光学器件

p 　　清华大学精密仪器系尤政课题组、材料学院刘锴课题组、物理系魏洋课题组，与美国伯克利加州大学吴军桥课题组、姚杰课题组、科斯塔斯· 格里戈罗普洛斯(Costas P. Grigoropoulos)课题组合作，在材料学国际知名期刊《先进材料》(Advanced Materials)上发表题为《非光刻和现场编程的光子超画布》(A Lithography-Free and Field-Programmable Photonic Metacanvas)的研究论文，提出了一种新型的可重构光学平台——超画布。该论文被《先进材料》杂志选为该期的内封底(Inside Back Cover)文章。 /p p 　　传统光学器件的技术参数与功能是固定的，这给光学器件与光学系统的实际应用带来了诸多不便。如果能够在现场调节光学器件的技术参数或功能，就可以大幅提升光学系统的工作性能。因此，可重构光学器件成为了近年来光学领域的研究焦点。 /p p 　　为了实现上述目的，清华大学和伯克利加州大学的研究人员创造性地提出使用相变材料二氧化钒，构建新型全固态的可重构光学平台“超画布”的方法。借助二氧化钒薄膜的相变热滞回线，研究人员可以在超画布上实现几乎任意光学元件的快速写入与无痕擦除。光学元件的写入由低功率(约1 mW)的连续激光和三维移动平台完成，整个过程中超画布的温度可以保持在90 ℃以下。光学元件的擦除依靠降低超画布的温度实现，最快仅需约1秒就可以完全擦除超画布上所有的光学元件或图案。 /p 　　超画布具有成本低、无需光刻、重构速度快等优点。文章中，研究人员首先基于超画布演示了能够偏折光线的可重构光学器件 接着，使用复数块超画布搭建了可重构光学系统样机，对光学现象的动态转变过程进行了观测 最后，展示了使用超画布进行物理仿真，以辅助光学器件设计工作的方法。 p style=" text-align: center " 　　 img src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201802/insimg/3106e717-a2e6-496e-95c0-bf5c48e67080.jpg" title=" e86f87c6-4006-42ce-a787-28c6fad7719b.jpg" / /p p style=" text-align: center " 　　基于超画布的可重构光学器件与可重构光学系统示意图。 /p p 　　超画布的研究促进了光学器件与光学系统技术的发展，此成果有潜力应用到光学计算、可重构光子电路、生物医疗、全息图像等领域中。《先进材料》审稿人在评审意见中指出：“这篇文章展示了可调超表面领域的一个巨大的技术进步。” /p p 　　清华大学尤政教授指导的精密仪器系2017届博士毕业生董恺琛、伯克利加州大学已出站的博士后洪錫濬(Sukjoon Hong)和博士研究生邓洋为该文章的共同第一作者。该项研究得到了中国国家自然科学基金、美国国家科学基金、清华-富士康纳米科技研究中心等方面的支持。 /p p br/ /p

光学前沿——第三届全国信息光学与光子器件学术会议(CIOC2010)由中国科学院上海光学精密机械研究所主办，广西师范大学与中国激光杂志社联合承办。第一届(CIOC2008)、第二届(CIOC2009)学术会议分别于2008年8月、2009年8月在南京与青岛举办，并取得了圆满成功。每届会议都有来自全国160多个高校和研究院所的近500名代表参加了会议，出版专题文集两期。应广大代表要求，第三届学术会议(CIOC2010)将于2010年8月6-9日在广西桂林举办。 　　CIOC2010继续以光信号处理技术、光电子技术、光子器件、新型光功能材料等领域等作为主题，还将增加能源光子学、机器视觉专题。会议面向全国高等院校、研究院所以及高新技术企业征集高水平论文。 　　本次会议将在会前审稿，全文通过审稿的代表可在会议报到时领取论文录用通知单，每篇文章至少需要一名作者到会参与学术交流。全文通过审稿的文章将刊登在《光学学报》 “信息光学”专刊(Ei收录)、《强激光与粒子束》(Ei收录)、《光子学报》、《应用光学》上，优秀文章可安排到《光学学报》正刊发表。其余文章可推荐到网络期刊《激光与光电子学进展》(中文核心期刊，中国科技核心期刊)出版(出版周期60天)。 　　广西师范大学是广西壮族自治区重点大学，坐落在世界著名山水旅游名城、历史文化名城桂林市。学校历史悠久，文化底蕴深厚，创办于1932年，有王城、育才、雁山3个校区。广西师范大学竭诚欢迎各位光学专家参会、考察和指导，以推动光学学科的建设与发展。 　　会议时间：2010年8月6日-9日 　　会议地点：广西 桂林 广西师范大学 　　指导单位：中国光学学会 　　主办单位：中国科学院上海光学精密机械研究所 　　承办单位：广西师范大学 中国激光杂志社 　　媒体支持：《光学学报》、《中国激光》、《强激光与粒子束》、《激光与光电子学进展》、《光子学报》、《应用光学》、中国光学期刊网(www.opticsjournal.net) 　　会议主题/征稿范围： 　　1、光信号处理技术 2、能源光子学 　　3、光通信、光网络技术 4、光器件与集成光路 　　5、光电子技术及其应用 6、先进光功能材料技术及应用 　　7、机器视觉及应用 8、其他相关技术 　　征文要求： 　　论文摘要需中英文对照，中文摘要控制在250～300字，重点包括4个要素，即研究目的、方法、结果和结论。英文摘要要求句型简单、语句顺畅、意义完整。摘要须用第三人称撰写，控制在1000字左右，一个A4页面以内(小四号字排版)。 　　论文全文不超过8000字，论文应该是具有国内外领先水平或独创意义的学术论文,有一定独立见解的理论论述,有可靠数据的实验报道,有科学依据的技术应用或阶段性科研成果的实验快报。不接受综述和已在国内外正式出版刊物上发表过的论文。来稿需注明论文题目、作者姓名、单位、通讯地址(包括邮编、电话、E-mail等)、标明所属征稿范围的第几类。论文格式请参考模板http://www.opticsjournal.net/post/PT080503000025GdJf.doc 　　注册、投稿、酒店预订请登陆会议官方网站，使用中国激光杂志社汇同会议系统在线注册和投稿。http://www.opticsjournal.net:8889/CIOC.htm 　　注意，选择《光子学报》投稿的作者请直接联系《光子学报》编辑部，文章录用后由会务组统一发送参会邀请函。 　　企业研讨及产品发布： 　　为促进学界和产业界的融合，本次论坛欢迎光电企业参与赞助，赞助企业可在会议、摘要集、论文集、网站上发布信息，主办单位将提供产品介绍的时间和产品展示场地。 　　重要日期： 　　论文全文提交截止时间：2010年6月1日 　　论文是否接收通知时间：2010年7月6日 　　预注册交费截止时间： 2010年7月16日 　　报 到：8月6日9：00-20：00 　　大 会 报告：8月7日9：00-17：00 　　分会场报告：8月8日9：00-17：00 　　考 察：8月9日 　　注册报到事项： 　　1.收费：本次会议收取会务费1200元，学生凭学生证1000元(预注册优惠价为一般代表1100元，学生代表900元，需在2010年7月16日之前交费)。 　　2.食宿：会议期间食宿费自理，无伙食补贴。 　　3.汇款方式： 　　(1)银行汇款(需由对公账户汇出)： 　　账户名：《中国激光》杂志社有限公司 开户行：中国工商银行上海市嘉定支行 　　账 号：1001 7008 0930 0218 071 附言备注项：CIOC会务费 　　(2)邮局汇款：邮 编：201800 地 址：上海市嘉定区清河路390号 　　收款人：《中国激光》杂志社有限公司 附言备注项：CIOC会务费 　　联系方式： 　　通信地址：上海市嘉定区清河路390号　中国激光杂志社 201800 　　会务投稿：段家喜　编辑 电话：021-69918426 传真：021-69918705 　　展览赞助：高福海 主管 电话：021-69918011 传真：021-69918705 　　电子信箱：conference@siom.ac.cn 　　会议官方网站：http://www.opticsjournal.net:8889/CIOC.htm 　　中国科学院上海光学精密机械研究所 　　广西师范大学 　 (中国激光杂志社代章)

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于光学器件精密加工某光学器件制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于光学器件精密加工, 通过蚀刻工艺提高光学器件的聚酰亚胺薄膜的表面光洁度.Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 技术参数Φ4 inch X 12片基片尺寸Φ4 inch X 12片Φ5 inch X 10片Φ6 inch X 8片均匀性±5%硅片刻蚀率20 nm/min样品台直接冷却,水冷离子源Φ20cm 考夫曼离子源 Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的核心构件离子源采用的是伯东公司代理美国 考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的射频离子源 RFICP220伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:离子源型号RFICP 220DischargeRFICP 射频离子束流800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量10-40 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力中和器LFN 2000 采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 可以使 PV、RMS分别为1.347μm和340nm的粗糙表面, 通过蚀刻其粗糙度可降低至75nm和13nm PV、RMS分别为61nm和8nm的表面, 其粗糙度可降低至9nm和1nm. 该刻蚀工艺能有效提高光学器件聚酰亚胺薄膜的表面光洁度. 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王女士T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究！

近期，中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室赵元安研究员团队与上海理工大学、苏州科技大学合作在液晶光学相控器件激光辐照效应方面取得新进展，研究厘清了液晶可变相位延迟器(LCVR)在连续激光加载下相位调控性能退化机理，并提出了性能退化补偿的预配置方法，为相关器件设计以及在高功率激光中的实际应用提供了指导方向，相关研究成果发表于Optical Materials 。 　　液晶相控器件可以实现对光束振幅、偏振、波前和指向等参数的调节，在激光点火、激光加工、光电对抗等高功率激光系统中有着广泛应用和研究，激光加载产生的热效应造成器件性能退化及失效的问题一直困扰着其在激光系统中的应用。 　　在该研究中，研究人员集成相位、温升在线测量技术并结合温度场建模分析，证实加电工作状态下LCVR的相位调控能力退化归因于连续激光加载导致的温升不但改变了液晶折射率，还影响了液晶分子在加电状态下的偏转角。上述性能退化可通过事先绘制不同激光功率下的相位响应曲线，通过降低电压进行预配置补偿，从而实现LCVR在更高功率激光辐照下按照预设相位调控参数输出。这些结果阐明了热沉积引起液晶相位器件相位调控能力退化的基本机制以及相应的补偿手段，为液晶相控器件的设计优化和实际应用提供了重要参考。 　　相关研究得到了国家自然科学基金、脉冲功率激光技术国家重点实验室开放基金的支持。图 1 (a)不同激光功率加载下LCVR的温度随时间的变化；(b)不同激光功率加载下LCVR的相位延迟随电压的变化；(c)不同激光功率加载下LCVR的相位延迟随电压的变化(第二次实验)。

“第一届光学材料与器件物理学国际学术会议亚洲论坛”于2020年12月10日-14日在重庆市召开。本次会议由重庆邮电大学理学院主办，中国科学技术大学发光材料实验室、重庆文理学院光电功能材料研究中心、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和塞尔维亚贝尔格莱德大学维察核科学研究所等单位协办。此次会议吸引了来自20多个国家和地区的专家和学者参会；综合考虑到疫情的影响，国际专家学者们均采用线上连线的方式全程参与了此次会议。第一届光学材料与器件物理学国际学术会议亚洲论坛会议现场 国际专家学者线上报告本次会议旨在响应国家开展对外的“一带一路”国际科技合作战略，为进一步提升我国在发光与显示材料研发领域的创新水平和更广泛的对欧合作奠定坚实的基础。会议设有主题报告、邀请报告及墙报展等多个环节，议题涵盖新型稀土和过渡金属发光材料及器件应用、发光材料理论模拟与计算、发光材料产业化及装备技术及先进光功能材料及其他与光化学交叉的前沿学科等方面，全方位展示国内外发光材料的研究成果。天美公司携旗下爱丁堡仪器公司助力了此次会议。 天美公司会议现场展台与会期间，众多专家学者们莅临展台，了解爱丁堡仪器研发制造的分子光谱产品，并重点咨询爱丁堡稳态瞬态荧光光谱仪和激光闪光光解仪的相关特点及应用。天美公司作为国内主要的科学仪器供应商，将始终秉承助力科研领域，为广大用户提供更优质仪器和更专业的技术服务，为推动国内及国际发光产业的发展贡献一份力量。

一、项目基本情况项目编号：310000000240126156032-00063611项目名称：上海科技大学硬X射线自由电子激光装置-大口径光学器件预算编号： 0024-J00024031 预算金额（元）： 43000000元（国库资金：43000000元；自筹资金：0元）最高限价（元）： 包1-33000000.00元 采购需求： 包名称：大口径光学器件 数量：1 预算金额（元）：43000000.00 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途：满足相应技术指标的大口径光学器件，主要包含大口径宽带反射镜、大口径离轴抛物面镜、大口径窗片、双色镜、球面镜和光学基板等，用于100PW激光装置的研制中。 合同履约期限： 交货期：按照技术规格说明书约定于2026年4月前完成。 本项目（ 否 ）接受联合体投标。二、获取招标文件时间：2024年07月26日至2024年08月02日，每天上午00:00:00-12:00:00，下午12:00:00-23:59:59（北京时间，法定节假日除外）地点：上海市政府采购网方式： 网上获取 售价（元）： 0 三、对本次采购提出询问，请按以下方式联系1.采购人信息名 称：上海科技大学地 址：华夏中路393号联系方式：021-206853072.采购代理机构信息名 称：上海中招招标有限公司地 址：上海市共和新路1301号D座2楼201联系方式：021-66272917，183170943353.项目联系方式项目联系人：陈永亮、唐 闽、张 佳电 话：021-66272917，18317094335

“学术简讯”栏目旨在帮助光谱技术使用者时时掌握新发表的科学研究前沿资讯。我们将每周给您推送新增学术论文：包括但不限于主流期刊Nature index、ACS、RSC、Wiley、Elsevier等。帮助您了解全球范围用户使用 HORIBA 光谱技术的新动态，为您的科学研究提供新思路，激发学术灵感。如您对本栏目有任何建议，欢迎留言。本周我们推荐5篇前沿学术成果，针对材料、光电器件、有机化学、高压拉曼、光学材料领域，涉及拉曼、荧光、OSD技术。材料光电器件有机化学高压拉曼光学材料更多光学光谱文献，欢迎访问Wikispectra 文献库。

微流控芯片是把生物、化学等领域中所涉及的样品制备、反应、分离、检测等基本操作单元集成到一块微米尺度的芯片上，以此取代常规生物化学实验室中的各种操作。微流控芯片因具有高度集成化、分析效率高、制造成本低、试剂消耗量少等优点被广泛应用于各种科学研究。聚二甲基硅氧烷(PDMS)是目前应用最广泛的微流控芯片制备材料之一，它具有良好的透气性、透光性、生物兼容性以及化学惰性，易于通过模具浇注成型。基于光刻和PDMS倒模技术的模塑法是目前应用最普遍的微流控芯片加工方法。然而，这种方法加工时间长、加工成本高、加工工艺繁琐，并且模具的制造需要在洁净室中完成。随着3D打印技术的出现，微流控芯片可以通过3D打印技术直接制备而成，或者结合PDMS翻模工艺与3D打印技术多步加工制备而成。这些方法不仅有效弥补了传统微加工方式的不足，而且还可以制备具有复杂三维结构的微流控芯片。另外，微流控芯片制备材料的选择也更加广泛。近日，卡塔尼亚大学Lorena Saitta课题组采用面投影微立体光刻(PμSL)技术和基于3D打印的PDMS翻模技术制备了用于段塞流检测的微流控光学器件，通过对比研究评估了两种加工技术及其制备材料的利弊。研究人员基于PμSL (microArch S140，摩方精密) 3D打印技术采用HTL光敏树脂一步成型了微流控光学器件，该技术具有超高的打印分辨率；作为对比，研究人员还采用基于聚合物喷射3D打印的PDMS翻模技术多步工艺制备了微流控光学器件。两种加工方法制备的器件进口和出口定位不同，HTL器件的进口和出口与微通道同轴对齐，而PDMS器件受限于加工方法，其进口和出口正交于微通道。另外，HTL器件是一体成型的，气密性比较好，可以避免液体泄露问题。 图1. 所设计的微流控光学器件的工作原理图2. PDMS微流控光学器件(Device 1)和HTL微流控光学器件(Device 2)的几何结构俯视图的比较(单位：mm)图3. PDMS微流控光学器件的制备流程图4. 基于PμSL技术制备HTL微流控光学器件的流程图5. PDMS微流控光学器件(Device 1)和HTL微流控光学器件(Device 2)的完整气水段塞流平均周期趋势的比较 PDMS器件和HTL器件微通道的相对粗糙度分别为0.0001 %和0.0002 %，因此，两种加工技术均能保证微通道内流体流动的稳定性。将两种器件用于段塞流的检测，PDMS器件柔性比较大，居中对准两根光纤比较困难，观测数据的变化比较大；HTL器件的刚性比较好，观测数据的分散性远小于PDMS器件。然而，HTL树脂的透光性不如PDMS，检测性能相对较低。因此，基于PμSL 3D打印技术，结合透光性良好的3D打印树脂材料的开发，可以推进微流控芯片的研究。该研究成果为微流控芯片的制造提供了新思路，以“Projection micro-stereolithography versus master-slave approach to manufacture a micro-optofluidic device for slug flow detection”为题发表在The International Journal of Advanced Manufacturing Technology上。原文链接：https://doi.org/10.1007/s00170-022-08889-8官网：https://www.bmftec.cn/links/10

近日，深圳精智达技术股份有限公司(简称：精智达)更新了IPO招股书，公司拟在上交所科创板上市，将于2022年11月16日上会，保荐机构为中信建投证券。此次IPO，公司拟发行2350.29万股，发行后总股本的比例不低于25%，计划募资约6亿元，主要用于新一代显示器件检测设备研发项目、新一代半导体存储器件测试设备研发项目，以及补充流动资金。作为国内优秀的检测设备与系统解决方案提供商，精智达将借助上市契机，持续优化核心业务的盈利能力，加强科研投入，积极实施新型显示器件检测设备业务和半导体存储器件测试设备业务双轮驱动的发展战略。核心技术备受认可 大客户遍及行业龙头资料显示，精智达主要从事新型显示器件检测设备的研发、生产和销售业务，产品广泛应用于以AMOLED为代表的新型显示器件制造中光学特性、显示缺陷、电学特性等功能检测及校准修复，并逐步向半导体存储器件测试设备领域延伸发展，相关产品应用于以DRAM为代表的半导体存储器件制造的晶圆测试、封装测试及老化修复。作为国家级专精特新“小巨人”及高新技术企业，公司始终坚持研发导向、客户导向，致力于检测设备的自主可控和国产化替代。作为以技术为核心驱动的高端装备企业，公司建立了强大的研发团队和应用服务团队，拥有多项自主知识产权和创新成果。凭借多年的研发创新和生产、应用技术积累，公司一直把握行业客户对良率与效率提升的核心需求，与维信诺股份、TCL科技、京东方、广州国显、合肥维信诺等众多知名客户建立了稳定的合作关系，产品成功应用于上述主要客户的多条量产产线中，助力客户提升生产工艺水平，提高产品良率和生产效率，有效降低了国内新型显示器件厂商设备采购成本，有力推进检测设备的自主可控和国产化替代。公司结合显示器件检测行业技术要求及客户需求特点，从实现检测、修复功能过程中的实际问题出发，经过实践创新、自主研发，形成了检测设备领域的光学检测及校正修复、电学信号检测、精密机械自动化及控制、软件算法等技术，具备丰富的技术积累和量产经验。自进入市场以来，公司与下游客户深度合作，快速响应客户的定制化需求，并提供完善的售后服务，积累了成熟的量产经验，不断突破了技术难点、完善了技术体系，截至2022年4月30日，公司拥有已授权专利共计82项，其中发明专利25项，拥有已经登记的计算机软件著作权169项，并掌握了多项生产技术技巧、工艺控制参数等非专利技术。公司致力于先进产业技术探索，进行工程技术开发与成果转化。在国家推动新型显示器件产业发展的过程中，公司积极承担了深圳市技术攻关重点项目、深圳市2020年战略性新兴产业专项资金新兴产业扶持计划、深圳市2020年首台重大技术装备扶持计划等项目。公司作为主要起草单位与工信部电子第五研究所及行业龙头企业共同制定《移动终端用电容式触摸屏通用技术规范》，推动触摸屏行业技术规范的制定。报告期内，公司荣获中国电子材料行业协会、中国光学光电子行业协会液晶分会“中国新型显示产业链发展贡献奖”，这些成果和荣誉标志着公司研发实力和技术水平得到了业界的广泛认可。主业持续高增长 市占率大幅提升招股书显示，2019年—2021年，精智达实现营业收入分别为15719.63万元、28467.52万元、45831.36万元，同比分别增长81%、61% 实现净利润分别为45万元、2861.27万元、6741.97万元，由此可见，公司营收和净利润持续呈现高速增长态势。与此同时，公司资产质量也得到了明显改善，公司资产负债率已从2020年的41.74%下降至2021年的32.05%，净资产高达52991.51万元，是2019年的五倍。此外，公司盈利水平呈现大幅提升趋势，报告期内，公司净资产负债率由2019年的0.59%，大幅上升至2021年的14.67%，提升超14个百分点 不仅如此，公司现金流整体保持充裕，报告期内，公司经营性现金流量净额分别为-5079.75万元、2451.17万元、7774.56万元，近两年现金流持续呈现大幅净流入趋势。在业绩表现向好之际，精智达自身的市场占有率也得到明显提升。根据相关研究报告显示，公司在2021年中国大陆AMOLED行Cell/Module制程检测设备厂商销售额排名第三，市场占比约13% 在Cell/Module制程检测设备的投资占比60%以上的自动光学检测及校正修复设备这一主要细分市场，公司产品在中国大陆保有量份额从2017年的3%提升至2021年的15%，位居业内第二。经检索并统计中国国际招标网中标结果公告，公司于2019-2021年中标国内AMOLED新型显示器件检测设备项目31项，名列第三。值得注意的是，精智达以核心技术为基础，推出了覆盖新型显示器件Cell制程及Module制程的光学特性、显示缺陷、电学特性等功能检测及校准修复的各类设备，形成有较强竞争力且覆盖主要工艺节点的相对完备的产品线。公司是国内较早进入AMOLED检测设备领域并且布局较为完善的企业，凭借优秀的研发能力和可靠的产品品质，在光学检测及校正修复设备等多类设备市场均取得了稳定的份额，并且其设备技术能力也通过积累大量的设备生产制造经验得到持续强化。未来，公司将在保持已有的技术特点和技术优势之上，抓住新型显示器件及半导体存储器件产业的发展机遇，凭借公司在行业方面的核心技术优势、丰富的研发人才资源、多年沉积的专业化解决方案，紧跟客户需求与发展趋势，加大研发力度，研发出能更好的满足客户需求，更具竞争力的产品和解决方案，积极推进关键检测设备的自主可控和国产化替代。同时，公司致力于高端装备行业客户信任、员工自豪的世界级企业，将不断扩大产业链深度和广度、发挥规模化经营效应、加强品牌建设力度、拓展销售市场，提升公司核心竞争力。

p 　　全光器件在传统的光通讯、量子信息等领域非常重要，其设计是基于光子在真实空间中的传播和干涉，需要精确控制大量的光学元件，精密而复杂的全光器件很难实现。 /p p 　　在量子调控与量子信息重点专项的支持下，中国科学技术大学周正威、许金时研究团队在国际上首次提出利用光学人工维度上的调控实现全光器件的设计。他们在理论上提出通过调控简并光腔中的轨道角动量光子设计全光量子存储器和滤波器，将光子的轨道角动量自由度映射为人造维度上的一个个空间格点，通过巧妙地设计人造维度中格点的跃迁，等效光子在真实空间维度上的传播，通过调控光子在人工维度上行为，最终实现全光器件的功能。研究团队提出了基于此系统实现全光量子存储器和光学滤波器的方法，简化全光器件设计难度，为光学人工维度的应用开创了一条新的道路，制备成功包含这些简并的光学轨道角动量模式的光腔。 /p p 　　相关成果在《Nature Communication》[6, Article Number 7704 (2015)]、《Physical Review Letter》[118, 083603 (2017)]和《Optical Letter》[42, 2042 (2017)]上发表。 /p p style=" text-align: center " img title=" ncomms8704-f1.jpg" src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201708/insimg/cd1c02da-aa28-4dc5-a650-83f8fa1ec9cf.jpg" / /p p /p

蓝菲光学推出手机光学解决方案背景：智能手机，作为人们日常用的最多的电子器件，已经渗透到人们生活的各个方面。近年来，越来越多的新技术被普遍应用到手机当中。举例来说，在手机中，各种各样的传感器就有几十种。这些传感器探测外部世界的各种信号，并经过手机内部的处理器进行分析处理，最终实现手机和物理世界的连接。在手机中，光学传感器以及光学器件是非常重要的部件。近年来出现的各种手机黑科技也大多和光学器件有关，比如：人脸识别，VR/AR，屏幕指纹识别等。这些新的应用的出现，也对手机光学器件提出了更高的要求。手机光学器件检测方案：蓝菲光学VCSEL 测试系统针对越来越严格的手机品控以及产线上大规模生产，基于40多年的光学检测系统设计经验，上海蓝菲光学提出了针对手机各个光学器件的系统解决方案。能够实现对手机的VCSEL，环境光传感器，闪光灯，摄像头，屏幕等各个光学器件进行高精度，快速，稳定的检测，测量结果溯源到美国国家标准与技术研究院（NIST），是行业内研发测试，质量检查，大规模生产的理想测试方案。具体来说，包括以下检测系统：1. VCSEL检测系统。能够实现对不同温度下VCSEL系统的发射功率，波长，频率，辐照度，发散角等进行检测。2. 手机闪光灯检测系统：能够实现对手机闪光灯LED所有光度学色度学指标（光通量，波长，显色指数，色温，色坐标等）进行瞬态高精度检测，测量结果符合国际标准。此外，还可以对手机闪光灯的空间照度均匀度进行分析。3. 手机环境光传感器检测系统：能够对手机环境光传感器的视场角，光强响应，光谱响应进行测试。4. 手机摄像头检测系统。能够对手机摄像头相关的所有参数（量子效率，不均匀度，线性度，暗噪声，杂散光等）进行检测和标定，测量结果符合国际标准。5. 手机显示屏检测系统。能够对手机LCD/OLED显示屏的各种光度学，色度学和电学指标(如发光效率，色域显示能力，反射率及透过率等)进行测试。6. 其他各种客户定制的光机检测产品。

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6月23日，上交所正式受理了南京茂莱光学科技股份有限公司（简称：茂莱光学）科创板上市申请。茂莱光学作为精密光学综合解决方案提供商，专注于精密光学器件、光学镜头和光学系统的研发、设计、制造及销售，服务于半导体（包括光刻机及半导体检测装备）、生命科学（包括基因测序及口腔扫描等）、航空航天、无人驾驶、生物识别、AR/VR 检测等应用领域。三大业务稳步增长目前，茂莱光学主要产品覆盖深紫外 DUV、可见光到远红外全谱段，主要包括精密光学器件、光学镜头和光学系统三大类。2019-2021年，茂莱光学实现主营业务分别实现收入 22,189.64 万元、24,616.72 万元和 33,141.07 万元，2020 年度和2021 年度同比分别增长 10.94%和 34.63%。分产品来看，报告期各期，光学器件是报告期内茂莱光学主要的收入来源，光学器件分别实现收入13,277.28 万元、13,567.68 万元和 18,878.17 万元，占营业收入的比例分别为 59.84%、55.10%和 56.95%。茂莱光学称，2021 年，公司光学器件收入较 2020 年增加 5,310.49 万元，同比增长 39.14%。主要系平片收入增加 3,721.09 万元，随着疫情逐步缓解，海外牙科市场被抑制的需求逐渐放量，客户 ALIGN 和 Meopta 对应用于 3D 牙科扫描系统的平片需求量大幅增加，公司对上述客户的平片收入分别同比增加 2,242.39 万元和 760.62 万元，较上年增长154.39%和 242.16%。此外，棱镜收入同比增长 38.31%，主要系客户 ALIGN 对光线折返异形棱镜的需求量增加，向该客户销售的棱镜金额同比增加 807.56 万元；透镜收入同比增长 12.35%，主要系 2021 年全球半导体行业景气度回升，应用于半导体检测领域的康宁集团对应用于半导体检测设备的透镜产品需求量大幅增加。报告期各期，光学镜头分别实现 5,523.54 万元、5,390.59 万元和 6,799.58 万元的收入，占营业收入的比例分别为 24.89%、21.89%和 20.51%。其称，2020 年度，公司光学镜头收入下滑主要原因为航天监测相机镜头及星敏相机镜头收入受客户需求影响大幅下降。而2021年营收增长主要系显微物镜系列收入大幅度提升，受近年来半导体行业呈快速增长趋势的影响，对半导体检测领域的客户 Camtek 收入较去年增加 1,317.71万元，对其销售的一款新品 10 倍显微物镜进入批量交付阶段，且该客户对 5 倍显微物镜等其他多款显微物镜的需求量亦增长较快。另外，报告期各期，其光学系统分别实现 3,102.93 万元、5,287.06 万元和 6,632.52 万元的收入，占营业收入的比例分别为 13.98%、21.47%和 20.01%。茂莱光学表示，2020 年度，公司光学系统业务收入增长主要原因系 AR/VR 检测等下游领域保持市场增长，客户 Facebook 和 Microsoft 积极布局，产品需求相应增加，该产品逐渐得到产业化应用；同时，生物识别光学模组收入增加 480.95 万元，主要系十指扫描仪模组、护照扫描仪模组等高单价的产品收入增加。而2021 年度该业务收入增长主要系随着半导体行业进入快速成长期，下游半导体检测设备需求放量，公司对 KLA 和 Camtek 的此类产品交付量随之增长较快。募资4亿元投建高端精密光学产品等项目招股书显示，茂莱光学此次IPO拟募资4亿元，投建于高端精密光学产品生产项目、高端精密光学产品研发项目以及补充流动资金。其中，高端精密光学产品生产项目计划在江苏省南京市江宁区汤佳路以北、金鑫东路以西地块实施，通过新建 1 栋厂房、1 栋综合楼以及其他附属配套设施，并引进一系列先进生产设备、检测设备及其他辅助设备，实现对光学器件、光学镜头及光学系统等一系列光学产品的产能扩充。而高端精密光学产品研发项目址位于江苏省南京市江宁开发区金鑫东路以西、汤佳路以北，公司计划利用新建的综合楼 B 部分面积，装修改造半导体光刻及半导体测量设备开发实验室、消费类电子商品量产线测量设备开发实验室、300mm 口径及以上大口径激光干涉仪开发实验室、基于新一代光学技术的医疗仪器开发实验室，并配备一系列先进研发和检测设备，同时引进一批高级技术人才，进一步完善和提升公司的技术研发实力。该项目完成后，将形成一系列高标准实验室，并在此基础上重点针对光学主动定心测量系统的原理及实现方式、大数值孔径物镜测量技术的原理及实现方式、200~300mm 大口径干涉仪、300mm 口径干涉仪球面标准镜、镜头像质检测的原理研究与自动化检测设备开发、双频激光测长原理研究与产品开发、点衍射干涉仪原理研究与产品开发、自动对焦的原理研究与设备开发等 30 项技术课题进行研发和改进。茂莱光学认为，公司本次募投项目“高端精密光学产品研发项目”，将建成达到行业先进水平和标准的实验室，进行高端精密光学产品和技术的研发，有助于公司打破国外技术垄断，进一步提高光学加工技术水平，以助力我国半导体（包括光刻机及半导体检测装备）、生命科学（包括基因测序及口腔扫描等）、航空航天等高科技应用领域国产化。对于公司发展战略，茂莱光学表示，公司将始终专注于精密光学器件、光学镜头和光学系统的设计、研发、制造及销售，通过持续不断的技术研发创新，本土及国际市场的开拓，精益运营管理创新和国际化人才团队建设，进一步提高光学器件、光学镜头及光学系统设计、研发、制造及服务水平，为科技应用领域客户提供高精度、高复杂度、高附加值的核心光学器件及解决方案，促进生命科学领域（如基因测序及口腔扫描等）的跨越发展，赋能光刻机及半导体装备升级换代，为航空航天、无人驾驶、生物识别及 AR/VR 检测等领域提供强有力的光学技术支撑。进一步打造公司核心竞争能力和竞争优势，提升公司品牌及国际化形象，保持精密光学行业地位和公司的可持续发展，实现客户价值、员工成长和科技进步的公司使命，实现成为高端光学科技创新应用企业的愿景。

中国科学技术大学中科院微观磁共振重点实验室杜江峰、王亚等人在金刚石量子器件制备方向取得重要进展，发展了一种全新的基于自对准的光子学器件制备加工技术，可将氮-空位色心这一原子级量子传感器以纳米级精度加工到金刚石器件最佳工作位置，实现接近最优光学探测性能的量子传感器阵列。这项研究成果以“Self-aligned patterning technique for fabricating high-performance diamond sensor arrays with nanoscale precision”为题发表在《科学进展》[Sci. Adv.8, eabn9573 (2022)]上。金刚石，俗称“钻石”，具有高硬度、高稳定性、高透光性、高热导率以及超高的禁带宽度等优异的物理化学性质，在超精密加工、光学材料以及半导体电子器件等工业领域有着广泛的应用。近十多年来，科学家发现金刚石中一种可以发光的原子尺度晶格缺陷--氮-空位色心（简称NV色心）具有极大的量子应用前景，让存在缺陷的不“完美”金刚石变得在实用性上更加“完美”。NV色心不仅可以以纳米空间分辨率对电磁场、压力等多种物理量在室温大气乃至极端环境下进行精密测量，也可以建立多体量子纠缠，用于研究量子信息等基础问题，在前沿基础科学、高科技产业等领域有重大应用价值。图1：制备技术方法示意图。制备高性能金刚石量子器件是金刚石量子信息技术实用化的关键技术。以金刚石量子传感器为例，其原理是利用器件内的NV色心将外界的微弱物理信号转换为自身荧光强度信号来进行探测，因此在不牺牲其他物理性质前提下，提高NV色心光子计数率是提升传感器性能的一个关键指标。在过去几年中，人们积极致力于开发用于提高NV色心荧光强度的金刚石微纳米光子学结构，例如固体浸没透镜、柱形波导、圆形牛眼光栅、抛物面反射器、倒置纳米锥等。但目前传统的制备技术无法精确控制微纳米结构中NV色心位置，导致器件制备效率低下，性能难以达到预期(图2(a))，其主要原因是NV色心制备工艺和金刚石结构刻蚀工艺之间的对准难题(图1左)。通常这一对准精度需要优于20纳米，方能达到光学器件理论上最优的光学性能。图2：器件制造效果展示。（a）传统工艺制造器件光学计数率分布；（b）自对准工艺制造器件光学计数率分布；（c）金刚石纳米柱传感阵列电镜照片；（d）单个NV色心荧光饱和曲线测试。针对以上难题，本工作研究团队发展了一种基于自对准策略的光子学器件加工技术，通过双层掩膜图形化工艺设计实现生成NV色心所需的氮离子注入工艺和金刚石结构刻蚀工艺的自对准，精度可以达到15纳米(图1右)。使用该技术，研究团队实现了高性能金刚石纳米柱传感阵列的制造，该纳米柱传感器可用于生物传感、纳米级磁性材料成像等前沿应用。与传统制造技术相比，器件显示出高度一致且最优的光子计数率以及接近理论预期的器件产率。通过金刚石晶体取向进一步控制荧光发射偶极方向，团队最终实现单个NV色心饱和光子计数率达到~4.34Mcps，荧光强度提升大约20倍(图2)。该方法具有可工程化、简单且高精度的特点，不仅可批量化制备高性能金刚石量子传感器，对金刚石量子技术实用化具有重要意义,还可以应用于碳化硅、稀土离子等其他固态量子体系。相关技术与器件已申请国际专利进行保护。中科院微观磁共振重点实验室特任副研究员王孟祺为该论文的第一作者，杜江峰院士、王亚教授为共同通讯作者。该研究得到了科技部、中科院、国家自然科学基金委和安徽省的资助。论文链接：https://www.science.org/doi/10.1126/sciadv.abn9573

微纳光子学亚波长器件研究获进展 或让电子学和光子学在纳米尺度上联姻 　　微纳光子学主要研究在微纳尺度下光与物质相互作用的规律及其光的产生、传输、调控、探测和传感等方面的应用。微纳光子学亚波长器件能有效提高光子集成度，有望像电子芯片一样把光子器件集成到尺寸很小的单一光芯片上。纳米表面等离子体学是一新兴微纳光子学领域，主要研究金属纳米结构中光与物质的相互作用。它具有尺寸小，速度快和克服传统衍射极限等特点，有望实现电子学和光子学在纳米尺度上的完美联姻，将为新一代的光电技术开创新的平台。 　　金属-介质-金属F-P腔是最基本的纳米等离子体波导结构，具有良好的局域场增强和共振滤波特性，是制作纳米滤波器、波分复用器、光开关、激光器等微纳光器件的基础。但由于纳米等离子体结构中金属腔的固有损耗和能量反射，F-P腔在波分复用器应用中透射效率往往较低，这给实际应用带来不利。 　　针对此问题，中科院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术国家重点实验室刘雪明研究员及其课题组成员陆华、宫永康等近期开展了相关研究并取得一定成果。到目前为止，已在Optics Express, Optics Letters, J. Opt. Soc. Am. B, Applied Physics B等国际著名光学期刊上发表论文十余篇。最近，科研人员提出了一种提高表面等离子体F-P腔波分复用器透射效率的双腔逆向干涉相消法。该方法能有效避免腔的能量反射，使入射光能完全从通道端口出射，极大增强了透射效率。此设计方法还能有效的抑制噪声光的反馈。同时，科研人员利用耦合模方法验证了这种设计方法的可行性。这种波分复用器相比目前报道的基于F-P单腔共振滤波的波分复用器的透射效率提高了50%以上。相关的成果于2011年6月20日发表在Optics Express上，论文题目为：Enhancement of transmission efficiency of nanoplasmonic wavelength demultiplexer based on channel drop filters and reflection nanocavities。 　　该研究成果引起了美国光学学会(Optical Society of America, OSA)的注意，并于6月27日被选为“Image of the week”。 　　论文链接

近日，西安电子科技大学电子工程学院天线与微波技术重点实验室吴边教授团队在准一维表面等离激元光学与射频双透明电磁器件方面取得突破进展，研究成果以Opticallyand radiofrequency-transparent metadevices based on quasi-one-dimensional surface plasmon polarition structures为题发表在《自然 电子》。在当今各种电子器件共存的复杂电磁环境中，对集成通讯、光隐身、电磁隐身的需求越来越强烈。许多场景(如5G/6G通信、智能家居、物联网、车联网、太阳能量收集等)迫切需要一系列能够提供高光学透过率、高射频透过率、高信号强度的电磁器件。长期以来，光学透明器件的性能依赖于氧化铟锡(ITO)等透明导体材料，其自身载流子浓度与透光率相互制约，具有透光性差、无法实现射频透明、加工成本高等缺陷。 基于准一维表面等离激光的电磁传输与辐射器件。（图片均由西安电子科技大学提供）研究团队搭建了准一维表面等离激元无线图像传输系统，并与传统ITO无线图像传输系统进行了数据传输对比实验。由于准一维SPPs优异的光学透明、射频透明、高辐射效率等优势，在无线图像传输中获得了更好的图像传输质量。准一维表面等离激元结构有望构建一系列传输型和辐射型透明电磁器件，其极佳的透光特性使其在自然环境下几乎不可见。该技术突破了透明电磁器件的光学与射频透过率限制，为高透光与射频隐身无线传输系统提供了新思路，有望应用于5G/6G移动通讯、智能家居、物联网与车联网等高集成隐蔽化通信领域。

仪器信息网讯 世界已进入信息时代，人们在利用信息的过程中，精密测试测量技术得到了越来越多的研究和重视，而光电测试测量技术作为现代精密测量的核心技术也发挥着越来越重要的作用。而传感器微型化、纳米技术的发展也对现代精密测量技术提出了越来越高的要求。在此大背景下，2023年3月27-29日，由中国光学工程学会联合各单位组织召开了全国光电测量测试技术及产业发展大会暨辽宁省第十七届学术年会。本次大会由中国光学工程学会、辽宁省科学技术协会主办，中国光学工程学会光电测试测量技术及应用专业委员会（筹）、大连理工大学、长春理工大学、光电测控与光信息传输技术教育部重点实验室承办，仪器信息网独家媒体支持。27日下午，本次大会组委会设置的特别专题：光电核心器件及其测量高峰论坛在大连香洲国际酒店百合厅成功召开。高峰论坛由中国科学院空天信息创新研究院正高级工程师麻云凤主持，六位与会嘉宾分享了其在光电核心器件及其测量技术研究上的进展。 高峰论坛现场中国科学院空天信息创新研究院 麻云凤 主持报告人：杭州晶耐科学光电技术有限公司副总经理 曹频报告题目：非球面光学元件表面缺陷数字化检测技术非球面光学元件由于具备常规球面元件所不具有的消除像差、减少光能损失等优点被广泛应用于国防及工业等高科技各个领域。大口径非球面的空间随机分布的表面缺陷，会对元件的使用造成额外像差、能量散射等不良影响，因此在元件加工、使用中需要对光学元件表面缺陷进行客观、定量的数字化评价，以保证光学系统的稳定可靠性。报告中，曹频介绍的非球面光学元件表面缺陷数字化检测技术采用 2022 年新颁布的国家标准 GB/T 41805-2022 所述的“光学元件表面疵病定量检测方法一显微散射暗场成像法”，在针对非球面元件方程进行仿形子孔径规划的基础上，依靠多维转动、平动扫描机构，实现多轴子孔径仿形扫描并采集到高清晰子孔径图像，利用三维投影映射拼接方法，依据非球面方程实现三维子孔径拼接及缺陷的特征提取。同时利用变倍显微镜，在低倍率子孔径成像、缺陷提取的基础上，依据缺陷位置坐标，采集高倍率缺陷图像，进而实现宏观元件表面的微观缺陷检测，全自动输出各类电子化报表检测精度可达 0.5 μm。报告人：中国科学院西安光学精密机械研究所副研究员 陈萍报告题目：超快光电探测设备及其应用超快现象研究对物理、化学、生物、能源、材料科学等领域均具有重要意义，具有高时空分辨、高灵敏度、大动态范围等的高性能光电探测仪器设备是研究超快现象的重要手段。陈萍在报告中介绍了多类型的超快光电探测设备及其应用，包括单光子探测光电倍增管、条纹相机等及其在惯性约束聚变、燃烧诊断、波速测量、激光雷达、同步辐射光源.核探测与粒子探测、高压放电测量、荧光寿命成像、计算成像等国家战略高技术、大科学工程、基础前沿科学领域的应用。报告人：同济大学副教授 邓晓报告题目：面向晶圆制造微纳检测的自溯源标准物质及其应用晶圆制造是集成电路制造中的关键技术，也是所有微纳器件制造过程中必不可少的工艺。晶圆制造微纳检测设备产业是把核心的原材料与零部件，结合技术和软件集成后开发为微纳检测设备产品为芯片中的晶圆制造工艺服务。晶圆制造微纳检测设备的测量准确性、一致性与可比性需要微纳标准物质、计量传感器及校准型仪器设备作为支撑。自溯源标准物质是指物质的关键参数可以溯源到自然界常数的标准物质。邓晓在报告中介绍了基于铬原子光刻技术研制纳米长度标准物质、自溯源型位移传感器及新型计量型 AFM 的研究成果与思路。系列光栅的准确性水平得到国际权威机构计量认可，并获批多项国家标准物质。系列可以溯源到铬原子跃迁频率的标准物质、位移传感器与计量仪器有望构建新型纳米长度计量体系。报告人：北京航空航天大学教授 孙鸣捷报告题目：高速LED阵列的计算成像中的应用LED 阵列通常用于显示，对图案显示的速度没有太高的要求，但用于为计算成像和三维测量等技术提供结构光照明时，则对 LED 阵列的更新速度提出了新的要求，以保证成像和测量速度。报告中，孙鸣捷介绍了团队开发的基于 LED 阵列的高速结构光照明模块，对于特定图案的显示更新频率达到 25MHz，可实现基于结构光照明的高速计算成像和三维测量技术。该技术有潜力实现低成本、高速成像与测量。报告人：中国科学院大连化学物理研究所研究员 耿旭辉报告题目：基于硅光电二极管的微光探测器及在荧光检测中的应用微光探测器是科学仪器和光学传感器中的关键器件之一，广泛地用在需要对微弱光信号进行探测的光谱仪器，如荧光检测仪和化学发光分析仪中，其性能决定着光学检测仪器的灵敏度和动态范围等指标。中国科学院大连化学物理研究所微型分析仪器研究组研制成功自主知识产权的高灵敏、低噪音、低漂移的微光探测器，用于替代进口光电倍增管 (PMT)和雪崩二极管 (APD)对弱光探测，经中国计量科学研究院第三方测试，其光检测下限为3.4x10-5Ix (950 nm)。该微光探测器已应用在激光诱导荧光检测器、黄曲霉毒素荧光检测器系列深海原位荧光传感器、海洋中氨氮含量和金属离子含量荧光检测器、手持式荧光检测仪台式 96 孔板阵列式荧光检测仪和新冠病毒抗体检测的等温扩增仪等多款分析仪器上，成功替代了 PMT 和 APD，并达到使用 PMT 相同的检测限和更宽的动态范围。报告人：中国科学院空天信息创新研究院研究员 郭广妍报告题目：激光电光开关器件及测试技术研究电光开关通过外加电压引起电光晶体双折射的变化改变光的偏振态，与偏振片一起使用可作为电光开关，是实现高峰值功率激光输出的重要途径。电光开关效率与激光输出效果直接相关，是高性能激光器的关键核心器件。电光开关测试技技术涉及晶体材料、器件集成装配效果及驱动技术效能验证等方面，郭广妍在报告中介绍了电光开关器件研究进展、测试技术现状及发展趋势。目前其所在团队在电光器件检测技术方面，已承研国家重点研发计划课题、测试仪器研制等项目，自研的电光晶体、器件测试平台已用于提供第三方检测服务。

内容摘要：2011年电子行业整体表现平淡，企业经营业绩也不佳，基本面缺乏亮点和创新，一季度、二季度处于行业淡季，下半年三、四季度，也没有迎来销售的旺季。 　　工控摘要：2011年电子行业整体表现平淡，企业经营业绩也不佳，基本面缺乏亮点和创新，一季度、二季度处于行业淡季，下半年三、四季度，也没有迎来销售的旺季。2012年1-3月电子元器件库存周转天数创近期新高，库存压力依然较大，总体来看，今年二季度难以出现实际性好转，将维持行业整体中性评级。 　　分析称：去年四季度我国电子元器件中，业绩增速方面光学元件表现的最佳，半导体盈利较差，LED和光学元件盈利较好，半导体和触摸屏较差，库存方面连接器和显示器件的去库存效果明显，其他均出现了增长，智能手机和被动元件扩张较为明显。今年1-3月，业绩增速方面连接器表现最好，半导体最差，智能手机首次出现净利润下滑，盈利能力方面LED表现最好，半导体最差，存货方面显示器件和PCB小幅下降，其他行业均上升，投资扩张力度方面，智能手机和PCB行业较为明显，半导体和显示器件最为谨慎。 　　在整体全球宏观经济下行的背景下，电子行业市场整体需求下降导致全球半导体行业收入增速不断下滑。全球主要的电子代工和晶圆代工等代表企业营业收入增速下滑直接反映出宏观经济对行业的负面影响。智能手机产业链及安防、POS机终端、智能电表芯片等市场刚性需求较强的相关公司增长确定性较高，将是2012年上半年值得重点关注的品种。 　　不单单是上述这些值得重点关注的品种，在传感器等上游产业中，我们也不难看到产业的春天。2012年第一季度有数据报告显示，原处于景气下行阶段的电子元器件制造业经营业绩略有上升，无论是国际领先的电子产品制造商，还是国内的电子元器件生产商，该季度业绩普遍有较大幅度的提高，订单量也稍有恢复。电子元器件行业的整体如何，仍是一个众人关注的谜。 　　物联网发展步伐加快，特别是从传感器等上游入手，将会推动整个产业链的发展。2011年12月，国家发布《物联网“十二五”发展规划》，规划提出要建立完善的物联网产业链，培育和发展10个产业聚集区，100家以上骨干企业。根据某数据网站预计，至2015年，中国物联网产业规模将达到7500亿元，年复合增长率将超过30%。物联网产业政策和发展专项资金的推出、关键技术的突破，对物联网新兴产业构成极大利好。物联网应用已进入实际应用阶段，传感器处于物联网产业链的上游，将是整个物联网产业中需求量最大和最基础的环节。 　　新型互联网的推动，必将会带来行业特别是电子元器件行业的大改革。在互联网不断的冲击下，经营的方式和推广手段也不尽相同。电子元器件行业相关的网站也如雨后春笋般兴起，选择适合自身发展的道路，才能够在新的浪潮下如日冲天!

近日，复享光学和复旦大学合作建立的“光检测与光集成校企联合研究中心”（以下简称“联合研究中心”）正式揭牌运行。复享光学官方消息显示，联合研究中心首期建设为期三年，计划投入一千万元，依托复旦大学微纳电子器件与量子计算机研究院，引入复旦大学相关研究团队，重点围绕微纳制程光学检测技术，将从科学原理出发，探索新型光谱学技术架构，开展多元化光谱、人工智能算法以及先进硬件原型等研究工作。联合研究中心旨在建立企校长期产研合作关系，形成“市场需求+科学技术”双驱动的新型研发模式，构建覆盖“光检测+光集成”两大前沿光子学领域的自主创新平台，为集成电路与光电子产业提供突破性、创新性的产品，最终赋能中国微纳制造快速发展。

光刻技术是在硅基工业中的一种关键且成熟的技术，它可以精密地定义与制备小尺度的微电子器件。然而，要将光刻技术应用于柔性电子器件的实现，柔性可降解基底对光刻过程中要用到的有机溶剂、高温以及紫外光的敏感性是它面临的核心挑战。很多时候，由于柔性层表面的粗糙性、剥落、不均匀性以及气泡等问题，器件难以实现预期性能。因此，为了保护光刻过程中脆弱的柔性可降解基底，来自土耳其伊斯坦布尔的科克大学的研究人员提出可以利用一层额外的无机薄膜层来隔绝柔性基底与表面光刻工艺的各种操作。相关论文以题为“Photolithography-Based Microfabrication of Biodegradable Flexible and Stretchable Sensors”发表在Advanced Materials上。研究人员通过优化的微纳加工工艺流程实现了具有高性能、一致性、可拉伸性以及稳定性的柔性生物可降解的电子器件。图1a和1b展示了在一个指尖大小（1 cm2）的柔性PLA贴片上包含了1600个IDE电容器，它们的器件均一性达到了3.08±3.89*10-3 pF。同时，多种其他类型的电子器件如电极、电阻、电感以及平行板电容器也可以实现小型化与可拉伸性（图1c）。图1d展示了在一个已经发生部分降解的PGS基底上制备的IDE电容器。制备这种柔性可降解电子器件工艺的关键策略在于隔离在硅衬底上的柔性可降解基底。基本的制备步骤为（图1e）：i）在硅衬底上增加牺牲层图层；ii）依次沉积柔性可降解聚合物基底层、保护层、黏附层以及金属层；iii）金属层图案化。其中，值得关注的是：（1）牺牲层采用水溶性的右旋糖苷（Dextran），以确保在工艺完成后整块薄膜可以从硅衬底上剥离；（2）利用旋涂15 %（w/w)的PLA溶液（氯仿作为溶剂）加软烘脱气泡形成PLA柔心可降解基底；（3）锗（Ge）则利用物理气相沉积（PVD）在PLA表面被形成保护层，CVD不被选用的原因是会对PLA薄膜基底表面产生明显损伤。图1. 基于光刻工艺，在柔性可降解基底上制备可拉伸与小型化图案。(a) 在1cm2面积上包含有1600个器件的柔性贴片 (b) IDE电容阵列的共聚焦显微镜图像。插图：放大后的IDE电容器显微图像。比例尺：500 um（右）和200 um（左）；(c) 在硅衬底上的聚乳酸基底上制备的各种器件照片。比例尺：1 cm； (d)放在PBS中，已经发生部分降解的PGS基底上的IDE器件 (e) 基于剥离法和反应离子刻蚀法（RIE）进行的工艺流程图。基于所提出的光刻制备柔性可降解器件的工艺，研究人员展示了器件良好的柔性（图2a）、优良的可降解性（图2b）以及使用其他材料的可拓展性（图2c-2d）。同时，对器件的均一性控制（图3a - 3c）以及器件不同尺寸的可定制性（图3d-3f）也做了响应的制备实验与表征。最后，为了展示该工艺在柔性可降解传感器制备中的应用潜力，该工作为我们展示了利用光刻工艺制作的电容式压力传感器以及葡萄糖电化学传感器并分别进行了测试。图2. 在柔性可拉伸基底上微纳制造可降解器件。(a) 带有电阻器件的柔性PLA贴片被环绕在一个直径1cm的玻璃棒上 (b) 在PDB溶液中浸泡时（1 M，室温下PH≈12），PLA基底上的钼（Mo）器件图案逐渐消失 (c) PGS柔性基底上的螺旋Mo器件 (d) 可拉伸器件在PBS溶液中降解的光学图像。图3. PLA基底上IDE电容阵列的表征。 (a) 8*8阵列的光学图像 (b) 每个IDE电容器在不同频率下的测试表现，插图显示了该阵列电容的数值分布 (c) 电容均一性展示图；(d) 4个不同宽度和间隙的微加工IDE电容器器件显微图像 (e) 高度小型化的IDE电容器件的SEM表征 (f) 不同尺寸IED电容器件在不同频率下的测试表现。图4. 可拉伸柔性基底上的微纳制备的可降解应变与化学传感器。 (a)光学和SEM图像 (b) 器件结构示意图 (c) 器件在不同频率下的响应特性测试 (d) 化学传感器的光学图像 (e) 化学传感器的性能测试 (f) 不同浓度被测物与传感器的电流响应。总的来说，该研究为我们展示了一种基于传统光刻工艺的制造柔性可降解电子器件的新方法。它尝试解决了光刻工艺中有机溶剂、紫外光和高温等操作对柔性可降解基底的损伤问题，并取得了较好的器件均一性。由于利用了硅基工业上已经很成熟且普及的光刻设备，它在批量制造上具有明显优势。同时，光刻工艺的小尺度加工的优点也被带入柔性电子器件的制备中，实现了小尺度器件的精细制造。但是，目前该研究工作中的电子器件还未涉及半导体材料，因此还有待进一步的发展与思考。

半导体器件生产中，从半导体单晶片到制成最终成品，须经历数十甚至上百道工序。为了确保产品性能合格、稳定可靠，并有高的成品率，根据各种产品的生产情况,对所有工艺步骤都要有严格的具体要求。因而,在生产过程中必须建立相应的系统和精确的监控措施，首先要从半导体工艺检测着手。针对于此，仪器信息网联合电子工业出版社将于2022年12月20-22日举办第三届“半导体材料与器件研究及应用”主题网络研讨会，围绕光电材料与器件、第三代半导体材料与器件、传感器与MEMS、半导体产业配套原材料等热点议题，为国内广大半导体材料与器件研究、应用及检测的相关工作者提供一个突破时间地域限制的免费学习平台，让大家足不出户便能聆听到相关专家的精彩报告。以下为本次大会中相关仪器技术类报告合集：报告合集报告：半导体材料的力学及热性能评估 - Thermal analysis and beyond报告人：Waters -TA部门TA仪器热分析高级技术专家 苏思伟【摘要】 报告主要围绕半导体行业材料的力学及热性能评估展开。材料的玻璃化转变、热分解温度、热膨胀系数、吸湿性、模量等参数，决定了材料的稳定性和最终使用性能，报告将介绍如何使用热分析和力学表征设备得到这些重要相关参数。报告：牛津仪器显微分析技术在先进半导体材料表征中的应用报告人：牛津仪器科技（上海）有限公司 应用科学家 王汉霄报告：如何利用牛津原子力显微镜评价化合物半导体质量报告人：牛津仪器科技（上海）有限公司 高级应用科学家 刘志文【摘要】 近几年，由于化合物半导体行业的飞速发展，其衬底以及外延薄膜质量评价越来越受到关注。如何评价高质量衬底和外延薄膜对工艺优化至关重要。原子力显微镜（AFM）是评价衬底和薄膜质量不可或缺的技术手段。在本次讲座中，主要用AFM从表面结构，力学性质和电学性质全面评价衬底和薄膜质量，涉及材料生长机制、表面不均匀性、缺陷类型、粗糙度、表面污染、力学性质、导电、表面电势、高压击穿等，从而实现对衬底和薄膜质量的全面评估。报告：海洋光学微型光谱仪在半导体领域的应用报告人：海洋光学 资深技术&应用专家 卢坤俊【摘要】 介绍海洋光学公司及工业客户合作模式，并分享海洋光学微型光谱仪在半导体膜厚测量， PECVD过程监控，Plasma Etching终点指示以及 Plasma Cleaning过程监控中的原理及应用。报告：布鲁克新一代能谱仪及其在半导体样品上的应用 报告人：布鲁克（北京）科技有限公司 应用工程师 陈剑锋【摘要】 随着目前工业和自动化控制的发展，促使人们在半导体行业上不断突破到更微观的结构，能谱和电子显微镜因为在纳米尺度上的分析能力和直观的结果解读使之在半导体行业以及相应的材料，结构，性能的研究，测试，表征等方面的依赖性也变得越来越高，布鲁克纳米分析部门推出第七代能谱配合EBSD和同轴TKD等技术继续在分析测试，失效分析，产品工艺改进和品质控制等领域助力新能源行业的发展，本期报告我们将主要介绍布鲁克新一代能谱仪特点应用，让新老客户对我们的产品及应用有一个更好的了解和认知。报告：聚焦离子束及飞秒激光微纳加工徐宗伟报告人：天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室 副教授【摘要】 聚焦离子束、飞秒激光微纳加工，由于其精度高、直写成型和灵活性高等优势，成为重要的微纳制造技术。随着纳米功能器件制造需求和制造难度的不断增加，对基于聚焦离子束和飞秒激光制造技术提出了许多新的挑战。报告结合加工工艺优化、光谱表征以及原子尺度模拟等研究手段，分享两种先进制造技术在制备微纳光学功能器件、原子尺度点缺陷色心、宽禁带半导体功能结构中的应用。报告：雷尼绍拉曼光谱技术的发展及其在半导体材料分析中的应用报告人：雷尼绍(上海)贸易有限公司北京分公司 光谱产品部应用经理 王志芳【摘要】 半导体材料和器件的性能及稳定性往往与材料本身的性质联系在一起，包括材料应力、缺陷、杂质、载流子浓度还有温度响应等等。拉曼光谱检测可以获得以上半导体材料的性质，并且拉曼光谱还具有速度快、无需制样、无损伤等表征优势，可以同时获得静态及动态变化中的结构信息，已经成为半导体材料表征和器件测试的一个重要手段。本次报告主要介绍雷尼绍拉曼技术在半导体领域的应用方向和相关案例，同时分享适用于半导体领域的拉曼技术的发展和应用。本次会议免费参会，参会报名请点击会议官网：https://insevent.instrument.com.cn/t/Mia或扫描二维码报名

12月19日，凤凰光学重大资产重组媒体说明会在上海证券交易所召开。根据重组方案，凤凰光学拟通过发行股份购买间接控股股东中电海康旗下资产海康科技100%股权。根据标的资产的预估值，交易价格暂定为7.21亿元。海康科技将实现借壳上市，凤凰光学也将获注智能控制器、物联网产品等资产，实现业务转型。　　在重组说明会上，凤凰光学及相关方负责人表示，上市公司与拟注入资产具有较强的业务互补性。凤凰光学现有光学元件加工优势将与海康科技的电子研发制造能力有机结合，加速推进上市公司由传统光学加工向光机电一体化转型升级。　　“小体量”重组　　中电海康副总经理、凤凰光学董事长刘翔表示，公司过往很长时间以来，主要业务方向集中在光学产业中的冷加工环节以及金属加工服务，下游客户多为国际数码相机巨头。近年来，数码相机受智能手机的冲击，市场快速萎缩；导致公司收入大幅下滑，逐年亏损。同时，公司在新业务与新技术方面储备不足，上市公司当前业务开拓前景堪忧，缺乏发展后劲，有必要嫁接外部资源，推动凤凰光学的产业转型升级。　　数据显示，2013年-2015年及2016年1-9月，公司归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润分别为-2860.59万元、-10634.47万元、-3617.56万元和-4769.84万元。　　对于中电海康而言，此次重组也是履行取得凤凰光学控股权时的协议约定。2014年8月，中电海康与凤凰光学原实际控制人江西省国资委就取得凤凰光学控股权签订了协议，约定各方共同努力并力争将公司打造成为国内一流、世界领先的光学核心部件的高端供应商，逐步形成光机电、研产销一体的具有核心竞争力的企业集团。　　不过，拟注入资产海康科技2015年净利润为4307.47万元，2016年上半年净利润2545.70万元。如此“小体量”资产能否有效改善上市公司业绩，市场存在不少疑问。特别是对中国电科资产证券化寄予厚望的投资者而言，此次重组与预期差距较大。　　对此，刘翔表示，投资者可能觉得此次重组规模太小，“不过瘾”，企业经营者的期许和股东的期许某种程度上是一致的。但从经营层面而言，夯实基础 后才能快速发展，否则管理、整合上会遇到较大压力。目前，凤凰光学产业基础相对薄弱，需要恰当的资产和技术支撑来完成业务转型、内部组织结构改造、管理体 系的梳理。　　切入物联网领域　　凤凰光学转型发展的压力迫在眉睫。本次资产重组的标的海康科技则身处智能化、万物互联的物联网行业。本次资产重组之后，凤凰光学有望在蓬勃发展中的物联网产业得以“涅槃”。　　资料显示，物联网行业是政府积极推进的行业，也是目前信息技术领域最为看好的行业之一。根据IDC统计数据，2015年全球物联网市场规模为 6986亿美元，到2020年市场规模预计将达到1.7万亿美元，复合增速达到20%。在中国市场，物联网产业规模2015年为7500亿元，预计到 2018年超过1.5万亿元，到2020年将超过1.8万亿元。　　据海康科技董事、总经理严晨介绍，海康科技的主导产品为智能控制器、RFID产品及方案、智能网关设备。其中，智能控制器收入占比最高，RFID产品及方案是重点发展方向，两者占主营业务收入的比重超过95%。　　海康科技的智能控制器主要包括家用和工业两大类。其中，家用控制器主要应用于马达、洗衣机、电饭煲、消毒柜等家用电器领域，工业控制器主要应用 于温控器、医疗器械、门禁系统等领域。智能控制器是在仪器、设备中实现电子控制的计算机控制单元，在仪器、设备中发挥着“大脑”的作用，广泛应用于家用电 器、工业设备及电动工具、智能建筑与安防、汽车电子等领域，市场容量巨大。同时，随着信息技术的发展，行业增长势头良好。　　海康科技物联网产品主要包括RFID系列产品、MAC采集终端、电梯物联网产品、工地物联网产品、无线传感网络、网传通信产品等；并在电梯监控、建筑、城市移动目标监管、资产管理等应用领域提供完整的解决方案。　　海康科技物联网业务以RFID及射频识别技术为核心。RFID作为物联网的重要组成部分，在身份识别、物品防伪、资产管理、设备监测、交通、金 融等领域得到广泛应用。据研究机构统计，2015年全球RFID市场规模可达95.6亿美元；而中国RFID市场规模2014年为311亿元，预计 2018年将达到878亿元。　　双管齐下促增长　　对于上市公司未来的业绩保障，刘翔表示，一方面，拟注入的海康科技有较为良好的利润增长空间；另一方面，公司将推动原有光学业务依靠自身实现转型升级和扭亏为盈。　　对于海康科技的持续盈利能力，市场普遍关注的其过于依赖单一客户和单一供应商松下电器的疑问。中信建投证券执行总经理宋双喜表示，海康科技客户 比较集中的原因在于，首先，海康科技下游白色家电行业集中度较高，优质客户数量有限；其次，客户集中度比较高是智能控制器行业的共同特征。A股其他上市公 司同样如此；第三，海康定位于服务高端客户群体，因此选择了与松下电器、史密斯等具有良好商业信誉、回款较为及时的国际厂商合作；第四，客户开发周期较 长，需要三至五年时间。而海康科技产能已经饱和，现有产能已经无法满足其他厂商的需求。此外，松下电器国内白色家电生产基地与海康科技同处杭州，开展业务 便利。而海康科技向松下采购元器件，主要是从经济角度考虑，成本低于公司其他市场渠道。公司向松下采购元器件，只用于向其销售产品的生产。海康科技可以通 过其他渠道进行采购，而并非只能向松下来进行采购。海康科技与松下电器是相互依存的关系，定制化开发的生产特性决定了智能控制器行业准入门槛比较高，被替 代的可能性很低。　　对于原有业务的扭亏和转型，凤凰光学总经理刘锐表示，目前公司已经关停了亏损的中山公司，同时公司将从镜片延展到镜头、影像模组，进入到更具潜力的市场。目前安防和车载镜头的布局正在按规划进行。影像模组业务则将和海康科技联合开发。　　对于凤凰光学未来业务与中电海康旗下另一家上市公司海康威视如何错位竞争，刘翔表示，海康威视发展战略清晰，即视频技术，围绕视频技术的视频 云、视频分析、视频大数据等一系列视频方案。凤凰光学的镜头、模组如果做得不错，可以成为海康威视的配套厂商，而不是竞争厂商。第二，海康威视从事视频技 术，而海康科技从事非视频技术，是中电海康物联网产业围绕社会安全不同领域的布局。在应用上未来会有一些叠加，会出现一些关联交易。　　关于关联交易，宋双喜表示，从目前数据看，海康科技与中电海康、中国电科及其控制的其他企业之间的关联销售超过6%，关联采购不超过2%。纳入上市公司之后，其比例会进一步降低，不会对上市公司经营成本构成影响。

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6月5日，在沈阳仪表科学院有限公司(简称“沈阳仪表院”)光学薄膜芯片生产线上，一片繁忙景象。超净车间里，伴随着工作人员紧张有序的工作，一箱箱荧光滤光芯片组件源源不断地镀膜、检测、封装、打包、装箱，随即发送全国各地。　　“这种生产节奏我们已经持续两年多时间。沈阳仪表院作为工信部疫情防控重点保障物资生产单位，承担了核酸检测仪用荧光滤光芯片的生产任务，产品占市场份额超过60%，为国家疫情防控工作作出贡献，获得国资委的表彰。”沈阳仪表院一位负责人自豪地说。　　生物医学光学薄膜元器件是沈阳仪表院研发的一种高科技产品，可广泛用于分子生物学研究、精准医学诊断领域的核酸检测、基因检测、生物酶标定仪器，技术水平属“国际一流”。这也仅是沈阳仪表院作为国家专精特新企业的“代表作”之一。　　1961年5月5日，沈阳仪表院前身“第一机械工业部仪器仪表工艺研究所”成立。时至今日，该院一直秉承着“仪表元件争创一流”的初心，以“引领仪器仪表行业发展，推动装备制造技术进步”为使命，以成为仪器仪表和高端装备细分领域一流创新型领军企业为发展目标。60余年踔厉奋发，成就了科技创新“国家队”的风采：完成科研项目1800多项，获得国家、省、市各项奖励400多项，获得国家级发明奖和国家科技进步奖11项，获得授权专利450余项(发明专利101项)，主持和参与制订、修订国家和行业标准近500项、其中国家类标准100项。产品应用领域覆盖国民经济重点领域。　　这些“代表作”不仅包括助力神舟系列飞船、嫦娥月球探测器、北斗导航卫星等国家重点项目的精密金属波纹管，还包括推动国家重点装备和能源管网检测国产化的高性能传感器和高端管道检测仪器，还有半导体装备、一键式清洗系统等。　　2002年，国家唯一“传感器国家工程研究中心”落户沈阳仪表院。20年后，也就是今年3月5日，由院士领衔的专家评审组对沈阳仪表院攻关项目“高端装备用硅基压力传感器关键技术研究与应用”进行评估，得出结论为：总体达到国际先进、部分达到国际领先水平，其中硅基压力传感器及敏感芯片国产化率达到了百分之百。　　正是凭借深厚的技术积累，在进军智能制造、物联网应用高速发展时代，沈阳仪表院实现了新的突破，抢占了仪器仪表及核心元器件、高端装备及关键零部件产业的制高点，成为名副其实的科技创新型领军企业。　　近日，沈阳仪表院投资4亿元，占地3万平方米的新产业园破土动工，将新建传感器芯片、光学敏感元件、机械敏感元件、高端装备等实验室和生产线。　　目前，沈阳仪表院拥有国家级技术创新平台和国家级质量检验中心，有传感器、弹性元件、光学器件、专用设备、检测服务在内的五大产品。作为国家重要战略科技力量，沈阳仪表院始终坚持科技创新驱动发展，以“四个面向”为战略引领，实现产业基础高级化和产业链现代化，推动产业实现高质量发展。　　“沈阳仪表院坚守工艺元件争创一流的初心矢志不移。我们要在智能时代继续不断创新，在专精特新上下功夫，为推动新时代沈阳全面振兴全方位振兴实现新突破作出新贡献！”谈及未来，沈阳仪表院董事长曾艳丽自信地说。

【概述】光学手性超构表面是由亚波长尺度单元所组成的平面或准平面光子器件。非对称传输是手性超表面的一大光学特性，该特性可应用于集成光路中的光学二极管，与电二极管类似，光学二极管要求器件具有单向性。目前，单层手性超材料中，非对称传输率在理论上被限制在 25% 以内，并伴随很高的吸收损耗，这成为该材料作为光学二极管的应用阻碍。而通过多层三维结构去实现非对称传输，虽然能将传输率突破 25%，但是其加工工艺更加复杂、困难，尤其是亚微米尺度以下的多层结构精准对准目前还很难实现。图1，单层手性超表面2022年，南开大学泰达应用物理学院齐继伟副教授在 Optical Express 上发表了一篇题为《Asymmetric reflection based on asymmetric coupling in single-layer extrinsic chiral metasurfaces》的文章。作者制作了一种单层手性超表面，创新地以圆偏振光斜入射反射的形式提升了非对称传输率，获得了与三维结构相当的非对称传输率。 【样品 & 测试】作者采用电子束光刻技术与金属镀膜技术在石英基底上制备了横向周期 1000nm，纵向周期 650nm 的单层 U型分裂环，该分裂环厚度 100nm，环形宽度 200nm，环形半径 350nm。为观测不同角度倾斜入射的反射情况，作者使用了复享光学的角分辨光谱仪R1，借助设备的自动旋转模块，灵活调整入射角与接收角，实现多角度反射光谱测量。同时，得益于角分辨光谱仪中的通用光学元件插口，作者使用线性偏振片与四分之一波片形成左旋与右旋圆偏振光，轻松获得合适的实验条件。图2，测试示意图作者通过模拟和测量左旋圆偏振光与右旋圆偏振光倾斜入射时超表面的反射光谱，并对比了正向入射与反向入射在 30°~45° 之间的测量结果，如图3 所示。研究发现，在 1120nm 处，右旋圆偏光正向入射与左旋圆偏振光反向入射的反射光谱均呈现出较宽的反射峰；在 1650nm 和 1075nm 处，右旋圆偏光反向入射与左旋圆偏振光正向入射的反射光谱分别显示出相对较窄反射峰。这一结果与 COSMOL 的模拟结果一致。通过理论分析结合实测光谱，作者发现 1120nm 处的反射峰源于四极局域表面等离子体共振模式，而 1650nm 和 1075nm 处的反射峰则源于表面晶格模式。这些发现为深入理解手性超表面的光学特性提供了重要线索。图3，U型分裂环超表面30°~45°反射光谱：（a,b）COSMOL模拟结果；（c,d）角分辨光谱仪测量结果进一步研究中，作者分别对比左旋圆偏振光与右旋圆偏振光正反向反射效率差异，如图4 所示。值得注意的是，反射效率差异在 1000~1600nm 波段最高可达 40%，突破了二维非对称传输理论效率 25% 的限制。图4，圆偏振光非对称反射效率测量结果【总结】作者制备了一种基于单层手性超表面，旨在实现巨大的非对称反射，并将圆偏振光斜入射反射作为关键步骤。复享光学的角分辨光谱仪R1 具备高度适应性，能够轻松适应不同的实验条件，包括变化角度、偏振、相位延迟等参数。这一设备对研究以调控光束特性为主要功能的超表面至关重要。图5，文章对复享光学 R1 的标注【参考文献】 ✽ Fu, Xianhui, et al.Asymmetric reflection based on asymmetric coupling in single-layer extrinsic chiral metasurfaces. Optics Express (2022).

大会背景航天航空、空间观测、纳米光刻、同步辐射、高端光学测量仪器等诸多领域，对先进光学制造技术提出了迫切需求。先进光学制造技术正朝着“一大一小”、“两特殊”的方向发展，并向光学智能制造迈进，呈现超精密制造、精密测量、智能传感与控制、材料科学等多学科协同发展的态势。 中国光学工程学会于2023年8月在深圳召开“第八届亚太光学制造会议暨第三届国际先进光学制造青年科学家论坛”，从应用端和技术端牵引，结合国防和工业应用，搭建产学研平台。重点探讨先进光学制造技术及装备的最新发展动态。会议邀请相关领域全球资深专家以及中青年一线专家作报告。为相关从业人员以及研究生提供合作交流平台，使先进光学制造领域产学研紧密结合。 录用论文收录在美国SPIE国际会议文集序列暨其数字图书馆中，EI核心检索，全球出版发行，同时也有众多国内优质光学期刊参与本次会议全文收录。活动包括会议、展览、产业论坛、培训、参观访问等多种形式。活动内容国际会议交流会议旨在解决工业，学术和有关组织对如何克服现有制造限制，设计，制造，测量中的相关问题。专家报告采用申请+邀请制，会议活动包括但不限于主旨报告交流、专家报告交流、口头报告交流、Poster海报展示、优秀学生论文评选（颁发证书）、论文发表等。光学制造产业展包括产品展示、人才招聘、校企对接会、院企对接会等活动。技术及技能培训为相关从业人员提供实例分析、概念讲解和技能实训等方面技术及技能培训。产业化论坛以光学领域中的重大应用与关键技术入手，邀请代表性企业与院校，探讨产品需求及技术攻关等热点话题。参观访问由当地企业和高校提出申请，参会人员自愿报名参观。组织机构主办单位：中国光学工程学会承办单位：深圳大学深圳技术大学南方科技大学上海理工大学香港理工大学超精密加工技术国家重点实验室复旦大学上海超精密光学制造工程技术研究中心中国光学工程学会先进光学制造青年专家委员会联办单位：（更新中）广东工业大学国防科技大学哈尔滨工业大学（深圳）天津大学北京空间机电研究所天津津航技术物理研究所深圳职业技术学院支持单位：（更新中）霖鼎光学(上海)有限公司大会名誉主席范滇元院士，深圳大学庄松林院士，上海理工大学蒋庄德院士，西安交通大学大会主席郭东明院士，大连理工大学谭久彬院士，哈尔滨工业大学毛军发院士，深圳大学Paul Shore， 剑桥大学大会执行主席张学记，深圳大学姚英学，哈尔滨工业大学（深圳）张学军，中科院长春光学精密机械与物理研究所王小勇，北京空间机电研究所戴一帆，国防科技大学组织委员会Benny Chi Fai Cheung，香港理工大学吴宗泽，深圳大学委员Huang Han，澳大利亚昆士兰大学Kim Seung-woo，韩国科学技术院ChenLiang-Chia，台湾大学ChenShih Chi，香港中文大学Fengzhou Fang，爱尔兰都柏林大学Lei Wei，新加坡南洋理工大学Chen,Wei-Jun，德国蔡司Xichun Luo，英国思克莱德大学Kazuya Yamamura，日本大阪大学YSAOM2023会议主席团主席孔令豹，复旦大学张大伟，上海理工大学龚 峰 ，深圳大学李莉华，深圳技术大学共主席（按姓氏拼音排序）高 平 ，中科院光电技术研究所郭 江，大连理工大学冀世军，吉林大学刘华松，天津津航技术物理研究所彭小强，国防科技大学彭云峰，厦门大学任明俊，上海交通大学王素娟，广东工业大学王永刚 ，北京空间机电研究所魏朝阳，中国科学院上海光学精密机械研究所薛常喜，长春理工大学薛栋林，中科院长春光学精密机械与物理研究所张继友，浙江大立科技有限公司张效栋，天津大学宗文俊，哈尔滨工业大学活动主题（分专题组织机构成员按姓氏拼音排序）【专题1：大尺寸光学反射镜与望远镜技术】本专题拟反映大尺寸光学反射镜与望远镜技术及装备的最新进展，重点包括但不限于：科学目标观测与光学工程技术、大型轻量化光学反射镜优化设计、先进光学与结构材料、高精度高稳定性反射镜及结构支撑技术、拼接式合成孔径光学系统测量与调控技术、大型光电仪器一体化设计、主动光学与自适应光学技术、巨型跟踪结构及其高精度稳定控制技术、空间望远镜天地一致性技术、大型光电仪器精密装配技术、复杂光学元件及系统试验/测试与计量技术，大尺寸光学反射镜高性能及智能制造技术。主席：薛栋林（中科院长春光学精密机械与物理研究所）共主席：Chen，Wei-Jun（Zeiss Group）范 斌（中科院光电技术研究所）王永刚（北京空间机电研究所）程序委员会：王 虎（中科院西安光学精密机械研究所）王 伟（复旦大学）王 炜（中科院国家天文台）袁 群（南京理工大学）张军平（中科院南京天文光学技术研究所）专题秘书：李龙响（中科院长春光学精密机械与物理研究所）【专题2：微纳结构光学器件及制造方法】 本专题拟反映微纳结构光学器件及制造方法的最新进展，重点包括但不限于：微纳结构光子及微电子集成器件的光学制造新方法，亚波长结构及器件的高效率制造方法，超分辨/超衍射制造新机理与新方法，短/超短激光脉冲制造技术，超分辨光学增材/减材制造技术及应用，光学微纳制造的性能评测方法及配套精密光学检测技术等。主 席：高 平（中科院光电技术研究所）共主席：陈岐岱（吉林大学）徐 挺（南京大学）专题秘书：李泰北（中科院光电技术研究所）【专题3：光学复杂曲面及功能结构超精密加工技术】 本专题拟反映光学复杂曲面及功能结构的超精密加工工艺及技术最新进展，重点包括但不限于：超精密车、铣、磨、抛等工艺，激光加工，新型微纳加工，模压及注塑成型，微纳压印，增减材复合工艺，多能场辅助加工，刀具设计及制造，加工路径规划及优化，工艺链过程建模与仿真、材料去除机理，表面全频段误差分析及控制，加工检测一体化等。主 席：孔令豹（复旦大学）共主席：关朝亮（国防科技大学）Xichun Luo（英国思克莱德大学）魏朝阳（中科院上海光学精密机械研究所）程序委员会：曹中臣（天津大学）胡 皓（国防科技大学）李 铎（哈尔滨工业大学）李加胜（中国工程物理研究院机械制造工艺研究所）肖华攀（香港理工大学）姚永胜（中国科学院西安光学精密机械研究所）张云飞（中国工程物理研究院机械制造工艺研究所）赵泽佳（深圳大学）周 平（大连理工大学）专题秘书：王施相（复旦大学）【专题4：超精密光学测量技术及装备】 本专题拟反映超精密光学测量技术及装备的最新进展，重点包括但不限于：光学测试和测量基标准、计量与在线数字校准、先进光学制造过程中的测量问题、光学元件几何参数和物理特性测量方法、光学测量系统中关键光学器件研制、基于光栅、光纤等光学器件的测试测量技术、微纳制造中的先进测量方法、宏微观测量技术、精密和超精密加工测量、精密和超精密测量的现代光学技术和仪器、光学测量中的数据处理方法、新型光学测试测量原理、新型光学测量仪器与设备、新型仪器理论与设计方法、微纳米测试与计量方法、极大极小尺寸光学测量方法、视觉测量技术等。主 席：杨树明（西安交通大学）共主席：陈善勇（国防科技大学）李文昊（中科院长春光学精密机械与物理研究所）陆振刚（哈尔滨工业大学）赵晨阳（哈尔滨工业大学（深圳））程序委员会：陈修国（华中科技大学）胡鹏程（哈尔滨工业大学）胡 摇（北京理工大学）沈 华（南京理工大学）谈宜东（清华大学）王 允（北京理工大学）吴冠豪（清华大学）虞益挺（西北工业大学）张效栋（天津大学）专题秘书：张国锋（西安交通大学）【专题5：短波长光学元件高性能制造技术】 本专题反映高性能光学系统制造技术发展新进展，重点包括但不限于：紫外、X射线等短波长光学元件制造、轻量化光学系统制造、高能激光元件抗损伤制造、掠入射光学元件加工检测技术、超精密光学元件检测评价技术等。主 席：彭小强（国防科技大学）共主席：李 明（中国科学院高能物理研究所）康城玮（西安交通大学）Kazuya Yamamura（日本大阪大学）专题秘书：薛 帅（国防科技大学）【专题6：高效光学精密加工技术及新方法】 本专题拟反映高效精密加工技术中的新工艺、新技术和新方法的最新进展，重点包括但不限于：光学超精密加工技术中单点金刚石超精密加工技术、磁流变抛光技术、离子束加工技术、数控研磨抛光技术、玻璃模造成型技术，注塑成型技术的高效实现途径、方法和工艺优化，以及光学设计过程中光学制造工艺可行性，提出新工艺、新材料、新方法、新思路、新概念，实现复杂曲面、金属光学、难加工材料光学等创新性高效精密光学先进制造技术，实现精密制造技术高效的新工艺、新技术、新方法和工艺技术途径优化，促进光学精密加工技术的高效和工艺优化。主 席：王孝坤（中科院长春光学精密机械与物理研究所）共主席：吴仍茂（浙江大学）薛常喜（长春理工大学）专题秘书：杨 超（长春理工大学）【专题7：高性能光学微细结构制造工艺及装备】 本专题拟反映高性能光学微细结构制造与工艺方面的最新进展，重点包括但不限于：面向尺寸特征为几十-几百微米的光学微阵列结构的高性能光学微细结构超精密加工技术，高性能光学微细结构保形抛光技术，光学微细结构高效、超低损伤加工技术，光学微细结构快速、高精度一体化原位检测技术，微细结构光学元件使役性能评价技术，大规模微细结构高精度快速制造技术等。主 席：郭 江（大连理工大学）共主席：王春锦（香港理工大学）许金凯（长春理工大学）程序委员会：侯 溪（中科院光电技术研究所）童 振（上海交通大学）王振忠（厦门大学）于 楠（英国爱丁堡大学）朱吴乐（浙江大学）专题秘书：李琳光（大连理工大学）【专题8：前沿光学薄膜技术及设备】 本专题涵盖光学薄膜材料、设计方法、制备表征技术及设备的最新进展和重大项目领域的应用成效，重点包括但不限于：从X射线到远红外谱段的新型光学薄膜材料、微纳功能薄膜材料研究的新进展；以X射线、激光和红外典型光学谱段为代表的高性能光学薄膜设计与制造技术、多功能跨维度光学薄膜设计与制备技术(光、热、力、电)；面向应用需求的薄膜性能测试技术，如超宽谱段光学常数表征技术、低损耗光学薄膜性能测试技术、特种环境下光学薄膜性能的评估与测试方法等；光学薄膜制造设备与检测仪器的最新进展等。主 席：刘华松（天津津航技术物理研究所）共主席：程鑫彬（同济大学）Sven Schroder（德国弗劳恩霍夫IOF研究所）程序委员会：付秀华（长春理工大学）何文彦（中科院光电技术研究所）邵宇川（中科院上海光学精密机械研究所）沈伟东（浙江大学）王笑夷（中科院长春光学精密机械与物理研究所）汪 洋（光驰科技(上海)有限公司）卫耀伟（中物院激光聚变研究中心）专题秘书：王利栓（天津津航技术物理研究所）【专题9：光学设计、装调与系统建模技术】 本专题拟反映光学设计、光学装调与系统集成测试、光学领域数字化和系统化工程仿真等方面最新研究进展，重点包括但不限于：新型光学系统，新型光谱类成像仪，新型精密计量和激光测量类仪器，航空/航天光学遥感系统、激光探测及激光雷达类产品等等光学设计与仿真、光学杂散光仿真与抑制设计、光学系统装调与性能评价技术、复杂光学系统装调与测试技术、空间复杂焦面拼接与配准测试技术、内方位元素与畸变测试技术、无应力胶合及无应力装配技术；模型驱动的光学系统工程、工程基础数据库、核心理论与算法模型、虚拟制造系统、数字孪生技术、光学建模及精确度分析、光学软件系统工程、复杂光学系统算法优化方案、光学制造装备测试与控制系统、光学系统性能分析及应用评价等。主 席：张继友（浙江大立科技有限公司）共主席：冀世军（吉林大学）马 臻（中国科学院西安光学精密机械研究所）【专题10：光流控与液晶光学技术及应用】 本专题拟反映光流控与液晶技术及其应用的最新进展，重点包括但不限于：探讨利用微流控技术、液晶技术制造各种光学元器件的研究进展，以及利用不同光学制造技术制备微流控芯片的研究进展。分析光流控元器件及液晶器件的特点和优势，展示光流控与液晶技术在光学检测、生物医学、化学分析、即时检测中的应用。旨在利用这些新技术为下一代光学系统、生化分析、医学检测、环境监测等精密光学系统提供更好的解决方案。主 席：张大伟（上海理工大学）共主席：Francis Lin（加拿大曼尼托巴大学）杨 奕（武汉大学）张需明（香港理工大学）郑致刚（华东理工大学）程序委员会：龚 元（电子科技大学）胡 伟（南京大学）刘言军（南方科技大学）穆全全（中科院长春光学精密机械与物理研究所）水玲玲（华南师范大学）王光辉（南京大学）巫建东（中科院深圳先进技术研究院）专题秘书：王 琦（上海理工大学）【专题X：柔性光电材料与智能传感】 本专题拟反映柔性光电传感器件在制造与应用方面的新进展，重点包括但不限于：激光加工柔性表面器件；激光诱导石墨烯（LIG）传感器；柔性传感器件的制造与集成；柔性光电、压力等传感器件的测试与开发；面向主动健康监测的柔性传感应用；基于柔性传感器的泛在感知健康监测无人系统。主席：臧剑锋（华中科技大学）共主席：郭传飞（南方科技大学）魏 磊（新加坡南洋理工大学）张 希（深圳大学）程序委员会：李 辉（深圳大学）林启敬（西安交通大学）谢颖熙（华南理工大学）徐凯臣（浙江大学）张晓慧（西安交通大学）专题秘书：温 博（深圳大学）【专题Y：智能工业视觉检测及装备】本专题拟反映智能工业视觉检测领域的最新进展，包括但不限于：成像技术，光学检测技术，多模式视觉传感器和高维视觉传感器；面向工业应用的图像处理，计算机视觉和深度学习；云-边-端协同的智能检测系统，人机协同的智能检测系统和具备自学习能力的检测系统；半导体晶圆检测设备，自由光学曲面检测设备，微纳光学器件检测设备和锂电池检测设备等。主 席：田宜彬（深圳大学）共主席：刘 东（浙江大学）刘 诚（中国科学院上海光学精密机械研究所）Zhimin Shi（美国Meta Reality Labs)王 谦（华为先进制造实验室）专题秘书：于 赛（华为先进制造实验室）投稿须知1 支持期刊PhotoniX(SCI)、Light:Science & Applications（SCI）、Optical Engineering(SCI)、Journal of Micro/Nanolithography、MEMS、and MOEMS(SCI)、Photonic Sensors (SCI)、Opto-Electronic Advances(OEA)(SCI)、《信息与电子工程前沿（英文）》（FITEE）（SCI）、International Journal of Extreme Manufacturing（ESCI、Ei）、《红外与激光工程》(Ei)、《液晶与显示》（ESCI）、《中国光学》（ESCI、Ei）、《光子学报》（ESCI、Ei）、《发光学报》（Ei）、《光学精密工程》（Ei）、SPIE Proceedings（Ei）、Light: Advanced Manufacturing（DOAJ）、eLight、《光电工程》、《航天返回与遥感》etc.2 SPIE文集，EI核心收录 投稿请登陆投稿网站先提交英文摘要（不少于500字），组委会请学术委员会审查后发邮件通知作者录用情况。按照论文质量推荐发表在不同期刊和大会文集上，录用通知根据提交摘要的前后顺序发放。 会议支持不发表文章，只做会议交流。 会议支持凭摘要参会。3 投稿链接：https://b2b.csoe.org.cn/submission/YSAOM2023.html 4 截稿时间摘要截稿时间：2023年5月6日（第一轮）报名须知1 报名方式无论有无投稿，均欢迎注册参会！参会者请务必到以下网址进行会议注册：https://b2b.csoe.org.cn/registration/YSAOM2023.html会议费：3050元/人，2023年7月25日前缴费优惠为2650元/人。学生优惠为2250元/人（不含在职学生），2023年7月25日前缴费优惠为2050元/人。会议费包括资料袋、报告文集、会议指南文件、会议杂支、税等，不含论文版面费和住宿费。论文版面费2500元，相同第一作者不超过两篇。2 付款方式在线支付：注册完成后，可跳转到在线支付页面，选择“支付宝”在线完成支付。汇款转账：开户银行：工行北京科技园支行户名：中国光学工程学会账号：0200296409200177730，汇款时作者请务必注明“姓名+稿件编号”，非作者请注明“YS+姓名”,以便核对。会议将提供正规会议费发票。3 会议注册费退款注册费会前2周（14天）可退全款，超过2周时间因产生会议成本将不再支持退款。4 会议注册费发票会议注册费发票将在会前两周和会后一周集中处理。展览展示范围精密光学制造光学材料（玻璃、光纤、陶瓷、晶体等）光学辅料（抛光液、抛光胶、抛光皮、磨头、砂轮等）光学元件（平面、球面-非球面、自由曲面、棱镜、柱面镜、微透镜、注塑和模压元件等）光学精密加工检测设备（快速抛光机、铣磨机、古典抛光机、数控抛光机、机器人抛光、精密车床、半导体晶圆加工设备；三坐标、轮廓仪、干涉检测仪、球径仪、疵病仪、应力仪等）极端制造技术（微纳加工、超表面-超结构、特种加工等）其他光学元器件光源 （激光器、LED等）镀膜材料（膜料、镀膜辅料等）光学镀膜元件（反射元件、窗口、偏振片、滤光片、衰减片等）光栅（镀膜、曝光、刻蚀、机械刻划等）CCD、CMOS、光学芯片等其他光学整机、镜头及光学模组精密镜头（手机、车载、红外夜视等）望远镜、显微镜、光学分析仪器等光学平台、调整架、电动位移台等精密装配技术光学设计、光机电一体化其他光学仪器设备光学检测设备（分光光度计、光谱仪、台阶仪、测厚仪）镀膜机（电子束、离子束、溅射等）材料力学性能试验设备无损检测仪器、分析测试仪器、计量仪器及设备软件、实验室信息管理系统等环境监测仪器仪器配件及零部件配套企业的技术及产品其他同期活动短课程培训:（23年培训主题包括：超精密加工、玻璃模压、自由曲面加工、成像衍射光学等）主席：薛常喜（长春理工大学）产业化论坛：主 席：任明俊（霖鼎光学（上海）有限公司、上海交通大学）共主席：徐学科（上海恒益光学精密机械有限公司、中国科学院上海光学精密机械研究所）熊 涛（湖北久之洋红外系统股份有限公司）罗少卿（湖南天创精工科技有限公司）石 峰（国防科技大学）沈正祥（同济大学）戴 博（上海理工大学）鲁艳军（深圳大学）大会秘书处负责人：王海明（中国光学工程学会）wanghaiming@csoe.org.cn022-59013420会议咨询（报名/投稿）：宁家明（中国光学工程学会）ningjiaming@csoe.org.cn010-83326359张国庆（深圳大学）zhanggq@szu.edu.cn0755-26536306李迎春（长春工业大学）liyingchun@ccut.edu.cn产业化论坛：吕子辰（中国光学工程学会）lvzichen@csoe.org.cn13810226340鲁艳军（深圳大学）luyanjun@szu.edu.cn15919878348企业赞助：吕子辰（中国光学工程学会）lvzichen@csoe.org.cn13810226340培训咨询：宁家明（中国光学工程学会）ningjiaming@csoe.org.cn010-83326359赵泽佳（深圳大学）zhaozejia@szu.edu.cn15019476845

2024年4月26日，复享光学承担的集成电路科技支撑专项《面向集成电路纳米尺度三维多参数光学检测关键技术的研究》成功通过验收。来自于上海微电子装备、上海光机所、上海科创投等企业与科研院所专家组成的验收专家组，经过严格评估，一致认为项目达到预期目标，综合技术评价优秀。本次项目的顺利完成离不开复享光学在深度光谱技术领域的开拓。从根本上来说，深度光谱技术是构建物质信息与光谱信号之间单射关系的光学感知技术，而发展多维光场表征与计算信息重构是其中的核心研究内容。图1，深度光谱技术原理得益于这些技术，复享光学赋予了光谱分析仪器多参量的计量能力，支持多样化的材料体系及极端环境下的光谱检测，帮助用户构建面向微电子、微纳光子、先进材料等前沿科学研究的复杂光电表征与计量系统。01微纳光电子器件多参量光学检测设备针对先进制程微纳器件的计量与表征，复享光学在角分辨光谱表征基础上结合神经网络与梯度下降算法，开创性地发展了纳米尺度三维多参数光学检测技术并成功研制多参量光学计量检测科学仪器。图2，微纳光电子器件多参量光学检测设备图3，纳米尺度三维多参数检测的原理与相关性分析02高压环境下钙钛矿材料的显微原位光谱表征系统针对钙钛矿材料的前沿研究，复享光学构建了多环境、多参数的显微原位光谱表征系统。该系统可在高压、常温、低温环境下，实现微米级样品的紫外-可见吸收光谱、多波长的光致发光、全视场荧光成像、荧光寿命及成像、二次及三次谐波的原位测量，为材料的研究提供全方面的光学表征信息。图4，高压低温钙钛矿材料的显微原位光谱表征系统图5，材料的高压相变及温度相变表征03有机半导体的原位光电表征系统针对有机半导体微型器件，复享光学在手套箱内构筑了光致、电致发光原位表征系统。通过引入飞秒激光，实现微纳光电器件受激辐射的光谱及角谱表征，全面获取材料/器件发光性能。系统搭载了源表及探针台，表征光学性能的同时，可监测器件电流密度、迁移率等参数，具备全面的有机半导体器件检测能力。图6，有机半导体的原位光电表征系统图7，单晶OLED微纳器件光子自旋行为的反射光谱及发光光谱04第三代半导体材料光电检测系统针对第三代半导体材料，复享光学构建了集成化光电检测系统，具备深紫外吸收光谱模块及多波长的光致发光检测模块，可实现第三代半导体材料的禁带宽度、光谱特性、光电导率等检测。图8，第三代半导体材料光电检测系统图9，吸收带边与荧光光谱本次集成电路科技支撑专项实施期间，复享光学与复旦大学合作建立了光检测与光集成校企联合研究中心，共同在光学计量检测技术领域深入研究关键底层技术。截至目前，联合研究中心已顺利培养并毕业3名博士，发表PRL、Light、NC等7篇高水平学术文章，形成13件中国专利、1件国际专利。图10，2022年复旦大学光检测与光集成校企联合研究中心揭牌成立2017年与2022年，复享光学连续获得上海市科委在第一期以多维光场表征为核心的《基于傅里叶光学的显微角分辨瞬态光谱仪的研制(17142200100)》和第二期以计算信息重构为核心的《面向集成电路纳米尺度三维多参数光学检测关键技术的研究(20501110500)》立项支持。本次项目的验收完成，标志着复享光学在以角分辨光谱为核心的深度光谱技术方面实现了从原理概念到产业应用的完整闭环，为前沿科学研究与中国先进制造带来了的全新的技术与方案。图11，2021年第一期项目验收 图12，2024年第二期项目验收

疫情期间使得红外热像仪的市场大大增加，在商场、机场、火车站等人流密集的地方随处可见，无需接触即可准确测量人体温度。那么红外热像仪是怎样工作的呢？本文对有关知识做简要介绍，以飨读者。红外热像仪，是利用红外探测器和光学成像物镜接受被测目标的红外辐射能量分布图形反映到红外探测器的光敏元件上，从而获得红外热像图，这种热像图与物体表面的热分布场相对应。通俗地讲红外热像仪就是将物体发出的红外光转变为可见的热图像，热图像的上面的不同颜色代表被测物体的不同温度。使用红外热像仪，安全——可测量移动中或位于高处的高温表面；高效——快速扫描较大的表面或发现温差，高效发现潜在问题或故障；高回报——执行一个预测性维护程序可以显著降低维护和生产成本。但在疫情爆发之前，红外热像仪在工业测温场景使用得更广泛，需求也更稳定。在汽车研究发展领域——射出成型、引擎活塞、模温控制、刹车盘、电子电路设计、烤漆；在电机、电子业——电子零组件温度测试、印制电路板热分布设计、产品可靠性测试、笔记本电脑散热测试；在安防领域的隐蔽探测，目标物特征分析；在电气自动化领域，各种电气装置的接头松动或接触不良、不平衡负荷、过载、过热等隐患，变压器中有接头松动套管过热、接触不良（抽头变换器）、过载、三相负载不平衡、冷却管堵塞不畅等，都可以被红外热像仪及时发现，避免进一步损失。对于电动机、发电机：可以发现轴承温度过高，不平衡负载，绕组短路或开路，碳刷、滑环和集流环发热，过载过热，冷却管路堵塞。红外热像仪通过探测目标物体的红外辐射，然后经过光电转换、电信号处理及数字图像处理等手段，将目标物体的温度分布图像转换成视频图像。分为以下步骤：第一步：利用对红外辐射敏感的红外探测器把红外辐射转变为微弱电信号，该信号的大小可以反映出红外辐射的强弱。第二步：利用后续电路将微弱的电信号进行放大和处理，从而清晰地采集到目标物体温度分布情况。第三步：通过图像处理软件处理放大后的电信号，得到电子视频信号，电视显像系统将反映目标红外辐射分布的电子视频信号在屏幕上显示出来，得到可见图像。在不同的应用领域，对于红外热像仪的选择有不同的要求，主要考虑因素有热灵敏度——热像仪可分辨出的最小温差（噪音等效温差）、测量精度。反应到电路上，最应注意的既是第二步电信号的放大和采样。实际上，从信号处理，到数据通信，到温度控制反馈，都有较大的精度影响因素。红外热像仪的电路框图如图所示，基本工作步骤为：FPA探测器——信号放大——信号优化——信号ADC采样——SOC/FPGA整形与预处理——信号图形及数据显示，其间伴随TEC（热电制冷器）对探测器焦平面温度的反馈控制。热像仪中需要采集的信号为面阵红外光电信号，来源于红外探测器，通过将红外光学系统采集的红外信号FPA转换为微弱电信号输出，选择OP AMP时需要注意与FPA供电类型匹配及小信号放大。根据红外热像仪的使用场合，去选择适合的运放，达到最优的放大效果和损耗最小的放大信号。运放的多项直流指标都会直接影响到总的误差值。比如，VOS、MRR、PSRR、增益误差、检测电阻容差，输入静态电流，噪声等等。需要根据实际应用的特点，择取主要误差项目评估和优化。比如 CMRR 误差可以通过减小 Bus 电压纹波优化。PSRR 误差,可以通过选用 LDO 给 OPA 供电优化。提供一个好的电源，LDO 的低噪声和纹波更利于设计，选用供电LDO。在图三中的光电信号放大处，使用了TPH250X系列的OP AMP，特点是高带宽、高转换速率、低功耗和低宽带噪声，这使得该系列运放在具有相似电源电流的轨对轨 输入/输出运放中独树一帜，是低电源电压高速信号放大的理想选择。高带宽保证了原始信号完整性，高转换速率保证了整机运算的第一步速度，低宽带噪声保证了FPGA/SOC处理的原始信号的真实性。对于制冷型红外探测器，热电制冷器必不可少，它保障了FPA探测器的焦平面工作温度温度的稳定和灵敏，对于制冷补偿的范围精度要求较高。用电压值表示外界设定的FPA工作温度，输入高精度误差运放，得出差值电压，经过放大器运算后，对FPA进行补偿，从而使FPA温度稳定。在该系统中，AD转换芯片的性能决定了FPA的相位补偿量，决定了后端红外成像的质量。根据放大后输出信号的电压范围和噪声等效温差及响应率，可以计算AD转换芯片的分辨率，此处使用了16 bit高分辨率的单通道低功耗DAC，电源电压范围为2.7V至5.5V。5v时功耗为0.45 mW，断电时功耗为1 μW。使用通用3线串行接口，操作在时钟率高达30mhz，兼容标准SPI®、QSPI™和DSP接口标准。同时满足了动态范围宽、速度快、功耗低的要求。对于一般的工业红外热像仪的补偿来说，TPC116S1已经足够。此外，对于整体的供电而言，FPGA/SOC的分级供电，电源管理芯片的选择要适当。对于运放和ADC的供电，为减小误差，需要低噪声的LDO，以保证电源电压恒定和实现有源噪声滤波。LDO输出电压小于输入电压，稳定性好，负载响应快，输出纹波小。具有最低的成本，最低的噪声和最低的静态电流，外围器件也很少，通常只有一两个旁路电容。而在总体的供电转换中，使用了DCDC——TPP2020，它的宽范围，保证了电源设计的简洁。内置省电模式，轻载时高效，具有内部软启动，热关断功能。DC-DC一般包括boost（升压）、buck（降压）、Boost/buck（升/降压）和反相结构，具有高效率、宽范围、高输出电流、低静态电流等特点，随着集成度的提高，许多新型DC-DC转换器的外围电路仅需电感和滤波电容，但是输出纹波大，开关噪声较大、成本相对较高，故在电源设计中，用量少且尽量避开灵敏原件，以避免对灵敏原件的干扰。红外热像仪既可以走入民用，成为各个家庭的健康小帮手，也可以是精密工业电子的好伙伴。面对不同的市场，组成它的电子元器件也有不同的选择。而不变的是，精密的设计对于真实的反映，特别是模拟器件。

光学前沿——第八届国际信息光学与光子学学术会议（CIOP 2016）于2016年7月17-20日在上海举行。本届会议为期四天，由中国激光杂志社、上海交通大学、华东师范大学、美国光学学会、日本光学学会及韩国光学学会国际联合主办；IFSA协同创新中心、局域光纤通信网和新型光通信国家重点实验室、精密光谱科学与技术国家重点实验室共同协办。 会议共邀请7个大会报告，设立12个分会场：光电子集成与光互联、光学传感、生物光子学、光学设计与光学精密测量、光通信光网络技术、全息与光信息处理、光学成像与显示、微纳光子学与超材料、激光与非线性光学、量子光学与量子信息技术、激光微纳加工与光学精密制造、先进光功能材料与器件。会议研讨了国际上最前沿的科学技术研究，作为展商的海洋光学也参与了“光学传感”场次的专场宣讲，由应用工程师做了题为微型光谱仪在水质监测方面的应用〉向与会者介绍了基于微型光谱仪而开发的水质监测产品、产品特点与优势以及应用配置。 此次会议不仅有为了丰富科研工作者科研与论文写作经历而举办的主编报告会，更有为了鼓励学术交流而举办的“优秀张贴报告评选”活动，因此吸引到了近800位国内外学者与研究生参会，也为海洋搭建了一个很好的平台与与会者深入交流。我们主要展示了FLAME，FLAME-NIR，QEPRO三个新品，为客户主推MX2500+ 和激光测量方面的应用，同时也为到访的老客户解决了现场提出的亟待解决的软硬件问题，为后续可能的合作奠定了基础。 主办方追求极致，不忘初心力争让CIOP国际会议都能几近完美的办会初衷，也与海洋进入亚洲十年“初心始终”的理念一致，期待来年擦出更多火花。

一、会议背景近年来，我国在光学显微成像技术研究领域快速发展，部分领域处于 国际前沿。但在核心关键技术、工程化、人才培养等方面仍存在薄弱环节， 高端光学显微镜几乎全部依赖进口。为推动高端光学显微成像技术的发展， 加强技术交流，拟成立“中国科学院高端光学显微成像技术联盟”。联盟 以高端光学显微成像技术为切入点，联合中科院内高端光学显微成像技术 优势单位，加强技术交流，开展创新性研究，形成技术合力，开发新技术、 突破核心关键部件、提升高端设备的使用潜能、培养技术人才、建立技术 智库； 加强研制单位和用户单位的合作交流， 促进研用结合， 加快推进高 端光学显微成像设备国产化。联盟拟于 11 月 10-11 号召开“中国科学院高端光学显微成像技术联 盟成立大会暨光学显微成像技术与应用交流会”。届时将邀请中科院条财 局领导参会。二、会议组织主办单位：中国科学院高端光学显微成像技术联盟 (筹)承办单位：中国科学院苏州生物医学工程技术研究所三、 会议日程（详见附件）会议采取“线下+线上”的形式。国内专家现场参加会议，国外专家 视频参加。会议同期召开“光学显微成像技术与应用交流会”和“光学显微成像 创新思维大赛”现场评选。四、会议时间：11 月 9 日：报到11 月 10 日： 光学显微成像技术与应用交流会11 月 11 日：高端光学显微成像技术联盟成立大会11 月 12 日：离会五、会议地点：苏州市高新区清山会议中心六、会议注册1)注册费：会议免收注册费。会务组协助预定清山会议中心住宿。2 ) 会 议 注 册 ： 请 拟 参 会 人 员 发 送 参 会 回 执 到 邮 箱 aomu- cas@sibet.ac.cn。截止日期10月31日。回执附件：附2.参会回执-final.docx线上参会报名：https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/casgxxw20221109/3)会务联络人： 李雨蒙 18306375116；孙玮 15652586621。中国科学院高端光学显微成像技术联盟 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所中国科学院高端光学显微成像技术联盟成立大会暨光学显微成像技术与应用交流会日程 (暂定)第一天 光学显微成像技术与应用交流会 (11.10)时 间内 容主持人09:00-09:30光学显微成像技术培训讲座09:30-10:00光学显微成像技术培训讲座10:00-10:30茶歇10：00-12:00光学显微成像仪器示范12:00-14:00午餐14:00-14:30光学显微成像技术培训讲座14:30-15:00光学显微成像技术培训讲座15:00-15:30茶歇15:00-17:00光学显微成像仪器示范18:00-21:00自助餐第二天：中科院高端光学显微成像技术联盟成立大会 (11.11)时 间内 容主持人09:00-09:10介绍会议背景及参会人员09:10-09:20局领导讲话，宣布常务理事单位09:20-09:30常务理事单位代表致辞09:30-10:00中国科学院高端光学显微成像技术 联盟成立总体情况报告10:10-10:30休 息10:30-11:00大会邀请报告一11:00-11:30大会邀请报告二11:30-12:00大会邀请报告三12:00-14:00午 餐14:00-14:20主题报告一14:20-14:40主题报告二14:40-15:00主题报告三15:00-15:20主题报告四15:20-15:40茶 歇15:30-17:00创新思维大赛评选14:00-15:00第一届理事会 (闭门会议)18:00-20:00晚 餐光学显微成像创新思维大赛项目征集一、 大赛意义高端光学显微成像装备需要在应用需求的牵引下，不断创新光学成像 技术、核心器件和应用方案，才能实现创新发展。 为了突出本联盟的创新 优势、提高各单位仪器研制和应用水平， 本联盟拟开展“光学显微成像创 新思维大赛”活动，征集应用场景、 应用方案、成像技术、核心器件方面 的新创意。对于获奖项目，本联盟后续拟通过自设项目、争取其他渠道资源联合 设置项目，开展仪器研制、应用技术方案等方式进一步支持。本次大赛获 奖项目如果后期进行成果转化，参赛者作为创意提出方将享有转化过程中 无形资产的固定比例(暂定 15%)。二、大赛组织主办单位：中国科学院高端光学显微成像技术联盟 (筹)承办单位：中国科学院苏州生物医学工程技术研究所三、 大赛形式1. 项目征集： 面向中科院内单位的研究人员以个人(或若干人组成的团队) 名义申报。每个参赛项目用不超过 1000 字的文字和不超 过 2 个图来说明在光学成像技术、成像器件、应用需求或应用方 案方面的创新思想。参赛项目内容不包括实施方案、研究基础等。2. 初评： 评审组根据征集的参赛项目，评选出 10 项进入第二轮现场评选。 评审重点考核创新性和科学性。3. 现场评选：入选的 10 个项目在联盟大会期间进行公开答辩，每个参赛项目做 3 分钟的 PPT 汇报，评审组进行 2 分钟提问。重点汇 报创新性和科学性。四、大赛奖励1.拟评出特等奖 1 名、一等奖 2 名、二等奖 3 名、三等奖 4 名。 2.对获奖者个人(或团队) 发放现金奖励 (税前) 。特等奖 3 万元， 一等奖 2 万元，二等奖 1 万元，三等奖 5000 元。五、参赛方式填写创新思维大赛申请书电子版 (电子签名 pdf 文件) 发送到邮箱 aomu-cas@sibet.ac.c n ， 邮件名称：光学显微成像创新思维大赛+ (参赛人项目) + (参赛项目名称)，征集期限为 10.31日。后续提供签字的纸质版。中国科学院高端光学显微成像技术联盟 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 2022.9.30附件：附3.创新思维大赛征集-final.docx