石墨烯应用

材料简介：三维石墨烯网络是在泡沫金属基底上通过化学气相沉积高温生长石墨烯薄膜层，借助泡沫基底的三维多孔骨架，生长成石墨烯的三维网络。三维石墨烯具有体表面积大，导电性佳，质量轻等特点。 应用领域：1）适用于超级电容、锂离子电池、铝电池、纳电池等电化学能源存储器件。2）适用于化学传感器、气体传感器领域。尺寸：5*10cm

1． 企业介绍泰州巨纳新能源有限公司巨纳集团(Sunano Group)是能源行业的知名品牌。泰州巨纳新能源有限公司(Sunano Energy)是国内最早的从事石墨烯制备、性能检测及应用产品开发的公司之一，注册资本11000万元，有办公用房300多平方米，厂房和洁净室3000多平方米。核心研发团队主要由国内外知名高校博士组成，部分成员来自于2010年诺贝尔物理学奖小组，项目技术处于国际领先地位，在石墨烯领域拥有专利30余项。企业管理团队有丰富的成功创业经验，创新意识强，公司客户遍布全球。 2． 产品简介巨纳石墨烯材料简介石墨烯薄膜材料（国家创新基金产品、江苏省科技支撑计划产品、江苏省高新技术产品）l 铜基单晶/多晶少层石墨烯l 二氧化硅/硅基石墨烯薄膜石墨烯粉体材料（江苏省高新技术产品）l 石墨烯粉体材料l 还原氧化石墨烯粉体高质量二维晶体材料简介二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料。巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合荷兰HQ Graphene为全球客户提供高质量的类石墨烯二维晶体材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。 3． 优惠政策a. 一次性采购满1000元送泰州石墨烯研究检测平台检测现金券50元，多买多送；b. 检测现金券有效期2015年1月1日至2015年12月31日；c. 检测现金券可累积使用

1、企业介绍泰州巨纳新能源有限公司：巨纳集团(Sunano Group)是能源行业的知名品牌。泰州巨纳新能源有限公司(Sunano Energy)是国内最早的从事石墨烯制备、性能检测及应用产品开发的公司之一，注册资本11000万元，有办公用房300多平方米，厂房和洁净室3000多平方米。核心研发团队主要由国内外知名高校博士组成，部分成员来自于2010年诺贝尔物理学奖小组，项目技术处于国际领先地位，在石墨烯领域拥有专利30余项。企业管理团队有丰富的成功创业经验，创新意识强，公司客户遍布全球。2、高质量二维晶体材料简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料。巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合荷兰HQ Graphene为全球客户提供高质量的类石墨烯二维晶体材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。 名称：石墨烯（graphene） 纯度：＞99.995% 尺寸：＜60 μm 属性：金属

内蒙古石墨烯材料研究院以内蒙古石墨烯产业为己任，注重产学研合作。在了解国际发展前沿技术的同时，将调研全国石墨烯技术需求，编制产业发路线图，为政府决策及企业发展提供技术参考。研究院为石墨烯企业提供技术咨询、技术改造、新产品开发等方面的技术服务。改造传统产业、扶持新兴产业，提升内蒙古石墨烯产业的自主创新能力与国际竞争能力。研究院将根据调研情况，凝练行业公共关键技术课题，组织实验室、企业共同进行课题攻关，充分发挥实验室的科研特长和企业的市场灵敏性，开发出具有技术与市场前瞻性的产品。公共技术服务产业人才培养为相关企业在石墨烯制备及应用技术创新方面的研究提供雄厚的人力资源和先进的技术设备。引进团队引进国内外相关领域的高水平团队，吸引、支持相关团队来研究院开展研究活动、创业探索。孵化企业鼓励引进具有高水平科研成果的相关团队创办企业。通过研究院的资金、运营团队和下游实体企业的支持，孵化石墨烯相关初创企业。培育产业初创企业运行一段时间后，积极帮助企业寻找下游用户，开拓市场，并通过各种政策如科技计划支持、税收政策优惠、科技金融贷款、创投公司融资等服务，支持初创企业进一步做大做强，从而达到培育产业的目标。服务模式共建研发中心：以我院科技力量作为技术支撑，共建企业研发中心，为企业服务共同承担国家和地方科技任务：以企业为主体或研究院为主体，共同承担国家创新基金，科技支撑以及地方科技攻关项目委托研究开发：由企业出题，承担全部的研发费用，知识产权归企业所有共同开发：由企业或研究所共同提出科技项目，双方共同投入，知识产权根据双方投入比例和前期技术积累而定技术转让和技术入股：将我院成熟的技术进行转让或以知识产权入股技术咨询和技术服务：以研究院的人力资源作投入，为企业提供技术咨询和技术服务石墨烯制备实验室石墨烯制备及表征石墨烯材料的宏量可控制备石墨烯薄膜大规模CVD制备及转片技术开发石墨烯储能实验室高性能石墨烯基超级电容器产品的开发新型高性能锂离子电池正极材料及高性能负极材料开发与石墨烯负极相匹配的高电压和高容量锂离子电池正极材料开发高性能石墨烯基储能锂离子电池材料的实用化研究石墨烯复合材料实验室石墨烯复合材料的开发石墨烯吸油材料的开发高性能石墨烯复合材料的开发 石墨烯分析测试中心石墨矿的分析测试石墨烯材料的分析检测石墨烯应用产品的检测石墨烯标准研究中心石墨烯材料标准研究石墨烯相关应用标准研究

PELCO® 氧化石墨烯支持膜PELCO氧化石墨烯支持膜是来源于单层和2层PELCO石墨烯支持膜，与石墨烯支持膜不同的是石墨烯做了氧化处理。氧化处理后的膜具有亲水性，更适合生命科学的应用和研究。氧化石墨烯利用率为70%左右。 通过EELS测试，单层氧化石墨烯的膜厚在0.8-1.2nm之间，2层氧化石墨烯的膜厚在1-1.5nm之间。2层氧化石墨烯微栅支持膜 2层石墨烯支持膜的EELS 谱图 PELCO® Graphene Oxide TEM Supports氧化石墨烯支持膜的基本结构和石墨烯支持膜相同：300目的铜网上附有微栅碳膜，碳膜上面附有氧化石墨烯。货号产品描述包装21810-5PELCO® 单层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/521810-10PELCO® 单层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/10 21810-25PELCO® 单层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/25 货号产品描述包装21820-5PELCO® 2层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/521820-10PELCO® 2层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/1021820-25PELCO® 2层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/25

单层石墨烯膜增长方法：CVD合成、质量控制：光学显微镜&拉曼检测，外观（颜色）：透明，透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，基材铜铝箔：厚度：18μm、应用程序：石墨烯研究、多功能的电池、电子、航空航天工业、微机电系统和NEMS，微执行器，导电涂料。

PELCO® 氧化石墨烯支持膜PELCO氧化石墨烯支持膜是来源于单层和2层PELCO石墨烯支持膜，与石墨烯支持膜不同的是石墨烯做了氧化处理。氧化处理后的膜具有亲水性，更适合生命科学的应用和研究。氧化石墨烯利用率为70%左右。 通过EELS测试，单层氧化石墨烯的膜厚在0.8-1.2nm之间，2层氧化石墨烯的膜厚在1-1.5nm之间。2层氧化石墨烯微栅支持膜 2层石墨烯支持膜的EELS 谱图 PELCO® Graphene Oxide TEM Supports氧化石墨烯支持膜的基本结构和石墨烯支持膜相同：300目的铜网上附有微栅碳膜，碳膜上面附有氧化石墨烯。货号产品描述包装21810-5PELCO® 单层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/521810-10PELCO® 单层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/10 21810-25PELCO® 单层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/25 货号产品描述包装21820-5PELCO® 2层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/521820-10PELCO® 2层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/1021820-25PELCO® 2层氧化石墨烯微栅支持膜，300目铜网pkg/25

单层石墨烯膜增长方法：CVD合成、质量控制：光学显微镜&拉曼检测，外观（颜色）：透明，透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，基材铜铝箔：厚度：18μm、应用程序：石墨烯研究、多功能的电池、电子、航空航天工业、微机电系统和NEMS，微执行器，导电涂料。

透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,表面电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，SIO2/SI:干氧化物厚度：300毫微米（+/-5%),类型/搀杂剂：欠压复位、方向：100，电阻率：0.005 Ohm.cm,厚度：525+/-20μm，前端表面：单侧抛光，背面：蚀刻，粒子：10@0.3μm、应用：石墨烯研究、石墨烯晶体管和电子应用、石墨烯光电子学、等离子体和纳米光电，石墨烯探测器（测量光子通量或航天工业）生物传感器，生物电子学，航空工业（电子工业、热界面材料等）微电子机械系统，纳米电磁系统。

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 4片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100 前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

Discover different types of graphite furnace cuvettes suitable for any analytical application using the Thermo Scientific&trade GFS33/GFS35/GFS35Z Graphite Furnace and Autosampler modules类型石墨炉石墨管描述长寿命石墨管适用于（设备）GFS33 或 GFS35 石墨炉Unit SizeEach通过正确选择石墨管改善仪器性能，虽然脊状石墨管是 Thermo Scientific GFS33/GFS35/GFS35Z 石墨炉的标准配置，但附加的特定应用石墨管针对更复杂的应用提高了性能：长寿命石墨管（ELC）拥有更长的使用寿命，且在历经数千次烧灼的过程中具有可重现性能脊状石墨管（有热解涂层和无涂层形式）有助于将难以处理的样品保持在极佳温度以实现高效雾化 Omega 石墨管（带集成平台）为含复杂基质的样品提供无干扰的条件（通常与基质改性结合使用）

供货周期现货规格5只/盒货号B3000641应用领域医疗卫生,环保,食品,化工,石油主要用途样品加热PE珀金埃尔默原子吸收石墨管B3000641 详细介绍 解决方案 当今的分析师期望他们的石墨炉原子吸收光谱仪能表现出异乎寻常的分析性能。其在灵敏度( 特征性质量)、准确度和度方面的性能必须是可重现的。作为石墨炉的核心，石墨管在使某项分析达到总体稳定性方面扮演着至关重要的角色。为了确保分析条件在不同原子化周期或不同石墨管之间保持稳定，所有石墨部件 — 接触柱、石墨管和平台 — 必须由仪器制造商和石墨生产商进行严格的质量控制。珀金埃尔默的横向加热石墨管包括一个集成平台。珀金埃尔默的横向加热石墨管通过横向加热实现的特别均匀的温度分布可明显减少或消除样品基质组分的冷凝现象和“记忆"效应，并提高难熔元素的雾化效率。

Graphene on Lacey Carbon基于微栅的石墨烯支持膜这种石墨烯支持膜是基于300目铜网上的微栅膜上。我们可以提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯膜，膜覆盖与整个基片上。由于存在不可避免的折叠，造成膜的有效率为75% 。因其独特的性能，石墨烯支持膜可提供更好的导电性，并且比一般的支持膜更薄。虽然为晶体结构的支持膜，但它对产生信号的影响比较小。这使得单层和2层石墨烯支持膜非常适合于高分辨率成像、纳米颗粒成像和弱对比性材料和界面成像。 基于微栅的单层石墨烯在低倍TEM中的图像。Marker bar = 500nm单层石墨烯在高倍TEM中的图像。 Marker bar = 5nm单层石墨烯的EELS谱图单层石墨烯的典型Raman谱图石墨烯的性能 单层石墨烯膜的电阻为 600Ω/sq.单层石墨烯的厚度大约为0.35nm, 透明性为 96.4%.2层石墨烯的厚度大约为0.7nm, 透明性为 92.7%.3-5层石墨烯的厚度介于 1.0 - 1.7nm, 透明性介于 90.4 - 85.8%.6-8层石墨烯的厚度介于 2.1 - 2.8nm, 透明性介于83.2 - 78.5%.PELCO® 的石墨烯面内系数为 0.9TPa，而Scotch Tape™ 的石墨烯面内系数为.0 TPa。石墨烯支持膜的衍射图对比 (a) TEM在80 kV 下，(b) UED在 6 kV下. (c)是在 (a)和(b)衍射图中对应的高亮区域曲线性能. Ref: Badali, et. al. Struct. Dyn. 3, 034302 (2016).货号产品描述包装21710-5PELCO® 基于微栅的单层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/521710-10PELCO® 基于微栅的单层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/1021710-25PELCO® 基于微栅的单层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/25 货号产品描述包装21720-5PELCO® 基于微栅的2层石墨烯支持膜, 300铜网 pkg/521720-10PELCO® 基于微栅的2层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/1021720-25PELCO® 基于微栅的2层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/25 货号产品描述包装21740-5PELCO® 基于微栅的3-5层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/521740-10PELCO® 基于微栅的3-5层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/1021740-25PELCO® 基于微栅的3-5层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/25 货号产品描述包装21770-5PELCO® 基于微栅的6-8层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/521770-10PELCO® 基于微栅的6-8层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/1021770-25PELCO® 基于微栅的6-8层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/25

AAS石墨管平台HGA/THGA 石墨接触锥 Perkinelmer石墨管根据最高质量规格制造生产优质石墨元件需要严格的质量控制。为了确保优质和一致性，开发出特定等级的高密度基础石墨材料以供PerkinElmer专用。 原料的选择和仔细控制至关重要。石墨材料的成份和微观结构决定管子的特定耐抗性及其热特性。只有优质的正品PerkinElmer石墨元件才能确保您的石墨炉系统获得最佳的性能，保证您的分析质量。热解涂层石墨管：（不包括平台）5-包B013711120-包 B300125450-包 B0109322100-包 N3110146石墨锥 该HGA石墨炉石墨接触锥通过精密的设计可以使可能会影响分析性能的各种电气接触影响降至最低。石墨触点的形状经过特别设计，以便完全嵌入石墨管中。这样，石墨管就位于一个确定的惰性环境中，可确保一致的加热条件和管的长寿命。热解涂层石墨管：包括接触锥、屏蔽环1套 B01284955套 B3130086包括石墨锥1套 B01168235套 B0180361L’vov平台 L’vov平台是插入石墨管中的一小块固体热解石墨板。其中部有一个细长的、凹坑，可容纳最多达50μL的溶液。该L’vov平台的功能是将样品与管壁隔开，以便通过间接加热使样品出现更多的雾化再现性。该平台的加热基本上是通过管壁的辐射进行。5-包B013711210-包 B012109120-包 B300125650-包 B0109324100-包 N3110145石墨炉AA用基体改进剂通过使用我们优质的基体改进剂， PerkinElmer可为您提供最佳的性能和最低的检测限。PerkinElmer基体改进剂使分析物获得更强的热稳定性，从而允许使用更高的热解温度，以减少背景吸收并消除潜在干扰。调节剂 浓度 体积 零件编号 Mg（NO3）2 1%Mg（硝酸盐） 2,000 B0510397Pd 1% Pd（硝酸盐） 1,000 B3001566NH4H2PO4 10%NH4H2PO4 100 B3001567带有平台的热解涂层石墨管由于具有明显高出的平台加热率，故可为挥发性和非挥发性元素提供STPF条件。其适用于所有元素与手工插入的单独平台相比，提供了额外的便利措施 对于诸如浓酸之类的许多腐蚀性样品基质，其可提供更长的寿命5-包B300126220-包 B300126440-包 N93006515-包B010519710-包 B013565320-包 B300034250-包 B00915045-包B013711320-包 B300125350-包 B0070699 只有PerkinElmer可确保整支石墨管横向加热标准THGA石墨管 如今的分析师期待由石墨炉原子吸收分光计得到优异的分析性能，从灵敏度（特征质量）、，准确度和精度等方面讲，这种性能必须稳定且有好的重现性。 石墨管，作为石墨炉的心脏，在一次分析的总体稳定性方面起着至关重要的作用。为了确保从一个雾化周期到另一个雾化周期中分析条件的稳定，所有石墨零件——石墨锥、石墨管和平台——必须收到仪器制造商和石墨制造商的严格质量控制。PerkinElmer石墨原件为保证产品质量设置了严格的行业标准。 PerkinElmer独一无二的横向加热平台管技术可获得的均匀的温度分布，可明显减少或消除样品基本元素的冷凝现象和“记忆”效应，并可提高难挥发元素的原子化效率。5-包B300064120-包 B0504033100-包 N3110147带有端盖的THGA石墨管 如果想提高元素的特征质量尤其是挥发性元素，如Ag、As、Cd、Co、Cr、Cu、Pb、Se、Tl，则建议使用带有端盖的THGA石墨管。备注：不建议将带有端盖的THGA石墨管用于V或Ba之类的难挥发元素。可提高挥发性元素的检出限 进样孔有所增大，可更快地灰化复杂基质5-包B300065320-包B3000655超净THGA石墨管 如果想获得最低的检测限，那么残留的污染物水平一定要尽可能的低，为了满足大多数要求苛刻的分析，PerkinElmer专门为您提供UltraCleanTHGA石墨管，使用了先进的高温气相清洁程序，大大降低残留的污染物水平。在半导体超净试剂、环境、临床或食品检测，需要检测极低含量的Na、Ca、Fe、Cr、Ni等特殊应用时，UltraClean石墨管就可提供无与伦比的分析优势。5-包B314036120-包B3140362B3001262热解平台石墨管热解涂层石墨管GROOVEDPYROCOATED GRAPHITE TUBES 盒/5 B0137111热解涂层石墨管GROOVEDPYROCOATEDTUBES 盒/20 B3001254热解涂层石墨管 PYROCOATEDTUBESGROOVED 盒/50 B0109322 该HGA石墨炉石墨接触锥通过精密的设计可以使可能会影响分析性能的各种电气接触影响降至最低。石墨触点的形状经过特别的设计，以便完全嵌入石墨管中。这样，石墨管就位于一个确定的惰性环境中，可确保一致的加热条件和管的长寿命。热解涂层石墨锥 GRAPHITECONTACTE F.HG1LONG/S 1套 B0128495热解涂层石墨锥 GRAPHITECONTACTE F.HG1 LONG/S 5套 B3130086石墨炉AA基体改进剂Mg（NO3）2 MODIFIER 1% MAGNES.COMPLETE B0190634Pd MODIFIER 1% PALLAD. COMPLETE B0190635NH4H2PO4 MODIFIER-NH4H2PO4MATRIX N9303445 石墨管，作为石墨炉的心脏，在一次分析的总体稳定性方面起着至关重要的作用，为了确保从一个雾化周期到另一个雾化周期中分析条件的稳定，所有石墨零件——石墨锥，石墨管和平台——必须受到仪器制造商和石墨制造商的严格质量控制。 标准THGA石墨管 StandardTHGA GraphiteTubes 盒/5 B3000641标准THGA石墨管 StandardTHGA GraphiteTubes 盒/20 B0504033带端盖的THGA石墨管 StdTHGA Graphite Tubes w/end cap - 盒/5 B3000653带端盖的THGA石墨管 StdTHGA Graphite Tubes w/End Cap 盒/20 B3000655 THGA石墨锥 THGACONTACT CYLINDERS -1PAIR B0504035THGA石墨锥 THGACONTACTCYLINDERS PK/5 B0504036

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 4片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 8片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 8片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

Graphene on Lacey Carbon基于微栅的石墨烯支持膜这种石墨烯支持膜是基于300目铜网上的微栅膜上。我们可以提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯膜，膜覆盖与整个基片上。由于存在不可避免的折叠，造成膜的有效率为75% 。因其独特的性能，石墨烯支持膜可提供更好的导电性，并且比一般的支持膜更薄。虽然为晶体结构的支持膜，但它对产生信号的影响比较小。这使得单层和2层石墨烯支持膜非常适合于高分辨率成像、纳米颗粒成像和弱对比性材料和界面成像。 基于微栅的单层石墨烯在低倍TEM中的图像。Marker bar = 500nm单层石墨烯在高倍TEM中的图像。 Marker bar = 5nm单层石墨烯的EELS谱图单层石墨烯的典型Raman谱图石墨烯的性能 单层石墨烯膜的电阻为 600Ω/sq.单层石墨烯的厚度大约为0.35nm, 透明性为 96.4%.2层石墨烯的厚度大约为0.7nm, 透明性为 92.7%.3-5层石墨烯的厚度介于 1.0 - 1.7nm, 透明性介于 90.4 - 85.8%.6-8层石墨烯的厚度介于 2.1 - 2.8nm, 透明性介于83.2 - 78.5%.PELCO® 的石墨烯面内系数为 0.9TPa，而Scotch Tape™ 的石墨烯面内系数为.0 TPa。石墨烯支持膜的衍射图对比 (a) TEM在80 kV 下，(b) UED在 6 kV下. (c)是在 (a)和(b)衍射图中对应的高亮区域曲线性能. Ref: Badali, et. al. Struct. Dyn. 3, 034302 (2016).货号产品描述包装21710-5PELCO® 基于微栅的单层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/521710-10PELCO® 基于微栅的单层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/1021710-25PELCO® 基于微栅的单层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/25 货号产品描述包装21720-5PELCO® 基于微栅的2层石墨烯支持膜, 300铜网 pkg/521720-10PELCO® 基于微栅的2层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/1021720-25PELCO® 基于微栅的2层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/25 货号产品描述包装21740-5PELCO® 基于微栅的3-5层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/521740-10PELCO® 基于微栅的3-5层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/1021740-25PELCO® 基于微栅的3-5层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/25 货号产品描述包装21770-5PELCO® 基于微栅的6-8层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/521770-10PELCO® 基于微栅的6-8层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/1021770-25PELCO® 基于微栅的6-8层石墨烯支持膜, 300铜网pkg/25

单层石墨烯膜增长方法：CVD合成、质量控制：光学显微镜&拉曼检测，外观（颜色）：透明，透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，基材铜铝箔：厚度：18μm、应用程序：石墨烯研究、多功能的电池、电子、航空航天工业、微机电系统和NEMS，微执行器，导电涂料。

透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,表面电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，正电子发射断层显像板厚度：175μm，应用：有机太阳能电池、氧化铟锡更换、石墨烯研究柔性显示器。

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。氟化石墨烯Graphene Fluoride

透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,表面电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，石英片厚度：500μm，平整度：弓：20μm，弯：30μm，粗糙度：6埃（在圆滑边），圆滑：双面，应用：太阳能电池、触摸显示器。光电探测器、聚光设备。

增长方法：CVD合成、转移方法：清洁迁移取样法、质量控制：光学显微镜、拉曼光谱、扫描电镜和投射电镜批签，外观（颜色）：透明，透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,表面电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，正电子发射断层显像板厚度：175μm，应用：有机太阳能电池、有机发光二极管、正电子发射断层显像板、氧化铟锡更换、石墨烯研究柔性显示器。

本产品为表面镀有石墨烯薄膜的单晶铜线，石墨烯特有的性质可以增强铜线本身的导电性，支持定制。

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。羧基石墨烯Carboxyl Graphene

北京龙天韬略科技有限公司,是致力于发展分析测试仪器配件事业的高新科技企业实体，是集研发、生产、销售、服务于一体的分析仪器配件耗材专业厂家。公司拥有专业人才队伍、精湛的制作工艺技术和先进的生产设备，经过长期的不断创新，积累了丰富的生产制作经验，强化了质量检测手段，配备了可靠的检测仪器，建立了完善的技术研发体系、材料采购体系、生产制作体系、质量检测体系、售后服务体系，充分保证产品质量，产品各项性能指标达到了同行业先进水平。石墨炉原子吸收光谱法是目前测定多种物料中痕量及超痕量无机成分的有效手段，已广泛用于国民经济中相关行业。石墨原子化器是将样品中的离子或分子变成待测元素基态原子的核心部件，其质量直接关系到原子化效率，关系到定量分析的准确度，积多年实验研究成果，为获得优良的特定的耐抗性和热特性而采用特殊的高品质石墨基础材料经过特殊工艺研制而成的LT系列石墨原子化器，具有灵敏度高、精度好、重现性好、使用寿命长、性价比高的特点，其各项测试性能指标均能达到国内外水平。专用的原料、研磨、充分的混合、适当的压制、正确的热处理、全过程的净化控制、机械加工、特殊的涂覆技术、严格的性能检测保证了龙天LTT系列石墨原子化器的品质。专业生产国产原子吸收光谱仪AAS/原子吸收分光光度计AAS各型号石墨管， 仪器品牌如下： 北分瑞利石墨管、普析通用石墨管、东西分析石墨管、浩天晖石墨管、北京华洋石墨管、科创海光石墨管、博晖创新石墨管、北京美诚石墨管、北京中和测通石墨管、恒通瑞利石墨管、上海天美石墨管、上海精科（上分厂）石墨管、上海光谱石墨管、上海仪电石墨管、上海森谱石墨管、南京科捷石墨管、浙江福立石墨管、江苏天瑞石墨管、安徽皖仪石墨管、武汉天虹石墨管、辽宁分析石墨管、沈阳华光石墨管、等国内原子吸收光谱仪用石墨管。 专业生产进口原子吸收光谱仪AAS/原子吸收分光光度计AAS各型号替代石墨管，仪器品牌如下： 瓦里安Varian石墨管、安捷伦Agilent石墨管、Z-2000石墨管、热电Thermo石墨管、岛津Shimadzu石墨管、珀金埃尔默PerkinElmer石墨管、加拿大欧罗拉Aurora、德国耶拿Analytik Jena石墨管, 澳大利亚GBC石墨管、美国惠普HP石墨管、日本分光Jasco石墨管等的原装进口石墨管。原子吸收石墨管型号说明：根据不同仪器厂家的不同情况，匹配有横向加热石墨管、纵向加热石墨管；普通石墨管、热解石墨管；标准石墨管、涂层石墨管；直筒石墨管、平台石墨管、凹台石墨管、杯型石墨管等不同型号的产品，以下为常见产品型号（非仪器厂家标准通用型号产品可来图来样定制）：★LTT-BZ型：纵向加热标准石墨管，Uncoated，高密管★LTT-TC型：纵向加热涂层石墨管,Coated，热解涂层★LTT-PT型；纵向加热平台石墨管, Platform，热解涂层 ★LTT-HT型：横向加热涂层石墨管, Coated，热解涂层★LTT-HP型：横向加热平台石墨管, Platform，热解涂层★LTT-HG型；横向加热高灵敏度石墨管，Platform,带端盖★LTT-HPO型：横向加热平台石墨管, Platform，热解涂层★LTT-HGO型；横向加热高灵敏度石墨管，带端盖★LTC-ZX型：纵向加热石墨锥/石墨电极★LTC-HX型：横向加热石墨锥/石墨电极

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。氮掺杂石墨烯Nitrogen Doped Graphene

仪器简介 DR系列石墨消解器采用国际先进技术，一体化设计，具有快速、高效、节能、方便、样品处理量大等优点，并且消解孔的尺寸可根据客户要求定做，目前已成功用于环保、化工、食品、医药、生化等行业的样品前处理，同时可用于微波消解的预处理和赶酸处理，是原子吸收、原子荧光、ICP-AES等分析仪器的理想配套产品。 仪器特性☆ 加热均匀 加热体选用导热性能优越的耐高温石墨，能保证各个消解孔间的温度均匀，样品间温差小于±2.0℃；同时，消解多个样品时，能保证各个样品拥有相同的反应温度和条件，适宜进行批量处理，克服了传统电热板的种种缺陷。☆ 耐腐蚀 石墨表面涂有特氟隆的涂层，易清洁且耐腐蚀，可以在强酸强碱等腐蚀环境中放心使用。☆ 控制精确 PID温控系统，操作简便，性能优良，经久耐用。控温精度高，可达±1.0℃，可调节加热速率，实现程序升温并控制加热保持时间，完成加热程序后自动停止加热。☆ 高效 可同时进行多达54个样品的前处理，大大提高工作效率。☆ 应用范围广泛 可用于实验室常规加热反应；可精确控制样品消解；可用于微波消解后的样品快速赶酸，且直接定容，不用转移。技术指标型号DR-15DR-24DR-54加热材料特氟隆镀层石墨最大功率1200 W1200 W3000 W控制方式PID数显PID数显PID数显工步数30段30段30段最高温度240 ℃240 ℃240 ℃控温精度±1.0 ℃±1.0 ℃±1.0 ℃样品处理量15个×100 ml24个×50 ml54个×50 ml消解孔径 （直径×深度）Φ42×40 mmΦ26×40 mmΦ23×40 mm电源要求AC 220V/50Hz 10AAC 220V/50Hz 10AAC 220V/50Hz 16A设备尺寸470×350×270mm470×350×270mm670×460×270mm

三维石墨烯泡沫（1*1厘米）-三维独立石墨烯泡沫 3D Graphene Foam-3D Freestanding Graphene Foam尺寸：1*1厘米热释放带温度：120 °C

石墨烯支持膜（Graphene Support Films for TEM）石墨烯，一种只有一个原子厚的二维碳膜，这种新型材料化学性能稳定，很难与其他物质结合，石墨烯是目前发现的硬度最大的物质，有极好的导电和导热性能，这些性能使得石墨烯极适于制作电镜载网支持膜，为TEM观测纳米粒子提供了极大的方便，对进行纳米粒子界面研究者非常有帮助，尤其是纳米颗粒较小且附着力较差时可以使用这种特制的电镜载网。目前提供有孔碳膜覆膜、2000目铜网覆膜、有孔氮化硅窗口（2.5μm孔）覆膜以及二氧化硅薄膜（基底是硅片）覆膜。常规提供的均有四种厚度石墨烯膜：1. 单层石墨烯，厚度大约0.35nm2. 2层石墨烯，厚度大爷u.7nm3. 3-5层石墨烯，1.0-1.7nm4. 6-8层石墨烯，2.1-2.8nm 石墨烯支持膜至少覆盖整个载网面积的75%的区域，一般挑选无重叠和褶皱的区域来放置样品。石墨烯支持膜超薄（远远薄于碳膜）、导电，本身呈晶体结构，信号的噪音相对很低。 货号产品描述规格1GLC300Cu-51 layer，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu5个1GLC300Cu-101 layer，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu10个1GLC300Cu-251 layer，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu25个2GLC300Cu-52 layers，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu5个2GLC300Cu-102 layers，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu10个2GLC300Cu-252 layers，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu25个3GLC300Cu-53-5 layers，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu5个3GLC300Cu-103-5 layers，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu10个3GLC300Cu-253-5 layers，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu25个6GLC300Cu-56-8 layers，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu5个6GLC300Cu-106-8 layers，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu10个6GLC300Cu-256-8 layers，Graphene on Lacey Carbon, 300 Cu25个1GUF2000Cu-51 layer，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu5个1GUF2000Cu-101 layer，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu10个1GUF2000Cu-251 layer，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu25个2GUF2000Cu-52 layers，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu5个2GUF2000Cu-102 layers，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu10个2GUF2000Cu-252 layers，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu25个3GUF2000Cu-53-5 layers，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu5个3GUF2000Cu-103-5 layers，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu10个3GUF2000Cu-253-5 layers，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu25个6GUF2000Cu-56-8 layers，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu5个6GUF2000Cu-106-8 layers，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu10个6GUF2000Cu-256-8 layers，Graphene on Ultra-Fine, 2000 Cu25个1GSiN2.5um-51 layer，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm5个1GSiN2.5um-101 layer，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm10个1GSiN2.5um-251 layer，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm25个2GSiN2.5um-52 layers，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm5个2GSiN2.5um-102 layers，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm10个2GSiN2.5um-252 layers，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm25个3GSiN2.5um-53-5 layers，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm5个3GSiN2.5um-103-5 layers，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm10个3GSiN2.5um-253-5 layers，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm25个6GSiN2.5um-56-8 layers，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm5个6GSiN2.5um-106-8 layers，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm10个6GSiN2.5um-256-8 layers，Graphene on Silicon Nitride, 2.5 μm25个1GUFSiO2-51 layer，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO25个1GUFSiO2-101 layer，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO210个1GUFSiO2-251 layer，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO225个2GUFSiO2-52 layers，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO25个2GUFSiO2-102 layers，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO210个2GUFSiO2-252 layers，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO225个3GUFSiO2-53-5 layers，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO25个3GUFSiO2-103-5 layers，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO210个3GUFSiO2-253-5 layers，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO225个6GUFSiO2-56-8 layers，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO25个6GUFSiO2-106-8 layers，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO210个6GUFSiO2-256-8 layers，Graphene on Ultra-flat Thermal SiO225个