测量电炉（测量界线zui高1350度），传送泵/转子泵/气动隔膜泵/锚杆泵/离心泵（产量850—4.3万升/H），反应翻搅单罐/多罐（500—3千升/H），反渗入/全自动纯净装备（0.5—3千升/H)，超氧产生器，过流式紫外光灭菌器等。?.别的特长：整体立方小，电耗低，分贝低，可每日不断出产。?.访客垂访：按照访客实况必要恰当抉选！别的可订制非标和生产线！假若是非常情况，比方超温，超压，易烧易炸，侵蚀性，可产品升级！?.物料测量：得到访客物料后当即投入测量，瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。?.方案价格：断定好产品功用后当即策画方案，包含2D部署图，总安装出产线表示图，立体成果图，&呈上本该得价格单子！?.结语：我们是出产厂家，详尽信息可以企业查看，因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈！以上信息不容坊造，非常道谢！扩展内容可不看：纳米颗粒是指粒径在1-100nm之间的颗粒（纳米颗粒也称为超细颗粒）。 属于胶体粒径范畴。它们处于原子团与宏观物体之间、微观系统与宏观系统之间的过渡地带，是由少量原子或分子组成的群，既不是典型的微观系统，也不是典型的宏观系统。1959 年末，诺贝尔奖获得者 Richard Feynman 在一次演讲中提出了纳米的概念，但对纳米粒子真正有效的研究始于 1960 年代。 1963年Uyeda等人采用气体冷凝法制备金纳米粒子。1984年以来，德国科学家格莱特等人通过惰性气体冷凝法成功获得铁纳米粒子，标志着纳米科学技术的正式诞生。 近十年来，越来越多的科学家致力于纳米材料的相关研究，在制备、性能和应用等方面取得了丰硕的研究成果。可以预见，纳米粒子应该具有一些新颖的物理和化学性质。 纳米粒子与宏观物体的区别在于其表面积占很大比例，表面原子既没有长序也没有短序无定形层。可以认为，纳米粒子表面的原子状态更接近于气态，而粒子内部的原子可能呈有序排列。即便如此，由于粒径小，表面曲率大，内部会产生很高的Gilibs压力，这会导致内部结构发生一定的变形。 纳米粒子的这种结构特征使其具有以下四种作用：音量效果，表面效果，量子尺寸效应，宏观量子隧穿效应。

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

德国palas 纳米粒子测量系统urange 2000palas U-RANGE结合两个系统，可连续测量8 nm至40μm尺寸的气载颗粒。U-SMPS是用于极其精确地测量纳米粒度分布的标准系统。根据分类器（DEMC）的电迁移率选择气溶胶颗粒，然后通过冷凝颗粒计数器（UF-CPC）进行计数。 Wiedensohler教授（德国IfT莱比锡）开发了Palas® 的算法，用于对测量数据进行反演以产生U-SMPS粒度分布。Fidas® 200是用于环境空气质量测量的细粉尘测量系统，适合用于监管目的。它使用成熟的单粒子光散射测量技术，并配备输出稳定、寿命长的LED光源。除了测量300 nm至40μm尺寸范围内的粒度分布外，它还能连续并同时测定以下PM组分：PM1，PM2.5，PM4，PM10和TSP（PMtot）。Fidas® 200还配备一个过滤器支架，用于插入过滤器（直径47或50毫米）。举例来说，这能够对气溶胶的成分进行随后的化学分析。用户可以使用触摸屏上的图形用户界面来操作U-RANGE。 DEMC分类器中的电压连续变化，从而导致每个大小通道的计数统计通量更高。另外，它可以实现每十个一组64个尺寸通道的高尺寸分辨率。集成的数据记录器允许在设备上线性和对数显示测量值。随附的评估软件提供各种数据评估（各种统计和平均值）以及导出功能。palas U-RANGE通常作为独立设备运行，但也可以使用各种接口（USB，LAN，WLAN，RS-232 / 485）连接到计算机或网络。在涉及U-RANGEE的应用中，准确的尺寸确定和可靠的性能至关重要。所有组件都通过严格的质量保证测试，并在内部组装。用户界面和软件基于持续的客户反馈，用户界面和软件的设计旨在实现直观的操作、实时控制以及测量数据和参数的显示。系统配备集成的数据记录器，并支持网络功能。随附的PDAnalyze评估软件提供完善的分析和导出功能。可以使用许多可用选项来显示和评估测量数据。这些功能可以分别显示和评估U-SMPS和Fidas® 系统中的数据（图4）。德国palas 纳米粒子测量系统urange 2000:规格参数接口USB，以太网，Wi-Fi，RS-232 / 485尺寸通道120（32 /衰减）时间分辨率3分钟体积流量4.8升/分钟用户界面触摸屏，800• 480像素，7英寸电源115/230 V，50/60赫兹外型尺寸9英寸或18.5• 45• 32厘米（高• 宽• 深，Fidas® ），33• 38• 24厘米（高• 宽• 深，UF-CPC），15• 57厘米（?底座• 高，U- SMPS柱），33• 38• 24厘米（高• 宽• 深，U-SMPS控制单元）重量约9.3千克（Fidas® ，U-SMPS色谱柱） 12.9公斤（U-SMPS控制单元） 10公斤（U-SMPS UF-CPC）数据记录仪存储4 GB软件PD分析体积流量（鞘空气）2.5 – 10升/分钟工作液体丁醇，异丙醇，水或其他（UF-CPC）粒径范围8 – 40,000 nm德国palas 纳米粒子测量系统urange 2000:优点■粒径分布为8至40 nm■更多的PM系数数测定（例如PM2.5，PM10）■连续和快速扫描的测量原理■高分辨率，支持64个尺寸分类/衰减■适用于高达10^8颗粒/立方厘米的浓度■通用连接其他制造商的DMA和纳米粒子计数器■图形显示测量值■直观操作，使用7英寸触摸屏和GUI■集成数据记录仪■支持多种接口和远程访问■低维护■功能可靠■减少您的运营费用德国palas 纳米粒子测量系统urange 2000:应用领域■气溶胶研究■环境与气候研究■室内和工作场所测量■吸入实验■过滤测试■颗粒物分布研究（例如大火，火山）

德国palas 纳米粒子测量系统urange 2000palas U-RANGE结合两个系统，可连续测量8 nm至40μm尺寸的气载颗粒。U-SMPS是用于极其精确地测量纳米粒度分布的标准系统。根据分类器（DEMC）的电迁移率选择气溶胶颗粒，然后通过冷凝颗粒计数器（UF-CPC）进行计数。 Wiedensohler教授（德国IfT莱比锡）开发了Palas® 的算法，用于对测量数据进行反演以产生U-SMPS粒度分布。Fidas® 200是用于环境空气质量测量的细粉尘测量系统，适合用于监管目的。它使用成熟的单粒子光散射测量技术，并配备输出稳定、寿命长的LED光源。除了测量300 nm至40μm尺寸范围内的粒度分布外，它还能连续并同时测定以下PM组分：PM1，PM2.5，PM4，PM10和TSP（PMtot）。Fidas® 200还配备一个过滤器支架，用于插入过滤器（直径47或50毫米）。举例来说，这能够对气溶胶的成分进行随后的化学分析。用户可以使用触摸屏上的图形用户界面来操作U-RANGE。 DEMC分类器中的电压连续变化，从而导致每个大小通道的计数统计通量更高。另外，它可以实现每十个一组zui多64个尺寸通道的高尺寸分辨率。集成的数据记录器允许在设备上线性和对数显示测量值。随附的评估软件提供各种数据评估（各种统计和平均值）以及导出功能。palas U-RANGE通常作为独立设备运行，但也可以使用各种接口（USB，LAN，WLAN，RS-232 / 485）连接到计算机或网络。在涉及U-RANGEE的应用中，准确的尺寸确定和可靠的性能至关重要。所有组件都通过严格的质量保证测试，并在内部组装。用户界面和软件基于持续的客户反馈，用户界面和软件的设计旨在实现直观的操作、实时控制以及测量数据和参数的显示。系统配备集成的数据记录器，并支持网络功能。随附的PDAnalyze评估软件提供完善的分析和导出功能。可以使用许多可用选项来显示和评估测量数据。这些功能可以分别显示和评估U-SMPS和Fidas® 系统中的数据（图4）。德国palas 纳米粒子测量系统urange 2000:规格参数接口USB，以太网，Wi-Fi，RS-232 / 485尺寸通道zui高120（32 /衰减）时间分辨率3分钟体积流量4.8升/分钟用户界面触摸屏，800• 480像素，7英寸电源115/230 V，50/60赫兹外型尺寸9英寸或18.5• 45• 32厘米（高• 宽• 深，Fidas® ），33• 38• 24厘米（高• 宽• 深，UF-CPC），15• 57厘米（?底座• 高，U- SMPS柱），33• 38• 24厘米（高• 宽• 深，U-SMPS控制单元）重量约9.3千克（Fidas® ，U-SMPS色谱柱） 12.9公斤（U-SMPS控制单元） 10公斤（U-SMPS UF-CPC）数据记录仪存储4 GB软件PD分析体积流量（鞘空气）2.5 – 10升/分钟工作液体丁醇，异丙醇，水或其他（UF-CPC）粒径范围8 – 40,000 nm德国palas 纳米粒子测量系统urange 2000:优点■粒径分布为8至40 nm■更多的PM系数数测定（例如PM2.5，PM10）■连续和快速扫描的测量原理■高分辨率，支持64个尺寸分类/衰减■适用于高达10^8颗粒/立方厘米的浓度■通用连接其他制造商的DMA和纳米粒子计数器■图形显示测量值■直观操作，使用7英寸触摸屏和GUI■集成数据记录仪■支持多种接口和远程访问■低维护■功能可靠■减少您的运营费用德国palas 纳米粒子测量系统urange 2000:应用领域■气溶胶研究■环境与气候研究■室内和工作场所测量■吸入实验■过滤测试■颗粒物分布研究（例如大火，火山）

科研用CNI v4.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型； &bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光； &bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准； &bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

EZI UV Nanoimprint System PL600EZI 紫外曝光纳米压印系统EZ Imprinting推出了一款台式独立纳米压印系统：PL系列400/600.EZImprinting是一种超高产率（ 99％）纳米压印光刻系统，带有低于10纳米的分辨率和一步自动释放功能。特点：? 全晶圆压印 - PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理? 低于10纳米分辨率，产率高达99％? 一步自动释放功能，可防止分离过程中模具/基材损坏，使压印产量最大化? 支持各种类型的硬模和软模? 可变模具和基材尺寸，灵活方便? 可编程PLC，通过自定义参数进行过程控制，带触摸屏用户界面? 对准功能选项? 多种工艺，适用于各种应用光学器件，显示器，数据存储，生物医学器件，半导体IC，化学合成和先进材料等? 专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容PL600基材尺寸，6“标准（尺寸较小，形状不规则）印记区： 与晶圆尺寸相同。模板尺寸 6”,4” ,2” and 1”压印压力: 1 psi标准模具/基材自动释放: 包括 - 不需要特殊工具紫外线曝光时间:在95％强度水平下2-3分钟对准功能: x，y，z和theta（精度2um）

VSP-G1 纳米粒子发生器是一台桌面式仪器，用于生成尺寸范围为 1 – 20 nm 的纯金属、金属氧化物或合金纳米气溶胶材料。纳米颗粒的生产完全在气相中进行，因此无需使用表面活性剂或前驱体。用于纳米粒子生产的源材料是由所需材料制成的两根靶材（电极）。使用时只需安装电极并设置参数，按下按钮即可开始生成纳米粒子。所有 VSPARTICLE 产品均采用模块化设计，因此 VSP-G1 纳米粒子发生器既可以用作独立的纳米气溶胶源，也可以与不同的沉积模块结合使用。获得不同组分的纳米材料是纳米研究的关键，利用VSP-G1配合不同的电极可以产生双金属、纳米合金或在块状状态下不混溶的材料等粒子。火花烧蚀可以在放电通道产生高达20000K的瞬时高温，足以克服块体材料的宏观不溶性，产生更多的材料可能性。混合两个纯电极或使用合金电极可以通过成分控制调整材料组分。类似地，通过并联或串联运行两个 VSP-G1，每个 VSP-G1 使用不同的电极材料，最终产生分层结构的材料（例如，分层结构、核-壳或异质结构）VSP-G1 最有价值的一点是能够调整所生产纳米粒子的平均粒径。这是通过改变气体流速来实现的，当然这会影响纳米颗粒在反应器内的停留时间。 较低的流速通过为初级颗粒提供更多的时间来凝并，从而导致较大的平均粒径，而较快的流速可产生较小的颗粒。根据准备的样品类型（例如 TEM 网格或多孔涂层），还可以调整总功率以改变产率。更高的电压/电流组合带来更高的烧蚀率和更大的颗粒。 气溶胶技术区别与其它真空气相技术的最大特点便是在常压下利用气体有效影响纳米颗粒的生长与传输过程。采用模块化设计，VSP-G1 纳米粒子发生器可轻松与沉积装置结合使用，以制备先进的纳米材料。基于扩散、过滤或冲击技术，有不同的沉积模块可用。

纳米颗粒制备 我司提供专业的纳米颗粒制备仪，可以满足用户不同需求的应用。100克至几批的纳米颗粒批次每年可以用ParteQ的FSP生产系统。这些单元可以连续运行，允许甚至可以生产24/7纳米粉。此外，通过ParteQ获得的结果。实验室规模的系统可以转移到更大的生产单位。例如，纳米材料用ParteQ NPS-20台式机开发系统或类似的实验室反应堆可以是用我们的公斤数量制造连续的FSP工厂。 ParteQ提供三条不同尺寸的线用于纳米粒子生产：建议将S系列用于几百克M系列是最适用于500 g至50 kg的数量。L系列针对想要的客户连续生产纳米粒子每小时几公斤，目标是超过50公斤每年最多。 ParteQ S系列，M系列和L系列为一站式服务包含用于前体和模块的系统气体输送，纳米颗粒生成和产品集合。各个模块可以为顾客量身定制。 S系列：50克/小时S系列基于实验室规模的Flame喷雾热解反应器也是NPS-20台式系统。而NPS-20旨在产品开发，提供每批次纳米克量的S系列可以制造几百克相同的纳米材料。例如，当连续生产约50克/小时，可以将300克纳米颗粒。在一天之内轻松获得。ParteQ FSP S系列：连续纳米粉。实验室规模的合成。最适合生产纳米颗粒的批量可达?500 g。 S系列是完全封闭的独立式系统。移动钻机基于铝大型检修门的型材。所有FSP必需的组件已集成进入钻机：火焰喷雾热解反应器流量控制器，前驱泵，颗粒集尘袋式过滤器，离心风机以及入口和出口安全过滤器。 M系列：500克/小时，如果千克数量的纳米颗粒是需要，中型M系列是系统选择。生产能力从约100克/小时，可达2千克/小时，取决于产品材料和操作条件。该系统由PLC，甚至允许使用24/7纳米粉生产。 实际上，M系列已经是一个很小的过程固定的脚印的工厂大约4 m x 6 m。房间高度应在至少5 m。 L系列：5,000克/小时L系列是真正的纳米粉产品，可以连续运行的工厂，每周7天24小时。操作范围开始大约每小时1公斤，可能会超过5公斤/小时，取决于产品材料和条件。 L系列的设计类似于较小的M系列，但使用的组件更大的尺寸。例如，搅拌250或500 L建议使用前驱箱涵盖一天的原料供应。喜欢M系列，该系统是全自动的并由PLC控制。与M系列一样，所有L系列工厂为客户量身定做。

EVG720紫外纳米压印机一、设备原理：EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大150mm大面积压印：最大150mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级u SECS/GEM II: 可选。公司简介：EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界领先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。

纳米颗粒制备仪 桌面式喷雾燃烧合成纳米颗粒材料火焰喷雾热解(FSP)是一种多功能经济高效的纳米颗粒生产工艺。它依赖于含金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000度的温度燃烧。产品纳米颗粒在几毫秒内形成在过滤器上以干粉的形式收集。 火焰喷雾热解工艺受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。主要特点：实验室规格火焰喷雾反应器低脉动注射可精确输送液体前体用于输送工艺前体的质量流量控制器:火焰检测器集成微处理器、电子板。用于过程控制，通信通过rs232玻璃纤维过滤器：干式旋式真空。用于产品粉末的收集压力及温度计以监察过滤器的状态。

金纳米粒子 直径10nm, 用于EM/cryo EM系统测试及校准 Gold Nanohelices - Chirality Tomography Markers The Gold Nanohelices (L,R) are chiral nanoscale markers especially suited for 3D Tomography / Electron Microscopy (EM) / CryoEM. Our chiral markers show pure chirality (L or R), which can easily be detected with EM due to the high contrast and the precise arrangement of the gold nanoparticles.The Gold Nanohelices (L,R) are fabricated with the DNA origami technique where gold nanoparticles (10nm) are arranged into nanoscale helices (helical pitch 57 nm length 110 nm diameter 34 nm).In Solution: The Nanohelices are delivered in buffer (keep at 4°C): 1x TAE, 11mM MgCl2. The sample size is ~30μl which is enough for the preparation of more than 10 TEM grids.Also available as mounted version: The samples are shipped ready to use on a TEM grid.参考文献Anton Kuzyk, Robert Schreiber, Zhiyuan Fan, Günther Pardatscher, Eva-Maria Roller, Alexander H?gele, Friedrich C Simmel, Alexander O Govorov, and Tim Liedl (2012): DNA-based self-assembly of chiral plasmonic nanostructures with tailored optical response. - Nature, 483, 311 - 314.Ariane Briegel, Martin Pilhofer, David N Mastronarde, and Grant J Jensen (2013): The challenge of determining handedness in electron tomography and the use of DNA origami gold nanoparticle helices as molecular standards. - J Struct Biol, 183(1), 95 - 98.缓冲液TEM网格粒径10 nm10 nm包装30μl1x TEM Grid

纳米孔读取器纳米孔一般指孔径在1-10nm的孔道结构，其孔径大小与单个生物大分子尺寸相当，通常纳米孔被置入有机 磷脂薄膜内，将待分析样(如血清)分隔呈两部分，当电压施加于纳米孔两侧时，样本中的带电离子和分子会穿越纳米孔形成电流，产生的电流信号可由特定一起采集并进行分析。当生物大分子穿越纳米孔时，由于其尺寸和电荷等性质的不同，会产生特异性的电流特征信号，从而可以根据仪器采集的电流信号分析出样本中的生物大分子的结构、种类和浓度等信息。纳米孔包括固态纳米孔和生物纳米孔两大类，一般应用中的纳米孔为生物纳米孔，纳米孔生物传感器被广泛应用于生物大分子的定性和定量分析，如DNA测序、肿瘤标记物检测和环境重金属离子检测等，纳米孔技术是国际上热门的第三代基因测序技术，由于其在生物、化学、医学、食品与环境等领域内的巨大应用潜力，已经发展成一个生物、化学、医学、流体、电子、材料、机械等多学科交叉的崭新研究领域。纳米孔读取器是一种小型便携式读出设备，具有可重复使用的流动池，用于固体纳米孔和生物孔的超低噪声记录。纳米孔读取器可用于实验活动，如脂质双层测量、DNA易位和单分子检测。若和特定的流式细胞相结合，它适用于蛋白质研究、疾病标记检测、DNA定位和纳米 粒子等分析。纳米孔读取器产品特点：■ 小型化 — 手持仪器 VS. 笨重设备■ 随时可用 — 无需工具，只需将流动池插入设备即可 ■ 高性能 — 低噪声测量■ 经济实惠 — 为每个人提供技术！纳米孔读取器应用案例：另外，我司可提 供各种规格SiNx固态纳米孔，详情可咨 询上海昊量光电设备有限公司。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专 业代 理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防、量 子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

产品简介：液体颗粒纳米计数器液体中激光粒子计数器PMT-2801液体颗粒纳米计数器液体中激光粒子计数器采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和分析，目前是英国普洛帝分析测试集团向水质领域及微纳米检测领域的重要产品。液体颗粒纳米计数器液体中激光粒子计数器产品优势：应用：创新性油水双系型、多用途、多模块条件；技术：第八代双激光窄光检测技术应用；软件：分析测试和校准计量相分离消除干扰；输出：IPAD数据采集技术使用；标准：民用标准和军用标准分离。在线优势：清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线颗粒监测和分析，都是PMT-2微纳米监测仪的经典应用场所，并为生产线上的重要组成部分。在线、实时、连续取样、报警提示，能够即时掌握颗粒污染诊断和趋势。离线优势：移动测量和固定测量颗粒大小及多少双模式，解决连续跟踪监测的生产过程难题，无论您是即时测量还是清洁跟踪监测，都会为您提供完善的测试方案，让您的测试更加快捷。液体颗粒纳米计数器液体中激光粒子计数器应用范围：可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片、手机零部件、纯水机、纳米过滤、微米过滤等领域进行固体颗粒污染度检测，及对有机液体、聚合物溶液进行不溶性微粒的检测。液体颗粒纳米计数器液体中激光粒子计数器技术参数：订制要求：各类液体检测要求；传感器：第八代双激光窄光检测器；测试软件：V8.3分析测试软件集成版&PC版；检测标准：满足中国药典2015&2020版、美国药典、欧洲药典、英国药典、GB8368等标准；测试标定：JJG1061或乳胶球或ISO21501；操作方式：彩色液晶触摸屏操作&无线键鼠组合；检测范围：0.1-0.5um；特殊检测：自定义1~100μm或者4~70µ m（c）微粒，0.1μm或者0.1µ m（c）任意检测；取样方式：精准计量泵；进样精度：±1%精确度：±3%典型值；重合精度：1000粒/mL（2.5%重合误差）；模拟输出：4mA～20mA接口；并带超标报警功能（可定制）； 报告方法：颗粒数/ml及污染度等级；输入电压：100V～265V,50Hz～60Hz；售后服务：普洛帝服务中心/中特计量检测研究院。

金属纳米颗粒制备 金纳米材料具有众多易于调控的特性，比如局域表面等离子共振、表面增强拉曼、光致发光、易于表面修饰和生物相容性好。这使得金纳米材料广泛应用于我们生活的多个方面。合成金纳米颗粒常用的制备方法有很多，其中，直接FSP火焰喷雾燃烧法生长法应用广泛。金属纳米颗粒制备采用火焰喷雾热解工艺，受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。纳米颗粒制备仪主要特点：1产品纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，高表面活性，松装密度低，气相法制备，克服了市场上湿化学法制备的颗粒硬团聚、难分散、纯度低等缺点；2表面存在大量的不饱和残键及不同键合状态的羟基，因表面欠氧而偏离了稳定的硅氧结构，所以具有高反应活性，粉体松装密度比较小，容易分散使用；3纳米颗粒晶相稳定、硬度高、尺寸稳定性好，可应用于各种塑料、橡胶、陶瓷产品的补强增韧，特别是提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和高分子材料产品的耐磨性能尤为。由于颗粒也是性能优异的远红外发射材料，作为远红外发射和保温材料被应用于化纤产品和高压钠灯中。4公司可以进行针对性的表面处理包裹，使得纳米粉体可以稳定地分散在溶剂体系中，形成透明状或半透明状溶胶，应用在涂料、玻璃表面、电子封装等

纳米颗粒制备仪 大型实验室喷雾燃烧合成纳米颗粒材料火焰喷雾热解(FSP)是一种多功能经济高效的纳米颗粒生产工艺。它依赖于含金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000度的温度燃烧。产品纳米颗粒在几毫秒内形成在过滤器上以干粉的形式收集。 火焰喷雾热解工艺受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-M是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-M设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。主要特点：实验室规格火焰喷雾反应器低脉动注射可精确输送液体前体用于输送工艺前体的质量流量控制器:火焰检测器集成微处理器、电子板。用于过程控制，通信通过rs232玻璃纤维过滤器：干式旋式真空。用于产品粉末的收集压力及温度计以监察过滤器的状态。

低温下的材料湿式纳米粉碎处理可在短时间内完成极微量（100 mg）材料的粉碎NP-100粉碎专用设备，对自转和公转比例进行了最优化设计，使该冲击能量达到最大化。纳米粉碎机NP-100，通过自转和公转时产生的强力离心力，使装在容器内的粉碎介质（锆珠）产生加速度，对材料进行粉碎。从原理上说，干式粉碎难以达到３微米以下的细度，而与此相对，湿式粉碎则可达到纳米级的粉碎。特长粉碎量　最少可粉碎100 mg（10 ml液量）粉碎时间 2～5分提供标准粉碎配比在密閉容器内的处理使混料控制在最低限度

A-Z系列纳米粉 我司提供A-Z系列纳米粉料，纯度3N-4N不等，欢迎您的垂询！名 称规 格名 称规 格ZnO3N 50nmNd2O33N5 20-30nmγ相 Al2O34N 40nmZrC40nm 97%α相Al2O34N 40nmTiN40nm 97%SiO215-20nmTiC20nm 99%SiO250-60nmAlN40nm 99.9%ZrO4N 40nmSi3N420nm 99%CuO3N 30nmBN40nm 99% 六方结构TiO2(锐钛矿）4N 10nmB4C50nm 99%TiO2(金红石）4N 20nmFe3O499.5% 20nmMgO3N 40nmα-Fe2O399.5% 30nm 氧化铁Ho2O33N 30-50nmγ-Fe2O399.5% 20nm 磁性氧化铁CeO24N 20-30nmZnFe2O499.5% 30nm 铁酸锌La2O320-30nmNiFe2O499.5% 30nm 铁酸镍Tm2O35NCoFe2O499.5% 40nm 铁酸钴Dy2O34NZnO.5NiO.5Fe2O499.5% 30nm 复合铁酸锌镍Dy2O33N5ZnO.5CoO.5Fe2O499.5% 40nm 复合铁酸锌钴Er2O34N5-8微米NiO.5CoO.5Fe2O499.5% 40nm 复合铁酸镍钴Lu2O34N5Sm2O399.5% 40nm 氧化銏Sm2O33NPr6O1199.9% 50nmSm2O35NNiO99.5% 30nmSc2O3高纯粉 4NSi3N430nmGd2O3高纯粉 4NSiC30nmAl99.99% 1～50nmC30nmZn99.99% 1～50nmIn2O399.99% 20～100nm 化学湿法Ag99.9% 50nmBaCO399.9% 50nmW99.9% 80nmCu99.99% 1～50nmTi99% 80nmFe99.9% 1～50nm

SmartNIL紫外纳米压印：HERCULES NIL一、设备原理：EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统，是EVG的NIL产品组合的最新成员。 HERCULES NIL基于模块化平台，在单个平台上将清洗模块，抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印（NIL）模块结合在一起，用于直径最大为300 mm的晶片。这是第一个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供最大的自由度来配置他们的系统，以最好地满足其生产需求，包括200 mm和300 mm晶圆的互换功能。通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在大面积NIL设备解决方案中的领导地位。 二、应用范围HERCULES NIL纳米压印技术主要应用于如下方面：增强/虚拟现实（AR / VR）光学器件，3D传感器，纳米光子学等离子体光学纳米压印光栅；三、主要特点及技术参数1、主要特点：. 最大产量高达40wafers每小时；. “一站式服务”：将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。. 市场上最先进的纳米压印功能，.具有较低的力和保形压印，. 快速的高功率曝光和平滑的压模分离。. 支持各种设备和应用程序的生产，全自动UV-NIL压印和微力剥离.完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理）. 200毫米/ 300毫米桥接工具能力. 全区域覆盖. 批量生产最小40 nm或更小的结构. 支持各种结构尺寸和形状，包括3D. 适用于高形貌（粗糙）表面. 分辨率取决于过程和模板.优化工艺链. 具有软工作模板制造能力，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印模板制造设备. 该设备可以配置微型环境，以确保最低的缺陷率和最高质量的原版复制。2、技术参数. 最多300毫米的基材. 晶圆直径（基板尺寸）100至200毫米（7200压印模块）/ 200至300毫米（7300压印模块）. 解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）. 支持流程：SmartNIL. 最大产量高达40wafe/小时. 对准：≤±3微米. 自动分离：支持. 前处理：提供所有预处理模块. 迷你环境和气候控制：可选. 工作印章制作：支持的模板尺寸：最大330*330mm最大压印面积：最大300*300mm印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率LED（i线）窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°最多可配置8个模块：清洗模块，抗蚀剂涂层模块，烘烤预处理模块，EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印（NIL）上下料机械手内部各模块间传递系统上料系统：4料盒自动上料SECS/GEM II: 可选。

EZ Imprinting推出了一款台式独立纳米压印系统：PL系列400/600.EZImprinting是一种超高产率（ 99％）纳米压印光刻系统，带有低于10纳米的分辨率和一步自动释放功能。该平台提供具有微定位夹具的机械平台，用于安装纳米压印室，UV固化源和对准显微镜。它即可以作为纳米压印系统，也可以作为传统的掩模对准器，同时提供可编程的自动控制功能。EZI UV Nanoimprint System PL400特点：? 全晶圆压印 - PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理? 低于10纳米分辨率，产率高达99％? 一步自动释放功能，可防止分离过程中模具/基材损坏，使压印产量最大化? 支持各种类型的硬模和软模? 可变模具和基材尺寸，灵活方便? 可编程PLC，通过自定义参数进行过程控制，带触摸屏用户界面? 对准功能选项? 多种工艺，适用于各种应用光学器件，显示器，数据存储，生物医学器件，半导体IC，化学合成和先进材料等? 专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容EZ Imprinting处理器参数：基材尺寸: 4“标准（尺寸较小，形状不规则）印记区 : 与晶圆尺寸相同。模板尺寸 4”,2” and 1”

高精度紫外纳米压印光刻设备200mmGL8 CLIV Gen2GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现200mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。GL8 CLIV Gen2 & GL12 CLIV Gen2 2inch/100/150/200mm & 2inch/100/150/200/300mm是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，可实现200/300mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高，寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。GL8/12 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产。主要功能● 经过量产验证的200mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印● CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性● 设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本● 自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预● 标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料● 标配设备内部洁净环境与除静电装置● 随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平设备照片相关参数兼容基底尺寸2inch、100mm、150mm、200mm特殊尺寸可定制支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金属等上下片方式手动上下片晶圆预对位机械夹持预对位，可选装光学巡边预对位纳米压印技术CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印压印精度优于10纳米*结构深宽比优于10比1*残余层控制可小于10nm*紫外固化光源紫外LED（365nm）面光源，光强1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配）设备内部环境控制标配，外部环境class 100，内部环境优于Class 10*自动压印支持自动脱模支持自动工作模具复制支持模具基底对位功能自动对位（选配）如想了解更多产品信息，可通过仪器信息网和我们取得联系 400-860-5168转6144