本研究概述了定量和表征纳米元素氧化物纳米颗粒(氧单颗粒ICP-MS测定化学-机械整平中使用的元素氧化物纳米颗粒悬浮物的特性ICP - Mass Spectrometry应用文章化铝和氧化铈),这些常用于纳米电子学和半导体制造行业中化学-机械 (CMP)半导体表面的平整。CMP是一个结合了化学和机械外力平滑平面的过程,此步骤为光刻作准备。
氧化石墨烯是一种众所周知的材料,通常用作合成石墨烯及其衍生物和其他石墨烯基材料的前驱体。我们的高氧化石墨烯氧化物是根据改进的图尔的方法,通过两步氧化纯石墨和随后的氧化石墨制备的。采用元素分析法、X射线光电子能谱法和能谱法对样品中的氧含量进行了分析。采用拉曼光谱、扫描电镜、透射电镜和X射线粉末衍射等手段对其结构、形貌和化学组成进行了研究。采用同步热分析(Linseis STA PT1600)和同步热分析与质谱联用的方法研究了其在大气中的热稳定性。