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晶华光学
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晶华光学相关的方案
多自由度可调节光学标准平面镜
多自由度可调节光学标准平面镜是专业为大型光学镜片调整设计的电动万向式镜架,可满足最大0.62米反射镜安装调整,非常适合天文光学和大型高功率激光实验系统使用。
凯戈纳斯:近场光学显微镜与传统光学显微镜的对比介绍
近场探测原理,悬臂式光纤探针等.介绍光纤探针的制作方法,科学界把探针与样品之间的距离小于几十纳米的范围称为近场,而大于这个距离的范围叫做远场。显然,STM、AFM 等利用探针在样品表面的扫描的方法属于近场探测,而对于光学显微镜、电子显微镜等远离样品表面进行观测的方法称为远场方法。
涂层光学晶片的自动分光光度空间分析
前言频繁且经济有效的光谱表征对于开发具有竞争力的光学薄膜涂层非常重要。完全自动化且无人值守的光谱测量有助于降低每次分析的成本、提高分析效率,还有助于扩展质保程序。在生产过程中,满负荷运转的沉积室中常会涂覆大面积、通常呈圆形的衬底晶片。高效的光学表征工具必须能够在晶片被切割之前从用户指定的晶片表面的特征点获得准确且有意义的信息。
等效350米光学望远镜的长基线光学干涉成像
长基线光学干涉仪是地面观测站在高分辨率、可见光和红外波长下研究宇宙的仪器。干涉仪的工作原理与传统成像望远镜是不同的。星光用一些小望远镜捕捉到,这些望远镜之间的间距可达几百米。每个望远镜的输出都是一个直径约10cm的准直光束。这些光束被中继到集中实验室,尺寸缩小直径约1cm,然后与来自其它望远镜光束结合在探测上形成干涉条纹,通过对多对组合光束的条纹图形分析,可以重建被观察目标的图像。
量子模拟的突破:光学晶格中的镱原子
由高桥义郎教授及其同事的京都大学的研究人员开发了一种新方法来测量光学晶格中具有六个自旋分量的超冷费米子镱原子的最近相邻之间的自旋相关性。
智能手机镜头中光学元件透过率的测定
刚刚发布的华为P30手机因后置拍照评分高登上 DXO榜首,随后三星发微博表示不服,并称其S10+手机拍照总分高。可见,手机/数码相机以及摄像机中光学元件的微型化和先进性已取得重大进展。但是要获得还原度高的图像,就需要精确评估镜头中微透镜和滤光片的光学特性。日立UH4150不仅拥有独特的光学系统,大型的样品室,还可以进行专属定制,是测量相机中光学元件的理想工具。
涂层光学晶片的自动分光光度空间分析
频繁且经济有效的光谱表征对于开发具有竞争力的光学薄膜涂层非常重要。完全自动化且无人值守的光谱测量有助于降低每次分析的成本、提高分析效率,还有助于扩展质保程序。在生产过程中,满负荷运转的沉积室中常会涂覆大面积、通常呈圆形的衬底晶片。高效的光学表征工具必须能够在晶片被切割之前从用户指定的晶片表面的特征 点获得准确且有意义的信息。专为 Cary 7000 全能型分光光度计 (UMS) 和全能型测量附件包 (UMA) 设计的安捷伦固体自动进样器可容纳直径达 200 mm (8"") 的样品,并提供 UV-Vis 和NIR 光谱范围内的角度绝对反射率和透射率数据。此前的研究已经证明,将 Cary 7000 UMS 与自动进样器相结合,能够对 32x 样品支架上的多个样品进行自动化、无人值守的分析,并对氧化锌锡 (ZTO) 涂层的线性能带隙梯度进行空间测绘。本研究使用配备自动进样器的 Cary 7000 UMS 对直径 200 mm 晶片上的涂层均匀性进行了自动化的角度分辨测绘。
使用分光光度法测量单晶光学材料的折射率
高级材料的生产需要快速、准确和最少的劳动密集型材料参数测定。折射率是光学材料特别是晶体材料应用所需的主要参数之一。本文主要利用分光光度计搭配可多角度自动控制的全能附件,采用两种分光光度法,对不同类型的材料,特别是单晶光学材料的折射率进行了研究。两种方法分别为:布鲁斯特定律方法以及在样品表面接近法线的低角度入射测试反射的方法。通过测试表明,两种方法获得的折射率几乎一致。
在清洁度分析领域,光学显微镜的检测方法存在哪些问题?
金属颗粒的识别是清洁度分析的重要要求。近年来,金属颗粒的光学检测通常是通过光泽度进行的。根据实验室经验,我们发现光学显微镜分析通常会导致错误的分类,这可以通过使用扫描电镜和能谱(SEM+EDX)的检测方法进行材料分析,轻松避免金属颗粒的误识别。
利用光学显微镜研究多金属氧簇复合物超分子自组装形貌
本文采用光学显微镜研究了多金属氧簇复合物超分子组装的形貌结构,通过光学显微镜详细表征复合物在溶液中聚集形貌,检测改变组装微环境导致聚集形貌的转变,光学显微镜是复合物组装结构可逆调控表征的有效手段。
光学晶体氟涂层分析
近年来,在质量控制和研发方面,获得物质外表面的信息的需求不断增加,表面分析的重要性与日俱增。表面分析的方法有很多种,各种方法可分析的元素和分析深度存在差异,需要根据测定对象选择合适的方法。XPS(X射线光电子能谱分析法:X-ray Photoelectron Spectroscopy)是一种测量固体表面受到软X射线照射时发射的光电子能量的表面分析方法,可进行物质表面元素的定性和定量分析、化学键状态分析。XPS的分析深度为自表面10nm左右,可以获得物质外表面的化学状态信息。本报告中为您介绍使用XPS分析光学晶体上薄膜键合状态的案例。同时,为您介绍不同的分析方法所带来的元素定性、定量结果的差异。
【文献解读】随机光学重建显微镜助力线粒体动力学的STORM成像(申请试拍)
【文献解读】随机光学重建显微镜助力线粒体动力学的STORM成像(申请试拍)
光学树脂眼镜片通用检测方法
我国对树脂镜片的抗划伤性能有明确的强制性规定,并对其定量检测方法作出了说明(参见国标QB2506-2001“光学树脂眼镜片通用检测方法”),根据检测要求,我们可以通过简易的物理装置进行测试,使用 ATAGO(爱拓)的树脂折射率阿贝折光仪、测试仪NAR-4T,(固液两用)高折射率阿贝折光仪NAR-1T SOLID、检测镜片透光率的程度,镜片折射率(数字型)阿贝折光仪DR-A1,用(阿贝数)多波长系列折射仪DR-M2是可以直接测量(阿贝数)等仪器为在镜片折射率工艺中的提供应用解决方案。
生物柴油碳链长度对小口径光学柴油机缸内碳烟形成过程的影响
采用LaVision的激光诱导荧光和激光诱导白炽光测量方法,对生物柴油碳链长度对小口径光学柴油机缸内碳烟形成过程的影响进行了研究。
三维光学轮廓仪在光学领域的解决方案
光学元件在各个领域都有广泛应用,对光学元件的表面加工精度提出越来越高的要求。如何检测光学元件的加工精度,从而用于优化加工方法,保证最终元器件的性能指标,是光学元件加工领域的关键问题之一。光学元件的加工精度包括表面质量和面型精度,这些参数会影响其对光信号的传播,进而影响最终器件的性能。此外,各种新型光学元件也需要检测其表面轮廓,比如非球面,衍射光学元件,微透镜阵列等。除了最终光学元件的加工精度以外,各种光学元件加工工艺也需要检测中间过程的三维形貌以保证最终产品的精度,包括注塑、模压的模具,光学图案转印时的掩膜版,刻蚀过程的图案深度、宽度等。
QCM-D结合光学显微镜对活细胞形貌进行检测
活细胞的表面形貌和机械性能决定了细胞之后的分化过程,如细胞的流动性,有丝分裂,粘附性及凋亡过程。通过结合QCM-D和光学显微镜,互补的实验数据可以系统的分析活细胞表面形貌和机械性能变化。
利用低温强磁场光学显微镜(attoCFM)表征二维晶体材料单光子发射性质
建伟院士课题组利用attocube公司的低温强磁场光学显微镜(attoCFM)研究发现了二维晶体材料单层二硒化钨(WSe2)中存在的由于缺陷态引起的单光子发射现象。先,通过低温磁场下对微米尺寸单层样品的光致发光谱精细扫描成像可以发现样品某些位置存在超窄发光光谱。超快激光光致发光谱的测量研究证实了该处发光点为单光子发射。随着低温强磁场下(改变磁场,改变入射光左旋与右旋性质等实验技术)进一步对光致发光谱的表征发现在零磁场下样品存在0.71meV的能量差并且该材料中存在超大激子g参数。经过分析,该单光子发射很可能是由中性激子被缺陷态束缚在二维晶体中引起的。
【预约试拍】随机光学重建显微镜STORM显示的内皮细胞表面糖萼(ESG)成分和超微结构
【预约试拍】随机光学重建显微镜STORM显示的内皮细胞表面糖萼(ESG)成分和超微结构
氦质谱检漏仪光学镀膜机检漏
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层或多层金属 (或介质) 薄膜的工艺过程. 在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射, 分束, 分色, 滤光, 偏振等要求. 镜片镀膜是其中的一种应用, 通过对镜片的镀膜, 可以实现镜片的防水, 防油, 防静电, 防紫外线, 防蓝光等功能. 其中减反射镀膜是镜片镀膜的基础. 反射率降低了自然透光率就会提升, 镜片也就变得更加通透.
分束器和四分之一波长反射镜的质量控制——多层光学镀膜的多角度 UV-Vis-NIR 测量
光学镀膜和镀膜技术经过多年发展,在设计、生产和表征工艺方面已非常成熟。现在,光学镀膜已非常普及,从研究和空间光学到消费品和工业的应用中都能找到它的身影。光学镀膜应用广泛,包括眼镜、建筑和汽车玻璃、照明和灯光系统、显示器、滤光片、专业反射镜、光纤和通信,以及医用光学。光学镀膜的性能取决于镀膜的规格和基底材料。设计和制造高质量多层光学镀膜不仅需要精确测量最终生产组件,还需要精确测量薄膜层中材料的光学常数。这些测量结果能够用于(有时)非常复杂的多层镀膜的详细设计。在生产结束时和生产过程中的测量结果也可以用于光学镀膜的逆向工程,提供有关设计制造工艺的反馈[1]。逆向工程的主要目的是检测单层参数中的系统误差和随机误差,有助于改善层控制,优化光学镀膜沉积。
布鲁克三维光学轮廓仪在光学领域的一些应用
光学元件在各个领域都有广泛应用,对光学元件的表面加工精度提出越来越高的要求。如何检测光学元件的加工精度,从而用于优化加工方法,保证最终元器件的性能指标,是光学元件加工领域的关键问题之一。
隔振光学平台实现精密光学的稳定基础
在当今的科技领域,光学平台扮演着至关重要的角色。它们在各种科学研究与应用中,如物理、化学、生物医学以及人工智能等,都发挥着举足轻重的作用。本文将简单带您了解光学平台的魅力以及其在实际应用中的作用。
光学薄膜的测量
功能性薄膜是一种高分子材料,根据其功能性应用在不同的场景中,其中对于薄膜光学性能的表征,是评估薄膜质量的分析方法之一。最常见的是评估其反射率和透过率。日立紫外可见近红外分光光度计UH4150 优异平行光束,确保透过率和反射率的准确测量。
机器视觉:成像传感器和相机校准+蓝菲光学超均匀面光源
典型的工业机器视觉系统包括:光源,镜头,相机,图像采集卡,软件,监视器,输入/输出等。对于光学检测来说,机器视觉系统的性能主要取决于系统中光学相关部件,比如光源,镜头,相机等的性能。此外,光学检测要求的精度一般都较高,但是大多数相机在出厂时,并没有专门针对光学检测应用进行专门校准,往往会导致机器视觉系统的精度达不到要求,结果会出现误差。蓝菲光学生产的LED-USS是目前世界均匀性最高的面光源,其卓越的性能可以满足EMVA1288要求的相机均匀度,线性度,信噪比,动态范围等诸多参数测试。是从研发到生产,各类工业相机的理想校准光源。
光学操控解决方案
光学操控指的是使用外加光源对生物学样本(尤其是活细胞)进行照射,通过光源与生物、化学分子间的特定相互作用,实现相应的功能。与活细胞相关的光学操控主要有:FRAPP,FRET,光活化,光转换,光遗传学,光学解笼,光学消融,DNA损伤。
激光驱动光源(LDLS)用于光学系统标定
Energetiq Technology的激光驱动光源(LDLS™)技术是光学元件测试和校准应用的理想选择。本应用说明将描述为什么美国宇航局戈达德太空飞行中心的科学家选择EQ-400 LDLS来校准高光谱望远镜上的探测器,该望远镜将用于观测我们星球的海洋。
利用OAMII执行流变光学测试
流变光学是指将光学技术应用于变形系统的结构、取向和压力测量。光学测量可以是对流变力学测试的一个重要的补充,因为他们可以帮助理解表现在聚合物和胶体材料上的机制控制的流动性能。光学分析模块OAMII采用偏振测定或测量光的偏振,以确定在主体流动和变形材料的折射率的各向异性。与流变仪相反,光学方法不需要接触材料,且可以专注于极小体积的材料的测试。
量子光学成像解决方案
量子光学成像级分析作为量子科学的主要组成部分,一直是科学研究的热点之一。与量子光学成像相关的科研工作包括冷原子成像及量子关联成像。
Ag-ITO-Ag多层导电薄膜的光学性能研究
Ag/ITO/Ag导电薄膜的光学性质决定着透反射式LCD的性能, 其光学性能的评价尤为重要。因此,利用UH4150对Ag/ITO/Ag导电薄膜的光学性质进行了评价
日立紫外UH4150在塑料板光学特性检测中的应用
本文向您介绍如何使用日立高新固体分析分光光度计专家UH4150分光光度计分析检测多种塑料板(包括PMMA,PVC,PET,PC)在330 - 2500 nm波长范围内的光学特性。UH4150采用升级版棱镜-光栅双单色器光学系统,实现更低噪音测定。此外,扩容后的UH4150大型样品室能够处理更大体积样品,操作者无需任何塑料板前处理切割操作,可直接检测样品,灵活使用附件,更好的提升了操作性。高精度的光学系统测定,使得不同塑料板紫外吸收谱图清晰易懂,一目了然。
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