产品详情法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机MEB550SL3详细介绍超高真空多腔体电子束蒸镀系统磁控溅射、电子束蒸镀、超高真空、镀膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、多腔体、Qubit、UHV、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、sputtering systemEvaporation system、Nb-based superconductor、超导铝结、Josephson junction品牌:PLASSYS 型号:MEB 550SL3 产地:欧洲 法国 应用:约瑟夫森结(Al, Nb, NbN, NbTiN) 超高真空多腔体电子束蒸发镀膜仪电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器,用于蒸镀各种高纯金属薄膜,如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚,使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究,如基于金刚石NV色心,离子阱,超导量子结,量子点电子自旋的研究,均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件,特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中,Josephson结的制备最为关键:需要在非常干净的蒸镀腔里进行,而且需要在不同的角度上蒸镀两次,两次之间需要注入氧气进行金属氧化。所以样品台必须具有三维的旋转功能,同时,蒸镀腔内还需要有可以注射氧气及其他气体来实现清洁和氧化过程。 推荐配置:可以用于沉积Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金属及氧化物薄膜,目前全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导Al结(量子比特和约瑟夫森结)和量子器件,可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。更详细信息或资料,请咨询我们! 预处理腔:衬底旋转、倾斜(3D);干泵+ 分子泵 真空度10-8 T 蒸发镀膜腔:电子枪6-15KW; 样品台: 。可加载4英寸衬底; 。衬底可加热到800℃ 。衬底旋转、倾斜, 。倾斜精度和重复性优于0.1°(可升级) 真空泵系统: 。干泵 + 低温泵; 。真空度10-10T或10-11T 膜厚控制仪: 。频率分辨率10-4Hz或更高; 。速率分辨率10-3nm/s; 。厚度分辨率10-2nm 残余气体分析仪 反应蒸镀:氧气气路+MFC 氧化腔体: 。静态/动态氧化 。臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电; 。卤素灯加热至最高200℃ 。残余气体分析仪分子泵 + 干泵;真空度10-8 T 全自动软件包,支持半自动和手动模式,支持远程网络操作和维护。典型用户:耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大学
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