公益林建设

陕西修业临颖建设工程公司致力于高端实验室规划及咨询、实验室工程设计与技术服务的智慧实验室系统解决方案服务，自成立以来，公司致力于为国内一线科研用户提供实验室整体设计、施工及智能化解决方案服务，凭借实验室领域权威的专家团队和丰富的设计经验，陕西修业临颖获得了市场及用户的高度认可，并与各大领域科研机构达成战略合作，共建智慧实验室，打造未来实验室建设与改造的标杆。 我们的优势 真的站在用户的角度并具备极强的需求洞察能力量 具备优秀的资源整合能力 具备专业的解决用户难题的能力 具备岗位专家所具有的素质、能力和作风 具备高效协同的意识和持续创新的能力 我们的理念 功能性：实验室建设的好坏，最核心的内容是试验区域内的仪器设备是否能最大限度发挥效用，达到科研、教学等方面的要求。　 人性化：适当地色彩搭配、对于非功能性区域的合理布置，让实验者在紧张的工作之余享受人文关怀。 前瞻性：随着城市发展，周围设施的变化，环境会有变化。会影响到电子显微镜的使用。所以，及为保证长期有效使用及为预防未来周边环境环境恶化计，设计和建设需要有一定的前瞻性。 美观性：实验室建设改过程中，选择明快亲切的色彩，符合人体工程学的外形尺寸，方便、美观大方的样式，为实验室工作人员提供安全、舒适的工作环境。　 我们的设计原则 核心：以科研为中心进行设计创作。 舒适性：舒适的室内设计是离不开充足的阳光，无污染的清晰空气、安静的氛围，在本方案中，采用室内空间与光线的配合，营造出轻松安静的氛围。 概念：本次设计针对性较强，为生命科学科研实验室，本次方案设计中我们想打破那种气氛沉河的科研气氛，从色彩以及材料上入手使得整个空间突破压抑的气氛，在长时间的科研后，从视觉上对人进行一种视觉上的放松，从而优化整个科研空间。我们会从从家具的选择到空间中的排列、摆放，还有颜色的描配上，使空间具有独特的精神与心理需求的设计为高目的。，在发挥现有的物质条件，在满足使用功能的同时，来实现并创造出巨大的精神价值。 欧波同希望携手各电子显微镜使用单位共同打造专属功能合理、环境优良的实验室环境。

莱伯泰科公司一直致力于实验室工程整体解决方案，秉承安全、环保、节能、高效和新颖的国际化先进理念，不断创新，形成了独特的实验室建设模式，为国内实验室用户提供了优质的超净实验室建设整体解决方案。以专业的实验室理论、独特的设计理念和丰富的实践经验为您的实验室提供设计合理的净化通风空调系统，保证超净实验室实用、安全和舒适。安全高效的电气及自动控制系统温度、湿度、压力等工作状态实时监控，莱伯泰科公司专业开发的多点式自动控制核心技术保证了超洁净实验室的高效运转。安全便捷的集中供气系统根据实验室的运行情况为您量身定做气体管道系统，选择合适的配置，达到最佳气体输送要求，对有毒有害气体进行专业化安全处理。实验室纯水供应系统普通区高纯水进回水管道采用Clean-PVC材质，洁净区进回水管线采用PVDF材质，实验室内设置二次超纯，超纯水机出水水质低于18.2（25℃）MΩcm。高效环保的废气废水处理系统根据用户使用环境以及实验要求，莱伯泰科公司提供自主设计的干法和湿法废气处理解决方案以及实验室废水处理解决方案，保证实验室环境的清新和净化。

一、公益诉讼快速检测实验室项目背景1.1 建设现状检察机关近年来积极开展公益诉讼工作以来，取得了巨大成就，得到了社会各界的肯定。然而，开展公益诉讼案件调查取证，特别是环境损害类案件的勘验检查和司法鉴定，一直是工作的难点。检察机关该如何破解这一难题，打好污染防治攻坚战，更好地维护老百姓的根本利益，让人民群众安居乐业，最高人民检察院副检察长张雪樵提出，在公益诉讼办案中，技术检测和鉴定居于初始性、基础性地位，对于发现线索、形成案件、界定权益和提起诉讼具有决定性作用。为解决严重制约环境公益诉讼长远发展的鉴定难问题，最高检党组强调要与生态环境部等有关职能部门加强协调配合，推动建立一批省级院层面的生态环境、食品药品类公益诉讼司法鉴定、检测实验室和分市院层面的简易快速技术检测室。但是在了解各省级检察机关后发现：实验室成立的初期对侦查装备配备缺乏统一标准，普遍存在装备配备不足等问题，难以适应当前日益严峻的环境损害及食品药品类犯罪形势。1.2 建设目标公益诉讼新型实验室，是基于公益诉讼勘查检测业务面临的技术、人才、资源情况，构建的一体化解决方案。通过采用先进检测设备，利用先进信息技术手段，提供智能辅助功能，在多措并举的确保勘查检测业务质效的同时，提高检察机关公益诉讼办案能力。公益诉讼新型实验室建设，以美观、精准、方便为原则，实现实验过程指引和全链条数据呈现。同时兼具实验室快检能力和移动快检能力的全天候检测能力。公益诉讼新型实验室具备水质、土壤、大气生态环境、果蔬农残、食品安全、保健品安全，生物安全、日化用品、自然资源等领域的检测能力。通过模块化分区构建全覆盖检测能力，通过智能化实验室和大数据挖掘，实现勘查检测全流程、全线条管理。二、检测仪器配套需求公益诉讼快速检测实验室配备食药安全检测仪、土壤重金属检测仪、多参数水质测定仪、复合气体检测仪、噪音计等快检仪器以及采样器材、样品保管箱、便携式公益诉讼现场勘查箱等辅助设备，能够通过现场取样、现场检测等方式快速初步判断现场水体、土壤和大气粉尘的污染类型、污染范围以及食品药品中有毒有害成分和非法添加物等，可以对环境污染、非法采矿、食药安全等多类即时性公益损害案件的办理发挥重要作用，为公益诉讼提供优质的技术支持保障。1、食品安全快速检测需求根据检察机关公益诉讼的实际情况和需求，食品类安全快速检测设备应该能够涵盖营养成分、农药残留、兽药残留、重金属、食品添加剂、非食用化学添加物、微生物等。序号名称型号功能介绍1多功能食品安全检测仪IN-GS300集成化食品安全快速检测分析设备，包含非食用化学物质、滥用食品添加剂、农药残留、兽药残留、重金属、病害肉、营养强化剂、抗生素类残留、激素类残留、真菌毒素类残留、化学类残留等现场的定性定量检测。2ATP荧光检测仪IN-ATP+快速检测样品中微生物与其他生物残余的多少，用于判断卫生状况。3油品质量检测IN-SYP快速、安全、高效食用油品质检测仪，能够快速检测食用油中的极性化合物组分含量。本产品能够在油温较高的环境下使用，适用于各种煎炸的食用油品质检验。2、水质安全快速检测需求检测污水、饮用水等水质的 COD、氨氮、总磷、总氮指标，水中铜、镉、铅、锌等重金属等水质毒理指标。拟推荐设备如下：序号名称型号功能1多参数水质检测仪IN-SZ700生活污水、工业废水、地下水、中水、地表水中多种水质污染物的检测。采用军用级高强度防水手提安全箱一体化设计，360°旋转检测模块，双温区消解模块，数字化集成系统，彩色液晶触摸屏，进口光源，水质专用光纤检测系统，内置高容量锂电池，仪器性能稳定、测量准确、测定范围广、功能强大、操作简单。2水质重金属检测仪IN-SZ20检测饮用水、地表水、地下水等一般环境水样和中轻度污染废水中重金属离子。3生物毒性检测仪IN-SDX水质生物毒性检测仪是用于实验室的新一代生物急性毒性分析仪，是一种基于生物荧光传感技术的毒性检测系统，根据发光细菌在新陈代谢时发光强度的变化进行定性和定量检测。与传统的鱼、蚤和其它水生生物作为生物检测方法相比，发光细菌法简便、快速、灵敏、适应性强、重复性好、精度高、费用低、用途广，针对环境污染、紧急事故、安检及常规检测等目的而设计的水质毒性快速检测仪器，可用于现场水中重金属、毒剂、神经毒剂、农药制剂等物质总体毒性检测。3、土壤安全快速检测需求检测土壤的重金属等污染指标。拟推荐设备如下：序号名称型号功能1土壤重金属检测仪IN-HT500高智能土壤多参数测试系统可对土壤、肥料、作物、蔬菜、水果、水质、食品等样品中的砷、铅、镉、铬、汞、铁、铝、锌、锰、铜等进行快速联合测定，及相关养分含量测定。安卓智能操作系统，数据可无线传输到监管平台。4、环境安全快速检测需求检测空气的可吸入颗粒物及多种气体指标、噪音是否超标，拟推荐设备如下：序号名称型号功能1多气体检测仪XS-2000CO、O2、H2S、可燃气体四合一检测功能2手持VOC检测仪XS-2000-VOC光离子原理检测空气中VOC含量3粉尘仪GT-1000-K-PMPM0.3、PM1.0、PM2.5、PM10 四通道用于各种无尘车间、洁净室、公共环境等场所的粉尘粒子浓度监测。4多功能声级计测量噪音水平5、现场勘查取证序号名称型号功能1无人机公益诉讼取证2公益诉讼勘查箱现场勘查取样和常见有毒有害物质快速检测6、其他配套设备需求序号名称用途及规格1水质采样器水质采样2土壤采样器土壤取样及样品储存3前处理一体机样品浓缩、水浴恒温、离心分层、均质、振荡功能五合一前处理4采样箱样品采样5超声波清洗机实验用品的清洗6超纯水机所需纯水的制备7恒温干燥箱恒温、干燥8冰箱试剂和样品存储9粉碎机样品粉碎处理10便携式冷藏箱提供外出取证办案冷藏环境11常用配件耗材移液枪50012枪头13烧杯25ml、50ml、100ml、250ml、500ml14量筒5ml、10ml、25ml、50ml、100ml15容量瓶50ml、100ml、200ml、250ml、500ml、1000ml16漏斗90mm、100mm17三角瓶50ml、100ml、150ml、250ml18铁架台19滤纸液体过滤20称量纸称量用品21试管架22研钵样品研磨粉碎23滴定管精准滴定溶液，碱式滴定管、酸式滴定管24药勺称量器具25称量皿称量器具26温度计27废液桶28垃圾桶29实验服30橡胶手套31护目镜32操作台（带水槽）根据场地设计33通风柜通风柜、离心风机、电子风阀、管道34试剂柜2个35空调36电脑、打印机档案资料存储、打印，各2台二、公益诉讼智能勘检平台检察机关提起公益诉讼是全面推进依法治国、建设法治政府的重要举措。公益诉讼信息管理平台通过汇集互联网海量公益诉讼数据，统一构建检察院数据资产体系，对采集的信息进行筛选、分流、评估、研判及预警，帮助确定生态环境和资源保护、食品药品安全、国有财产保护、国有土地出让等领域的侵害公共利益适格原告主体，为诉讼执法监督提供有效支撑、为法治政府建设提供科技化服务。平台系统预制空气、流体、食药、土壤、噪音等检验指标、检验依据和检验方法。从如何取样、是否需要前处理，到判定检测指标是否合格均有明确提示，帮助业务人员快速上手。充分考虑业务流程，将业务流程细化，把各个涉及业务的部门紧密衔接，平台内预制文件及表单，从案件来源到出具检测报告，均可在平台上完成。支持平台与检测设备数据传输，减少人为干预，增加检测可靠性与准确性，可快速确定勘验检验结论。通过案件区域、案件性质、案件完成情况等多个维度的组合获取实时业务指标，利用数据可视化将业务指标展示给领导层，用于辅助决策和业绩汇总。1、系统组成主要功能3、流程概述任务流程：自任务来源开始，到通过审批进行实地勘检为止，均通过系统进行内部文件流转勘验检验流程：实地勘检为起点到出具检验报告之前为勘验检验流程。报告流程：检验报告、检验结果认定等文书类流程数据处理及分析：通过时间维度、任务性质维度组合地点、人员等其他维度进行大数据展示部门及用户管理：可管理当前系统内部门、用户或下级单位的部门及用户通过公益诉讼各检测技术的实施，协助检察官准确、全面的了解公益诉讼真实线索情况，让检察官高效筛选有价值线索，避免有效信息淹没于海量数据，聚合同一事件线索并生成分析报告，辅助承办人收集、分析线索、审查缺失证据，拓宽承办人的线索发现渠道，缩短线索分析时间，协助检察官高质效的履行公益诉讼职责。

检察院公益诉讼快速检测工作，是检察机关努力践行公共利益代表职责使命，推进公益诉讼工作开展的有力技术手段。面对危 害环境资源、食品药品安全等事件，合理利用公益诉讼检测实验室便携设备，如：多功能食品安全检测仪、ATP荧光检测仪、 便携式多参数水质检测仪、食用油品质检测 仪、土壤重金属检测仪、水质重金属检测仪、手持式生生物毒性检测仪、生物毒 性检测仪、无人机、肉类水分测定仪、多气体 检测仪、激光粉尘检测仪、多功能声级计、恒温箱、前处理一体机、超声波清 洗器、净气型通风柜、PP酸碱柜等，积极行动，实地快速取样，把监督、监管工作做到位。　　检察院公益诉讼检测办案人员工作要求：　　1、以快速检测实验室为中心，贡献检察办案人员的智慧和经验。　　2、以办案业务需求为导向，提升检察公益诉讼办案质效。　　3、以强化保护公共利益为目标，夯实检察技术工作发展基础。　　4、以提升检察公信力为导向，助推公益诉讼检察高质量发展。　　公益诉讼实验室方案助力大家不断完善公益诉讼快速检测实验体系，整合力量，凸显优势，推动公益诉讼检察业务规范、高效开展。公益诉讼快速检测实验室建设项目清单序号检测设备基本参数型号数量1多功能食品安全检测仪检测项目： 食品添加剂：二氧化硫、双氧水、亚硝酸盐、硝酸盐、苯甲酸钠、山梨酸、糖精钠、甜蜜素、安赛蜜、硫酸镁等有毒有害物质：甲醛、吊白块、硼砂、过氧化苯甲酰、工业碱、溴酸钾、罗丹明B、三聚氰胺、苏丹红等果蔬中：农药残留，病害肉诊断：组胺、挥发性盐基氮、肉制品酸价、水发产品中组胺重金属含量：铅、镉、铬、汞、砷、锡、镍、铝。食用油脂检测：过氧化值、酸价、油脂丙二醛等。瘦肉精激素类（兽药）：盐酸克伦特罗、沙丁胺醇、莱克多巴胺、己烯雌酚、喹乙醇等抗生素残留类（兽药）：四环素类、硝基呋喃类、磺胺类、沙星类、喹诺酮类、氟苯尼考、庆大霉素、链霉素、阿莫西林、红霉素等水产品安全类：孔雀石绿、氯霉素、呋喃妥因代谢、呋喃西林代谢、呋喃它酮代谢、呋喃唑酮代谢、地西泮等真菌毒素类：食用油、粮食及饲料中黄曲霉毒素B1、奶中黄曲霉毒素M1、呕吐毒素、玉米赤霉烯酮、赭曲霉毒素A等水酒饮品分析：乳品及牛奶中蛋白质；酒中甲醇、乙醇、杂醇油；蜂蜜中果糖和葡萄糖、蔗糖、淀粉酶、酸度；水中氰化物、余氯，饮料中维C等调味品成分：食醋的总酸、酱油的总酸、芝麻油纯度、谷氨酸钠、酱油氨基酸态氮、食盐中亚铁氰化钾、食盐中碘等食用色素类：红色色素（胭脂红、苋菜红、赤藓红、诱惑红）、黄色色素（柠檬黄、日落黄）、蓝色色素（亮蓝）等动物疫病类：猪蓝耳病毒、猪瘟病毒、猪伪狂犬病毒、猪伪狂犬病毒gE蛋白、猪口蹄疫3ABC蛋白、猪口蹄疫病毒IgG、猪细小病毒、鸡禽流感等10英寸液晶触摸屏显示，24通道检测池，双胶体金检测通道。IN-GS30012ATP荧光检测仪ATP荧光检测仪广泛应用于：细菌微生物检测、医药卫生、食品安全、市场执法、表面洁净度检测、医疗防疫、水质水政、生产线卫生、工业水处理、环保检测、海关出入境检疫及其他执法部门等多种行业。仪器同时具有wifi联网功能、蓝牙传输、数据线连接电脑多种上传方式，并配有在线监管平台，历史数据可以无线上传到软件平台，进行历史数据分析、统计。历史数据可以呈现曲线趋势图、饼状图等。通过平台可以实现用户的卫生监测与计划管理。同时可excl形式点对点瞬时上传移动端，方便手机共享阅读数据。操作程序：安卓系统，可中英文切换显示屏：3.5英寸高精度图形触摸屏IN-ATP+13便携式多参数水质检测仪检测项目： 分光模块：COD、氨氮、总磷、总氮、磷酸盐、六价铬、总铬、镍、总镍、铜、总铜、锌、总锌、铁、总铁、锰、总锰、砷、总砷、二氧化硅、苯胺、硝酸盐氮、亚硝酸盐氮、总氯、余氯、氯离子、镉、铅、钛、钒、银、铝、硼、锡、铍、钡、锑、汞、钴、高锰酸盐指数、硫酸盐、氟化物、硫化物、氰化物、总氰化物、挥发性酚、甲醛、双氧水、阴离子表面活性剂、色度、浊度、悬浮物、溶解氧、有效氯、尿素等几十余种。内置双温区8孔消解仪IN-B10014食用油品质检测仪IN-SYP是一种快速，安全，高效食用油品质检测仪，能够快速检测食用油中的极性化合物组分含量。本产品能够在油温较高的环境下使用，适用于各种煎炸的食用油品质检验。IN-SYP15 土壤重金属检测仪检测项目：土壤、肥IN-SYP是一种快速，安全，高效食用油品质检测仪，能够快速检测食用油中的极性化合物组分含量。本产品能够在油温较高的环境下使用，适用于各种煎炸的食用油品质检验。操作系统：Android5.1操作系统，四核处理器主控，CPU主频≥1.8Ghz，16G大容量内存7.0寸彩色液晶显示屏（分辨率：600*1024）内置中英文双语显示，一键切换，无缝对接。密码登录及指纹登录双重保护，可根据需求设置多账户，保障检测数据的安全和分类。IN-ZS30016水质重金属检测仪检测项目： 六价铬、总铬、镍、总镍、铜、总铜、锌、总锌、铁、总铁、锰、总锰、砷、总砷、总氯、镉、铅、钛、钒、银、铝、硼、锡、铍、钡、锑、汞、钴等几十余种。IN-BZ17手持式生生物毒性检测仪检测原理： IN-DXS型执行三重功能：毒性测试、ATP检测和确定微生物污染；使用自然界中存在的发光菌进行毒性测试，这种细菌在正常的新陈代谢过程中伴随发光，如果置于有毒环境中，它们的细胞呼吸过程受到影响，造成发光量的减弱。IN-DXS型的发光检测器测量发光菌暴露在有毒环境之前和之后的发光量，发光量的减少程度对应了毒性的强弱。IN-DXS18生物毒性检测仪IN-DX型水质生物毒性检测仪是用于实验室的新一代生物急性毒性分析仪，是一种基于生物荧光传感技术的毒性检测系统，根据发光细菌在新陈代谢时发光强度的变化进行定性和定量检测。与传统的鱼、蚤和其它水生生物作为生物检测方法相比，发光细菌法简便、快速、灵敏、适应性强、重复性好、精度高、费用低、用途广，针对环境污染、紧急事故、安检及常规检测等目的而设计的水质毒性快速检测仪器，可用于现场水中重金属、毒剂、神经毒剂、农药制剂等物质总体毒性检测。符合国标 “GB/T15441-1995 水质急性毒性的测定—发光细菌法”和国际标准（ISO 11348-3）。IN-DX19无人机公益诉讼取证IN-APS110肉类水分测定仪肉类水分检测仪主要用于快速猪肉、牛肉、鸡肉等动物肉类水分含量，从而判断所测样品是否为注水肉，该仪器设计精巧，单手可持，仪器可根据测定对象的品种，设定相应的判断标准值。 IN-RS111多气体检测仪CO：0-1000PPM 1PPM 进口电化学 ≤±3% 24小时EX：0-100%LEL 0.1%LEL 进口催化燃烧 ≤±3%O2：0-30%VOL 0.01%VOL 进口电化学 ≤±%H2S：0-100PPM 0.01PPM 进口电化学 ≤±3% GT903-K4112激光粉尘检测仪PC-3A型激光可吸入粉尘连续测试仪（以下简称袖珍式粉尘仪）主要用于公共场所空气中颗粒物（PM10，PM2.5）浓度，是疾病预防控制中心，卫生监督，环境灰尘监测等部门实时快速测量以上项目的新一代智能化测量仪器。PC-3A113多功能声级计测量噪音水平114万分之一天平精密测重115恒温箱恒温、干燥116前处理一体机样品前处理，样品浓缩、水浴恒温、离心分层、均质、振荡功能五合一 117超声波清洗器清洗实验室工具、器皿118冰箱用于试剂及样品储存119纯水机用于简单试剂，配置器皿，冲洗仪器用水等所需纯水的制备120净气型通风柜通过高效分子过滤器吸附过滤有毒有害气体和粉尘，有效保障实验室操作人员和环境安全121PP酸碱柜用于危险化学品储存柜，耐酸碱试剂122实验室器皿洗瓶、角勺、铝盒、吸球、比色皿等一宗23推车物资运输2辆24口罩防护使用若干25防护衣防护使用4套 　　为了完善生态环境和资源保护，落实公益诉讼检测实验室建设是非常有必要的，需要多方共同协作设立公益诉讼检测实验室； 只有多方共同配合，公益诉讼检测才能更好的实施下去，同时提升公益诉讼办案质效。　　检察院公益诉讼检测实验室可以为公益诉讼案件提供专业咨询、勘验检查、检测鉴定等技术支持，有效解决了公益诉讼办案过 程中遇到的各类难题，提高了办案人员的工作效率。

1. 产品概述iTops PVD AlN 溅射系统，采用托盘形式，可兼容 2/4/6 英寸。2. 设备用途/原理iTops PVD AlN 溅射系统，采用托盘形式，可兼容 2/4/6 英寸，工艺温度在 0~700℃之间。占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便，设备稳定，运营成本低。3. 设备特点晶圆尺寸 2/4/6 英寸兼容。适用材料氮化铝。适用工艺氮化铝缓冲层溅射。适用域化合物半导体。百科：&zwnj 半导体溅射系统的原理主要是利用高能离子撞击靶材，使靶材的原子或分子从表面逸出，并沉积在半导体基片上，形成一层薄膜。溅射技术可以分为多种类型，包括直流溅射、交流溅射、反应溅射和磁控溅射等，不同类型的溅射技术适用于不同的应用场景。例如，直流溅射适用于导电材料的镀膜，而交流溅射则适用于导电性较差的材料。反应溅射可以在溅射过程中引入反应气体，以形成特定的化合物薄膜。磁控溅射则通过加入磁场来控制电子的运动路径，提高溅射效率和薄膜质量。

1. 产品概述iTops PVD ITO 溅射系统,加热能力、精确的温度控制、优异的真空能力。2. 设备用途/原理iTops PVD ITO 溅射系统，加热能力、精确的温度控制、优异的真空能力，高晶体质量的氮化铝薄膜及优异的薄膜厚度均匀性，占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便，设备稳定，稼动率高，运营成本低。3. 设备特点晶圆尺寸 2/4/6 英寸兼容。适用材料 氮化铝。适用工艺 氮化铝缓冲层溅射。适用域 化合物半导体。百科：&zwnj 半导体溅射系统的原理主要是利用高能离子撞击靶材，使靶材的原子或分子从表面逸出，并沉积在半导体基片上，形成一层薄膜。溅射技术可以分为多种类型，包括直流溅射、交流溅射、反应溅射和磁控溅射等，不同类型的溅射技术适用于不同的应用场景。例如，直流溅射适用于导电材料的镀膜，而交流溅射则适用于导电性较差的材料。反应溅射可以在溅射过程中引入反应气体，以形成特定的化合物薄膜。磁控溅射则通过加入磁场来控制电子的运动路径，提高溅射效率和薄膜质量。

1. 产品概述：KaRoll RTR1C 是一种先进的卷对卷薄膜溅射系统，主要用于在柔性基底材料上连续地进行薄膜溅射沉积。它能够将各种金属、合金或化合物材料以精确的厚度和均匀性沉积在卷状的基底上，如聚合物薄膜、金属箔等。该系统通常由放卷装置、收卷装置、真空腔室、溅射源、镀膜控制系统等部分组成。在真空环境下，通过溅射源产生的高能粒子撞击靶材，使靶材原子溅射出来并沉积在移动的基底上，从而形成连续的薄膜。 2. 设备应用： 电子领域：可用于制造柔性电子器件，如柔性显示屏的电极、电路等。例如在可折叠手机的屏幕制造中，通过该系统溅射导电薄膜，实现屏幕的导电和信号传输功能。 太阳能领域：用于制备柔性太阳能电池的薄膜电极或光吸收层等。有助于提高太阳能电池的光电转换效率和柔韧性，使其更适用于不同的应用场景，如便携式太阳能充电设备、太阳能屋顶等。 光学领域：可以生产光学薄膜，如增透膜、反射膜等，应用于柔性光学元件、可穿戴光学设备等。比如在智能眼镜的镜片上镀制特定的光学薄膜，改善其光学性能。 包装领域：为一些特殊的包装材料提供功能性的薄膜涂层，如阻隔膜、防静电膜等，提升包装材料的性能和附加值。例如在食品包装中，使用该系统镀制阻隔膜，提高包装对氧气、水分等的阻隔性能，延长食品的保质期。3. 设备特点： 高精度镀膜：具备精确的镀膜控制技术，能够实现薄膜厚度的高精度控制，保证薄膜性能的一致性和稳定性。例如，可将薄膜厚度的误差控制在极小范围内，满足对薄膜厚度精度要求极高的应用场景。 高生产效率：卷对卷的连续生产方式，大大提高了生产效率，能够实现大规模的快速镀膜生产。与传统的间歇式镀膜方式相比，在相同时间内可以处理更多的基底材料，降低生产成本。 良好的膜层均匀性：通过优化的溅射源设计和先进的镀膜工艺，确保在整个基底宽度和长度方向上都能获得均匀的薄膜沉积。这对于需要大面积均匀薄膜的应用非常重要，如大面积的柔性显示屏或太阳能电池板。 适用于多种材料：可以溅射多种不同的材料，包括常见的金属（如铜、铝、银等）、合金以及一些化合物材料，满足不同应用对薄膜材料的需求。能够根据客户的具体要求，选择合适的靶材进行镀膜，提供多样化的薄膜性能。 灵活的工艺参数调节：允许用户根据不同的产品需求，灵活地调整镀膜工艺参数，如溅射功率、沉积速率、基底移动速度等。这使得设备能够适应不同类型的基底材料和薄膜应用，为研发和生产提供了更大的灵活性。 可靠的真空系统：拥有高性能的真空系统，确保在镀膜过程中维持稳定的高真空环境，减少杂质和气体对薄膜质量的影响。可靠的真空系统有助于提高薄膜的纯度和质量，降低薄膜中的缺陷密度。 4. 产品参数（以部分为例）：以下参数仅供参考，实际参数可能因定制化需求和设备型号而有所不同。 基底宽度：常见的基底宽度可能在 100 毫米到 1000 毫米之间，具体取决于设备型号和应用需求。 最大卷径：例如，最大卷径可能达到 500 毫米或更大，以适应不同规模的卷状基底材料。 溅射源数量和类型：可能配备多个溅射源，如直流溅射源、射频溅射源等，数量可能为 2 - 8 个不等，具体根据镀膜工艺和产能要求确定。 镀膜速度：镀膜速度根据不同的材料和工艺要求有所变化，一般在每分钟几米到几十米的范围内。 真空度：能够达到较高的真空度，如 10^-3 帕或更高，以保证溅射过程的顺利进行和薄膜质量。 设备尺寸：设备的外形尺寸根据其设计和产能有所不同，例如长度可能在 3 - 10 米，宽度在 1.5 - 3 米，高度在 2 - 3 米。 电源要求：通常需要三相交流电，电压如 380V，频率 50Hz，整机额定功率根据设备配置而定，可能在 20 - 100kW 之间。

超钻是一种主要适用于崇山峻岭、交通不便和水源缺乏的地区而精心设计的小型轻便化取样钻孔设备。可代替传统的槽探、井探开挖，物化探异常验证。钻机在钻进过程中不需要用水，能大量地减少对植被的破坏，保护生态环境。是区域地质填图、物化探取样、古地磁取样、地质灾害预防等浅层地质勘查工作中的快速成孔不可缺少的野外装备。 特点：大马力发动机，满足大孔径岩心取样需求！钻机轮式设计，方便移动，两人可轻松抬行！分体式专利设计，实现浅层取样成本！ 应用领域：土壤钻孔 水文地质勘察 市政工程 园林建设岩土工程 代表样取样 基本参数：发动机动力：10hp发动机转速：3600rpm启动方式：反冲式启动油箱容量：1.6gal

超钻是一种主要适用于崇山峻岭、交通不便和水源缺乏的地区而精心设计的小型轻便化取样钻孔设备。可代替传统的槽探、井探开挖，物化探异常验证。钻机在钻进过程中不需要用水，能大量地减少对植被的破坏，保护生态环境。是区域地质填图、物化探取样、古地磁取样、地质灾害预防等浅层地质勘查工作中的快速成孔不可缺少的野外装备。 特点：大马力发动机，满足大孔径岩心取样需求！钻机轮式设计，方便移动，两人可轻松抬行！应用领域：土壤钻孔 水文地质勘察 市政工程 园林建设基本参数：发动机动力：10hp发动机转速：3600rpm启动方式：反冲式启动油箱容量：1.6gal

聚同生产光降解反应仪JT-GHX-DC汞灯反应器聚同品牌获吉林建筑大学肯定，光化学催化反应仪中标并交付使用恭喜聚同品牌光化学催化反应仪获得吉林建筑大学肯定，并顺利通过验收并正式投入实验室使用。吉林建筑大学，简称吉建，坐落于吉林省长春净月高新技术产业开发区，由吉林省人民政府与住房和城乡建设部共建，是一所以工为主，以土木建筑为特色，理、工、文、管、法、艺等多学科相互支撑、协调发展的吉林省重点建设的普通高等学校。此次杭州聚同电子有限公司供应的光化学催化反应仪是配置齐全的D型，且带有控温装置，可以有效保护反应光源，稳定的模拟光源和稳定、节省空间的体积设计，适合空间有限的实验室配备，产品电气控制部分与保护反应暗箱分开，装配、维护、升级方便合理，整机大气美观!主要特征Principal Character1.光化学反应仪采用智能微电脑控制，可观察电流和电压实时变化2.进口光源控制器，内置光源转换器，功率连续可调，稳定性高3.具有分步定时功能，操作简便 4.反应暗箱内壁使用防辐射材料，带有观察窗，采用内照式光源，受光充分，灯源采用耐高压防震材质，经久耐用5.配有8（6/12可选）位磁力搅拌装置或大功率磁力搅拌装置，使样品充分混匀受光6.光化学反应仪双层耐高低温石英冷阱，可通入冷却水循环维持反应温度7.光化学反应仪高温度保护系统，自动断电功能 聚同生产光降解反应仪JT-GHX-DC汞灯反应器8.机箱外部结构设有循环水进出口，内部设有2个专用插座，供灯源和搅拌反应器用技术参数Technical Parameter型号JT-GHX-AJT-GHX-ACJT-GHX-BJT-GHX-BCJT-GHX-DJT-GHX-DC主体部分(含暗箱)光源功率可连续调节大小；集成式光源控制器，可供汞灯、氙灯、金卤灯等多种光源使用汞灯功率调节范围：0~1000W可连续调节；氙灯功率调节范围：0~1000W可连续调节；金卤灯功率调节范围：0~500W可连续调节。小容量反应部分石英试管规格：30ml、50ml（或定做）；/石英试管规格：30ml、50ml（或定做）可同时处理8个样品（或定做）可同时处理8个样品（或定做）八位磁力搅拌装置可同步调节8个样品的搅拌速度（或定做）八位磁力搅拌装置可同步调节8个样品的搅拌速度（或定做）大容量反应部分/玻璃反应器皿可以分别选用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。玻璃反应器皿可以分别选用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。大功率强力磁力搅拌器使样品充分混匀受光。大功率强力磁力搅拌器使样品充分混匀受光。控温装置/配备双层石英冷阱/配备双层石英冷阱/配备双层石英冷阱冷却水循环装置制冷量：＞1000W冷却水循环装置制冷量：＞1000W冷却水循环装置制冷量：＞1000W控温范围：-5°C到100°C（或按照用户要求）控温范围：-5°C到100°C（或按照用户要求）控温范围：-5°C到100°C（或按照用户要求）冷却水循环装置设有脚轮和底部排液阀冷却水循环装置设有脚轮和底部排液阀冷却水循环装置设有脚轮和底部排液阀 光化学反应装置主机1.光源功率可连续调节大小。2.集成式光源控制器，可供汞灯、氙灯、金卤灯等多种光源使用。3.汞灯功率调节范围：0~1000W可连续调节。4.氙灯功率调节范围：0~1000W可连续调节。5.金卤灯功率调节范围：0~500W可连续调节。（二）小容量反应1.石英试管规格：30ml、50ml。2.可同时处理8个样品。3.八位磁力搅拌装置可同步调节8个样品的搅拌速度。光化学反应装置也有的是按照反应器的结构和形状又可分为平板型反应器、浅池型反应器、管式反应器和环型反应器（或圆筒型反应器）。还有一些其他类型的光催化反应器，如光学纤维束反应器等。目前，载体的选择和催化剂固定技术已成为固定床反应器研制过程中很关键的环节。 聚同生产光降解反应仪JT-GHX-DC汞灯反应器 JTONE系列光化学反应仪主要用于研究气相或液相介质、固定或流动体系、紫外光或模拟可见光照、以及反应容器是否负载TiO2光催化剂等条件下的光化学反应。具有提供分析反应产物和自由基的样品，测定反应动力学常数，测定量子产率等功能，常应用化学合成、环境保护以及生命科学等研究领域。聚同生产光降解反应仪JT-GHX-DC汞灯反应器

1 产品概述: 卷绕式溅射设备，也称为卷绕磁控溅射镀膜机，是一种在真空环境下，利用磁控溅射技术将金属、合金、化合物或陶瓷等材料沉积到连续卷绕的柔性基材（如塑料薄膜、金属带等）上的先进镀膜设备。该设备主要由溅射室、卷绕系统、磁控靶及电源、样品加热系统、样品退火系统、泵抽系统、真空测量系统、电控系统、气路系统等组成。在溅射过程中，通过高能粒子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积在基材上，形成所需的薄膜层。2 设备用途：卷绕式溅射设备具有广泛的应用领域，主要包括但不限于以下几个方面：柔性电子：用于在柔性基材上镀制各种介质膜、导电膜等，如ITO透明导电膜，广泛应用于柔性线路板、柔性显示器件等领域。太阳能电池：在金属带上镀制光学多层膜，用于制作薄膜太阳能电池，提高光电转换效率。包装与防伪：在包装材料上镀制防伪膜层，提高产品的防伪性能和美观度。电容器：在电容器电极上镀制金属薄膜，提高电容器的性能。3 设备特点卷绕式溅射设备具有以下几个显著特点：高效连续生产：设备采用连续卷绕的方式，实现了对柔性基材的连续镀膜处理，大大提高了生产效率。镀膜质量高：磁控溅射技术具有镀膜温度低、膜层厚度可控、细腻、均匀、附着牢固等优点，能够制备出高质量的薄膜层。镀膜材料范围广：可适用于多种材料的镀膜处理，包括金属、合金、化合物和陶瓷等。 4 技术参数和特点：可根据工艺或生产性选择各种模组。通过任意、追加选择模组，可实现各种用途。在地面高度可以进行设备操作。优秀的氛围分隔性能和成膜工艺的改善，使高速率生产高品位的薄膜成为可能。触摸屏用配线膜、透明导电膜以及透明薄膜等。FPC用电膜

侧向溅射1. 技术规格衬底温度：100℃；在4英寸衬底上沉积厚度300nm时片内厚度不均匀性(不包括5mm边) ±5%。2. 产品配置：2.1 主真空室：主真空室的内壁材料为电子级抛光，与溅射材料无任何反应；前开或者侧开式真空室；有必要的连接法兰包括泵、溅射源、气体入口、挡板、阀门、预真空室， 10cm直径的观察窗，并带有挡板。2.2预真空室：将基片从预真空室传送到主真空室的装置；安装基片的门有O型垫圈密封。2.3泵与阀门：主真空室配备20cm（8英寸）的冷泵， CTI带自动再生功能的；预真空室用分子泵，与主真空室通过阀门连接；主真空室的本底真空应该好于5×10-8τ；预真空室的本底真空好于1×10-6τ。主真空室和预真空室共用一个干泵。主真空室应配有电离压力真空计，用于低压显示， 100mτ电容压力计显示压力，热偶或其它量表用于高压显示；预真空室配有电离压力真空计，热偶或其它量表用于高压显示；所有的量表能输出和显示。2.4溅射源：具有2个射频溅射源，1个射频清洗电源，2个直流溅射电源，可自动切换至任意靶位；具有4个溅射靶位以共聚焦的方式安装，3英寸磁控靶、进气口和挡板构成；挡板用电动控制；溅射源之间有屏蔽保护，以防止靶材之间互相污染。在4英寸晶圆上溅射厚度的均匀性好于±5%（除了5mm的边缘）。2.5基片控制：系统适用于直径100mm（4英寸）及以下基片，含碎片和4英寸衬底托盘；系统可以通过简单有效的方法将基片从预真空室传送到主真空室；基片架可以用电机控制旋转，转速在0～40rpm内可精确调节；基片水冷，在连续溅射沉积金属 300nm后，基片的温度不能超过100℃；基片可以在-80°到80°范围内倾斜，控制精度优于0.5°。2.6工艺气体控制：系统能够提供3路工艺气体到溅射腔室；每路气体管线有阀门和流量计控制；系统提供电子方式控制气体的混合和系统的工艺压力；在溅射过程中系统的工艺压力可以控制在2mτ到20mτ。2.7计算机控制系统：能够控制所有的功能，具有良好的用户操作界面具有程序自动控制工艺的功能。

多功能磁控溅射仪（ 高真空磁控溅射镀膜机）是用磁控溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。设备关键技术特点秉承设备为工艺实现提供实现手段的理念，我们做了如下设计和工程实现，实际运行效果良好，为用户的专用工艺实现提供了精*准的工艺设备方案。靶材背面和溅射靶表面的结合处理-靶材和靶面直接做到面接触是很难的，如果做不到面接触，接触电阻将增大，导致离化电场的幅值不够（接触电阻增大，接触面的电场分压增大），导致镀膜效果不好；电阻增大导致靶材发热升温，降低镀膜质量。-靶材和靶面接触不良，导致水冷效果不好，降低镀膜质量。-增加一层特殊导电导热的软薄的物质，保证面接触。采用计算机＋PLC 两级控制系统角度、距离可调磁控溅射靶头可调角度，以便针对不同尺寸基片的均匀性，做精*准调控。基片和靶材之间的距离可调整，以适应不同靶材的成膜工艺的距离要求。 集成一体化柜式结构一体化柜式结构优点：安全性好（操作者不会触碰到高压部件和旋转部件）占地面积小，尺寸约为：长1100mm×宽780mm（标准办公室门是800mm宽）（传统设备大约为2200mm×1000mm），相同面积的工作场地，可以放两台设备。安全性-电力系统的检测与保护-设置真空检测与报警保护功能-温度检测与报警保护-冷却循环水系统的压力检测和流量-检测与报警保护匀气技术工艺气体采用匀气技术，气场更均匀，镀膜更均匀。基片加热技术采用铠装加热丝，由于通电加热的金属丝不暴露在真空室内，所以高温加热过程中不释放杂质物质，保证薄膜的纯净度。铠装加热丝放入均温器里，保证温常的均匀，然后再对基片加热。真空度更高、抽速更快真空室内外，全部电化学抛光，完全去除表面微观毛刺丛林（在显微镜下可见），没有微观藏污纳垢的地方，腔体内表面积减少一倍以上，镀膜更纯净，真空度更高，抽速更快。高真空磁控溅射仪（磁控溅射镀膜机）设备详情设备结构及性能1、单镀膜室、双镀膜室、单镀膜室＋进样室、镀膜室+手套箱2、磁控溅射靶数量及类型：1 ～ 6 靶，圆形平面靶、矩形靶3、靶的安装位置：由下向上、由上向下、斜向、侧向安装3、靶的安装位置：由下向上、由上向下、斜向、侧向安装4、磁控溅射靶：射频、中频、直流脉冲、直流兼容5、基片可旋转、可加热6、通入反应气体，可进行反应溅射镀膜7、操作方式：手动、半自动、全自动7、样品传递采用折叠式超高真空机械手工作条件类型 参数 备注 供电 ～ 380V 三相五线制 功率 根据设备规模配置 冷却水循环根据设备规模配置 水压 1.5 ～ 2.5×105Pa 制冷量 根据扇热量配置 水温 18～25℃ 气动部件供气压力 0.5～0.7MPa 质量流量控制器供气压力 0.05～0.2MPa 工作环境温度 10℃～40℃ 工作湿度 ≤50%设备主要技术指标-基片托架：根据供件大小配置。-基片加热器温度：根据用户供应要求配置，温度可用电脑编程控制，可控可调。-基片架公转速度 ：2 ～100 转 / 分钟，可控可调；基片自转速度：2 ～20 转 / 分钟。-基片架可加热、可旋转、可升降。-靶面到基片距离： 30 ～ 140mm 可调。-Φ2 ～Φ4 英寸平面圆形靶 2 ～ 3 支，配气动靶控板，靶可摆头调角度。-镀膜室的极限真空：6X10-5Pa~6X10-6Pa，恢复工作背景真空 7X10-4Pa ，30 分钟左右（新设备充干燥氮气）。-设备总体漏放率：关机 12 小时真空度≤10Pa。关于鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司（简称：鹏城半导体），由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机，离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）|OLED中试设备（G1、G2.5）|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备（PECVD+磁控溅射）团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延（MBE）设备，包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪（反射高能电子衍射仪）、直线型电子枪、膜厚仪（可计量外延生长的分子层数）、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用，至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统，应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备，应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备，可加水平磁场和垂直磁场，自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉，用于GaN和ZnO的外延生长，实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD，用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备，用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备（采用热激发技术和CVD技术）。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备，制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计，开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备，目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备（≥Φ6英寸）。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。

1 产品概述: 立式溅射镀膜设备，如TS-CJX/M系列，是一种广泛应用于制备各类光学膜和装饰膜的先进设备。该设备采用磁控溅射技术，通过高能离子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积在基材表面，形成所需的薄膜层。立式结构设计使得设备在处理大面积基片时具有更高的效率和稳定性。2 设备用途：溅射镀膜设备（立式）的用途广泛，主要包括以下几个方面：光学领域：用于制备眼镜、光学镜片、摄影镜头等光学设备的镀膜，增加其防反射、增透、反射率等光学性能。电子领域：在半导体器件、集成电路、显示器件、太阳能电池板等电子元件的制造中，用于增加导电性、隔热性、防蚀性等功能。汽车工业：用于汽车镜片、灯具、车身涂层等零部件的制造，提高表面硬度、耐蚀性、抗划伤性等性能。医疗设备：在医疗器械的金属镀膜中采用溅射镀膜技术，以提高耐腐蚀性、生物相容性，并增加设备的功能性。3 设备特点溅射镀膜设备（立式）具有以下显著特点：高效沉积：溅射镀膜技术以其高沉积速率著称，能够在较短时间内形成均匀且高质量的薄膜。磁控溅射通过施加磁场进一步增加等离子体密度，提高溅射速率和沉积效率。低温操作：溅射镀膜过程中的低温环境能够有效避免基片材料因高温而发生降解或形变，保证薄膜和基片的整体性能。这对于温度敏感材料的镀膜尤为重要。均匀薄膜：溅射过程中，等离子体在靶材表面均匀分布，确保靶材原子的溅射均匀性。旋转基片技术进一步提高了薄膜在大面积基片上的均匀性。多样化靶材选择：溅射镀膜技术能够处理多种材料，包括金属、合金、陶瓷和复合材料，适用于不同工艺需求。 4 技术参数和特点：溅射镀膜设备SMD系列（立式）SMD系列是镀金属膜、ITO、IGZO、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅SMD系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映从生产现场听取的意见，进一步提高设备的可靠性。仅基板搬送和侧面镀膜的方式节约空间的设计可以轻松的完成单独基板管理，如成膜条件根据镀膜物不同选择不同的阴排列丰富的经验和数据支持，广泛的镀膜工艺对应

产品优势： 可制备各种金属、 单质、 无机非金属薄膜 不破真空情况下， 可实现多层复合膜制备 一键操作， 全自动控制， 智能化程度高 一致性、 重复性好 内置多重靶材工作参数， 无需摸索镀膜工艺 体积小， 结构紧凑， 非常节约空间 产品参数：外形尺寸（主机）424(L)×345(D)×420(H)输入电源220V/50Hz 1000W溅射靶头 1直流磁控溅射可用靶材金属靶材溅射靶头 2射频磁控溅射可用靶材无机非金属靶材真空系统涡轮分子泵+旋片式真空泵抽速90L/s + 1.1L/s真空测量复合式真空规量程范围1E-3 ~ 1E5Pa真空室φ 200×130mm 高硼硅玻璃抽气节拍10 分钟（≤5E-3Pa）样品台尺寸φ 90mm样品台切换自动控制溅射靶材尺寸φ 57mm（厚度 0.1-2mm）工作真空0.1-2Pa操作界面7 英寸 TFT 触摸式液晶屏操作语言中文（可选其它语言）冷水机小型台式制冷机冷水机功率180W预溅射挡板标配全自动控制预溅射挡板 膜厚仪（选配）可实时显示镀膜厚度，并通过设定来控制镀膜过程，测量精度 0.01nm，设定精度 0.1nm，单次设定范围 1-999nm温控组件（选配）样品台加热模块 300℃/500℃旋转组件（选配）倾斜旋转、行星旋转等小车（选配）将主机、射频电源、冷水机等组装在一起，整体性好安装环境220V/10A 三孔插座一个、纯度 4N 及以上的高纯氩气（出口压力 0.12MPa）

400A柴油发电电焊机一体[设备品名]： 400A柴油发电电焊机[型 号]： SW400ACY [动力配置]： K4100D[类 型]： 四缸 四冲程 [启动放式]： 电启动[冷却方式]： 水冷[发动机功率]： 30KW[油 箱]： 75L（柴油）[发电机配置]： 斯坦福SHSTF-20[输出电压]： 220V/380V[相 数]： 单相/三相[发电功率]： 20KW[频 率]： 50HZ[电压波动]： 自动调节[油 耗]： 225g/kw.h [电 焊]： 沪工400A[调节范围]： 80-400A（直流）[噪 音]： 70分贝[焊 条]： 2.5-8.0 506/507 氩弧焊 （焊条可定制各种类型）[绝缘等级]： IP23[整机重量]： 850KG [尺 寸]： 2010×860×1080（mm）长宽高[整机机组组成部分]：柴油机 发电机 电焊机 油箱 静音密封箱 LED控制屏[控制屏]：该控制屏为普通一体式LED控制屏。并带有电压、电流、频率、输出功率、油压显示，柴油机具低油压、超速、过载、停机保护等功能。[整机设备随机附件]：随机小配件、三年易损配件、合格证、维修卡、电瓶及连接线一套、安装小工具包、维修工具箱、使用说明书与设备保养使用注意资料各壹套。400A柴油发电电焊机一体[产品名称]：400A柴油发电电焊机[产品型号]：SW400ACY[品 牌]：SHWIL 闪威[公司名称]：上海闪威实业有限公司[交易模式]：购销合同，物流运输[关于产品]：含增税13%，不包含运费，全国24小时内发货。[销售经理]：晏越[启动方式]：电启动[电流范围]：50A-400A[焊条要求]：2.5-8 .0(长焊6.0短焊8.0）[保修政策]：我司拥有专业的售后服务队伍,保修一年，终身提供配件，为客户提供优质高效率服务对应焊条说明适用于市政抢修，野外焊接，管道焊接，油田抢修使用。2.5/3.2|190A 电流调节50A-190A3.2/4.0|220A 电流调节50A-220A4.0/5.0|250A 电流调节50A-250A5.0/6.0|300A 电流调节50A-300A6.0/8.0|400A 电流调节50A-400A50A-500A|500A 焊接各种焊条柴油发电电焊机要比汽油的省油一些但是也要重一些工作时间要持久一些.[适用于]：油田、管道建设、矿山隧道、中铁、市政、建筑工地、公路维护建设、园林建设、施工建设、电建、铁轮船焊接、国企单位、开发维护、野外施工、水利开发、应急抢修维护等。一体两用可以在焊接的同时也可以带一些小电机，灯泡照明用 在带一些小工具时应先向厂家质询一下以免机组发电部分会出现过载的情况本机可输出发电20千瓦。起弧快性能卓越焊接平滑飞溅小400A可以符合各种焊条 纤维焊条 进口焊条 氩弧焊本款机器在出厂之前都是由专业人员调试好的 收到货以后加上燃油和机油接上焊线和焊把就可以使用（注：收到货先检查货物是否完好然后在签收请广大客户注意）

ULVAC 研究开发用溅射设备 QAM系列低真空工艺环境本设备具备约1Pa～0.1Pa的等离子体持续放电压力范围，与传统设备相比能 够在更低压力下进行溅射成膜。多组分共溅射/多层膜溅射本设备具有多阴极同时对准衬底中心的结构，从而能够进行多组分共溅射成 膜。另外可以通过控制挡板开闭实现多层膜的制备。良好的膜厚分布本设备采用对衬底倾斜的入射方式，从而能够实现非常良好的膜厚分布。LTS的采用本设备通过采用ULVAC的LTS ※ 1专利技术，从而能够尽可能的抑制阴极附近的不均匀等离子体对衬底的影响。并且，该技术还能够尽可能的抑制来自阴极磁铁磁场的影响。 注）※ 1：LTS：Long Throw Sputter对磁性材料薄膜的对应本设备中使用的阴极能够对应各种磁性材料（Fe、Ni、Co等）。操作界面前置本设备通过将操作界面集中配置在设备前方，使得操作者能够仅在设备正面完 成设备的开启、关闭以及成膜等操作。先进的功能、直观的的操作以及安全性的实现Repeatability能够确保再现性本设备能够将成膜和加热的相关参数作为Recipe保存，从而通过自动运行来实现高再现性的实验。Safety能够在Interlock设置下安全操作本设备能够通过设置Interlock来防止误操作，从而实现对设备的保护和对人身安全的确保。同时，本设备能够一并管理设备状态，还能够 任意设定靶材寿命等参数在某数值下报警。Intuitive operation直观的操作界面本设备中排气和工艺的操作按钮以动作流程为基准而配置，从而能够直观地进行操作工艺。Analysis能够进行工艺数据分析本设备能够每隔１秒将工艺进行时的压力、加热、成膜时间的当前值作为履历并按时间序列(Time Series)记录。收集的数据以文本格式保在外部存储器中，并且能够利用计算机对保存的数据进行分析和记录。 高拓展性本设备能够通过模块的增设，来对应更多的用途。低真空工艺环境本设备具备约1Pa～0.1Pa的等离子体持续放电压力范围，与传统设备相比能够在更低压力下进行溅射成膜。多组分共溅射/多层膜溅射本设备具有多阴极同时对准衬底中心的结构，从而能够进行多组分共溅射成膜。另外可以通过控制挡板开闭实现多层膜的制备。良好的膜厚分布本设备采用对衬底倾斜的入射方式，从而能够实现非常良好的膜厚分布。采用LTS技术本设备通过采用ULVAC的LTS※1专利技术，从而能够尽可能的抑制阴极附近的不均匀等离子体对衬底的影响。并且，该技术还能够尽可能的抑制来自阴极磁铁磁场的影响。注）※1：LTS：Long Throw SputterUHV对应本设备通过使用可加热式的各配置，使得成膜腔室的压力能够到达1×10-6Pa※2以下。注）※2：本设备采用O-Ring Seal结构，与传统设备的金属Seal结构相比更加容易进行维护保养。对磁性材料薄膜的对应本设备中使用的阴极能够对应各种磁性材料（Fe、Ni、Co等）。 诸单元型 号QAM-4D 成膜腔室处理方式Load-Lock式阴极型式Long Throw Magnetron Sputtering●Helicon-Sputtering※1 ※可选阴极数2英寸阴极（磁性材料、非磁性材料共用）zui多搭载8台搭载电源DC500W 1台● DC500W、RF300W※2 zui多搭载8台 ※可选到达压力（UHV对应）1×10-4Pa 以下 （●1×10-6Pa 以下能够对应※3 ※可选）对应衬底尺寸Max.φ4英寸×1枚膜厚分布±5％以内（Al成膜式、衬底回转并用）衬底加热装置● 红外线灯式加热器 zui大500 ℃ ※可选● 高温型加热器 zui大800℃ ※可选排气系统1）分子泵2）油旋片泵● 干式泵 ※可选zui大气体输入量Max.50sccm（Ar）●Max.10sccm（O2） ※可选● Max.10sccm（N2） ※可选靶材尺寸φ2英寸腔体加热方式● 110℃烘烤 (包含腔体水冷却） ※可选 真空预抽室到达压力（分子泵对应）40Pa以下（●1×10-3Pa 以下 ※可选）搬送方式真空机械手式排气系统油旋片泵（● 分子泵与成膜室共用）※可选操作控制系统排气触屏式（PLC控制器） 远程手动※4 全自动※5成膜 厂务系统电力3φ AC200V 50 / 60Hz冷却水20～28℃、电阻率5KΩ以上、 供给压力0.2 ～ 0.3MPa压缩空气0.5 ～ 0.7MPa接地A类、D类

HHV BT150和BT300适用于电镜样晶制备以及其他常规科研用途的新型台式镀膜设备 技术信息：BT150腔室：真空玻璃制，圆柱体165mm直径×150mm高，配内爆防护罩；可选配200mm高度的腔室初级真空泵： 12时／h抽速的双级旋片真空泵；可选配无油干泵分子泵（选项）：621/s抽速的涡轮分子泵 极限真空（无分子泵）：5×10E-2mba「（3分钟内）极限真空（有分子泵） ：5×10E-5mba「（8分钟内） 输入电源： 110/230V, 50/60Hz，单相 工艺附件金属溅射：单个溅射靶枪（54mm直径靶材） 适用溅射靶材：Au, Au/Pd, Cu, Fe, C「等 贱射选项：用于溅射易氧化的金属（如Al），需配置分子泵选项 碳纤维蒸发： 脉冲沉积，可选择电流及除气模式 碳棒蒸发：脉冲沉积，可选择电流及除气模式 水冷SEM样品台： 6个SEM样品位，水冷和偏压功能旋转SEM样品台：6个SEM样品位，单轴旋转或行星运动式 常规科研用旋转样品台：适合最大4” 或100mm直径基片 BT300腔室： 真空玻璃制，圆柱体30mm直径×150mm高，配内爆防护罩；可选配200mm高度的腔室初级真空泵：12时／h抽速的双级旋片真空泵；可选配无油干泵分子泵（选项）：621/s抽速的涡轮分子泵 极限真空（无分子泵）：5×10E-2mba「（12分钟内） 极限真空（有分子泵）： 5×10E-5mba「（20分钟内） 输入电源： 110/230V, 50/60Hz，单相 工艺附件金属溅射： 单个、 双个或者三个溅射靶枪（54mm直径靶材）适用贱射靶材：Au, Au/Pd, Cu, Fe, Cr等溅射选项：用于溅射易氧化的金属（如Al），需配置分子泵选项旋转样品台：常规科研用，适合最大4” 或100mm直径基片（双靶），或150mm直径基片（三靶） 行星运动式样品台： 常规科研用，优化沉积均匀性，适合最大200mm直径基片（三靶） 认证标识：BT150和BT300具有CE标识 主要特点 简单的操作会全彩、 高分辨率、 触摸屏控制系统为可存储和编辑工艺配方多达30个会工艺数据可输出到大容量存储器或计算机会可选的集成式薄膜厚度监测仪为自动识别工艺附件 工功能的薄膜沉积技术会惰性金属溅射（SEM应用）为碳纤维及碳棒蒸发（TEM应用）会用于碳膜表面的亲水改性的辉光放电装置（TEM应用）会普通金属的溅射镀膜（常规科学研究应用， 需要配分子泵选项）会金属的热阻蒸发镀膜为自动快门挡板的选项 多种样晶台为水冷及偏压的SEM样品台女旋转的SEM样品台为行星式运动的SEM样品台会适合最大4” 或100mm直径基片的旋转样品台（BT150)为适合最大8” 或200mm直径基片的旋转／行星运动式样品台（BT300) 新型设计的HHV BT150和BT300是面向电镜工作者及科学研究者需求的经济型台式镀膜系统。BT150己具有电镜工作者所需的全面镀膜能力， 而BT300配置了更大的真空腔室， 可满足更广泛的其他常规科研镀膜应用。通常情况下， 这些系统采用金属溅射来制备SEM样品， 而采用碳纤维（或碳棒）蒸发来制备TEM样品。碳蒸发镀膜也可以用于×射线微区分析的样品。BT系列系统还可配置成适合于常规科学研究需求的金属溅射及金属蒸发能力。 具有自动样晶镀膜能力的触摸屏操控系统为了使用方便， 这两款BT设备都配置了彩色的、 高分辨率的触摸屏操控系统。控制系统可存储多达30个工艺配方程序， 可随时调用执行。控制系统能向外输出工艺数据 便于存储及分析。它还能自动识别所安装的工艺附件。 种类繁多的可选样晶台BT系列设备具有多种样品台可供选择。用于承载SEM样品座的静态样品台具有水冷功能， 可防止样品过热， 而且还含有溅射刻蚀及清洗的装置。使用刻蚀装置可以提高某些样品的图像对比度， 而不太脆弱的样品还能通过刻蚀来去除吸附的水汽， 从而改善薄膜附着力。 BT150可选择旋转甚至行星运动式设计的样品台， 最大基片尺寸可达4英寸或者100mm。而BT300也可选择类似的旋转样品台，其最大基片尺寸可达8英寸或者200mm， 满足更广泛的研究需要。 集成的薄膜厚度测量仪BT系列设备的选项中包括全集成式的薄膜厚度监测系统。该系统集成在触摸屏控制器内， 可提供溅射膜厚的控制。 简单的靶材更换BT150和BT300采用简单快速的靶材更换设计， 在必要时可对样品进行不同材料的镀膜。配置旋片泵的系统可以溅射惰性金属，如金、 金／tE、 铀和铜。增加可选的分子泵之后， 这两款系统还能溅射容易氧化的金属， 比如铝。 真空泵选项BT系列设备可以配置双级旋片真空泵， 用于碳蒸发及惰性金属溅射等普通应用。而可选的分子泵可以提供设备更优秀的性能：真正的高真空环境， 以及溅射非惰性金属（比如铝）的能力。 BT系列设备也可以配置干式真空泵， 满足无油真空的要求。 安全设计及认证BT150和BT300具有完善的安全使用及互锁设计， 确保操作人员安全。这些设备可以提供CE标识以及UL认证。

&emsp &emsp 洁净工程-无尘车间布置设计对工艺的要求，北京华旭提供无尘车间设计与建设一站式服务。欢迎垂询无尘车间装修工程报价。　　&emsp &emsp 1.工艺对洁净室的洁净度级别应提出适当的要求，严格控制高级别如100级的洁净室面积。　　&emsp &emsp 2.在不影响生产的条件下，工艺布置时应把洁净度相同的洁净室布置在一起，为净化空调系统的合理布置创造必要的条件。　　&emsp &emsp 3.洁净室的布置应考虑工艺之间关系并使原料，半成品的运输线路最短，如果两个工序相连的洁净室相邻，应尽量设置传递窗，以减少污染和产尘，同一洁净厂房内有多间级别不同的洁净室时，洁净度级别高的洁净室设在人流最少的位置。　　&emsp &emsp 4.洁净室只能紧凑布置必要的工艺设备，以减少面积，但要有一定间隙，以利于空气流通，减少涡流。　　&emsp &emsp 易产生粉尘和烟气的设备尽量布置在洁净室外部，如必须设在室内时，应设排气装置，并尽量减少排风量。　　&emsp &emsp 对于特殊设备（如垂直层流洁净室内的加热设备），应与暖通协商确定适当的位置，并采取相应的处理措施。　　&emsp &emsp 5.洁净度要求高的工序应置于上风侧，对于水平层流洁净室则应布置在工作区。　　&emsp &emsp 对于产生污染多的工艺应布置在下风侧或靠近排风口　　&emsp &emsp 6.洁净室内的设备及家具应光滑，不起尘，桌椅等家具尽量少。　　&emsp &emsp 7.洁净室宜设置存放物品壁柜，当有特殊要求时，可向壁柜内送洁净空气。　　&emsp &emsp 8.洁净室内不应设易燃易爆等气体容器，管道及阀门严禁漏气。　　&emsp &emsp 无尘车间布置设计对设备的要求　　&emsp &emsp 首先考虑采用的工艺操作，已达到安权生产，选择经济上合理，生产上可靠的现代化技术与设备。　　&emsp &emsp 设备对工艺的先进性，对洁净影响都很大，尤其是制剂生产车间。工艺对设备的选择除了材质外，还要尽量选择密闭，自动化，联动化，以减少操作工序和操作人员，清污染来源，并且设备一定要便于清洗和拆除，这样才能符合gmp要求。

有了在刻蚀工艺发展上无比广泛的经验和我们应用工程师的支持， 牛津仪器向世界范围内的生产商和研发者提供刻蚀工艺解决方案的经验向我们提供了强大的刻蚀工艺库和刻蚀工艺能力。请与我们联系，讨论您的特定需求，我们专业的销售和应用工作人员将很高兴帮助您选择合适的刻蚀工艺和工具，以满足您的需求。请点击以下产品名，查看产品详细信息，谢谢化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN&mdash 刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP&mdash 感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs&mdash 刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb&mdash 刻蚀锑化镓刻蚀GaN&mdash 刻蚀氮化镓刻蚀InSb&mdash 刻蚀锑化铟刻蚀InP/InGaAsP&mdash 刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀InGaAlP&mdash 刻蚀铝镓铟磷刻蚀InP&mdash 刻蚀磷化铟刻蚀InAlAs&mdash 刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/InGaAsP&mdash 刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀ZnSe&mdash 反应离子刻蚀硒化锌电介质刻蚀(Ta2O5)&mdash 五氧化二钽刻蚀Al2O3&mdash 刻蚀氧化铝&mdash 感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石GST刻蚀- 锗锑碲化物的ICP刻蚀技术感应耦合等离子体刻蚀Bi2Te3&mdash 刻蚀碲化铋反应离子刻蚀ITO&mdash 刻蚀铟锡氧化物干法刻蚀LiNbO3&mdash 刻蚀铌酸锂干法刻蚀LiTaO3&mdash 刻蚀钽酸锂刻蚀PZT&mdash 刻蚀锆钛酸铅刻蚀PbSe&mdash 刻蚀硒化铅刻蚀SiC&mdash 刻蚀碳化硅 金属刻蚀Al&mdash 感应耦合等离子体刻蚀铝溅射刻蚀Au&mdash 溅射刻蚀金刻蚀Cr&mdash 刻蚀铬Cu刻蚀（反应离子刻蚀）&mdash 刻蚀铜刻蚀Mo&mdash 刻蚀钼刻蚀Nb（反应离子刻蚀，感应耦合等离子体）&mdash 刻蚀铌刻蚀Ni&mdash 刻蚀镍离子束刻蚀Ni&mdash 刻蚀镍铬合金溅射刻蚀Pt&mdash 溅射刻蚀铂刻蚀Ti&mdash 超大刻蚀深度刻蚀Ta&mdash 刻蚀钽刻蚀W&mdash 刻蚀钨TiN的各向异性刻蚀&mdash 刻蚀氮化钛WSi刻蚀&mdash 硅化钨刻蚀有机物刻蚀PMMA&mdash 刻蚀聚甲基丙烯酸甲酯感应耦合等离子体刻蚀BCB&mdash 刻蚀苯并环丁烯刻蚀金刚石&mdash 金刚石的刻蚀刻蚀聚酰亚胺&mdash 聚酰亚胺的刻蚀聚二甲基硅氧烷(PDMS)刻蚀刻蚀PR&mdash 刻蚀光刻胶硅烷化光刻胶的干法显影（感应耦合等离子体-反应离子刻蚀）&mdash 硅烷化光刻胶硅博施刻蚀Si&mdash 博施刻蚀硅低温刻蚀Si&mdash 低温刻蚀硅混合刻蚀Si&mdash 八氟环丁烷-六氟化硫刻蚀硅HBr刻蚀Si&mdash 溴化氢刻蚀硅各向同性刻蚀Si&mdash 硅的各向同性刻蚀刻蚀SiGe&mdash &mdash 刻蚀锗硅绝缘层上的硅(SOI)的多层刻蚀

磁控溅射技术NSC-4000（M）磁控溅射系统概述： NANO-MASTER杰出的溅射系统可构建成多腔体和多蒸发源的配置，在介质上溅射金属和介质材料，最大可支持200mm的衬底。系统可以配置DC直流、RF射频和Pulse DC脉冲直流等电源来进行序列溅射或共溅射。 系统使用涡轮分子泵组，工艺腔极限真空可达5 x 10-7Torr。可以通过调节靶基距，实现所需要的均匀度和沉积速率的调节。旋转样品台可提供薄膜最优的均匀性。 自动膜厚监控仪可提供以目标膜厚为工艺终点条件的全自动工艺控制，达到目标膜厚时系统将自动停止工艺。样品台最高可加热到800度，并可提供射频偏压。 NSC-4000（M）磁控溅射系统产品特点：电抛光14"立方体或21"x21"x22"不锈钢优化蒸镀腔体680 l/sec 涡轮分子泵，串接机械泵或干泵4x 15CC pocket电子枪电子束源和基片遮板 6KW开关电源，杰出的消弧性能自动Pocket索引以及可编程的扫描控制器膜厚监测，可设置目标膜厚作为工艺终点条件旋转样品台，提供高均匀性带观察视窗的腔门，便于放片/取片PC全自动控制，具有高度的可重复性Labview软件的计算机全自动工艺控制控多级密码保护的授权访问设计EMO保护以及完全的安全联锁NSC-4000（M）磁控溅射系统选配项： 基板支持加热(最高可达800°C)或冷却支持旋转GLAD斜角入射沉积腔体尺寸可定制1.5-5KW脉冲之流电源用于ITO/ZnO等类似材料倾斜磁控枪射频偏压样品台离子源用于基片预清洗离子辅助溅射增加RF电源和DC电源用于共溅射增加热蒸发源和电子束蒸发源增加MFC用于反应溅射自动上下片其它包含冷泵等的各种真空泵选配NSC-4000（M）磁控溅射系统应用：晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆光学涂覆和ITO涂覆保护涂层带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂层微电子图案OLED应用中的TCO透明导电薄膜** 硬涂层

这套便携式钻机是专门为进行野外矿物勘查、油田勘测、地质普查、铁（公）路线勘测、地质灾害锚固工程、农业土壤取样等行业量身打造的。我们通过几十年的经验积累，已在全球几十个国家和地区的实地使用，深受客户的欢迎和喜爱，获得良好的回报。相信这套工具也会对您的工作大有裨益。超钻是一种主要适用于崇山峻岭、交通不便和水源缺乏的地区而精心设计的小型轻便化取样钻孔设备。可代替传统的槽探、井探开挖，物化探异常验证。钻机在钻进过程中不需要用水，能大量地减少对植被的破坏，保护生态环境。是区域地质填图、物化探取样、古地磁取样、地质灾害预防等浅层地质勘查工作中的快速成孔不可缺少的野外装备。 特点：大马力发动机，满足大孔径岩心取样需求！钻机轮式设计，方便移动，两人可轻松抬行！分体式设计，实现浅层取样成本低！ 应用领域：土壤钻孔 水文地质勘察 市政工程 园林建设岩土工程 代表样取样 基本参数：发动机动力：10hp发动机转速：3600rpm启动方式：反冲式启动油箱容量：1.6gal

产品介绍磁控溅射系统MS-300具有超高真空、单原子层沉积精度的特点，可以灵活选择阴极向上或向下溅射。磁控溅射系统MS-300标配3个2英寸超高真空阴极。满足实验室中科学研究的需求,维护简单,运行稳定。晶圆尺寸4inch向下兼容镀膜均匀性士2%极限真空5x10-8mbar(金属密封)温控RT-800°C沉积精度0.1nm可选低温泵、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单、等离子体分析仪等

●该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备，可实现共溅射，直流、射频兼容，特别适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发，同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能。是替代钟罩式磁控溅射的理想选择。●主体结构：全封闭框架结构，机柜和主机为一体式机构。●极限真空度：≤６.６３×10－5Pa，压升率优于国家标准。 ●真空配置：高速直联旋片泵一台，配置尾气处理装置，超高分子泵一台。●真空测量：两路电阻规，一路电离规；电阻规和电离规均采用防爆型金属封结真空规。●工件架系统：行星工件盘与公转工件盘可选，垂直溅射与共溅射兼容，可配置１个加热台，采用PID控制可烘烤加热到700℃。●磁控溅射系统：配置３个Φ50mm可折叠磁控靶（可扩展至4靶机构），向上溅射成膜；靶基距可调；靶内均通入冷却水冷却。●电源：2套直流电源；1套全固态射频电源；一套200W直流偏压电源。●充气系统：配置三路供气，二路分别配置质量流量控制器，线性±0.5 % F.S，重复精度±0.2% F.S，0-5V输出，在触摸屏上设置流量。●电气控制系统：采用功能化模块设计，匹配西门子人机界面+西门子控制单元，溅射时间可以设定并倒计时，能够根据工艺需求自动溅射。●特别说明：根据用户不同的工况和工艺要求，公司愿与客户联合研发，共享知识产权，公司致力于工艺与设备的完美匹配，该设备为公司与电子科技大学联合研发。

高真空磁控溅射仪（ 高真空磁控溅射镀膜机）是用磁控溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。设备关键技术特点秉承设备为工艺实现提供实现手段的理念，我们做了如下设计和工程实现，实际运行效果良好，为用户的专用工艺实现提供了精*准的工艺设备方案。靶材背面和溅射靶表面的结合处理-靶材和靶面直接做到面接触是很难的，如果做不到面接触，接触电阻将增大，导致离化电场的幅值不够（接触电阻增大，接触面的电场分压增大），导致镀膜效果不好；电阻增大导致靶材发热升温，降低镀膜质量。-靶材和靶面接触不良，导致水冷效果不好，降低镀膜质量。-增加一层特殊导电导热的软薄的物质，保证面接触。距离可调整基片和靶材之间的距离可调整，以适应不同靶材的成膜工艺的距离要求。 角度可调磁控溅射靶头可调角度，以便针对不同尺寸基片的均匀性，做精*准调控。 集成一体化柜式结构一体化柜式结构优点：安全性好（操作者不会触碰到高压部件和旋转部件）占地面积小，尺寸约为：长1100mm×宽780mm（标准办公室门是800mm宽）（传统设备大约为2200mm×1000mm），相同面积的工作场地，可以放两台设备。控制系统采用计算机＋PLC两级控制系统安全性-电力系统的检测与保护-设置真空检测与报警保护功能-温度检测与报警保护-冷却循环水系统的压力检测和流量-检测与报警保护匀气技术工艺气体采用匀气技术，气场更均匀，镀膜更均匀。基片加热技术采用铠装加热丝，由于通电加热的金属丝不暴露在真空室内，所以高温加热过程中不释放杂质物质，保证薄膜的纯净度。铠装加热丝放入均温器里，保证温常的均匀，然后再对基片加热。真空度更高、抽速更快真空室内外，全部电化学抛光，完全去除表面微观毛刺丛林（在显微镜下可见），没有微观藏污纳垢的地方，腔体内表面积减少一倍以上，镀膜更纯净，真空度更高，抽速更快。高真空磁控溅射仪（磁控溅射镀膜机）设备详情设备结构及性能1、单镀膜室、双镀膜室、单镀膜室＋进样室、镀膜室+手套箱2、磁控溅射靶数量及类型：1 ～ 6 靶，圆形平面靶、矩形靶3、靶的安装位置：由下向上、由上向下、斜向、侧向安装3、靶的安装位置：由下向上、由上向下、斜向、侧向安装4、磁控溅射靶：射频、中频、直流脉冲、直流兼容5、基片可旋转、可加热6、通入反应气体，可进行反应溅射镀膜7、操作方式：手动、半自动、全自动工作条件类型 参数 备注 供电 ～ 380V 三相五线制 功率 根据设备规模配置 冷却水循环根据设备规模配置 水压 1.5 ～ 2.5×10^5Pa 制冷量 根据扇热量配置 水温 18～25℃ 气动部件供气压力 0.5～0.7MPa 质量流量控制器供气压力 0.05～0.2MPa 工作环境温度 10℃～40℃ 工作湿度 ≤50%设备主要技术指标-基片托架：根据供件大小配置。-基片加热器温度：根据用户供应要求配置，温度可用电脑编程控制，可控可调。-基片架公转速度 ：2 ～100 转 / 分钟，可控可调；基片自转速度：2 ～20 转 / 分钟。-基片架可加热、可旋转、可升降。-靶面到基片距离： 30 ～ 140mm 可调。 -Φ2 ～Φ3 英寸平面圆形靶 2 ～ 3 支，配气动靶控板，靶可摆头调角度。-镀膜室的极限真空：6X10-5Pa，恢复工作背景真空 7X10-4Pa ，30 分钟左右（新设备充干燥氮气）。-设备总体漏放率：关机 12 小时真空度≤10Pa。

1.产品概述：本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。可通过直流溅射及射频溅射方式镀膜，能制备各种金属、合金薄膜、非金属薄膜、化合物薄膜等。可溅射材料广泛，包括各种金属、合物薄膜、非金属薄膜、化合物薄膜等。溅射模式多样，例如直流溅射、反应溅射、斜靶共溅射等。采用计算机控制，具有液晶显示屏、鼠标键盘操作，windows 会话界面，操作简便，并支持自动控制和手动控制两种方式，可实现真空系统及工艺过程的全自动化操作。2.设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目3.真空室真空室结构:六边形侧开门真空室尺寸:φ350x370mm 限真空度:≤6.0E-4Pa 沉积源:永磁靶1套，φ2英寸样品尺寸，温度:φ2英寸，1片，高800℃ 占地面积（长x宽x高）:约1米x1米x1.9米 电控描述:手动工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%

产品介绍磁控溅射系统MS-400是一款多功能多靶磁控溅射系统,具有超高真空，单原子层沉积精度,设备维护简单的特点。磁控溅射系统MS-400标配6个2inch共焦超高真空阴极,满足实验室或企业实验室中工艺研究的需求，维护简单,运行稳定。晶圆尺寸4inch向下兼容镀膜均匀性士2%极限真空5x10-9mbar(金属密封)温控RT-1000°C沉积精度0.1nm可选共焦溅射、低温泵、垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单等

1 产品概述: 批次式溅射设备通常具有较大的处理腔室，能够同时处理多个基片或大面积基片。设备内部配备有精密的靶材安装系统、基片旋转装置、真空系统以及控制系统等关键部件。在工作时，设备首先通过真空系统抽除腔室内的空气，达到所需的真空度，然后通入工作气体（如氩气）并施加电压，使气体电离产生高能粒子。这些高能粒子轰击靶材表面，将靶材原子或分子溅射出来，并沉积在旋转的基片表面，形成均匀的薄膜。2 设备用途：批次式溅射设备在多个领域具有广泛的应用，主要包括：光学领域：用于制备光学镜片、滤光片、反射镜等光学元件的镀膜，以改善其透光性、反射率等光学性能。电子领域：在半导体器件、集成电路、平板显示器等电子产品的制造过程中，用于制备导电膜、绝缘膜、扩散阻挡层等功能性薄膜。汽车工业：在汽车零部件（如车灯、车窗、车身装饰件等）的制造中，用于增加表面硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能，同时提高美观度。3 设备特点批次式溅射设备具有以下显著特点：高效性：能够同时处理多个基片或大面积基片，显著提高生产效率。均匀性：通过基片旋转装置和精密的靶材安装系统，确保薄膜在基片表面的均匀分布。灵活性：可更换不同材质的靶材，以制备不同种类的薄膜，满足不同工艺需求。可控性：配备有先进的控制系统，可精确控制溅射过程中的各项参数（如电压、电流、气体流量等），以获得所需的薄膜性能。 4 技术参数和特点：批次式溅射设备SV系列SV系列为纵型batch式溅射设备。为可以处理大量基板的回转型设备。SV-4540、6040、9045为回转型设备基板装载量大、适用于小~中规模的生产或少量多品种的生产各种基板上的电膜成膜、绝缘膜、电介质膜成膜

Q300T D Plus–双靶顺序溅射镀膜仪，适用150mm直径的试样 Q300T D Plus适用于两种材料的多层顺序溅射，具有两个独立的溅射头，无需破坏真空即可连续溅射两种金属。该系统是全自动的，用户定义的配方可以控制泵、镀膜顺序、镀膜时间、溅射循环次数和工艺过程中使用的电流等。通过在两个靶之间循环，可以依次溅射来自两种靶材料的厚度不同的膜层。不使用时，镀膜腔室可保持在真空环境下，以防止污染。

SSP1000桌面型磁控溅射系统是一种台式紧凑系统，能够以低成本实现高沉积性能。 其独特的设计允许改变沉积方向（向上，侧向和向下），因此可以在一个简单的装置内进行三个方向的实验。 由于配备了RF电源，不仅可以溅射金属靶，而且可以溅射诸如Al2O3或SiO2等陶瓷靶材。这种系统设计紧凑，成本低，可用于各种实验。-多样性- 由于采用立方体设计，通过简单变化即可选择溅射方向。 也可以使用磁性靶材（可选）。 标配1路工艺气体，可配置2路工艺气体。-性能- 在基板中φ100mm的区域内，膜厚度的偏差在±5％之内。 使用标准RF电源提供的脉冲模式，也可以溅射陶瓷类靶材。 在沉积期间，基底支架可旋转或静止。-易于使用- 紧凑的台式设备，易于安装。 腔室内安装有一个观察口。 配备阴极保护板以防止在预关闭期间基板的污染。 与阴极保护板一起工作的溅射计时器用于厚度控制。