纳米表面

多功能纳米压痕仪配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。 多功能纳米压痕仪配件特色最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。实现静态压痕和动态压痕测量以及sclerometry测量具备原子力显微镜和纳米硬度测量仪的功能采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。 多功能纳米压痕仪配件选型4D紧凑型多功能纳米压痕仪4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。 4D标准型多功能纳米压痕仪4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。多功能纳米压痕仪4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。 4D+增强型多功能纳米压痕仪4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

孚光精仪品牌的多功能纳米硬度计配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。 多功能纳米硬度计配件特色具备原子力显微镜和纳米压痕仪的功能实现静态压痕和动态压痕测量以及测量最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。 多功能纳米硬度计配件选型4D紧凑型纳米硬度计4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。 4D标准型纳米硬度计4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。纳米硬度计4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。 4D+增强型纳米硬度计4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

T-SERS表面增强拉曼芯片: 可以增强1000万倍信号！！ 纳米雕刻表面增强拉曼散射(SERS)@银 -表面光谱技术 自然界里的分子与细胞皆有拉曼光谱指纹，但是其信号微弱 纳米表面增强基板可将拉曼光谱讯号增强数百万倍以上的强度，解决光谱分析上的困难。T-SERS表面增强拉曼基板使用新颖的纳米雕刻技术，藉由等离子体在近场金属纳米结构的交互作用，增强待测目标的拉曼讯号。 气相沉积纳米雕刻技术 纳米雕刻技术属于一种物理气相真空镀膜方式，使用电子枪系统将粒状固态金属靶材溶化并以磁场轰击转换成气态分子，在基板上成长纳米孔隙结构 借着调整基板载台的方向与镀膜参数可以控制纳米结构的尺寸与外型。此镀膜技术具有大面积、高均匀度之特点。TRES表面增强拉曼基板使用常见的金属材料(如金、银、铜等)，做为激发广波长范围的纳米等离子体结构，可有效的增强待测分子或细胞的拉曼信号。 相比于目前市场上可增强100万倍信号的产品，T-SERS的效果可以再增强1个数量级以上。如下图，我们可以探测到0.1ppm级别浓度的三聚氰胺。 优点 &bull 适用于宽光谱激光激发范围(532nm到 785nm, 可选：1064nm) &bull 一千万倍表面增强拉曼信号(大多数吸附表面待测分子) &bull 高表面结构均匀度与良好拉曼信号重复性 应用项目 &bull 植物病毒检验 &bull 食品安全 &bull 农作物农药残留检验 &bull 环境污染监测 &bull 药物成份分析 &bull 细胞、病毒侦测 &bull 水污染侦测 &bull 科学辨识 T-SERS表面增强拉曼芯片规格 有效区域 标准尺寸： 3 x 3mm2 客制尺寸：2 x 2mm2 ,4 x 4mm2 金属镀膜/硅芯片 基板 载玻片(75mm x 25mm x2mm) 金属材料 银 制程方式 物理气相沉积 适合激发波长/量测条件 标准 ：532nm, 633nm, and 785 nm 选配：1064nm 10X物镜倍率 湿式量测(建议) 增强倍率 10,000,000 (大多数可吸附表面之待测分子)@Rh6G 产品代码 TRES_SUB_AG

更快更成熟的培养细胞和组织纳米仿生拓扑结构培养皿建构培养细胞和组织，以提高生理相关性。 与在常规培养皿中培养的细胞相比，在纳米仿生培养皿中培养的细胞表现出增强的结构和表型发育。纳米仿生地形诱导细胞骨架重组和细胞对齐。 NanoSurface仿生培养皿沿用标准的应用于高质量成像的1.5号玻璃底。单皿 35mm Ø dish (20mm Ø pattern area)6孔板 35mm Ø wells (20mm Ø pattern area) 24孔板 20mm Ø wells (full well area patterned)96孔板 5mm Ø wells (full well area patterned)No. 1.5 玻片NanoSurface纳米仿生拓扑培养皿快速建构和成熟以下众多细胞类型。 骨骼肌细胞平滑肌细胞内皮细胞人类胚胎干细胞诱导多功能干细胞间充质干细胞成纤维细胞上皮细胞癌细胞如果没有仿生表面形貌，心肌细胞在常规培养表面上呈现随机取向，紊乱的收缩模式和不成熟的功能表型。仿生纳米级表面形貌模仿天然细胞外基质的对齐结构。纳米表面拓扑图案培养表面提供模拟天然细胞外基质的排列结构的细胞微环境，促进细胞结构和功能发育 原生心肌的基础基质具有对齐的结构 (标尺 10 µ m)。

更快更成熟的培养细胞和组织纳米仿生拓扑结构培养皿建构培养细胞和组织，以提高生理相关性。 与在常规培养皿中培养的细胞相比，在纳米仿生培养皿中培养的细胞表现出增强的结构和表型发育。纳米仿生地形诱导细胞骨架重组和细胞对齐。 NanoSurface仿生培养皿沿用标准的应用于高质量成像的1.5号玻璃底。单皿 35mm Ø dish (20mm Ø pattern area)6孔板 35mm Ø wells (20mm Ø pattern area) 24孔板 20mm Ø wells (full well area patterned)96孔板 5mm Ø wells (full well area patterned)No. 1.5 玻片NanoSurface纳米仿生拓扑培养皿快速建构和成熟以下众多细胞类型。 骨骼肌细胞平滑肌细胞内皮细胞人类胚胎干细胞诱导多功能干细胞间充质干细胞成纤维细胞上皮细胞癌细胞如果没有仿生表面形貌，心肌细胞在常规培养表面上呈现随机取向，紊乱的收缩模式和不成熟的功能表型。 仿生纳米级表面形貌模仿天然细胞外基质的对齐结构。纳米表面拓扑图案培养表面提供模拟天然细胞外基质的排列结构的细胞微环境，促进细胞结构和功能发育 原生心肌的基础基质具有对齐的结构 (标尺 10 µ m)。

三维表面形貌仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学表面形貌仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面形貌仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对二维形貌或三维形貌表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面形貌仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维形貌仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面形貌仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积 分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析 磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

高端炭基材料高剪切乳化机，环保水性纳米碳材高速乳化机，碳纳米管材料高剪切乳化机，碳纳米管浆液高剪切乳化机混合机，碳纳米复合母胶高剪切乳化机，液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备，超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机，炭黑高速自吸粉混合机设备 碳纳米管是一维的纳米材料，在工程材料域，碳管以其优异的物理机械性能成为聚合材料理想的填料。具有优异的力学性能、导电、导热性能，因而被认为是聚合物基复合材料理想的力学强化和功能改性材料，采用碳纳米管制成的复合材料表现出良好强度、弹性和抗疲劳性，碳纳米管也逐渐用于橡胶制品、轮胎、塑料等工业中。 但是，碳纳米管的呈纳米纤维状，自身易团聚和缠结，且碳纳米管表面为规整的石墨晶片结构，表面惰性大，与聚合物基体亲和性差，导致碳纳米管在橡胶基质中的分散性差，而且成本也高，这些限制了碳纳米管在橡胶中的规模化应用。 在橡胶工业中，将碳纳米管填充到各种橡胶基体以提高橡胶基体的性能成为研究高端橡胶产品的理想共混复合材料之一，但碳纳米管自身有着很高的表面自由能，易发生团聚现象，碳纳米管与基体间的相互作用是另一个难题，碳管表面没有任何反应官能图，碳管的惰性使其与聚合物基体间化学界面作用弱，碳纳米管对聚合物基体的改善效果难达到预期，因此制备出尺寸均匀，分散好，性能稳定的碳纳米管及其复合材料是拓展其应用域的需要。 目，在碳管的分散性及其复合材料研究中已经取得许多进展。常用的方法中是将采用表面活性剂对碳管表面改性，将其悬浮液与胶乳复合制得复合母胶，该技术在一定程度解决了碳纳米管的分散，但由于表面活性剂中其它基团的加入会降低复合母胶的性能；因此需要提供一种避免活性剂的加入影响碳纳米管与聚合物间结合的技术方案。 针对现阶段技术中存在的问题，在碳纳米管分散均匀的基础上在其表面引入羧基、羟基等官能团，避免偶联剂的加入影响碳纳米管与胶乳之间的结合。一种高分散碳纳米复合母胶的制备方法，包括以下步骤：1、将碳纳米管在分散液中剪切，制得短切碳纳米管悬浮液；2、通入氧化气体对短切碳管悬浮液氧化，制得短切碳纳米管氧化液；3、将补强材料加入短切碳纳米管氧化液，制得碳纳米管浆液；4、在碳纳米管浆液中加入偶联剂，制得复合浆液；5、将天然橡胶胶乳分散于复合浆液中，制得碳纳米管-天然橡胶复合材料；6、将碳纳米管-天然橡胶复合材料凝固、干燥制得高分散碳纳米复合母胶。 上海依肯根据市场技术需求结合多年来积累的成功案例经验特别推出ERS2000系列高剪切乳化机（混合机），ERS2000在线式高速高剪切乳化机，主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。由于工作腔体内三组乳化分散头(定子+转子)同时工作，乳液经过高剪切后，液滴更细腻，粒径分布更窄，因而生成的混合液稳定性更好。三组乳化分散头均易于更换，适合不同的工艺应用。该系列中不同型号的机器都有相同的线速度和剪切率，非常易于扩大规模化生产。 上海依肯ERS2000系列高剪切乳化机（混合机）设备参数选型表：型号 标准流量L/H输出转速rpm标准线速度m/s马达功率KW进口尺寸出口尺寸ERS 2000/4300-100014000442.2DN25DN15ERS 2000/5300010500447.5DN40DN32ERS 2000/10800073004415DN50DN50ERS 2000/202000049004437DN80DN65ERS 2000/304000028504455DN150DN125ERS 2000/407000020004490DN150DN125高端炭基材料高剪切乳化机，环保水性纳米碳材高速乳化机，碳纳米管材料高剪切乳化机，碳纳米复合母胶高剪切乳化机，液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备，超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机，炭黑高速自吸粉混合机设备。。。需要了解更多详情请致电上海依肯机械设备有限公司 销售工程师 徐蒙蒙 182-0189-1183，公司有样机可以免费为客户进行测试验证实验。

英诺色谱现提供新型的Polymicro纳米石英毛细管，实现了传统产品一微米尺寸上的突破。 Polymicros的纳米毛细管产品线中管路内径（ID）范围为200至1,000 纳米（0.2至1.0微米）。传统的毛细管产品内径不小于1微米。在纳米毛细管开发之前，对于科学、工业以及医疗界来说，小于 1 微米直径基板的主要选择包括湿式蚀刻或离子铣，这两种技术的成本都极为高昂，相对来说难以采用。 Polymicro的毛细管建立在行业领先的功能之上，在小于1微米的尺寸内可以实现高性价比的高性能毛细管产品。这类毛细管已被证实可作为封装完整性和泄漏试验的基板，还具有单分子研究和分析的潜力。通过SEM验证可以确保对直径的控制。 合成熔融石英具有镜面般光滑的内表面，可实现液体和气体的稳定流动。材料的金属离子含量较低，使内表面产生惰性，便于有效的断裂或切割操作，达到定制的管路长度。此外，管路外部的聚酰亚胺涂层在搬运和使用过程中具有出色的的耐磨性，使管路可用于-65oC至+350oC的温度。 有关科学应用包括分析化学、层析技术、纳米流体力学、直接进样口监控、基于倏逝波吸收的传感，以及同轴光学和射流元件。工业应用则包括管壳泄漏试验、蒸发冷却系统、石油分析以及催化研究。医疗应用包括药物递送、流量控制系统、临床和诊断设备，以及可穿戴式药物递送设备。零件号 产品号内径*(nm)外径(μm)涂层厚度(μm)每卷最大包装(m)1068150033TSP000.2375NC200 +200/-100363 ± 1020101068150035TSP000.6375NC600 ± 200363 ± 1020101068150037TSP001.0375NC1000 ± 500363 ± 102010*以线盘标签上标识的实际内径测量尺寸为准。

Kleindiek纳米操纵仪配件是为外部电子显微学制备样品而设计的超精密样品拾取装卸系统，它在纳米尺度灵活微操纵样品。Kleindiek纳米操纵仪配件安装安装有一根微夹钳，一个四轴辅台，在表面有一个允许快速接近的小型CCD摄像头。Kleindiek纳米操纵仪是由安装在一个超小型平台上的一个四轴辅台构成。在辅台上安装了一个微夹钳，促进提取。操作该辅台将预切样品放置在微夹钳下。在这之后，微夹钳夹住样品并轻轻地固定住样品，固定要足够牢固，只要使辅台向旁边下落，就可以将样品从大量材料提取出。一旦分离，在TEM网格上，将样品与SEM兼容胶水接触，并且用离子束固化。Kleindiek纳米操纵仪配件规格：取样室兼容平台上的辅台最大样品尺寸：30mm行程：X和Y =10mm行程：Z轴为3mm行程：R =360°（无限）速度：可达1mm/秒分辨率：0.5nm笛卡尔运动没有反弹或翻转是大多数SEM和FIB工具的简单取样室装置几乎不受震动影响微夹钳运输和组装微型物体的高分辨率夹持器抓握区域：（5至10 μm）分辨率：20nm夹持力：5至5000μN（变量）最大跨度范围：20?40 μmSemCam样品表层的小相机允许快速接近包括显示器和LED照明

三维表面轮廓仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学轮廓仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面轮廓仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对2D轮廓或三维轮廓表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面轮廓仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维轮廓仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围：2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面轮廓仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

15nm PELCO纳米金分辨率测试标样

30nm PELCO纳米金分辨率测试标样

15nm PELCO纳米金分辨率测试标样

30nm PELCO纳米金分辨率测试标样

ChromCore SAA是一款以先进的单分散、高纯、多孔硅胶为基质, 采用独特的表面键合和修饰技术，经优化装填而成的高性能色谱柱，采用混合机理模式，专用于生物制药领域中性表面活性剂含量分析。纳谱分析 表面活性剂专用柱 ChromCore SAA表面活性剂专用色谱柱 参数：纳谱分析 表面活性剂专用柱 ChromCore SAA表面活性剂专用色谱柱 特点：单分散硅胶微球，机械强度高对中性表面活性剂表现出良好选择性，柱效高，峰形好 柱流失低，兼容通用型检测器 柱间重现性一致纳谱分析表面活性剂专用柱 ChromCore SAA表面活性剂专用色谱柱 货号信息：Product NameParticle Size(µ m)Length(mm)ID (mm)4.6ChromCore SAA5250S014-050018-04625S150S014-050018-04615S

纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH屹持光电提供各种纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒，为工业和科研提供低成本的纳米光子学研究。基板可用于光学、生物学、化学、物理学（例如中子散射）、聚合物研究、纳米压印、微流体等各种应用。如果需要，可以用金属或介电涂层涂覆基底。大多数表面特征具有略微梯形的横截面轮廓，具有直平行台面和沟槽。也可以使用格状结构。提供多种特征尺寸和沟槽深度。可以在发货之前拍摄基板的SEM图像以验证确切的轮廓。表中显示的尺寸代表目标值。周期的精度优于0.5％，而沟槽深度和线和空间的宽度可能与目标值相差15％。SEM用于说明目的。可定制更精确尺寸信息。 纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH规格描述值 基材宽度和高度公差标准公差±0.2 mm通光孔径（CA）距基板边缘0.5 mm（图案可延伸至基板边缘）基材厚度0.675±0.050mmCA表面质量P / N “-P”：60/40，最高20/10CA表面质量P / N “-S” ：80/100CA外表面质量无要求材料单晶硅，反应离子蚀刻 1、线性纳米棒（线+间隔）P/N周期（nm）凹槽深度（nm）工作周期1线宽度2（nm尺寸3（mm）SNS-C72-1212-50-P1395050％69.512.5×12.5×0.7SNS-C72-2525-50-P13950 50％69.525×25×0.7 5SNS-C36-1212-110-P27811050％13912.5×12.5×0.7SNS-C24-1212-110-P416.611050％20812.5×12.5×0.7SNS-C20-0808-150-D45-P50015044％2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D45-P50035044％2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-150-D60-P50015060％3008×8.3×0.7 SNS-C20-0808-350-D60-P50035060％3008×8.3×0.7SNS-C18-2009-110-D50-P555.511050％27820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D50-P555.514050％27820×9×0.7SNS-C18-2009-110-D29-P555.511029％15820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D29-P555.514029％15820×9×0.7SNS-C16.7-0808-150-D45-P60015043％2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D45-P60035043％2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-150-D55-P60015055％3308×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D55-P60035055％3308×8.3×0.7SNS-C16.5-2912-190-P60619050％30329×12×0.7SNS-C16.5-2912-190-S 460619050％30329×12×0.7SNS-C16.5-2924-190-P60619050％30329×24.2×0.7 5SNS-C14.8-2410-170-P67517032％21824×10×0.7SNS-C14.8-2430-170-P67517032％21824×30.4×0.7 5SNS-C14.3-0808-150-D45-P70015047％3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-350-D45-P70035047％3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055％3758×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055％3758×8.3×0.7SNS-C12-1212-200-P833.320050％41612.5×12.5×0.7SNS-C12-2525-200-P833.320050％41625×25×0.7 5SNS-C11.7-1212-200-P85520050％42812.5×12.5×0.7SNS-C11.7-2525-200-P85520050％42825×25×0.7 5纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH1 占空比表示线（台面）宽度与周期的比率。2 表示台面的宽度值。3 第二维对应于凹槽长度。4 以“-S”结尾的是“科研”等级。它至少有80％的可用面积。可能存在高达80/100表面质量值。5 可提供更大的自定义尺寸 2、2D纳米图案（矩形和六边形网格）P/N周期（nm）格子类型凹槽深度特征宽度（nm）尺寸（mm）S2D-24B3-0808-150-P700矩形1502608×8.3×0.7S2D-24B3-0808-350-P700矩形3502608×8.3×0.7S2D-18B3-0808-150-P700矩形1503508×8.3×0.7S2D-18B3-0808-350-P700矩形3503508×8.3×0.7S2D-24C2-0808-150-P600六角1501658×8.3×0.7S2D-24C2-0808-350-P600六角3501658×8.3×0.7S2D-18C2-0808-150-P600六角1502408×8.3×0.7S2D-18C2-0808-350-P600六角3502408×8.3×0.7S2D-24C3-0808-150-P700六角1502208×8.3×0.7S2D-24C3-0808-350-P700 六角3502208×8.3×0.7S2D-18C3-0808-150-P700 六角1502908×8.3×0.7S2D-18C3-0808-350-P700六角3502908×8.3×0.7S2D-24D2-0808-150-P600六角孔1501808×8.3×0.7S2D-24D2-0808-350-P600六角孔3501808×8.3×0.7S2D-18D3-0808-150-P700六角孔1502008×8.3×0.7S2D-18D3-0808-350-P700六角孔3502008×8.3×0.7S2D-24D3-0808-150-P700六角孔1502908×8.3×0.7S2D-24D3-0808-350-P700六角孔3502908×8.3×0.7 rect post hex post hex hole 相关产品： 脉冲压缩透射光栅高功率光束组合光谱衍射光栅 光通信透射衍射光栅 纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒

纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台，采用了陶瓷伺服电机驱动，非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用，例如：精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力，大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸，采用模块化设计，用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术，提供坚固，精确，高速的定位，满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术，确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度，高精度，高分辨率，高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比，具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度 XT 25 XT 50 XT 2525 XT 5050 Travel Length (mm) 25 mm 50 mm 25 x 25 mm 50x 50 mm Trajectory Control Accuracy Linear Encoder ± 1.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 4.0 &mu m Straightness/Flatness ± 1.0 &mu m ± 1.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 2.0 &mu m Yaw/Pitch/Roll 5 arc-sec 5 arc-sec 10 arc-sec 10 arc-sec 2 axis system Orthogonality Standard Grade NA NA 5 arc-sec 5 arc-sec High Precision NA NA 2 arc-sec 2 arc-sec Extra High Precision NA NA 1 arc-sec 1 arc-sec

参数：制备方法：软化学单分散星状的介孔二氧化硅纳米球的的MSN平均尺寸：80 nm比表面积（BET）：大于500平方米/克。总体积：~ 1.4毫升/克孔径（MSN星状圆锥孔）：2.9 nm孔径（MSN之间颗粒空隙填充）：50 nmParameter:Preparation Method：soft chemistryMonodisperse Mesoporous Silica Nanosphere- Stellate MSNAverage Size：80 nmSpecific Surface Area (BET)：500 m2/gVtotal：~1.4 mL/gPore Size (conical pores of the stellate MSNs)：2.9 nmPore Size (inter particle voids between the packed MSNs)：50 nm

单分散星状介孔二氧化硅纳米球 Monodisperse Mesoporous Silica Nanosphere Stellate MSN制备方法：软化学单分散星状的介孔二氧化硅纳米球的的MSN平均尺寸：80 nm比表面积（BET）：大于500平方米/克。总体积：~ 1.4毫升/克孔径（MSN星状圆锥孔）：2.9 nm 孔径（MSN之间颗粒空隙填充）：50 nm

影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨 所谓医药中间体，实际上是一些用于药品合成工艺过程中的一些化工原料或化工产品。这种化工产品，不需要药品的生产许可证，在普通的化工厂即可生产，只要达到一些的别，即可用于药品的合成。 我国每年约需与化工配套的原料和中间体2000多种，需求量达250万吨以上。经过30多年的发展，我国医药生产所需的化工原料和中间体基本能够配套，只有少部分需要进口。而且由于我国资源比较丰富，原材料价格较低，有许多中间体实现了大量出口。那么，我国医药中间体域面临哪些发展机遇呢？我国β－内酰胺类抗生素经过近50年的发展，已经形成了完整的生产体系。2012年几乎所有的β－内酰胺类抗生素（除利期内的品种外）我国都能生产，而且成本很低，青霉素产量居位，大量出口供应国际市场；头孢类抗生素基本能够自给自足，还能争取一部分出口。2012年，与β－内酰胺类抗生素配套的中间体我国全部能够自己生产，除了半合成抗生素的母核7－ACA和7－ADCA需要部分进口外，所有的侧链中间体均可生产，而且大量出口。 以β－内酰胺类抗生素的主要配套中间体苯乙酸为例，我国现有苯乙酸生产厂家近30家，总年产能力约2万吨。但多数企业规模偏小，大的年产2000吨，其他大多年产数百吨。2003年国内苯乙酸总需求量约1.4万吨，消费结构为：青霉素G占85%，其他医药占4%，香料占7%，农药及其他域占4%。随着国内香料、医药、农药等行业的发展，苯乙酸需求量将进一步增加。预计到2005年，我国医药工业将消耗苯乙酸约1.4万吨，农药行业将消费500吨，香料行业约消费2000吨。再加上其他域的消费量，预计2005年国内苯乙酸总需求量将达1.8万吨。 所以上海依肯机械设备有限公司根据日益增长的市场需求结合多年来积累的丰富的行业经验以及成功案例特别推出医药中间体CMD2000系列胶体磨突破传统意义上的粉碎机，是技术上的进一步革新。好的粉碎效果源自硬质刀具的表面结构，三组分散刀头，表面含有不同粒度大小的金属颗粒，这保证了物料在通过各刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计，增大了冷却表面积，更利于长时间工作。 产品说明：锥体磨CMD2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨，可获得更细悬浮液，技术更创新。这是通过将锥形刀具间的间隙调节至小来完成的。间隙可进行无调节。好的粉碎效果亦源于硬质刀具的表面结构。刀具表面含高质材料。 第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。 第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验特制工作头来满足一个具体的应用。医药中间体CMD2000系列胶体磨（研磨分散机）的特点：① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。医药中间体CMD2000系列胶体磨设备参数选型表高速胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨

15nm PELCO纳米金分辨率测试标样

30nm PELCO纳米金分辨率测试标样

30nm PELCO纳米金分辨率测试标样

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15nm PELCO 纳米金分辨率测试标样

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