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薄膜制备

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  • 台式高精度薄膜制备与加工系统Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作,推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧,但性能已经可以和大型设备相媲美。这些设备已经进入了欧洲的实验室,诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展,并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作,作为中国的代理和战略合作伙伴,将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。全系列产品即将上线,敬请期待… … 台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD超快速高质量石墨烯生长设备,整个过程30分钟内搞定!CVD被公认为是石墨烯具有应用前景的制备手段。NanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。与曼彻斯特大学诺奖团队的长期合作使得该系列产品在制备石墨烯等碳基纳米材料方面具有雄厚的技术积累。该系列产品操作简便,生长条件控制,生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性,可清楚的观测到分数量子霍尔效应。尤其适合于需要快速得到高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。点击查阅详细信息台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD可媲美大型PVD的台式高性能PVD系统 ,爆款热销中!基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验,Moorfield Nanotechnology推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列产品包含磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧但是性能,能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备,通常在大型设备中才有的共溅射功能也可以在该系列产品上实现。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。点击查阅详细信息台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH用于超刻蚀二维材料与样品表面处理的等离子体刻蚀系统,诺奖团队都在用!石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度,而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前维纳加工中常用的蚀系统功率较大、难以精细控制的问题,Moorfield Nanotechnology 推出了台式超二维材料等离子软刻蚀系统 - nanoETCH。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量,对二维材料可实现超的逐层刻蚀,也可实现对二维材料进行层内缺陷制造,此外还可对石墨基材等进行表面处理。点击查阅详细信息台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL从高真空到各种气氛都能控制的高端热处理系统Moorfield Nanotechnology专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统,该系统可以满足从高真空到各种气氛的退火需求。对气压和温度都能进行控制,该系统不仅仅是普通的退火系统更是二维材料、基片等进行可控热处理的重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式,开创了退火的新篇章。点击查阅详细信息多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是一台喷金仪,但不仅仅是喷金仪!多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计,但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。因此nanoEM是一台不可多得的多功能高磁控溅射喷金仪。点击查阅详细信息部分单位及用户评价意大利比萨大学(nanoPVD S10A)Moorfield近在意大利比萨大学安装了另一台nanoPVD-S10A磁控溅射系统。在这里,它将被Giuseppe Barillaro副教授领导的团队用于为新型器件生长保护性和功能性涂层。该小组的研究应用包括纳米医学、生物传感、微电子学和光子学。诺森比亚大学(nanoPVD S10A,MiniLab)DR. GUILLAUME ZOPPI对Moorfield的评价:在诺森比亚大学,我们正在研究各种材料的应用,特别是光伏材料。作为不可或缺的部分,Moorfield近安装的用于磁控溅射和电子束蒸发的nanoPVD和MiniLab系统发挥了关键作用。Moorfield专家的专业建议确保了我们得到为合适的设备,我们对设备的质量和快速、高效的技术支持留下了深刻的印象。很高兴能和Moorfield的团队一起工作。巴斯大学(nanoPVD-T15A)DR. PETRA CAMERON对Moorfield的评价:我们的研究重点是电化学材料、能源材料和钙钛矿光伏材料。我们之前一直在寻找一个可靠且易于使用的台式蒸发设备。现在,我们新的Moorfield nanoPVD-T15A热蒸发系统可以高质量的沉积金属电和钙钛矿光伏材料的接触层。让我们喜欢的另一方面是,该系统是模块化的,可以很容易地升低温有机物蒸发模块。我们的nanoPVD-T15A已经迅速成为一个关键设备,现在每天都在使用。DR MATTHEW COLE(副教授)对Moorfield的评价:Moorfield的服务速度快如闪电。他们的产品支持是的,屈一指的。丹麦技术大学(MiniLab090手套箱集成系统)为了满足Tim Booth在二维材料和异质结的合成和应用研究,系统在MiniLab090的基础上集成了手套箱,允许在惰性气体环境下进行完整的设备操作。系统配置包括软刻蚀、热蒸发和磁控溅射。Tim Booth教授对Moorfield的评价:在DTU,我们近从Moorfield采购了一套手套箱集成系统,系统配置包括软蚀刻系统、热蒸发和磁控溅射功能,用于我们研究二维材料和异质结的合成和应用。该系统允许我们在高精度控制的低氧和水气条件下执行2D材料器件的大部分微加工步骤。Moorfield团队在设计和安装过程中至关重要并且非常专业,如果有任何疑问,他们总是可以立即提供技术支持。他们在提供2D材料技术支持方面有多年的经验,所以我们知道我们有了得力的助手。系统的高质量和设计方案让我们印象深刻,我们期待着在未来的许多年里与设备和Moorfield团队一起工作。强烈推荐!”MiniLab090手套箱集成系统,图中红色部分为集成系统的控制屏幕和主机部分。曼彻斯特大学(手套箱集成退火和刻蚀系统)DR. ROMAN GORBACHEV对Moorfield的评价:我的团队近与Moorfield合作,为我们的应用方向定制了一个集成手套箱的热退火和软蚀刻组合系统。它安装于新的National Graphene Institute (NGI),现在被用于石墨烯和2D材料的研究。我们一直对Moorfield的专业技术和提高客户满意度的奉献印象深刻,这次也不例外!西班牙光子研究所(手套箱集成退火和刻蚀系统)位于西班牙巴塞罗那Castelldefels 的ICFO (光子科学研究所)是一个致力于光学领域科学和技术的研究中心。DR. STIJN GOOSSENS对Moorfield的评价:在ICFO,我们正在努力建立一个的新材料研究中心。近安装的Moorfield 手套箱集成热退火系统、电子束沉积系统,以及新的nanoETCH系统,起到了关键作用。我们对他们专业的销售建议、他们系统的质量和可靠性以及他们快速、有效的支持印象深刻。很高兴能和他们的团队一起工作!Evonetix公司(MiniLab 026 热蒸发系统)Evonetix公司致力于利用基因合成技术,促进合成生物学领域的快速发展。Evonetix的优势是基因合成的高保真性和并行性。DR. DAN BRATTON PH.D对Moorfield的评价:在Evonetix,我们正在开创一种可扩展和高保真基因合成的创新方法。我们想拥有一种将金属蒸发到各种基材上的设备,我们联系了Moorfield Nanotechnology公司,该公司根据我们的要求定制了一个Minilab 026蒸发系统。在整个过程中,Moorfield Nanotechnology团队非常友好且知识渊博,在安装前后都提供现场培训。在Evonetix, Minilab 026已经被证明是非常有用的设备。特别是,我们喜欢它的紧凑设计,它的易用性,以及它所带来的样品数量的增加。我们愿意向任何人推荐该设备和团队。Evonetix团队与新安装的MiniLab026热蒸发系统曼彻斯特城市大学(MiniLab 060)DR. JUSTYNA KULCZYK对Moorfield的评价:在MMU,我们近成立了曼彻斯特燃料电池创新中心,以开发利用可再生能源的创新技术方案。为此,我们采购了Moorfield MiniLab 060磁控溅射系统,该系统具有快速进样室、衬底偏压和等离子清洗、脉冲直流和射频电源以及共沉积功能。在系统设计过程中,Moorfield提供了非常宝贵的建议。我们对系统和软件的质量,以及他们团队的专业知识、沟通和技术支持都留下了深刻的印象。我们将推荐给任何现在或将来考虑使用PVD系统的人。曼彻斯特城市大学正在利用Moorfield Nanotechnology公司的MiniLab 060系统进行先进的燃料电池的研究
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  • Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 - MiniLab是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的旗舰型系列产品。MiniLab系列产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统,可用于高质量的科学研究和中试生产。高精度薄膜制备与加工系统 - MiniLab自推出以来销售已突破200套。这些设备已经进入了欧洲各大学和科研单位实验室,诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展,并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作,作为中国的总代理和战略合作伙伴,将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了MiniLab系列之外我们还提供多种高性能的台式设备和定制服务。设备型号MiniLab 026MiniLab 026系统是小型落地式真空镀膜设备,具有容易操作的“翻盖”式真空腔。适用于金属、电介质和有机物的蒸发和溅射沉积镀膜。MiniLab 026采用一体化设计方案,真空腔的一部分向下插入支撑框架内。腔室可以采用翻盖式或钟罩式。该系统可配备多种沉积技术,热蒸发和低温蒸发源(生长金属和有机物),磁控溅射源(金属和无机)。沉积源通常安装在腔室底部,样品他安装在部,可容纳直径达6英寸的基片。可提供基片加热、旋转和Z-shift。MiniLab 026还与手套箱兼容,是MiniLab系列中可以轻松与用户现有手套箱集成的系统。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 060MiniLab 060系统是MiniLab系列中受欢迎的通用平台,具有前开门式的箱式腔室,适用于多源磁控溅射,也适用于热蒸发和电子束蒸发。MiniLab 060采用一体化设计方案,真空腔体安装在控制系统电子机柜上。系统可以配备各种沉积技术,包括热蒸发和低温蒸发源(生长金属和有机物),磁控溅射源(金属和无机),电子束源(除有机物外的大多数材料类别)。沉积源通常安装在腔室底部,但溅射源也可以采用部安装的方式。样品台可容纳的基片尺寸高达11英寸,可提供基片加热、旋转、偏压和Z-shift。可配置行星式样品台、源挡板和基片挡板。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。必要时MiniLab 060系统可提供快速进样室。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 080MiniLab 080采用高腔体设计,非常适合热蒸发、低温热蒸发和电子束蒸发,更长的工作距离以获得更好的薄膜均匀性。MiniLab 080真空腔体安装于控制系统电子机柜上。该系统非常适用于需要较长的工作距离以获得更好均匀性的蒸发技术。蒸发入射角接近90°,对于光刻器件获得好的lift off效果。除了热蒸发、有机物热蒸发和电子束蒸发外,该系统还可以用于磁控溅射(用做复合生长系统)。样品台通常在腔室的部,可以容纳基片尺寸高达11英寸直径。可提供基板加热、旋转、偏压和Z-shift。可配置行星式样品台、源挡板和基片挡板。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。必要时MiniLab 080系统可提供快速进样室。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 090MiniLab 090系统是为兼容手套箱开发的,适用于对大气敏感的薄膜生长。高腔室设计方案是高性能蒸发的理想选择,同时也可以采用磁控溅射方式。MiniLab 090系统是用于金属、电介质和有机物沉积的落地PVD系统。系统包含一个箱式不锈钢腔体,前、后双开门设计可与手套箱集成,允许通过手套箱中前门或者外部的后门对系统进行操作。真空腔体具有大的高宽比,非常适合通过蒸发技术进行长工作距离的高均匀性涂层,但系统也可以配备磁控溅射。真空度优于5×10-7mbar。针对客户的预算和需求可提供非常灵活的配置。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 125MiniLab 125系统将模块化设计概念带进了中试规模。大的腔室允许增加组件的尺寸,进而满足大面积涂层需求,结合快速进样室设计方案,可提高样品的吞吐量。同时,系统是完全可定制化的,以匹配特定的镀膜需求。MiniLab 125系统是落地式真空镀膜设备可用于金属、电介质和有机薄膜沉积。系统包含一个带有前门的箱式不锈钢腔体,用于取放样品。大的腔室体积可以用于中试规模的涂层或采用较为复杂的配置满足灵活多变的实验需求。系统可安装所有主要的沉积组件或定制的组件。系统的本底真空可达5×10-7mbar。可根据用户的预算和具体应用采用灵活的配置方案。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)
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  • 脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统,包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。1、脉冲激光沉积系统产品特点:◆ 电抛光多空不锈钢超高真空腔体◆ 可集成热蒸发源或溅射源◆ 可旋转的耐氧化基片加热台◆ 流量计或针阀控制气体流量◆ 标准真空计◆ 干泵与涡轮真空泵◆ 可选配不锈钢快速进样室 ◆ 可选配基片-靶材距离自动控制系统◆ 可制备:金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格等。 2、物理气相沉积系统(Physical Vapor Deposition Plus)产品特点◆ 超高真空不锈钢腔体◆ 电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成◆ 立衬底加热,可旋转◆ 多量程气体流量控制器◆ 标准气压计◆ 机械、分子、冷凝真空泵可选不锈钢快速进样室◆ 衬底和源距离可控◆ 可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 3、热化学气相沉积系统(TCVD)产品特点◆ 高温石英管反应器设计◆ 温度范围:室温到1100℃◆ 多路气体控制◆ 标准气压计◆ 易于操作◆ 可配机械泵实现低压TCVD◆ 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜◆ 液体前驱体喷头◆ 2英寸超大温度均匀区4、热丝化学气相沉积系统(HFCVD)产品特点:◆ 水冷不锈钢超高真空腔◆ 热丝易安装、更换 ◆ 4个不同量程气体控制器◆ 标准气压计◆ 衬底与热丝距离可调节◆ 2英寸衬底加热、可旋转 ◆ 制备金刚石和石墨烯
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  • 台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验,Moorfield Nanotechnology深入了解了剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学等多所著名大学科研团队的具体需求,经过不懈努力推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。推出之后短短几年时间已经在欧洲销售了数十台,该系列产品包含了磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧,但是性能,能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备,通常在大型设备中才有的共溅射和反应溅射功能也可以在该系列产品上实现。的有机物沉积系统更是该系列的一大特色。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。设备型号台式高质量多功能薄膜磁控溅射系统 - nanoPVD S10AnanoPVD S10A是Moorfield Nanotechnology倾力打造的一款高度集成化智能化的台式磁控溅射系统。该系统虽然体积小巧,但是功能出色、配置齐全。该型号的推出是为了解决传统台式设备功能简单不能满足高端学术研究的问题。剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院等用户都对这款台式设备给予了很高的评价。nanoPVD S10A多可安装3个水冷式溅射源,可实现高功率持续运行,靶材尺寸与大型系统一样是行业通用尺寸。系统可以实现两源共溅射方案,可以实现反应溅射方案,多可同时控制3路气体。系统具有分子泵,可快速达到5*10-7mbar高真空。腔体取放样品非常方便,样品台大尺寸4英寸,系统有智能化的触屏控制系统,采用完备的安全设计方案。nanoPVD S10A可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等。主要特点:◎ 水冷式溅射源,通用2英寸设计◎ MFC流量计高精度控制过程气体 ◎ DC/RF溅射电源可选◎ 全自动触摸屏控制方案◎ 可设定、储存多个溅射程序◎ 大4英寸基片◎ 本底真空5*10-7mbar◎ 系统维护简单◎ 完备的安全性设计◎ 兼容超净间◎ 性能稳定选件:◎ 机械泵类型可选◎ 样品腔快速充气◎ 自动高精度压力控制◎ 添加过程气体◎ 500℃衬底加热◎ 衬底旋转,Z向调节◎ 三源溅射系统◎ 共溅射方案◎ DC/RF溅射电源可选◎ 溅射电源自动切换系统◎ 晶振膜厚测量系统典型配置方案:金属沉积:2个溅射靶,配DC电源与电源切换系统,衬底Z向调节与挡板系统,晶振膜厚测量系统。缘材料沉积:2个溅射靶,配RF电源与电源切换系统,衬底加热与氧气通入气路,衬底Z向调节与挡板系统,晶振膜厚测量系统。反应/共溅射:三个溅射靶,配备DC/RF电源与自由切换系统,三路过程气体(Ar、O2、N2)用于沉积氧化物或氮化物。台式超大面积高质量薄膜磁控溅射系统 - nanoPVD S10A-WAMoorfield Nanotechnology根据客户超大样品的需求推出了nanoPVD-S10A-WA超大面积高质量薄膜磁控溅射系统。该型号是nanoPVD-S10A的拓展型号,用于制备超大尺寸的样品,大样品可达8英寸。该系统基于nanoPVD-S10A的成熟设计和性能,在相同腔体的设计基础上对nanoPVD-S10A进行了调整,使溅射源正对衬底。结合衬底旋转,即使在生长8英寸的超大样品时也可获得很高的样品均匀度。与nanoPVD-S10A一样,溅射源采用水冷式设计,可以持续高功率运行,可实现共溅射等功能。nanoPVD-S10-WA是一款接受半定制化的设备,如有特殊需求请联系我们进行详细讨论。主要特点:◎ 可制备8英寸超大样品◎ 水冷式2英寸标准溅射源◎ MFC流量计高精度控制过程气体◎ 直流/交流溅射电源可选◎ 全自动触屏控制◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 本底真空5×10-7mbar◎ 易于维护◎ 全面安全性设计◎ 兼容超净间◎ 系统性能稳定选件:◎ 机械泵类型可选◎ 腔体快速充气◎ 自动高分辨压力控制◎ 增加过程气体◎ 升至双溅射源◎ DC/RF电源可选◎ 溅射电源切换◎ 共溅射方案◎ 晶振膜厚测量系统台式高质量金属\有机物热蒸发系统 - nanoPVD T15AnanoPVD T15A是Moorfield Nanotechnology推出的 nanoPVD系列中新的型号,高腔体设计方案专为热蒸发而设计,确保薄膜均匀度,大可生长4英寸的薄膜样品。近一年时间在英国安装就有十几套,剑桥大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学等都是该设备的用户。系统可以配备低温蒸发(LTE)和标准电阻蒸发源,分别用于沉积有机物和金属薄膜。低热容有机物蒸发源具有高精度的控制电源,可以的控制蒸发条件制备高质量的有机物薄膜。金属源采用盒式屏蔽模式,可以有效的减少交叉污染等问题。智能的控制系统和灵活的配置方案使PVD-T15A非常适合应用于材料研究领域。nanoPVD T15A可用于制备高质量的金属、有机物薄膜和异质结等材料。可应用于传统材料科学和新型的OLED(有机发光二管)、OPV(有机光伏材料)和 OFET(有机场效应管)领域。主要特点:◎ 可选金属、有机物蒸发源◎ 高纵横比的腔体,增加样品均匀性◎ 全自动触屏控制系统◎ 可设定、储存多个蒸发程序◎ 大4” 基片◎ 本底真空5*10-7mbar◎ 维护简单◎ 完备的安全性设计◎ 性能稳定选件:◎ 机械泵类型可选◎ 样品腔快速充气◎ 自动高精度压力控制◎ 多4个有机蒸发源◎ 多2个金属蒸发源◎ 500℃衬底加热◎ 衬底旋转,Z向调节◎ 晶振测量系统典型配置指标:金属沉积:双金属源与挡板和晶振系统有机物沉积:四个低温蒸发源与挡板和晶振系统。金属/有机物沉积:两个金属源,两个有机源与挡板和晶振系统。发表文章A high speed PE-ALD ZnO Schottky diode rectifier with low interface-state densityJin, J., et al. Journal of Physics D: Applied Physics 2018 DOI: 10.1086/1361-6463/aaa4a2作者报道了利用用氧化锌和PtOx肖特基接触界面制备高速肖特基二管整流器的方法。为此,作者使用PE-ALD沉积ZnO,使用Moorfield nanoPVD-S10A系统通过射频溅射制备金属层和PtOx接触层,包括反应溅射模式(通过含氧气氛沉积Pt)。所制备的器件具有适用于噪声敏感和高频电子器件的性能。用户单位剑桥大学帝国理工学院埃克塞特大学巴斯大学诺森比亚大学伦敦玛丽女王大学
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  • 塑料薄膜切样机厂家 薄膜切样机价格 塑料切样机  中航鼎力仪器塑料薄膜切样机介绍  本机适用于双向拉伸薄膜(BOPP、BOPC、BOPET、BOPA)、单向拉伸薄膜及其复合膜(袋)拉伸测试用样条的制备。  符合标准  符合GB/T1040.3-2006/ISO527-3:1995《塑料拉伸性能的测定 第3部分:薄膜和薄片的试样条件》中6.1.1条关于样条尺寸的相关规定。  仪器特点  该机夹持塑料薄膜样品稳固,刀具锋利、易更换;操作简便,使用安全可靠;一次可剪切多层、多个、多种样条;一次可制样数量12条,其中15mm宽5条、10mm宽7条;另外,用户可根据需要自行改变刀具配置后,一次可同时切割10mm、15mm、20mm、25mm四种样条。  该机切样方式与冲切制样方式相比较,所切样条边缘平整、两边平行无缺陷(在20倍放大比率下观察无缺陷),所切样条可保证薄膜的力学性能不受影响。其拉伸强度及断裂伸长率数据准确、可靠、一致性好。
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  • KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析仪用于制备和表征具有可控堆积密度的薄膜。当我们需要以半连续的沉积程序来制备超大面积的薄膜时,可以使用这种特殊的KSV NIMA roll to roll 柔性 LB膜制备系统。纳米材料薄膜涂层制备使用纳米颗粒材料制备的涂层和薄膜在各种产品和应用中越来越受到人们的重视和使用,如显示器、传感器、医疗器械、储能材料和能量采集材料等。成功制备出能同时满足堆积密度、分子取向、膜厚度等多参数要求的均一涂层成为了众所周知的科研挑战。而解决这种纳米颗粒薄膜涂层制备的一类精密技术就是KSV NIMA 的Langmuir-Blodgett (LB) 技术和 Langmuir-Schaefer (LS) 技术。技术优势KSV NIMA Langmuir膜分析仪可以在液-气界面制备单分子层,而KSV NIMA Langmuir Blodgett膜分析仪可以在液-气界面处形成单分子层,然后将该层作为涂层转移到固体基质上。Langmuir和Langmuir-Blodgett技术具有独特的优势,它们在全球被广泛应用于研究一些最基本的科学问题。 这些优点包括:精确控制分子堆积密度精确控制涂层厚度在大面积上均匀沉积可制备具有不同层结构的多层结构可使用不同种类的颗粒和基材,具有高度的灵活性在沉积之前可以预先监控涂层质量KSV NIMA 柔性LB膜制备系统KSV NIMA Langmiur和Langmuir-Blodgett膜分析仪是制备和研究单分子层的首要工具。基于30年来研究Langmuir膜累积得到的专业知识和经验,KSV NIMA 膜分析仪系统已成为一款多用途、功能强大的仪器,可以帮助您获得高质量数据。该系统设计非常灵活和坚固,可以确保超高质量的结果。当我们需要以半连续的沉积程序来制备超大面积的薄膜时,可以使用一种特殊的KSV NIMA 柔性 LB膜制备系统。操作原理如上图所示,在柔性膜制备过程中,柔性基材被连续地输送入槽体,在槽体中穿过单层纳米颗粒或其他材料。通过对沉积参数进行精确控制,能够快速地沉积大面积的均匀薄膜。柔性基材的运动由计算机控制的电动辊推动。在此过程中,超灵敏度的微量天平实时监测纳米颗粒的堆积密度。特点与优势质量单个固体PTFE槽(包括浸渍井)可以轻松清洁,没有任何胶水或涂层污染。可调支架、槽顶定位销、限位开关和溢流通道确保系统的安全可靠使用。支架可以很容易地移除来与显微镜集成。集成所有高精度部件的外壳一体化设计,坚固耐用。KSV NIMA广泛的知识和应用支持团队让您可以充分利用您的仪器-与当地合作伙伴和全球工程师合作。可用性采用超灵敏的压力传感器,使用标准Wilhelmy白金板方法进行表面压力感应。可选用一次性纸板来避免清洁或在有限空间内使用高质量铂金棒。功能强大的KSV NIMA LB软件将所有控制和数据分析集成到同一软件中,包括不同的表征工具。所有的槽都带有集成的温度控制通道,可以方便地与独立恒温水浴一起使用。多功能性专门的表征工具可以保证在涂层之前和涂层工艺之后的漂浮薄层质量。采用简单的槽体和滑障放置的开放式模块化设计,便于与特征化系统集成,可升级并易于清洁零件。同时允许在液-液界面处进行研究,并且可以使用交替系统在单个实验中对两种不同材料自动进行交替镀膜。提供各种配件如pH探头、不同尺寸的Wilhelmy板、注射口等应用概述KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析仪可用于制备高度复杂的有序薄膜。 这些应用包括: 用纳米颗粒制备功能性涂层(改变例如润湿性、反射性、生物相容性、导电性、结合性质等) 在空气-缓冲液界面处形成模型细胞膜,研究毒素或药物对细胞膜的影响 形成用于研究聚合物交联、稳定性、降解等的聚合物薄膜 用多组分结构构建复杂的传感器表面 研究两亲分子的相互作用、吸附、解吸、界面稳定性和结构 界面流变学研究,以确定薄膜的稳定性、相变或反应通常用于薄膜制作的材料包括: 纳米颗粒(聚合物,陶瓷,金属)和石墨烯 脂质体和磷脂 聚合物和低聚物 蛋白质,多肽和其他生物聚合物 量子点 表面活性剂、乳液、胶体 其他两亲性分子软件KSV NIMA LB软件是制备涂层和研究Langmuir薄膜的强大工具。 基于30年的经验,KSV NIMA LB软件包含有效和简便的测量和数据处理所需的所有工具。多功能测试模式使得测量涵盖从浸渍到压缩等温线、吸附研究和界面流变学。 该软件将整个测量设置与结果一起保存,便于分析。 所有数据都可以根据需要轻松查看、绘图、报告和导出。测试功能包括: 用于沉积材料层的镀膜模式,包括镀膜效果参数转移比,在整个浸渍过程中保持堆积密度恒定 压缩/弛豫等温线,用于分子相互作用和相变 等温等压线,通过自动保持压力稳定并跟随温度/面积变化 单分子层动力学,用于酶、聚合或任何其他零级反应 酶、蛋白质、肽和类似分子的吸附和渗透 采用滑障振荡法测试界面流变学,用于Langmuir膜的粘弹性研究、乳液或泡沫稳定性等 集成的KSV NIMA表征工具功能,便于集成如与KSV NIMA 小型布鲁斯特角显微镜 MicroBAM联用时基于表面压力的自动图像记录应用实例纳米颗粒、石墨烯和氧化石墨烯涂层LB和LS技术提供了制备高度有序堆积的纳米颗粒薄膜的平台。 这些涂层具有特殊功能,可用于新的应用。在KSV NIMA中型槽上使用Langmuir-Blodgett技术沉积在石英基底上的单分子层200nm直径聚苯乙烯纳米球。 (a)单分子层的AFM图像,(b)同一图像的傅立叶变换,表明采用该技术可实现优异的结晶度。Copyright Dr. Alaric Taylor浸渍镀膜、LB和LS技术已被证明是控制石墨烯和氧化石墨烯薄膜的优良方法。 这些方法大大提高了由液体剥离方法生产得到的SG和SGO的沉积分散可控性。由于液体剥离法被认为是具有极大潜力的工业大规模生产石墨烯的方法,因此这些沉积方法在石墨烯研究中具有重要意义。利用PM-IRRAS,可以记录漂浮和沉积层的详细IR光谱以确定化学组成。 可制备一张石墨烯片,以验证LS是制备和研究单层石墨烯和氧化石墨烯薄膜的好方法。Gilje, S. et al., ‘Nano Letters’ (2007), 7, 3394-339亲脂性蛋白常常存在于细胞膜中,漂浮单分子层模型可用于研究它们在接近原始环境时的相互作用,研究参数包括不同环境或含量的膜的堆积密度。配件KSV NIMA提供了广泛的配件选择,可以集成到系统中提供进一步的检测表征功能。包括: MicroBAM 布鲁斯特角显微镜用于确保预沉积膜的表面结构完整性 用于自动导入样品颗粒或分子的自动进样泵 亚相蒸发补偿工具,防止长时间测量中的亚相蒸发 用于研究分子取向排布的表面电位仪(SPOT) Langmuir-Schaeffer水平沉积样品架 用于沉积环境的温度监控设备 用于监测沉积液体的pH测量探针 用于将样品直接导入亚相的注射端口 用于研究分子取向排布的表面电位仪(SPOT) Langmuir-Schaeffer水平沉积样品架 用于沉积环境的温度监控设备 用于监测沉积液体的pH测量探针 用于将样品直接导入亚相的注射端口技术参数KSV NIMA 柔性 LB膜制备系统表面积2330 cm2槽体内部尺寸685 mm x 340 mm x 4 mm 滑障速度(mm/min)0.1...270滑障类型1 个, POM材质膜天平测量范围(mN/m)0...300膜天平分辨率 (mN/m)0.03膜天平数量1 -2个亚相容积(mL)5430浸渍井尺寸300 mm x 300 mm x 50 mm柔性基板宽度1… 200 mm柔性基板转速1… 100 mm/min辊轴运动位置分辨率20 um薄膜提拉角度可调节, 30°- 90 °镀膜方式手动或半自动镀膜方式手动或半自动兼容性LB膜浸渍镀膜头、小型布鲁斯特角显微镜、表面电位仪、自动进样泵、亚相蒸发补偿工具、LS水平镀膜装置等
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  • 塑料薄膜取样器 塑料薄膜拉伸制样机 纵横金鼎 XBM-II系列塑料薄膜切样机 本机适用于双向拉伸薄膜(BOPP、BOPC、BOPET、BOPA)、单向拉伸薄膜及其复合膜(袋)拉伸测试用样条的制备。 塑料薄膜取样器 塑料薄膜拉伸制样机 纵横金鼎 XBM-II塑料薄膜切样机主要特点XBM-II塑料薄膜切样机符合GB/T1040.3-2006/ISO527-3:1995《塑料拉伸性能的测定 第3部分:薄膜和薄片的试样条件》中6.1.1条关于样条尺寸的相关规定。该机夹持塑料薄膜样品稳固,刀具锋利、易更换;操作简便,使用安全可靠;一次可剪切多层、多个、多种样条;一次可制样数量12条,其中15mm宽5条、10mm宽7条;另外,用户可根据需要自行改变刀具配置后,一次可同时切割10mm、15mm、20mm、25mm四种样条。该机切样方式与冲切制样方式相比较,所切样条边缘平整、两边平行无缺陷(在20倍放大比率下观察无缺陷),所切样条可保证薄膜的力学性能不受影响。其拉伸强度及断裂伸长率数据准确、可靠、一致性好。 塑料薄膜取样器 塑料薄膜拉伸制样机 纵横金鼎 XBM-II塑料薄膜切样机技术参数制样宽度:10mm×(6+1)条、15mm×(4+1)条;制样误差:≤±0.1mm; 制样长度:160mm;切割厚度:≤0.25mm;外形尺寸:290mm(长)×230mm(宽)×150mm(高);重量:约15kg;
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  • Mini碳纳米管制备系统 400-860-5168转1431
    碳纳米管制备设备(碳纳米管制备系统,碳纳米管生长系统),可用于制备碳纳米管,包括垂直方向碳纳米管生长;在Si、石英、陶瓷、各种金属(不锈钢,Ti和Pt等)等多种基底上用廉价的酒精、汽油或者生物燃料等作为碳源生长碳纳米管;系统封闭腔体不但保证必要的真空度,而且还可对基底进行加热。联合日本科学与技术研究所(JST)开发,并且在多个国家注册了该项技术的专利!相关产品:1. 纳米颗粒制备系统;2. ZnO纳米带制备系统;3. 材料碳化研究系统:用于agricultural and forestry waste, papers, recyclable plastics, and so on;4. 碳纳米管生产系统CVD:用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等;5. 催化剂薄膜制备系统:可沉积催化剂薄膜在各种材料上,用于高性能碳纳米管的指标;技术参数:碳纳米管生长、制备装置(包括垂直方向碳纳米管生长);Au, Ag, Cu, Al, Si, Ti, Mg, Zn等纳米颗粒制备;ZnO纳米带制备;处理温度范围:400~800℃实时碳纳米管生长过程中温度监控反应源:含碳气体或者液体酒精主要特点:*价格优惠; *运行成本低; *制备速度快; *支持基底加热; *保证一定的真空度;*成熟的工艺和丰富的经验;*操作便捷; 技术介绍:*装备乙醇喷射单元;无需易燃烃化物气体。*碳纳米管生长只需几分钟,整个操作过程不超过30分钟。*小型化设计、操作简便、低成本、高质量碳纳米管。*在碳纳米管合成过程中,不需要使用还原性气体(氢气)使催化剂还原,因为使用的乙醇碳源本身具有很强的还原性。乙醇的金属还原性使得碳纳米管能够直接在多种合金材料上沉积,比如,NiCu, SUS等等。而不需要预先沉积催化剂薄膜,因为Ni, Fe, or Co等催化性元素在合金中作为催化颗粒独立存在。*透明的玻璃腔室使得研究人员可以直接观察整个沉积过程。该系统满足高校研究所的碳纳米管合成实验的研究工作。
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  • 碳纳米管制备系统 400-860-5168转1431
    联合日本科学与技术研究所(JST)开发,并且在多个国家注册了该项技术的专利!该设备用于制备纳米碳材料,如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备;采用封闭式管式炉,石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm,基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;气源包括氢气、氮气、甲烷、酒精等;MPCVD是一种碳纳米管化学汽相沉积综合系统,具备一个水平石英管式炉,该系统可以大量稳定生产垂直对齐的CNT和各种粉末CNT。成熟稳定的工艺保证了制备质量和数量,也可用于三维形状的CNT制备。乙醇注入装置配备一个滴定法流量控制系统,气体输入端口配备三通道质量流量气体控制器(惰性气体,碳氢化合物气体,氢气)。真空排气系统使得该系统能够在一个广泛的气压下运行,从大气到低压(10 Pa),也可用作为热处理系统,例如:真空炉、大气炉、氮化炉。 相关产品:1. 纳米颗粒制备系统; 2. ZnO纳米带制备系统; 3. 碳纳米管制备系统:用于高质量碳纳米管制备、纳米颗粒或薄膜制备、ZnO纳米带制备等; 4. 碳纳米管生产系统CVD:用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等; 5. 催化剂薄膜制备系统:可沉积催化剂薄膜在各种材料上,用于高性能碳纳米管的指标;技术特点: *成熟的碳纳米材料制备工艺和丰富的经验 *乙醇和碳氢化合物作为碳源 *用于SWCNT 合成 *具备催化剂前体供应功能 *可以合成较长长度 ( ~500 um)垂直对齐的CNT和粉末状的CNT *具备三通道气体质量控制器 *体积小,基座稳定 *高温度:1200度; *价格优惠; *运行成本低;技术参数:基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等;
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  • 本机适用于双向拉伸薄膜(BOPP、BOPC、BOPET、BOPA)、单向拉伸薄膜及其复合膜(袋)拉伸测试用样条的制备。 主要特点XBM-II塑料薄膜切样机符合GB/T1040.3-2006/ISO527-3:1995《塑料拉伸性能的测定 第3部分:薄膜和薄片的试样条件》中6.1.1条关于样条尺寸的相关规定。该机夹持塑料薄膜样品稳固,刀具锋利、易更换;操作简便,使用安全可靠;一次可剪切多层、多个、多种样条;一次可制样数量12条,其中15mm宽5条、10mm宽7条;另外,可根据需要订制切割样条尺寸如10mm、15mm、20mm、25mm以及每种规格的数量。该机切样方式与冲切制样方式相比较,所切样条边缘平整、两边平行无缺陷(在20倍放大比率下观察无缺陷),所切样条可保证薄膜的力学性能不受影响。其拉伸强度及断裂伸长率数据准确、可靠、一致性好。 标准机技术参数:制样宽度:10mm×(6+1)条、15mm×(4+1)条;制样误差:≤±0.1mm; 制样长度:160mm;切割厚度:≤0.25mm;外形尺寸:290mm(长)×230mm(宽)×150mm(高);重量:约15kg;
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  • 如果您的溶出测试工作非常繁忙,您可以选择Teledyne Hanson公司提供的Media-Mate Plus自动溶媒制备系统。 Media-Mate Plus可以对溶媒作自动预热、过滤、脱气,然后在5分钟内将溶媒输送到溶出度测试仪的6至7个溶出杯中。该制备器装在一个可移动的推车上,用户可以方便地为多台溶出度测试系统准备浴媒。 可替换的储液缸内可存储10-40升溶媒,系统能控制缸内溶媒的温度,系统能控制缸内溶媒的温度。从缸内输送到溶出度测试杯中的溶媒体积可调的,调节范围在250毫升到1000毫升之间,最小调节度为50毫升,精度为±1%。输送到溶出度测试杯中的溶媒的饱和度低于95%(本装置是通过薄膜法脱气的,是USP/FDA推荐方法)。用户可以自由地选择将溶媒输送到3+3、4+2或者4+3形式的水浴中。 全新的操作面板控制非常容易操作,一键式按钮可以启动并完成溶媒测试、脱气、分配整个过程。5分钟内即可将溶出度测试杯注满。 全新的溶媒体积调节装置,可以使用户非常方便地调节输入溶媒的体积。调节量在250毫升至1000毫升之间,最小调市量为50毫升。溶媒可以通过Media-Mare Plus自动熔媒制备器自动注入Hanson或者其他溶出度系统中。
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  • SD-981M离子溅射仪喷金镀膜SEM样品制备是北京博远微纳科技有限公司(博远微朗)自主研发的一款高性能离子溅射仪。上市已来深受各大高校和科研院所的喜爱。SD-981M离子溅射仪喷金镀膜SEM样品制备于传统溅射仪相比,除兼备其他溅射仪功能外,还有有以优点:1、SD-891M是一款磁控溅射仪,可对温度敏感的样品进行镀膜,比如:薄膜、橡胶等。并且磁控溅射靶头部分的结构更加科学,稳定。2、操作模式方面:有自动和手动两种模式(满足更多人的镀膜需求)3、溅射方面:分为正常启动和柔和启动,可适应一些特殊样品4、真空方面:真空可调节,真空实现自动通气并稳压力的功能,即避免了手动调节真空的不便,同时避免了固定真空度颗粒度大等方面的缺点。5、操作界面方面:分为简易界面和多样化界面。可满足大多数人使用。6、样品台方面:可旋转(选配)SD-981M离子溅射仪喷金镀膜SEM样品制备具体参数如下:参数:主机规格:长510mm×宽310mm×高290mm(含腔体)靶材:Au(标配)50mm×0.1mm(D×H)样品室:玻璃腔体直径180mm×高120mm(D×H)样品台直径:φ70mm靶材尺寸:Ф50mm 最高真空度:1Pa工作真空:2-15Pa定时器:数码计时 0-600S镀膜面积:50mm溅射电流:0-50mA(可调)真空测量:皮拉尼真空计触摸屏:4寸程序:VPI人机界面可通入气体:多种机械泵:VRD-8速率:0--60nm/min主机功率:100W工作电压:220V,50HZ
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  • 湿膜制备器 400-860-5168转1594
    仪器简介:湿膜制备器产品展台为您精选湿膜制备器产品,欢迎您来电咨询湿膜制备器产品的详细信息!湿膜制备器的种类有很多,不同湿膜制备器的应用范围也会有细微的差别,而本公司将会为您提供全方位的解决方案。 湿膜制备器主要用于涂布规定厚度的湿膜,以测定试样的遮盖力、色泽或制备样板等。技术参数:湿膜制备器 湿膜制备器主要用于涂布规定厚度的湿膜,以测定试样的遮盖力、色泽或制备样板等。 主要技术参数(&mu m) 型号 SZQ-25 SZQ-37.5 SZQ-50 SZQ-75 SZQ-100 SZQ-125 SZQ-150 SZQ-200 SZQ-250 SZQ-300 SZQ-400 SZQ-500 规格 25 37.5 50 75 100 125 150 200 250 300 400 500 精度 ± 2 ± 2 ± 2 ± 3 ± 3 ± 4 ± 4 ± 5 ± 5 ± 6 ± 8 ± 10主要特点:湿膜制备器主要用于涂布规定厚度的湿膜,以测定试样的遮盖力、色泽或制备样板等。
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  • TargetSystem 特性显著缩减制备时间不受操作人员技能影响完美的再现性无需成本昂贵的磨料薄膜TargetSystem 设计用于微电子组件和扁平化目标制备。这是第一款失效分析工具,可对可见目标和隐藏目标进行实时对齐和测量,例如微型穿孔和 BGA。系统精度高达 +/- 5 μm。较短的制备时间智能制备系统 (IPS) 可根据实际样品属性和研磨/抛光表面自动调整消除时间和速率。这意味着可将测量和制备时间缩减至 30 分钟以内。再现性自动化工艺使得 TargetSystem 不受操作人员技能的影响,无论何人操作都可确保再现性。降低运行成本TargetSystem 可与任何 SiC 纸或其他耗材配合使用,无需成本昂贵的研磨薄片。请点击此处,登录官网查询设备具体详情。
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  • 单面制备器(1 8 0 5 4 2 0 3 0 1 6)产品说明:涂膜器可对湿膜或干膜的厚度进行精确控制。常规质量控制及研究开发试验时,涂料的遮盖力、不透明性、耐擦洗能力、抗流挂性能及其它质量试验都要求有一个一致性好重复性佳的涂层。 产品参数:材质:高级耐磨耐腐蚀合金钢。有效涂布宽度:100mm总长:130mm产品名称订购编号厚度15um单面制备器TR 3001/100/01515微米20um单面制备器TR 3001/100/02020微米25um单面制备器TR 3001/100/02525微米30um单面制备器TR 3001/100/03030微米37.5um单面制备器TR 3001/100/03737.5微米40um单面制备器TR 3001/100/04040微米50um单面制备器TR 3001/100/05050微米60um单面制备器TR 3001/100/06060微米75um单面制备器TR 3001/100/07575微米80um单面制备器TR 3001/100/08080微米100um单面制备器TR 3001/100/100100微米125um单面制备器TR 3001/100/125125微米150um单面制备器TR 3001/100/150150微米200um单面制备器TR 3001/100/200200微米250um单面制备器TR 3001/100/250250微米300um单面制备器TR 3001/100/300300微米400um单面制备器TR 3001/100/400400微米500um单面制备器TR 3001/100/500500微米600um单面制备器TR 3001/100/600600微米有效涂布宽度:80mm总长:100mm产品名称订购编号厚度双面制备器TR 3002/125um/50um双面制备器TR 3002/270um/100um双面制备器TR 3002/3150um/200um双面制备器TR 3002/4300um/400um规格1:有效涂布宽度:80mm、总长100mm。规格1:有效涂布宽度:160mm、总长190mm。产品名称订购编号厚度涂膜宽度四面制备器TR 3004/80/15um10um15um20um80mm四面制备器TR 3004/80/210um20um30um40um80四面制备器TR 3004/80/320um40um60um80um80四面制备器TR 3004/80/425um50um75um100um80四面制备器TR 3004/80/530um60um90um120um80四面制备器TR 3004/80/650um75um100um150um80四面制备器TR 3004/80/750um100um150um200um80四面制备器TR 3004/80/8100um150um200um250um80四面制备器TR 3004/80/9100um200um300um400um80四面制备器TR 3004/80/10250um500um700um1000um80四面制备器TR 3004/160/15微米10微米15微米20微米160mm四面制备器TR 3004/160/210微米20微米30微米40微米160四面制备器TR 3004/160/320微米40微米60微米160微米160四面制备器TR 3004/160/425微米50微米75微米100微米160四面制备器TR 3004/160/530微米60微米90微米120微米160四面制备器TR 3004/160/650微米75微米100微米150微米160四面制备器TR 3004/160/750微米100微米150微米200微米160四面制备器TR 3004/160/8100微米150微米200微米250微米160四面制备器TR 3004/160/9100微米200微米300微米400微米160四面制备器TR 3004/160/10250微米500微米700微米1000微米160有效涂布宽度:12.7mm、总长25mm。产品名称订购编号厚度方形制备器TR 3005/12/138um/76um方形制备器TR 3005/12/275um/150um流挂仪产品说明:符合GB/T 9264 ASTM D 3730标准,测定湿膜在垂直状态下的上端涂料向下端流动变厚情况,以便通过控制涂料物理性能选择一个合适的湿膜厚度保证获得一个均匀膜厚。此流挂性能有利于对垂直、边角、圆孔、圆弧工件的涂装控制。粘度、细度、厚度是影响流挂的主要因素。产品参数:材质:高级耐磨耐腐蚀合金钢。外形尺寸:120mm×20mm×20mm10条不同厚度的涂膜,湿膜宽度为6mm,条膜间距为1.5mm,相邻条膜厚度差25 μm 订购信息:产品名称订购编号厚度流挂仪TR 3060/150-75-100-125-150-175-200-225-250-275流挂仪TR 3060/2250-275-300-350-375-400-425-450-475流挂仪TR 3060/3450-475-500-525-550-575-600-625-650-675流挂仪TR 3060/4650-675-700-725-750-775-800-825-850-875流挂仪TR 3060/5850-875-900-925-950-1000-1025-1050-1075 流平仪产品说明:符合 ASTM 2801标准,用于测定湿膜在水平放置状态时的涂料在2D状态的流动情况,以便通过控制涂料物理性能选择一个合适涂装状态。产品参数:材质:高级耐磨耐腐蚀合金钢。 订购信息:产品名称订购编号厚度流挂仪TR 3080/1100-200-300-500-1000µ m流挂仪TR 3080/2250-500-1000-2000-4000µ m 配套粘度计 搅拌机 涂膜机 耐洗刷 耐磨仪 色差仪 白度计 光泽计 测厚仪 制备器 线棒 炉温仪 硬度计 弯曲仪 冲击仪 反射率仪 遮盖力仪 细度板 拉拔仪 百格刀 划格刀 盐雾箱 PH计 电导率仪 比色计 平膜仪
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  • 纳米药物制备系统作为mRNA疫苗或者核酸药物的三大关键技术壁垒之一,主要用于mRNA或者核酸的包裹以及递送。传统的脂质体制备方法较多,如薄膜分散法,高压均质等存在重复性差,均一性差以及无法扩大生产等问题。特别是对于mRNA药物,传统制备工艺对mRNA有强烈剪切力,会直接破坏核酸的结构,导致其在体内无法表达。而该系统采用微流控技术,柔和剪切力,自上而下进行组装包裹。纳米药物制备系统可以用来指导mRNA的制剂开发,如脂质体的配比,流速比,总流速,稀释倍数等等工艺参数的优化。 ●两种不同流体模型处方筛选芯片各5块●放大筛选芯片1块●样品温度控制模块1套 ●进口注射器适配器2套(注射器规格支持1/3/5/10 mL等)●国产注射器适配器2套(注射器规格支持1/2.5/5/10 mL等)WebSite:https://tb-bio.cn/
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  • 物理特性薄膜表征系统,高度集成且易于使用的测量平台。 薄膜的物理性质不同于大块材料,因为由于尺寸较小和高纵横比使寄生表面效应更强! 增强表面散射的影响(a)附加边界散射(b)超薄层的量子约束(c) LINSEIS薄膜物性分析仪是表征各种薄膜样品优异测量工具。它是一种易于使用的独立系统,使用正在申请专利的测量系统设计,可提供高质量的结果。 组件 基本设置包括一个可以轻松沉积样品的测量芯片,以及提供所需环境条件的测量室。 根据应用,该设置可与锁定放大器和/或强电磁铁一起使用。 测量通常在UHV下进行,并且在测量期间使用LN2和强力加热器将样品温度控制在-170°C和280°C之间。 预制测量芯片 该芯片将用于热导率测量的3 ω技术与用于测量电阻率和霍尔系数的4点Van-der-Pauw技术相结合。 赛贝克系数可以使用位于Van-der-Pauw电极附近的附加电阻温度计来测量。 为了便于样品制备,可以使用剥离箔掩模或金属阴影掩模。 该配置允许几乎同时表征通过PVD(例如热蒸发,溅射,MBE),CVD(例如ALD),旋涂,滴铸或喷墨打印制备的样品。 该系统的一大优点是在一次测量运行中同时确定各种物理特性。所有测量都采用相同(平面内)方向,并且具有很高的可比性。 基本测量单元 : 测量室,真空泵,带加热器的支架,电子颊侧装置,集成锁相放大器,3w方法分析软件,计算机和应用软件。可测以下物理参数: • λ - 热传导系数 (稳态法/平面内方向) • ρ - 电阻率 • σ - 电导率 • S - 赛贝克系数 • ε – 发射率 • Cp - 比热容 磁测量单元 可根据需求选择集成式电磁铁,可测物理参数如下: • AH - 霍尔常数 • μ –迁移率 • n -载流子浓度 薄膜材料性能有别于块体材料之处 - 因小尺寸和高纵横比所导致的表面效应如:边界散射和量子限域效应 *价格范围仅供参考,实际价格与配置等若干因素有关。如有需要,请拨打电话咨询(021-50550642;010-62237791)。我们定会将竭尽全力为您制定完善的解决方案。
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  • 湿膜制备器 400-860-5168转1594
    湿膜制备器 ZBQ-4四面湿膜制备器 多槽沟涂膜器被设计用在平坦的底材上涂布均匀的油漆,粘结剂及其类似产品。我司把多槽沟涂膜器可选择的多样性和固定槽沟涂膜器的精度结合在一个仪器上。可适用于水性,酸性和碱性的产品。 主要技术参数: ■ 不锈钢- 耐腐蚀 ■ 有效涂布宽度:80mm;总长:100mm 5µ m,10µ m,15µ m,20µ m 25µ m,50µ m,75µ m,100µ m 50µ m,100µ m,150µ m,200µ m 30µ m,60µ m,90µ m,120µ m 100µ m, 200µ m,300µ m,400µ m 50µ m, 75µ m,100µ m,150µ m 100µ m, 150µ m,200µ m,250µ m 250µ m, 500µ m,750µ m,1000µ m
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  • 纳米薄膜热导率测试系统-TCN-2ω— 薄膜材料的热导率评价将变得为简便日本Advance Riko公司推出的纳米薄膜热导率测试系统是使用2ω方法测量纳米薄膜厚度方向热导率的商用系统。与其他方法相比,样品制备和测量为简单。纳米薄膜热导率测试系统特点:1. 在纳米尺度衡量薄膜的热导率开发出的监测周期加热过程中热反射带来的金属薄膜表面温度变化的方法,通过厚度方向上的一维热导模型计算出样品表面的温度变化,为简便的衡量厚度方向上热导率。(日本:5426115)2. 样品制备简单不需要光刻技术即可将金属薄膜(1.7mm×15mm×100nm)沉积在薄膜样品上。纳米薄膜热导率测试系统应用:1. 热设计用薄膜热导率评价的优先选择。low-k薄膜,有机薄膜,热电材料薄膜2. 可用于评价热电转换薄膜纳米薄膜热导率测试系统测量原理:当使用频率为f的电流周期加热金属薄膜时,热流的频率将为电流频率的2倍(2f)。如果样品由金属薄膜(0)-样品薄膜(1)-基体(s)组成(如图),可由一维热导模型计算出金属薄膜上表面的温度变化T(0)。假设热量全部传导到基体,则T(0)可由下式计算:(λ/Wm-1K-1,C/JK-1m-3,q/Wm-3,d/m,ω(=2πf)/s-1)式中实部(同相振幅)包含样品薄膜的信息。如热量全部传导到基体,则同相振幅正比于(2 ω)0.5,薄膜的热导率(λ1)可由下式给出:(m:斜率,n:截距)纳米薄膜热导率测试系统参数:1. 测试温度:室温2. 样品尺寸:长10~20mm,宽10mm 厚0.3~1mm(含基体)3. 基体材料:Si(推荐) Ge,Al2O3(高热导率)4. 样品制备:样品薄膜上需沉积金属薄膜(100nm) (推荐:金)5. 薄膜热导率测量范围:0.1~10W/mK6. 测试氛围:大气设备概念图样品准备纳米薄膜热导率测试系统测试数据:Si基底上的SiO2薄膜(20-100nm)测量结果d1 / nm 19.9 51.0 96.8 λ1/ W m-1 K-1 0.82 1.03 1.20 发表文章1. K. Mitarai et al. / J. Appl. Phys. 128, 015102 (2020) 2. M. Yoshiizumi et al. / Trans. Mat. Res. Soc. Japan 38[4] 555-559 (2013)
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  • Quorum型号PP3010冷冻传输制备系统是一种高度自动化且易于使用的直接安装于电镜腔体上的冷冻传输及制备系统,适用于大多数品牌和型号的SEM、FE-SEM和FIB/SEM。 该系统具有优良的适配性,能够与大多数品牌和型号的SEM和FIB-SEM兼容,通过过冷氮气循环冷却系统能够实现样品快速冷冻,具备快速的热响应。样品制备室配备卓越的观察视窗,为用户提供了一个易于操作的空间对样品进行冷冻、断裂、升华和镀膜的能力,从而可以观察到接近其样品原始状态的信息。主要技术特色:满足FIB/SEM高分辨成像能力和电镜一致或优于电镜的真空设计有效防止样品制备及转移过程中污染的风险过冷氮气冷却机制具备快速的热响应远程大容量自增压氮气发生器保证长时间冷冻实验(24小时以上)样品制备舱优良可视化设计大尺寸触屏控制,操作直观方便具备可控全自动样品升华兼容样品台减速模式全自动冷冻镀膜设计震动隔离真空设计满足高分辨成像需求Prepdek工作站具备独立工作区域,无需额外工作空间装样、急速冷冻和样品转移等工序使用Prepdek® 预处理工作站一站式即可轻松完成样品冷冻制备流程 PP3010 Prepdek® 工作站配备了一个液氮泥冷冻站,利用真空泵对液氮进行抽真空,从而能够快速制备温度更低的液氮泥。快速冷冻减少了冰晶的形成以及对样品的损伤,并有利于样品的保存。为了处理预冷冻材料,Prepdek® 冷冻系统允许在液氮中或刚好高于液氮的条件下操作通过替代冷冻方法冷冻的样品(或储存的样品),然后在真空下转移到PP3010制备室中进行后续处理和观察。 此外,型号25314 TEM Prep Slusher透射电镜样品转移站和型号25852手套箱接口/气闸选配升级则能够实现在包括Cryo-TEM、Cryo超分辨显微镜、XPS及手套箱之间进行真空或惰性气体氛围保护冷冻制备和传输样品。低温传输装置——包括真空储存真空转移装置结构紧凑(可放置于一只手上),真空密封可靠,并与样品转移托通过旋转卡口连接,以便快速抓取和转移样品。试样桩、穿梭机样品载台及样品转移托PP3010配备了带表面槽、孔和平坦区域的通用10mm试样桩,适用于大多数试样类型。还包括空白和开槽短截线。此外,还提供了一系列可选的支架,包括用于大样品的样品转移托和用于高压冷冻的顶部装载支架、TEM AutogridsTM(用于冷冻FIB/SEM应用)和用于硬质试样品的夹紧式转移样品托。低温制备腔室冷冻制备室直接连接到电镜腔体,包括高效过冷低温氮气冷台大面积防污染板以及断裂、升华和低温冷台镀膜的装置,同时腔室配有两个完全集成且真空互锁的闸阀。过冷低温氮气冷台及防污染板低温制备室的中心是过冷低温氮气冷却的样品台,该样品台采用燕尾设计,可以装载低温样品转移托,并且可以在+100℃到-190℃的温度范围内进行精确控温。位于样品台上方、下方和后方的大面积防污染板可确保室内清洁以及维持高真空条件。冷台及防污染板均采用完全集成的CHE3010电镜腔体外热交换系统进行温度交换,在正常操作温度下,两次液氮冲灌之间的典型保持时间长达24小时(前提使用干燥氮气)。制备腔体能见度高aQuilo® 腔体具有卓越的可视性。除了大的前窗(75 x 150mm)外,还有两个顶部观察口,腔室配备三个LED照明系统。冷冻制备室还可以安装一个可选的立体显微镜冷冻断裂提供双断裂刀(带主动冷却装置),可对各种类型样品进行冷断裂。PP3010标配了前置断裂和断裂操作装置。球形接头底座使刀片具有灵活的移动性,既可用作表面提取,也可以当作断裂刀使用。冷冻断裂的碎片被存放于样品台下方的大型冷阱中。自动升华和溅射冷冻镀膜 可以预设和存储升华温度和时间,同时也可以很方便检索常见的升华程序,同时过程是全自动的,并可以以图形方式显示在控制屏幕上,显示实际温度与预测升华曲线。高分辨成像专用的镀膜装置是基于市场领先的Quorum Q Plus系列镀膜仪设计。镀膜装置能够溅射FE-SEM应用所必需的极细颗粒薄膜,标配铂靶,同时可选金属包括金、金/钯、铬和铱,同时还可以安装可选的镀碳头(11920)。涡轮分子泵——高真空性能冷冻制备腔室由远程定位的70L/s涡轮分子泵进行真空抽取,冷冻状态时,腔体内部真空度可达10-7mbar的范围内,采用将涡轮分子泵放置在远离SEM的位置可确保完全消除泵使用过程中的振动,并具有显著提高高分辨成像的能力。Prepdek® 冷冻制备工作站Prepdek® 工作站能够实现在一个符合人体工程学设计的工作台面上进行样品装载、急速冷冻和样品冷冻转移,一站式完成所有制备工作。大尺寸触屏控制界面 PP3010使用安装在Prepdek® 工作站上的大尺寸触屏进行控制,可以输入和存储用户定义的制样配方,以便将来重复使用,同时屏幕可以根据操作员的偏好进行设置,例如,真空度可以用毫巴、帕斯卡或托来显示。样品制备过程中的许多关键步骤都是自动化的(系统设置、气流控制、升华和镀膜等),可通过内置的操作视频即可完成制样。SEM原位液氮冷台、防污染板及冷冻系统 该系统配备一个高稳定绝热设计的过冷氮气循环原位液氮冷台,安装于扫描电镜样品台之上,同时配备一个防污染板,SEM原位冷台和防污染板均采用单独的氮气循环回路进行冷却,且都能达到-190°C或更低的温度。这样的配置是为了方便操作者根据实验需要进行不同的温度,例如,对于一些非生物材料,将样品保持在非常低的温度下能够对样品进行更好的保护,例如,冷台最低温度可以设定到-175°C,而同时可以让防污染板选择-190℃或更低温度。SEM原位液氮冷台的温度范围低至-190°C,温度稳定性0.5°C。匹配扫描电镜样品台减速模式PP3010配备的原位液氮冷台能够匹配高达5kV的扫描电镜样品台减速模式偏压。CHE3010远程式热交换装置CHE3010是一个完全集成的远程安装热交换系统,是PP3010的标准配置。CHE3010用于扫描电镜原位液氮冷台、防污染板和冷冻制备腔室内的冷台和防污染板冷冻,通常温度可低至-190°C。同时在正常操作温度下,两次液氮灌注之间可以运行长达24小时以上,这大大简化了操作人员的工作,同时允许进行夜间无人值守操作——对于一些自动化FIB/SEM进行TEM样品制备尤其有用。
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  • 角膜制备仪Ophthalmic corneal printer 660眼部疾病损伤包括角膜、青光眼、视网膜、眼睑和眼眶等方面,现存的治疗方法存在移植物自愈效果不佳、供体数量短缺等问题。 投影式光固化生物3D打印技术在制造结构精度及复杂程度上具有显著的优势,打印结构在光学性能、力学强度、定制化程度等方面明显优于其他制造方法。出于以上优势,其可用于精细化眼部结构的制造,从而协助科研人员对眼部疾病的相关机理进行研究。此外也可用于眼部仿生结构的重建,为损伤部位针对性治疗方案的探索提供一种研究途径!技术指标及设备参数:光源: 405nm(其他波段可定制)投影精度: 25μm最小打印层高: 10μm沉积平台温控范围: RT-50℃(其他温度可定制)墨水料槽温控范围: RT-50℃(其他温度可定制)打印样品尺寸: 48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)墨水料槽容量: 50μl-10ml(其他体积可定制)主机外观尺寸: 340mm(L)×210mm(W)×290mm(H)(可轻松放入超净台)洁净无菌系统: 正压过滤、紫外灭菌操作系统: 脱机打印、桌面打印可打印材料: 柔性材料:GelMA、PEGDA水凝胶等;刚性材料:光敏树脂等 3D打印仿生上皮/基质双层水凝胶支架用于角膜再生!快速测试自定义材料参数配方,极大提高实验效率!负载角膜上皮细胞、间充质干细胞分别打印上皮层、正交纤维基质层,加速上皮愈合与基质再生,为角膜的愈合提供有效的再生环境!
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  • 制备液相色谱 核心参数 应用级别 工业制备级 美国兰博,基于近五十年的液相色谱专业设计、生产经验与技术,在线自清洗技术,使泵能够长期免维护运行,为全球的液相色谱系统提高了使用寿命。Series系列泵,涵盖所有高压计量泵,从低压、中压、高压到超高压色谱泵,以及化工反应泵,流量从 0.001到1000mL/min,压力从0到25000psi。制备色谱仪器简介:该系统可称为制备,半制备的zui佳选择,结构简单合理,高流量高压力。可接馏分收集器,减低劳动强度。制备色谱主要特点:1.双泵可作梯度洗脱2.可兼作梯度分析3.操作简单,检测灵敏度高,稳定性好4.长期免维护运行5.兼容性好
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  • 微型薄膜成型设备 400-860-5168转0702
    微型薄膜成型设备  DSM Xplore新近拥有专利的创新开发产品是微型薄膜成型设备。结合我们的微型混炼机,可进行若干克原料的流涎膜制造。这样,原料研制的时间大大缩短,也只需相当少的消耗费用。典型薄膜的制备可在很短的时间内完成,与传统薄膜研制过程相比仅使用了一小部分的原料。当只有少量原料或使用像纳米碳管,活化的药物成分等昂贵的添加剂时,微型薄膜成型设备尤其实用。连续喂料工具由可固定的给料筒和连续喂料螺杆组成,其特定的几何构造可以轻松的实现自动喂料,因此现在可得到极长的薄膜样品(连续挤出)。实例薄膜  微型薄膜成型设备能够制备流涎膜与铸单,集成的&ldquo 气刀&rdquo 可加工薄膜达30-35mm。薄膜实际生产速率为每分钟100-5000mm原料并且牵引单元可以1mm/min的速率间隔进行调节。提升缠绕单元(收集单元)是扭矩控制的,其直径随测试的进行而增大,并且也可以1N/mm的间隔进行调节。结合我们新一代的可通过调节口模压力来控制流量的微型混合机,DSM Xplore使客户能够生产出渐次的薄膜厚度,而无需使用齿轮泵。最新结果显示薄如5&mu m的薄膜非常容易制得,SEM图片同时显示其上并无孔洞。技术规格: &bull 完全尺寸:43× 16× 25cm &bull 重量:约10kg &bull 2个卷筒提升机   速度控制:100~5000mm/min   扭矩控制:230个可调节的1N/mm间隔 &bull 薄膜口模:宽35mm厚度在0.1~0.6mm之间 &bull 控制器:带集成操作显示屏的控制箱 &bull 电压供应:220~240V 交流电,或根据需要选项: &bull 定制裂缝口模   限定厚度   限定表面抛光 &bull 连续喂料工具:   冷却加料斗   连续喂料螺杆 为拉伸附带的卷筒提升机
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  • 产品简介根据《HJ/T166-2004土壤环境监测技术规范》、总站土字【2018】407号文件、《NY/T 1121.1-2006 土壤检测第1部分 土壤样品的采集、处理和贮存》等技术规范的要求,20目或10目土壤样品要求全制样,不可弃样。目前主要采用人工研磨、筛分的方式,效率较低、环境恶劣、劳动强度大、样品容易研磨过细等都是目前人工方法面临的主要问题。FASP-ECO型全自动土壤样品制备仪为用户带来了高效、合规、全流程可追溯的样品粗磨制备体验,帮助用户远离尘土飞扬的环境,使工作更加轻松安全!产品特点风干样品进样,一个进样位 10目/20目土壤样品粗磨、筛分、分样、称量、装样、清洁自动化制备设备全流程不接触任何金属,确保制样过程中没有外源性污染二级研磨模式,确保10目/20目样品制备效果,避免样品研磨过细全自动清洁,避免交叉污染实验条件全流程数字化记录,全流程可追溯,报表自动生成标准化流程制备,消除批次间差异,保证制备质量及批次稳定性改善实验室环境,由严重污染提升到优美洁净友好依据标准《HJ/T 166-2004 土壤环境监测技术规范》中国环境监测总站土字【2018】407号《土壤样品制备流转与保存技术规定》《NY/T 395-2012 农田土壤环境质量监测技术规范》《DZ/T 0130.4-2006 地质矿产实验室测试质量管理规范》《HJ/T 20-1998 工业固体废物采样制样技术规范》《EJ 428-1989 环境核辐射监测中土壤样品采集与制备的一般规定》《LYT1210-1999 森林土壤样品的采集与制备》等技术参数进样模块一个样品位,干样进样操作模块集成式制样操作模块研磨模块研磨部件不含金属元素,不会带来外源性污染分样混匀模块样品自动充分混匀,可选四分法分样筛分模块依据GB/T 6003.1-2012,可选10目或20目任意一种规格称量模块内置称量模块,可自动称量样品清洁模块自动清洁,电动毛刷接触式清洁,负压吸附,滤芯除尘应用领域 土壤环境监测农用地详查土壤与环境科学研究第三方检测机构场地调查与评估土壤普查
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  • 微波样品制备系统 400-860-5168转1766
    Multiwave PRO 微波样品制备系统安东帕Multiwave PRO拥有完善的温度压力综合控制系统。该系统种类众多的附件,可帮助实现消解、浸提、氧燃烧、溶剂萃取、干燥、蒸发及紫外消解等功能,是一个专业高端的微波样品制备平台。系统操作容易、安全,适用于要求最严苛的应用。提供最佳解决方案,灵活且可扩展?最佳效能比二维双磁控管微波输出,保证了快速直接的加热。全范围内的非脉冲微波功率可确保对关键反应的精确控制。?简易化操作,无需任何工具手动即可快速完成消解罐、转子和传感器的组装和使用。这种免工具处理是安东帕所独有的,并简化了这一经常需要重复操作的工作步骤。?全面地温度压力控制保证消解效果Multiwave PRO可对反应罐的温度、压力、压力升高速度等重要的反应参数进行全面实时的监控。确保每次反应过程的安全。数据无线传输,避免了腐蚀性环境下的连线和接口。?即调即用的应用方法库包括EPA、ASTM及其他成熟的标准方法等,适用于众多样品。并可创建新方法。?冷却:快速且安静集成风冷系统具有独特的气道冷却设计,可在加热结束后的数分钟内冷却反应罐。无需接触高温带压容器,无需连接外部冷却装置。噪音异常小,实验环境舒适。?不折不扣的安全性能先进的传感器技术及主动和被动安全措施:带互锁装置的抗冲击安全门,具有磁力重新密闭功能。磁控管核心智能温度感应,自动防止微波过载。冷却风机内温度传感器自动防止系统过热。风流温度传感器自动监测排风温度。转子识别和位置识别传感器,自动判断转子类型并和程序匹配。防微波泄漏的密闭式炉腔设计,提供最高安全防护。最高安全标准:唯一获北美ETL和欧盟GS("认可的安全")双安全认证的微波样品制备设备。
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  • 产品简介根据《HJ/T166-2004土壤环境监测技术规范》、总站土字【2018】407号文件、《NY/T 1121.1-2006 土壤检测第1部分 土壤样品的采集、处理和贮存》等技术规范的要求,20目或10目土壤样品要求全制样,不可弃样。目前主要采用人工研磨、筛分的方式,效率较低、环境恶劣、劳动强度大、样品容易研磨过细等都是目前人工方法面临的主要问题。FASP-ECO型全自动土壤样品制备仪为用户带来了高效、合规、全流程可追溯的样品粗磨制备体验,帮助用户远离尘土飞扬的环境,使工作更加轻松安全!产品特点风干样品进样,一个进样位 10目/20目土壤样品粗磨、筛分、分样、称量、装样、清洁自动化制备设备全流程不接触任何金属,确保制样过程中没有外源性污染二级研磨模式,确保10目/20目样品制备效果,避免样品研磨过细全自动清洁,避免交叉污染实验条件全流程数字化记录,全流程可追溯,报表自动生成标准化流程制备,消除批次间差异,保证制备质量及批次稳定性改善实验室环境,由严重污染提升到优美洁净友好依据标准《HJ/T 166-2004 土壤环境监测技术规范》中国环境监测总站土字【2018】407号《土壤样品制备流转与保存技术规定》《NY/T 395-2012 农田土壤环境质量监测技术规范》《DZ/T 0130.4-2006 地质矿产实验室测试质量管理规范》《HJ/T 20-1998 工业固体废物采样制样技术规范》《EJ 428-1989 环境核辐射监测中土壤样品采集与制备的一般规定》《LYT1210-1999 森林土壤样品的采集与制备》等应用领域 土壤环境监测农用地详查土壤与环境科学研究第三方检测机构场地调查与评估土壤普查
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  • 与传统的乳化设备相比,出于如下的原因,MEGATRON MT-MM薄膜乳化设备展现出出众的性能。BENEFITS 薄膜乳化分散机对产品的机械和热能输入较低:液滴的形成并不是出于高剪切力和折射作用,整个乳化过程是一个非常柔和的过程。薄膜乳化工艺中的热能和机械作用比传统乳化设备要低几个数量级。双相乳液:薄膜乳化方式使得双相乳液制备非常容易。高浓度配比:采用薄膜乳化设备,可以一次性制备分散相配比高达50%的乳液 - 定义并可重现。同时制备出乳液的粒径分布也非常平均。低能耗:由于在乳液制备中的热能和机械能消耗比较低,薄膜乳化设备的能耗比传统乳化设备低。乳液颗粒较小:由于薄膜孔只有1-2微米,可以制备非常小的液滴。在不同的转速调节下,以不同的成球机理制备亚微米乳液。窄粒径分布:由于特殊的成球机理,可以实现非常窄的粒径分布。在一些特定的应用中,甚至可以制备一致粒径乳液。可控性:MEGATRON MT-MM薄膜乳化设备以在线方式运行,流量和乳液粒径重现性强,并可控。 薄膜乳化分散机工艺原理MEGATRON MT-MM 薄膜乳化设备是由一个圆柱形的腔体和内部同轴的薄膜构成。工作腔体有个产品进口,一个为分散相(内)进口,另一个为连续相(外)进口。通过薄膜孔,分散相液体流从轴向进入并分散到连续相中。液体在高速旋转中分离并形成。乳滴的形成以及粒径分布由运行参数决定:转速、薄膜孔径、连续相粘度以及剪切间距。形成的乳滴不断被外边的连续相带走。 薄膜乳化分散机 技术参数处理量 液体流量 5 – 40 l/h 工作压力 连续相6 bar(g) / 分散相 20 bar(g) 操作温度 90°C 材质 所有物料接触部分由 SS 316L制成, -并电抛光处理 / 所有物料接触部分密封圈为 EPDM (其他材质可根据需求选择)电机 高频电机 4.0 kW, 10000rpm, 3x400 V, 167 Hz, IP 55, Design B3 B5 / 可外接变频器调速速度控制 通过变频器调速, 型号 RECO 34/4.0 内置于不锈钢控制柜工作腔 类型: MMK 1-56 DW, 卧式安装, 带加热/冷却 夹套, 双端面机械密封, 入料口 G ”, 出料口 G ”, 材质 316 L 电抛光处理, 计量接口薄膜 类型 MMG 55/2, 材质不锈钢 316L 机械密封 双端面机械密封密封压力系统 压力容器容量 3 l ,带冷却盘管, 模拟温度传感器和压力传感器泵连变频器 磁力驱动齿轮泵, 流量至 40 l/h, 转速由变频器控制气体流量计 用于控制气体流量 / 气体流量至 40 l/hPlant control6.4” TFT 彩色控制屏 / 网速 10/100 Mbit / USB- and RS232-接口 / Windows CE Core / 防护级别: 正面 IP 65 / 背面 IP 20
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  • 热丝CVD金刚石设备研发设计制造了热丝CVD金刚石设备,分为实验型设备和生产型设备两类。设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜、硬质合金基金刚石涂层刀具、陶瓷轴承内孔镀金刚石薄膜等。例如可用于生产制造环保领域污水处理用的耐腐蚀金刚石导电电极。可用于平面工件的金刚石薄膜制备,也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。 平面工作尺寸圆形平面工作的尺寸:最*大φ650mm。矩形工作尺寸的宽度600mm/长度可根据镀膜室的长度确定(如:工件长度1200mm)。配置冷水样品台。热丝电源功率可达300KW,1KW ~300KW可调(可根据用户工艺需求配置功率范围)设备安全性-电力系统的检测与保护-设置真空检测与报警保护功能-冷却循环水系统压力检测和流量检测与报警保护-设置水压检测与报警保护装置-设置水流检测报警装置设备构成真空室构成双层水冷结构,立式圆形、立式D形、立式矩形、卧式矩形,前后开门,真空尺寸,根据工件尺寸和数量确定。热丝热丝材料:钽丝、或钨丝热丝温度:1800℃~ 2500℃ 可调样品台可水冷、可加偏压、可旋转、可升降 ,由调速电机控制,可实现自动升降,(热丝与衬底间距在5 ~ 100mm范围内可调),要求升降平稳,上下波动不大于0.1mm。工作气路(CVD)工作气路根据用户工艺要求配置:下面气体配置是某一用户的配置案例。H2(5000sccm,浓度*100*%)CH4(200sccm,浓度*100*%)B2H6(50sccm,H2浓度99%)Ar(1000sccm,浓度*100*%)真空获得及测量系统控制系统及软件实验型 热丝CVD金刚石设备单面热丝CVD金刚石设备双面热丝CVD金刚石设备生产型热丝CVD金刚石设备可制备金刚石面积-宽650*1200mm可制备金刚石φ 650mm
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  • 1. 产品概述:高真空电子束蒸发薄膜沉积系统是一种先进的物理气相沉积(PVD)技术设备,主要用于在超高真空环境下,通过电子束加热蒸发源材料,使其蒸发并在基片表面沉积形成薄膜。该系统广泛应用于物理学、材料科学、动力与电气工程等域,特别适用于纳米材料、太阳能光伏电池、半导体器件等高精度薄膜的制备。2 设备用途/原理:1. 薄膜制备:该系统能够制备各种金属、半导体、氧化物等材料的薄膜,满足不同材料和器件的制备需求。2. 科学研究:在材料科学研究中,用于探索新材料、新结构的物理和化学性质。3. 工业生产:在半导体、光电子、太阳能电池等行业中,用于大规模生产高精度、高质量的薄膜产品。3 设备特点CMP抛光机具有以下几个显著特点:1 高真空度:系统能够达到高的真空度(≤6.0E-5Pa),有助于减少薄膜制备过程中的杂质和气体干扰,提高薄膜质量。2 电子束加热:采用电子束加热技术,具有热效率高、束流密度大、蒸发速度快等优点,能够蒸发高熔点材料,制备高纯薄膜。3 多源蒸发:系统配备多个蒸发源(如6个40cc坩埚),可同时或分别蒸发多种不同材料,实现多层膜的均匀沉积。4 精确控制:配备高精度的膜厚监控仪和控制系统,能够实现对薄膜厚度、成分和结构的精确控制,确保薄膜的均匀性和一致性。5 灵活定制:样品尺寸及数量可定制,工件架有拱形基片架和行星形基片架等多种选择,可根据用户基片尺寸设计工件架。6 稳定可靠:系统整体设计合理,结构紧凑,具有良好的设备稳定性和可靠性,以及完善的售后及质保服务。综上所述,高真空电子束蒸发薄膜沉积系统以其高真空度、高精度、多源蒸发和灵活定制等特点,在薄膜制备域具有广泛的应用景和重要的科学价值。4 特色参数:本系统配有一套电子枪及电源,可满足在Al,Ni,Ag,Pt,Pd,Mo,Cr和Ti等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要。真空室结构:U形开门真空室尺寸:700x700x900mm限真空度:≤6.6E-5Pa沉积源:6个40cc坩埚样品尺寸,温度:φ4英寸,26片,高300℃占地面积(长x宽x高):约3.2米x3.9米x2.1米电控描述:全自动控制系统:通过工控机和 PLC 实现对整个系统的控制,具有自动和手动控制两种功能,操作过程可在触摸屏上进行,提供配方设置、真空系统、电子枪系统、工艺系统、充气系统、冷却系统等人机操作界面;在工控机上可通过配方式参数设置方式实现对程序工艺过程和设备参数的设置。工艺:片内膜厚均匀性:≤±3%特色参数 :工件架有拱形基片架和行星形基片架:可根据用户基片尺寸设计工件架
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  • 1.产品概述:本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业的软件控制系统。2.设备用途:用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。例如可用于制备各种功能性薄膜,如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;适用于微电子域;在光学域,可用于制备增透膜、低辐射玻璃和透明导电玻璃等;在机械加工行业中,可沉积表面功能膜、超硬膜、自润滑薄膜等,以提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能;还可应用于高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜等的研究。3.真空室:真空室结构:长方形侧开门真空室尺寸:1100X700X350mm限真空度:≤6.0E-5Pa沉积源:磁控靶尺寸:450X80mm、向上溅射,每个真空室配2个靶位样品尺寸,温度:300X400mm;高温度300度占地面积(长x宽x高):约6米×3米×2米(设计待定)电控描述:全自动 工艺:设计待定
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