离子加速器

VacIon Plus 500 L/s 离子泵可为大型应用提供出色的抽速。该泵在超高和极高真空条件下使用，是粒子加速器和干涉仪的首选。该离子泵具有三种元件类型。二极离子泵元件适用于通用的 UHV 和 XHV 应用，在此应用中氢气抽速至关重要，系统很少排气或发生空气泄漏。三极离子泵元件可处理大量惰性气体（优于改进型二极离子泵）和氢气（与二极离子泵相当），对甲烷、氩气和氦气具有最高的抽速和容量。改进型二极离子泵元件适用于需要抽除残留惰性气体的通用 UHV 和 XHV 应用。 特性：配备三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以为不同气体提供最佳抽速配备 ConFlat 8 英寸非旋转型法兰、额外 8 英寸 ConFlat 孔、双法兰和侧孔，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、Safeconn）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求

VacIon Plus 1000 L/s 离子泵可为大型系统提供出色的分析速度。可用于需要达到超高和极高真空状态的应用，是用于粒子加速器和重力波干涉仪的理想选择。该离子泵具有三种元件类型。二极离子泵元件适用于通用的 UHV 和 XHV 应用，在此应用中氢气抽速至关重要，系统很少排气或发生空气泄漏。三极离子泵元件可处理大量惰性气体（优于改进型二极离子泵）和氢气（与二极离子泵相当），对甲烷、氩气和氦气具有最高的抽速和容量。改进型二极离子泵元件适用于需要抽送残留惰性气体的通用 UHV 和 XHV 应用。 特性：配备三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以为不同气体提供最佳抽速配备 ConFlat 12 英寸非旋转型法兰、额外 ConFlat 孔、双端和侧孔，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、Safeconn）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求

名称HadronSpark HLSingle Pass H型号LHADLSHLLSPH详细说明用于质子/重离子同步加速器• 逐束团的束流位置测量• 提供ADC和位置数据存储的大型缓冲区• 提供调谐测量，FFT处理，慢数据流监测，闭环反馈等功能。• 提供输入信号放大器• 可扩展：实时快数据流、反馈接口，串行I/O接口提供IOC支持EPICS支持白兔子数据链路用于质子/重离子直线加速器和输运线• 可扩展:联锁输出，实时数据流，模拟信号输出，数字(串行)I/O接口提供IOC支持EPICS用于质子/重离子直线加速器• 可测量束流位置和相位• 可扩展:实时快数据流、反馈接口，串行I/O接口提供IOC支持EPICS名称Libera Spark ERXRLibera Brilliance+Libera Spark ELLibera Single Pass E型号LSXRLBRPLSELLSPE详细说明电子同步加速器数据带宽5Hz到15MHz提供轨道反馈的快数据链可扩展：联锁输出、实时数据流、模拟信号输出、数字（串行）I/O接口提供IOC支持EPICS电子同步加速器数据带宽5Hz到15MHz超长和精细化的长时间稳定性内置快轨道反馈和定时系统接口支持白兔子数据链路可扩展：快轨道反馈，串行I/O接口提供IOC支持EPICS电子直线加速器和输运线定制化DSP，可处理从脉冲到连续束流等各种束流的测量可扩展：降频器，连锁输出，实时数据流，模拟信号输出，数字（串行）I/O接口提供IOC支持EPICS电子直线加速器可计算束流事件发生定制化DSP，可处理从脉冲到连续束流等各种束流的测量可扩展：降频器，连锁输出，实时数据流，模拟信号输出，数字（串行）I/O接口提供IOC支持EPICS

AMS通过进行直接分析测定同位素比值，从毫克和次毫克样品中提供高精度同位素信息。 依据放射性衰变和从样品中射出的&beta 粒子的测量值，传统闪烁计数方法提供了放射性同位素浓度的信息，在它们通过质荷无线电分离以后，AMS直接计数出独立的同位素。 AMS要优于闪烁计数，因为AMS需要更少的样品材料并且由于高的计数率它能提供更高的样品处理量。由于没有足够的样品材料或者仅仅因为对样品数量要求太高，使得通过其他的计数手段的测量变得不太可能，而AMS却将这种测量转化为可能。最初应用于考古学的C14 记年的加速质谱仪，如今被用于测量例如铍，铝，氯，钙等众多元素的同位素比值。它被应用于地质物理学，海洋学，环境和古气候探究，生物医学，生化动力学，材料研究，监控，原子核，原子物理学和微量元素的分析等诸多领域。敏感度用AMS可实现的极度敏感性，用传统分析的同位素比值质谱仪是达不到的。AMS解决了当研究同位素时分子峰和离子峰有几乎相同的质荷比的干扰问题。在典型的最小浓度比10-15范围之内，仍然能通过AMS测量确定。精确度和可重复性HVE质谱仪概念的核心特征是&ldquo 国家的艺术&rdquo ，tandetron加速器特点是可靠性高，噪音极低水平，高的端电压的稳定性和低的端电压纹波。HVE tandetrons配备了一个纯粹的电子的高压电源，其优点在于，它没有可移动的部分.它没有振动，因此可能会导致端子电压波动也是不存在的。此外，纹波和稳定的价值和动态行为在多年的操作中一直很稳定，压力箱内的部件维修少有发生，不过如果需要的，维护也是必要的。由于精度和可重复性是AMS的关键问题，稳定性对于AMS来说是极为重要的。在实验核物理环境可以容忍的终端电压瞬变，在AMS是绝对不能接受的，因为它可以破坏从样品中获得的数据,而那些数据可能是不可替代的。同样，端子电压的轻微的波动也会导致通过加速器光束传输的变化，降低了结果的再现性。单个或多元素系统根据HVE tandetrons粒子加速质谱仪应用，可以划分为两个方面：单个元素的专属系统和多元素的多元素系统。其它离子束技术如离子注入，RBS-C，PIXE和ERD等的系统拓展应用也是有效的。固体以及气态样品HVE tandetron AMS系统都配备了50（可选200）样品的混合溅射源，接受固体样品以及气体样品（CO2），之后凭借可以允许的接地电位，进行气象色谱或碳氮氢元素分析仪的上游整合。HVE混合AMS溅射源的一个独特的功能特征，是在接地电位上的休止。它简化了源代码访问，可以避免一个大的高电压保护罩的必要性，确保安全和几乎无辐射的操作运行。待分析的样品是从传送带传送到离子源的内部，以避免样品在溅射过程中造成的交叉污染，真空泵直接坐落在距离离子发生器非常近的源体附近，确保了存在CO2样品的情况下，最佳真空泵抽速和低记忆效应。在溅射源和传动带之间存在一个气动闸阀使得离子发生器始终保持在一个合适的温度，延长了它的使用寿命，避免了传送带交换过程中真空环境的破坏。溅射源顶端有一个侧向插入点，这个精确和具备可重复性的方法就使得溅射源的维护更加的简单、快捷。同时性和连续性注入存在两种不同概念的注入方式：同时注入和连续注入。随着同时注入，不同的同位素被分离，分析，重组最终被同时注入到加速器中。HVE的同时注入是基于一个曾获得过专利的四磁体的结构，这个结构设计的固有特性，确保了它重组时轨迹的一致性和参数设置的独立性。对于连续注入，不同的同位素一次一个的被分析和注入加速器里。HVE连续注入配备了一个光速屏蔽单元，匹配了同位素经由加速器运转的纳秒精度和持续时间。它消除了对于交流电压需要相对较长的设置时间所引起的不确定性。它允许了一个更高的交流电压频率，这样就可以反过来降低由溅射源的小故障所引起的不利因素，从而优化了其精度。然而 同时注入是一个完全的直流操作连续注射周期，通过强度差异好几个数量级的同位素，通常是介于用于AMS的长寿命的放射性同位素之间。这就导致了加速器不同的束流负载，造成小端电压波动的影响，可能会影响精度。因此同时注入是高精密度加速质谱仪测量的首选方法，然而，同时注入的设备对于相对原子质量更大的元素测量变得不切实际的大和昂贵，但是连续注射可以很容易地覆盖整个周期表。最佳的端电压最佳的端电压依赖于被分析的元素种类和所需的精度要求，背景和检测效率是由应用程序确定的。HVE tandetron AMS 系统适用于不同的终端电压，最高可达6.0MV.磁力和静电抑制HVEtandetrons都配备了大口径高导加速管，沿加速管保持较低的压力。加速管本身配置有一种特有的磁性和静电抑制的装置，用以移除二次电子和在加速段有电荷交换的微电子的背景。高能量的质量分析加速后的剩余的背景在由静电能量分析仪组成的高能质谱仪中进一步减少之后，根据被分析的同位素和不同同位素所需要的背景，决定一个或两个磁铁。稀有同位素测量在两个阳极电离室能够同时测量每个粒子的DE /DX和Efinal，而稳定同位素只能在电子抑制下测量电量。 高能量质谱仪是适用于单一的元素或多个元素。在第一磁极后可以插入一个箔片来引入一个额外的能量差异在同位素和等压背景之间。这就允许移除之后的静电分析仪。10Be元素会需要类似箔片，也可以通过一个光谱仪的真空锁取代。这箔是双金属箔安排专利的一部分，优化了36Cl的一部分检测。

NEC CAMS 规格NEC公司提供0.5MV,1MV,2MV,3MV,4MV，5MV各种不同粒子加速器，可以测试C14,Be,CL,Al,Si,各种气体元素等等 1.5SDH-1质子加速器的性能规格绝缘柱额定电压0.6 MV稳定电压1 kV电压脉动=500 V FWHM （半最大值全宽度）as measured by CPO at 0.5 MV 终端电压单一的带电离子能量范围1.0 MeV充电电流额定值100 微安 (60 Hz Power)83 微安(50 Hz Power)验收测试值13C+0.3 微安最高脉冲电流（0.5 MV终端电压）比率13C/12C精确度0.3%比率14C/13C精确度0.3% 加速器系统附件物理尺寸加速器罐长6' 11"(2.10 m) 直径3' (.92 m)体积45立方英尺1.27M3最大操作压力125 psig（磅/平方英寸）8.79 kg/cm2约重1100磅498 kg加速装置总重4000磅1814 kgSF6 满足80 psig( 5.62 kg/cm2 )重量134磅61 kg离子源喷射器长x宽重量4' 3" x 10' 10"4300 lbs(1.3 m x 3.3 m)1955 kg分析系统长x宽重量4' 9" x 14' 3"11000 lbs1.45 m x 4.35m4990 kg加速器系统 总厂度15' 7"4.74 m磁性注入分析静电分析器重量 1500 lbs6000 lbs1900 lbs 680 kg2722 kg864 kg分析磁铁 宽度x深度高度重量2' 0" x 2' 8"5' 11"880磅0.61 m x 0.80m1.80 m400公斤 设施要求组件电力冷却系统离子源喷射器 120/208 Volt, 60 Hz 5 Wire,Neutral Grounded, 3 Phase 0.8 KVA4.1 gpm (15.5 l/min)20.C or less1.5SDH-1模型 120/208 Volt, 60 Hz5 wire, Neutral Grounded ,, 3 Phase 2.0 KVA120/208 VAC, 60 Hz1.0gpm (3.8 l/min)2.0Cor less90°分析磁场，HE Beamline 120/208 VAC, 60 Hz5 Wire, Neutral Grounded ,, 3 Phase 15.0 KVA20.C or less气压范围2.0 cfm (55 l/min) at 90-100 psig (7-9 atm) for valve operation干氮 20 cf/hr (9.4 l/min) at 10-15 psig (1 atm) to vent beamlines氩气5 atm-liters per ion source venting Supply at 10-15 psig (1 atm)

About NEC(National Electrostatics Corp.)美国NEC公司介绍---The world leader in Megavolt accelerator technology兆伏加速器技术的世界领导者National Electrostatics Corporation (NEC) is the world' s leader in the manufacture of electrostatic ion beam accelerator systems. A private, employee-owned company, NEC was incorporated in Middleton, Wisconsin in 1965 and now has over 90 employees including electrical and mechanical engineers, ion beam system technicians, craftsmen, and other skilled workers. Five of our employees hold doctorates in fields related to ion beam research and design.NEC是世界上领先的制造静电离子束加速器系统公司，公司于1965年成立于美国米德尔顿,威斯康辛州。目前拥有90名员工，其中包括电气工程师和机械工程师，离子束系统技术，工艺和其他技术工人，我们有五位员工持有离子束研究和设计相关领域的博士学位。NEC employees pride themselves on making a wide variety of Pelletron ® accelerator systems to meet customers' needs. To date we have manufactured about 175 Pelletron systems with sales in 44 countries throughout the world. These systems produce ion beams of essentially all stable nuclei with energies ranging from a few keV to hundreds of MeV. The Pelletron is still the world' s only commercially available accelerator which incorporates an all metal and ceramic acceleration tube with no organic material in the vacuum volume.为了满足客户的需求，我们在做各种多种的Pelletron® 加速器系统，这些都让NEC的员工引以自豪。迄今为止，在全球44个国家，我们已经制造并销售了 175套Pelletron的系统。这些系统到目前为止都能稳定的产生几keV到几百MeV不等的离子束。NEC公司的Pelletron 仍然是目前世界上唯一在市销售的包含一个全金属和陶瓷加速管没有有机材料在真空卷的商用加速器。 Pelletron systems range in size and configuration from the highly versatile 25 million volt tandem Pelletron at the Oak Ridge National Laboratory (the world' s highest voltage accelerator), to dedicated analytical instruments using MeV ion beam technology. MeV ion beam instruments are available for standard RBS analysis, channeling RBS, PIXE, micro PIXE and micro RBS, very high-sensitivity accelerator mass spectrometry (AMS) and a wide variety of other materials analysis techniques.NEC公司的高灵敏度和宽配置范围的25万伏串连式静电加速器系统目前应用于橡树岭国家实验室（世界最高电压加速器），采用高能离子束技术，专业分析MeV的离子束 的RBS分析，窜RBS，PIXE，微PIXE和微RBS，NEC在这些测试方面拥有非常高的灵敏度加速器质谱（AMS）和各种各样的其它材料的分析技术。 The Pelletron gets its name from the metal pellet charging chainswhich are highly efficient, provide long life, need little maintenance and provide extremely stable terminal voltage conditions. Pelletron使用寿命长，需要很少的维护，并提供极其稳定的终端电压条件。Pelletron由金属颗粒充电链的高效而因此得名。 NEC specializes in custom-made, one-of-a-kind ion beam systems.NEC专业定制的、独一无二的离子束系统。 初期应用于考古学的C14 记年的加速质谱仪，如今被用于测量例如铍，铝，氯，钙等众多元素的同位素比值。它被应用于地质物理学，海洋学，环境和古气候探究，生物医学，生化动力学，材料研究，监控，原子核，原子物理学和微量元素的分析等诸多领域。

介绍 AMS加速器质谱提供了高精度同位素组成，从克级样品到半克级样品， 通过直接的测量同位素比值。 传统的闪烁计数法 基于放射性衰变和从样品中发射的β粒子的测量， 来提供同位素比例的浓度信息， 而AMS可以在同位素离子分离之后直接各个计数。 AMS超越闪烁计数法，在于AMS需要远少的样品量，并且提供了更高的样品信号由于更高的计数速率。 精度和重复性HVE加速器质谱最重要的特点是“艺术设计”的加速器阵列，其特点就是高度可靠性，突出的低噪音水文，高电压稳定性，低端子电压纹波。 HVE阵列配备一个电子的高压电源，无运动部件。其结果是没有振动，而振动可能会导致终端电压波动。此外，纹波和稳定值和动态行为可提供多年的稳定操作，维护的压力罐中的组件很少，如果需要的话。 AMS使得很多测量成为可能：当样品不能够被通过其他计数技术进行测量时，比如因为没有足够的样品材料或样品数量太高。 对在考古学中最初的应用是在考古学中测量14C ， 现在测量众多元素包括Al、Cl、Ca 和U同位素比。AMS技术被广泛应用在应用地球物理，海洋环境和古气候研究、水文、生物医药、生化反应动力学、材料研究、核不扩散的维护和监测，核和原子物理、核天体物理学和微量元素分析等领域。 灵敏度AMS的绝对灵敏度不是常规质谱能够得到的。AMS解决了干扰问题：源自于分子和分子离子同样的质荷比，当同位素被检测时。典型的最小浓度比，可以被AMS检测到的在10-15 由于精确和重复性是AMS的关键问题，所以稳定性对于加速器质谱而言是非常重要的因素。在实验核物理环境中可以容忍的终端电压瞬变在AMS中是绝对不可接受的，因为它可以破坏从可能不可替代的样品中获得的数据。 同样，终端电压的微小波动也会引起光束通过加速器的变化，从而降低结果的再现性。 单或多元素系统这取决于HVE串列加速器质谱在应用上的两个不同版本： 对应单一元素的专用系统， 或者对应多元素的多元素系统。对应离子束技术的系统扩展性包括离子注入， RBS-C,PIXE,ERD 和 NRA都是一样可以的。 固态以及气态样品HVE串列AMS系统可以配置50（200可选）样品溅射源，可以接受固体或者气体（CO2）进样，这里CO2可以通过地电压导入，使得可以与GC或元素分析仪联用。 HVE的混合AMS离子源的独特特征是离子源本体接地电位。这样非常有利于离子进入，避免了大型高压保护笼的必要性，保证安全无辐射运行。 待分析的样品通过样品盘进入离子源内部，避免了样品与样品在溅射工艺会发生的交叉污染。真空泵直接坐落在附近的离子源体确保最佳的抽速，和在CO2样本的低记忆效应。 离子源和样品盘的气动阀允许离子保持在延长寿命的温度，避免样品盘交换破坏真空。以精确和可重复的方式横向插入源头，使得源维护容易且快速。 精确同位素通过加速器传送的时间。 它消除了从相对稳定时间长的保镖电压产生的不确定性和允许更高的弹跳频率，从而减少源故障从而优化精度的不利影响。 而同时注射是一种直流操作，顺序注射循环通过其中几个数量级之间的同位素强度差异通常与长期使用的放射性同位素的元素的同位素在AMS。这将导致加速器不同的束流加载，从而导致可能影响精度的小端电压波动。 因此，同步注射是高精度AMS测量的首选方法。然而，而同时注射hevier元素的仪器是不切实际的大型和昂贵的，顺序注射可覆盖整个元素周期表。 同时和顺序进样 两个不同的进样概念都可以进行: 同时进样和顺序进样。同时注入不同同位素，分离、分析、重组，同时注入加速器。HVE同时进样器是基于专利的四磁结构，固有的设计，确保重组相同的轨迹和参数设置的独立性。顺序注射不同的同位素分析在HVE时间序列连续注射器注入加速器一个装有光束消隐单元定义纳秒。-------------------更为详细的资料可下载仪器样本。

4102Bo 和4103Bo加速器质谱的技术特点如下： 能做的元素：4103Bo-AMS： 3H，10Be, 14C,26Al,41Ca, 129I和锕系元素；离子源的接地电位，避免了必要的大型高压绝缘笼，确保操作安全；可用作二氧化碳样品和石墨化系统的接口在靠近离子发生器的源体上直接安装真空泵，确保最佳的泵送速度。在CO2样品的情况下记忆效应较低。存储在转盘中的目标物在使用时被运送到源内部以避免样品交叉污染。可以与50或200个样品转盘交换。4102Bo-AMS上使用于降低功耗的永磁体。加速器真空绝缘：不需要使用SF6带有内部电源的加速器避免了易损的高压电缆接口。先进的4103Bo-AMS X射线抑制系统。快速高电压波动器电源，高达100 Hz的循环频率。真正的二维数据采集4103Bo-AMS。自动启动和关闭和自动调整，系统控制和监测以及在线数据分析。所有加载样品的无人值守测量。适合一个标准的实验室房间。快速直接的安装。更多详情可参见样本。

多张片子，多个印迹， 多个实验条件。传统的免疫检测流程中存在很多值得改善的地方。默克密理博秉承一贯 的创新理念，力图使科学研究更加便捷和高效，创新地推出了SNAP i.d.® 2.0加速器，使Western-Blotting和免疫组织化学（IHC）检测 从此变得不同，助您轻松获得免疫检测数据，收获更多研究成就。 SNAP i.d.® 2.0加速器提高免疫检测效率的原理其实很简单：真空驱动 液流（封闭液、抗体、漂洗缓冲液），替代手工对每张膜或单张切片的 操作。因此，原来那些令人厌烦的摇晃、滴加、倾倒和等待等等步骤都 转换成SNAP i.d.® 2.0加速器上的有趣处理。 同时，SNAP i.d.® 2.0加速器有助于实现实验操作的标准化，减少操作 失误，数据结果更稳定也更具可比性。因此，借助SNAP i.d.® 2.0加速 器操作多个WB或IHC，不仅提高效率，而且保障实验结果更可靠。SNAP i.d. ® 2.0加速器在 Western Blotting中的应用传统的Western-Blotting中，各种反应主要靠 液体的扩散，SNAP i.d.® 2.0加速器利用真空抽 吸促使液体穿膜而过，大大减少了反应时间、提 高了操作效率。这种创新的技术使抗原-抗体结 合更快，非特异性结合或吸附降低，漂洗更充 分，而Western Blotting的整体效果更加优化。SNAP i.d.® 2.0 加速器带来的主要改进 &bull 获得结果更快，1天轻松完成WB&bull 多个WB同时操作，便于不同的抗体检测或 抗体优化摸索 &bull &bull 每天高品质的WB数据产出大大提高 &bull 操作标准化，减少对经验的依赖，增加数据稳定性、可比性SNAP i.d.® 2.0 加速器是如何工作的？SNAP i.d.® 2.0加速器充分利用真空抽吸驱动液体进行三维快 速扩散，使免疫检测从现在的几个小时缩短至数十分钟，原理 如图所示：1.真空抽滤使局部的抗原区域中抗体浓度加大，抗原-抗体结 合更有效，孵育时间得以大幅度减少2真空驱动从膜上带走未结合的残余抗体， WB背景信号显著减少SNAP i.d.® 2.0 加速器真空抽吸带来诸多好处：&bull 驱动液体穿膜，更充分的结合 &bull 减少过度封闭造成的信号损失 彻底的“冲洗”替代表面的漂洗 &bull 封闭-孵育-洗膜各个步骤都变得快速有效 &bull 更加快速的实验进程和更加简便的实验操作，带来的是更好 的实验体验！同等的效果，更少的耗时针对不同的样品，为了获得较好的Western Blotting检测效果，常常需要做抗体梯度稀释并进行多次杂交试验，非常费时费 力。采用SNAP i.d.® 2.0加速器进行抗体优化步骤所耗时间大幅减少，工作效率得以显著提高。健康脑和阿尔茨海默病脑样品的Tau-1蛋白Western Blotting检测抗体优化实验健康人脑和阿尔茨海默病人脑样品用CytoBuster&trade 蛋白抽提试剂（目录号71009）裂解。样品经连续稀释并经SDS-PAGE分离。转至Immobilon® -P膜后采用SNAP i.d.® 2.0加速器的MultiBlot，Mini和Midi框分别进行后续操作。 另一个对照印迹则用标准的免疫印迹方法继续操作。所有印迹均以0.5%脱脂奶（NFDM）作为封闭剂，抗Tau1抗体（目录号 MAB3420）和HRP标记山羊抗小鼠二抗（目录号AP124P），反应条件如上所示。Luminata&trade Forte HRP底物孵育后X胶片曝 光15分钟。在SNAP i.d.® 2.0上（采用Blok-CH封闭剂进行封闭） 进行的各种Western Blotting，各种分子量的目的蛋 白均能被很好地检测（下图）。产品订购信息SNAP i.d. ® 2.0 加速器在IHC中的应用我们在创新的真空驱动SNAP® i.d. 2.0系统上 又添加了一项新的功能 - 免疫组织化学检测。 每个IHC框可以固定12张切片，这样你就能同 时对这么多切片进行封闭、结合、染色及漂洗 等操作了。手工操作被大量减少，抗体检测和 各步操作的优化，使SNAP® i.d. 2.0成为提高 IHC效率的最佳帮手。SNAP i.d.® 2.0带来的主要改进：&bull 不需要使用石蜡笔 体可以收集后继续使用 切片操作时间大幅减少 洗涤步骤耗时大幅减少 可同时操作多达24张切片主要优点： &bull 使用灵活，一次可以操作1-24张切片 &bull 与标准IHC切片和操作步骤兼容与各种切片兼容，包括甲醛固定和新鲜冰冻 切片直观的设计 将封闭、洗涤、抗体孵育及标记等步骤 结合起来不需要昂贵的自动化设备而将多个样品 操作系统化 孵育盖上的检测步骤旋钮提示IHC操作进程，减少操作失误SNAP i.d.® 2.0 蛋白检测系统是如何 进行IHC操作的？SNAP i.d.® 2.0基座上是两个独立控制的真空驱 动单元，可以单独运行一个或同时运行两个IHC 框。每个IHC框可以操作1-12个玻璃切片。 每个切片盒上有注入/移除口，用于手工加入和去 除/回收小体积抗体及溶液；不需要的液体可以用 真空抽吸快速去除。 清晰而稳定的染色，更轻松有趣的操作SNAP i.d.® 2.0实际使用效果与传统方法的比较，包括固定化的切片样本SNAP i.d.® 2.0 IHC 系统获得的染色效果与传统IHC操作相当，即使是固定样本也毫不逊色。在下面 的第一个例子中，SNAP i.d.® 2.0用来检测固定的人肾组织切片中的通道蛋白1。请注意照片中可以清 楚地看到近端小管上皮和肾小球等精细的染色效果。在第二个例子中，人脑中预期定位于神经元核的 NeuN信号。尽管同时操作了12张切片，缩短了操作时间，简化了操作步骤，SNAP i.d.® 2.0获得的 染色效果很饱满而稳定，不像全自动染色系统常常出现到处是气泡或污点的糟糕情况。产品订购信息SNAP i.d.® 2.0 IHC系统 基本套装 SNAP i.d.® 2.0 IHC系统基本套装包括了进行相关步骤的全部组件：检测基座，IHC框，孵育盖，切片盒， 组装固定卡，真空连接管，简要操作说明书

技术参数和功能:独特的50/200靶位混合粒子溅射源，接受固体样品和CO2气体样品。即CO2气体从接地电位连续的提供。Bouncer 型低能质谱仪支持快速顺序注入，也支持慢速顺序注入。可旋转的低能静态电子分析器未来可支持添加第二种粒子源。 加速器的所有固态终端电压供电都是长期可靠、稳定，具有最小限度的维护、更新性能。 1.0 MV的电极电压可以测量宽范围的元素，避免同位素干扰。高能分析系统、低能/高能磁铁，支持分析锕系元素。支持结合阴离子同位素分离器。综合全面的数据采集和分析软件。

325MHz-150kW固态功率源放大器是专业应用于粒子加速器领域而研发的产品，它可提供10W-150kW的连续波或脉冲功率。*可实现输出功率的连续调节、输出相位0-360°的调节、脉冲模式下占空比可调节。*同时具有经过内部硬件、软件反馈控制，进一步提高功率、频率、相位等参数的稳定性。*沃特塞恩粒子加速器专用功率源内置环行器和无源负载，可适应各种驻波比的负载应用，并拥有全面的保护功能，具有完备的保护机制和控制功能。沃特塞恩可根据客户需求定制频率、功率、脉冲特性等参数需要详细产品参数请联系沃特塞恩销售人员

崂应5008型 水样抽滤加速器一、产品概述 本仪器可实现采样现场或实验室中水样抽滤的加速，提高使用者工作效率。本仪器参考客户使用中的经验，相比同类产品具有流量大、负压高等优势。二、执行标准 Q/02 QJF-002-2017 崂应 5008 型水样抽滤加速器 企业检验方法 三、产品特点控制系统 独特的LOCS系统设计， 高效快速的过滤水样 抽气采样流量可通过控制旋钮进行无级调节，更加适应不同流量负载下的使用需求动力系统 精密DS.采样泵，耐腐蚀，超低噪音，连续运转免清洗，适应各种工况 进气口采用多级变径不锈钢接嘴，可适应不同的管路连接需要操控系统 外观采用L-Ergo设计，符合人体工程学原理，造型美观便携，耐候性强，坚固耐用OTHER 内置大容量锂电池，可在无外接电情况下长时间使用 采用多功能铝箱，保证使用过程中主机、抽滤瓶的稳定性

S波段电子直线加速器2MeV S-Band Linear Accelerator6MeV S-Band Linear Accelerator10MeV S-Band Linear Accelerator10MeV S-Band Linear AcceleratorStructureSide Coupled Standing WaveOn-Axis Coupled Standing WaveMaterialOFHCLength 15cm40cm70cm150cmFrequency2856MHz2856±0.1MHz2856±0.1MHzQo14,50014,20014,300Shunt impedance 90MΩ/m130MΩ/m60MΩ/m70MΩ/mBeam Energy 2MeV@2KW6MeV@2.5KW10MeV@5KW10MeVBeam Current 500mA 100mA 150mA 100mA

成都沃特塞恩电子生产的1.3GHz-30kW固态功率源放大器是专业应用于粒子加速器领域而研发的产品，它可提供1KW-30kW的连续波或脉冲功率。*可实现输出功率的连续调节、输出相位0-360°的调节、脉冲模式下占空比可调节。*同时具有经过内部硬件、软件反馈控制，进一步提高功率、频率、相位等参数的稳定性。*沃特塞恩专用功率源内置环行器和无源负载，可适应各种驻波比的负载应用，并拥有全面的保护功能，具有完备的保护机制和控制功能。频率、功率、脉冲特性可以根据客户的需求定制想要了解详细技术参数，请联系沃特塞恩销售人员。

奥影 Always Imaging | 高能加速器工业CT AX-8000CTAX一8000CT系列高能加速器工业CT是可以基于客户需求定制的工业CT系统，可以配备使用高能直线加速器作为射线源，检测高密度大型工件。此类设备广泛应用于航空航天、军工、重型机械制造等领域。射线源可选配1-15Mev加速器和450/500kV/600kV双焦点射线源。探测器可选配平板探测器、线阵探测器。

名称Libera LLRFLibera SyncLibera Reference Master Oscillator型号LLRFLSYNLRMO详细说明数字低电平射频系统操作模式可选：连续、脉冲、混合提供快反馈闭环提供腔调谐信号实时监测和诊断提供设备保护提供温度补偿提供IOC支持EPICS时钟同步系统166.7MHz~3GHz点频可定制长时间稳定性超低信号抖动可达5km传输距离提供温度和噪声补偿时钟信号发生器166.7MHz~3GHz点频可定制14路每机箱超低信号抖动长时间信号稳定性提供锁相功能提供温度和噪声补偿提供实时监测名称LiberaAmplifier 110Libera CavityBPM型号LAMPLCAV详细说明宽频低噪信号放大器针对加速器信号设计输出信号幅度可达±2V峰峰值带宽40kHz到55MHz用于自由电子激光FEL支持S波段C波段腔体，并可针对不同的Q值逐束团数据信号处理，束团间隙最小16ns3GHz/6GHz版本可扩展：降频器，连锁输出，实时数据流，模拟信号输出，数字（串行）I/O接口提供IOC支持EPICS

NRM-A200医用电子加速器M区内外测量支架技术参数:满足WS674-2020、GBZ126-2011和GB9706.5-2008的医用电子加速器性能防护中测试要求结构简单，优化工作流程，一次摆位可以解决近48个位点的剂量测试

TT8010 系列高压电源提供功率高达 2kW，最高输出电压可达 450kV，全范围可调。电源采用专有控制的高频谐振逆变器，使其可以在极端环境下可靠运行。高压倍压单元采用了固体封装和空气绝缘的混合设计，减少了整体尺寸。 典型应用：离子注入；粒子加速器；电子枪产品规格输入（标准）220VAC±10%，16A，单相，50/60Hz。输出200kV 至 450kV 等多种最高输出电压可选，最大输出功率 2kW。0到最高电压连续可调，输出正负单一极性。 悬浮电源模块（可选）前面板状态指示高压开、高压关，电压电流显示，过压、过流、短路、电弧和过温保护，电源还具有错误代码显示功能。电压调整率相对负载0.01%（空载到额定负载）。相对输入±0.01%（输入电压变化为±10%）。电流调整率相对负载0.01%（空载到额定负载）。相对输入±0.01%（输入电压变化为±10%）。纹波电压额定输出条件下，纹波电压的峰峰值为最高输出电压的 0.004%（更低纹波可选）。环境温度工作时 0℃到+50℃。储存时 -20℃到+80℃。温度系数25ppm/℃。稳定度0.5 小时预热之后，每小时小于 0.01%。每 8 小时小于0.05%。电压电流指示四位 LED数码管，额定输出条件下准确度为±1%。慢启动标准6秒。保护过压、过流、电弧、过温保护。尺寸（逆变器驱动机架）宽482mm，高133.5mm，深320mm。倍压单元见外形尺寸附表。通讯接口DB25、RS-232、RS-485和网口。

电子直线加速器-X波段Structure：On-Axis Coupled Standing WaveMaterial: OFHCLength: 25cmFrequency: 9400MHzQo: 8,500Shunt impedance 70MΩ/mBeam Energy: 1MeV@250KWBeam Current: 150mAS波段电子直线加速器 2MeV S-BandLinear Accelerator6MeV S-Band Linear Accelerator10MeV S-BandLinear Accelerator10MeV S-BandLinear AcceleratorStructureSide Coupled Standing WaveOn-Axis Coupled Standing WaveMaterialOFHCLength 375px1000px1750px3750pxFrequency2856MHz2856±0.1MHz2856±0.1MHzQo14,50014,20014,300Shuntimpedance 90MΩ/m130MΩ/m60MΩ/m70MΩ/mBeamEnergy 2MeV@2KW6MeV@2.5KW10MeV@5KW10MeVBeam Current 500mA100mA150mA100mA

C-Band Linear Accelerator10MeV C-Band Linear Accelerator10MeV C-Band Linear AcceleratorStructureOn-Axis Coupled Standing WaveMaterialOFHCLength25cm90cmFrequency9400MHz5712±0.1MHzQo8,50011,000Shunt impedance70MΩ/mBeam Energy1MeV@250KW10MeV@4KWBeam Current150mA100mA

法国IBS IMC210中束流离子注入机 离子注入机由离子源、质量分析器、加速器、四级透镜、扫描系统和靶室组成，可以根据实际需要省去次要部位。离子源是离子注入机的主要部位，作用是把需要注入的元素气态粒子电离成离子，决定要注入离子的种类和束流强度。离子源直流放电或高频放电产生的电子作为轰击粒子，当外来电子的能量高于原子的电离电位时，通过碰撞使元素发生电离。碰撞后除了原始电子外，还出现正电子和二次电子。正离子进入质量分析器选出需要的离子，再经过加速器获得较高能量，由四级透镜聚焦后进入靶室，进行离子注入。 离子注入机是集成电路制造前工序中的关键设备，离子注入是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入与常规热掺杂工艺相比可对注入剂量、注入角度、注入深度、横向扩散等方面进行精确的控制，克服了常规工艺的限制，提高了电路的集成度、开启速度、成品率和寿命，降低了成本和功耗。离子注入机广泛用于掺杂工艺，可以满足浅结、低温和精确控制等要求，已成为集成电路制造工艺中必不可少的关键装备。 特点：l精确控制离子束流l精确控制加速电压l占地小, 操作简单, 运行成本低l特别适合于研发应用l适用于4”~6”晶片，最小可用于1*1cm2样品（室温）l4”热注入模式，最高温度可达600度l2个带有蒸发器的Freeman离子源，可使温度达750度l1个Bernas离子源l非凡的铝注入能力l一个主气箱，配有4个活性气体管路；一个副气箱，配有4个中性气体管路l高价样品注入能力l注入角0~15度lIBS特有的矢量扫描系统l手动装载/卸载用于标准注入和热注入，自动25片cassette 装载用于标准腔室l远程操作控制接触屏（5米链接线缆）l辐射低于0.6usv/hour 工艺性能

1. 产品概述离子注入机是高压小型加速器中的一种，应用数量最多。它是由离子源得到所需要的离子，经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流，用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入，还用于金属材料表面改性和制膜等。2. 设备特点单价离子大加速能量≥200keV，并增加减速系统实现单价离子在5keV~200keV的能量范围可用于2、3、4、6、8英寸晶圆以及不规则碎片可注入B、P、As、Al、S、H、Mg、Si离子注入剂量精准度≤1.5%离子注入剂量范围：1×1011 at/cm2～1×1016 at/cm2离子源部分：离子源、离子源气体系统和离子源引出系统离子源系统搭载5套从固体蒸发源产生离子的Vaporizer，温度达700℃，实现固态源的离子注入离子注入倾斜角度在0°和7°室温台：0°和7°；高温台：0°束流调整系统主要包括：质量分析器、束流汇聚系统、加速系统、扫描系统、束流检测和高压绝缘变压器 真空系统主要包括：Ion Source真空系统、Beam Line真空系统、End Station真空系统、真空系统中的真空管件和阀门以及真空检测单元真空度：Ion Source真空度：≤7×10-4PaBeam Line真空度：≤7×10-5PaEnd Station真空度：≤7×10-5Pa

VacIon Plus 1000 L/s 离子泵可为大型系统提供出色的分析速度。可用于需要达到超高和极高真空状态的应用，是用于粒子加速器和重力波干涉仪的理想选择。该离子泵具有三种元件类型。二极离子泵元件适用于通用的 UHV 和 XHV 应用，在此应用中氢气抽速至关重要，系统很少排气或发生空气泄漏。三极离子泵元件可处理大量惰性气体（优于改进型二极离子泵）和氢气（与二极离子泵相当），对甲烷、氩气和氦气具有最高的抽速和容量。改进型二极离子泵元件适用于需要抽送残留惰性气体的通用 UHV 和 XHV 应用。 特性：配备三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以为不同气体提供最佳抽速配备 ConFlat 12 英寸非旋转型法兰、额外 ConFlat 孔、双端和侧孔，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、Safeconn）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求

广州酸性 中性 铜离子加速盐雾检测-价格实惠 安普检测中心是专业第三方检测机构，出具检测报告安普检测的服务优势在于以更短的检测周期和更低的服务价格，为客户节约成本和周期，帮助客户快速获取准确有效数据，并为客户提供后期技术服务支持。安普检测作为平台化运营品牌，与国内外多家实验室建立了良好的合作关系，旨在为客户、行业提供更优质的检测咨询服务盐雾测试是一种主要利用盐雾试验设备所创造的人工模拟盐雾环境条件来考核产品或金属材料耐腐蚀性能的环境试验。它分为二大类，一类为天然环境暴露试验，另一类为人工加速模拟盐雾环境试验。人工模拟盐雾环境试验是利用一种具有一定容积空间的试验设备——盐雾试验箱，在其容积空间内用人工的方法，造成盐雾环境来对产品的耐盐雾腐蚀性能质量进行考核。盐雾腐蚀腐蚀是材料或其性能在环境的作用下引起的破坏或变质。大多数的腐蚀发生在大气环境中，大气中含有氧气、湿度、温度变化和污染物等腐蚀成分和腐蚀因素。盐雾腐蚀就是一种常见和有破坏性的大气腐蚀。这里讲的盐雾是指氯化物的大气，它的主要腐蚀成分是海洋中的氯化物盐——氯化钠，它主要来源于海洋和内地盐碱地区。盐雾对金属材料表面的腐蚀是由于含有的氯离子穿透金属表面的氧化层和防护层与内部金属发生电化学反应引起的。同时，氯离子含有一定的水合能，易被吸附在金属表面的孔隙、裂缝排挤并取代氧化层中的氧，把不溶性的氧化物变成可溶性的氯化物，使钝化态表面变成活泼表面。造成对产品极坏的不良反应。盐雾盐雾是指大气中由含盐微小液滴所构成的弥散系统，是人工环境三防系列中的一种，很多企业产品需模拟海洋周边气候对产品造成的破坏性，盐雾试验就是模拟这种现象的产生，所以检测设备--盐雾试验箱应运而生。盐雾试验分为中性盐雾和酸性盐雾两种，其区别在于符合的标准与试验方法不同，又名“NSS”和"CASS"试验，是人工三防气候中常见的一种测试方法。箱体材质：试验箱整体为进口PVC增强硬质塑料板，表面光洁平整，并耐老化、耐腐蚀；易清洗、无泄露，摒弃玻璃钢材质因时间而产生表面退色、纤维化材质结构箱盖材质：全透明进口耐冲击板材制造，便于试验时观测试验样品受试状况盐水桶材质：进口PVC板， 超大盐水箱设计，杜绝因缺少盐水而中断试验高压空气管材料：铜管或橡胶管饱和空气桶：采用进口不锈钢（SUS304）板；采用亨利定律，予以加温加湿，并提供实验所需之湿度（饱和空气桶作用：针对压缩进去的空气加热、加湿以及油过滤）试验箱所有管道均采用加厚型氟硅橡胶管，十五年可保持不老化及龟裂试验方法可做试验方法：中性盐雾试验（LRHS-108-RY）盐雾试验（LRHS-270-RY）醋酸盐雾试验（LRHS-412-RY）铜加速醋本能试验高温湿热试验试验温度：a.中性盐雾试验：试验室：35℃±1℃，b.饱和空气桶：47℃±1℃、酸性腐蚀试验：试验室：50℃±1℃，b.饱和空气桶：63℃±1℃，也可以按JIS、CNS等标准设定参考标准盐雾试验参考标准：GB/T 2423.17，IEC60068-2-11,ISO4628-3, ASTM B117, JIS-Z2371, JIS-G3141, GJB 150.1, MIL-STD-810F, MIL-STD-883E等。判定方法盐雾试验的目的是为了考核产品或金属材料的耐盐雾腐蚀质量，而盐雾试验结果判定正是对产品质量的宣判，它的判定结果是否正确合理，是正确衡量产品或金属抗盐雾腐蚀质量的关键。盐雾试验结果的判定方法有：评级判定法、称重判定法、腐蚀物出现判定法、腐蚀数据统计分析法。评级判定是把腐蚀面积与总面积之比的百分数按一定的方法划分成几个级别，以某一个级别作为合格判定依据，它适合平板样品进行评价。称重判定是通过对腐蚀试验前后样品的重量进行称重的方法，计算出受腐蚀损失的重量来对样品耐腐蚀质量进行评判，它特别适用于对某种金属耐腐蚀质量进行考核。腐蚀物是一种定性的判定法，它以盐雾腐蚀试验后，产品是否产生腐蚀现象来对样品进行判定，一般产品标准中大多采用此方法。腐蚀数据提供了设计腐蚀试验、分析腐蚀数据、确定腐蚀数据的置信度的方法，它主要用于分析、统计腐蚀情况，而不是具体用于某一具体产品的质量判定。

信安真空科技（江苏）有限公司2018年建设启东生产基地，成立信安真空科技（江苏）有限公司。旨在形成稳固的产品服务供应链，进一步推动中国真空领域及未来工业化应用的市场发展，并服务于全球的真空市场。为致力于中国快速增长的真空需求市场提供全套专业的解决方案，信安真空建立了产品解决方案中心，将发展重点由高能粒子加速器科研领域开始，逐步扩展到真空技术在半导体、新能源、超导、X射线、航天航空材料热处理、核能等工业化领域的高端应用，为其提供系统完整的真空技术解决方案，包括专业的技术支持、成套生产设备和产品供应服务。如有疑问请在此联系我们。

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