纳米相关会

即使作为入门级纳米粒度及Zeta电位分析仪，Zetasizer Lab 的功能也不容小觑。 Zetasizer Lab 纳米粒度仪采用经典动态光散射(90°)，包含"自适应相关"算法、M3-PALS 和恒流 Zeta 模式。 Zetasizer Lab 纳米粒度分析仪还随附 ZS Xplorer，这是一款易于使用的分析软件，提供有关数据质量的实时反馈，以及如何改进结果的指导。特点和优点Zetasizer Lab 纳米粒度仪是一款出色的入门级系统，提供各种功能，其中包括：动态光散射 (DLS) ：用于测量从0.3 nm 到 15 μm 的颗粒和分子的粒度及粒度分布 （使用低容量可抛弃粒度样品池和扩展粒度分析可以测试粒度大于10 μm ；取决于样品和样品制备）电泳光散射 (ELS) ：测量颗粒和分子的Zeta电位，以显示样品稳定性和/或团聚倾向性扩展粒度范围分析功能可针对超过 1 μm 的颗粒粒度提供更高的准确性，并针对超过 10 μm 的颗粒粒度提供指示性结果（使用 ZSU1002 低容量可抛弃粒度测量池）具有恒流模式的M3-PALS可以在高导电介质中测量Zeta电位和电泳迁移率 以样品为中心的ZS Xplorer软件可以实现灵活的指导式使用，并可轻松构建复杂的模型 “自适应相关”算法能生成可靠且可重复的数据，同时计算速度超过以往的两倍，可在减少样品制备的情况下更快速地执行更多可重现的粒度测量，实现更具代表性的样品视图通过深度学习实现的数据质量系统可以评估粒度数据质量问题，并针对如何改进结果提供明确的建议使用静态光散射（90°）测量分子量软件符合 21 CFR Part 11 法规支持使用低容量可抛弃毛细管样品池对低至 3 μL 的样品进行粒度测量选择 Red Label 型号可用于测定更具挑战性的样品，如蛋白质、表面活性剂溶液和低固含量样品如果您的需求发生改变，可现场升级到Zetasizer Pro 或 Zetasizer Ultra型号主要应用Zetasizer Lab 应用广泛，包括：学术界 Zetasizer纳米粒度分析仪是全球众多学术实验室的重要分析工具，广泛用于需要分析颗粒或分子大小以及 Zeta 电位的应用领域。 Zetasizer应用领域广泛，被科学文献引用的次数达上万次，成为许多科研机构的核心设备。生命科学和生物制药 在生物制药应用中，温度或pH值变化、 搅拌、剪切和时间都会影响生物分子的 稳定性，造成变性和聚集、功能丧失， 还可能会产生不良免疫反应。Zetasizer纳米粒度仪提供快速的纯度和稳定性筛选，并可协助配方开发， 从而优化流程和产品，消除风险。食品和饮料 Zetasizer纳米粒度分析仪用于分析颗粒粒度和Zeta电位，以改善食品、饮料和调味料的外观及味道，并优化分散和乳化稳定性，从而延长产品保存期限，提高产品性能。纳米材料 Zetasizer纳米粒度仪所测量的纳米颗粒粒度分布、分散特性、稳定性和团聚倾向是新纳米材料设计的关键。 此类材料的超大表面积可能会带来新的物理和化学性质，比如更高的催化活性和溶解度，或者出乎意料的光学或毒理学性质。油漆、油墨及涂料 油漆、油墨及涂料配方必须稳定，以使它们在一段时间内不会发生变化或团聚。 Zetasizer纳米粒度分析仪测量的颗粒粒度和Zeta电位在确定产品特性（例如分散性、颜色、强度、光洁度、耐久性和保存限期）方面起着至关重要的作用。药物和给药粒度和Zeta电位检测有助于确保安全有效的治疗。Zetasizer纳米粒度仪用于表征分散体系、乳化液和乳膏的稳定性和质量，从而减少配方时间，加快新产品上市。消费品改良多种消费品时，需要了解和控制胶体参数，引导颗粒间的相互作用，并改善产品的稳定性和性能。其中一个例子是胶束和乳液的粒度和电荷对化妆品和洗涤剂性能的影响。Zetasizer纳米粒度分析仪可表征表面活性剂的胶束大小、电荷和临界胶束浓度， 并测量乳液的液滴大小和稳定性。

BOS-NG光相关纳米粒度仪全新BOS-NG是我公司zui新推出的基于动态光散射原理的纳米粒度仪。它采用高速光子相关器和专业的高性能光电倍增管作为核心器件，具有快速、高分辨率、重复及准确等特点，是纳米颗粒粒度测定的shou选产品，新NG进行了全新设计。主要性能特点：先进的测试原理：本仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，根据颗粒在液体中的布朗运动的速度测定颗粒大小，小颗粒布朗运动速度快，大颗粒布朗运动速度慢。当激光束照射在运动的颗粒上时，某一角度（本仪器采用90度）的散射光随时间发生动态变化，变化的快慢与颗粒在液体中的布朗运动的速度有关，采用光子相关光谱法对动态散射光谱进行统计及相关运算分析，并根据Stokes-Einstein方程计算其颗粒大小。高灵敏度与信噪比：采用具有低暗计数、高灵敏度的HAMAMATSU专业级高性能光电倍增管（PMT）作为探测器，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比，从而保证了测试结果的高准确度和高分辨率；超强的运算功能：使用PCS技术测定纳米级颗粒大小，必须能够分辨纳秒级信号起伏。本仪器的核心部件采用专用集成电路ASIC研制的高速光子相关器，具有识别6ns的极高分辨能力和极高的信号处理速度，可快速实时的采集光子数并计算相关运算，为测试准确度奠定基础；稳定的光路系统：采用恒温控制的大功率半导体激光和光纤组合搭建而成的光子相关光谱探测系统，使其不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力和稳定性，保证测试结果重复稳定；高精度温控系统：样品池温控系统和激光器温控系统精度高达±0.1℃，使被测样品和激光器光源在整个测试过程中都处于恒温状态，避免温度变化对测试结果的影响，确保测试准确性和重复性；超强功能的分析软件：分析软件中反演算法采用国际标准推荐的累计量法以及目前比较通用的非负最小二乘法（NNLS）和Contin等多种算法，其测试结果与国际权威的同类产品具有很好的一致性；测试精准并稳定：高性能的硬件和国际标准化的反演算法的完美结合，造就了BOS-NG测试结果的精准与重复，其测试准确度和重复性等指标均高于国际标准要求。全新散热系统：新NG进行了双气流设计，热气流直接排出仪器外壳，倍增管、激光器、相关器等重要部件不再受热气流的影响，测量数据更加准确、更稳定，同时大大延长了这些重要部件的使用寿命。自动感应滑门：新NG加装了比色皿门自动开启、闭合功能，当手靠近仪器时滑门会自动打开方便测试人员拿取比色皿，当手远离仪器时滑门会自动闭合。此款纳米粒度仪已经达到国外纳米粒度仪的测试水平！ BOS-NG光相关纳米粒度仪技术参数及详细配置规格型号BOS-NG执行标准GB/T 29022-2012/ISO 22412：2008测试范围1-10000nm(与样品有关)浓度范围0.1mg/L-100mg/L准确度误差1%（国家标准样品平均粒径）重复性误差1%（国家标准样品平均粒径）激光主激光器：λ=532nm，半导体激光器（温控保护）探测器光电倍增管（PMT）散射角90°样品池10mm*10mm , 4ml（带温控保护）温度范围5-90℃（精度±0.1℃）测试速度1Min/次（不含样品分散时间） 光子相关器 物理通道：512，等效通道：10000，基线通道：8 采样及延迟时间：1us~200us动态可调 最小分辨能力：6ns

BOS-NGH光相关纳米粒度仪新BOS-NGH是我公司zui新推出的基于动态光散射原理的纳米粒度仪。它采用高速数字相关器和专业的高性能光电倍增管作为核心器件，具有快速、高分辨率、重复及准确等特点，是纳米颗粒粒度测定的shou选产品。主要性能特点：xian进的测试原理：本仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，根据颗粒在液体中的布朗运动的速度测定颗粒大小。小颗粒布朗运动速度快，大颗粒布朗运动速度慢，激光照射这些颗粒，不同大小的颗粒将使散射光发生快慢不同的涨落起伏。光子相关光谱法就根据特定方向的光子涨落起伏分析其颗粒大小。因此本仪器具有原理xian进、精度极高的特点，从而保证了测试结果的真实性和有效性；是纳米激颗粒粒度测定的shou选仪器。高灵敏度与信噪比：本仪器的探测器采用专业级高性能光电倍增管（PMT），对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比，从而保证了测试结果的准确度；超强的运算功能：使用PCS技术测定纳米级颗粒大小，必须能够分辨纳秒级信号起伏。本仪器的核心部件采用专用集成电路ASIC研制的高速光子相关器，具有识别6ns的极高分辨能力和极高的信号处理速度，可快速实时的采集光子数并计算相关运算，我测试尊确定奠定基础。双波长激光器：du家采用双波长（λ=454nm、λ=532nm）激光器搭建而成的光路系统，相关谱探测系统不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力，从而保证了测试的稳定性；某些样品具有吸光属性，传统单一波长激光器对这些样品无法检测，我司zui新NKT-N9H搭载的双波长激光器能有效检测此类样品。高精度温控系统：样品池温控系统和激光器温控系统精度高达±0.1℃，使被测样品和激光器光源在整个测试过程中都处于恒温状态，避免温度变化对不测试结果的影响，确保测试的准确性和重复性；超强功能的分析软件：分析软件中反演算法采用国际标准推荐的累计量法以及目前比较通用的非负最小二乘法（NNLS）和Contin等多种算法，其测试结果与国际权威的同类产品具有很好的一致性；测试精准并稳定：高性能的硬件和国际标准化的反演算法的完美结合，造就了Nano90测试结果的精准与重复，其测试准确度和重复性等指标均高于国际标准要求。全新散热系统：新NG进行了双气流设计，热气流直接排出仪器外壳，倍增管、激光器、相关器等重要部件不再受热气流的影响，测量数据更加准确、更稳定，同时大大延长了这些重要部件的使用寿命。自动感应滑门：新NG加装了比色皿门自动开启、闭合功能，当手靠近仪器时滑门会自动打开方便测试人员拿取比色皿，当手远离仪器时滑门会自动闭合。此款纳米粒度仪已经达到国外纳米粒度仪的测试水平！ BOS-NG光相关纳米粒度仪技术参数及详细配置规格型号BOS-NGH执行标准GB/T 29022-2012/ISO 22412：2008测试范围1-10000nm(与样品有关)浓度范围0.1mg/L-100mg/L准确度误差1%（国家标准样品平均粒径）重复性误差1%（国家标准样品平均粒径）激光λ=405nm，λ=532nm（du家双波长激光器）探测器光电倍增管（PMT）散射角90°样品池10mm*10mm , 4ml（带温控保护）温度范围8-45℃（温度精确到0.1℃）测试速度1Min/次（不含样品分散时间）

品牌：久滨型号：JB-N9名称：纳米粒度仪 一、产品概述： JB-N9是我公司推出的基于动态光散射原理的纳米粒度仪。它采用高速数字相关器和专业的高性能光电倍增管作为核心器件，具有快速、高分辨率、重复及准确等特点，是纳米颗粒粒度测定产品。　　控制系统原理图如下：光子相关纳米粒度仪基本原理图二、原理： 本仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，根据颗粒在液体中的布朗运动的速度测定颗粒大小。小颗粒布朗运动速度快，大颗粒布朗运动速度慢，激光照射这些颗粒，不同大小的颗粒将使散射光发生快慢不同的涨落起伏。光子相关光谱法就根据特定方向的光子涨落起伏分析其颗粒大小。因此本仪器具有原理先进、精度极高的特点，从而保证了测试结果的真实性和有效性；是纳米激颗粒粒度测定的仪器。　　此款纳米粒度仪已经达到国外纳米粒度仪的测试水平！三、主要技术参数：规格型号JB-N9执行标准GB/T 29022-2012/ISO 22412：2008测试范围1-10000nm(与样品有关)浓度范围0.1mg/L-100mg/L准确度误差1%（国家标准样品平均粒径）重复性误差1%（国家标准样品平均粒径）激光λ=532nm，LD泵浦激光器（独有带温控保护）探测器HAMAMATSU光电倍增管（PMT），使用单模保偏光纤散射角90°数字相关器ASIC研制的高速光子相关器样品池10mm*10mm , 4ml（带温控保护）数据处理拟合累积分析法和改进正规化算法，可给出平均粒径及粒度分布曲线软件功能一键式测量，自动优化测量参数，轻松生成测试报表输出项目平均粒径、多分散系数、粒度分布曲线、粒度分布表等温度范围8-45℃（温度精确到0.1℃）测试速度1Min/次（不含样品分散时间）仪器体积390mm×255mm×240mm电源AC100～260V, 50/60Hz, *大功率80W使用环境温度：15～40℃，湿度20～70%。无冷凝

JH-NKT-N9是我公司最新推出的基于动态光散射原理的纳米粒度仪。它采用高速光子相关器和专业的高性能光电倍增管作为核心器件，具有快速、高分辨率、重复及准确等特点，是纳米颗粒粒度测定的首选产品。光子相关纳米粒度仪基本原理图主要性能特点： 先进的测试原理：本仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，根据颗粒在液体中的布朗运动的速度测定颗粒大小。小颗粒布朗运动速度快，大颗粒布朗运动速度慢，激光照射这些颗粒，不同大小的颗粒将使散射光发生快慢不同的涨落起伏。光子相关光谱法就根据特定方向的光子涨落起伏分析其颗粒大小。因此本仪器具有原理先进、精度极高的特点，从而保证了测试结果的真实性和有效性；是纳米激颗粒粒度测定的首选仪器。 高灵敏度与信噪比：本仪器的探测器采用专业级高性能光电倍增管（PMT），对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比，从而保证了测试结果的准确度；极高的分辨能力和超强的运算功能：使用PCS技术测定纳米级颗粒大小，必须能够分辨纳秒级信号起伏。本仪器的核心部件采用专用集成电路ASIC研制的高速光子相关器，具有识别6ns的极高分辨能力和极高的信号处理速度，可快速实时的采集光子数并计算相关运算，我测试尊确定奠定基础。稳定的光路系统：采用短波长LD泵浦激光光源和光纤技术搭建而成的光路系统，使光子相关谱探测系统不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力，从而保证了测试的稳定性。高精度温控系统：样品池温控系统和激光器温控系统精度高达±0.1℃，使被测样品和激光器光源在整个测试过程中都处于恒温状态，避免温度变化对不测试结果的影响，确保测试准确和重复；超强功能的分析软件：分析软件中反演算法采用国际标准推荐的累计量法以及目前比较通用的非负最小二乘法（NNLS）和Contin等多种算法，其测试结果与国际权威的同类产品具有很好的一致性；测试精准并稳定：高性能的硬件和国际标准化的反演算法的完美结合，造就了Nano90测试结果的精准与重复，其测试准确度和重复性等指标均高于国际标准要求。 此款纳米粒度仪已经达到国外纳米粒度仪的测试水平！ （测试界面图） NKT-N9光相关纳米粒度仪技术参数及详细配置：规格型号NKT-N9执行标准GB/T 29022-2012/ISO 22412：2008测试范围1-10000nm(与样品有关)浓度范围0.1mg/L-100mg/L准确度误差1%（国家标准样品平均粒径）重复性误差1%（国家标准样品平均粒径）激光λ=532nm，LD泵浦激光器（独有带温控保护）探测器HAMAMATSU光电倍增管（PMT），使用单模保偏光纤散射角90°数字相关器ASIC研制的高速光子相关器样品池10mm*10mm , 4ml（带温控保护，带自动感应滑门）样品池放置窗口带自动感应滑门数据处理最优拟合累积分析法和改进正规化算法，可给出平均粒径及粒度分布曲线软件功能一键式测量，自动优化测量参数，轻松生成测试报表输出项目平均粒径、多分散系数、粒度分布曲线、粒度分布表等温度范围8-45℃（温度精确到0.1℃）温度显示仪器实时温度显示温度调控外置直接调温，无需打开机壳测试速度1Min/次（不含样品分散时间）仪器体积390mm×255mm×240mm电源AC100～260V, 50/60Hz, 最大功率80W使用环境温度：15～40℃，湿度20～70%。无冷凝 测试报告：

JH-N9H光相关纳米粒度仪JH-N9H是我公司最新推出的基于动态光散射原理的纳米粒度仪。它采用高速数字相关器和专业的高性能光电倍增管作为核心器件，具有快速、高分辨率、重复及准确等特点，是纳米颗粒粒度测定的首选产品。主要性能特点：先进的测试原理：本仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，根据颗粒在液体中的布朗运动的速度测定颗粒大小，小颗粒布朗运动速度快，大颗粒布朗运动速度慢。当激光束照射在运动的颗粒上时，某一角度（本仪器采用90度）的散射光随时间发生动态变化，变化的快慢与颗粒在液体中的布朗运动的速度有关，采用光子相关光谱法对动态散射光谱进行统计及相关运算分析，并根据Stokes-Einstein方程计算其颗粒大小。高灵敏度与信噪比：采用具有低暗计数、高灵敏度的HAMAMATSU专业级高性能光电倍增管（PMT）作为探测器，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比，从而保证了测试结果的高准确度和高分辨率；超强的运算功能：使用PCS技术测定纳米级颗粒大小，必须能够分辨纳秒级信号起伏。本仪器的核心部件采用专用集成电路ASIC研制的高速光子相关器，具有识别6ns的极高分辨能力和极高的信号处理速度，可快速实时的采集光子数并计算相关运算，为测试准确度奠定基础；稳定的光路系统：采用恒温控制的大功率半导体激光和光纤组合搭建而成的光子相关光谱探测系统，使其不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力和稳定性，保证测试结果重复稳定；双波长激光器：任何样品都具有特定的吸光属性，单一波长激光器对此波长吸光的颗粒是很难精准测量的。N9H双波长激光器能完美测量所有样品，双波长可以自由切换。高精度温控系统：样品池温控系统和激光器温控系统精度高达±0.1℃，使被测样品和激光器光源在整个测试过程中都处于恒温状态，避免温度变化对测试结果的影响，确保测试准确性和重复性；超强功能的分析软件：分析软件中反演算法采用国际标准推荐的累计量法以及目前比较通用的非负最小二乘法（NNLS）和Contin等多种算法，其测试结果与国际权威的同类产品具有很好的一致性；测试精准并稳定：高性能的硬件和国际标准化的反演算法的完美结合，造就了JH-N9测试结果的精准与重复，其测试准确度和重复性等指标均高于国际标准要求。此款纳米粒度仪已经达到国外纳米粒度仪的测试水平！ JH-N9H光相关纳米粒度仪技术参数及详细配置：规格型号JH-N9H执行标准GB/T 29022-2012/ISO 22412：2008测试范围1-10000nm(与样品有关)浓度范围0.1mg/L-100mg/L准确度误差1%（国家标准样品平均粒径）重复性误差1%（国家标准样品平均粒径）激光λ=405nm、λ=532nm，独家双波长半导体激光器，独有带温控保护探测器HAMAMATSU光电倍增管（PMT），使用单模保偏光纤散射角90°数字相关器ASIC研制的高速光子相关器样品池10mm*10mm , 4ml（带温控保护）样品池放置窗口带自动感应滑门数据处理最优拟合累积分析法和改进正规化算法，可给出平均粒径及粒度分布曲线软件功能一键式测量，自动优化测量参数，轻松生成测试报表输出项目平均粒径、多分散系数、粒度分布曲线、粒度分布表等温度范围8-45℃（温度精确到0.1℃）温度调控外置直接调温，无需打开机壳测试速度1Min/次（不含样品分散时间）仪器体积390mm×255mm×240mm电源AC100～260V, 50/60Hz, 最大功率80W使用环境温度：15～40℃，湿度20～70%。无冷凝

JK-JG9000光子相关纳米粒度仪JK-JG9000光子相关纳米粒度仪新一代激光纳米粒度仪，采用动态光散射原理的纳米粒度仪。其测量原理建立在分散在液体颗粒的布朗运动基础之上，颗粒越小，运动速度越快，颗粒越大，运动速度越慢。它采用HAMAMATSU高性能光电倍增管和我公司自主研制的高速数字相关器作为核心器件，通过测试某一角度的散射光的变化并求出自相关函数（即扩散系数），根据Stokes-Einstein方程计算出颗粒粒径及分布。它具有快速、高分辨率、重复及准确等特点，同时还具有不破坏、不干扰纳米颗粒体系原有状态的优点，是纳米颗粒粒度测试的优选产品。JK-JG9000光子相关纳米粒度仪性能特点先进的测试原理 该仪器采用动态光散射原理，其测试方法具有不破坏、不干扰纳米颗粒体系原有状态的特点，从而保证了测试结果的真实性和有效性；高灵敏度与信噪比 核心部件采用我公司自主研制CR256数字相关器，它实时完成动态散射光强的采集和自相关函数运算，从而有效地反映不同大小颗粒的动态光 散射信息，为测试结果的准确度奠定基础；稳定的光路系统 采用光纤技术搭建而成的光路系统，使光子相关谱探测系统不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力，从而保证了测试的稳定性；高精度恒温控制系统 采用半导体温控技术，温控精度高达±0.2℃，使样品在整个测试过程中始终处于恒温状态，避免温度变化而引起液体黏度及布朗运动速度变化导致的测试偏差，保证测试结果准确度及稳定性。JK-JG9000光子相关纳米粒度仪技术参数测试范围1-10000nm（与样品有关）浓度范围0.1mg/ml--100mg/ml（与样品有关）准确度误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差1%（国家标准样品D50值）激光光源光纤半导体激光器，λ= 532nm，使用寿命：25000H探测器光电倍增管（PMT）散射角90o样品池体积4mL温控范围5-40?℃（精确到0.1℃）测试速度5 Min体积480mm*270mm*170mm重量12Kg

梓梦科技动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

仪器简介：公司拥有齐全的纳米系列压印胶材料，热压型纳米压印胶、热塑型纳米压印胶、紫外光固化型纳米压印胶、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品，如模板防粘剂、基片增粘剂等。适用于Obducat，Suss，HP，EVG等多种型号的纳米压印设备。技术参数： IPNR-T1000 Thermal plastic nanoimprint resist 热塑型纳米压印胶 IPNR-T2000 Thermal curable nanoimprint resist 热固化型纳米压印胶 IPNR-PC1000 Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型纳米压印胶（自由基引发） IPNR-PC2000 Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化型纳米压印胶（阳离子引发） IPNR-UL1000 Under-layer polymer for lift off process 举离型传递层材料 IPNR-UL2000 Under-layer polymer etching mask process 刻蚀型传递层材料 IPNR-UPM Quick mold fabrication material 快速模板制作材料 IPNR-AP Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘剂 同时还能能够根据不同的模板提供相应的防粘试剂。

FT-NMT04纳米力学测试系统是一种多功能的原位SEM/FIB纳米压痕仪，能够在微米和纳米尺度上准确量化材料的力学行为。 FT-NMT04原位纳米压痕仪针对金属、陶瓷、薄膜以及超材料和MEMS等微观结构的机械测试进行了优化。此外，通过使用各种附件，FT-NMT04的功能可以扩展到各个研究领域的各种要求。 典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。此外，在压缩测试期间进行连续刚度测量，可以在微梁断裂测试期间量化裂纹扩展和断裂韧性。由于 FT-NMT04 分别具有 500 pN 和 50 pm 的无可比拟的低本底噪声，因此可实现具有无可比拟的可重复性的浅纳米压痕，以及纳米压痕与 EBSD 成像的前所未有的相关性。

产品简介MML公司的纳米力学性能测试系统NanoTest&trade Vantage可以提供新型材料和特种材料开发和优化的大量信息。是世界上最灵活、功能最强大的纳米力学测试系统。它可以为用户提供高精度的纳米压痕测试，同时提供相关的全面综合测试：如纳米划痕和磨损测试、纳米冲击和疲劳测试、以及在高温、液体环境中的测试。这些纳米水平上的测试可以为我们提供材料表面局部的定量信息，数据可靠、测试省时。这些因数使得NanoTest&trade Vantage在世界范围内成为大学、工业实验室和标准机构中很多表征和优化项目的最关键设备。自1988年以来，我们一直走在纳米力学创新的前沿： ► 第一个商用高温纳米压痕平台 ► 第一台商用纳米冲击试验机 ► 第一个商用液体池 ► 第一台用于高真空、高温纳米力学的商用仪器产品优势：► 无与伦比的技术多样性 无纳米压痕，纳米划痕，纳米冲击，纳米微震动磨损，纳米磨损 ► 高精度的多种载荷纳米（至500mN）和微米（至30N） ► 引领市场的环境兼容能力 引高温（至850°C）、低温（至-20°C）、液体和湿度环境 ► 真正测量多 真 样性动态、静态、电气和多种成像模式技术指标1、加载框架 花岗岩复合材料设计专门用于计量应用 2、加载应用 电磁 标准头最大载荷 500 mN 位移传感器 线性电容 负载分辨率 3 nN 位移分辨率 0.002 nm 重复定位精度 0.4 µ m 可测试区域 50 mm x 100 mm 样品处理 手动控制并点击显微镜图像 热漂移 0.005 nm/s 接触力 1 µ N 显微镜– 4个物镜 x5, x10, x20 和 x40 屏幕放大率 x410, x825, x1650, x3300 隔振 负K，机械被动 压头交换时间 1 min 符合标准 完全符合ISO 14577和ASTM 2546 3、划痕模块 最大摩擦力 250 mN 摩擦载荷分辨率 10 µ m 最大划痕距离 10 mm 划痕速度 100 nm/s 至 0.1 mm/s 4、冲击模块 加速距离 高达20 µ m 接触应变率 高达104 s-1 微动磨损模块 轨道长度 ≤20 µ m 频率 ≤20 Hz 最大磨损次数 10 5、SPM纳米定位平台 XY扫描范围 100 µ m x 100 µ m Z扫描范围 20 μm 定位精度 ≤2 nm 闭环线性 99.97% 6、AFM XY扫描范围 110 µ m x 110 µ m Z范围 22 µ m 7、高温选项 温度 850 °C 主动，独立的样品和压头加热 是 压头材料 金刚石，氮化硼，蓝宝石 8、高负载头 最大载荷 30 N 摩擦载荷分辨率 300 μN 应用范围航空航天、汽车工业、半导体、生物医学、MEMS、高分子、薄膜和涂层，以及太阳能/燃料电池等

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

纳米探测面临的挑战 定位精度 安全（软）着陆接触 具有适当尖端半径的可靠探针头 清洁环境：试验箱、样品、探针头 振动敏感性低 噪声抑制 漂移补偿 电路编辑/延迟：在FIB角度操作 优势电流成像 快速图像采集（每帧约5） 不需要更容易控制的反馈 原位应用，扫描电镜可以用来确定投资回报率 与标准钨探针头配合使用 picoamp分辨率，识别泄漏 污染物清除 恰当的高探测工具 适应您对工作流程的快速理解 相关的光镜和电子显微镜，EBIC/EBAC，电流成像-获得整个图像 快速发现故障（开路、短路、连接泄漏、晶体管故障等）

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。纳米粒度及Zeta电位分析仪是一种用于环境科学技术及资源科学技术领域的物理性能测试仪器，简单、方便而且准确，主要作用就是测量胶体颗粒表面电位电势。其独特的开放式样品槽设计与频谱漂移分析技术相结合，使其具有极高的分辨率，足以分辨等电点附近的多峰电泳分布情况。　　仪器原理　　带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。　　动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪优势　　1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。　　2、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。　　3、优化的反演算法：采用拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。　　4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。　　5、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比；采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。　　6、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪测量　　纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定，因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点　　1、利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。　　2、先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。　　3、基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用最小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。　　Henry函数的取值：　　当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用最小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合，得到优化Henry函数表达式。　　强大易用的控制软件　　ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强，无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。　　注意事项　　1、测量粒径前，需查知样品分散剂的粘度、折光指数（Refractive Index）；　　2、用卷纸轻轻点拭样品池外侧水滴，切勿用力擦拭，以防将样品池划伤，如发现样品池有划纹，需更换；　　3、手尽量避免触摸样品池下端，否则会影响光路； 　　4、一定要去除样品池内的气泡；　　5、实验室提供的样品池为聚苯乙烯材质，不可用于测量有机分散体系；　　6、实验室提供的样品池,测量温度不可高于50摄氏度；　　7、如需测量有机分散体系或高于50摄氏度，请自带石英比色皿；　　8、使用滤纸过滤时，舍去过滤后的d一滴样品，以防滤纸上杂质进入样品池；　　9、测量时需自带：卷纸、多个注射器、多个离心管（用于稀释样品）。

压电直线纳米位移台 Z轴扫描台,得益于特殊的结构设计，卓聚科技的Z轴扫描台，提供约等于5nm的粗调步进。产品支持真空，低温等应用。Z轴扫描台尺寸参数中间位置外形尺寸（长*宽*高）45.6*44.0*24.6mm样品台面平面度5 μm总重量78g运动参数Z轴行程±1.0mm粗调步进5~200nm细调行程300nm细调步进（理论值）0.005nm闭环运动分辨率2nm负载竖直方向负载10N操作环境闭环（开环）操作温度-20~80（-269~80）℃是否适用真空是/以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台 Z轴扫描台的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。 安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

产品描述Nano Indenter G200系统是一种准确，灵活，使用方便的纳米级机械测试仪器。 G200测量杨氏模量和硬度，包括从纳米到毫米的六个数量级的形变测量。 该系统还可以测量聚合物，凝胶和生物组织的复数模量以及薄金属膜的蠕变响应（应变率灵敏度）。 模块化选项可适用于各种应用：频率特定测试，定量刮擦和磨损测试，集成的基于探头的成像，高温纳米压痕测试，扩展负载容量高达10N和自定义测试。主要功能电磁驱动可实现高动态范围下力和位移测量用于成像划痕，高温纳米压痕测量和动态测试的模块化选项直观的界面，用于快速测试设置 只需几个鼠标点击即可更改测试参数实时实验控制，简便的测试协议开发和精确的热漂移补偿屡获殊荣的高速“快速测试”选项，用于测量硬度和模量多功能成像功能，测量扫描和流程化测试方法，帮助快速得到结果简单快捷地确定压头面积函数和载荷框架刚度主要应用高速硬度和模量测量界面附着力测量断裂韧性测量粘弹性测量扫描探针显微镜（3D成像）耐磨损和耐刮擦高温纳米压痕工业应用大学，研究实验室和研究所半导体和电子工业制造业轮胎行业涂层和涂料工业生物医药行业医疗仪器更多应用：请根据您的要求与我们联系应用高速硬度和模量测量材料的机械特性表征在新材料的研究与开发中具有重要意义。 Nano Indenter G200能够以每秒一个数据点的速率测量硬度和模量。 对机械性能的高速评估使半导体和薄膜材料制造商能够将先进技术应用于生产线上的质量控制与保证。界面粘附力测量通常通过沉积能够存储弹性能量的高压缩层来诱导薄膜分层。 界面粘附力测量对于帮助用户理解薄膜的失效模式是至关重要的。Nano Indenter G200系统可以触发界面断裂并测量多层薄膜的粘附性和残余应力性质。断裂韧性断裂韧性是在平面应变条件下发生灾难性破坏的应力 – 强度因子的临界值。 较低的断裂韧性值表明存在预先存在的缺陷。 通过使用刚度映射法容易地通过纳米压痕评估断裂韧性。 （刚度映射需要连续刚度测量和NanoVision选项）粘弹特性聚合物是非常复杂的材料 它们的机械性能取决于化学，加工和热机械历史。 具体来讲，机械性能取决于材料分子母链的类型和长度，支化，交联，应变，温度和频率，并且这些依赖性通常是相互关联的。 为了采用聚合物进行研究时获得有用的信息进行决策，应在相关背景下对相关样品进行机械性能测量。 纳米压痕测试使得这种特定的测量更容易完成，对样品制备要求不高，可以很小且少量。 Nano Indenter G200系统还可用于通过在与材料接触时振荡压头来测量聚合物的复数模量和粘弹性。扫描探针显微镜（3D成像）Nano Indenter G200系统提供两种扫描探针显微镜方法，用于表征压痕印痕的裂缝长度，以测量设计应用中的断裂韧性。 断裂韧性定义为含有裂缝的缺陷材料抵抗断裂的能力。Nano Indenter G200的压电平台具有高定位精度和NanoVision选项，可提供高达1nm的步长编码器分辨率，最 大扫描尺寸为100μm×100μm。 测试扫描软件选项将X / Y运动系统与NanoSuite软件相结合，可提供500μm×500μm的最 大扫描尺寸。 NanoVision阶段和测试扫描选项都需要精确定位在样品区域来完成纳米压痕测试和断裂韧性计算。耐磨性和耐刮擦性Nano Indenter G200系统可以对各种材料进行划痕和磨损测试。 涂层和薄膜将经受许多工艺，测试这些薄膜的强度及其与基板的粘合性，例如化学和机械抛光（CMP）和引线键合。 重要的是这些材料在这些工艺过程中抵抗塑性形变并保持完整，也不会在基板上起泡。 对于介电材料，通常需要高硬度和弹性模量来支持这些制造工艺。高温机械测试高温下的纳米压痕提供了在达到塑性转变之前、之中与之上的精确测量能力，得到材料的纳米力学响应。 了解材料行为，例如形变机制和相变，可以预测材料失效并改善热机械加工过程中的控制。 在主要机械测试方法过程中改变温度是对材料进行纳米尺度测量塑形转变的一种方式。产品优势Nano Indenter G200系统专为各种材料的表征和开发过程中进行纳米级测量而设计。 该系统是一个完全可升级，可扩展且经过生产验证的平台，全自动硬度测量可应用于质量控制和实验室环境。

纳米颗粒制备 我司提供专业的纳米颗粒制备仪，可以满足用户不同需求的应用。100克至几批的纳米颗粒批次每年可以用ParteQ的FSP生产系统。这些单元可以连续运行，允许甚至可以生产24/7纳米粉。此外，通过ParteQ获得的结果。实验室规模的系统可以转移到更大的生产单位。例如，纳米材料用ParteQ NPS-20台式机开发系统或类似的实验室反应堆可以是用我们的公斤数量制造连续的FSP工厂。 ParteQ提供三条不同尺寸的线用于纳米粒子生产：建议将S系列用于几百克M系列是最适用于500 g至50 kg的数量。L系列针对想要的客户连续生产纳米粒子每小时几公斤，目标是超过50公斤每年最多。 ParteQ S系列，M系列和L系列为一站式服务包含用于前体和模块的系统气体输送，纳米颗粒生成和产品集合。各个模块可以为顾客量身定制。 S系列：50克/小时S系列基于实验室规模的Flame喷雾热解反应器也是NPS-20台式系统。而NPS-20旨在产品开发，提供每批次纳米克量的S系列可以制造几百克相同的纳米材料。例如，当连续生产约50克/小时，可以将300克纳米颗粒。在一天之内轻松获得。ParteQ FSP S系列：连续纳米粉。实验室规模的合成。最适合生产纳米颗粒的批量可达?500 g。 S系列是完全封闭的独立式系统。移动钻机基于铝大型检修门的型材。所有FSP必需的组件已集成进入钻机：火焰喷雾热解反应器流量控制器，前驱泵，颗粒集尘袋式过滤器，离心风机以及入口和出口安全过滤器。 M系列：500克/小时，如果千克数量的纳米颗粒是需要，中型M系列是系统选择。生产能力从约100克/小时，可达2千克/小时，取决于产品材料和操作条件。该系统由PLC，甚至允许使用24/7纳米粉生产。 实际上，M系列已经是一个很小的过程固定的脚印的工厂大约4 m x 6 m。房间高度应在至少5 m。 L系列：5,000克/小时L系列是真正的纳米粉产品，可以连续运行的工厂，每周7天24小时。操作范围开始大约每小时1公斤，可能会超过5公斤/小时，取决于产品材料和条件。 L系列的设计类似于较小的M系列，但使用的组件更大的尺寸。例如，搅拌250或500 L建议使用前驱箱涵盖一天的原料供应。喜欢M系列，该系统是全自动的并由PLC控制。与M系列一样，所有L系列工厂为客户量身定做。

碳纳米管制备设备（碳纳米管制备系统，碳纳米管生长系统），可用于制备碳纳米管，包括垂直方向碳纳米管生长；在Si、石英、陶瓷、各种金属（不锈钢，Ti和Pt等）等多种基底上用廉价的酒精、汽油或者生物燃料等作为碳源生长碳纳米管；系统封闭腔体不但保证必要的真空度，而且还可对基底进行加热。联合日本科学与技术研究所（JST）开发，并且在多个国家注册了该项技术的专利！相关产品：1. 纳米颗粒制备系统；2. ZnO纳米带制备系统；3. 材料碳化研究系统：用于agricultural and forestry waste, papers, recyclable plastics, and so on；4. 碳纳米管生产系统CVD：用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；5. 催化剂薄膜制备系统：可沉积催化剂薄膜在各种材料上，用于高性能碳纳米管的指标；技术参数：碳纳米管生长、制备装置（包括垂直方向碳纳米管生长)；Au, Ag, Cu, Al, Si, Ti, Mg, Zn等纳米颗粒制备；ZnO纳米带制备；处理温度范围：400~800℃实时碳纳米管生长过程中温度监控反应源：含碳气体或者液体酒精主要特点：*价格优惠； *运行成本低； *制备速度快； *支持基底加热； *保证一定的真空度；*成熟的工艺和丰富的经验；*操作便捷； 技术介绍：*装备乙醇喷射单元；无需易燃烃化物气体。*碳纳米管生长只需几分钟，整个操作过程不超过30分钟。*小型化设计、操作简便、低成本、高质量碳纳米管。*在碳纳米管合成过程中，不需要使用还原性气体（氢气）使催化剂还原，因为使用的乙醇碳源本身具有很强的还原性。乙醇的金属还原性使得碳纳米管能够直接在多种合金材料上沉积，比如，NiCu, SUS等等。而不需要预先沉积催化剂薄膜，因为Ni, Fe, or Co等催化性元素在合金中作为催化颗粒独立存在。*透明的玻璃腔室使得研究人员可以直接观察整个沉积过程。该系统满足高校研究所的碳纳米管合成实验的研究工作。

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用zui优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用最小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用最小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

压电直线纳米位移台ML-92A 大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。是小空间内大行程高精度的定位的优先选择产品。 压电直线纳米位移台ML-92A尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）123*28*15.5mm台面平面度10 μm总重量190g运动参数行程±46mm运动速度上限3mm/s材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/运动控制闭环位置传感器分辨率2nm开环运动分辨率0.05nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度0~60℃操作湿度温度达到40℃时，相对湿度95%。（非冷凝）/是否适用真空是其它控制类型开环/闭环/驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台ML-92A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

产品描述NanoFlip提供高精度XYZ位移，可定位样品进行测试，还提供翻转机制，可定位样品进行成像。InView软件附带一套测试方法，涵盖一系列测试协议，并允许用户创建自己的新颖测试方法。InForce50驱动器在真空和常压条件下表现同样出色。InView软件可以记录SEM或其他显微镜图像，并与机械测试数据进行同步。创新的FIB-to-Test技术允许样品倾斜90°，无需移除样品即可实现从FIB到压痕测试的无缝过渡。主要功能InForce 50驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数用于样本定位的XYZ移动系统SEM视频捕获，可以将SEM图像和测试数据进行同步独特的软件集成压头校准系统，可实现快速，准确的压头校准与Windows10兼容的InView控制和数据查看软件以及协助用户设计实验的方法开发功能主要应用硬度和模量测量（Oliver-Pharr）连续刚度测量高速材料性质分布图ISO 14577硬度测试聚合物的纳米动态力学分析（DMA）定量刮擦和磨损测试工业应用大学、研究实验室和研究所支柱和微球制造MEMS（微机电系统）材料制造（结构压缩/拉伸/断裂测试）电池和元件制造应用硬度和模量测量（Oliver-Pharr）NanoFlip纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。连续刚度测量 （CSM）连续刚度测量用于量化动态材料特性，例如应变率和频率引起的影响。 NanoFlip纳米压痕仪提供0.1Hz至1kHz的动态激发，采用随时间变化进行监测以准确确定初始表面接触，并根据深度或频率持续对接触刚度进行测量。材料特性分部对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。NanoFlip的样品平台可以在X轴和Y轴上移动21mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在样品区域上进行测量。可选的NanoBlitz形貌和断层成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试NanoFlip纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可用于测量符合ISO 14577标准的材料硬度。该测试方法自动测量并报告杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕。纳米动态力学分析（DMA）聚合物是非常复杂的材料。为了获取决定聚合物设计的有用信息，需要对相关样品在相关的条件下进行机械性能测量。纳米压痕测试帮助这种特定相关的测量易于进行，因为只需要制备很小或很少量的样品。NanoFlip纳米压痕系统还可以通过在与材料接触时振荡压头来测量聚合物的复数模量和粘弹性。定量划痕和磨损测试NanoFlip可以对各种材料进行刮擦和磨损测试。涂层和薄膜会经过化学机械抛光（CMP）和引线键合等多道工艺，考验薄膜的强度及其与基板的粘合性。重要的是这些材料在这些工艺中抵制塑性变形，并且保持原样而不会基板起泡。产品优势NanoFlip纳米压痕仪可在真空和常压条件下对硬度、模量、屈服强度、刚度和其他纳米力学测试进行高精确度的测量。在扫描电子显微镜（SEM）和聚焦离子束（FIB）系统中，NanoFlip在测试（例如柱压缩）方面表现优异，可以将SEM图像与机械测试数据同步。NanoFlip测量迅速，这对于惰性环境（例如手套箱）中测试异质材料很关键。系统所配置的可选套件，例如InForce50电磁驱动器，可以提供定量结果，从而为材料研究提供有价值的解决方案。

纳米力学和纳米摩擦学测试的一大飞跃Bruker’s Hysitron TI 980 TriboIndenter海思创TI 980 TriboIndenter纳米压痕仪是布鲁克zui先进的纳米力学测试设备，同时具有zui高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。TI 980纳米压痕仪是布鲁克著ming的海思创纳米压痕设备的新一代产品。它建立在几十年的技术创新上，提供了纳米力学和纳米摩擦学表征领域全新水平的非凡性能、能力和功能。 让您时刻保持在材料探索和发展前沿采用布鲁克的Performech II先进控制模块，TI 980纳米压痕仪在控制能力、测试通量、测试灵活性、适用性、灵敏度、可信度和系统模块化等方面有了显著的进步。TI 980包含以下多种强有力的功能：纳米压痕与微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速机械性能成像。这些测试功能有助于全面理解材料纳米尺度下的行为。 简易高速的自动化海思创TI 980提供了高通量表征所需的快速、多样品和多技术自动测试能力。它可以按照设定时间间隔自动验证针尖形状，还可以实现多尺度下的高分辨成像和全样品光学扫描。 不会过时的表征潜力鉴于将来会出现不同与今日的表征需求，TI 980纳米压痕仪被设计为具有zui好的灵活性。TI 980支持大量集成和具有相关性的纳米力学表征技术，使您时刻保持在材料研发前沿。集成多种系统控制模块和数据分析软件、通用样品固定选项（机械、磁性和真空）和模块化环境腔，TI 980也适用于您将来的表征需求。 纳米力学测试设备Bruker’s TI 950 TriboIndenter海思创TI 950 TriboIndenter纳米压痕仪是布鲁克一台用于多种纳米力学和纳米摩擦学表征的自动化、高通量测试设备。海思创TI 950纳米压痕仪集成了强大的Preformech I先进控制模块，显著提高了纳米力学测试反馈控制的准确度，提供了空前的低噪音水平。结合布鲁克的大量纳米力学测试技术和正在研发的测试方法，TI 950 TriboIndenter 是一台多功能和极其高效的纳米力学测试系统，适用于广泛的应用。 优异的控制反馈和灵敏度布鲁克先进的反馈控制算法和测量灵敏度为所有海思创纳米力学测试技术提供了精确的控制。海思创TI 950上所有的反馈控制功能都基于集成了数据信号处理器（DSP）和现场可编程门阵列（FPGA）的专业控制系统，用于精确实现用户的测试需求。 电容传感器技术专业的电容传感器技术提供了纳米压痕过程中前所未有的测量灵敏度（30nN, 0.2nm），准确性和可信度。静电激励模式使用微小电流，具有zui好的温漂性能，从而实现更快的数据采集，更高的精度和更好的重复性。集成原位扫描探针成像的高分辨光学系统海思创TI 950集成了带彩色CCD相机的光学系统，用于高放大倍数下的样品表面观察和测试位置选择。原位扫描探针成像系统能提供更精确的测试位置选择（±10nm）。TI 950的这种双模式成像设计实现了许多应用对精确控制测试位置的需求。 Hysitron TI Premier实现定量纳米力学研究布鲁克的海思创TI Premier系列被专门设计为在紧凑平台上实现领xian的定量纳米力学表征。基于已被广泛认可的先进技术，海思创TI Premier提供了纳米力学和纳米摩擦学测试的核心工具。除了使用不同配置的海思创TI Premier实现不同领域的研究测试外，TI Premier还提供了大量升级选项，用于满足将来的多种潜在测试需求。Contact Us Download Brochure 海思创TI Premier可满足不同研发需要。常用的配置选项包括： 准静态纳米压痕 多功能设计，针对薄膜和涂层力学性能表征优化 动态纳米压痕 适用于从超软到超硬的各种材料的准静态和动态力学系能表征 高温纳米压痕 研究不同温度下（高达800℃）材料的力学性能和时间依赖形变行为 多尺度压痕 实现从纳米到微米尺度的压痕测试

压电直线纳米位移台ML-23A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。是小空间内大行程高精度的定位的优先选择产品。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）43.4*20.0*12.8mm台面平面度10 μm总重量42g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±11.5mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台ML-23A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。 安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

纳米孔读取器纳米孔一般指孔径在1-10nm的孔道结构，其孔径大小与单个生物大分子尺寸相当，通常纳米孔被置入有机 磷脂薄膜内，将待分析样(如血清)分隔呈两部分，当电压施加于纳米孔两侧时，样本中的带电离子和分子会穿越纳米孔形成电流，产生的电流信号可由特定一起采集并进行分析。当生物大分子穿越纳米孔时，由于其尺寸和电荷等性质的不同，会产生特异性的电流特征信号，从而可以根据仪器采集的电流信号分析出样本中的生物大分子的结构、种类和浓度等信息。纳米孔包括固态纳米孔和生物纳米孔两大类，一般应用中的纳米孔为生物纳米孔，纳米孔生物传感器被广泛应用于生物大分子的定性和定量分析，如DNA测序、肿瘤标记物检测和环境重金属离子检测等，纳米孔技术是国际上热门的第三代基因测序技术，由于其在生物、化学、医学、食品与环境等领域内的巨大应用潜力，已经发展成一个生物、化学、医学、流体、电子、材料、机械等多学科交叉的崭新研究领域。纳米孔读取器是一种小型便携式读出设备，具有可重复使用的流动池，用于固体纳米孔和生物孔的超低噪声记录。纳米孔读取器可用于实验活动，如脂质双层测量、DNA易位和单分子检测。若和特定的流式细胞相结合，它适用于蛋白质研究、疾病标记检测、DNA定位和纳米 粒子等分析。纳米孔读取器产品特点：■ 小型化 — 手持仪器 VS. 笨重设备■ 随时可用 — 无需工具，只需将流动池插入设备即可 ■ 高性能 — 低噪声测量■ 经济实惠 — 为每个人提供技术！纳米孔读取器应用案例：另外，我司可提 供各种规格SiNx固态纳米孔，详情可咨 询上海昊量光电设备有限公司。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专 业代 理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防、量 子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

压电直线纳米位移台ML-15A，大行程直线位移台，不仅拥有紧凑的安装尺寸，同时还兼具低温真空等应用环境。 尺寸参数外形尺寸（长*宽*高）33.4*20*12.8mm台面平面度10 μm总重量30g材料机身铝合金/驱动PZT压电陶瓷/驱动机构铍青铜/导线屏蔽线，铜线/粗调模式运动范围±7.5mm运动步进50~2000nm速度上限3mm/s细调模式细调步进0.05nm细调范围3000nm闭环运动分辨率20nm负载垂直运动方向负载20N沿运动方向负载4N操作环境操作温度-20~80℃是否适用真空是/其它控制类型开环/闭环/运动分辨率0.05nm驱动电压上限125V 以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电直线纳米位移台ML-15A的介绍，了解更多直接咨询：原文： 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展，精密定位不仅在实验室用途广泛，工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上，发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品，填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块，通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移，可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前，在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内，团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息，压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为旋转纳米位移台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

Winner802光子相关纳米粒度仪产品简介： 光子相关纳米粒度仪Winner802是国家科技型中小企业技术创新基金项目（立项代码： 10C26213704395）成果产品，也是首批采用动态光散射原理的纳米粒度仪。该仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，因颗粒在悬浮液中做布朗运动，使得光强随时间产生脉动，利用微纳数字相关器技术处理脉冲信号，得到颗粒运动的扩散信息，利用Stokes-Einstein方程计算得出颗粒粒径大小及其分布。 光子相关纳米激光粒度仪Winner803是Winner802的升级款，配备双波长激光器，针对某些具有吸光属性和传统单一波长激光器无法检测的样品，可进行有效检测，Winner803纳米激光粒度仪专注于有色颗粒的粒度分布检测，想颜料、染料等。 产品优势: 高灵敏度和信噪比 采用动态光散射原理，利用灵敏度高和信噪比强的HAMAMATSU光电倍增管和自主研发的CR256数字相关器，在不破坏不干扰纳米颗粒体系的情况下，能够实时完成动态散射光的采集和函数运算，有效计算出颗粒粒径大小，保证测试结果的准确性。 抗干扰性强 采用光纤技术搭建的光路系统，使光子相关光谱探测系统不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力，保证了测试结果的稳定性。 可靠的温控系统 采用半导体温控系统，温度波动控制在±0.1 ℃，保证了样品在测试过程中始终处于恒温状态，避免因温度变化而引起的液体粘度和布朗运动速度的变化导致的测试偏差，从而保证了测试结果的可靠性。 双波长激光器，智能切换（Winner803特有性能） 采用双波长（λ=532 nm λ=405 nm）激光器，可智能切换，对某些具有吸光属性，单一波长激光器无法检测的样品，可进行有效检测。 产品技术参数: 产品型号Winner802Winner803执行标准GB/T 19627-2005/ISO13321:1996 GB/T29022-2012/ISO22412:2008测试范围1-10000nm (与样品相关)准确度误差≤1% （国家标准样品D50）重复性误差≤1% （国家标准样品D50）测试浓度0.1mg/mL——100mg/mL（与样品有关）激光器半导体激光器： λ=532nm 功率 P=1-40mW(可调)主光源：半导体激光器：λ=532nm 功率 P=1-40mW(可调) 辅助光源：蓝光激光器 λ=405nm 功率P＞2mW探测器光电倍增管（PMT）散射角90°样品池10×10×40mm （1—4mL）测试温度5—90 ℃温控精度±0.1℃测试速度＜5min产品体积600×380×230mm产品重量12Kg数字相关器产品型号CR256自相关通道256基数通道4物理通道数5000单位延迟时间100ns—10ms 应用领域： 纳米材料、纳米乳液、纳米粉末、纳米硼化物、纳米非金属、涂料、染料、颜料、药品、蛋白质、纳米碳酸钙、感光材料、添加剂、石墨、以及其他纳米颗粒等。

产品描述iMicro采用InForce 1000驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试，并可选择添加InForce 50驱动器来测试较软的材料。InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。iMicro是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 1000驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头可选的InForce 50驱动器提供最 大50mN的法向力来测量软性材料，并提供可选的Gemini 2D力荷载传感器用于双轴动态测量。独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架高刚度龙门架，集成隔振功能带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量定量刮擦和磨损测试样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体行业PVD / CVD硬涂层（DLC，TiN）MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆复合材料电池和储能汽车和航空航天应用硬度和模量测量（Oliver Pharr）机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iMicro纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iMicro的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iMicro纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iMicro纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。定量划痕和磨损测试iMicro可以对各种材料进行刮擦和磨损测试。 涂层和薄膜会经过化学机械抛光（CMP）和引线键合等多道工艺，考验薄膜的强度及其与基板的粘合性。 重要的是这些材料在这些工艺中抵制塑性变形，并且保持原样而不会基板起泡。 理想地，介电材料应具有高硬度和弹性模量，因为这些参数有助于确定材料在制造工艺下会如何反应。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iMicro纳米压痕仪可轻松测量硬涂层，薄膜和少量材料。该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 可互换的驱动器能够提供大动态范围的力荷载和位移，使研究人员能够对软聚合物到硬质金属和陶瓷等材料做出精确及可重复的测试。模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损测试以及高温测试。 iMicro拥有一整套测试扩展的选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D / 4D性质分布，以及Gemini 2D力荷载传感器，可以提供摩擦和其他双轴测量。

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。纳米粒度及Zeta电位分析仪是一种用于环境科学技术及资源科学技术领域的物理性能测试仪器，简单、方便而且准确，主要作用就是测量胶体颗粒表面电位电势。其独特的开放式样品槽设计与频谱漂移分析技术相结合，使其具有极高的分辨率，足以分辨等电点附近的多峰电泳分布情况。　　仪器原理　　带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。　　动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪优势　　1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。　　2、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。　　3、优化的反演算法：采用拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。　　4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。　　5、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比；采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。　　6、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪测量　　纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定，因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点　　1、利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。　　2、先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。　　3、基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用最小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。　　Henry函数的取值：　　当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用最小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合，得到优化Henry函数表达式。　　强大易用的控制软件　　ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强，无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。　　注意事项　　1、测量粒径前，需查知样品分散剂的粘度、折光指数（Refractive Index）；　　2、用卷纸轻轻点拭样品池外侧水滴，切勿用力擦拭，以防将样品池划伤，如发现样品池有划纹，需更换；　　3、手尽量避免触摸样品池下端，否则会影响光路； 　　4、一定要去除样品池内的气泡；　　5、实验室提供的样品池为聚苯乙烯材质，不可用于测量有机分散体系；　　6、实验室提供的样品池,测量温度不可高于50摄氏度；　　7、如需测量有机分散体系或高于50摄氏度，请自带石英比色皿；　　8、使用滤纸过滤时，舍去过滤后的d一滴样品，以防滤纸上杂质进入样品池；　　9、测量时需自带：卷纸、多个注射器、多个离心管（用于稀释样品）。

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

联合日本科学与技术研究所（JST）开发，并且在多个国家注册了该项技术的专利！该设备用于制备纳米碳材料，如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备；采用封闭式管式炉，石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm，基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；气源包括氢气、氮气、甲烷、酒精等；MPCVD是一种碳纳米管化学汽相沉积综合系统，具备一个水平石英管式炉,该系统可以大量稳定生产垂直对齐的CNT和各种粉末CNT。成熟稳定的工艺保证了制备质量和数量，也可用于三维形状的CNT制备。乙醇注入装置配备一个滴定法流量控制系统，气体输入端口配备三通道质量流量气体控制器(惰性气体,碳氢化合物气体,氢气)。真空排气系统使得该系统能够在一个广泛的气压下运行，从大气到低压(10 Pa),也可用作为热处理系统，例如：真空炉、大气炉、氮化炉。 相关产品：1. 纳米颗粒制备系统； 2. ZnO纳米带制备系统； 3. 碳纳米管制备系统：用于高质量碳纳米管制备、纳米颗粒或薄膜制备、ZnO纳米带制备等； 4. 碳纳米管生产系统CVD：用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等； 5. 催化剂薄膜制备系统：可沉积催化剂薄膜在各种材料上，用于高性能碳纳米管的指标；技术特点： *成熟的碳纳米材料制备工艺和丰富的经验 *乙醇和碳氢化合物作为碳源 *用于SWCNT 合成 *具备催化剂前体供应功能 *可以合成较长长度 ( ~500 um)垂直对齐的CNT和粉末状的CNT *具备三通道气体质量控制器 *体积小，基座稳定 *高温度：1200度； *价格优惠； *运行成本低；技术参数：基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；