电子束处理

一次性培养皿 （电子束灭菌）产品参数及型号：编号型号直径×高（mm）数量RMB(含税)3-1491-01ND90-15φ90×151箱（10张/袋×50袋）398.003-1491-51优惠装φ90×151套（10箱）3,980.00携带方便，采用叠放时不易横向滑动的结构等，已进行电子束灭菌。特点：● 外围四周有加强棱，叠放起来不易倒塌。 ● 透明度好，便于菌落观察。 ● 采用可防止盖子与主体吸附的构造，不影响通气性。 ● 底面有4分割点，便于对菌落的观察。规格：● 材质：PS（聚苯乙烯） ● 已进行电子束灭菌

特点：• 用于高灵敏度电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm • 化学放大胶，高灵敏度• 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例： 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm• 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料 • 对紫外光、电子束不敏感，无需黄光室 5090.02，适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等； 5091.02，适于酚醛树脂基电子束光刻胶，如AR-N 7520导电性：[注]导电胶电阻测量实验结果：胶层越薄，电阻越大，导电性降低。 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

通过电子束照射，对活体组织（DNA、细胞等）进行损伤无需使用气体、药品等，因此不必担心残留比γ射线灭菌更节省设施空间（在实验室也可设置专门的照射室）

特点：• 用于高分辨电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)、i-line(365 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~365nm• 高分辨率(30nm)，高对比度 • 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨率电子束曝光、单层/多层lift-off工艺、 石墨烯/碳纳米管转移、绝缘保护层等 • 感光波段：e-beam、deep UV(248nm)• 高分辨率( 10nm)，高对比度 • 多种分子量：50K、200K、 600K、 950K• 多种溶剂：苯甲醚、乳酸乙酯、氯苯• 多种固含量实现了多种涂胶厚度• 可定制特殊用PMMA胶950K PMMA参考涂胶厚度：（其他型号的涂胶厚度，请联系销售人员）应用实例：双层PMMA lift-off工艺PMMA Bilayer(950K/600K) - - AR-P 679.03 / AR-P 669.04欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于三维电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm • 化学放大胶，高灵敏度，低对比度( 1)• 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨率电子束曝光、单层/多层lift-off工艺等• 感光波段：e-beam、deep UV(248nm)• 高分辨率( 10nm)，高灵敏度(PMMA灵敏度的3~4倍)旋涂曲线： 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨率电子束曝光等• 感光波段：e-beam• 高分辨率( 10 nm)， 高对比度(14)• 高深宽比，高工艺稳定性 • 优异的耐干法刻蚀能力• 采用不同的显影液(AR 600-546/ 548/ 549)，可实现 不同程度的灵敏度• 可实现Lift-off工艺，操作简单• 溶剂为苯甲醚(安全溶剂) 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶（1%-17% PMMA、SML系列电子束曝光阻剂），PMMA是常用的普通正阻剂；SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。高档的SML正阻剂特点：无需邻近效应校正，低加速电压下也能使用，可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件，特别适合科研应用；有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型号（数字表示光刻胶涂布厚度）。[资料]PMMA (Polymethyl – Methacrylate；聚甲基丙烯酸甲酯；positive tone, polymer chain scission type for Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography) is a widely used, versatile resist that is used for many imaging (and non-imaging) micro-electronic applications as well as a protective coating for wafer thinning, a bonding adhesive and as a sacrificial layer, but is commonly used as a high resolution positive resist for direct write with e-beam. EM Resist Ltd specialises in electron beam lithography resists and applications. We develop and manufacture electron beam resists in a purpose built clean-room facility to ensure maximum quality and performance.Our products and expertise are the result of many years research by experienced physicists and material scientists in both academia and industry. EM Resist products are provided in a clean room compatible box, if you need Material Safety Data Sheets, Process Information, Example design files and other useful information, please contact with our Chinese Distributor(www.tansi.com.cn).PMMA Product Options. First,select which solvent(Anisole or Chlorobenzene) best suits your application. Second,select which solid percentage(1%-17%, 20nm-3500nm) of thickness required.Third,choose a volume to suit your usage needs.

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

大和电子科技株式会社成立于1967年，是一家电子显微镜灯丝制造商。 公司成立53年来，一直努力稳定供应灯丝，随着电子显微镜的发展，我们不断追求灯丝制造技术和精度的极限。我们使用电子显微镜专用等级的钨丝，在真空中进行退火处理，以消除灯丝的残余应力。 因此，在电子显微镜下使用时，漂移较少，裂纹的产生也得到抑制，从而获得更稳定的电子束。此外，我们还将自行研发的点焊机与定制的夹具相结合，进行精确焊接。 之后，使用定心夹具在确认中心精度的同时进行定心，因此无需在安装时进行繁杂的定心作业。用途：用于扫描电子显微镜和透射电子显微镜的电子枪种类：热电子发射型灯丝材质：● 灯丝：W、Ta、Re、Th-W、其它● 灯丝焊接柱：Kovar、Ta、Mo、其它● 陶瓷底座：AlO2、MgO?SiO2焊接：灯丝和焊接柱的焊接：电阻点焊灯丝和陶瓷座：玻璃密封，钎焊特征：● 使用电镜专用等级的灯丝● 点焊机为自主研发设备，专用于灯丝焊接。与定制的夹具结合使用，进行精确焊接 可实现从线径φ0.02的极细丝到线径φ0.5左右的极粗丝的焊接● 灯丝（多晶）的尖端可加工成发夹型、点型、尖锐型、线圈型等形状● 真空退火处理（安装设备后释放稳定的电子束）● 无需在安装设备时进行繁琐的定心工作（可提供定心灯丝套件）● 使用各种测量仪器进行产品检验合格后发货除上述灯丝外，还生产场发射发射器、质谱仪用灯丝、气相沉积用灯丝、各种加热器等。如您想了解更多关于产品的报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

功能概述：用于透射电镜、扫描电镜、聚焦离子束、电子束光刻机、电子束焊接机、电子束3D打印、电子束蒸镀等领域；主要性能：真空范围：≤2.7 x 10∧-7Pa，温度范围：1750～1850K，针尖曲率半径：0.4~0.9um

特点：• 用于LIGA、X射线掩膜板加工等• 感光波段：e-beam、X-ray、synchrotron• 基于PMMA的厚胶• 涂胶厚度从几微米到上百微米，覆盖能力好旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

放大倍数校准标样MRS-4: 应用 EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm? 光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦 化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。 粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

放大倍数校准标样MRS-4: 应用 EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm? 光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦 化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。 粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

应用? EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

应用? EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

单孔细胞培养板由透明PS制成，可提供经等离子处理过的，以保持一致的细胞附着和生长；表面未经处理的产品，可用于不需要细胞附着的应用。内部板尺寸增加，为细胞生长提供更大的面积符合SBS标准，间使其与标准设备和自动化系统兼容不含DNase，RNase和人类DNA，经认证无热原，无细胞毒性电子束照射灭菌温度范围：–20 到 +50 °C

特点：• 用于增强光刻胶和衬底的黏附性• 用于紫外光刻胶、电子束光刻胶、特殊功能用光刻胶等• 采用旋涂的方式进行涂覆，操作简单• 涂覆厚度：15nm@ 4000rpm• 和传统的HMDS相比，毒性更小，使用更安全，更经济实惠• new版本与旧版AR 300-80相比,烘烤温度降低 （60℃ 热板 2min）

这款电镜X射线发生器是专门为电子显微镜设计的X射线发生器，广泛用于电子显微镜的X射线荧光光谱分析，是理想X射线荧光光谱X射线发生器。电镜X射线发生器紧凑的设计和滑动安装允许与样品非常接近。 专利的多毛细管光学聚焦x射线激发下降到10μ的样品斑点尺寸。 Xb提供10μm和40μm的斑点尺寸。 集成的高压电源最大功率为50瓦（35-50千伏，取决于阳极材料为1.0毫安）。 紧密耦合提供与传统“桌面”或“独立”单元相当的XRF分析结果。 Xb被设计成不干扰电子显微镜的正常操作，包括在同一样品上使用电子束，同时收集所有元素。不需要特殊的冷却电子束（来自扫描电子显微镜）产生非常高的背景隐藏样品中的微量元素。 来自真正的“X射线”源的X射线没有这种效果。 使用Xb低ppm级别的元素可以轻松识别，量化，甚至产生痕量X射线图，以查看样品中微量元素的元素分布。电镜X射线发生器应用：艺术与考古 石油EDXRF化学 药物应用涂料和薄膜 塑料，聚合物和橡胶化妆品 电镀和电镀浴环境 木材处理应用食品应用 其他应用取证金属和矿石矿产和矿产品电镜X射线发生器规格 ?X 规格 阳极类型 侧窗 目标材料 Ag，Cu，Mo，Rh＆W 加速电压 0-50kV 光束电流 最大1mA阳极点尺寸 10，20，40μm 准直器尺寸 专利聚毛发聚焦光学 源过滤器 可应要求提供 冷却要求 风机冷却功率 100瓦 控制/安全 可变控制kV /μA，X射线开/关按钮，kV /μA显示，内部互锁快门。 联锁到SEM，键控上电开关，HV-On灯，警示灯

Spurr低粘稠度包埋树脂套装具有优良的渗透性能，尤其对于植物、矿物及其它坚硬的生物样品。Spurr树脂包埋树脂套装使用简单，配制方便快速，包埋剂硬度可通过改变DER736的配比进行调节。树脂包埋块外观好，易于切片，在电子束下超薄切片亦具有很好的硬度。套装内包含：450毫升NSA225毫升ERL 4221225毫升DER 73625毫升DMAE产品编号描述单位14300EMS Spurr低粘稠度包埋树脂套

这款扫描电镜X射线源专门用于电子显微镜设计的X射线源，非常适合扫描电镜的XRF光谱分析,是理想的XRF射线源和X射线荧光光谱仪X射线源。 扫描电镜X射线源具有紧凑的设计和滑动安装功能，允许与样品非常接近。 取向在样品表面的小到大的激发区域产生高“通量”（x射线）。 扫描电镜X射线源?XSEMTM提供500μ至25mm的激发区域。 集成的高压电源最大功率为10瓦（35千伏和0.1毫安，取决于阳极材料）。 紧密耦合提供与传统“台式”或“独立”单元相当的XRF分析结果。扫描电镜X射线源?X SEMTM设计使其不影响电子显微镜的正常工作，包括在同一样品上使用电子束，同时同时收集所有元素。不需要特殊的冷却。 电子束（来自扫描电子显微镜）产生非常高的背景隐藏样品中的微量元素。 来自真正的“X射线”源的X射线没有这种效果。 使用扫描电镜X射线源?XSEMTM可以轻松识别，量化，甚至生成痕量X射线图，以查看样品中微量元素的元素分布。 应用： 艺术与考古 石油EDXRF 化学 药物应用 涂料和薄膜 塑料，聚合物和橡胶 化妆品 电镀和电镀浴 环境 木材处理应用 食品应用 其他应用 取证 金属和矿石 矿产和矿产品 ?X 规格 阳极类型 端窗传输 目标材料 Ag，Mo＆W 加速电压 10-35kV 光束电流 0-100μA 阳极点尺寸 500μm 准直器尺寸 200μm，500μm，1000μm（其他可选） 源过滤器 可应要求提供 冷却要求 传导冷却，不需要风扇 控制/安全 可变控制kV /μA，X射线开/关按钮，kV /μA显示。 连接到SEM，键控上电开关，集成高压电源，HV-On灯，警示灯

Spurr低粘稠度包埋树脂套装"Spurr" Low Viscosity KitsSpurr低粘稠度包埋树脂套装具有优良的渗透性能，尤其对于植物、矿物及其它坚硬的生物样品。Spurr树脂包埋树脂套装使用简单，配制方便快速，包埋剂硬度可通过改变DER736的配比进行调节。树脂包埋块外观好，易于切片，在电子束下超薄切片亦具有很好的硬度。产品编号描述单位18300-4221Spurr低粘稠度包埋树脂套装套内含：ERL 4221 (替代ERL 4206)， 225ml (18306-4221) DER® 736， 250g (18310)NSA， 450g (18301)DMAE， 25g (18315)

Spurr低粘稠度包埋树脂套装"Spurr" Low Viscosity KitsSpurr低粘稠度包埋树脂套装具有优良的渗透性能，尤其对于植物、矿物及其它坚硬的生物样品。Spurr树脂包埋树脂套装使用简单，配制方便快速，包埋剂硬度可通过改变DER736的配比进行调节。树脂包埋块外观好，易于切片，在电子束下超薄切片亦具有很好的硬度。产品编号描述单位18300-4221Spurr低粘稠度包埋树脂套装套内含：ERL 4221 (替代ERL 4206)， 225ml (18306-4221) DER® 736， 250g (18310)NSA， 450g (18301)DMAE， 25g (18315)

产品详情：Biocomma® 培养皿作为新一代培养皿，可改进实验室内细胞培养的处理、堆叠和运送。斜切口握把环易于戴手套握持并保持稳定。培养皿经过等离子处理，以极大程度黏附大多数类型的细胞。提供三种规格：35 mm、60 mm、100 mm 。 产品特点： 电子束灭菌 高透明进口聚苯乙烯材料 堆叠设计使叠放和存储更加容易 产品批号标识明确，便于质量追溯 真空等离子表面处理，细胞贴壁性优良 无热原，无内毒素 平坦透明的表面便于显微镜下观察细胞状态

产品详情：Biocomma® 培养皿作为新一代培养皿，可改进实验室内细胞培养的处理、堆叠和运送。斜切口握把环易于戴手套握持并保持稳定。培养皿经过等离子处理，以极大程度黏附大多数类型的细胞。提供三种规格：35 mm、60 mm、100 mm 。 产品特点： 电子束灭菌 高透明进口聚苯乙烯材料 堆叠设计使叠放和存储更加容易 产品批号标识明确，便于质量追溯 真空等离子表面处理，细胞贴壁性优良 无热原，无内毒素 平坦透明的表面便于显微镜下观察细胞状态

产品详情：Biocomma® 培养皿作为新一代培养皿，可改进实验室内细胞培养的处理、堆叠和运送。斜切口握把环易于戴手套握持并保持稳定。培养皿经过等离子处理，以极大程度黏附大多数类型的细胞。提供三种规格：35 mm、60 mm、100 mm 。 产品特点： 电子束灭菌 高透明进口聚苯乙烯材料 堆叠设计使叠放和存储更加容易 产品批号标识明确，便于质量追溯 真空等离子表面处理，细胞贴壁性优良 无热原，无内毒素 平坦透明的表面便于显微镜下观察细胞状态

应用:M - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦 化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。 粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适

应用:M - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制) 扫描显微镜与表面轮廓仪- STM、AFM，图案高度为100nm光镜 – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦 化学成像- EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm CrO2 和 Cr在石英上形成。 粒径计算- 含用于校准的系列圆、方形和矩形图案 图案设计MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适